JP4779983B2

JP4779983B2 - Electro-optical device and method of manufacturing electro-optical device

Info

Publication number: JP4779983B2
Application number: JP2007025438A
Authority: JP
Inventors: 弘和柳原
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2007-02-05
Filing date: 2007-02-05
Publication date: 2011-09-28
Anticipated expiration: 2027-02-05
Also published as: JP2008192450A

Description

本発明は、電気光学装置および電気光学装置の製造方法に関する。 The present invention relates to an electro-optical device and a method for manufacturing the electro-optical device.

近年、有機蛍光材料等の発光材料をインク化し、このインクを基体上に吐出するインクジェット法により、発光材料のパターニングを行う方法を採用して、陽極と陰極との間に、前記発光材料からなる発光層が挟持された構造のカラー有機エレクトロルミネッセンス装置（有機ＥＬ装置）の開発が行われている。
ところで、前記インクジェット法を用いて有機ＥＬ装置を製造する場合には、配列形成された各画素（発光素子）の発光特性（輝度、色純度等）を均一化することが重要であり、このような発光特性の均一化が、有機ＥＬ装置の製造歩留まりに大きく影響している。発光特性を均一化するためには、各発光層を画素間で均一かつ平坦に形成することが必要である。特に膜厚の均一性及び平坦性は、インクの塗布法やその乾燥条件など、成膜条件によって大きく変動するため、この成膜条件が発光素子の均一性を向上させるために重要となっている。 In recent years, a light emitting material such as an organic fluorescent material is converted into an ink, and a method of patterning the light emitting material by an ink jet method in which this ink is ejected onto a substrate is employed, and the light emitting material is formed between the anode and the cathode. A color organic electroluminescence device (organic EL device) having a structure in which a light emitting layer is sandwiched is being developed.
By the way, when manufacturing an organic EL device using the ink jet method, it is important to make uniform the light emission characteristics (luminance, color purity, etc.) of each pixel (light emitting element) formed in an array. Uniform emission characteristics greatly affect the production yield of organic EL devices. In order to make the light emission characteristics uniform, it is necessary to form each light emitting layer uniformly and flatly between pixels. In particular, the uniformity and flatness of the film thickness vary greatly depending on the film forming conditions such as the ink application method and the drying conditions thereof, and the film forming conditions are important for improving the uniformity of the light emitting element. .

このような背景から、従来、電気光学層の膜厚均一性及び平坦性を向上させることができる方法として、特許文献１の技術が提案されている。
この技術（製造方法）は、基板上に第１隔壁部と第２隔壁部とを形成する工程と、各隔壁部の各開口に対し電気光学層を構成する各機能材料を含む液状体（液体材料）を液滴吐出法にて吐出する工程と、を備えて構成されている。そして、吐出する液状体は、各電気光学層毎にそれぞれ異なる粘度を有している。また、隔壁部形成工程においては、相対的に低粘度の液状体を吐出する位置では、第１隔壁部のうち第２隔壁部から突き出した部分の表面積を相対的に小さくし、相対的に高粘度の液状体を吐出する位置では、第１隔壁部のうち第２隔壁部から突き出した部分の表面積を相対的に大きくしている。 Against this background, the technique of Patent Document 1 has been proposed as a method that can improve the film thickness uniformity and flatness of the electro-optic layer.
This technique (manufacturing method) includes a step of forming a first partition wall portion and a second partition wall portion on a substrate, and a liquid (liquid) containing each functional material constituting an electro-optic layer with respect to each opening of each partition wall portion. And a step of discharging the material by a droplet discharge method. The discharged liquid material has a different viscosity for each electro-optic layer. In the partition wall forming step, the surface area of the first partition wall protruding from the second partition wall is relatively small at the position where the relatively low viscosity liquid is discharged, and the relatively high viscosity is relatively high. At the position where the viscous liquid material is discharged, the surface area of the portion protruding from the second partition wall portion of the first partition wall portion is relatively large.

すなわち、この特許文献１の製造方法は、液状体の粘度が異なることにより、形成される電気光学層の膜厚が不均一になる。つまり、用いる液状体の粘度が高いと、隔壁部の開口内に形成される電気光学層の膜厚が中心部において大きくなる傾向があり、一方、液状体の粘度が低いと、隔壁部の開口内に形成される電気光学層の膜厚が周縁部（隔壁部に近い側）において大きくなる傾向がある、との知見に基づいてなされたものである。
そして、前記構成に基づき、この特許文献１の製造方法によれば、液状体の粘度に応じて第１隔壁部の突出部の面積を好適に調整することにより、各電気光学層の膜厚をそれぞれ均一且つ平坦にすることができる、とされている。
特開２００６−１２７６２号公報 That is, in the manufacturing method of Patent Document 1, the thickness of the electro-optic layer formed becomes non-uniform because the viscosity of the liquid is different. That is, when the viscosity of the liquid used is high, the film thickness of the electro-optic layer formed in the opening of the partition wall tends to increase in the central portion. On the other hand, when the viscosity of the liquid is low, the opening of the partition wall This is based on the knowledge that the thickness of the electro-optic layer formed inside tends to increase at the peripheral edge (side closer to the partition wall).
And based on the said structure, according to the manufacturing method of this patent document 1, the film thickness of each electro-optic layer is adjusted by suitably adjusting the area of the protrusion part of a 1st partition part according to the viscosity of a liquid. Each can be made uniform and flat.
JP 2006-12762 A

しかしながら、前記したように第２隔壁部に対する第１隔壁部の突出部の面積を調整しても、隔壁部の開口内に吐出するための粘度の異なる液状体が、互いにその溶質の分子量が大きく異なる場合、得られる電気光学層の膜平坦性をより良好にするには未だ不十分である。すなわち、異なる種類の液状体間において、それぞれの分子量に大きな差があると、これら液状体間では、塗布時の初期粘度だけでなく、乾燥時における増粘過程にも大きな差が生じてしまう。したがって、前記の突出部面積の調整だけでは、成膜過程全体を十分に制御することができず、結果として得られる膜（電気光学層）の平坦性がより良好となるまでには至っていないのである。 However, even if the area of the protruding portion of the first partition wall portion relative to the second partition wall portion is adjusted as described above, the liquid materials having different viscosities for discharging into the opening of the partition wall portion have large molecular weights of solutes. If they are different, it is still insufficient to improve the film flatness of the obtained electro-optic layer. That is, if there is a large difference in molecular weight between different types of liquids, not only the initial viscosity at the time of application but also the thickening process at the time of drying between these liquids. Therefore, the adjustment of the protrusion area alone cannot sufficiently control the entire film formation process, and the flatness of the resulting film (electro-optic layer) has not been improved. is there.

本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、特に複数種の液状体（液体材料）を用いて異なる機能膜を形成する場合に、これら機能膜の平坦性がより良好になるように制御された電気光学装置と、その製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and the object of the present invention is that the flatness of these functional films is improved particularly when different functional films are formed using a plurality of types of liquid materials (liquid materials). It is an object of the present invention to provide an electro-optical device controlled so as to be favorable and a manufacturing method thereof.

前記目的を達成するため本発明の電気光学装置は、複数の画素領域が隔壁によって区画されてなる電気光学装置であって、前記複数の画素領域は、第１画素領域と第２画素領域とを有し、前記第１画素領域は第１機能膜を有し、前記第２画素領域は前記第１機能膜とは異なる第２機能膜を有し、記隔壁は前記第１画素領域を区画する第１隔壁と、前記第２画素領域を区画する第２隔壁とを有し、前記第１隔壁の表面状態と前記第２隔壁の表面状態とは異なることを特徴とする。 In order to achieve the above object, an electro-optical device according to another aspect of the invention is an electro-optical device in which a plurality of pixel regions are partitioned by partition walls, and the plurality of pixel regions include a first pixel region and a second pixel region. The first pixel region has a first functional film, the second pixel region has a second functional film different from the first functional film, and the partition wall defines the first pixel region. It has a 1st partition and the 2nd partition which divides the 2nd pixel field, and the surface state of the 1st partition differs from the surface state of the 2nd partition.

この電気光学装置によれば、前記第１隔壁の表面状態と前記第２隔壁の表面状態として、機能膜形成用の液体材料に対し、それぞれ隔壁の濡れ性を異ならせておけば、製造時、隔壁内に配された液体材料の膜状態を良好にすることができる。したがって、異なる液状体間において、塗布時の初期粘度だけでなく、乾燥時における増粘過程についてもより良好に制御することができ、これら異なる液状体から得られる機能膜の平坦性をより良好に制御することが可能になる。 According to this electro-optical device, when the surface state of the first partition and the surface state of the second partition are different from each other in the wettability of the partition with respect to the liquid material for forming the functional film, The film state of the liquid material arranged in the partition can be improved. Therefore, not only the initial viscosity at the time of application but also the thickening process at the time of drying can be better controlled between different liquid materials, and the flatness of the functional film obtained from these different liquid materials can be improved. It becomes possible to control.

また、前記電気光学装置においては、前記第１隔壁と前記第２隔壁とは、それぞれ異なる材料からなることで、互いに表面状態が異なって形成されていてもよい。
このようにすれば、単に材料を適宜に選択するだけで、隔壁の表面状態を制御することが可能になる。 In the electro-optical device, the first partition wall and the second partition wall may be formed of different materials so that the surface states thereof are different from each other.
If it does in this way, it will become possible to control the surface state of a partition only by selecting a material suitably.

また、前記電気光学装置においては、前記第１機能膜と前記第２機能膜とは、互いに溶質が異なる液体材料によって形成されており、前記第１機能膜は、前記第２機能膜を形成する液体材料よりも溶質の分子量が大きい液体材料によって形成され、前記第２隔壁の表面状態は前記第１隔壁の表面状態よりも濡れ性が高くなっているのが好ましい。 In the electro-optical device, the first functional film and the second functional film are formed of liquid materials having different solutes, and the first functional film forms the second functional film. Preferably, the second partition wall is formed with a liquid material having a molecular weight higher than that of the liquid material, and the surface state of the second partition wall is higher in wettability than the surface state of the first partition wall.

