JP4776338B2 - Conductive polymer dopant solution, conductive polymer oxidant / dopant, conductive composition, solid electrolytic capacitor and method for producing the same - Google Patents

Conductive polymer dopant solution, conductive polymer oxidant / dopant, conductive composition, solid electrolytic capacitor and method for producing the same Download PDF

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Description

本発明は、導電性組成物の形成に使用されるドーパント溶液および酸化剤兼ドーパント、該導電性組成物、並びに該導電性組成物を有する固体電解コンデンサとその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a dopant solution and an oxidant / dopant used for forming a conductive composition, the conductive composition, a solid electrolytic capacitor having the conductive composition, and a method for manufacturing the same.

導電性高分子を固体電解質として用いた固体電解コンデンサは、二酸化マンガンを固体電解質として用いた従来の固体電解コンデンサに比べて、発火しにくく、かつESR(等価直列抵抗)が低いなど、種々の特性が優れていることから、急速な勢いで市場が拡大している。   Solid electrolytic capacitors using a conductive polymer as a solid electrolyte have various characteristics such as less ignition and lower ESR (equivalent series resistance) than conventional solid electrolytic capacitors using manganese dioxide as a solid electrolyte. The market is expanding at a rapid pace.

上記導電性高分子の製造は、一般に、化学酸化重合法で行われており、例えば、酸化剤兼ドーパントとしてパラトルエンスルホン酸鉄などの有機スルホン酸の遷移金属塩を用い、3,4−エチレンジオキシチオフェンなどのモノマーを重合させることによって行われている(特許文献1〜2)。   The conductive polymer is generally produced by a chemical oxidative polymerization method. For example, a transition metal salt of an organic sulfonic acid such as iron paratoluenesulfonate is used as an oxidizing agent and a dopant, and 3,4-ethylene is used. This is performed by polymerizing monomers such as dioxythiophene (Patent Documents 1 and 2).

しかしながら、この方法は、大量生産に向いているものの、酸化剤として用いた遷移金属が導電性高分子内に残るという問題があった。そこで、遷移金属を取り除くため、洗浄工程を入れたとしても、遷移金属は完全に取り除きにくいという性質があり、遷移金属が導電性高分子中に残った場合、遷移金属の価数変化により導電性高分子の劣化が著しく加速され、それを固体電解質として用いた固体電解コンデンサは、長期信頼性を損なうという問題があった。そのため、酸化剤として遷移金属塩以外のもの、例えば、過酸化物を酸化剤として用いることが提案されているが、3,4−エチレンジオキシチオフェンをモノマーとして用いた場合は、遷移金属塩に比べて反応効率が非常に悪かったり、得られた導電性高分子の導電率が非常に悪いという問題があった。   However, although this method is suitable for mass production, there is a problem that the transition metal used as the oxidizing agent remains in the conductive polymer. Therefore, even if a washing process is performed to remove the transition metal, the transition metal has a property that it is difficult to remove completely. If the transition metal remains in the conductive polymer, the conductivity is changed by the change in the valence of the transition metal. The deterioration of the polymer is remarkably accelerated, and the solid electrolytic capacitor using the polymer as a solid electrolyte has a problem of impairing long-term reliability. For this reason, it has been proposed to use a peroxide other than a transition metal salt as an oxidizing agent, for example, a peroxide as an oxidizing agent, but when 3,4-ethylenedioxythiophene is used as a monomer, In comparison, the reaction efficiency is very bad, and the conductivity of the obtained conductive polymer is very bad.

特開平10−50558号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-50558 特開2000−106331号公報JP 2000-106331 A

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、導電率の高い導電性組成物を良好な反応効率で形成するための酸化剤兼ドーパント、該酸化剤兼ドーパントを構成するためのドーパント溶液、該導電性組成物、および該導電性組成物を用いた固体電解コンデンサとその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an oxidant / dopant for forming a conductive composition having high conductivity with good reaction efficiency, and a dopant solution for constituting the oxidant / dopant. It is an object of the present invention to provide a conductive electrolytic composition, a solid electrolytic capacitor using the conductive composition, and a method for producing the same.

上記目的を達成し得た本発明の導電性高分子用ドーパント溶液は、ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩の少なくとも1種を、20質量%以上の濃度で含有していることを特徴とするものである。   The conductive polymer dopant solution of the present invention that has achieved the above object is characterized in that it contains at least one alkylamine salt or imidazole salt of naphthalenesulfonic acid at a concentration of 20% by mass or more. To do.

なお、本発明でいう「ナフタレンスルホン酸のイミダゾール塩」とは、ナフタレンスルホン酸とイミダゾールから構成される塩のみならず、ナフタレンスルホン酸とイミダゾール誘導体(例えば、後記の、イミダゾール環の2位または4位がアルキル基やフェニル基で置換されたイミダゾール誘導体)から構成される塩も含む概念である。   The “imidazole salt of naphthalene sulfonic acid” as used in the present invention is not only a salt composed of naphthalene sulfonic acid and imidazole, but also naphthalene sulfonic acid and an imidazole derivative (for example, 2-position or 4 of the imidazole ring described later) It is a concept including a salt composed of an imidazole derivative whose position is substituted with an alkyl group or a phenyl group.

また、本発明の酸化剤兼ドーパントは、下記の(1)または(2)の態様を有することを特徴とするものである。   In addition, the oxidizing agent / dopant of the present invention is characterized by having the following aspect (1) or (2).

(1)上記本発明の導電性高分子用ドーパント溶液と、過硫酸塩を20質量%以上の濃度で含有する水溶液で構成され、上記導電性高分子用ドーパント溶液の含有するナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩1モルに対して、上記過硫酸塩水溶液の含有する過硫酸塩が0.3〜2.5モルである。   (1) The conductive polymer dopant solution of the present invention and an aqueous solution containing persulfate at a concentration of 20% by mass or more, and the alkyl of naphthalene sulfonic acid contained in the conductive polymer dopant solution The persulfate contained in the aqueous persulfate solution is 0.3 to 2.5 mol per 1 mol of the amine salt or imidazole salt.

(2)上記本発明の導電性高分子用ドーパント溶液と、過硫酸塩を20質量%以上の濃度で含有する水溶液を接触させることにより生成する析出物であり、下記方法によって測定されるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率が、ナフタレンスルホン酸1モルに対して、過硫酸0.3〜2.5モルである。   (2) Naphthalene sulfone, which is a precipitate formed by bringing the dopant solution for a conductive polymer of the present invention into contact with an aqueous solution containing a persulfate at a concentration of 20% by mass or more, and is measured by the following method The ratio of acid to persulfuric acid is 0.3 to 2.5 moles of persulfuric acid per mole of naphthalenesulfonic acid.

ここで、上記析出物におけるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率は、該析出物を蒸留水に入れて密封し、50℃で1週間放置させて過硫酸を硫酸に分解した後に、その上澄み液をイオンクロマトグラフィーで分析することにより得られるナフタレンスルホン酸と硫酸の比率として求める。   Here, the ratio of naphthalenesulfonic acid and persulfuric acid in the precipitate is determined by putting the precipitate in distilled water, sealing it, and allowing it to stand at 50 ° C. for 1 week to decompose persulfuric acid into sulfuric acid. Obtained as the ratio of naphthalene sulfonic acid and sulfuric acid obtained by analysis by ion chromatography.

また、本発明の導電性組成物は、上記(2)の態様の酸化剤兼ドーパントとチオフェンまたはその誘導体との反応により形成されたことを特徴とするものである。   The conductive composition of the present invention is characterized by being formed by a reaction between the oxidizing agent / dopant of the aspect (2) and thiophene or a derivative thereof.

更に、本発明の固体電解コンデンサは、上記(2)の態様の酸化剤兼ドーパントとチオフェンまたはその誘導体との反応により形成された導電性組成物を、固体電解質として有することを特徴とするものである。   Furthermore, the solid electrolytic capacitor of the present invention is characterized by having, as a solid electrolyte, a conductive composition formed by a reaction between the oxidizing agent / dopant of the aspect (2) and thiophene or a derivative thereof. is there.

また、本発明の固体電解コンデンサの製造方法は、上記本発明の導電性高分子用ドーパント溶液をコンデンサ素子に浸み込ませた後に、過硫酸塩を20質量%以上の濃度で含有する水溶液に上記コンデンサ素子を浸漬するか、または過硫酸塩を20質量%以上の濃度で含有する水溶液をコンデンサ素子に浸み込ませた後に、上記本発明の導電性高分子用ドーパント溶液に上記コンデンサ素子を浸漬することにより、導電性高分子用酸化剤兼ドーパントを析出させる工程(A)と、上記導電性高分子用酸化剤兼ドーパントとチオフェンまたはその誘導体とを反応させて導電性組成物を形成させる工程(B)と、上記導電性組成物を有するコンデンサ素子を用いて固体電解コンデンサを組み立てる工程(C)を有することを特徴とする。   Further, the method for producing a solid electrolytic capacitor of the present invention comprises a solution containing the above-described conductive polymer dopant solution of the present invention in a capacitor element, and then an aqueous solution containing a persulfate at a concentration of 20% by mass or more. After the capacitor element is immersed or an aqueous solution containing a persulfate at a concentration of 20% by mass or more is immersed in the capacitor element, the capacitor element is added to the conductive polymer dopant solution of the present invention. By immersing, the step (A) of precipitating the oxidant / dopant for conductive polymer and the oxidant / dopant for conductive polymer and thiophene or a derivative thereof are reacted to form a conductive composition. It has a process (B) and the process (C) which assembles a solid electrolytic capacitor using the capacitor | condenser element which has the said electroconductive composition.

なお、本発明の導電性組成物は、その主成分が上記本発明の酸化剤兼ドーパントを取り込んで重合したチオフェンまたはその誘導体のポリマーで構成されているが、本発明において、導電性高分子とせず導電性組成物としているのは、上記酸化剤兼ドーパントが金属塩を含んでいないので、未反応分や反応残渣が若干含まれていても、それらが上記ドーパントを取り込んで重合したチオフェンまたはその誘導体のポリマーの劣化を加速することなく、導電性高分子とほぼ同様の特性を有し、導電性高分子とほぼ同様の用途に使用できるので、精製してそれらの未反応分や反応残渣を除去することなく、それらを含んだままで構成されていてもよいという意味である。つまり、本発明の導電性組成物とは、その主成分となる導電性高分子(上記特定のドーパントを取り込んで重合したチオフェンまたはその誘導体のポリマー)のみで構成されているもののみならず、その導電性高分子以外に未反応分や反応残渣を若干含んで構成されているものも含む概念である。   The conductive composition of the present invention is composed of a thiophene polymer or a derivative thereof polymerized by incorporating the oxidant / dopant of the present invention as a main component. In the present invention, the conductive composition is a conductive polymer. Since the oxidizer / dopant does not contain a metal salt, the conductive composition is composed of thiophene polymerized by incorporating the above dopant or polymer thereof, even if some unreacted components or reaction residues are contained. Without accelerating the deterioration of the polymer of the derivative, it has almost the same characteristics as the conductive polymer and can be used for almost the same application as the conductive polymer. It means that it may be configured to include them without removing them. In other words, the conductive composition of the present invention is not only composed of a conductive polymer (thiophene polymerized by incorporating the above specific dopant or a derivative thereof) as a main component, In addition to the conductive polymer, it is a concept that includes an unreacted component or a reaction residue.

本発明の導電性高分子用酸化剤兼ドーパントによれば、導電率の高い導電性組成物を良好な反応効率で形成することができる。また、本発明の導電性高分子用ドーパント溶液によって、上記効果を有する本発明の導電性高分子用酸化剤兼ドーパントを構成できる。   According to the oxidant / dopant for conductive polymer of the present invention, a conductive composition having high conductivity can be formed with good reaction efficiency. The conductive polymer dopant solution of the present invention can constitute the conductive polymer oxidizing agent and dopant of the present invention having the above-described effects.

そして、本発明の固体電解コンデンサおよびその製造方法によれば、長期信頼性の高い固体電解コンデンサを提供できる。   And according to the solid electrolytic capacitor of this invention and its manufacturing method, a solid electrolytic capacitor with high long-term reliability can be provided.

