JP4765511B2 - Device mounting structure, device mounting method, electronic apparatus, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus - Google Patents

Device mounting structure, device mounting method, electronic apparatus, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP4765511B2
JP4765511B2 JP2005275430A JP2005275430A JP4765511B2 JP 4765511 B2 JP4765511 B2 JP 4765511B2 JP 2005275430 A JP2005275430 A JP 2005275430A JP 2005275430 A JP2005275430 A JP 2005275430A JP 4765511 B2 JP4765511 B2 JP 4765511B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
flexible substrate
members
droplet discharge
forming substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005275430A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2007088227A (en
Inventor
峰宏 今村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2005275430A priority Critical patent/JP4765511B2/en
Publication of JP2007088227A publication Critical patent/JP2007088227A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4765511B2 publication Critical patent/JP4765511B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、デバイス実装構造、デバイス実装方法、電子装置、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置に関する。   The present invention relates to a device mounting structure, a device mounting method, an electronic apparatus, a droplet discharge head, and a droplet discharge apparatus.

ICチップ等の駆動デバイスを回路基板上に配置し電気的に接続する方法として、従来からワイヤボンディング法が知られている。例えば、画像の形成やマイクロデバイスの製造に際して液滴吐出法(インクジェット法)を適用する場合に用いられる液滴吐出ヘッド(インクジェット式記録ヘッド)においても、インク吐出動作を行うための圧電素子と、圧電素子に電気信号を供給する駆動回路部(ICチップ等)との接続に、ワイヤボンディング法が用いられている(例えば特許文献1及び特許文献2参照)。
特開2003−159800号公報 特開2004−284176号公報
Conventionally, a wire bonding method is known as a method of arranging and electrically connecting a driving device such as an IC chip on a circuit board. For example, even in a droplet discharge head (inkjet recording head) used when applying a droplet discharge method (inkjet method) in forming an image or manufacturing a microdevice, a piezoelectric element for performing an ink discharge operation; A wire bonding method is used for connection to a drive circuit unit (IC chip or the like) that supplies an electric signal to a piezoelectric element (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).
JP 2003-159800 A JP 2004-284176 A

近年ICチップ等の高集積化に伴いICチップ等の外部接続端子が狭小化、狭ピッチ化される傾向にある。それに伴いベース基板上に形成される配線パターンも狭ピッチ化される傾向にある。そのため、上記ワイヤボンディングを用いた接続方法の適用が困難になりつつある。   In recent years, along with the high integration of IC chips and the like, external connection terminals such as IC chips tend to be narrowed and narrowed. Accordingly, the wiring pattern formed on the base substrate tends to be narrowed. Therefore, it is becoming difficult to apply the connection method using the wire bonding.

また、液滴吐出法に基づいて画像形成やマイクロデバイス製造を行う方法にあっては、画像の高精細化やマイクロデバイスの微細化を実現するために、液滴吐出ヘッドに設けられたノズル開口部同士の間の距離(ノズルピッチ)をできるだけ小さく(狭く)することが好ましい。上記圧電素子はノズル開口部に対応して複数形成されるため、ノズルピッチを小さくすると、そのノズルピッチに応じて圧電素子同士の間の距離も小さくする必要がある。このように圧電素子同士の間の距離が小さくなると、それら複数の圧電素子のそれぞれとドライバICとをワイヤボンディングの手法によって接続することが困難となる。   In addition, in the method of forming an image and manufacturing a micro device based on the droplet discharge method, a nozzle opening provided in the droplet discharge head is used in order to realize high definition of the image and miniaturization of the micro device. It is preferable to make the distance (nozzle pitch) between the portions as small as possible (narrow). Since a plurality of the piezoelectric elements are formed corresponding to the nozzle openings, when the nozzle pitch is reduced, it is necessary to reduce the distance between the piezoelectric elements in accordance with the nozzle pitch. When the distance between the piezoelectric elements becomes small in this way, it becomes difficult to connect each of the plurality of piezoelectric elements and the driver IC by a wire bonding technique.

さらに、電子装置のコンパクト化に伴って、ICチップ等のデバイスによる段差や、ベース基板の形状に起因する段差を介してデバイスとベース基板の配線とを電気的に接続する必要性が高まっている。   Further, with the downsizing of electronic devices, there is an increasing need to electrically connect the device and the wiring of the base substrate through steps due to devices such as IC chips and steps due to the shape of the base substrate. .