溶質の分子量が小さい液体材料は、溶質の分子量が相対的に大きい液体材料に比べて粘性が低く、したがって、乾燥時において、増粘する過程で固形分である溶質が漸次径を縮めて中央に集まりやすくなる。その結果、隔壁内においても、溶質が隔壁の側面から離れて隔壁開口内の中央部に集まり、これによって乾燥後得られる膜は、その中央が凸状に盛り上がりやすくなる。そこで、隔壁の濡れ性を相対的に高くしておき、乾燥時、隔壁側面上にも溶質（固形分）が残るようにし、溶質が必要以上に中央部に集まるのを防止することにより、乾燥後得られる機能膜の平坦性をより良好にすることができる。
また、溶質の分子量が大きい液体材料は、溶質の分子量が相対的に小さい液体材料に比べて粘性が高く、したがって、乾燥時において、増粘する過程で固形分である溶質が径を縮めて中央に集まることなく、そのままの状態に保持され易くなる。すると、中央部に比べて周縁部で乾燥が速く進むことにより、溶質は周縁部側に流動する。その結果、隔壁内においても、乾燥後得られる膜は周縁部で盛り上がり、中央部で凹んだ状態になり易くなる。そこで、隔壁の濡れ性を相対的に低くしておき、乾燥時、隔壁側面の撥液作用によって溶質（固形分）を隔壁の側面からはじいて隔壁開口内の中央部に寄せるようにし、溶質が必要以上に周縁部に集まるのを防止することにより、乾燥後得られる機能膜の平坦性をより良好にすることができる。 A liquid material with a low solute molecular weight has a lower viscosity than a liquid material with a relatively large solute molecular weight.Therefore, during drying, the solute, which is a solid component in the process of thickening, gradually shrinks in diameter to the center. It becomes easy to gather. As a result, even in the partition wall, the solute is separated from the side surface of the partition wall and collects in the center part in the partition opening, and the film obtained after drying tends to bulge in the center. Therefore, by keeping the wettability of the partition relatively high, when drying, the solute (solid content) remains on the side wall of the partition, and by preventing the solute from collecting in the center more than necessary, The flatness of the functional film obtained later can be made better.
In addition, a liquid material having a high molecular weight of the solute has a higher viscosity than a liquid material having a relatively low molecular weight of the solute. It is easy to be kept in a state without being collected. Then, as the drying proceeds faster at the peripheral portion than at the central portion, the solute flows toward the peripheral portion. As a result, even in the partition wall, the film obtained after drying tends to swell at the peripheral part and become depressed at the central part. Therefore, the wettability of the partition walls is relatively low, and when dried, the solute (solid content) is repelled from the side surfaces of the partition walls by the liquid repellent action on the side surfaces of the partition walls and is brought to the center of the partition opening. By preventing gathering at the peripheral portion more than necessary, the flatness of the functional film obtained after drying can be made better.

また、前記電気光学装置においては、前記第１機能膜及び前記第２機能膜は、有機ＥＬ発光層を構成する膜であるのが好ましい。
このようにすれば、本発明の電気光学装置は、有機ＥＬ発光層の平坦性がより良好になり、したがって発光特性が均一化した優れた有機ＥＬ装置となる。 In the electro-optical device, it is preferable that the first functional film and the second functional film are films constituting an organic EL light emitting layer.
In this way, the electro-optical device of the present invention is an excellent organic EL device in which the flatness of the organic EL light emitting layer is improved, and thus the light emission characteristics are uniform.

本発明の電気光学装置の製造方法は、複数の画素領域が隔壁によって区画されてなる電気光学装置の製造方法であって、前記複数の画素領域を区画する前記隔壁として、前記複数の画素領域のうち第１画素領域を区画する第１隔壁と、前記複数の画素領域のうち第２画素領域を区画し、かつ前記第１隔壁とは表面状態が異なる第２隔壁とを形成する工程と、前記第１隔壁内の前記第１画素領域に第１液体材料を配する工程と、前記第２隔壁内の前記第２画素領域に第２液体材料を配する工程と、前記第１液体材料及び前記第２液体材料をそれぞれ乾燥して第１機能膜及び第２機能膜を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。 The electro-optical device manufacturing method according to the present invention is a method for manufacturing an electro-optical device in which a plurality of pixel regions are partitioned by partition walls, and the partition regions are defined as the partition walls. Forming a first partition partitioning a first pixel region and a second partition partitioning a second pixel region of the plurality of pixel regions and having a surface state different from the first partition; Disposing a first liquid material in the first pixel region in the first partition; disposing a second liquid material in the second pixel region in the second partition; the first liquid material; A step of drying the second liquid material to form a first functional film and a second functional film, respectively.

この電気光学装置の製造方法によれば、異なる液体材料に対応して、予め表面状態が異なる隔壁を形成するので、その後各隔壁内の画素領域に対して対応する液体材料を配することにより、隔壁内における液体材料の膜状態を良好にすることができる。したがって、異なる液状体間において、塗布時の初期粘度だけでなく、乾燥時における増粘過程についてもより良好に制御することができ、これら異なる液状体から得られる機能膜の平坦性をより良好に制御することが可能になる。 According to the method of manufacturing the electro-optical device, the partition walls having different surface states are formed in advance corresponding to different liquid materials, and then by arranging the corresponding liquid material for the pixel region in each partition wall, The film state of the liquid material in the partition can be improved. Therefore, not only the initial viscosity at the time of application but also the thickening process at the time of drying can be better controlled between different liquid materials, and the flatness of the functional film obtained from these different liquid materials can be improved. It becomes possible to control.

また、前記電気光学装置の製造方法においては、前記第１隔壁及び前記第２隔壁を形成する工程は、基礎隔壁を形成する工程と、前記基礎隔壁の前記第２隔壁となる領域に対して選択的に表面処理を行うことにより、前記第１隔壁の表面状態に対して濡れ性を異ならせる工程と、を備えていてもよい。
このようにすれば、表面処理の条件等を適宜に設定することにより、隔壁を所望の濡れ性に制御することが可能になる。 In the method of manufacturing the electro-optical device, the step of forming the first partition and the second partition may be selected with respect to a step of forming a base partition and a region to be the second partition of the base partition. And performing a surface treatment to make the wettability different from the surface state of the first partition wall.
If it does in this way, it will become possible to control a partition to desired wettability by setting up conditions etc. of surface treatment suitably.

また、前記電気光学装置の製造方法においては、前記第１液状材料と前記第２液体材料とは、互いに溶質が異なって形成されており、前記第１液体材料は前記第２液体材料よりも溶質の分子量が大きい液状材料によって形成され、前記第２隔壁の表面状態は前記第１隔壁の表面状態よりも濡れ性が高くなるように形成されていてもよい。
このようにすれば、前記したように乾燥時の増粘過程を制御することができ、これにより乾燥後得られる機能膜の平坦性をより良好にすることができる。 In the method of manufacturing the electro-optical device, the first liquid material and the second liquid material are formed with different solutes, and the first liquid material is more solute than the second liquid material. The surface state of the second partition wall may be formed so as to have higher wettability than the surface state of the first partition wall.
In this way, as described above, the thickening process during drying can be controlled, and thereby the flatness of the functional film obtained after drying can be improved.

また、前記電気光学装置の製造方法においては、前記第１液状材料を前記第１隔壁内の前記第１画素領域に配する工程では、液滴吐出法によって前記第１液状材料を配するのが好まし。
このようにすれば、隔壁内に液体材料をより選択的に配することが可能になる。 In the method of manufacturing the electro-optical device, in the step of disposing the first liquid material in the first pixel region in the first partition, the first liquid material is disposed by a droplet discharge method. I like it.
In this way, the liquid material can be more selectively disposed in the partition wall.

以下、本発明を詳しく説明する。
（有機ＥＬ装置）
図１〜図３は、本発明の電気光学装置を有機ＥＬ装置に適用した場合の一実施形態を説明するための図であり、図１は有機ＥＬ装置の配線構造を示す説明図、図２は、図１に示した有機ＥＬ装置の平面模式図、図３は、図１に示した有機ＥＬ装置の要部の断面模式図である。 The present invention will be described in detail below.
(Organic EL device)
1 to 3 are diagrams for explaining an embodiment in which the electro-optical device of the present invention is applied to an organic EL device, and FIG. 1 is an explanatory diagram showing a wiring structure of the organic EL device, FIG. FIG. 3 is a schematic plan view of the organic EL device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the main part of the organic EL device shown in FIG.

図１に示すように、本実施形態の有機ＥＬ装置１は、複数の走査線１０１と、走査線１０１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３とがそれぞれ配線された構成を有するとともに、走査線１０１及び信号線１０２の各交点付近に、画素領域Ａを形成したものである。 As shown in FIG. 1, the organic EL device 1 of the present embodiment includes a plurality of scanning lines 101, a plurality of signal lines 102 extending in a direction intersecting the scanning lines 101, and a plurality extending in parallel with the signal lines 102. The power source line 103 is wired, and the pixel region A is formed in the vicinity of each intersection of the scanning line 101 and the signal line 102.

信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ側駆動回路１０４が接続されている。走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路１０５が接続されている。また、画素領域Ａの各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ１１２と、このスイッチング用の薄膜トランジスタ１１２を介して信号線１０２から供給される画素信号を保持する保持容量ｃａｐと、該保持容量ｃａｐによって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ１１３と、この駆動用薄膜トランジスタ１１３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに該電源線１０３から駆動電流が流れ込む陽極（画素電極）１１１と、この画素電極１１１と陰極（対向電極）１２との間に挟み込まれた発光機能層１１０とが設けられている。
なお、陽極（画素電極）１１１と陰極（対向電極）１２と発光機能層１１０とを備えてなることにより、有機ＥＬ素子が構成されている。 Connected to the signal line 102 is a data side driving circuit 104 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch. A scanning side driving circuit 105 including a shift register and a level shifter is connected to the scanning line 101. In each of the pixel regions A, a switching thin film transistor 112 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 101 and a pixel signal supplied from the signal line 102 via the switching thin film transistor 112 are provided. Is electrically connected to the power supply line 103 via the driving thin film transistor 113, the driving thin film transistor 113 to which the pixel signal held by the holding capacity cap is supplied to the gate electrode, and the driving thin film transistor 113. In addition, an anode (pixel electrode) 111 into which a driving current flows from the power supply line 103 and a light emitting functional layer 110 sandwiched between the pixel electrode 111 and the cathode (counter electrode) 12 are provided.
The organic EL element is configured by including the anode (pixel electrode) 111, the cathode (counter electrode) 12, and the light emitting functional layer 110.

このような構成によれば、走査線１０１が駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ１１２がオンになると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ１１３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ１１３のチャネルを介して、電源線１０３から画素電極１１１に電流が流れ、さらに発光機能層１１０を介して陰極１２に電流が流れる。すると、発光機能層１１０はこれを流れる電流量に応じて発光する。 According to such a configuration, when the scanning line 101 is driven and the switching thin film transistor 112 is turned on, the potential of the signal line 102 at that time is held in the holding capacitor cap, and according to the state of the holding capacitor cap. The on / off state of the driving thin film transistor 113 is determined. Then, a current flows from the power supply line 103 to the pixel electrode 111 through the channel of the driving thin film transistor 113 and further a current flows to the cathode 12 through the light emitting functional layer 110. Then, the light emitting functional layer 110 emits light according to the amount of current flowing therethrough.