すなわち、本発明では、導電性組成物を得るために用いられる酸化剤兼ドーパントとして、ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩を含有するドーパント溶液と過硫酸塩水溶液により生成する析出物を用いており、酸化剤兼ドーパント中に導電性高分子の劣化を加速させる原因となる金属塩を含んでいない。また、酸化剤兼ドーパントは、低濃度の溶液状態ではなく、析出物として存在する状況下でチオフェンまたはその誘導体の重合を行うことができるので、チオフェンまたはその誘導体を効率よく重合させることができる。このため、反応効率が高く、かつ導電率が高い導電性組成物を形成することができる。   That is, in the present invention, as an oxidizing agent / dopant used to obtain a conductive composition, a precipitate produced from a dopant solution containing an alkylamine salt or imidazole salt of naphthalenesulfonic acid and a persulfate aqueous solution is used. In addition, the oxidant / dopant does not contain a metal salt that causes the deterioration of the conductive polymer. In addition, since the oxidant / dopant can polymerize thiophene or a derivative thereof in a state where it exists as a precipitate rather than in a low concentration solution state, the thiophene or the derivative thereof can be polymerized efficiently. For this reason, a conductive composition having high reaction efficiency and high conductivity can be formed.

従って、上記本発明の導電性組成物を固体電解質として有する本発明に係る固体電解コンデンサは、従来よりも信頼性の高いものとなる。   Therefore, the solid electrolytic capacitor according to the present invention having the conductive composition of the present invention as a solid electrolyte becomes more reliable than the conventional one.

なお、本発明の酸化剤兼ドーパントによれば、導電率が高く、かつ金属塩を含まない導電性組成物を重合できるため、従来の導電性高分子に見られたような金属塩による急速な劣化が生じない。そのため、本発明の導電性組成物は、主として固体電解コンデンサの固体電解質に用いられるが、それ以外にも、それらの特性を生かして、例えば、バッテリーの正極活物質、帯電防止シート、帯電防止塗料、帯電防止樹脂などの帯電防止剤、耐腐食用塗料の耐腐食剤などに好適に用いることができる。   In addition, according to the oxidizing agent / dopant of the present invention, a conductive composition having high conductivity and not containing a metal salt can be polymerized. No degradation occurs. Therefore, the conductive composition of the present invention is mainly used for a solid electrolyte of a solid electrolytic capacitor. In addition to this, for example, a positive electrode active material of a battery, an antistatic sheet, and an antistatic paint are utilized by utilizing these characteristics. It can be suitably used as an antistatic agent such as an antistatic resin, and a corrosion-resistant agent for anti-corrosion paints.

本発明の導電性高分子用ドーパント溶液は、過硫酸塩水溶液と共に導電性高分子用酸化剤兼ドーパントを構成するためのものであり、ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩(以下、両者を纏めて「ナフタレンスルホン酸塩」と称する場合がある)の少なくとも1種を、20質量%以上の濃度で含有している。   The dopant solution for a conductive polymer of the present invention is for constituting an oxidizing agent and a dopant for a conductive polymer together with a persulfate aqueous solution. The alkylamine salt or imidazole salt of naphthalenesulfonic acid (hereinafter referred to as both) At least one of which may be referred to collectively as “naphthalene sulfonate” in a concentration of 20% by mass or more.

本発明の導電性高分子用ドーパント溶液は、ナフタレンスルホン酸塩を高濃度で含有しており、高濃度の過硫酸塩水溶液と接触することで、直ちに析出物(導電性高分子用酸化剤兼ドーパント)を生成することができる。   The dopant solution for a conductive polymer of the present invention contains naphthalene sulfonate at a high concentration, and immediately comes into contact with a high-concentration persulfate aqueous solution. Dopant) can be produced.

例えば、固体電解コンデンサの製造時において、コンデンサ素子に固体電解質である導電性高分子を付着させるには、導電性高分子を形成するためのモノマーを含有する溶液中にコンデンサ素子を浸漬した状態で重合を行い、導電性高分子を直接コンデンサ素子表面に形成する方法が採用される場合がある。従来では、モノマーを重合するための酸化剤としての役割と形成される導電性高分子中に取り込まれてドーパントの役割を果たす酸化剤兼ドーパントを、このモノマー含有溶液中に含有させて導電性高分子の重合を行っていたが、モノマー溶液中の酸化剤兼ドーパントの濃度を高めることが困難であり、反応効率の向上や、重合後の導電性高分子の導電性向上を図ることが困難であった。   For example, in the production of a solid electrolytic capacitor, in order to attach a conductive polymer that is a solid electrolyte to a capacitor element, the capacitor element is immersed in a solution containing a monomer for forming the conductive polymer. There is a case where a method of polymerizing and forming a conductive polymer directly on the surface of the capacitor element is employed. Conventionally, an oxidizing agent / dopant that functions as an oxidant for polymerizing monomers and is incorporated into the formed conductive polymer and serves as a dopant is contained in the monomer-containing solution to increase the conductivity. It was difficult to increase the concentration of the oxidizer and dopant in the monomer solution, and it was difficult to improve the reaction efficiency and the conductivity of the conductive polymer after polymerization. there were.

これに対し、本発明のドーパント溶液は高濃度であり、かつ高濃度の過硫酸塩水溶液と接触することで、酸化剤兼ドーパントを析出物として容易に生成することができる。そのため、例えば、コンデンサ素子表面に酸化剤兼ドーパントを直接析出させることができることから、コンデンサ素子表面において、導電性に優れた導電性組成物を反応効率よく得ることができる。   On the other hand, the dopant solution of the present invention has a high concentration and can easily generate an oxidant / dopant as a precipitate by contacting with the high concentration persulfate aqueous solution. Therefore, for example, since an oxidizing agent and a dopant can be directly deposited on the surface of the capacitor element, a conductive composition having excellent conductivity can be obtained with high reaction efficiency on the surface of the capacitor element.

本発明のドーパント溶液に用いられるナフタレンスルホン酸塩は、ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩である。これらのナフタレンスルホン酸塩であれば、水を溶媒として高濃度の溶液を形成することが可能であり、また、良好な機能を有する導電性高分子用酸化剤兼ドーパントを構成できる。   The naphthalene sulfonate used in the dopant solution of the present invention is an alkylamine salt or imidazole salt of naphthalene sulfonic acid. With these naphthalene sulfonates, it is possible to form a high-concentration solution using water as a solvent, and it is possible to constitute an oxidizing agent and dopant for a conductive polymer having a good function.

ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩を構成するアルキルアミンとしては、炭素数が1〜12であることが好ましい。好適な具体例としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、オクチルアミン、ドデシルアミン、3−エトキシプロピルアミン、3−(2−エチルヘキシルオキシ)プロピルアミンなどが挙げられる。   The alkylamine constituting the alkylamine salt of naphthalenesulfonic acid preferably has 1 to 12 carbon atoms. Preferable specific examples include methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, octylamine, dodecylamine, 3-ethoxypropylamine, 3- (2-ethylhexyloxy) propylamine and the like.

ナフタレンスルホン酸のイミダゾール塩を構成するイミダゾールとしては、イミダゾールそのものや、炭素数1〜20のアルキル基またはフェニル基で置換されたイミダゾールが好ましい。なお、ナフタレンスルホン酸のイミダゾール塩を構成するイミダゾールが、炭素数1〜20のアルキル基またはフェニル基で置換されたイミダゾールである場合には、安価に製造が可能で、生産性が良好である点で、その置換位置は、イミダゾールの2位または4位であることが好ましい。   As the imidazole constituting the imidazole salt of naphthalenesulfonic acid, imidazole itself, or an imidazole substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a phenyl group is preferable. In addition, when the imidazole constituting the imidazole salt of naphthalenesulfonic acid is an imidazole substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a phenyl group, it can be produced at low cost and has good productivity. The substitution position is preferably the 2-position or 4-position of imidazole.

ナフタレンスルホン酸のイミダゾール塩を構成するイミダゾールの好適な具体例としては、例えば、イミダゾール、1−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−ブチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、4−メチルイミダゾール、4−ウンデシルイミダゾール、4−フェニルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾールなどが挙げられ、特にイミダゾール、2−メチルイミダゾール、4−メチルイミダゾールが好ましい。   Preferable specific examples of imidazole constituting the imidazole salt of naphthalenesulfonic acid include, for example, imidazole, 1-methylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-butylimidazole, 2-undecylimidazole, 2- Phenyl imidazole, 4-methyl imidazole, 4-undecyl imidazole, 4-phenyl imidazole, 2-ethyl-4-methyl imidazole, 1,2-dimethyl imidazole, etc. are mentioned, especially imidazole, 2-methyl imidazole, 4-methyl Imidazole is preferred.

なお、ナフタレンスルホン酸塩を構成するナフタレンスルホン酸には、αとβの異性体が存在するが、本発明のドーパント溶液が含有しているナフタレンスルホン酸塩のうち、βナフタレンスルホン酸塩の含有量が、例えば95モル%以上であることが好ましい。理由は定かではないが、含有するナフタレンスルホン酸塩のうち、βナフタレンスルホン酸塩の含有量が95モル%以上であるドーパント溶液を用いて得られる導電性組成物では、導電性がより良好となるため、これを用いた固体電解コンデンサの特性をより高めることができる。   The naphthalene sulfonic acid constituting the naphthalene sulfonate has α and β isomers. Among the naphthalene sulfonates contained in the dopant solution of the present invention, the content of β naphthalene sulfonate is included. The amount is preferably 95 mol% or more, for example. The reason is not clear, but among the contained naphthalene sulfonate, the conductive composition obtained using a dopant solution having a content of β-naphthalene sulfonate of 95 mol% or more has better conductivity. Therefore, the characteristics of the solid electrolytic capacitor using this can be further improved.

ナフタレンスルホン酸塩中のβナフタレンスルホン酸の比率を高める方法としては、例えば、ナフタレンスルホン酸塩を構成するためのナフタレンスルホン酸の合成をより低温で行う方法や、αナフタレンスルホン酸塩とβナフタレンスルホン酸塩の結晶性の違いを利用して、精製条件を調整する方法が挙げられる。   Examples of the method for increasing the ratio of β-naphthalene sulfonic acid in naphthalene sulfonate include, for example, a method of synthesizing naphthalene sulfonic acid for constituting naphthalene sulfonate at a lower temperature, α-naphthalene sulfonate and β-naphthalene. A method for adjusting the purification conditions by utilizing the difference in crystallinity of the sulfonate is exemplified.

本発明のドーパント溶液の溶媒としては、水、アルコールなどの水親和性の有機溶媒、などが挙げられ、これらを1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the solvent for the dopant solution of the present invention include water-compatible organic solvents such as water and alcohol. These may be used alone or in combination of two or more.

特に溶媒中のアルコール含有量が5質量%以上である場合には、例えば、コンデンサ素子表面で導電性組成物を形成するために、コンデンサ素子にドーパント溶液を付着させた際に、該ドーパント溶液が多孔体であるコンデンサ素子の孔の内部へ、より良好に浸透するようになることから好ましい。また、溶媒中のアルコール含有量が多いほど、上記析出物形成の際にドーパント溶液が乾燥しやすく、更に、コンデンサ素子などにドーパント溶液を付着後、過硫酸塩水溶液を付着させても、過硫酸塩がドーパント溶液溶媒に溶解し難いために過硫酸塩が付着せずに流れてしまうことを防ぐことができ、また、析出物の生成効率が向上するなど、析出物生成時の操作性が良好となる。この他、溶媒中のアルコール含有量が多いほど、ナフタレンスルホン酸塩が結晶水を持ちにくくなることから、上記析出物の表面がより滑らかとなる。そのため、上記析出物をコンデンサ素子表面に析出させて導電性組成物の形成に供した場合には、得られる導電性組成物のコンデンサ素子表面への密着性も向上する。   In particular, when the alcohol content in the solvent is 5% by mass or more, for example, when the dopant solution is attached to the capacitor element in order to form a conductive composition on the surface of the capacitor element, the dopant solution This is preferable because it penetrates better into the pores of the capacitor element which is a porous body. Moreover, the higher the alcohol content in the solvent, the easier the dopant solution dries during the formation of the precipitate. Furthermore, even if the persulfate aqueous solution is attached after the dopant solution is attached to the capacitor element or the like, Since the salt is difficult to dissolve in the dopant solution solvent, the persulfate can be prevented from flowing without adhering, and the precipitate generation efficiency is improved. It becomes. In addition, the higher the alcohol content in the solvent, the more difficult the naphthalene sulfonate has water of crystallization, so the surface of the precipitate becomes smoother. Therefore, when the deposit is deposited on the surface of the capacitor element and used for forming a conductive composition, the adhesion of the resulting conductive composition to the surface of the capacitor element is also improved.

