JP4784456B2 - Printed wiring board manufacturing method and printed wiring board - Google Patents

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Description

本発明は、プリント配線板の製造方法及びプリント配線板に関する。 The present invention relates to a manufacturing how and print wiring board of the printed wiring board.

近年、エレクトロニクス業界においては、高信頼度を有する多機能装置の開発が急速に進められており、これによる高機能、高密度素子の出現に伴って高信頼性、多機能を有し、かつ軽量、薄型の小型デバイスに対する要求が高まってきている。これにより、新しい素子実装技術の開発が日毎に重要さを増しており、特に半導体パッケージにおける小型化と多層化が重要な課題として開発が進められている。さらには、上記のような諸性能に加えて、製造コストが重要な問題となってくる。   In recent years, in the electronics industry, development of multifunction devices with high reliability has been rapidly progressing, and with the emergence of high functionality and high density elements, high reliability, multifunction, and light weight have been developed. There is an increasing demand for thin, small devices. As a result, the development of new element mounting technologies is becoming more important every day, and development is progressing as important issues especially in miniaturization and multilayering of semiconductor packages. Furthermore, in addition to the various performances described above, the manufacturing cost becomes an important issue.

現在、半導体パッケージと半導体チップあるいは半導体パッケージとプリント配線板の電気的接続には半田接合が用いられている。これら半導体パッケージあるいはプリント配線板の半田接合端子部の接続信頼性は、電子部品の信頼性の観点から非常に重要であり、これらの要求を満たすため、現在、半田接合端子部の表面にニッケル金メッキを施こすことが一般的に行われている。   Currently, solder bonding is used for electrical connection between a semiconductor package and a semiconductor chip or between a semiconductor package and a printed wiring board. The connection reliability of the solder joint terminal part of these semiconductor packages or printed wiring boards is very important from the viewpoint of the reliability of electronic components. To meet these requirements, the surface of the solder joint terminal part is currently plated with nickel gold It is generally performed.

具体的には、半導体パッケージあるいはプリント配線板の最外層の半田接合端子部以外にソルダーレジストといったような絶縁樹脂を形成し、さらに半田接合端子部を脱脂、酸洗や化学研磨といった前処理を施した後に、露出した半田接合端子部のすべてに通電できる回路を予め形成可能な場合には電解ニッケルめっき、電解金メッキを施し、通電できる回路が引き回すことが不可能で電気的に孤立した半田接合端子部が存在する場合には無電解ニッケルめっき、無電解金メッキを施している。   Specifically, an insulating resin such as solder resist is formed in addition to the outermost solder joint terminal portion of the semiconductor package or printed wiring board, and the solder joint terminal portion is further subjected to pretreatment such as degreasing, pickling and chemical polishing. After that, if a circuit that can energize all of the exposed solder joint terminals can be formed in advance, electrolytic nickel plating and electrolytic gold plating are applied, and the electrically energized circuit cannot be routed and is electrically isolated solder joint terminal When the portion exists, electroless nickel plating and electroless gold plating are applied.

半導体パッケージあるいはプリント配線板は、前記半田接合端子部に半田ペーストを塗布あるいは半田ボールを搭載後、さらに電子素子を搭載して半田を融解することで電気的導通の確保と搭載・固定がなされ、電子部品あるいは製品が製造される。ここで、組み立て工程の多様な熱履歴により、半田接合端子部の表面が酸化しやすくなるために、これらの接続信頼性を確保すべく金メッキを施しているのが現状である。   The semiconductor package or printed wiring board is secured and mounted / fixed by applying an electrical paste to the solder joint terminal portion or mounting a solder ball, and then mounting an electronic element to melt the solder. Electronic parts or products are manufactured. Here, since the surface of the solder joint terminal portion is likely to be oxidized due to various thermal histories in the assembly process, gold plating is applied to ensure the connection reliability.

例えば、半導体パッケージであれば、ICチップ搭載前のプレベーク工程(125℃、2h)、ICチップ搭載後の熱硬化性樹脂による固定時の熱硬化工程(110℃、30分)、ワイヤーボンディング工程(110℃、30秒)、あるいはフリップチップ実装であれば、1次実装のリフロー工程(ピーク温度240℃数分程度)、チップ上にエポキシ樹脂よりなるモールド樹脂形成工程(175℃、90秒)及びその熱硬化工程(175℃、6h)と多種多様の過酷な熱履歴を受けることになる。   For example, in the case of a semiconductor package, a pre-bake process (125 ° C., 2 h) before mounting an IC chip, a thermosetting process (110 ° C., 30 minutes) when fixing with a thermosetting resin after mounting an IC chip, a wire bonding process ( 110 ° C., 30 seconds), or flip-chip mounting, the primary mounting reflow process (peak temperature 240 ° C. for about several minutes), the mold resin forming step made of epoxy resin on the chip (175 ° C., 90 seconds), and The thermosetting process (175 ° C., 6 h) and a wide variety of severe thermal histories are received.

半田接合端子部が銅、ニッケル、金以外の金属により形成されている場合、これらの熱履歴により金属表面(半田接合端子部の表面)が酸化されるため、十分な半田接合性と半田濡れ性を確保することが困難である。さらには、半田接合端子部の酸化は、半導体パッケージあるいはプリント基板の製造工程中、出荷検査中、在庫中、出荷中でも起こるために、半田接合端子部の酸化防止対策は非常に重要である。これらの問題を解決するために、金属の中でも不活性で高価な金を使用せざるを得ず、貴金属材料コストと前処理およびめっきといったような複数のウエット処理コスト、さらには液管理コスト等の製造コストが大きくかかっているのが現状である。   When the solder joint terminal part is made of a metal other than copper, nickel, or gold, the metal surface (surface of the solder joint terminal part) is oxidized by these thermal histories, so sufficient solder jointability and solder wettability It is difficult to ensure. Furthermore, since the oxidation of the solder joint terminal portion occurs during the manufacturing process of the semiconductor package or the printed circuit board, during the shipping inspection, during inventory, and during the shipment, the anti-oxidation measures for the solder joint terminal portion are very important. In order to solve these problems, it is inevitable to use expensive and expensive gold among metals, such as precious metal material costs, multiple wet treatment costs such as pretreatment and plating, and liquid management costs, etc. At present, the manufacturing cost is very high.