また、図２及び図３に示すように本実施形態の有機ＥＬ装置１は、ガラス等からなる透明な基板２と、マトリックス状に配置された有機ＥＬ素子とを具備して構成されている。
図３に示すように基板２上に形成される有機ＥＬ素子３は、画素電極１１１と、正孔注入層６０と発光層７０からなる発光機能層１１０と、陰極１２とによって構成されている。また、基板２の厚さ方向において、前記有機ＥＬ素子３を含むＥＬ素子部１０と基板２との間には、回路素子部１４が形成されている。この回路素子部１４には、前述の走査線、信号線、保持容量、スイッチング用の薄膜トランジスタ、駆動用の薄膜トランジスタ１２３等が形成されている。 As shown in FIGS. 2 and 3, the organic EL device 1 according to the present embodiment includes a transparent substrate 2 made of glass or the like and organic EL elements arranged in a matrix.
As shown in FIG. 3, the organic EL element 3 formed on the substrate 2 includes a pixel electrode 111, a light emitting functional layer 110 including a hole injection layer 60 and a light emitting layer 70, and a cathode 12. In the thickness direction of the substrate 2, a circuit element portion 14 is formed between the EL element portion 10 including the organic EL element 3 and the substrate 2. In the circuit element portion 14, the above-described scanning line, signal line, storage capacitor, switching thin film transistor, driving thin film transistor 123, and the like are formed.

また、陰極１２は、その一端が基板２上に形成された陰極用配線（図示略）に接続されており、図２に示すように、この配線の一端部１２ａがフレキシブル基板５上の配線５ａに接続されている。なお、この配線５ａは、フレキシブル基板５上に備えられた駆動ＩＣ６（駆動回路）に接続されている。 One end of the cathode 12 is connected to a cathode wiring (not shown) formed on the substrate 2, and one end 12 a of this wiring is connected to a wiring 5 a on the flexible substrate 5 as shown in FIG. 2. It is connected to the. The wiring 5 a is connected to a driving IC 6 (driving circuit) provided on the flexible substrate 5.

また、本実施形態の有機ＥＬ装置１は、発光機能層１１０から基板２側に発した光が、回路素子部１４及び基板２を透過して基板２の外側（観測者側）に出射されるとともに、発光機能層１１０から基板２と反対の側に発した光も、陰極１２に反射されて回路素子部１４及び基板２を透過し、基板２の外側（観測者側）に出射される、いわゆるボトムエミッション型となっている。 In the organic EL device 1 of the present embodiment, light emitted from the light emitting functional layer 110 to the substrate 2 side is transmitted through the circuit element unit 14 and the substrate 2 and emitted to the outside (observer side) of the substrate 2. At the same time, the light emitted from the light emitting functional layer 110 to the side opposite to the substrate 2 is reflected by the cathode 12, passes through the circuit element portion 14 and the substrate 2, and is emitted to the outside (observer side) of the substrate 2. The so-called bottom emission type.

図３に示すように回路素子部１４には、基板２上にＳｉＯ_２を主体とする下地保護層２８１が下地として形成され、その上にはシリコン層２４１が形成されている。このシリコン層２４１の表面には、ＳｉＯ_２及び／又はＳｉＮを主体とするゲート絶縁層２８２が形成されている。
また、前記シリコン層２４１のうち、ゲート絶縁層２８２を挟んでゲート電極２４２と重なる領域が、チャネル領域２４１ａとされている。なお、このゲート電極２４２は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層２４１を覆い、ゲート電極２４２を形成したゲート絶縁層２８２の表面には、ＳｉＯ_２を主体とする第１層間絶縁層２８３が形成されている。 As shown in FIG. 3, in the circuit element portion 14, a base protective layer 281 mainly composed of SiO ₂ is formed on the substrate 2 as a base, and a silicon layer 241 is formed thereon. A gate insulating layer 282 mainly composed of SiO ₂ and / or SiN is formed on the surface of the silicon layer 241.
In the silicon layer 241, a region overlapping with the gate electrode 242 with the gate insulating layer 282 interposed therebetween is a channel region 241a. The gate electrode 242 is a part of a scanning line (not shown). On the other hand, a first interlayer insulating layer 283 mainly composed of SiO ₂ is formed on the surface of the gate insulating layer 282 that covers the silicon layer 241 and on which the gate electrode 242 is formed.

また、シリコン層２４１のうち、チャネル領域２４１ａのソース側には、低濃度ソース領域２４１ｂおよび高濃度ソース領域２４１Ｓが設けられる一方、チャネル領域２４１ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域２４１ｃおよび高濃度ドレイン領域２４１Ｄが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Light Doped Drain ）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域２４１Ｓは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４３ａを介して、ソース電極２４３に接続されている。このソース電極２４３は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域２４１Ｄは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４４ａを介して、ソース電極２４３と同一層からなるドレイン電極２４４に接続されている。 Further, in the silicon layer 241, a low concentration source region 241b and a high concentration source region 241S are provided on the source side of the channel region 241a, while a low concentration drain region 241c and a high concentration drain are provided on the drain side of the channel region 241a. The region 241D is provided to form a so-called LDD (Light Doped Drain) structure. Among these, the high-concentration source region 241S is connected to the source electrode 243 through a contact hole 243a that opens over the gate insulating layer 282 and the first interlayer insulating layer 283. The source electrode 243 is configured as a part of a power supply line (not shown). On the other hand, the high-concentration drain region 241D is connected to the drain electrode 244 made of the same layer as the source electrode 243 through a contact hole 244a that opens through the gate insulating layer 282 and the first interlayer insulating layer 283.

ソース電極２４３およびドレイン電極２４４が形成された第１層間絶縁層２８３の上層には、平坦化膜２８４が形成されている。この平坦化膜２８４は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、駆動用ＴＦＴ１２３やソース電極２４３、ドレイン電極２４４などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。 A planarization film 284 is formed on the first interlayer insulating layer 283 where the source electrode 243 and the drain electrode 244 are formed. The planarizing film 284 is formed of a heat-resistant insulating resin such as acrylic or polyimide, and is formed to eliminate surface irregularities due to the driving TFT 123, the source electrode 243, the drain electrode 244, and the like. Are known.

そして、この平坦化膜２８４の表面上には画素電極（陽極）１１１が形成されており、この画素電極１１１は、前記平坦化膜２８４に設けられたコンタクトホール１１１ａを介してドレイン電極２４４に接続されている。すなわち、画素電極１１１は、ドレイン電極２４４を介して、シリコン層２４１の高濃度ドレイン領域２４１Ｄに接続されている。なお、画素電極１１１は、ボトムエミッション型である本実施形態では、透明導電材料によって形成され、具体的にはＩＴＯが好適に用いられている。 A pixel electrode (anode) 111 is formed on the surface of the planarization film 284, and the pixel electrode 111 is connected to the drain electrode 244 through a contact hole 111 a provided in the planarization film 284. Has been. That is, the pixel electrode 111 is connected to the high concentration drain region 241D of the silicon layer 241 through the drain electrode 244. In this embodiment, which is a bottom emission type, the pixel electrode 111 is formed of a transparent conductive material, and specifically, ITO is suitably used.

画素電極１１１が形成された平坦化膜２８４の表面上には、画素電極１１１と、これの周縁部を覆う第１隔壁部２５とが形成されており、さらにこの第１隔壁部２５上には、第２隔壁部２２１が形成されている。ここで、第１隔壁部２５はＳｉＯ_２からなる無機隔壁となっている。また、第２隔壁部２２１は、本発明における画素領域を区画するための隔壁であって、後述する複数種の発光層の種類に対応して、その表面状態（例えば濡れ性）が適宜に調整されたものである。 On the surface of the planarization film 284 on which the pixel electrode 111 is formed, the pixel electrode 111 and a first partition wall portion 25 that covers the peripheral edge portion of the pixel electrode 111 are formed. Further, on the first partition wall portion 25, A second partition wall 221 is formed. Here, the first partition wall 25 has a inorganic partition walls made of SiO _2. The second partition 221 is a partition for partitioning the pixel region in the present invention, and its surface state (for example, wettability) is appropriately adjusted according to the types of a plurality of types of light emitting layers described later. It has been done.

すなわち、本実施形態では、発光機能層１１０が正孔注入層６０と発光層とから構成されており、特に発光層は、赤色発光用の発光層７０Ｒ、緑色発光用の発光層７０Ｇ、青色発光用の発光層７０Ｂからなっている。したがって、これら発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを形成するための液体材料は、各発光層毎に異なるものとなり、これに対応して、第２隔壁部２２１もその濡れ性が調整されているのである。ただし、本実施形態では、後述するように液体材料中の溶質となる赤色発光用の発光材料（固形分）と、同じく緑色発光用の発光材料（固形分）とは、その分子量が同等であることから、これら材料から形成される発光層７０Ｒに対応する第２隔壁部２２１Ｒと、発光層７０Ｇに対応する第２隔壁部２２１Ｇとは、同じ濡れ性に調整されている。 That is, in the present embodiment, the light emitting functional layer 110 includes the hole injection layer 60 and the light emitting layer. In particular, the light emitting layer includes the light emitting layer 70R for red light emission, the light emitting layer 70G for green light emission, and the blue light emission. For the light emitting layer 70B. Accordingly, the liquid material for forming these light emitting layers 70R, 70G, and 70B is different for each light emitting layer, and the wettability of the second partition wall portion 221 is adjusted accordingly. . However, in this embodiment, as will be described later, the light emitting material for red light emission (solid content), which becomes a solute in the liquid material, and the light emitting material for green light emission (solid content) have the same molecular weight. Therefore, the second partition 221R corresponding to the light emitting layer 70R formed of these materials and the second partition 221G corresponding to the light emitting layer 70G are adjusted to the same wettability.