ドーパント溶液の溶媒に使用するアルコールとしては、例えば炭素数が1〜4のアルコール(メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール)が好ましく、エタノールが特に好ましい。   As an alcohol used for the solvent of the dopant solution, for example, an alcohol having 1 to 4 carbon atoms (methanol, ethanol, propanol, butanol) is preferable, and ethanol is particularly preferable.

本発明のドーパント溶液におけるナフタレンスルホン酸塩の濃度は、20質量%以上であり、40質量%以上であることが好ましい。このように高濃度でナフタレンスルホン酸塩を含有することで、高濃度の過硫酸塩水溶液との接触により、良好かつ速やかに析出物(酸化剤兼ドーパント)を生成できる。そのため、この析出物を利用して形成される導電性組成物を用いた固体電解コンデンサの製造を容易とすることができる。すなわち、本発明のドーパント溶液と、過硫酸塩水溶液を用いて上記析出物(導電性高分子用酸化剤兼ドーパント)を形成する際には、例えば、コンデンサ素子やその他の基材を、ドーパント溶液に浸漬し続いて過硫酸塩水溶液に浸漬するか、過硫酸塩水溶液に浸漬し続いてドーパント溶液に浸漬する方法が採用されるが、ドーパント溶液のナフタレンスルホン酸塩濃度が低すぎると、ナフタレンスルホン酸塩がコンデンサ素子やその他の基材に十分に付着しないため、上記析出物を良好に形成することができず、延いては、導電性組成物が良好に形成できなくなる。なお、ドーパント溶液のナフタレンスルホン酸塩の濃度の上限は、例えば、80質量%であることが好ましい。   The concentration of naphthalene sulfonate in the dopant solution of the present invention is 20% by mass or more, and preferably 40% by mass or more. By containing naphthalene sulfonate at a high concentration in this way, a precipitate (oxidant and dopant) can be generated favorably and quickly by contact with a high concentration persulfate aqueous solution. Therefore, it is possible to facilitate the production of a solid electrolytic capacitor using a conductive composition formed using this precipitate. That is, when forming the precipitate (oxidizing agent for conductive polymer and dopant) using the dopant solution of the present invention and a persulfate aqueous solution, for example, a capacitor element or other substrate is used as the dopant solution. Is then immersed in a persulfate aqueous solution, or in a persulfate aqueous solution followed by a dopant solution. If the concentration of naphthalene sulfonate in the dopant solution is too low, naphthalene sulfone is used. Since the acid salt does not sufficiently adhere to the capacitor element and other base materials, the precipitate cannot be formed satisfactorily, and as a result, the conductive composition cannot be satisfactorily formed. In addition, it is preferable that the upper limit of the density | concentration of the naphthalenesulfonate of a dopant solution is 80 mass%, for example.

ちなみに、ナフタレンスルホン酸ナトリウム、ナフタレンスルホン酸カルシウム、ナフタレンスルホン酸アンモニウムなどのナフタレンスルホン酸塩では、水溶液とした場合には、その濃度を10質量%程度にしか溶解させ得ず、アルコール溶液にした場合には、さらに低濃度の溶液しか得られないため、本発明のドーパント溶液のような高濃度のナフタレンスルホン酸塩溶液とすることができない。   By the way, naphthalene sulfonates such as sodium naphthalene sulfonate, calcium naphthalene sulfonate, ammonium naphthalene sulfonate, etc., when dissolved in an aqueous solution, can only be dissolved at a concentration of about 10% by mass. Since only a solution having a lower concentration can be obtained, a high-concentration naphthalene sulfonate solution such as the dopant solution of the present invention cannot be obtained.

また、本発明のドーパント溶液には、乳化剤を添加しておくことが好ましい。これは、乳化剤を添加しておくことによって、チオフェンまたはその誘導体の重合反応をより均一に進行させることができるからである。上記乳化剤としては、種々のものを用いることができるが、特にアルキルアミンオキサイドが好ましい。アルキルアミンオキサイドは、たとえ導電性組成物中に残ったとしても、導電性組成物の導電率を大きく低下させたり、その導電性組成物を固体電解コンデンサの固体電解質として用いた場合に、該コンデンサの機能を著しく低下させるようなことはない。上記アルキルアミンオキサイドにおけるアルキル基は、炭素数が1〜20であることが好ましい。また、チオフェンまたはその誘導体の重合反応が進行すると、それに伴って反応系のpHが低下するが、上記アルキルアミンオキサイドはそのようなpHの低下を抑制する作用も有している。   Moreover, it is preferable to add an emulsifier to the dopant solution of the present invention. This is because the polymerization reaction of thiophene or a derivative thereof can proceed more uniformly by adding an emulsifier. Various emulsifiers can be used, and alkylamine oxide is particularly preferable. Even if the alkylamine oxide remains in the conductive composition, the electrical conductivity of the conductive composition is greatly reduced, or when the conductive composition is used as a solid electrolyte of a solid electrolytic capacitor, the capacitor There will be no significant degradation of the function. The alkyl group in the alkylamine oxide preferably has 1 to 20 carbon atoms. Further, when the polymerization reaction of thiophene or a derivative thereof proceeds, the pH of the reaction system decreases accordingly, and the alkylamine oxide also has an action of suppressing such a decrease in pH.

本発明のドーパント溶液における上記乳化剤濃度は、例えば、0.01〜2質量%とすることが好ましい。   The emulsifier concentration in the dopant solution of the present invention is preferably 0.01 to 2% by mass, for example.

本発明のドーパント溶液は、そのpHが1以上であることが好ましく、4以上であることがより好ましい。詳しくは後述するが、本発明のドーパント溶液を用いて得られる導電性組成物を有する固体電解コンデンサを製造する場合、コンデンサ素子をドーパント溶液に浸漬する工程があるが、例えばアルミニウムコンデンサの場合には、ドーパント溶液のpHが小さすぎると、この浸漬の際に、コンデンサ素子の誘電体層が破壊されてしまい、優れた特性のアルミニウムコンデンサが得られなくなることがある。ただし、タンタルコンデンサやニオブコンデンサなどは、コンデンサ素子に係る誘電体層の耐酸性が強いため、pHが1未満でもさしつかえない。ちなみに、これまでの固体電解コンデンサの製造にあたって用いられてきた有機スルホン酸鉄塩の場合、pHは0.5程度であり、アルミニウムコンデンサの製造に際しては必ずしも適していない。   The dopant solution of the present invention preferably has a pH of 1 or more, more preferably 4 or more. As will be described in detail later, when producing a solid electrolytic capacitor having a conductive composition obtained using the dopant solution of the present invention, there is a step of immersing the capacitor element in the dopant solution. For example, in the case of an aluminum capacitor If the pH of the dopant solution is too low, the dielectric layer of the capacitor element may be destroyed during the immersion, and an aluminum capacitor having excellent characteristics may not be obtained. However, a tantalum capacitor, a niobium capacitor, or the like may have a pH of less than 1 because the acid resistance of the dielectric layer related to the capacitor element is strong. Incidentally, in the case of an organic sulfonic acid iron salt that has been used in the production of a conventional solid electrolytic capacitor, the pH is about 0.5, and is not necessarily suitable for the production of an aluminum capacitor.

なお、本発明のドーパント溶液では、例えば、上記のアルキルアミンオキサイドを乳化剤として使用することにより、チオフェンまたはその誘導体の重合反応に伴う反応系のpHの低下が抑制される。そのため、特にアルミニウムコンデンサの製造には、このような乳化剤を有するドーパント溶液が好ましく使用できる。   In the dopant solution of the present invention, for example, by using the above alkylamine oxide as an emulsifier, a decrease in pH of the reaction system accompanying the polymerization reaction of thiophene or a derivative thereof is suppressed. Therefore, a dopant solution having such an emulsifier can be preferably used particularly for the production of an aluminum capacitor.

本発明の導電性高分子用酸化剤兼ドーパントのうち、上記(1)の態様は、上記本発明の導電性高分子用ドーパント溶液と、過硫酸塩の濃度が20質量%以上の水溶液で構成されている。   Of the oxidant / dopant for conductive polymer of the present invention, the above aspect (1) comprises the above-described dopant solution for conductive polymer of the present invention and an aqueous solution having a persulfate concentration of 20% by mass or more. Has been.

(1)の態様の導電性高分子用酸化剤兼ドーパントは、上記(2)の態様の酸化剤兼ドーパント(析出物)を形成するためのものである。すなわち、本発明の導電性高分子用ドーパント溶液は、導電性高分子重合に使用する酸化剤である過硫酸塩水溶液と接触すると、上記の通り析出物[(2)の態様の酸化剤兼ドーパント]を生成してしまうため、実際に導電性高分子を重合する段階以前においては、過硫酸塩水溶液と混合することはできない。そのため、(1)の態様の導電性高分子用酸化剤兼ドーパントは、それぞれ別個にパッケージするなどされた本発明の導電性高分子用ドーパント溶液と上記特定の過硫酸塩水溶液との組み合わせにより構成される。   The oxidant / dopant for conductive polymer of the aspect (1) is for forming the oxidant / dopant (precipitate) of the aspect (2). That is, when the dopant solution for a conductive polymer of the present invention comes into contact with a persulfate aqueous solution that is an oxidant used for conductive polymer polymerization, the precipitate [oxidant and dopant in the form of (2) as described above] ] Cannot be mixed with the persulfate aqueous solution before the stage of actually polymerizing the conductive polymer. Therefore, the conductive polymer oxidizing agent / dopant of aspect (1) is composed of a combination of the above-described specific persulfate aqueous solution and the above-described specific persulfate aqueous solution of the present invention, which are packaged separately. Is done.

(1)の態様の導電性高分子用酸化剤兼ドーパントを構成するための過硫酸塩水溶液に係る過硫酸塩としては、例えば、過硫酸ナトリウム塩、過硫酸カリウム塩、過硫酸バリウム塩、過硫酸アンモニウムなどの、過硫酸塩の遷移金属塩を除く過硫酸塩が挙げられる。ナトリウム、カリウム、バリウムなどは、遷移金属ではないので、導電性高分子の導電性を劣化させるという影響はほとんどない。ただし、コンデンサ中に金属塩が残ることによるコンデンサの電気特性への影響が残るという観点からすると、過硫酸アンモニウムが特に好ましい。   Examples of the persulfate according to the aqueous persulfate solution for constituting the conductive polymer oxidizing agent / dopant of the aspect (1) include sodium persulfate, potassium persulfate, barium persulfate, persulfate, and the like. Examples include persulfates excluding transition metal salts of persulfates, such as ammonium sulfate. Since sodium, potassium, barium, and the like are not transition metals, there is almost no effect of deteriorating the conductivity of the conductive polymer. However, ammonium persulfate is particularly preferable from the viewpoint that the influence of the metal salt remaining in the capacitor on the electrical characteristics of the capacitor remains.

過硫酸塩水溶液における過硫酸塩濃度は、20質量%以上であり、40質量%以上であることが好ましい。このように高濃度で過硫酸塩を含有することで、上記本発明のドーパント溶液との接触により、良好かつ速やかに析出物(酸化剤兼ドーパント)を生成できる。そのため、この析出物を利用して形成される導電性組成物を用いた固体電解コンデンサの製造を容易とすることができる。すなわち、(1)の態様の酸化剤兼ドーパントを用いて上記析出物[(2)の態様の酸化剤兼ドーパント]を形成する際には、上述したように、例えば、コンデンサ素子やその他の基材を、ドーパント溶液に浸漬し続いて過硫酸塩水溶液に浸漬するか、過硫酸塩水溶液に浸漬し続いてドーパント溶液に浸漬する方法が採用されるが、過硫酸塩水溶液の過硫酸塩濃度が低すぎると、過硫酸塩がコンデンサ素子やその他の基材に十分に付着しないため、上記析出物を良好に形成することができず、延いては、導電性組成物が良好に形成できなくなる。なお、過硫酸塩水溶液の過硫酸塩濃度の上限は、例えば、50質量%であることが好ましい。   The persulfate concentration in the persulfate aqueous solution is 20% by mass or more, and preferably 40% by mass or more. By containing the persulfate at a high concentration in this way, a precipitate (oxidant / dopant) can be generated satisfactorily and quickly by contact with the dopant solution of the present invention. Therefore, it is possible to facilitate the production of a solid electrolytic capacitor using a conductive composition formed using this precipitate. That is, when forming the precipitate [oxidant and dopant of aspect (2)] using the oxidant and dopant of aspect (1), as described above, for example, a capacitor element or other group. The material is immersed in a dopant solution and then immersed in a persulfate aqueous solution, or immersed in a persulfate aqueous solution and then immersed in a dopant solution, but the persulfate concentration of the persulfate aqueous solution is If it is too low, the persulfate does not sufficiently adhere to the capacitor element and other base materials, so that the precipitate cannot be formed satisfactorily, and as a result, the conductive composition cannot be satisfactorily formed. In addition, it is preferable that the upper limit of the persulfate density | concentration of persulfate aqueous solution is 50 mass%, for example.