そこで、例えば特許文献1、2に開示されているように、半田接合端子部に半田接合性を阻害しない有機皮膜を形成し、金属表面を酸化から保護する技術が提案されている。これらは銅表面に選択的に吸着するようなベンゾトリアゾール化合物やベンゾイミダゾール化合物の有機物皮膜を形成して酸化防止することで半田接合性を確保するものである。
特開平6−81161号公報 特開2000−200964号公報
Therefore, for example, as disclosed in Patent Documents 1 and 2, a technique has been proposed in which an organic film that does not hinder solder jointability is formed on the solder joint terminal portion to protect the metal surface from oxidation. These form an organic film of a benzotriazole compound or a benzimidazole compound that selectively adsorbs on the copper surface to prevent oxidation, thereby ensuring solder jointability.
JP-A-6-81161 Japanese Patent Laid-Open No. 2000-200964

しかしながら、前述の酸化防止用のベンゾトリアゾール化合物やベンゾイミダゾール化合物の有機物皮膜は、組み立て工程の熱履歴が加わらない場合には良好な半田接合性を示すものの、半導体パッケージのモールド樹脂硬化工程等の過酷な熱履歴には耐えることができない。
さらに、最外層に設けたソルダーレジスト等の絶縁樹脂層は半田接合端子部の表面にめっきを施す場合、様々なウエット処理にさらされることになる。すなわち、酸あるいはアルカリ性の高温の前処理液やめっき液のストレスを受けるために、必然的に半導体パッケージあるいはプリント配線板の電気的信頼性の低下が懸念される。そのため信頼性に耐え得るソルダーレジストの選定には長期の電気的信頼性試験を行う事が必須となり、時間的コストと高品位のソルダーレジストを選定することが免れないという問題があった。
However, the organic film of the above-described antioxidant benzotriazole compound or benzimidazole compound exhibits good solder bonding properties when the thermal history of the assembly process is not applied, but is severe in the mold resin curing process of the semiconductor package, etc. Cannot withstand the heat history.
Further, the insulating resin layer such as a solder resist provided in the outermost layer is exposed to various wet treatments when plating the surface of the solder joint terminal portion. That is, since it is subjected to stress of an acid or alkaline high temperature pretreatment liquid or plating solution, there is a concern that the electrical reliability of the semiconductor package or the printed wiring board is inevitably lowered. Therefore, in order to select a solder resist that can withstand reliability, it is essential to conduct a long-term electrical reliability test, and there is a problem in that it is inevitable to select a solder resist with a high cost and a high quality.

以上の問題があって、現状では、金メッキによる酸化防止対策を行う必要があり、製造プロセスが煩雑になるばかりでなく、材料コスト、液管理コスト等が大幅に増大してしまう。   Due to the above problems, at present, it is necessary to take anti-oxidation measures by gold plating, which not only complicates the manufacturing process but also significantly increases the material cost, liquid management cost, and the like.

この発明は、前述した事情に鑑みてなされたものであって、容易で安価かつ生産性に優れ、半田接合性に優れたプリント配線板の製造方法及びプリント配線板を提供することを目的としている。 This invention aims to provide a was made in view of the above, excellent in easy and inexpensive and productivity, production how the solder joint excellent in the printed wiring board and the print circuit board It is said.

本発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ね、本発明のプリント配線板の製造方法及びプリント配線板を提案する。 The present inventors have, the problem investigations for solving proposes a manufacturing side Ho及 beauty printed wiring board of the printed wiring board of the present invention.

請求項1に係る発明は、導体層と絶縁樹脂の積層構造とされ、最外層に配置された前記導体層に半田接合端子部が形成されたプリント配線板の製造方法において、最外層に配置された前記導体層の上に、前記半田接続端子部が露出するように、かつ、前記半田接合端子部の周囲を取り囲むように、かつ前記半田接合端子部よりも高くなるようにソルダーレジストを形成し、該ソルダーレジストの上に、前記半田接合端子部を覆い、かつ当該半田接合端子部と直接接触しないように、保護シートを熱圧着あるいは熱ローララミネート法により配設することを特徴とするプリント配線板の製造方法である。 The invention according to claim 1 is a laminated structure of a conductor layer and an insulating resin, and is disposed on the outermost layer in a method for manufacturing a printed wiring board in which a solder joint terminal portion is formed on the conductor layer disposed on the outermost layer. A solder resist is formed on the conductor layer so that the solder connection terminal portion is exposed, surrounds the periphery of the solder joint terminal portion, and is higher than the solder joint terminal portion. , on of the solder resist, the not covered before Symbol solder bonding terminal portions, and so as not to contact directly with the solder joint terminal portion, characterized in that a protective sheet is disposed by thermocompression bonding or thermal roller lamination It is a manufacturing method of a printed wiring board.

このプリント配線板の製造方法によれば、プリント配線板の半田接合端子部を保護シートで覆うように配設することで、製造工程、出荷の履歴や電子部品や電子機器の組み立て工程の熱履歴による半田接合端子部の表面の酸化を防止することができ、良好な半田接合性と半田濡れ性を確保することが可能となる。これによって従来行われてきた前処理工程や、めっき工程による大幅な材料コスト、液管理コストを削減できる。   According to this printed wiring board manufacturing method, the solder joint terminal portion of the printed wiring board is disposed so as to be covered with the protective sheet, so that the manufacturing process, the shipping history, and the thermal history of the assembly process of the electronic component or electronic device are performed. Therefore, it is possible to prevent the surface of the solder joint terminal portion from being oxidized, and to ensure good solder joint property and solder wettability. As a result, significant material costs and liquid management costs due to the pretreatment process and plating process that have been conventionally performed can be reduced.

さらには、半田接合端子部以外の部分はソルダーレジスト等の樹脂絶縁層で保護されているが、これらは半田接合端子部のめっき工程前に形成されるために、高温でかつ酸、アルカリ性の強いめっき前処理浴およびめっき浴への浸漬のストレスが回避でき、高信頼性のプリント配線板が製造できることが期待できる。
また、保護シートを、熱圧着あるいは熱ローララミネート法により配設するので、プリント配線板の現行の製造工程にラミネーター等を追加するのみであり、多大な装置導入コストを必要としない。
Furthermore, the parts other than the solder joint terminal part are protected by a resin insulating layer such as a solder resist, but since these parts are formed before the plating process of the solder joint terminal part, they are hot and have strong acid and alkaline properties. It can be expected that stress of immersion in the plating pretreatment bath and the plating bath can be avoided and a highly reliable printed wiring board can be manufactured.
Further, since the protective sheet is disposed by thermocompression bonding or a heat roller laminating method, only a laminator or the like is added to the current manufacturing process of the printed wiring board, and a large apparatus introduction cost is not required.

請求項に係る発明は、請求項1に記載のプリント配線板の製造方法により製造され、前記保護シートが配設されたプリント配線板であって、導体層と絶縁樹脂の積層構造とされ、最外層に配置された前記導体層に半田接合端子部が形成されており、前記半田接続端子部が露出するように、かつ、前記半田接合端子部の周囲を取り囲むように、かつ前記半田接合端子部よりも高くなるようにソルダーレジストが形成され、該ソルダーレジストの上に、前記半田接合端子部を覆い、かつ当該半田接合端子部と直接接触しないように、前記保護シートが配設されていることを特徴とするプリント配線板である。 The invention according to claim 2 is a printed wiring board manufactured by the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the protective sheet is disposed, and has a laminated structure of a conductor layer and an insulating resin, solder joint terminal portion in the conductive layer disposed on the outermost layer is formed, so that the solder connection terminal portions are exposed, and, so as to surround the periphery of the solder joint terminal portion, and the solder bonding terminals the solder resist is formed to be higher than parts, over the solder resist, the not covered before Symbol solder bonding terminal portions, and so as not to contact directly with the solder joint terminal portion, the protective sheet is disposed It is the printed wiring board characterized by the above-mentioned.