具体的には、赤色発光層７０Ｒ、緑色発光層７０Ｇ、青色発光層７０Ｂがそれぞれ形成される画素領域を区画する第２隔壁部２２１Ｒ、第２隔壁部２２１Ｇ、第２隔壁部２２１Ｂは、本実施形態ではいずれも、フルオロアルキル基を有するポリシロキサン中に光触媒である酸化チタンが含有させられた材料により、形成されている。ただし、特に赤色発光層７０Ｒ、緑色発光層７０Ｇに対応する第２隔壁部２２１Ｒ、第２隔壁部２２１Ｇに関しては、紫外線照射による表面処理が施されたことにより、その濡れ性が調整されている。すなわち、後述するように赤色発光層７０Ｒ、緑色発光層７０Ｇの各形成材料（液体材料）中の溶質（固形分）となる発光材料は、青色発光層７０Ｂの形成材料（液体材料）中の溶質（固形分）となる発光材料に比べ、その分子量が１／１０程度と低い（小さい）ものが用いられている。したがって、互いにその増粘過程等が異なることから、それぞれの発光材料（溶質）に対応するよう、第２隔壁部２２１Ｒおよび第２隔壁部２２１Ｇと、第２隔壁部２２１Ｂとは、互いに濡れ性が異なって形成されているのである。 Specifically, the second barrier rib part 221R, the second barrier rib part 221G, and the second barrier rib part 221B that partition the pixel regions in which the red light emitting layer 70R, the green light emitting layer 70G, and the blue light emitting layer 70B are formed are formed in this embodiment. In any form, it is formed of a material in which titanium oxide as a photocatalyst is contained in polysiloxane having a fluoroalkyl group. However, the wettability of the second partition wall portion 221R and the second partition wall portion 221G corresponding to the red light emitting layer 70R and the green light emitting layer 70G is adjusted by performing the surface treatment by ultraviolet irradiation. That is, as will be described later, the luminescent material that is the solute (solid content) in each of the forming materials (liquid materials) of the red light emitting layer 70R and the green light emitting layer 70G is the solute in the forming material (liquid material) of the blue light emitting layer 70B. A material having a molecular weight as low (small) as about 1/10 of that of a light emitting material (solid content) is used. Accordingly, since the thickening process and the like are different from each other, the second partition wall portion 221R, the second partition wall portion 221G, and the second partition wall portion 221B have wettability with each other so as to correspond to each light emitting material (solute). It is formed differently.

ここで、第２隔壁部２２１Ｒ、第２隔壁部２２１Ｇ、第２隔壁部２２１Ｂを形成するための前記ポリシロキサンは、例えば特開２００４−２６４４２２号公報に開示されたもので、中性域のｐＨを有し、かつ光触媒としての酸化チタンと、撥液性を有する置換基（フルオロアルキル基）がポリシロキサンを構成するＳｉ原子に直接結合しているポリシロキサンと、を含有してなるものである。このようなポリシロキサンは、これが硬化することにより、その表面に存在するフルオロアルキル基の作用によって液体材料に対し撥液性を呈するようになる。具体的には、このポリシロキサン硬化体は比較的濡れ性が低く、これに接する液体材料は、その静的接触角が大きくなる。また、このポリシロキサン硬化体は、例えば表面処理として紫外線照射処理が施されることにより、光触媒である酸化チタンの触媒作用によってＳｉ原子とフルオロアルキ基との間の結合が切断される。したがって、フルオロアルキ基による撥液性が抑えられ、相対的に親液性のものとなる。よって、このように紫外線照射処理が施されたポリシロキサン硬化体は、比較的濡れ性が高くなり、これに接する液体材料は、その静的接触角が小さくなる。 Here, the polysiloxane for forming the second partition part 221R, the second partition part 221G, and the second partition part 221B is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-264422, and has a neutral pH. And a titanium oxide as a photocatalyst, and a polysiloxane having a liquid-repellent substituent (fluoroalkyl group) directly bonded to Si atoms constituting the polysiloxane. . When such a polysiloxane is cured, it exhibits liquid repellency with respect to the liquid material by the action of the fluoroalkyl group present on the surface thereof. Specifically, this polysiloxane cured product has relatively low wettability, and the liquid material in contact with it has a large static contact angle. Further, this polysiloxane cured body is subjected to, for example, an ultraviolet irradiation treatment as a surface treatment, whereby the bond between the Si atom and the fluoroalkyl group is broken by the catalytic action of titanium oxide as a photocatalyst. Therefore, the liquid repellency due to the fluoroalkyl group is suppressed, and it becomes relatively lyophilic. Therefore, the polysiloxane cured body that has been subjected to the ultraviolet irradiation treatment in this way has relatively high wettability, and the liquid material that contacts this has a small static contact angle.

そして、本実施形態では、赤色発光層７０Ｒ、緑色発光層７０Ｇに対応する第２隔壁部２２１Ｒ、第２隔壁部２２１Ｇは、紫外線照射による表面処理が施されたことにより、その濡れ性が高くなり、相対的に親液性となるよう調整されている。一方、青色発光層７０Ｂに対応する第２隔壁部２２１Ｂは、紫外線照射による表面処理が施されていないことにより、元の、比較的濡れ性が低い、相対的に撥液性のものとなっている。 In the present embodiment, the second partition 221R and the second partition 221G corresponding to the red light emitting layer 70R and the green light emitting layer 70G have high wettability due to the surface treatment performed by ultraviolet irradiation. It is adjusted to be relatively lyophilic. On the other hand, the second partition wall portion 221B corresponding to the blue light emitting layer 70B is not subjected to surface treatment by ultraviolet irradiation, so that it has a relatively low wettability and a relatively liquid repellent property. Yes.

また、前記第２隔壁部２２１Ｒ、第２隔壁部２２１Ｇ、第２隔壁部２２１Ｂは、実際には全てが連続した層となっており、後述するようにエッチングによるパターニングによって画素電極１１１（陽極）上に開口部が形成され、この開口部内を画素領域としたものである。そして、各第２隔壁部２２１Ｒ、第２隔壁部２２１Ｇ、第２隔壁部２２１Ｂは、その開口部を形成している部位、すなわち画素領域を区画している部位がこの画素領域に対応する隔壁となっている。すなわち、図３に示した例では、赤色発光層７０Ｒを囲っている部分がこの赤色発光層７０Ｒに対応する第２隔壁部２２１Ｒとなっており、緑色発光層７０Ｇを囲っている部分がこの緑色発光層７０Ｇに対応する第２隔壁部２２１Ｇとなっており、青色発光層７０Ｂを囲っている部分がこの青色発光層７０Ｂに対応する第２隔壁部２２１Ｂとなっている。 In addition, the second partition wall portion 221R, the second partition wall portion 221G, and the second partition wall portion 221B are actually all continuous layers, and are formed on the pixel electrode 111 (anode) by patterning by etching as will be described later. An opening is formed in the opening, and the inside of the opening is used as a pixel region. And each 2nd partition part 221R, the 2nd partition part 221G, and the 2nd partition part 221B are the partition in which the part which forms the opening, ie, the part which divides the pixel area, corresponds to this pixel area. It has become. That is, in the example shown in FIG. 3, the portion surrounding the red light emitting layer 70R is the second partition 221R corresponding to the red light emitting layer 70R, and the portion surrounding the green light emitting layer 70G is this green. A second partition 221G corresponding to the light emitting layer 70G is formed, and a portion surrounding the blue light emitting layer 70B is a second partition 221B corresponding to the blue light emitting layer 70B.

このような構成からなる各第２隔壁部２２１Ｒ、第２隔壁部２２１Ｇ、第２隔壁部２２１Ｂの開口部内（画素領域）には、それぞれ発光機能層１１０が設けられている。発光機能層１１０は、前述したように正孔注入層６０と発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）とが、画素電極（陽極）１１１側からこの順で積層されて形成されたものである。 The light emitting functional layer 110 is provided in the opening (pixel region) of each of the second partition 221R, the second partition 221G, and the second partition 221B having such a configuration. As described above, the light emitting functional layer 110 is formed by stacking the hole injection layer 60 and the light emitting layer 70R (70G, 70B) in this order from the pixel electrode (anode) 111 side.

正孔注入層６０は、その形成材料として、特に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン−ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）を含有する液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれをグリコールエーテル系の溶媒、例えばジエチレングリコールと、水とに分散させあるいは溶解させた液状体が好適に用いられている。 The hole injection layer 60 is a liquid containing 3,4-polyethylenedioxythiophene-polystyrene sulfonic acid (PEDOT-PSS) as a forming material, that is, 3,4-polyethylene in polystyrene sulfonic acid as a dispersion medium. A liquid material in which dioxythiophene is dispersed and further dispersed or dissolved in a glycol ether solvent such as diethylene glycol and water is preferably used.

この正孔注入層６０上には、本発明における機能膜としての、発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）が形成されている。これら発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。 On the hole injection layer 60, a light emitting layer 70R (70G, 70B) is formed as a functional film in the present invention. As a material for forming these light emitting layers 70R (70G, 70B), a known light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence is used. Specifically, (poly) fluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinylcarbazole (PVK), polythiophene derivative, polymethyl Polysilanes such as phenylsilane (PMPS) are preferably used. In addition, these polymer materials include polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, and quinacridone. It can also be used by doping a low molecular weight material such as.

そして、本実施形態では、特に赤色発光層７０Ｒの形成材料（発光材料）として、以下の化合物（１）に示すＣＮ−ＰＰＶ（ポリ（２，５−ビスヘキシルオキシ−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン）））が用いられている。なお、この発光材料の分子量は約４０ｋ（４００００）である。また、この発光材料は、溶媒としてのシクロヘキシルベンゼンに１重量％の濃度で溶解され、液体材料として後述する成膜に供されている。 In this embodiment, CN-PPV (poly (2,5-bishexyloxy-1,4-phenylene- () shown in the following compound (1) is used as a material for forming the red light emitting layer 70R (light emitting material)). 1-cyanovinylene))) is used. In addition, the molecular weight of this luminescent material is about 40k (40000). In addition, this luminescent material is dissolved in cyclohexylbenzene as a solvent at a concentration of 1% by weight and used as a liquid material for film formation described later.

また、緑赤色発光層７０Ｇの形成材料（発光材料）としては、以下の化合物（２）に示すＰＦ８−ＢＴ（ポリ（（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−アルト−（ベンゾチアジアゾール−４，７−ジイル）））が用いられている。この発光材料の分子量も約４０ｋ（４００００）である。また、この発光材料も、前記赤色の発光材料と同様に、溶媒としてのシクロヘキシルベンゼンに１重量％の濃度で溶解され、液体材料として後述する成膜に供されている。 In addition, as a forming material (light emitting material) of the green-red light emitting layer 70G, PF8-BT (poly ((9,9-dioctylfluorene-2,7-diyl) -alt- (benzo) represented by the following compound (2) is used. Thiadiazole-4,7-diyl))) has been used. The molecular weight of this luminescent material is also about 40k (40000). This luminescent material is also dissolved in cyclohexylbenzene as a solvent at a concentration of 1% by weight in the same manner as the red luminescent material, and used as a liquid material for film formation described later.

青赤色発光層７０Ｂの形成材料（発光材料）としては、以下の化合物（３）に示すＰＦ８−ＴＰＡ（ポリ（（９，９−ジオクチルフルオレン−２，７−ジイル）−アルト−（ピリジン−２，６−ジイル）））が用いられている。この発光材料の分子量は約４００ｋ（４０００００）である。また、この発光材料も、前記赤色の発光材料と同様に、溶媒としてのシクロヘキシルベンゼンに１重量％の濃度で溶解され、液体材料として後述する成膜に供されている。 As a forming material (light emitting material) of the blue-red light emitting layer 70B, PF8-TPA (poly ((9,9-dioctylfluorene-2,7-diyl) -alt- (pyridine-2) represented by the following compound (3) is used. , 6-diyl))). The molecular weight of this luminescent material is about 400k (400000). This luminescent material is also dissolved in cyclohexylbenzene as a solvent at a concentration of 1% by weight in the same manner as the red luminescent material, and used as a liquid material for film formation described later.