(1)の態様の酸化剤兼ドーパントにおいては、上記本発明のドーパント溶液に含有されるナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸塩水溶液の含有する過硫酸塩が、0.3モル以上、より好ましくは0.5モル以上であって、2.5モル以下、より好ましくは2.0モル以下である。ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩と過硫酸塩水溶液中の過硫酸塩とが、上記の比率で構成される酸化剤兼ドーパントであれば、該ドーパント溶液と該過硫酸塩水溶液とを接触させることにより、導電性に優れた導電性組成物を良好な反応効率で形成できる析出物(酸化剤兼ドーパント)を生成することができる。   In the oxidizing agent / dopant of aspect (1), the persulfate contained in the persulfate aqueous solution is 0.3 mol or more with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate contained in the dopant solution of the present invention. More preferably, it is 0.5 mol or more, 2.5 mol or less, more preferably 2.0 mol or less. If the naphthalene sulfonate in the dopant solution and the persulfate in the aqueous persulfate solution are an oxidizing agent and a dopant configured in the above ratio, the dopant solution and the aqueous persulfate solution are brought into contact with each other. By this, it is possible to generate a precipitate (oxidant / dopant) capable of forming a conductive composition having excellent conductivity with good reaction efficiency.

なお、(1)の態様の酸化剤兼ドーパントに係るドーパント溶液は、比較的高価である一方長期保存が可能であり、他方、過硫酸塩水溶液は、安価ではあるが、常温下でも過硫酸塩の分解が進むため、長期保存はできない。本発明の(1)の態様の酸化剤兼ドーパントでは、ドーパント溶液と過硫酸塩水溶液とが別個にパッケージされたものであるため、高価なドーパント溶液は長期保存できる一方で、必要に応じて安価な過硫酸塩水溶液のみを新しいものに変更できることから、コストアップを抑えつつ常に良好な特性を有する析出物を生成することができる。   The dopant solution relating to the oxidizing agent / dopant of the aspect (1) is relatively expensive while it can be stored for a long time. On the other hand, the persulfate aqueous solution is inexpensive, but it is a persulfate even at room temperature. Because of the decomposition of, the long-term storage is not possible. In the oxidizing agent / dopant of aspect (1) of the present invention, the dopant solution and the persulfate aqueous solution are packaged separately, so that an expensive dopant solution can be stored for a long period of time, while being inexpensive as necessary. Since only a new persulfate aqueous solution can be changed to a new one, it is possible to produce a precipitate having always good characteristics while suppressing an increase in cost.

(2)の態様の導電性高分子用酸化剤兼ドーパントは、本発明のドーパント溶液と濃度が20質量%の過硫酸塩水溶液とを接触させることで生成する析出物であり、(1)の態様の導電性高分子用酸化剤兼ドーパントを用いることにより得られるものである。   The oxidizer and dopant for the conductive polymer of the aspect of (2) is a precipitate produced by bringing the dopant solution of the present invention into contact with an aqueous solution of persulfate having a concentration of 20% by mass. It is obtained by using the oxidant and dopant for conductive polymer of the aspect.

(2)の態様の酸化剤兼ドーパントである析出物では、下記の方法によって測定されるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率が、ナフタレンスルホン酸1モルに対して、過硫酸が0.3モル以上、より好ましくは0.6モル以上であって、2.5モル以下、より好ましくは1.8モル以下である。   In the precipitate which is the oxidizing agent and dopant of the aspect (2), the ratio of naphthalenesulfonic acid and persulfuric acid measured by the following method is 0.3 mol or more per mole of naphthalenesulfonic acid. More preferably, it is 0.6 mol or more and 2.5 mol or less, more preferably 1.8 mol or less.

ここで、上記析出物におけるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率は、該析出物を蒸留水に入れて密封し、50℃で1週間放置させて過硫酸を硫酸に分解した後に、その上澄み液をイオンクロマトグラフィーで分析することによりナフタレンスルホン酸と硫酸の比率として求める。すなわち、上記硫酸は過硫酸に由来するので、ナフタレンスルホン酸と硫酸の比率は、そのまま析出物におけるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率となる。なお、上澄み液中のナフタレンスルホン酸と硫酸の比率を求めるに当たっては、ナフタレンスルホン酸と硫酸の比率を変動させた水溶液を用いて予め作成しておいた検量線を用いればよい。   Here, the ratio of naphthalenesulfonic acid and persulfuric acid in the precipitate is determined by putting the precipitate in distilled water, sealing it, and allowing it to stand at 50 ° C. for 1 week to decompose persulfuric acid into sulfuric acid. The ratio of naphthalene sulfonic acid and sulfuric acid is determined by analysis by ion chromatography. That is, since the sulfuric acid is derived from persulfuric acid, the ratio of naphthalenesulfonic acid and sulfuric acid is directly the ratio of naphthalenesulfonic acid and persulfuric acid in the precipitate. In order to determine the ratio of naphthalenesulfonic acid and sulfuric acid in the supernatant, a calibration curve prepared in advance using an aqueous solution in which the ratio of naphthalenesulfonic acid and sulfuric acid is varied may be used.

上記測定によるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率は、上記析出物の形成に用いられたドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩と過硫酸水溶液中の過硫酸塩との比率に基づいており、高濃度の本発明のドーパント溶液と高濃度の過硫酸塩水溶液から得られ、かつ上記測定方法により求められるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率が上記所定値である析出物であれば、導電性に優れた導電性組成物を良好な反応効率で形成できる。   The ratio of naphthalene sulfonic acid and persulfuric acid by the above measurement is based on the ratio of naphthalene sulfonate in the dopant solution used in the formation of the precipitate and the persulfate in the aqueous persulfate solution. If it is a precipitate obtained from the dopant solution of the present invention and a high-concentration persulfate aqueous solution and the ratio of naphthalene sulfonic acid and persulfuric acid determined by the above measurement method is the above predetermined value, the conductivity is excellent. Can be formed with good reaction efficiency.

本発明の導電性組成物は、モノマーとして、チオフェンまたはその誘導体を用いる。チオフェンの誘導体としては、例えば、3,4−エチレンジオキシチオフェン、3−アルキルチオフェン、3−アルコキシチオフェン、3−アルキル−4−アルコキシチオフェン、3,4−アルキルチオフェン、3,4−アルコキシチオフェンなどが挙げられ、そのアルキル基やアルコキシ基の炭素数としては1〜16が好ましい。   In the conductive composition of the present invention, thiophene or a derivative thereof is used as a monomer. Examples of thiophene derivatives include 3,4-ethylenedioxythiophene, 3-alkylthiophene, 3-alkoxythiophene, 3-alkyl-4-alkoxythiophene, 3,4-alkylthiophene, and 3,4-alkoxythiophene. And the alkyl group or alkoxy group preferably has 1 to 16 carbon atoms.

そして、このチオフェンまたはその誘導体の重合にあたって、チオフェンまたはその誘導体は、液状なので、そのままで使用できるが、重合反応をよりスムーズに進行させるには、チオフェンまたはその誘導体を、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、アセトン、アセトニトリルなどの有機溶媒で希釈して溶液(有機溶媒液)状にしておくことが好ましい。   In the polymerization of thiophene or a derivative thereof, since thiophene or a derivative thereof is in a liquid state, it can be used as it is. However, in order to make the polymerization reaction proceed more smoothly, thiophene or a derivative thereof can be used, for example, methanol, ethanol, propanol. It is preferable to dilute with an organic solvent such as butanol, acetone or acetonitrile to form a solution (organic solvent liquid).

このチオフェンまたはその誘導体の重合時の態様としては、導電性組成物の使用形態によっては異なる態様を採ることが好ましい。例えば、導電性組成物をフィルム状などに形成し、それを導電性組成物の応用機器に組み込む場合は、どのような態様を採用してもよいが、導電性組成物を固体電解コンデンサの固体電解質として用いる場合は、固体電解コンデンサの製造工程において、コンデンサ素子の表面に酸化剤兼ドーパントである上記析出物を形成させ、これを上記のモノマー溶液に浸漬した状態でチオフェンまたはその誘導体を、コンデンサ素子表面で重合させることが好ましい。   As an aspect at the time of polymerization of this thiophene or a derivative thereof, it is preferable to adopt a different aspect depending on the usage form of the conductive composition. For example, when the conductive composition is formed into a film or the like and incorporated in an application device of the conductive composition, any mode may be adopted, but the conductive composition is solid of a solid electrolytic capacitor. When used as an electrolyte, in the production process of a solid electrolytic capacitor, the precipitate as an oxidizing agent and a dopant is formed on the surface of the capacitor element, and thiophene or a derivative thereof is immersed in the monomer solution in the capacitor. Polymerization is preferably performed on the element surface.

以下に、固体電解コンデンサのコンデンサ素子に直接導電性組成物を形成する場合を例にとって、チオフェンまたはその誘導体の重合態様を説明する。下記の(A)工程と(B)工程を続けて行うことにより、チオフェンまたはその誘導体を重合させて、導電性組成物を形成できる。   Hereinafter, a polymerization mode of thiophene or a derivative thereof will be described by taking as an example a case where a conductive composition is directly formed on a capacitor element of a solid electrolytic capacitor. By continuously performing the following steps (A) and (B), thiophene or a derivative thereof can be polymerized to form a conductive composition.

工程(A)(酸化剤兼ドーパントの析出工程):コンデンサ素子を上記ドーパント溶液に浸漬して、該ドーパント溶液をコンデンサ素子の微細な孔の内部にまで浸み込ませた後、これを上記過硫酸塩水溶液に浸漬するか、コンデンサ素子を上記過硫酸塩水溶液に浸漬して、該過硫酸塩水溶液をコンデンサ素子の微細な孔の内部にまで浸み込ませた後、これを上記ドーパント溶液に浸漬することにより導電性高分子用酸化剤兼ドーパントを析出させる。なお、コンデンサ素子のドーパント溶液への浸漬時間は、例えば5秒〜2分とし、該溶液からコンデンサ素子を取り出してから、例えば1〜10分放置することが好ましい。また、コンデンサ素子の過硫酸塩水溶液への浸漬時間は、例えば5秒〜2分とし、該水溶液からコンデンサ素子を取り出してから、例えば1〜10分放置することが好ましい。   Step (A) (Oxidizing agent / dopant precipitation step): The capacitor element is immersed in the dopant solution so that the dopant solution is immersed into the fine holes of the capacitor element, and then the above-described excess is added. After immersing in the aqueous solution of sulfate or immersing the capacitor element in the aqueous solution of persulfate so that the aqueous solution of persulfate is immersed into the fine pores of the capacitor element, this is added to the dopant solution. By immersing, the oxidant and dopant for the conductive polymer is deposited. The immersion time of the capacitor element in the dopant solution is preferably 5 seconds to 2 minutes, for example, and is preferably left for 1 to 10 minutes after taking out the capacitor element from the solution. Further, the immersion time of the capacitor element in the persulfate aqueous solution is preferably, for example, 5 seconds to 2 minutes, and after the capacitor element is taken out from the aqueous solution, it is preferably left, for example, for 1 to 10 minutes.

工程(B)(チオフェンまたはその誘導体の重合工程);チオフェンまたはその誘導体を、濃度が5〜100質量%、さらに好ましくは10〜40質量%になるように有機溶媒で希釈した液(有機溶媒液)に、上記析出物が付着したコンデンサ素子を浸漬し、10〜300秒、さらに好ましくは20〜120秒後にコンデンサ素子をモノマー溶液(チオフェンまたは誘導体の有機溶媒液)中から取り出して、0〜120℃、さらに好ましくは30〜70℃の温度で、1分〜1日、さらに好ましくは10分〜2時間放置してチオフェンまたはその誘導体の重合を行う。   Step (B) (polymerization step of thiophene or a derivative thereof); a solution obtained by diluting thiophene or a derivative thereof with an organic solvent so as to have a concentration of 5 to 100% by mass, more preferably 10 to 40% by mass (organic solvent solution) ), The capacitor element to which the precipitate is attached is immersed, and after 10 to 300 seconds, more preferably 20 to 120 seconds, the capacitor element is taken out from the monomer solution (organic solvent liquid of thiophene or a derivative), and 0 to 120 Polymerization of thiophene or a derivative thereof is carried out by allowing to stand at a temperature of ° C, more preferably 30 to 70 ° C for 1 minute to 1 day, more preferably 10 minutes to 2 hours.