このプリント配線板によれば、半田接合端子部が保護シートで保護されているので、その後の工程の熱履歴による半田接合端子部の表面の酸化を防止でき、良好な半田接合性と半田濡れ性を確保することができる。   According to this printed wiring board, since the solder joint terminal portion is protected by the protective sheet, it is possible to prevent the surface of the solder joint terminal portion from being oxidized due to the thermal history of the subsequent process, and good solderability and solder wettability. Can be secured.

請求項に係る発明は、前記半田接合端子部と前記ソルダーレジストと前記保護シートとの間隙に、不活性ガスが充填されていることを特徴とする請求項に記載のプリント配線板である。
この構成のプリント配線板によれば、ソルダーレジストと前記保護シートとの間隙に不活性ガスが充填されているので、半田接合端子部の表面の酸化を確実に防止することができる。特に、半田接合端子部表面の面積が広く間隙が大きくなる場合に効果的である。
なお、不活性ガスとしては、コストの観点から窒素ガスあるいはアルゴンガスを使用することが望ましい。
The invention according to claim 3, the gap between the solder joint terminal portion and the solder resist and the protective sheet, is printed wiring board according to claim 2, characterized in that the inert gas is filled .
According to the printed wiring board having this configuration, since the inert gas is filled in the gap between the solder resist and the protective sheet, the surface of the solder joint terminal portion can be reliably prevented from being oxidized. In particular, it is effective when the surface area of the solder joint terminal portion is large and the gap becomes large.
As the inert gas, it is desirable to use nitrogen gas or argon gas from the viewpoint of cost.

請求項に係る発明は、前記半田接合端子部の表面と前記保護シートとの間に、フラックスあるいは水溶性プリフラックス層が形成されていることを特徴とする請求項または請求項3に記載のプリント配線板である。
この構成のプリント配線板によれば、半田接合端子部の表面と前記保護シートとの間にフラックスあるいは水溶性プリフラックス層が形成されているので、半田接合端子部の酸化をさらに効果的に防止することができる。
Invention, according to claim 2 or claim 3, characterized in that said solder bonding terminal portion of the surface between the protective sheet, the flux or OSP layer is formed according to claim 4 Printed wiring board.
According to the printed wiring board having this configuration, since the flux or the water-soluble preflux layer is formed between the surface of the solder joint terminal portion and the protective sheet, the solder joint terminal portion is more effectively prevented from being oxidized. can do.

請求項に係る発明は、前記半田接合端子部の表面と前記保護シートとの間に、金属めっき層が形成されていることを特徴とする請求項から請求項のいずれかに記載のプリント配線板である。
この構成のプリント配線板によれば、半田接合端子部の表面が金属めっき層によって被覆されることになり、半田接合端子部の表面の酸化をさらに効果的に防止することができる。
The invention according to claim 5, between the solder joint terminal portion of the surface and the protective sheet, claim 2, wherein a metal plating layer is formed of any one of claims 4 It is a printed wiring board.
According to the printed wiring board having this configuration, the surface of the solder joint terminal portion is covered with the metal plating layer, and oxidation of the surface of the solder joint terminal portion can be more effectively prevented.

本発明によれば、プリント配線板を製造、出荷、電子部品や電子機器の組み立て工程において、半田接合端子部が熱酸化することを防止して半田接合性を向上することができ、現在、用いられている貴金属めっきコストや他薬液処理コスト、製造コストを削減でき、容易で安価かつ生産性に優れ、半田接合性に優れたプリント配線板を製造することができる。
なお、本発明のプリント配線板は、半導体パッケージ用基板(インターボーザ)、半導体パッケージを実装するマザーボードとして用いることができる。
According to the present invention, in the process of manufacturing, shipping, and assembling electronic components and electronic devices, printed circuit boards can be prevented from being thermally oxidized in the solder joint terminal portion, and the solder joint property can be improved. It is possible to reduce the precious metal plating cost, the other chemical solution processing cost, and the manufacturing cost, and it is possible to manufacture a printed wiring board that is easy, inexpensive, excellent in productivity, and excellent in solder jointability.
The printed wiring board of the present invention can be used as a semiconductor package substrate (interbosa) and a mother board on which the semiconductor package is mounted.

以下に、本発明の実施の形態について添付した図面を参照して説明する。
本実施形態であるプリント配線板10は、図1に示すように、電気回路を構成する導体層11と絶縁樹脂12の積層構造をなしている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
As shown in FIG. 1, the printed wiring board 10 according to the present embodiment has a laminated structure of a conductor layer 11 and an insulating resin 12 constituting an electric circuit.

導体層11は、一般的に銅によって構成されており、半田接合端子部11Aを有している。この導体層11は、絶縁樹脂12上に形成された銅箔上にレジストパターンを形成しエッチングする方法、絶縁樹脂12上に薄い通電層を無電解めっきあるいはスパッタ法で形成した後にレジストパターンを形成して電解めっき後にレジストパターンを剥離して薄い通電層をエッチングして回路を形成するセミアディティブ法、絶縁樹脂12上にレジストパターンを形成した後に無電解めっきを施した後にレジストパターンを除去するアディティブ法等により形成される。   The conductor layer 11 is generally made of copper and has a solder joint terminal portion 11A. The conductor layer 11 is formed by forming a resist pattern on the copper foil formed on the insulating resin 12 and etching the conductive layer 11, and forming a resist pattern after forming a thin conductive layer on the insulating resin 12 by electroless plating or sputtering. Then, after the electrolytic plating, the resist pattern is peeled off and the thin conductive layer is etched to form a circuit, and after the resist pattern is formed on the insulating resin 12, the resist pattern is removed after the electroless plating is performed. It is formed by law.

導体層11を保護するために、半田接合端子部11A以外の導体層11の表面にはソルダーレジスト13が塗布されている。ペースト状あるいはドライフィルム状の絶縁樹脂を充填あるいはラミネートすることで導体層11を保護する。つまり、半田接続端子部11Aが露出するように、かつ、半田接合端子部11Aの周囲を取り囲むように、ソルダーレジスト13が設けられるのである。
なお、熱硬化型のソルダーレジストペーストであればスクリーン印刷法でソルダーレジスト13のパターンを形成できる。感光性ソルダーレジストであればフォトリソグラフィー法によりソルダーレジスト13のパターンを形成することができる。
In order to protect the conductor layer 11, a solder resist 13 is applied to the surface of the conductor layer 11 other than the solder joint terminal portion 11A. The conductor layer 11 is protected by filling or laminating a paste-like or dry-film-like insulating resin. That is, the solder resist 13 is provided so as to expose the solder connection terminal portion 11A and surround the periphery of the solder joint terminal portion 11A.
In addition, if it is a thermosetting soldering resist paste, the pattern of the soldering resist 13 can be formed with a screen printing method. If it is a photosensitive solder resist, the pattern of the solder resist 13 can be formed by the photolithographic method.