陰極１２は、前記発光層７０を覆って形成されたもので、ＬｉＦからなる電子注入層（図示せず）と、Ａｌからなる陰極層（図示せず）とが積層されたことで形成されたものである。なお、陰極１２についても透明な材料を用いれば、発光した光を陰極側からも出射させることができる。透明な材料としては、ＩＴＯ、Ｐｔ、Ｉｒ、Ｎｉ、もしくはＰｄを用いることができる。
また、この陰極１２上には、接着層５１を介して封止基板（図示せず）が貼着されている。 The cathode 12 is formed so as to cover the light emitting layer 70, and is formed by laminating an electron injection layer (not shown) made of LiF and a cathode layer (not shown) made of Al. Is. If a transparent material is used for the cathode 12 as well, the emitted light can be emitted from the cathode side. As the transparent material, ITO, Pt, Ir, Ni, or Pd can be used.
Further, a sealing substrate (not shown) is stuck on the cathode 12 via an adhesive layer 51.

なお、前記発光機能層１１０において正孔注入層６０は、正孔を発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）に注入する機能を有するとともに、正孔を正孔注入層６０内部において輸送する機能をも有している。このような正孔注入層６０を画素電極１１１と発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）との間に設けることにより、発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）の発光効率、寿命等の素子特性を向上させることができる。発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）では、正孔注入層６０から注入された正孔と、陰極１２から注入される電子とが再結合し、発光をなすようになっている。 In the light emitting functional layer 110, the hole injection layer 60 has a function of injecting holes into the light emitting layer 70R (70G, 70B) and a function of transporting holes inside the hole injection layer 60. is doing. By providing such a hole injection layer 60 between the pixel electrode 111 and the light emitting layer 70R (70G, 70B), device characteristics such as light emission efficiency and life of the light emitting layer 70R (70G, 70B) are improved. Can do. In the light emitting layer 70R (70G, 70B), the holes injected from the hole injection layer 60 and the electrons injected from the cathode 12 are recombined to emit light.

（有機ＥＬ装置の製造方法）
このような構成の有機ＥＬ装置１を製造するには、従来と同様にして基板２上に回路素子部１４を形成する。そして、基板２の全面を覆うように画素電極１１１となる透明導電膜を、ＩＴＯによって形成する。次いで、この導電膜をパターニングすることにより、図４（ａ）に示すように平坦化膜２８４のコンタクトホール１１１ａを介してドレイン電極２４４と導通する画素電極１１１を形成する。 (Method for manufacturing organic EL device)
In order to manufacture the organic EL device 1 having such a configuration, the circuit element portion 14 is formed on the substrate 2 in the same manner as in the prior art. And the transparent conductive film used as the pixel electrode 111 is formed with ITO so that the whole surface of the board | substrate 2 may be covered. Next, the conductive film is patterned to form a pixel electrode 111 that is electrically connected to the drain electrode 244 through the contact hole 111a of the planarization film 284 as shown in FIG.

次いで、画素電極１１１上および平坦化膜２８４上に、ＳｉＯ_２等の無機絶縁材料をＣＶＤ法等で成膜して第１隔壁層（図示せず）を形成し、続いて、公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いて隔壁層をパターニングする。これにより、図４（ｂ）に示すように、形成する各有機ＥＬ素子３の画素領域毎に開口部（図示略）を形成した、第１隔壁部２５を形成する。 Next, an inorganic insulating material such as SiO ₂ is formed on the pixel electrode 111 and the planarizing film 284 by a CVD method or the like to form a first partition layer (not shown), followed by a known photolithography. The barrier rib layer is patterned using a technique and an etching technique. Thereby, as shown in FIG. 4B, a first partition wall 25 is formed in which an opening (not shown) is formed for each pixel region of each organic EL element 3 to be formed.

次いで、第１隔壁部２５を覆って、前述した第２隔壁用の材料、すなわち光触媒としての酸化チタンと、撥液性を有する置換基（フルオロアルキル基）がポリシロキサンを構成するＳｉ原子に直接結合しているポリシロキサンと、を含有してなる材料を塗布し、さらにこれを加熱等によって硬化させることにより、第２隔壁層（図示せず）を形成する。
続いて、この第２隔壁層を公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いてパターニングし、図４（ｃ）に示すように第１隔壁部２５上の所定位置、詳しくは画素領域を囲む位置に隔壁層２２１（基礎隔壁）を残す。 Next, covering the first partition wall 25, the material for the second partition described above, that is, titanium oxide as a photocatalyst, and a liquid repellent substituent (fluoroalkyl group) are directly bonded to Si atoms constituting the polysiloxane. A second partition layer (not shown) is formed by applying a material containing bonded polysiloxane and curing the material by heating or the like.
Subsequently, the second barrier rib layer is patterned using a known photolithography technique and etching technique, and as shown in FIG. 4C, at a predetermined position on the first barrier rib portion 25, specifically, a position surrounding the pixel region. The partition layer 221 (basic partition wall) is left.

次いで、赤色発光層７０Ｒと緑色発光層７０Ｇとを形成するための画素領域を囲む隔壁部分に対し、マスク（図示せず）を用いて選択的に紫外線照射処理を行い、これら隔壁部分の表層を改質処理し、親液化する。すなわち、前記ポリシロキサン硬化体中の酸化チタンの触媒作用により、Ｓｉ原子とフルオロアルキ基との間の結合を切断して親液化し、これによってその濡れ性を高める。ここで、マスクとしては、紫外線照射を行う部位に対応して開口部を有し、紫外線照射を行わない部分は紫外線を透過しないように形成されたものが用いられる。 Next, the partition wall portion surrounding the pixel region for forming the red light emitting layer 70R and the green light emitting layer 70G is selectively subjected to ultraviolet irradiation using a mask (not shown), and the surface layer of these partition wall portions is formed. Reform it and make it lyophilic. That is, due to the catalytic action of titanium oxide in the cured polysiloxane, the bond between the Si atom and the fluoroalkyl group is cut to make it lyophilic, thereby increasing its wettability. Here, as the mask, there is used a mask which has an opening corresponding to a portion to be irradiated with ultraviolet rays and a portion which is not irradiated with ultraviolet rays so as not to transmit ultraviolet rays.

このような表面処理（紫外線照射処理）によって親液化され、濡れ性が高められた部分は、図４（ｄ）に示すようにそれぞれ第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇとなり、後述する赤色発光層用の液体材料および緑色発光層用の液体材料に対する濡れ性、すなわちこれら液体材料の第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇに対する静的接触角が、３０°となった。
また、表面処理（紫外線照射処理）がなされずに元のポリシロキサン硬化体の状態に保持された部分は、元の撥液性のままとなり、濡れ性が相対的に低い第２隔壁部２２１Ｂとなり、後述する青色発光層用の液体材料に対する濡れ性、すなわちこの液体材料の第２隔壁部２２１Ｂに対する静的接触角が、９０°となった。 The portions that have been made lyophilic by such surface treatment (ultraviolet irradiation treatment) and have improved wettability become second partition portions 221R and 221G, respectively, as shown in FIG. The wettability with respect to the liquid material and the liquid material for the green light emitting layer, that is, the static contact angle of these liquid materials with respect to the second partition portions 221R and 221G was 30 °.
Further, the portion that is not subjected to the surface treatment (ultraviolet irradiation treatment) and is maintained in the original polysiloxane cured body remains the original liquid repellency and becomes the second partition wall portion 221B having relatively low wettability. The wettability with respect to the liquid material for the blue light emitting layer to be described later, that is, the static contact angle of the liquid material with respect to the second partition 221B was 90 °.

次いで、前記第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂに囲まれた各画素領域に、図５（ａ）に示すように正孔注入層６０を形成する。この正孔注入層６０の形成工程では、スピンコート法や液滴吐出法が採用されるが、本実施形態では、第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂに囲まれた領域に正孔注入層６０の形成材料を選択的に配する必要上、特に液滴吐出法であるインクジェット法が好適に採用される。このインクジェット法により、正孔注入層６０の形成材料であるＰＥＤＯＴ−ＰＳＳの分散液を前記画素電極１１１の露出面上に配し、次いで真空乾燥処理を施した後、２００℃で１０分の熱処理を行うことにより、厚さ５０ｎｍの正孔注入層６０を形成する。なお、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳの分散液としては、例えばＰＥＤＯＴ：ＰＳＳが１：５０（重量比）であり、固形分濃度が０．５重量％、溶媒（分散媒）としてジエチレングリコールが５０重量％、残量が純水であるものが用いられる。 Next, as shown in FIG. 5A, a hole injection layer 60 is formed in each pixel region surrounded by the second partition walls 221R, 221G, and 221B. In the step of forming the hole injection layer 60, a spin coating method or a droplet discharge method is employed. In this embodiment, the hole injection layer 60 is formed in a region surrounded by the second partition wall portions 221R, 221G, and 221B. In particular, the inkjet method, which is a droplet discharge method, is preferably employed because it is necessary to selectively dispose the forming material. By this ink jet method, a dispersion of PEDOT-PSS, which is a material for forming the hole injection layer 60, is disposed on the exposed surface of the pixel electrode 111, and then subjected to a vacuum drying treatment, followed by a heat treatment at 200 ° C. for 10 minutes. To form a hole injection layer 60 having a thickness of 50 nm. In addition, as a dispersion of PEDOT-PSS, for example, PEDOT: PSS is 1:50 (weight ratio), solid content concentration is 0.5% by weight, diethylene glycol is 50% by weight as a solvent (dispersion medium), and the remaining amount. Is used which is pure water.

次いで、図５（ｂ）に示すように、前記正孔注入層６０の上に発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを形成する。この発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂの形成工程では、前記の正孔注入層６０の形成と同様に、液滴吐出法であるインクジェット法が好適に採用される。すなわち、インクジェット法により、前記した各発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂの形成材料（発光材料）を溶質とし、これを溶媒で溶解してなる溶液（液体材料）を、それぞれ対応する第２隔壁部２２１Ｒ（２２１Ｇ、２２１Ｂ）に囲まれた画素領域内の正孔注入層６０上に吐出する。 Next, as shown in FIG. 5B, light emitting layers 70 </ b> R, 70 </ b> G, and 70 </ b> B are formed on the hole injection layer 60. In the step of forming the light emitting layers 70R, 70G, and 70B, an ink jet method that is a droplet discharge method is preferably employed as in the formation of the hole injection layer 60 described above. That is, by the ink jet method, the formation material (light emitting material) of each of the light emitting layers 70R, 70G, and 70B described above is used as a solute, and a solution (liquid material) obtained by dissolving this in a solvent is used as the corresponding second partition wall portion 221R. Discharge onto the hole injection layer 60 in the pixel region surrounded by (221G, 221B).