工程(A)と工程(B)は、それぞれ1回ずつ実施してもよいが、工程(A)と工程(B)を続けて実施する一連の操作を、2回以上(2回、3回、4回など)繰り返すことが好ましく、このような操作を実施することで、コンデンサ素子の孔内面を含む全表面を、導電性組成物で良好に被覆することができる。   The step (A) and the step (B) may be carried out once each, but a series of operations for carrying out the step (A) and the step (B) continuously is performed twice or more (twice, three times). It is preferable to repeat such operations four times, and by performing such an operation, the entire surface including the inner surface of the hole of the capacitor element can be satisfactorily covered with the conductive composition.

なお、導電性組成物の用途に応じて、フィルム状の導電性組成物が要求される場合などでは、例えば、上記の工程(A)において、コンデンサ素子の代わりに、例えばセラミックプレートなどの基材を用い、この基材表面に上記析出物を析出させた後に、これを工程(B)に供して導電性組成物を基材表面に形成させ、その後、基材から導電性組成物を剥離する方法などが採用できる。この場合、工程(A)および工程(B)における各条件については、コンデンサ素子表面に導電性組成物を形成する場合における上述の条件と同様の条件が採用できる。   In the case where a film-like conductive composition is required depending on the use of the conductive composition, for example, in the above step (A), a substrate such as a ceramic plate is used instead of the capacitor element. And depositing the precipitate on the surface of the base material, then subjecting it to the step (B) to form the conductive composition on the surface of the base material, and then peeling the conductive composition from the base material. Methods can be adopted. In this case, for each condition in the step (A) and the step (B), the same conditions as those described above in the case where the conductive composition is formed on the surface of the capacitor element can be adopted.

上記のようにして得られる本発明の導電性組成物は、例えば、タンタルで構成された素子を有するタンタルコンデンサ、ニオブで構成された素子を有するニオブコンデンサ、アルミニウムで構成された素子を有するアルミニウムコンデンサ(アルミニウム積層型コンデンサ、アルミニウム巻回型コンデンサなど)などの固体電解コンデンサの固体電解質として好適に用いられる。すなわち、本発明の固体電解コンデンサは、上記本発明の導電性組成物を固体電解質として有するものである。   The conductive composition of the present invention obtained as described above includes, for example, a tantalum capacitor having an element composed of tantalum, a niobium capacitor having an element composed of niobium, and an aluminum capacitor having an element composed of aluminum. It is suitably used as a solid electrolyte of a solid electrolytic capacitor such as (aluminum multilayer capacitor, aluminum wound capacitor, etc.). That is, the solid electrolytic capacitor of the present invention has the conductive composition of the present invention as a solid electrolyte.

なお、本発明の導電性組成物を固体電解コンデンサの固体電解質として用いる場合、上記のように、上記固体電解コンデンサの製造工程中でチオフェンまたはその誘導体の重合を行うことが好ましい。   In addition, when using the electrically conductive composition of this invention as a solid electrolyte of a solid electrolytic capacitor, it is preferable to superpose | polymerize a thiophene or its derivative (s) in the manufacturing process of the said solid electrolytic capacitor as mentioned above.

本発明の固体電解コンデンサは、上記工程(A)および上記工程(B)を経て得られた導電性組成物を有するコンデンサ素子を用いて、固体電解コンデンサを組み立てる工程(C)を経て製造される。なお、本発明の固体電解コンデンサは、固体電解質(陰極層)として上記本発明の導電性組成物を有していればよく、その他の構成については、従来公知の固体電解コンデンサで採用されている構成が採用できる。   The solid electrolytic capacitor of the present invention is manufactured through the step (C) of assembling a solid electrolytic capacitor using the capacitor element having the conductive composition obtained through the step (A) and the step (B). . The solid electrolytic capacitor of the present invention only needs to have the conductive composition of the present invention as a solid electrolyte (cathode layer), and other configurations are employed in conventionally known solid electrolytic capacitors. Configuration can be adopted.

以下、実施例に基づいて本発明を詳細に述べる。ただし、下記実施例は本発明を制限するものではなく、前・後記の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施をすることは、全て本発明の技術的範囲に包含される。なお、後記の実施例、比較例におけるドーパント溶液(ナフタレンスルホン酸塩溶液など)の「pH」は、水溶液、および水とエタノールの混合溶媒溶液の場合にはそのpHを、エタノール溶液の場合には水で2倍に希釈した際のpHを、それぞれ意味している。   Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples. However, the following examples are not intended to limit the present invention, and all modifications made without departing from the spirit of the preceding and following descriptions are included in the technical scope of the present invention. The “pH” of the dopant solution (eg, naphthalene sulfonate solution) in the examples and comparative examples described later is the pH in the case of an aqueous solution and a mixed solvent solution of water and ethanol, and in the case of an ethanol solution. It means the pH when diluted twice with water.

ナフタレンスルホン酸塩の製造例(1)
撹拌装置の付いた反応器に98%濃硫酸150モルを添加し、撹拌しながら80℃まで加熱した。そこにナフタレン100モルを10分かけて添加した。添加終了後140℃に温度を上げ、3時間反応させた。反応終了後温度を徐々に下げ、80℃前後で、水を添加して反応を完全に終了させた。その後20℃まで温度を下げることによりナフタレンスルホン酸を析出させ、これを遠心分離器により回収した。このナフタレンスルホン酸を濃度が65質量%になるように80℃の純水に溶解させた。その後、この溶液を撹拌しながら徐々に温度を下げ、室温(20℃)になったところで析出してきた析出物を遠心分離器によって取り出した。この操作を2回繰り返した後、最終的に50質量%になるように純水に溶解させ、これに、pHが5.0になるまで2−メチルイミダゾールをゆっくり添加した。この溶液を0.3μmのガラスフィルターで濾過し、その後に溶液の乾燥重量を測定することにより濃度を算出し、40質量%濃度になるように純水を添加して、後記の実施例1で使用するナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールの水溶液を得た。この溶液中のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールの異性体比率(モル比)を測定するためにイオンクロマトグラフィーで分析したところ、β:α=99:1であった。
Production example of naphthalene sulfonate (1)
To the reactor equipped with a stirrer, 150 mol of 98% concentrated sulfuric acid was added and heated to 80 ° C. with stirring. Thereto was added 100 moles of naphthalene over 10 minutes. After the addition, the temperature was raised to 140 ° C. and reacted for 3 hours. After completion of the reaction, the temperature was gradually lowered and water was added at about 80 ° C. to complete the reaction. Thereafter, naphthalenesulfonic acid was precipitated by lowering the temperature to 20 ° C., and this was recovered by a centrifuge. This naphthalenesulfonic acid was dissolved in pure water at 80 ° C. so that the concentration became 65% by mass. Thereafter, the temperature was gradually lowered while stirring the solution, and the precipitate deposited at room temperature (20 ° C.) was taken out by a centrifuge. After repeating this operation twice, 2-methylimidazole was slowly added to this until it was dissolved in pure water so that it might finally become 50 mass%, and pH was set to 5.0. This solution was filtered through a 0.3 μm glass filter, and then the concentration was calculated by measuring the dry weight of the solution. Pure water was added to a concentration of 40% by mass. An aqueous solution of 2-methylimidazole naphthalene sulfonate to be used was obtained. Analysis by ion chromatography to determine the isomer ratio (molar ratio) of 2-methylimidazole naphthalene sulfonate in this solution was β: α = 99: 1.

後記の実施例2〜7、13、比較例1〜5で使用するナフタレンスルホン酸塩[β:α=99:1(モル比)]についても、必要に応じて使用する原材料を変更する場合がある他は、上記製造例(1)と同様の方法で製造した。   For the naphthalene sulfonate [β: α = 99: 1 (molar ratio)] used in Examples 2 to 7, 13 and Comparative Examples 1 to 5 described later, the raw materials used may be changed as necessary. Other than that, it was manufactured by the same method as in the above manufacturing example (1).

ナフタレンスルホン酸塩の製造例(2)
0.3μmのガラスフィルターで濾過する工程まで、上記製造例(1)と同様の操作を行い、その後蒸留により濃縮し、続いてエタノールを添加する操作を4回繰り返した後、乾燥重量を測定することにより濃度を算出し、50質量%濃度になるようにエタノールを添加して、後記の実施例8で使用するナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール[β:α=99:1(モル比)]のエタノール溶液を得た。
Production example of naphthalene sulfonate (2)
The same operation as in the above production example (1) is performed until the step of filtering with a 0.3 μm glass filter, followed by concentration by distillation, and subsequently adding ethanol four times, and then measuring the dry weight. The concentration was calculated by adding ethanol so that the concentration was 50% by mass, and 2-methylimidazole naphthalenesulfonate [β: α = 99: 1 (molar ratio)] used in Example 8 described later. An ethanol solution was obtained.

後記の実施例9〜11、14、比較例12〜15で使用するナフタレンスルホン酸塩[β:α=99:1(モル比)]についても、必要に応じて使用する原材料を変更する場合がある他は、上記製造例(2)と同様の方法で製造した。   For the naphthalene sulfonate [β: α = 99: 1 (molar ratio)] used in Examples 9 to 11 and 14 and Comparative Examples 12 to 15 described later, the raw materials used may be changed as necessary. Other than that, it was produced by the same method as in Production Example (2) above.

ナフタレンスルホン酸塩の製造例(3)
撹拌装置の付いた反応器に98%濃硫酸150モルを添加し、撹拌しながら80℃まで加熱した。そこにナフタレン100モルを10分かけて添加した。添加終了後120℃に温度を上げ、3時間反応させた。反応終了後温度を徐々に下げ、80℃前後で、水を添加して反応を完全に終了させた。その後20℃まで温度を下げることによりナフタレンスルホン酸を析出させ、これを遠心分離器により回収した。このナフタレンスルホン酸を濃度が50質量%になるように純水に溶解させ、pHが5.0になるまで2−メチルイミダゾールをゆっくり添加した。その後、蒸留により濃縮した後、50質量%濃度になるようエタノールを添加して、後記の実施例12で使用するナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液を得た。この溶液中のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールの異性体比率(モル比)を測定するためにイオンクロマトグラフィーで分析したところ、β:α=90:10であった。
Production example of naphthalene sulfonate (3)
To the reactor equipped with a stirrer, 150 mol of 98% concentrated sulfuric acid was added and heated to 80 ° C. with stirring. Thereto was added 100 moles of naphthalene over 10 minutes. After the addition, the temperature was raised to 120 ° C. and reacted for 3 hours. After completion of the reaction, the temperature was gradually lowered and water was added at about 80 ° C. to complete the reaction. Thereafter, naphthalenesulfonic acid was precipitated by lowering the temperature to 20 ° C., and this was recovered by a centrifuge. This naphthalenesulfonic acid was dissolved in pure water so as to have a concentration of 50% by mass, and 2-methylimidazole was slowly added until the pH reached 5.0. Then, after concentrating by distillation, ethanol was added so that it might become a 50 mass% concentration, and the ethanol solution of 2-methylimidazole naphthalenesulfonate used in Example 12 mentioned later was obtained. When analyzed by ion chromatography to determine the isomer ratio (molar ratio) of 2-methylimidazole naphthalenesulfonate in this solution, β: α = 90: 10.