ここで、ソルダーレジスト13の厚さは導体層11の厚みに比べて厚く塗布するために、ソルダーレジスト13が塗布されない半田接合端子部11Aの表面とソルダーレジスト13の表面との間には間隙が生じることになる。   Here, since the thickness of the solder resist 13 is thicker than that of the conductor layer 11, there is a gap between the surface of the solder joint terminal portion 11 A to which the solder resist 13 is not applied and the surface of the solder resist 13. Will occur.

そして、このソルダーレジスト13の表面には、粘着材付きの保護シート15が配設されている。
保護シート15は、ソルダーレジスト13に対して粘着性を有する粘着層15Aと基材層15Bとを備えている。なお、貼り付け時以外のハンドリングや粘着層15A保護を目的として粘着層15Aの表面にセパレータ層を設けても良い。すなわち、保護シート15を基材層15B、粘着層15A、セパレータ層の三層構造としてもよい。この場合、ソルダーレジスト13の表面に保護シート15を貼り付ける際に、セパレーター層を予め剥離して、あるいは剥離しながらラミネートすることになる。
A protective sheet 15 with an adhesive material is disposed on the surface of the solder resist 13.
The protective sheet 15 includes an adhesive layer 15 </ b> A and a base material layer 15 </ b> B that are adhesive to the solder resist 13. Note that a separator layer may be provided on the surface of the adhesive layer 15A for the purpose of handling other than the pasting and protecting the adhesive layer 15A. That is, the protective sheet 15 may have a three-layer structure including a base material layer 15B, an adhesive layer 15A, and a separator layer. In this case, when the protective sheet 15 is affixed to the surface of the solder resist 13, the separator layer is previously peeled or laminated while being peeled.

保護シート15の基材層15Bとしては、巻き取りが可能な程度の屈曲性を有するものであればよく、一例を挙げると、熱可塑性樹脂フィルムとしてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等ポリエステル樹脂フィルム、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、アクリル樹脂等、あるいはポリアミド系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケトンが使用できる。熱硬化性樹脂としてはフェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、あるいはこれらの繊維強化フィルムであっても、無機フィラーを充填したものでも良い。   The base material layer 15B of the protective sheet 15 may be any material that can be wound up. For example, as the thermoplastic resin film, a polyester resin film such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, Polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, acrylic resin, or the like, or polyamide-based resin, polyimide resin, polyether sulfone, and polyether ketone can be used. The thermosetting resin may be a phenol resin, a melamine resin, an epoxy resin, or a fiber reinforced film thereof, or one filled with an inorganic filler.

さらに基材層15Bは、異種樹脂の積層構造であっても、ガスバリア層等を含む機能性フィルムでもよい。
また、粘着層15Aとの接着力を挙げるために、基材層15B表面にプラズマ処理、コロナ処理、ブラスト処理等の易接着処理をおこなってもよい。
Further, the base material layer 15B may be a laminated structure of different resins or a functional film including a gas barrier layer and the like.
Moreover, in order to raise the adhesive force with the adhesion layer 15A, you may perform easy adhesion processes, such as a plasma process, a corona treatment, and a blast process, to the base material layer 15B surface.

また、基材層15Bの厚みは20μm〜200μmの範囲内であることが望ましい。基材層15Bの厚さが200μmを超えると、ラミネート時の作業性が悪いばかりでなく保護シート15を剥離するときのハンドリング性が著しく低下する。さらには粘着層15Aの接着強度が強くプリント配線板10が極々薄い場合には製品が破壊されてしまうおそれがある。一方、基材層15Bの厚さが20μmより薄いと、基材層15Bの強度が弱く粘着層15Aの接着力が強い場合、基材層15Bの材質にもよるがプリント配線板10から剥離するときに保護シート15が破断してしまうおそれがある。   In addition, the thickness of the base material layer 15B is desirably in the range of 20 μm to 200 μm. When the thickness of the base material layer 15B exceeds 200 μm, not only the workability at the time of laminating is bad, but also the handleability when peeling off the protective sheet 15 is remarkably lowered. Furthermore, if the adhesive strength of the adhesive layer 15A is strong and the printed wiring board 10 is extremely thin, the product may be destroyed. On the other hand, if the thickness of the base material layer 15B is less than 20 μm, the base material layer 15B is peeled off from the printed wiring board 10 depending on the material of the base material layer 15B when the strength of the base material layer 15B is weak and the adhesive force of the adhesive layer 15A is strong. Sometimes, the protective sheet 15 may be broken.

保護シート15の粘着層15Aは、ソルダーレジスト13と接着し、半田実装の直前で剥離できるような粘着材であればよく、たとえば半導体パッケージであればICチップのダイボンディングやワイヤーボンディング、フリップチップ実装であれば1次実装のリフロー、さらにはモールディングとモールド樹脂の熱硬化工程後に剥離できるものであればよい。粘着材の一例としてはアクリル系粘着剤、UV硬化型粘着材等があげられる。   The adhesive layer 15A of the protective sheet 15 may be any adhesive material that can be adhered to the solder resist 13 and peeled off immediately before solder mounting. For example, in the case of a semiconductor package, IC chip die bonding, wire bonding, flip chip mounting If so, any material can be used as long as it can be reflowed after the primary mounting reflow and further after the molding and molding resin thermosetting process. Examples of the adhesive material include an acrylic adhesive and a UV curable adhesive material.

粘着層15Aの厚みは3μm〜20μmの範囲内であることが望ましい。粘着層15Aの厚さが20μmを超えると、プリント配線板10表面のソルダーレジスト13と半田接合端子部11Aとの間隙部分に粘着材が充填され、半田接合端子部11Aの表面に粘着材が接触してしまう。さらに保護シート15剥離時に半田接合端子部11A表面に粘着材が転写してしまい、半田接合性が低下するおそれがある。一方、粘着層15Aの厚さが3μmよりも薄い場合には、保護シート15をラミネートする際に、粘着層15Aのプリント配線板10表面への追従性が低下し、接着強度が低下するばかりではなく気泡をかんでしまう。   The thickness of the adhesive layer 15A is desirably in the range of 3 μm to 20 μm. When the thickness of the adhesive layer 15A exceeds 20 μm, the adhesive material is filled in the gap between the solder resist 13 and the solder joint terminal portion 11A on the surface of the printed wiring board 10, and the adhesive material contacts the surface of the solder joint terminal portion 11A. Resulting in. Furthermore, when the protective sheet 15 is peeled off, the adhesive material is transferred to the surface of the solder joint terminal portion 11A, and the solder joint property may be deteriorated. On the other hand, when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 15A is less than 3 μm, when the protective sheet 15 is laminated, the followability of the pressure-sensitive adhesive layer 15A to the surface of the printed wiring board 10 is reduced, and the adhesive strength is not only reduced. Without any air bubbles.