ここで、各発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを形成するための液体材料（溶液）として、前記したように全て同じ濃度（１重量％）のものを用いているので、三種類の液体材料が全て同等の初期粘度を有するものとなる。したがって、インクジェット法により、これら三種類の液体材料を同じ条件のもとで吐出し、対応する第２隔壁部２２１内に選択的に配することができる。 Here, as the liquid materials (solutions) for forming the respective light emitting layers 70R, 70G, and 70B, those having the same concentration (1% by weight) are used as described above. It has an equivalent initial viscosity. Therefore, these three types of liquid materials can be ejected under the same conditions by the ink jet method, and can be selectively disposed in the corresponding second partition 221.

その後、これら三種類の液体材料を同じプロセスで同時に熱処理する。すなわち、窒素雰囲気中にて１３０℃で１時間程度熱処理を行い、第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂの開口部内、つまり画素領域上にそれぞれ発光層７０Ｒ（７０Ｇ、７０Ｂ）を厚さ１００ｎｍ程度に形成する。
このとき、前記液体材料において、特にその溶質（発光材料）の分子量が相対的に小さい赤色発光層用の液体材料および緑色発光層用の液体材料と、溶質（発光材料）の分子量が相対的に大きい青色発光層用の液体材料とは、その増粘過程が異なるものの、それぞれの分子量の対応して第２隔壁部２２１の濡れ性が異なっているので、共に平坦性に優れた良好な膜となる。 Thereafter, these three types of liquid materials are simultaneously heat-treated in the same process. That is, heat treatment is performed at 130 ° C. for about 1 hour in a nitrogen atmosphere, and the light emitting layers 70R (70G and 70B) are formed to have a thickness of about 100 nm in the openings of the second partition portions 221R, 221G, and 221B, that is, on the pixel regions. Form.
At this time, in the liquid material, the liquid material for the red light emitting layer and the liquid material for the green light emitting layer having a relatively small molecular weight of the solute (light emitting material) and the molecular weight of the solute (light emitting material) are relatively Although the thickening process is different from the liquid material for the large blue light-emitting layer, the wettability of the second partition wall portion 221 is different corresponding to the respective molecular weights. Become.

すなわち、溶質の分子量が小さい赤色発光層用および緑色発光層用の各液体材料は、乾燥により溶媒が蒸発し、増粘する過程で固形分である溶質が漸次径を縮めて中央に集まりやすくなる。その結果、第２隔壁部２２１Ｒ（２２１Ｇ）内においても、溶質が該隔壁の側面から離れてその開口部内の中央部に集まり、これによって乾燥後得られる発光層（膜）は、その中央が凸状に盛り上がりやすくなる。そこで、第２隔壁部２２１Ｒ（２２１Ｇ）の濡れ性を相対的に高くしたことにより、乾燥時、これら第２隔壁部２２１Ｒ（２２１Ｇ）の側面上にも溶質（固形分）が残るようになる。これにより、溶質が必要以上に中央部に集まるのが防止され、乾燥後得られる発光層７０Ｒ（７０Ｇ）の平坦性がより良好になる。 In other words, the liquid materials for the red light emitting layer and the green light emitting layer having a small molecular weight of the solute tend to collect the solute, which is a solid content, gradually shrinks in the center as the solvent evaporates and thickens by drying. . As a result, even in the second partition wall portion 221R (221G), the solute is separated from the side surface of the partition wall and gathers in the central portion in the opening portion, and thus the light emitting layer (film) obtained after drying has a convex center. It becomes easier to swell. Accordingly, by relatively increasing the wettability of the second partition wall portion 221R (221G), a solute (solid content) remains on the side surface of the second partition wall portion 221R (221G) during drying. This prevents the solute from gathering in the center more than necessary, and the flatness of the light emitting layer 70R (70G) obtained after drying becomes better.

一方、溶質の分子量が大きい青色発光層用の液体材料は、乾燥時に増粘する過程で固形分である溶質が径を縮めて中央に集まることなく、そのままの状態に保持され易くなる。すると、中央部に比べて周縁部で乾燥が速く進むことにより、溶質は周縁部側に流動する。その結果、第２隔壁部２２１Ｂ内においても、乾燥後得られる発光層（膜）は周縁部で盛り上がり、中央部で凹んだ状態になり易くなる。そこで、第２隔壁部２２１Ｂの濡れ性を相対的に低くしたことにより、乾燥時、該隔壁２２１Ｂの側面の撥液作用によって溶質（固形分）が該側面からはじかれて隔壁２２１Ｂの開口部内の中央部に寄るようになる。これにより、溶質が必要以上に周縁部に集まるのが防止され、乾燥後得られる発光層７０Ｂの平坦性がより良好になる。 On the other hand, the liquid material for the blue light-emitting layer having a large molecular weight of the solute tends to be maintained as it is without causing the solute, which is a solid component, to shrink in diameter and gather in the center in the process of thickening during drying. Then, as the drying proceeds faster at the peripheral portion than at the central portion, the solute flows toward the peripheral portion. As a result, even in the second partition 221B, the light emitting layer (film) obtained after drying tends to swell at the peripheral part and become depressed at the central part. Therefore, by lowering the wettability of the second partition wall portion 221B, when drying, the solute (solid content) is repelled from the side surface by the liquid repellent action of the side surface of the partition wall 221B. Come to the center. Thereby, the solute is prevented from collecting more than necessary at the peripheral portion, and the flatness of the light emitting layer 70B obtained after drying becomes better.

次いで、図５（ｃ）に示すように、前記各発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂ及び各第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂを覆ってフッ化リチウム（ＬｉＦ）、アルミニウム（Ａｌ）を積層し、陰極１２を形成する。なお、この陰極１２の形成では、前記正孔注入層６０や発光層７０の形成とは異なり、蒸着法やスパッタ法等で行うことにより、画素領域にのみ選択的に形成するのでなく、基板２のほぼ全面に陰極１２を形成する。
その後、前記陰極１２上に接着層５１を形成し、さらにこの接着層５１によって封止基板（図示せず）を接着し、封止を行う。これにより、本実施形態の有機ＥＬ装置１を得る。 Next, as shown in FIG. 5C, lithium fluoride (LiF) and aluminum (Al) are laminated to cover the light emitting layers 70R, 70G, and 70B and the second partition walls 221R, 221G, and 221B, A cathode 12 is formed. Unlike the formation of the hole injection layer 60 and the light emitting layer 70, the cathode 12 is not formed selectively only in the pixel region by the vapor deposition method or the sputtering method. The cathode 12 is formed on almost the entire surface.
Thereafter, an adhesive layer 51 is formed on the cathode 12, and a sealing substrate (not shown) is further adhered by the adhesive layer 51 to perform sealing. Thereby, the organic EL device 1 of the present embodiment is obtained.

このような有機ＥＬ装置１にあっては、発光層形成用の異なる液体材料に対し、第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇと第２隔壁部２２１Ｂとの濡れ性を異ならせているので、各液体材料に対してそれぞれ隔壁の濡れ性を対応させておくことにより、製造時、隔壁内に配された液体材料の膜状態を良好にすることができる。したがって、異なる液状体間において、特に乾燥時における増粘過程についてより良好に制御することができ、これら異なる液状体から得られる発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂの膜平坦性をより良好に制御することができる。よって、この有機ＥＬ装置１は、各発光層７０Ｒ，７０Ｇ、７０Ｂの平坦性がいずれも良好なものとなり、したがって発光特性が均一化した優れたものとなる。 In such an organic EL device 1, since the wettability of the second partition wall portions 221R, 221G and the second partition wall portion 221B is different with respect to different liquid materials for forming the light emitting layer, each liquid material By making the wettability of the partition walls correspond to each other, it is possible to improve the film state of the liquid material disposed in the partition walls during manufacturing. Therefore, it is possible to better control the thickening process between different liquid materials, particularly during drying, and to better control the film flatness of the light emitting layers 70R, 70G, and 70B obtained from these different liquid materials. Can do. Therefore, in this organic EL device 1, the flatness of each of the light emitting layers 70R, 70G, and 70B is good, and therefore, the light emitting characteristics are made uniform.

また、前記第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇと第２隔壁部２２１Ｂとの濡れ性を、紫外線照射による表面処理の有無によって異ならせているので、表面処理（紫外線照射処理）の条件等を適宜に設定することにより、第２隔壁を所望の濡れ性に容易に制御することができる。なお、表面処理については、被処理体である第２隔壁の形成材料にもよるものの、前記したような紫外線照射処理に代えて、例えばレジストマスクを用いてプラズマ処理やエッチング処理を選択的に行うといった手法を採用し、このような手法により、得られる第２隔壁の濡れ性を調整するようにしてもよい。 In addition, the wettability between the second partition wall portions 221R and 221G and the second partition wall portion 221B varies depending on the presence or absence of surface treatment by ultraviolet irradiation, so that the conditions for surface treatment (ultraviolet irradiation treatment) are set appropriately. By doing so, the second partition can be easily controlled to a desired wettability. As for the surface treatment, although depending on the material for forming the second partition, which is an object to be treated, instead of the ultraviolet irradiation treatment as described above, for example, a plasma treatment or an etching treatment is selectively performed using a resist mask. Such a method may be adopted, and the wettability of the obtained second partition wall may be adjusted by such a method.

次に、本発明の電気光学装置を有機ＥＬ装置に適用した場合の他の実施形態について説明する。この実施形態が先の実施形態と異なる点は、第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂの形成材料およびその形成方法にある。
すなわち、この実施形態では、図３に示した第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇと、第２隔壁部２２１Ｂとを、異なる材料で形成し、これによって液体材料に対する濡れ性を異ならせている。 Next, another embodiment in which the electro-optical device of the invention is applied to an organic EL device will be described. This embodiment is different from the previous embodiment in the formation material and the formation method of the second partition wall portions 221R, 221G, and 221B.
That is, in this embodiment, the second partition wall portions 221R and 221G and the second partition wall portion 221B shown in FIG. 3 are formed of different materials, thereby making the wettability with respect to the liquid material different.