<導電性組成物の形成と評価>
実施例1
上記製造例(1)で得られた40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)10mlを10mlのバイアルに入れた。ここに、5×30mm(厚み1mm)のセラミックプレートを含浸させ、30秒放置後にゆっくり引き上げた。取り出したセラミックプレートを室温で5分間放置後、予め用意しておいた10mlバイアルに入っている40質量%過硫酸アンモニウム水溶液10mlに含浸させ、30秒放置後にゆっくり引き上げ、室温で5分間放置した。その後、このセラミックプレートを、100質量%3,4エチレンジオキシチオフェン(液状、以下同じ)に含浸させ、10秒後にゆっくり引き上げ、50℃で20分間放置した。その後、洗浄のため、10mlバイアルの中に入っている純水10mlに上記のセラミックプレートを入れて5分間放置し、引き出した後、50℃で5分間乾燥した。この操作を3回繰り返した後、150℃で1時間乾燥して、導電性組成物を形成した。そして、1.5トンの荷重をかけたまま5分間静置し、膜厚を均一にした後、電導度を、室温(約25℃)下で、JIS K 7194の規定に準じて、4探針方式の電導度測定器〔三菱化学社製MCP−T600(商品名)〕により測定した。結果を表1に示す。なお、実施例1で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.27モルであった。
<Formation and evaluation of conductive composition>
Example 1
10 ml of an aqueous solution of 2-methylimidazole naphthalenesulfonate having a concentration of 40% by mass (pH 5) obtained in Production Example (1) was placed in a 10 ml vial. This was impregnated with a ceramic plate of 5 × 30 mm (thickness 1 mm), and slowly pulled up after being left for 30 seconds. The ceramic plate taken out was allowed to stand at room temperature for 5 minutes, then impregnated with 10 ml of a 40% by weight ammonium persulfate aqueous solution contained in a 10 ml vial prepared in advance, slowly pulled up after standing for 30 seconds, and left at room temperature for 5 minutes. Thereafter, the ceramic plate was impregnated with 100% by mass of 3,4 ethylenedioxythiophene (liquid, the same applies hereinafter), slowly pulled up after 10 seconds, and left at 50 ° C. for 20 minutes. Thereafter, the ceramic plate was placed in 10 ml of pure water contained in a 10 ml vial for washing, allowed to stand for 5 minutes, pulled out, and dried at 50 ° C. for 5 minutes. This operation was repeated three times and then dried at 150 ° C. for 1 hour to form a conductive composition. Then, the sample was allowed to stand for 5 minutes with a load of 1.5 tons to make the film thickness uniform, and then the conductivity was measured at room temperature (about 25 ° C.) according to JIS K 7194. It was measured with a needle type conductivity measuring device [MCP-T600 (trade name) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation]. The results are shown in Table 1. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 1, ammonium persulfate was 1.27 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

実施例2
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、40質量%濃度のナフタレンスルホン酸4−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。なお、実施例2で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.27モルであった。
Example 2
Conductivity was the same as in Example 1 except that a 40% by mass naphthalene sulfonic acid 4-methylimidazole aqueous solution (pH 5) was used instead of the 40% by mass naphthalene sulfonic acid 2-methyl imidazole aqueous solution (pH 5). An electrically conductive composition was formed and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 2, ammonium persulfate was 1.27 mol with respect to 1 mol of naphthalene sulfonate in the dopant solution.

実施例3
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、40質量%濃度のナフタレンスルホン酸ブチルアミン水溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。なお、実施例3で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.23モルであった。
Example 3
A conductive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that a 40% by weight naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5) was used instead of a 40% by weight naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5). And the conductivity was measured. The results are shown in Table 1. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 3, ammonium persulfate was 1.23 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

実施例4
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、50質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。なお、実施例4で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.02モルであった。
Example 4
Conductivity was the same as in Example 1 except that a 50% by weight naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5) was used instead of the 40% by weight naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5). An electrically conductive composition was formed and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 4, ammonium persulfate was 1.02 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

実施例5
40質量%過硫酸アンモニウム水溶液に代えて、30質量%過硫酸アンモニウム水溶液を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。なお、実施例5で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが0.95モルであった。
Example 5
A conductive composition was formed in the same manner as in Example 1 except that a 30% by mass ammonium persulfate aqueous solution was used instead of the 40% by mass ammonium persulfate aqueous solution, and the conductivity was measured. The results are shown in Table 1. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 5, ammonium persulfate was 0.95 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

実施例6
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。なお、実施例6で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.27モルであった。
Example 6
The same procedure as in Example 1 was performed except that an ethanol solution (pH 5) of naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole having a concentration of 40% by mass was used instead of the aqueous solution of 2-methylimidazole naphthalenesulfonic acid having a concentration of 40% by mass (pH 5). Then, a conductive composition was formed, and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 6, ammonium persulfate was 1.27 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

実施例7
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、60質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。なお、実施例7で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが0.85モルであった。
Example 7
The same procedure as in Example 1 was performed except that an ethanol solution (pH 5) of 2-methylimidazole naphthalenesulfonate having a concentration of 60% by mass was used instead of the aqueous solution of 2-methylimidazole naphthalenesulfonate having a concentration of 40% by mass (pH 5). Then, a conductive composition was formed, and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 7, ammonium persulfate was 0.85 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

比較例1
40質量%過硫酸アンモニウム水溶液に代えて、10質量%過硫酸アンモニウム水溶液を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 1
A conductive composition was formed in the same manner as in Example 1 except that a 10% by mass ammonium persulfate aqueous solution was used instead of the 40% by mass ammonium persulfate aqueous solution, and the conductivity was measured. The results are shown in Table 1.

比較例2
以下のように各操作を変更した以外は実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。40質量%過硫酸アンモニウム水溶液に代えて、10質量%過硫酸アンモニウム水溶液を使用し、40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に含浸後乾燥させたセラミックプレートを、上記過硫酸アンモニウム水溶液に含浸させ、30秒放置後にゆっくり引き上げ、室温で5分間放置した。続いて、上記の手順で過硫酸アンモニウム水溶液に含浸し室温で放置する操作を4回繰り返した後に、100質量%3,4エチレンジオキシチオフェンにセラミックプレートを含浸して、その後は実施例1と同様の操作を行った。導電性組成物の電導度測定の結果を表1に示す。
Comparative Example 2
Except having changed each operation as follows, the electrically conductive composition was formed like Example 1 and the electrical conductivity was measured. A 10% by mass ammonium persulfate aqueous solution was used in place of the 40% by mass ammonium persulfate aqueous solution, and a ceramic plate impregnated in a 40% by mass naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5) was dried. And then slowly pulled up and left at room temperature for 5 minutes. Subsequently, after the operation of impregnating with an aqueous ammonium persulfate solution and allowing to stand at room temperature in the above procedure was repeated 4 times, 100% by mass of 3,4 ethylenedioxythiophene was impregnated with a ceramic plate, and then the same as in Example 1 Was performed. Table 1 shows the results of the conductivity measurement of the conductive composition.

比較例3
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、10質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 3
Conductivity was the same as in Example 1 except that a 10% by weight naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5) was used instead of the 40% by weight naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5). An electrically conductive composition was formed and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1.

比較例4
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、10質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)10mlを10mlのバイアルに入れた。ここに、5×30mm(厚み1mm)のセラミックプレートを含浸させ、30秒放置してからゆっくり引き上げ、その後室温で5分間放置する一連の操作を4回繰り返した。その後は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 4
Instead of a 40% by weight aqueous solution of naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole (pH 5), 10 ml of a 10% by weight aqueous solution of 2-methylimidazole naphthalenesulfonic acid (pH 5) was placed in a 10 ml vial. Here, a series of operations of impregnating a 5 × 30 mm (thickness 1 mm) ceramic plate, leaving it for 30 seconds, slowly raising it, and then leaving it at room temperature for 5 minutes was repeated four times. Thereafter, a conductive composition was formed in the same manner as in Example 1, and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1.

比較例5
40質量%濃度のβナフタレンスルホン酸2メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、40質量%濃度のフェノールスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 5
Conductivity was the same as in Example 1 except that a 40% by mass concentration of 2-methylimidazole aqueous solution of phenol sulfonic acid (pH 5) was used instead of the 40% concentration of β-naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5). An electrically conductive composition was formed and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1.

比較例6
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、40質量%濃度のスルホンイソフタル酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 6
Conductivity was the same as in Example 1 except that a 40% by mass aqueous 2-methylimidazole sulfone isophthalate solution (pH 5) was used instead of the 40% by mass aqueous naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole solution (pH 5). An electrically conductive composition was formed and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1.

比較例7
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、40質量%濃度のブチルナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 7
It replaced with 40 mass% concentration naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5), and it was carried out similarly to Example 1 except having used 40 mass% concentration butyl naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5). A conductive composition was formed and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1.

比較例8
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)に代えて、40質量%濃度のパラトルエンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 8
It replaced with 40 mass% concentration naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5), and carried out similarly to Example 1 except having used 40 mass% concentration para-toluenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5). A conductive composition was formed and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1.

比較例9
40質量%濃度のナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)にかえて、40質量%濃度の1,3,6−ナフタレントリスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を用いた他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 9
Implementation was carried out except that 40% by mass concentration of 1,3,6-naphthalene trisulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5) was used instead of 40% by mass naphthalene sulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5). A conductive composition was formed in the same manner as in Example 1, and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1.

比較例10
40質量%パラトルエンスルホン酸第2鉄のブタノール溶液と、3,4エチレンジオキシチオフェンを質量比で4:1で混合し、10秒間激しく振った後、これにセラミックプレートを含浸し、10秒後にゆっくり引き上げた後、50℃で20分間放置した。その後、洗浄のために、10mlバイアルの中に入っている純水10mlにセラミックプレートを入れて5分間放置し、引き出した後、50℃で5分間乾燥した。この操作を3回繰り返したあと、150℃で1時間乾燥した他は、実施例1と同様にして導電性組成物を形成し、その電導度を測定した。結果を表1に示す。
Comparative Example 10
A 40% by weight solution of ferric paratoluenesulfonate and butanol and 3,4 ethylenedioxythiophene were mixed at a mass ratio of 4: 1, shaken vigorously for 10 seconds, and then impregnated with a ceramic plate. After slowly pulling up later, it was left at 50 ° C. for 20 minutes. Thereafter, for washing, the ceramic plate was placed in 10 ml of pure water contained in a 10 ml vial, left for 5 minutes, pulled out, and dried at 50 ° C. for 5 minutes. After repeating this operation three times, a conductive composition was formed in the same manner as in Example 1 except that it was dried at 150 ° C. for 1 hour, and its conductivity was measured. The results are shown in Table 1.

Figure 0004776338
Figure 0004776338

なお、表1中、「(*1)」は、導電性組成物がまばらに形成されて、導電率の測定が不可能であったことを意味している。   In Table 1, “(* 1)” means that the conductive composition was sparsely formed and the measurement of conductivity was impossible.

表1から明らかなように、実施例1〜7では、優れた導電率を有する導電性組成物が良好に得られたが、濃度の低いドーパント溶液または過硫酸塩溶液を用いた比較例1〜4、ドーパント溶液にナフタレンスルホン酸塩の溶液を用いなかった比較例5〜9では、セラミックプレート表面に酸化剤兼ドーパントである析出物が良好に生成せず、導電性組成物をセラミックプレート表面に均一に形成させることができなかった。特に、比較例2、4では、濃度の低いドーパント溶液や過硫酸塩水溶液への含浸回数を多くしたにも関わらず、析出物の生成および導電性組成物が良好に形成できていないことから、高濃度のドーパント溶液および過硫酸塩溶液を用いることが重要であることが分かる。また、ドーパント溶液に、有機スルホン酸の遷移金属塩の溶液を用いた比較例10では、得られた導電性組成物の導電率が劣っていた。   As is clear from Table 1, in Examples 1 to 7, conductive compositions having excellent conductivity were obtained favorably, but Comparative Examples 1 to 1 using a low concentration dopant solution or persulfate solution. 4. In Comparative Examples 5 to 9 in which a solution of naphthalene sulfonate was not used as the dopant solution, precipitates that were both an oxidant and a dopant were not generated well on the ceramic plate surface, and the conductive composition was formed on the ceramic plate surface. It could not be formed uniformly. In particular, in Comparative Examples 2 and 4, although the number of impregnations with a low concentration dopant solution or persulfate aqueous solution was increased, the formation of precipitates and the conductive composition could not be formed well, It can be seen that it is important to use a high concentration dopant solution and a persulfate solution. Moreover, in the comparative example 10 which used the solution of the transition metal salt of organic sulfonic acid for the dopant solution, the electrical conductivity of the obtained electroconductive composition was inferior.