さらに、保護シート15の粘着層15Aの接着強度は、プリント配線板10上に貼り付けた後の常温での接着力がJIS Z 0237記載の方法で1.0〜10N/20mmの範囲内であることが望ましい。前記接着力が1.0N/20mmより低いと、保護シート15を貼り付けた後の工程中のハンドリングで剥離してしまう可能性がある。一方、前記接着力が10N/20mmを超えると、接着力が強すぎて実質的に剥がすことが困難となってくるので生産性が低下してしまう。   Furthermore, the adhesive strength of the adhesive layer 15A of the protective sheet 15 is such that the adhesive strength at normal temperature after being attached on the printed wiring board 10 is in the range of 1.0 to 10 N / 20 mm by the method described in JIS Z 0237. It is desirable. When the said adhesive force is lower than 1.0 N / 20mm, there exists a possibility that it may peel by the handling in the process after sticking the protective sheet 15. FIG. On the other hand, when the adhesive strength exceeds 10 N / 20 mm, the adhesive strength is too strong and it becomes difficult to substantially peel off, and productivity is lowered.

ここで、保護シート15をソルダーレジスト13の表面に配設するには、熱圧着あるいはゴムロールの熱圧着によるロールラミネートを用いる。この方法は半田接合端子部11Aと保護シート15の粘着材部分とが直接接触しないラミネート方法として最適かつ簡便である。なお、熱圧着あるいはロールラミネート以外の方法たとえば真空圧着でラミネートすると、半田接合端子部11Aと保護シート15の粘着材が直接接触し、半導体パッケージあるいはプリント配線板10の組み立て工程の熱履歴で粘着材が半田接合端子部11Aの表面に固着し、半田接合時に保護シート15を剥離したときに粘着材が半田接合端子部11A表面に転写することで半田接合性が低下する不具合を生じるので、熱圧着あるいはゴムロールの熱圧着によるロールラミネートを用いることが望ましい。   Here, in order to dispose the protective sheet 15 on the surface of the solder resist 13, roll lamination by thermocompression bonding or thermocompression bonding of a rubber roll is used. This method is optimal and simple as a laminating method in which the solder joint terminal portion 11A and the adhesive material portion of the protective sheet 15 do not directly contact each other. In addition, when laminating by a method other than thermocompression bonding or roll laminating, for example, vacuum pressure bonding, the adhesive material of the solder joint terminal portion 11A and the protective sheet 15 are in direct contact, and the adhesive material is caused by the thermal history of the assembly process of the semiconductor package or the printed wiring board 10. Adheres to the surface of the solder joint terminal portion 11A, and the adhesive sheet is transferred to the surface of the solder joint terminal portion 11A when the protective sheet 15 is peeled off at the time of solder joining. Alternatively, it is desirable to use a roll laminate by thermocompression bonding of a rubber roll.

さらに、ラミネート時に熱圧着ロール部分を不活性ガス雰囲気下にすることで、ソルダーレジスト13と半田接合端子部11Aとの間隙に不活性ガスを充填する。不活性ガスとしては、コスト的観点より窒素ガスあるいはアルゴンガスであることが望ましい。   Further, the inert pressure gas is filled in the gap between the solder resist 13 and the solder joint terminal portion 11A by placing the thermocompression-bonding roll portion in an inert gas atmosphere during lamination. The inert gas is preferably nitrogen gas or argon gas from the viewpoint of cost.

このようにして保護シート15がソルダーレジスト13の表面に配設されたプリント配線板10は、半導体パッケージなどの電子部品に使用される。
例えば、半導体パッケージの組立工程においては、ICチップ搭載時に熱硬化性樹脂によってICチップと半導体パッケージを固定、熱硬化するダイボンディング工程、さらにワイヤーボンディングあるいはフリップチップ実装であれば1次実装のリフロー工程、さらにチップ上にエポキシ樹脂よりなるモールド樹脂形成時およびその熱硬化工程と多種多様の過酷な熱履歴を受ける。その後、保護シート15を剥離して半田接合端子部11Aに半田ボールを搭載するか、あるいはスクリーン印刷法により半田ペーストを塗布する方法で半田接合端子部11Aに半田を形成して、電子機器に搭載する。
Thus, the printed wiring board 10 in which the protective sheet 15 is disposed on the surface of the solder resist 13 is used for an electronic component such as a semiconductor package.
For example, in the assembly process of a semiconductor package, a die bonding process for fixing and thermosetting the IC chip and the semiconductor package with a thermosetting resin when mounting the IC chip, and a reflow process for primary mounting if wire bonding or flip chip mounting is used. In addition, it undergoes a wide variety of severe thermal histories when forming a mold resin made of epoxy resin on the chip and its thermosetting process. Thereafter, the protective sheet 15 is peeled off and a solder ball is mounted on the solder bonding terminal portion 11A, or solder is formed on the solder bonding terminal portion 11A by a method of applying a solder paste by a screen printing method and mounted on an electronic device. To do.

本実施形態であるプリント配線板10によれば、プリント配線板10の半田接合端子部11Aを保護シート15で保護することで、製造工程、出荷の履歴や電子部品や電子機器の組み立て工程の熱履歴による半田接合端子部11Aの金属表面の酸化を防止することができ、良好な半田接合性と半田濡れ性を確保することが可能となる。   According to the printed wiring board 10 according to the present embodiment, by protecting the solder joint terminal portion 11A of the printed wiring board 10 with the protective sheet 15, the manufacturing process, shipping history, and heat of the assembly process of electronic components and electronic devices are performed. Oxidation of the metal surface of the solder joint terminal portion 11A due to the history can be prevented, and good solder joint property and solder wettability can be ensured.

さらに、ソルダーレジスト13と半田接合端子部11Aとの間隙に不活性ガスが充填されているので、半田接合端子部11Aの酸化をさらに確実に防止することができる。
このように半田接合端部11Aの酸化が防止されるので、従来のように、金メッキによる酸化防止対策を行う必要がなく、低コストでプリント配線板10を提供することができる。
Furthermore, since the inert gas is filled in the gap between the solder resist 13 and the solder joint terminal portion 11A, oxidation of the solder joint terminal portion 11A can be further reliably prevented.
Thus, since the oxidation of the solder joint end portion 11A is prevented, there is no need to take an anti-oxidation measure by gold plating as in the prior art, and the printed wiring board 10 can be provided at a low cost.

