JP4774917B2 - マスクパターンの検査装置及び検査方法 - Google Patents
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Description
レジストレーション情報および重ね合わせスペックライブラリを記憶する記憶手段と、
マスクパターンの画像データを入力する入力手段と、
入力手段により得られたマスクパターンについて転写シミュレーションを実施し対象基板上での画像データを得るシミュレーション手段と、
入力手段およびシミュレーション手段から、欠陥のあるマスクパターンの対象基板上の画像データ(1)と、前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンの対象基板上での画像データ(2)とを得、予め記憶手段に記憶させていたレジストレーション情報を利用して、前記画像データ(1)と前記画像データ(2)とを同一座標について重ね合わせ、欠陥の発生したパターンについて、前記欠陥のあるマスクパターンと、前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンとの間の対象基板上での包含距離を求める包含距離算出手段と、
前記欠陥のあるマスクパターンと、前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンとの間の包含距離が、予め記憶手段に記憶させていた重ね合わせスペックライブラリから取り出したスペック情報を満足するか否かを判定する包含判定手段と、
判定した結果を出力する出力手段と、
を有することを特徴とするマスクパターンの検査装置としたものである。
欠陥のあるマスクパターンの画像データを入力させ、入力させて得られたマスクパターンについて転写シミュレーションを実施し対象基板上での画像データ(1)を得る工程と、
前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンの画像データを入力させ、入力させて得られたマスクパターンについて転写シミュレーションを実施し対象基板上での画像データ(2)を得る工程と、
予め記憶手段に記憶させていたレジストレーション情報を利用して、前記画像データ(1)と前記画像データ(2)とを同一座標について重ね合わせ、欠陥の発生したパターンについて、前記欠陥のあるマスクパターンと、前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンとの間の対象基板上での包含距離を求める工程と、
前記欠陥のあるマスクパターンと、前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンとの間の包含距離が、予め記憶手段に記憶させていた重ね合わせスペックライブラリから取り出したスペック情報を満足するか否かを判定する工程と、
判定した結果を出力する工程と、
を有することを特徴とするマスクパターンの検査方法としたものである。
タをGDS2等のCADデータに変換し、デザインルールチェックソフトで算出する手法などを採用できる。
従来の比較検査機により検出したレイヤーAの欠陥を含む領域の画像データを、入力手段で入力し、シミュレーション手段で転写シミュレーションを実施する(S1)。次にレイヤーAと包含関係にあるレイヤーBの、レイヤーAの欠陥を含む領域と同じ領域の画像データを、同様に入力し転写シミュレーションを実施する(S2)。予め記憶手段に記憶させていたレジストレーション情報(M1)を利用して、包含距離算出手段によりシミュレーション結果のレイヤーAの欠陥部分とレイヤーBの同一座標箇所を重ね合わせる(S3)。レジストレーション情報は、レイヤーA、レイヤーBのマスク作成時に生じたズレについての情報であって、これを基に、座標の補正を行う。この結果を重ね合わせる。レジストレーション情報は入力手段で入力するようにしても良い。引き続き包含距離算出手段により、重ね合わせたデータからレイヤー間の包含距離を算出する(S4)。次に包含判定手段により、予め記憶手段に記憶させていた重ね合わせスペックライブラリ(M2)からスペックを取り出し、算出した包含距離がスペックを満たすか判定する(S5)。満たしていない場合、出力手段によりロットストップ指示を出力し、満たしている場合、ロット進行指示を出力する。
2・・・・・シミュレーション手段
3・・・・・包含距離算出手段
4・・・・・包含判定手段
5・・・・・出力手段
6・・・・・記憶手段
10・・・・マスクパターンの検査装置
Claims (2)
- 対象基板上にパターン露光し半導体装置を製造するための露光装置に用いるマスクパターンの検査装置において、
レジストレーション情報および重ね合わせスペックライブラリを記憶する記憶手段と、
マスクパターンの画像データを入力する入力手段と、
入力手段により得られたマスクパターンについて転写シミュレーションを実施し対象基板上での画像データを得るシミュレーション手段と、
入力手段およびシミュレーション手段から、欠陥のあるマスクパターンの対象基板上の画像データ(1)と、前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンの対象基板上での画像データ(2)とを得、予め記憶手段に記憶させていたレジストレーション情報を利用して、前記画像データ(1)と前記画像データ(2)とを同一座標について重ね合わせ、欠陥の発生したパターンについて、前記欠陥のあるマスクパターンと、前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンとの間の対象基板上での包含距離を求める包含距離算出手段と、
前記欠陥のあるマスクパターンと、前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンとの間の包含距離が、予め記憶手段に記憶させていた重ね合わせスペックライブラリから取り出したスペック情報を満足するか否かを判定する包含判定手段と、
判定した結果を出力する出力手段と、
を有することを特徴とするマスクパターンの検査装置。 - 対象基板上にパターン露光し半導体装置を製造するための露光装置に用いるマスクパターンの検査方法において、
欠陥のあるマスクパターンの画像データを入力させ、入力させて得られたマスクパターンについて転写シミュレーションを実施し対象基板上での画像データ(1)を得る工程と、
前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンの画像データを入力させ、入力させて得られたマスクパターンについて転写シミュレーションを実施し対象基板上での画像データ(2)を得る工程と、
予め記憶手段に記憶させていたレジストレーション情報を利用して、前記画像データ(1)と前記画像データ(2)とを同一座標について重ね合わせ、欠陥の発生したパターン
について、前記欠陥のあるマスクパターンと、前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンとの間の対象基板上での包含距離を求める工程と、
前記欠陥のあるマスクパターンと、前記欠陥のあるマスクパターンとパターンが包含関係にある他のマスクパターンとの間の包含距離が、予め記憶手段に記憶させていた重ね合わせスペックライブラリから取り出したスペック情報を満足するか否かを判定する工程と、
判定した結果を出力する工程と、
を有することを特徴とするマスクパターンの検査方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005312516A JP4774917B2 (ja) | 2005-10-27 | 2005-10-27 | マスクパターンの検査装置及び検査方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005312516A JP4774917B2 (ja) | 2005-10-27 | 2005-10-27 | マスクパターンの検査装置及び検査方法 |
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JP2007121607A JP2007121607A (ja) | 2007-05-17 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005312516A Expired - Fee Related JP4774917B2 (ja) | 2005-10-27 | 2005-10-27 | マスクパターンの検査装置及び検査方法 |
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