<析出物(酸化剤兼ドーパント)におけるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率>
実施例1〜7、および比較例2〜4で用いたセラミックプレートに関して、100質量%3,4エチレンジオキシチオフェンに含浸する前の、ドーパント溶液と過硫酸塩水溶液により形成された析出物が付着した状態のセラミックプレート10個ずつを、10mlのバイアルに入れ、そこに蒸留水10mlを入れた。その後、バイアルを密栓した状態で、50℃で1週間放置することにより過硫酸を硫酸に分解し、その上澄み液をイオンクロマトグラフィーにて分析し、ドーパントであるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率(モル比)を分析した。結果を表2に示す。
<Ratio of naphthalene sulfonic acid and persulfuric acid in precipitate (oxidizer and dopant)>
About the ceramic plate used in Examples 1-7 and Comparative Examples 2-4, the deposit formed with the dopant solution and the persulfate aqueous solution before impregnating 100 mass% 3,4 ethylenedioxythiophene adheres. Ten ceramic plates in the above state were put into a 10 ml vial, and 10 ml of distilled water was put therein. Then, with the vial sealed, the persulfuric acid was decomposed into sulfuric acid by leaving it at 50 ° C. for 1 week, and the supernatant was analyzed by ion chromatography. The ratio of naphthalenesulfonic acid as a dopant to persulfuric acid ( Molar ratio) was analyzed. The results are shown in Table 2.

Figure 0004776338
Figure 0004776338

<固体電解コンデンサ(タンタルコンデンサ)での評価>
実施例8
タンタル焼結体をリン酸水溶液に浸漬した後、電圧をかけることによって電解酸化を行い、タンタル焼結体の表面に誘電体被膜を形成させてコンデンサ素子を得た。次に、上記製造例(2)で製造した50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5〜6)に上記コンデンサ素子を含浸させて1分後に取り出し、5分間放置した。その後、このコンデンサ素子を、予め用意しておいた45質量%過硫酸アンモニウム水溶液に含浸させて30秒後に取り出し、室温で10分放置した。その後、このコンデンサ素子を、100質量%3,4エチレンジオキシチオフェンに含浸して5秒後に引き上げ、室温下で60分放置した。その後純水に素子を含浸し、30分間放置した後取り出して、105℃で30分間乾燥させた。この操作を6回繰り返した後、コンデンサ素子に形成された導電性組成物の層をカーボンペーストおよび銀ペーストで覆って、タンタルコンデンサを得た。なお、実施例8で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.14モルであった。
<Evaluation with solid electrolytic capacitors (tantalum capacitors)>
Example 8
After immersing the tantalum sintered body in an aqueous phosphoric acid solution, electrolytic oxidation was performed by applying a voltage, and a dielectric film was formed on the surface of the tantalum sintered body to obtain a capacitor element. Next, the capacitor element was impregnated with the ethanol solution (pH 5 to 6) of 50% by mass of 2-methylimidazole naphthalenesulfonate produced in Production Example (2), taken out after 1 minute, and left for 5 minutes. Thereafter, this capacitor element was impregnated with a 45% by mass ammonium persulfate aqueous solution prepared in advance, taken out after 30 seconds, and left at room temperature for 10 minutes. Thereafter, the capacitor element was impregnated with 100% by mass of 3,4 ethylenedioxythiophene, pulled up after 5 seconds, and left at room temperature for 60 minutes. Thereafter, the device was impregnated with pure water, left for 30 minutes, taken out, and dried at 105 ° C. for 30 minutes. After repeating this operation 6 times, the layer of the conductive composition formed on the capacitor element was covered with a carbon paste and a silver paste to obtain a tantalum capacitor. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution which were used in Example 8, ammonium persulfate was 1.14 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in a dopant solution.

実施例9
50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、60質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。なお、実施例9で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが0.95モルであった。
Example 9
Tantalum was obtained in the same manner as in Example 8, except that an ethanol solution (pH 5) of 60% by mass of 2-methylimidazole naphthalene sulfonate was used instead of an ethanol solution (pH 5) of 50% by mass of 2-methylimidazole naphthalene sulfonate. A capacitor was produced. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 9, ammonium persulfate was 0.95 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

実施例10
50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールの溶液[溶媒は、水:エタノール=5:5(質量比)、pH5]を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。なお、実施例10で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.14モルであった。
Example 10
Instead of an ethanol solution (pH 5) of 50% by mass of naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole, a solution of 50% by mass of naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole [solvent is water: ethanol = 5: 5 (mass ratio), pH 5]. A tantalum capacitor was fabricated in the same manner as in Example 8 except that was used. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 10, ammonium persulfate was 1.14 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

実施例11
50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、50質量%ナフタレンスルホン酸4−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。なお、実施例11用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.14モルであった。
Example 11
Tantalum was obtained in the same manner as in Example 8 except that an ethanol solution (pH 5) of 50 mass% naphthalenesulfonic acid 4-methylimidazole was used instead of an ethanol solution (pH 5) of 2-methylimidazole 50 mass% naphthalenesulfonic acid. A capacitor was produced. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 11, ammonium persulfate was 1.14 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

実施例12
50質量%ナフタレンスルホン酸2メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、上記製造例(3)で製造したβ:α=90:10(モル比)であるナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールの50質量%エタノール溶液(pH5)を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。なお、実施例12で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.14モルであった。
Example 12
50% by mass of 2-methylimidazole naphthalene sulfonate having a β: α = 90: 10 (molar ratio) produced in the above production example (3) instead of an ethanol solution (pH 5) of 50% by mass of 2-methylimidazole naphthalene sulfonate A tantalum capacitor was produced in the same manner as in Example 8 except that a mass% ethanol solution (pH 5) was used. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 12, ammonium persulfate was 1.14 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

実施例13
50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。なお、実施例13で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.14モルであった。
Example 13
A tantalum capacitor was prepared in the same manner as in Example 8 except that a 50% by mass naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5) was used instead of the 50% by mass naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole ethanol solution (pH 5). Produced. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 13, ammonium persulfate was 1.14 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

実施例14
コンデンサ素子を含浸する順序を入れ替えて、先に45質量%過硫酸アンモニウム水溶液に含浸させ、次に50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に含浸させるようにした他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。なお、実施例14で用いたドーパント溶液と過硫酸アンモニウム水溶液では、ドーパント溶液中のナフタレンスルホン酸塩1モルに対して、過硫酸アンモニウムが1.14モルであった。
Example 14
The order in which the capacitor elements were impregnated was changed, and the impregnation was carried out with the exception that 45 mass% ammonium persulfate aqueous solution was impregnated first and then 50 mass% naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole ethanol solution (pH 5). A tantalum capacitor was produced in the same manner as in Example 8. In addition, in the dopant solution and ammonium persulfate aqueous solution used in Example 14, ammonium persulfate was 1.14 mol with respect to 1 mol of naphthalenesulfonate in the dopant solution.

比較例11
50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、10質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。
Comparative Example 11
Tantalum was obtained in the same manner as in Example 8 except that an ethanol solution (pH 5) of 10% by mass of 2-methylimidazole naphthalenesulfonate was used instead of an ethanol solution (pH 5) of 2-methylimidazole of 50% by mass naphthalene sulfonate. A capacitor was produced.

比較例12
50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、10質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)を使用し、その溶液にコンデンサ素子(タンタル焼結体)を含浸させ、1分後に取り出して5分間放置する操作を5回繰り返した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。
Comparative Example 12
Instead of an ethanol solution (pH 5) of 50% by mass of 2-methylimidazole naphthalenesulfonate, an ethanol solution (pH 5) of 10% by mass of 2-methylimidazole naphthalenesulfonate was used, and a capacitor element (tantalum sintered body) was used as the solution. The tantalum capacitor was manufactured in the same manner as in Example 8, except that the operation of taking out the sample and then taking it out for 5 minutes was repeated 5 times.

比較例13
45質量%過硫酸アンモニウム水溶液に代えて、15質量%過硫酸アンモニウム水溶液を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。
Comparative Example 13
A tantalum capacitor was fabricated in the same manner as in Example 8 except that a 15% by mass ammonium persulfate aqueous solution was used instead of the 45% by mass ammonium persulfate aqueous solution.

比較例14
45質量%過硫酸アンモニウム水溶液に代えて、15質量%過硫酸アンモニウム水溶液を使用し、その溶液にコンデンサ素子を含浸させ、30秒後に取り出して室温で10分放置する操作を3回繰り返した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。
Comparative Example 14
In place of the 45 mass% ammonium persulfate aqueous solution, a 15 mass% ammonium persulfate aqueous solution was used. The capacitor element was impregnated with the solution, taken out after 30 seconds and allowed to stand at room temperature for 10 minutes. A tantalum capacitor was produced in the same manner as in Example 8.

比較例15
50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、50質量%フェノールスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。
Comparative Example 15
A tantalum capacitor was prepared in the same manner as in Example 8 except that a 50% by mass aqueous solution of 2-methylimidazole of phenolsulfonic acid (pH 5) was used instead of the ethanol solution (pH 5) of 50% by mass of naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole. Produced.

比較例16
50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、50質量%パラトルエンスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。
Comparative Example 16
A tantalum capacitor in the same manner as in Example 8 except that a 50% by mass para-toluenesulfonic acid 2-methylimidazole aqueous solution (pH 5) was used instead of the 50% by mass naphthalenesulfonic acid 2-methylimidazole ethanol solution (pH 5). Was made.

比較例17
50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、50質量%ブチルスルホン酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。
Comparative Example 17
A tantalum capacitor was prepared in the same manner as in Example 8 except that a 50% by mass aqueous solution of 2-methylimidazole of 2-methylimidazole (pH 5) was used instead of the ethanol solution (pH 5) of 2-methylimidazole of 50% by mass naphthalene sulfonate. Produced.

比較例18
50質量%ナフタレンスルホン酸2−メチルイミダゾールのエタノール溶液(pH5)に代えて、50質量%スルホイソフタル酸2−メチルイミダゾール水溶液(pH5)を使用した他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。
Comparative Example 18
A tantalum capacitor was prepared in the same manner as in Example 8 except that a 50% by weight aqueous solution of 2-methylimidazole sulfoisophthalate (pH 5) was used instead of an ethanol solution (pH 5) of 50% by weight 2-methylimidazole naphthalenesulfonic acid. Produced.

比較例19
ドーパント溶液と過硫酸塩水溶液を用いる代わりに、パラトルエンスルホン酸第2鉄の40質量%エタノール溶液を用いた他は、実施例8と同様にしてタンタルコンデンサを作製した。
Comparative Example 19
A tantalum capacitor was fabricated in the same manner as in Example 8 except that a 40 mass% ethanol solution of ferric paratoluenesulfonate was used instead of the dopant solution and the persulfate aqueous solution.

実施例8〜14において、コンデンサ素子をドーパント溶液と過硫酸塩水溶液に含浸させることで形成させた析出物について、実施例1と同様にしてナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率を求めた。結果を表3に示す。   In Examples 8 to 14, the ratio of naphthalene sulfonic acid and persulfuric acid was determined in the same manner as in Example 1 for the precipitate formed by impregnating the capacitor element with the dopant solution and the persulfate aqueous solution. The results are shown in Table 3.

Figure 0004776338
Figure 0004776338

また、実施例8〜14および比較例11〜19のタンタルコンデンサについて、静電容量とESRを下記方法により測定した。結果を表4に示す。   Moreover, about the tantalum capacitor of Examples 8-14 and Comparative Examples 11-19, the electrostatic capacitance and ESR were measured with the following method. The results are shown in Table 4.

静電容量:
HEWLETT PACKARD社製のLCRメーター(4284A)を用い、25℃、120Hzで静電容量を測定した。
Capacitance:
The capacitance was measured at 25 ° C. and 120 Hz using an LCR meter (4284A) manufactured by HEWLETT PACKARD.

ESR:
HEWLETT PACKARD社製のLCRメーター(4284A)を用い、25℃、100kHzでESRを測定した。
ESR:
ESR was measured at 25 ° C. and 100 kHz using an LCR meter (4284A) manufactured by HEWLETT PACKARD.

Figure 0004776338
Figure 0004776338

なお、表4における「(*2)」は、コンデンサ素子全体を導電性組成物で覆うことができなかったため、静電容量およびESRの測定を実施していないことを意味している。   Note that “(* 2)” in Table 4 means that the capacitance and ESR were not measured because the entire capacitor element could not be covered with the conductive composition.