また、保護シート15をソルダーレジスト13上に配設するのに、熱圧着あるいはゴムロールの熱圧着によるロールラミネートを用いているので、使用する生産装置はラミネーターのみでよく、従来技術のようにめっき浴の管理コストや、薬液コストの生産コストが大幅に削減できる。さらに装置導入コストも抑えることが可能である。   Further, since the protective sheet 15 is disposed on the solder resist 13 by using roll lamination by thermocompression bonding or rubber roll thermocompression bonding, the production apparatus to be used is only a laminator. Management costs and chemical production costs can be greatly reduced. Furthermore, the apparatus introduction cost can be suppressed.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、その発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、導体層11の表面に異種金属めっきを施してもよい。たとえばここで一例を示すとニッケルめっき、錫めっき、銀メッキ等があげられる。これらは用途によって合わせて使用してもよい。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to this, It can change suitably in the range which does not deviate from the technical idea of the invention.
For example, the surface of the conductor layer 11 may be subjected to different metal plating. For example, nickel plating, tin plating, silver plating and the like are listed here as an example. You may use these according to a use.

また、半田接合端子部11Aの表面に、予めフラックスを塗布しておいてもよい。塗布するフラックスとしては、ロジン系フラックス、ハロゲン活性化フラックス、有機酸等の非ロジン系フラックスが挙げられる。これらを半田接合端子部11Aのみに塗布する方法としては、スクリーン印刷法あるいはメタルマスクを介して位置あわせの上、印刷する方法、ディスペンサー方式、インクジェット法等が挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物、ベンズイミダゾール化合物からなる水溶性プリフラックスで半田接合端子部11Aの表面処理を行っても半田接合端子部11Aの酸化防止にさらに効果がある。これらは、上記化合物の水溶液へ浸漬するだけで半田接合端子部11Aに選択的に塗布できるので簡便かつ効果的である。   Further, flux may be applied in advance to the surface of the solder joint terminal portion 11A. Examples of the flux to be applied include rosin flux, halogen activation flux, and non-rosin flux such as organic acid. Examples of a method of applying these only to the solder joint terminal portion 11A include a screen printing method or a method of printing after alignment through a metal mask, a dispenser method, an ink jet method, and the like. Further, even if the surface treatment of the solder joint terminal portion 11A is performed with a water-soluble preflux composed of a benzotriazole compound or a benzimidazole compound, the solder joint terminal portion 11A is further effectively prevented from being oxidized. Since these can be selectively applied to the solder joint terminal portion 11A simply by immersing them in an aqueous solution of the above compound, they are simple and effective.

さらに、本実施形態であるプリント配線板は、半導体パッケージを実装するための半導体パッケージ用基板(インターボーザ)や、半導体パッケージを実装するマザーボードとして用いることができる。   Furthermore, the printed wiring board according to the present embodiment can be used as a semiconductor package substrate (interbosa) for mounting a semiconductor package or a mother board for mounting a semiconductor package.

以下に、本発明のプリント配線板である実施例と比較例とをそれぞれ評価した結果について説明する。   Below, the result of having evaluated the Example which is a printed wiring board of this invention, and a comparative example is demonstrated, respectively.

[実施例1]
(1)評価用電子部品の作成
銅箔厚18μm、コア材厚0.3mmの両面銅張積層板を準備し、所望の箇所にレーザー加工機にて貫通穴を形成し、デスミア処理後にスルーホールめっきを施し両面銅箔の導通を取った。スルーホールめっきの貫通孔部分に穴埋め樹脂を印刷法にて充填し、ベーク硬化した。表面を研磨後両面にドライフィルムレジストを貼り付け、銅張積層板にあらかじめ設けてあるアライメントマークの貫通穴とガラス版に設けてあるアライメントマークを位置あわせの上、前記銅張積層板を両側よりガラス版で挟み込むように密着させガラス版を介して露光する。続いて現像処理することで両銅箔表面上にドライフィルムレジストパターンを形成した。これを両面より塩化第二鉄をスプレーエッチングすることで一方の面にフリップチップ実装用バンプ、もう一方の面に2次実装用の半田接合用バンプとそれらを電気的に接合する銅回路を形成した。続いて感光性ソルダーレジストを両面30μm厚になるように塗布した後にフリップチップバンプおよび、半田接合用バンプを露出するようにパターニングしソルダーレジストパターンを形成した。こうして2メタルBGAを作成した。
[Example 1]
(1) Creation of electronic parts for evaluation A double-sided copper-clad laminate with a copper foil thickness of 18 μm and a core material thickness of 0.3 mm is prepared, and a through hole is formed at a desired location with a laser processing machine. Plating was performed and the copper foil on both sides was electrically connected. The through hole portion of the through hole plating was filled with a hole filling resin by a printing method and baked. After polishing the surface, apply dry film resist on both sides, align the through holes of the alignment mark provided in advance on the copper clad laminate and the alignment mark provided on the glass plate, and then place the copper clad laminate from both sides. It is made to adhere so that it may be pinched | interposed with a glass plate, and it exposes through a glass plate. Subsequently, a dry film resist pattern was formed on both copper foil surfaces by developing. By spray-etching ferric chloride from both sides, a flip chip mounting bump is formed on one side, a solder bonding bump for secondary mounting and a copper circuit that electrically connects them are formed on the other side. did. Subsequently, a photosensitive solder resist was applied so as to have a thickness of 30 μm on both sides, followed by patterning so as to expose the flip chip bump and the solder bonding bump, thereby forming a solder resist pattern. In this way, 2 metal BGA was produced.

続いて半田接合用バンプおよびフリップチップバンプ上に保護シートをロールラミネート装置によりラミネートした。保護シートは、粘着層には厚さ7μmの微粘着型アクリル系樹脂、基材層には厚さ125μmのPENフィルムを使用し、ラミネート温度120℃で熱圧着して2メタルBGA両面に保護シートを貼り付けることで本実施例であるプリント配線板を作成した。
続いて、プリント配線板を125℃、2hでプリベーク後、フリップチップバンプ側の保護シートを剥離して、スクリーン印刷にてフリップバンプ上に半田ペーストを形成し、ICチップをアライメントの上に搭載してピーク温度240℃でリフロー、アンダーフィル充填して1次実装を完了した。さらにモールド金型で2メタルBGAを挟み込むように設置し、チップ搭載上にトランスファーモールドを行いICチップをモールド樹脂で被服した。後に180℃、5時間でポストキュアーをおこなった。その後に半田ボール面の保護シートを剥離してフラックス塗布後、直径0.35μmの鉛フリー半田ボールを搭載してリフローしてボール面に半田ボールを搭載した電子部品を作成し、フラックス洗浄を行った。
Subsequently, a protective sheet was laminated on the solder bonding bumps and the flip chip bumps using a roll laminator. The protective sheet uses 7μm thick acrylic resin for the adhesive layer, 125μm PEN film for the base layer, and thermocompression-bonded at a lamination temperature of 120 ° C to protect the two metal BGA on both sides The printed wiring board which is a present Example was created by affixing.
Subsequently, after pre-baking the printed wiring board at 125 ° C. for 2 hours, the protective sheet on the flip chip bump side is peeled off, a solder paste is formed on the flip bump by screen printing, and the IC chip is mounted on the alignment. At the peak temperature of 240 ° C., reflow and underfill filling were performed to complete the primary mounting. Further, the two metal BGAs were placed between the mold dies, and transfer molding was performed on the chip mounting, and the IC chip was covered with the mold resin. Later, post-curing was performed at 180 ° C. for 5 hours. After that, the solder ball surface protective sheet is peeled off and the flux is applied. Then, a lead-free solder ball with a diameter of 0.35 μm is mounted and reflowed to create an electronic component with the solder ball mounted on the ball surface, followed by flux cleaning. It was.