本実施形態では、図３において第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇが、アクリル系樹脂材料によって形成されており、第２隔壁部２２１Ｂが、フッ素系樹脂材料添加アクリル系樹脂材料によって形成されている。このような材料で形成されていることにより、第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇは、赤色発光層用の液体材料および緑色発光層用の液体材料に対する濡れ性、すなわちこれら液体材料の第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇに対する静的接触角が、３０°となっている。一方、第２隔壁部２２１Ｂは、青色発光層用の液体材料に対する濡れ性、すなわちこの液体材料の第２隔壁部２２１Ｂに対する静的接触角が、９０°となっている。 In the present embodiment, in FIG. 3, the second partition portions 221R and 221G are formed of an acrylic resin material, and the second partition portion 221B is formed of a fluorine resin material-added acrylic resin material. By being formed of such a material, the second partition wall portions 221R and 221G have wettability with respect to the liquid material for the red light emitting layer and the liquid material for the green light emitting layer, that is, the second partition wall portion 221R of these liquid materials. The static contact angle with respect to 221G is 30 °. On the other hand, the second partition wall portion 221B has a wettability with respect to the liquid material for the blue light emitting layer, that is, a static contact angle of the liquid material with respect to the second partition wall portion 221B is 90 °.

このような第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂを形成するには、前記実施形態において、図４（ｂ）に示したように第１隔壁部２５を形成した後、前記のアクリル系樹脂材料あるいはフッ素系樹脂材料添加アクリル系樹脂材料、例えば第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ用のアクリル系樹脂材料を塗布し、さらにこれを加熱等によって硬化させることにより、赤、緑用の第２隔壁層（図示せず）を形成する。
続いて、この第２隔壁層を公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いてパターニングし、図６（ａ）に示すように第１隔壁部２５上の所定位置（画素領域を囲む位置）で、かつ、赤色発光層７０Ｒと緑色発光層７０Ｇとを形成するための画素領域を囲む隔壁部分を形成し、これらを第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇとする。 In order to form such second partition portions 221R, 221G, and 221B, in the embodiment, after forming the first partition portion 25 as shown in FIG. 4B, the acrylic resin material or By applying a fluorine resin material-added acrylic resin material, for example, an acrylic resin material for the second partition wall portions 221R and 221G, and further curing it by heating or the like, a second partition wall layer for red and green (see FIG. (Not shown).
Subsequently, this second partition wall layer is patterned using a known photolithography technique and etching technique, and at a predetermined position (position surrounding the pixel area) on the first partition wall portion 25 as shown in FIG. In addition, partition portions surrounding the pixel region for forming the red light emitting layer 70R and the green light emitting layer 70G are formed, and these are defined as second partition portions 221R and 221G.

次いで、これら第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇを覆って前記フッ素系樹脂材料添加アクリル系樹脂材料を塗布し、さらにこれを加熱等によって硬化させることにより、青用の第２隔壁層（図示せず）を形成する。
続いて、この第２隔壁層を公知のホトリソグラフィー技術、エッチング技術を用いてパターニングし、図６（ｂ）に示すように第１隔壁部２５上の所定位置（画素領域を囲む位置）で、かつ、青色発光層７０Ｂを形成するための画素領域を囲む隔壁部分を形成し、これを第２隔壁部２２１Ｂとする。 Next, the second partition wall layer 221R and 221G are covered with the acrylic resin material added with the fluorine resin material, and further cured by heating or the like, whereby a second partition layer for blue (not shown). Form.
Subsequently, this second partition layer is patterned using a known photolithography technique and etching technique, and at a predetermined position (position surrounding the pixel region) on the first partition section 25 as shown in FIG. In addition, a partition wall portion surrounding the pixel region for forming the blue light emitting layer 70B is formed, and this is defined as a second partition wall portion 221B.

以下、図５（ａ）〜（ｃ）に示した工程と同様にして、正孔注入層６０、発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂ、陰極１２を形成する。すなわち、正孔注入層６０を形成した後、第２隔壁部２２１Ｒ内に赤色発光層用の形成材料、第２隔壁部２２１Ｇ内に緑色発光層用の形成材料、第２隔壁部２２１Ｂ内に青色発光層用の形成材料をそれぞれインクジェト法（液滴吐出法）で選択的に配し、乾燥することにより発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを形成する。なお、発光層形成用の各液体材料については、それぞれ前記実施形態と同一のものが用いられる。 Thereafter, the hole injection layer 60, the light emitting layers 70R, 70G, and 70B and the cathode 12 are formed in the same manner as in the steps shown in FIGS. That is, after the hole injection layer 60 is formed, the red light emitting layer forming material in the second partition wall portion 221R, the green light emitting layer forming material in the second partition wall portion 221G, and the blue color in the second partition wall portion 221B. The light emitting layers 70R, 70G, and 70B are formed by selectively disposing the forming material for the light emitting layer by the ink jet method (droplet discharge method) and drying. In addition, about each liquid material for light emitting layer formation, the thing same as the said embodiment is used, respectively.

このようにして発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを形成すると、前記実施形態と同様に、液体材料の溶質（発光材料）の分子量に対応して第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇの濡れ性と第２隔壁部２２１Ｂの濡れ性とを異ならせているので、これら三種類の液体材料を同じプロセスで同時に熱処理するにもかかわらず、乾燥後得られる発光層７０Ｒ、７０Ｇ、および発光層７０Ｂは、いずれも平坦性がより良好なものとなる。
したがって、このような発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを有してなる本実施形態の有機ＥＬ装置は、各発光層７０Ｒ，７０Ｇ、７０Ｂの平坦性がいずれも良好なものとなり、したがって発光特性が均一化した優れたものとなる。 When the light emitting layers 70R, 70G, and 70B are formed in this way, the wettability of the second partition wall portions 221R and 221G and the second partition walls corresponding to the molecular weight of the solute (light emitting material) of the liquid material as in the above embodiment. Since the wettability of the portion 221B is different, the light emitting layers 70R and 70G and the light emitting layer 70B obtained after drying are all flat even though these three kinds of liquid materials are simultaneously heat-treated in the same process. The property becomes better.
Therefore, in the organic EL device of this embodiment having such light emitting layers 70R, 70G, and 70B, the flatness of each of the light emitting layers 70R, 70G, and 70B is good, and thus the light emission characteristics are uniform. It will become an excellent one.

（実施例１）
前記の、表面処理によって第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇと第２隔壁部２２１Ｂとの濡れ性を異ならせた実施形態の、有機ＥＬ装置１を発光させたところ、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれも均一な発光が観測された。
（実施例２）
前記の、異なる材料を用いることで第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇと第２隔壁部２２１Ｂとの濡れ性を異ならせた実施形態の、有機ＥＬ装置を発光させたところ、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれも均一な発光が観測された。 Example 1
When the organic EL device 1 of the embodiment in which the wettability of the second partition wall portions 221R, 221G and the second partition wall portion 221B is made different by the surface treatment, all of R, G, and B are uniform. Luminescence was observed.
(Example 2)
When the organic EL device according to the embodiment in which the wettability of the second partition wall portions 221R, 221G and the second partition wall portion 221B is made different by using different materials, any of R, G, and B is emitted. Even luminescence was observed.

（比較例１）
実施例１において、紫外線照射処理による表面処理を行う際、マスクを用いて選択的に紫外線照射を行うのに代えて、基板温度を５０℃に加温した状態で、全ての隔壁部に紫外線照射を行った。これにより、第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂの全てを、濡れ性が高いもの（親液性のもの）とした。得られた発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを観察したところ、発光層７０Ｒ、７０Ｇは、実施例１と同様に平坦性が良好な膜となっていた。一方、発光層７０Ｂは、その多くが第２隔壁部２２１Ｂに付着していることにより、中央部が凹んだ凹形状のものとなっていた。
このようにして得られた有機ＥＬ装置を発光させたところ、第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ内の発光層７０Ｒ、７０Ｇでは、実施例１と同様、共に均一な発光が観測された。また、発光層７０Ｂでは、中央部の輝度が高くなる不均一な発光が観測された。 (Comparative Example 1)
In Example 1, when performing surface treatment by ultraviolet irradiation treatment, instead of selectively performing ultraviolet irradiation using a mask, all partition walls are irradiated with ultraviolet rays while the substrate temperature is heated to 50 ° C. Went. Thereby, all the 2nd partition part 221R, 221G, 221B was made into the thing with high wettability (one having lyophilicity). When the obtained light emitting layers 70R, 70G, and 70B were observed, the light emitting layers 70R and 70G were films having good flatness as in Example 1. On the other hand, most of the light emitting layer 70B is attached to the second partition wall portion 221B, so that the light emitting layer 70B has a concave shape with a recessed central portion.
When the organic EL device thus obtained was caused to emit light, uniform light emission was observed in the light emitting layers 70R and 70G in the second partition walls 221R and 221G as in Example 1. In addition, in the light emitting layer 70B, non-uniform light emission in which the luminance at the central portion was increased was observed.

（比較例２）
実施例１において、紫外線照射処理を行うことなく、したがって第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂの全てを、濡れ性が低いもの（撥液のもの）とした。得られた発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを観察したところ、発光層７０Ｒ、７０Ｇは、その中央部が盛り上がる凸形状のものとなっていた。一方、発光層７０Ｂは、実施例１と同様に平坦性が良好な膜となっていた。
このようにして得られた有機ＥＬ装置を発光させたところ、第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ内の発光層７０Ｒ、７０Ｇでは、中央部の輝度が低くなる不均一な発光が観測された。また、発光層７０Ｂでは、実施例１と同様、均一な発光が観測された。 (Comparative Example 2)
In Example 1, UV irradiation treatment was not performed, and therefore all of the second partition wall portions 221R, 221G, and 221B had low wettability (liquid repellent material). When the obtained light emitting layers 70R, 70G, and 70B were observed, the light emitting layers 70R and 70G had a convex shape in which the central portion was raised. On the other hand, the light emitting layer 70B was a film having good flatness as in the first embodiment.
When the organic EL device thus obtained was caused to emit light, in the light emitting layers 70R and 70G in the second partition wall portions 221R and 221G, uneven light emission in which the luminance of the central portion was lowered was observed. In the light emitting layer 70B, uniform light emission was observed as in Example 1.

（比較例３）
実施例２において、全ての第２隔壁の２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂの材料をアクリル系樹脂材料に統一して、これら第２隔壁の２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂを形成した。得られた発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを観察したところ、発光層７０Ｒ、７０Ｇは、実施例２と同様に平坦性が良好な膜となっていた。一方、発光層７０Ｂは、その多くが第２隔壁部２２１Ｂに付着していることにより、中央部が凹んだ凹形状のものとなっていた。
このようにして得られた有機ＥＬ装置を発光させたところ、第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ内の発光層７０Ｒ、７０Ｇでは、実施例２と同様、共に均一な発光が観測された。また、発光層７０Ｂでは、中央部の輝度が高くなる不均一な発光が観測された。 (Comparative Example 3)
In Example 2, the materials of 221R, 221G, and 221B of all the second partition walls were unified with an acrylic resin material, and these 221R, 221G, and 221B of the second partition walls were formed. When the obtained light emitting layers 70R, 70G, and 70B were observed, the light emitting layers 70R and 70G were films having good flatness as in Example 2. On the other hand, most of the light emitting layer 70B is attached to the second partition wall portion 221B, so that the light emitting layer 70B has a concave shape with a recessed central portion.
When the organic EL device thus obtained was caused to emit light, uniform light emission was observed in the light emitting layers 70R and 70G in the second partition walls 221R and 221G as in Example 2. In addition, in the light emitting layer 70B, non-uniform light emission in which the luminance at the central portion was increased was observed.