表4から明らかなように、実施例8〜14のタンタルコンデンサは、良好な静電容量とESRを示している。特に、ドーパント溶液の溶媒にアルコールであるエタノールを用いた実施例8〜12,14のタンタルコンデンサでは、ドーパント溶液を水溶液とした実施例13のタンタルコンデンサよりも、静電容量、ESRとも良好である。   As is apparent from Table 4, the tantalum capacitors of Examples 8 to 14 show good capacitance and ESR. In particular, the tantalum capacitors of Examples 8 to 12 and 14 using ethanol as an alcohol as the solvent of the dopant solution are better in both capacitance and ESR than the tantalum capacitor of Example 13 in which the dopant solution is an aqueous solution. .

これに対して、低濃度のドーパント溶液または過硫酸塩水溶液を用いた比較例11〜14のタンタルコンデンサ、およびドーパント溶液にナフタレンスルホン酸塩の溶液を用いなかった比較例15〜18のタンタルコンデンサは、コンデンサ素子表面に酸化剤兼ドーパントである析出物が良好に生成せず、コンデンサ素子全体を導電性組成物で覆うことができなかったため、固体電解コンデンサとして有効に機能し得るものではなかった。特に、比較例12、14では、濃度の低いドーパント溶液や過硫酸塩水溶液への含浸回数を多くしたにも関わらず、導電性組成物でコンデンサ素子を良好に覆うことができていないことから、高濃度のドーパント溶液および過硫酸塩溶液を用いることが重要であることが分かる。なお、ドーパント溶液に、有機スルホン酸の遷移金属塩の溶液を用いた比較例19のタンタルコンデンサでは、静電容量、ESRとも、実施例8〜14のタンタルコンデンサと同レベルであった。   In contrast, the tantalum capacitors of Comparative Examples 11 to 14 using a low-concentration dopant solution or a persulfate aqueous solution, and the tantalum capacitors of Comparative Examples 15 to 18 using no naphthalene sulfonate solution as the dopant solution In addition, precipitates as an oxidizer and a dopant were not generated well on the surface of the capacitor element, and the entire capacitor element could not be covered with the conductive composition, so that it could not function effectively as a solid electrolytic capacitor. In particular, in Comparative Examples 12 and 14, although the number of impregnations with a low-concentration dopant solution or persulfate aqueous solution was increased, the capacitor element could not be satisfactorily covered with the conductive composition. It can be seen that it is important to use a high concentration dopant solution and a persulfate solution. In the tantalum capacitor of Comparative Example 19 in which the organic sulfonic acid transition metal salt solution was used as the dopant solution, both the capacitance and ESR were at the same level as the tantalum capacitors of Examples 8-14.

上記の実施例8〜14および比較例19のタンタルコンデンサを40個作製し、その中から無作為に選んだ各20個について、125℃で300時間放置した後の静電容量とESRを測定し、実施例・比較例毎に平均値を求めた。結果を表5に示す。   40 tantalum capacitors of Examples 8 to 14 and Comparative Example 19 described above were prepared, and 20 capacitors randomly selected from the tantalum capacitors were measured for capacitance and ESR after being left at 125 ° C. for 300 hours. The average value was determined for each of the examples and comparative examples. The results are shown in Table 5.

Figure 0004776338
Figure 0004776338

表5から明らかなように、実施例8〜14のタンタルコンデンサでは、125℃で300時間放置した後においても、静電容量およびESRがほぼ維持されており、長期信頼性が優れているのに対し、比較例19のタンタルコンデンサでは、上記放置後の静電容量およびESRが悪化している。   As is apparent from Table 5, the tantalum capacitors of Examples 8 to 14 are substantially maintained in capacitance and ESR even after being left at 125 ° C. for 300 hours, and have excellent long-term reliability. On the other hand, in the tantalum capacitor of Comparative Example 19, the electrostatic capacity and ESR after being left standing are deteriorated.

Claims (18)

ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩の少なくとも1種を、20質量%以上の濃度で含有している導電性高分子用ドーパント溶液と、過硫酸塩を20質量%以上の濃度で含有する水溶液で構成され、上記導電性高分子用ドーパント溶液の含有するナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩1モルに対して、上記過硫酸塩水溶液の含有する過硫酸塩が0.3〜2.5モルであることを特徴とする導電性高分子用酸化剤兼ドーパント溶液Conductive polymer dopant solution containing at least one alkylamine salt or imidazole salt of naphthalenesulfonic acid at a concentration of 20% by mass or more, and an aqueous solution containing persulfate at a concentration of 20% by mass or more. The persulfate contained in the persulfate aqueous solution is 0.3 to 2.5 per 1 mol of the alkylamine salt or imidazole salt of naphthalenesulfonic acid contained in the dopant solution for conductive polymer. An oxidizing agent / dopant solution for a conductive polymer, characterized in that it is a mole. 導電性高分子用ドーパント溶液におけるナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩の少なくとも1種の濃度が、40質量%以上である請求項1に記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパント溶液 The oxidizing agent / dopant solution for a conductive polymer according to claim 1, wherein the concentration of at least one of an alkylamine salt or an imidazole salt of naphthalenesulfonic acid in the conductive polymer dopant solution is 40% by mass or more . ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩のうち、βナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩の含有率が、95モル%以上である請求項1または2に記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパント溶液 The oxidant for conductive polymer according to claim 1 or 2, wherein the content of the alkylamine salt or imidazole salt of β-naphthalenesulfonic acid among the alkylamine salt or imidazole salt of naphthalenesulfonic acid is 95 mol% or more. Cum dopant solution . 導電性高分子用ドーパント溶液が、更に乳化剤を含有する請求項1〜3のいずれかに記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパント溶液 The oxidant and dopant solution for a conductive polymer according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive polymer dopant solution further contains an emulsifier . 乳化剤が、炭素数1〜20のアルキル基を有するアルキルアミンオキサイドである請求項4に記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパント溶液 The oxidant / dopant solution for a conductive polymer according to claim 4, wherein the emulsifier is an alkylamine oxide having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms . ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩を構成するアルキルアミンのアルキル基は、炭素数が1〜12である請求項1〜5のいずれかに記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパント溶液 The oxidant and dopant solution for a conductive polymer according to any one of claims 1 to 5, wherein the alkyl group of the alkylamine constituting the alkylamine salt of naphthalenesulfonic acid has 1 to 12 carbon atoms . ナフタレンスルホン酸のイミダゾール塩を構成するイミダゾールは、その2位または4位が、炭素数1〜20のアルキル基またはフェニル基で置換されている請求項1〜5のいずれかに記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパント溶液 The imidazole constituting the imidazole salt of naphthalene sulfonic acid is substituted at the 2- or 4-position with an alkyl group or phenyl group having 1 to 20 carbon atoms. Molecular oxidant and dopant solution . 導電性高分子用ドーパント溶液のpHが1以上である請求項1〜7のいずれかに記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパント溶液 The pH of the dopant solution for conductive polymers is 1 or more, The oxidizing agent and dopant solution for conductive polymers according to any one of claims 1 to 7 . 導電性高分子用ドーパント溶液のpHが4以上である請求項8に記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパント溶液 The oxidant and dopant solution for a conductive polymer according to claim 8, wherein the pH of the dopant solution for the conductive polymer is 4 or more . 導電性高分子用ドーパント溶液の全溶媒のうち、アルコールが5質量%以上である請求項1〜9のいずれかに記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパント溶液 Alcohol is 5 mass% or more among all the solvents of the dopant solution for conductive polymers, The oxidizing agent and dopant solution for conductive polymers in any one of Claims 1-9 . ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩の少なくとも1種を、20質量%以上の濃度で含有している導電性高分子用ドーパント溶液と、過硫酸塩を20質量%以上の濃度で含有する水溶液を接触させることにより生成する析出物であり、下記方法によって測定されるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率が、ナフタレンスルホン酸1モルに対して、過硫酸0.3〜2.5モルであることを特徴とする導電性高分子用酸化剤兼ドーパント。
ここで、上記析出物におけるナフタレンスルホン酸と過硫酸の比率は、該析出物を蒸留水に入れて密封し、50℃で1週間放置させて過硫酸を硫酸に分解した後に、その上澄み液をイオンクロマトグラフィーで分析することにより得られるナフタレンスルホン酸と硫酸の比率として求める。
Conductive polymer dopant solution containing at least one alkylamine salt or imidazole salt of naphthalenesulfonic acid at a concentration of 20% by mass or more, and an aqueous solution containing persulfate at a concentration of 20% by mass or more. The ratio of naphthalene sulfonic acid and persulfuric acid measured by the following method is 0.3 to 2.5 mol persulfuric acid per 1 mol of naphthalene sulfonic acid. An oxidizing agent and dopant for conductive polymers, characterized by
Here, the ratio of naphthalenesulfonic acid and persulfuric acid in the precipitate is determined by putting the precipitate in distilled water, sealing it, and allowing it to stand at 50 ° C. for 1 week to decompose persulfuric acid into sulfuric acid. Obtained as the ratio of naphthalene sulfonic acid and sulfuric acid obtained by analysis by ion chromatography.
請求項11に記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパントとチオフェンまたはその誘導体との反応により形成されたことを特徴とする導電性組成物。 A conductive composition formed by a reaction of the oxidant and dopant for a conductive polymer according to claim 11 with thiophene or a derivative thereof. 請求項11に記載の導電性高分子用酸化剤兼ドーパントとチオフェンまたはその誘導体との反応により形成された導電性組成物を、固体電解質として有することを特徴とする固体電解コンデンサ。 A solid electrolytic capacitor comprising, as a solid electrolyte, a conductive composition formed by a reaction between the oxidant and dopant for a conductive polymer according to claim 11 and thiophene or a derivative thereof. アルミニウム、タンタルまたはニオブで構成されたコンデンサ素子を有する請求項13に記載の固体電解コンデンサ。 The solid electrolytic capacitor according to claim 13 , comprising a capacitor element made of aluminum, tantalum, or niobium. ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩の少なくとも1種を、20質量%以上の濃度で含有している導電性高分子用ドーパント溶液をコンデンサ素子に浸み込ませた後に、過硫酸塩を20質量%以上の濃度で含有する水溶液に上記コンデンサ素子を浸漬するか、または過硫酸塩を20質量%以上の濃度で含有する水溶液をコンデンサ素子に浸み込ませた後に、ナフタレンスルホン酸のアルキルアミン塩またはイミダゾール塩の少なくとも1種を、20質量%以上の濃度で含有している導電性高分子用ドーパント溶液に上記コンデンサ素子を浸漬することにより、導電性高分子用酸化剤兼ドーパントを析出させる工程(A)と、
上記導電性高分子用酸化剤兼ドーパントとチオフェンまたはその誘導体とを反応させて導電性組成物を形成させる工程(B)と、
上記導電性組成物を有するコンデンサ素子を用いて固体電解コンデンサを組み立てる工程(C)
を有することを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
After impregnating the capacitor element with a conductive polymer dopant solution containing at least one of an alkylamine salt or an imidazole salt of naphthalenesulfonic acid at a concentration of 20% by mass or more, 20 persulfate is added. After immersing the capacitor element in an aqueous solution containing a concentration of not less than mass%, or soaking an aqueous solution containing a persulfate concentration of not less than 20 mass% into the capacitor element, an alkylamine of naphthalene sulfonic acid By immersing the capacitor element in a conductive polymer dopant solution containing at least one salt or imidazole salt at a concentration of 20% by mass or more , the conductive polymer oxidizing agent / dopant is deposited. Step (A);
A step (B) of reacting the oxidant and dopant for a conductive polymer with thiophene or a derivative thereof to form a conductive composition;
Step of assembling a solid electrolytic capacitor using the capacitor element having the conductive composition (C)
A method for producing a solid electrolytic capacitor, comprising:
上記工程(A)に続いて上記工程(B)を実施する一連の操作を、2回以上繰り返した後に、上記工程(C)を実施する請求項15に記載の固体電解コンデンサの製造方法。 The manufacturing method of the solid electrolytic capacitor of Claim 15 which implements the said process (C), after repeating the series of operation which implements the said process (B) following the said process (A) twice or more. 上記工程(A)において、過硫酸塩を40質量%以上の濃度で含有する水溶液を使用する請求項15または16に記載の固体電解コンデンサの製造方法。 The method for producing a solid electrolytic capacitor according to claim 15 or 16 , wherein an aqueous solution containing persulfate at a concentration of 40% by mass or more is used in the step (A). アルミニウム、タンタルまたはニオブで構成されたコンデンサ素子を使用する請求項1517のいずれかに記載の固体電解コンデンサの製造方法。 Aluminum, the manufacturing method of solid electrolytic capacitor according to any one of claims 15-17 for use a capacitor element composed of a tantalum or niobium.
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