(2)半田濡れ広がり性評価用のプリント配線板の作成
上述の電子部品の作成とは別に、半田濡れ性評価用のプリント配線板を作成した。前述の評価用半導体装置を作成するときと同材料同条件で幅0.4mm長さ5mmのソルダーレジストパターンが形成された銅張積層板を作成し、その上に保護シートをラミネート後上述と同熱履歴をかけることでを半田濡れ性評価用のプリント配線板を作成した。このプリント配線板にも同様に銅が露出したスリットパターンにフラックスを塗布した後に0.35mmの半田ボールをスリットパターン中心にマウントし半田リフローして半田濡れ性を計測する。
(2) Creation of printed wiring board for solder wettability evaluation Separately from the above-described electronic component creation, a printed wiring board for solder wettability evaluation was created. A copper-clad laminate having a solder resist pattern with a width of 0.4 mm and a length of 5 mm formed under the same material and conditions as the above-described evaluation semiconductor device was prepared, a protective sheet was laminated thereon, and the same as described above. A printed wiring board for solder wettability evaluation was created by applying a thermal history. Similarly, after applying a flux to the slit pattern in which copper is exposed on this printed wiring board, a solder ball of 0.35 mm is mounted at the center of the slit pattern, and solder reflow is performed to measure solder wettability.

(3)評価方法
上述のように作成した半田ボールを搭載した半導体装置の半田接合強度を半田シェアテストにより計測した。半田濡れ広がり性については、半田濡れ広がり評価用のプリント配線板を用いて評価した。リフロー後の半田のスリット長手方向の長さをmとし、半田ボール径をdとし、
半田濡れ性% = 濡れ広がり長さ/半田ボール径×100(%)とした。
(3) Evaluation Method The solder joint strength of the semiconductor device on which the solder balls prepared as described above are mounted was measured by a solder share test. The solder wettability was evaluated using a printed wiring board for solder wettability evaluation. The length of the slit in the longitudinal direction of the solder after reflow is m, the solder ball diameter is d,
Solder wettability% = wetting spread length / solder ball diameter × 100 (%).

[実施例2]
評価用電子部品及び評価用プリント配線板の作成方法は実施例1の方法とまったく同じであるが、保護シートをラミネートする際に熱圧着ロール部を窒素雰囲気下でラミネートした。これらを実施例1と同じ方法で評価した。
[Example 2]
The method of producing the evaluation electronic component and the evaluation printed wiring board was exactly the same as the method of Example 1, but the thermocompression-bonding roll was laminated in a nitrogen atmosphere when the protective sheet was laminated. These were evaluated in the same manner as in Example 1.

[実施例3]
評価用電子部品および評価用プリント配線板の作成方法は実施例1の方法とまったく同じであるが、保護シートをラミネートする前にフリップチップバンプおよび半田接合バンプの銅表面上に50℃の水溶性プリフラックス浴に3分浸漬し、プリフラックス皮膜をコートし、70℃、10分乾燥した。その後は実施例1と同様に保護シートをラミネートした。これらを実施例1と同じ方法で評価した。
[Example 3]
The method for producing the evaluation electronic component and the evaluation printed wiring board is exactly the same as the method of Example 1, but before laminating the protective sheet, it is water-soluble at 50 ° C. on the copper surface of the flip chip bump and the solder bonding bump. It was immersed in a preflux bath for 3 minutes, coated with a preflux film, and dried at 70 ° C. for 10 minutes. Thereafter, a protective sheet was laminated in the same manner as in Example 1. These were evaluated in the same manner as in Example 1.

[実施例4]
評価用電子部品および評価用プリント配線板の作成方法は実施例1の方法とまったく同じであるが、保護シートをラミネートする前にフリップチップバンプおよび半田接合バンプの銅表面上に電解ニッケルめっき層を形成した。その後は実施例1と同様に保護シートをラミネートした。これらを実施例1と同じ方法で評価した。
[Example 4]
The method for producing the evaluation electronic component and the evaluation printed wiring board is exactly the same as the method of Example 1, but before laminating the protective sheet, an electrolytic nickel plating layer is formed on the copper surface of the flip chip bump and the solder bonding bump. Formed. Thereafter, a protective sheet was laminated in the same manner as in Example 1. These were evaluated in the same manner as in Example 1.

[実施例5]
(1)ワイヤーボンディング実装用2メタルBGAの作成
実施例5の2メタルBGAの作成は実施例1と同様な方法で作成した。本実施例ではチップ実装側の導体層にワイヤーボンディングパットを形成し、反対面は半田接合バンプを形成した。同様にソルダーレジストパターンをボンディングパット部およびボールマウント部の半田接合バンプ部を露出するように形成した。保護シートはボールマウント面のみにロールラミネート装置によりラミネート温度120℃で熱圧着した。保護シートは、粘着層には厚さ5μmのUV硬化型アクリル系粘着材、基材層には厚さ125μmのPETフィルムを使用し、ラミネート後に保護フィルムの基材層であるPETフィルムを介して粘着層をUV硬化した。続いて保護シートを設けた2メタルBGAのボンディングパット部分にニッケル−金メッキを行った。続いてチップマウントしてダイボンド用樹脂を熱硬化後、金ワイヤーを用いてチップとBGAをワイヤーボンディングによる接続を行った。さらにモールド金型で2メタルBGAを挟み込むように設置し、チップ搭載上にトランスファーモールドを行いICチップをモールド樹脂で被服した。後に180℃、5時間でポストキュアーを行い、保護シートを剥離して、半田接合バンプにフラックスを塗布後、半田ボールをマウント、リフローして半田ボールを接続した。
半田濡れ性評価用のプリント配線板は本実施例1と同材料、同条件で作成した。これらを実施例1と同じ方法で評価した。
[Example 5]
(1) Creation of 2-metal BGA for wire bonding mounting The 2-metal BGA of Example 5 was created in the same manner as in Example 1. In this example, a wire bonding pad was formed on the conductor layer on the chip mounting side, and a solder bonding bump was formed on the opposite surface. Similarly, a solder resist pattern was formed so as to expose the bonding pad portion and the solder joint bump portion of the ball mount portion. The protective sheet was thermocompression bonded only to the ball mount surface by a roll laminator at a laminating temperature of 120 ° C. The protective sheet uses a UV-curable acrylic adhesive material with a thickness of 5 μm for the adhesive layer, and a PET film with a thickness of 125 μm for the base material layer, and after the lamination, through the PET film that is the base material layer of the protective film The adhesive layer was UV cured. Subsequently, nickel-gold plating was performed on the bonding pad portion of the two-metal BGA provided with a protective sheet. Subsequently, after chip mounting and thermosetting the resin for die bonding, the chip and BGA were connected by wire bonding using a gold wire. Further, the two metal BGAs were placed between the mold dies, and transfer molding was performed on the chip mounting, and the IC chip was covered with the mold resin. Thereafter, post-curing was performed at 180 ° C. for 5 hours, the protective sheet was peeled off, flux was applied to the solder joint bumps, the solder balls were mounted and reflowed to connect the solder balls.
A printed wiring board for evaluating solder wettability was prepared under the same material and under the same conditions as in Example 1. These were evaluated in the same manner as in Example 1.