（比較例４）
実施例２において、全ての第２隔壁の２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂの材料をフッ素系樹脂材料添加アクリル系樹脂材料に統一して、これら第２隔壁の２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂを形成した。得られた発光層７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂを観察したところ、発光層７０Ｒ、７０Ｇは、その中央部が盛り上がる凸形状のものとなっていた。一方、発光層７０Ｂは、実施例１と同様に平坦性が良好な膜となっていた。
このようにして得られた有機ＥＬ装置を発光させたところ、第２隔壁部２２１Ｒ、２２１Ｇ内の発光層７０Ｒ、７０Ｇでは、中央部の輝度が低くなる不均一な発光が観測された。また、発光層７０Ｂでは、実施例２と同様、均一な発光が観測された。 (Comparative Example 4)
In Example 2, the materials of 221R, 221G, and 221B of all the second partition walls were unified with the acrylic resin material added with the fluorine-based resin material, and these 221R, 221G, and 221B of the second partition walls were formed. When the obtained light emitting layers 70R, 70G, and 70B were observed, the light emitting layers 70R and 70G had a convex shape in which the central portion was raised. On the other hand, the light emitting layer 70B was a film having good flatness as in the first embodiment.
When the organic EL device thus obtained was caused to emit light, in the light emitting layers 70R and 70G in the second partition wall portions 221R and 221G, uneven light emission in which the luminance of the central portion was lowered was observed. In the light emitting layer 70B, uniform light emission was observed as in Example 2.

（電子機器）
次に、前記実施形態の有機ＥＬ装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図７（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図７（ａ）において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は前記有機ＥＬ装置からなる表示部を示している。
図７（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図７（ｂ）において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は前記有機ＥＬ装置からなる表示部を示している。
図７（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図７（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は前記有機ＥＬ装置からなる表示部を示している。
図７（ｄ）は、薄型大画面テレビの一例を示した斜視図である。図７（ｄ）において、薄型大画面テレビ１３００は、薄型大画面テレビ本体（筐体）１３０２、スピーカーなどの音声出力部１３０４、前記有機ＥＬ装置からなる表示部１３０６を備える。 (Electronics)
Next, a specific example of an electronic apparatus provided with the organic EL device of the embodiment will be described.
FIG. 7A is a perspective view showing an example of a mobile phone. In FIG. 7A, reference numeral 1000 denotes a mobile phone main body, and reference numeral 1001 denotes a display unit including the organic EL device.
FIG. 7B is a perspective view showing an example of a wristwatch type electronic device. In FIG. 7B, reference numeral 1100 denotes a watch body, and reference numeral 1101 denotes a display unit including the organic EL device.
FIG. 7C is a perspective view illustrating an example of a portable information processing apparatus such as a word processor or a personal computer. In FIG. 7C, reference numeral 1200 denotes an information processing apparatus, reference numeral 1202 denotes an input unit such as a keyboard, reference numeral 1204 denotes an information processing apparatus body, and reference numeral 1206 denotes a display unit including the organic EL device.
FIG. 7D is a perspective view showing an example of a thin large-screen television. 7D, a thin large-screen TV 1300 includes a thin large-screen TV main body (housing) 1302, an audio output unit 1304 such as a speaker, and a display unit 1306 including the organic EL device.

図７（ａ）〜（ｄ）に示す電子機器１０００，１１００，１２００，１３００は、前記有機ＥＬ装置を備えているので、この有機ＥＬ装置からなる表示部１００１，１１０１，１２０６，１３０６の発光特性が良好となり、したがってこれら電子機器１０００，１１００，１２００，１３００自体も、表示部１００１，１１０１，１２０６，１３０６の発光性能に優れたものとなる。 Since the electronic devices 1000, 1100, 1200, and 1300 illustrated in FIGS. 7A to 7D include the organic EL device, the light emission characteristics of the display units 1001, 1101, 1206, and 1306 each including the organic EL device. Therefore, these electronic devices 1000, 1100, 1200, and 1300 themselves are also excellent in the light emitting performance of the display units 1001, 1101, 1206, and 1306.

なお、本発明は前記実施形態に限られることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、前記実施形態では、本発明の機能膜を有機ＥＬ発光層とすることで、本発明を有機ＥＬ装置に適用した場合について説明したが、例えば本発明の機能膜をカラーフィルタとすることで、本発明を液晶装置などの電気光学装置に適用することもできる。もちろん、カラーフィルタを備える有機ＥＬ装置にも適用可能である。
また、本発明の隔壁（第２隔壁）についても、その濡れ性を変えるため、前記実施形態で示した表面処理法や材料に限定されることなく、種々の表面処理法や材料が採用可能である。
さらに、発光層の形成材料（液体材料）についても、前記実施形態のものに限定されることなく、従来公知の種々の材料が使用可能である。 In addition, this invention is not restricted to the said embodiment, In the range which does not deviate from the summary of this invention, it can change suitably.
For example, in the above embodiment, the case where the functional film of the present invention is applied to an organic EL device by using the functional film of the present invention as an organic EL light emitting layer has been described. The present invention can also be applied to electro-optical devices such as liquid crystal devices. Of course, the present invention can also be applied to an organic EL device including a color filter.
In addition, the partition wall (second partition wall) of the present invention is not limited to the surface treatment method and material shown in the above embodiment, and various surface treatment methods and materials can be adopted to change the wettability. is there.
Furthermore, the material for forming the light emitting layer (liquid material) is not limited to that of the above embodiment, and various conventionally known materials can be used.

また、前記実施形態では、赤色発光層用の発光材料と緑色発光層用の発光材料とを同等の分子量のものとし、これによって赤色用の第２隔壁部２２１Ｒと緑色用の第２隔壁部２２１Ｇとを同じ濡れ性に調整したが、赤色発光層用の発光材料、緑色発光層用の発光材料、青色発光層用の発光材料をそれぞれ大きく異なる分子量のものとした場合には、第２隔壁部２２１Ｒ、第２隔壁部２２１Ｇ、第２隔壁部２２１Ｂについても、全て異なる濡れ性に調整するのが好ましい。 In the above-described embodiment, the light emitting material for the red light emitting layer and the light emitting material for the green light emitting layer have the same molecular weight, whereby the second partition wall portion 221R for red and the second partition wall portion 221G for green are used. Are adjusted to the same wettability, but when the light emitting material for the red light emitting layer, the light emitting material for the green light emitting layer, and the light emitting material for the blue light emitting layer have different molecular weights, the second partition wall portion It is preferable that 221R, the second partition part 221G, and the second partition part 221B are all adjusted to different wettability.

有機ＥＬ装置の一実施形態の配線構造を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the wiring structure of one Embodiment of an organic electroluminescent apparatus. 図１の有機ＥＬ装置の平面模式図である。FIG. 2 is a schematic plan view of the organic EL device in FIG. 1. 図１の有機ＥＬ装置の要部断面模式図である。It is a principal part cross-sectional schematic diagram of the organic electroluminescent apparatus of FIG. （ａ）〜（ｄ）は図１の有機ＥＬ装置の製造方法を説明する工程図である。(A)-(d) is process drawing explaining the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of FIG. （ａ）〜（ｃ）は図４に続く製造方法を説明する工程図である。(A)-(c) is process drawing explaining the manufacturing method following FIG. （ａ）、（ｂ）は本発明の他の実施形態の製造方法説明図である。(A), (b) is explanatory drawing of the manufacturing method of other embodiment of this invention. （ａ）〜（ｄ）は本発明の電子機器の実施形態を示す斜視図である。(A)-(d) is a perspective view which shows embodiment of the electronic device of this invention.

Explanation of symbols

１…有機ＥＬ装置（電気光学装置）、２…基板、１２…陰極、６０…正孔注入層、７０Ｒ、７０Ｇ、７０Ｂ…発光層（機能膜）、１１０…発光機能層、１１１…画素電極（陽極）、２２１Ｒ、２２１Ｇ、２２１Ｂ…第２隔壁部（隔壁） DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL device (electro-optical device), 2 ... Substrate, 12 ... Cathode, 60 ... Hole injection layer, 70R, 70G, 70B ... Light emitting layer (functional film), 110 ... Light emitting functional layer, 111 ... Pixel electrode ( Anode), 221R, 221G, 221B ... second partition (partition)

Claims

An electro-optical device in which a plurality of pixel regions are partitioned by partition walls,
The plurality of pixel regions have a first pixel region and a second pixel region,
The first pixel region has a first functional film,
The second pixel region has a second functional film different from the first functional film;
The partition has a first partition that partitions the first pixel region, and a second partition that partitions the second pixel region,
An electro-optical device, wherein a surface state of the first partition wall is different from a surface state of the second partition wall.

2. The electro-optical device according to claim 1, wherein the first partition wall and the second partition wall are made of different materials, and are formed in different surface states.

The first functional film and the second functional film are formed of liquid materials having different solutes,
The first functional film is formed of a liquid material having a solute molecular weight larger than that of the liquid material forming the second functional film,
The electro-optical device according to claim 1, wherein the surface state of the second partition wall has higher wettability than the surface state of the first partition wall.

The electro-optical device according to claim 1, wherein the first functional film and the second functional film are films constituting an organic EL light emitting layer.

A method of manufacturing an electro-optical device in which a plurality of pixel regions are partitioned by partition walls,
The partition partitioning the plurality of pixel regions includes a first partition partitioning a first pixel region of the plurality of pixel regions, a second pixel region of the plurality of pixel regions, and the first partition Forming a second partition wall having a different surface state from the partition wall;
Disposing a first liquid material in the first pixel region in the first partition;
Disposing a second liquid material in the second pixel region in the second partition;
Drying the first liquid material and the second liquid material to form a first functional film and a second functional film, respectively;
A method for manufacturing an electro-optical device.

The step of forming the first partition and the second partition includes the step of forming a base partition, and selectively performing a surface treatment on a region of the base partition that becomes the second partition. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 5, further comprising a step of changing wettability with respect to a surface state of the partition wall.

The first liquid material and the second liquid material are formed with different solutes,
The first liquid material is formed of a liquid material having a molecular weight of a solute larger than that of the second liquid material,
7. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 5, wherein the surface state of the second partition wall is formed so as to have higher wettability than the surface state of the first partition wall.

8. The method according to claim 5, wherein in the step of disposing the first liquid material in the first pixel region in the first partition, the first liquid material is disposed by a droplet discharge method. A method for manufacturing the electro-optical device according to the item.