[比較例1]
保護シートをラミネートしない以外は実施例1の電子部品の作成方法、半田濡れ性評価用プリント配線板の作成方法と同方法で行い、評価用電子部品及び評価用プリント配線板。これらを実施例1と同じ方法で評価した。
[Comparative Example 1]
An evaluation electronic component and an evaluation printed wiring board, which are the same as the method for producing an electronic component of Example 1 and the method for producing a printed wiring board for solder wettability evaluation, except that the protective sheet is not laminated. These were evaluated in the same manner as in Example 1.

[比較例2]
2メタルBGAの作成は実施例1の方法と同様で行った。フリップチップバンプおよび半田接合用バンプに電解ニッケルめっきを2μm、電解金メッキを0.03μmで形成した。保護シートは使用しなかった。半田濡れ性評価用プリント配線板も同様ニッケル金メッキを施し、保護シートは使用しなかった。これらを実施例1と同じ方法で評価した。
[Comparative Example 2]
The production of the 2-metal BGA was performed in the same manner as in Example 1. Electrolytic nickel plating was formed on the flip chip bumps and solder bonding bumps at 2 μm and electrolytic gold plating was formed at 0.03 μm. A protective sheet was not used. The printed wiring board for solder wettability evaluation was similarly plated with nickel and no protective sheet was used. These were evaluated in the same manner as in Example 1.

本発明の実施例および比較例の評価結果を表1に記載する。   The evaluation results of Examples and Comparative Examples of the present invention are shown in Table 1.

Figure 0004784456
Figure 0004784456

本発明の実施例1〜5は、半田接合端子部にニッケル金メッキを施した比較例2と同等あるいはそれ以上の半田接合性および濡れ性を示した。これにより、ニッケル−金メッキ工程をする必要がなく、安価であり、かつ簡便なプロセスで良好な半田付け性を備えたプリント配線板を提供することができることが確認された。   Examples 1 to 5 of the present invention exhibited solder joint property and wettability equivalent to or higher than those of Comparative Example 2 in which the solder joint terminal portion was plated with nickel gold. Thus, it was confirmed that it is not necessary to perform a nickel-gold plating step, and it is possible to provide a printed wiring board that is inexpensive and has good solderability by a simple process.

本発明の実施形態であるプリント配線板の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the printed wiring board which is an embodiment of the present invention. 保護シートの断面図である。It is sectional drawing of a protection sheet.

符号の説明Explanation of symbols

10 プリント配線板
11 導体層
11A 半田接合端子部
12 絶縁樹脂
13 ソルダーレジスト
15 保護シート
15A 粘着層
15B 基材層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Printed wiring board 11 Conductor layer 11A Solder joint terminal part 12 Insulation resin 13 Solder resist 15 Protective sheet 15A Adhesive layer 15B Base material layer

Claims (5)

導体層と絶縁樹脂の積層構造とされ、最外層に配置された前記導体層に半田接合端子部が形成されたプリント配線板の製造方法において、
最外層に配置された前記導体層の上に、前記半田接続端子部が露出するように、かつ、前記半田接合端子部の周囲を取り囲むように、かつ前記半田接合端子部よりも高くなるようにソルダーレジストを形成し、
該ソルダーレジストの上に、前記半田接合端子部を覆い、かつ当該半田接合端子部と直接接触しないように、保護シートを熱圧着あるいは熱ローララミネート法により配設することを特徴とするプリント配線板の製造方法。
In the method of manufacturing a printed wiring board having a laminated structure of a conductor layer and an insulating resin, and a solder joint terminal portion formed on the conductor layer disposed in the outermost layer,
On the conductor layer disposed on the outermost layer, the solder connection terminal portion is exposed, the periphery of the solder joint terminal portion is surrounded, and the height is higher than the solder joint terminal portion. Form a solder resist,
Over the solder resist, pre SL have covered the solder joint terminal portion, and so as not to contact directly with the solder joint terminal portion, printing, characterized in that a protective sheet is disposed by thermocompression bonding or thermal roller lamination A method for manufacturing a wiring board.
請求項1に記載のプリント配線板の製造方法により製造され、前記保護シートが配設されたプリント配線板であって、
導体層と絶縁樹脂の積層構造とされ、最外層に配置された前記導体層に半田接合端子部が形成されており、
前記半田接続端子部が露出するように、かつ、前記半田接合端子部の周囲を取り囲むように、かつ前記半田接合端子部よりも高くなるようにソルダーレジストが形成され、該ソルダーレジストの上に、前記半田接合端子部を覆い、かつ当該半田接合端子部と直接接触しないように、前記保護シートが配設されていることを特徴とするプリント配線板。
A printed wiring board manufactured by the method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the protective sheet is disposed,
It is a laminated structure of a conductor layer and an insulating resin, and a solder joint terminal portion is formed on the conductor layer disposed on the outermost layer,
A solder resist is formed so that the solder connection terminal portion is exposed and surrounds the periphery of the solder joint terminal portion, and is higher than the solder joint terminal portion , on the solder resist , before SL has covered the solder joint terminal portion, and so as not to contact directly with the solder joint terminal portion, the printed wiring board, wherein the protective sheet is disposed.
前記半田接合端子部と前記ソルダーレジストと前記保護シートとの間隙に、不活性ガスが充填されていることを特徴とする請求項に記載のプリント配線板。 The printed wiring board according to claim 2 , wherein an inert gas is filled in a gap between the solder joint terminal portion, the solder resist, and the protective sheet. 前記半田接合端子部の表面と前記保護シートとの間に、フラックスあるいは水溶性プリフラックス層が形成されていることを特徴とする請求項または請求項3に記載のプリント配線板。 Wherein between the solder joint terminal portion of the surface and the protective sheet, the printed wiring board according to claim 2 or claim 3, characterized in that the flux or OSP layer is formed. 前記半田接合端子部の表面と前記保護シートとの間に、金属めっき層が形成されていることを特徴とする請求項から請求項のいずれかに記載のプリント配線板。 Wherein between the solder joint terminal portion of the surface and the protective sheet, the printed wiring board according to any one of the preceding claims 2, wherein a metal plating layer is formed.
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