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、配線の狭ピッチ化や段差を介した配線接続に好ましく適用可能なデバイス実装構造等を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and an object of the present invention is to provide a device mounting structure and the like that can be preferably applied to a wiring pitch reduction or wiring connection through a step.

本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
本発明に係るデバイス実装構造は、複数の部材を接合して形成される基体に対してデバイスを搭載すると共に、前記基体と前記デバイスとをフレキシブル基板を介して電気接続してなるデバイス実装構造であって、前記フレキシブル基板と前記基体との接続部は、前記部材同士の接合部と一体に形成されると共に、前記フレキシブル基板と前記基体との接続部及び/又は前記フレキシブル基板と前記デバイスとの接続部には、前記部材同士を接合するための樹脂と略同一硬化条件を有すると共に導電性粒子が混練された接合樹脂が配置されることを特徴とする。
この発明によれば、複数の部材を接着剤で固化するのと同時に、フレキシブル基板と基体及び/又はフレキシブル基板とデバイスとの電気的接続を行うことが可能となり、製造効率の向上が図られる。また、部材同士の接合と同時に、フレキシブル基板と基体とを電気的に接続することができる。また、デバイス実装構造のコンパクト化が図られる。
The present invention employs the following means in order to solve the above problems.
A device mounting structure according to the present invention is a device mounting structure in which a device is mounted on a base formed by joining a plurality of members, and the base and the device are electrically connected via a flexible substrate. The connecting portion between the flexible substrate and the base is formed integrally with the joint portion between the members, and the connecting portion between the flexible substrate and the base and / or the flexible substrate and the device. The connecting portion is characterized in that a bonding resin having substantially the same curing conditions as the resin for bonding the members to each other and kneaded with conductive particles is disposed.
According to the present invention, it is possible to electrically connect the flexible substrate and the base and / or the flexible substrate and the device simultaneously with solidifying the plurality of members with the adhesive, thereby improving the manufacturing efficiency. In addition, the flexible substrate and the base can be electrically connected simultaneously with the joining of the members. In addition, the device mounting structure can be made compact.

また、前記接合部を構成する前記部材の一方は、前記フレキシブル基板の厚みと略同一深さを有して前記フレキシブル基板を収容する堀込部を備えるものでは、フレキシブル基板と基体との接続部と、部材同士の接合部とを良好に一体化させることが可能となる。
また、前記部材のうちの少なくとも1つは、他の部材とは異なる材質からなるものでは、熱変形が発生しないように低温で固化する接着樹脂を用いたとしても、略同一硬化条件を有する接合樹脂を用いているので、フレキシブル基板と基体等の電気的接続を確実に行うことができる。
In addition, one of the members constituting the joining portion includes a digging portion that has substantially the same depth as the flexible substrate and accommodates the flexible substrate. It becomes possible to satisfactorily integrate the joint portion between the members.
Further, at least one of the members is made of a material different from that of the other members. Even if an adhesive resin that is solidified at a low temperature so as not to cause thermal deformation is used, the bonding has substantially the same curing conditions. Since the resin is used, electrical connection between the flexible substrate and the base can be reliably performed.

本発明に係るデバイス実装方法は、複数の部材を接合して形成される基体に対してデバイスを搭載すると共に、前記基体と前記デバイスとをフレキシブル基板を介して電気接続してなるデバイス実装方法であって、前記フレキシブル基板と前記基体との接続部を前記部材同士の接合部と一体に形成すると共に、前記部材同士を接合すると同時に、前記フレキシブル基板と前記基体との電気接続及び/又は前記デバイスとの電気接続を行うことを特徴とする。
この発明によれば、複数の部材を接着剤で固化するのと同時に、フレキシブル基板と基体及び/又はフレキシブル基板とデバイスとの電気的接続を行うことが可能となり、製造効率の向上が図られる。また、部材同士の接合と同時に、フレキシブル基板と基体とを電気的に接続することができる。また、デバイス実装構造のコンパクト化が図られる。
A device mounting method according to the present invention is a device mounting method in which a device is mounted on a base formed by joining a plurality of members, and the base and the device are electrically connected via a flexible substrate. In addition , the connection portion between the flexible substrate and the base is formed integrally with the joint portion between the members, and the members are joined together, and at the same time, the electrical connection between the flexible substrate and the base and / or the device. And electrical connection.
According to the present invention, it is possible to electrically connect the flexible substrate and the base and / or the flexible substrate and the device simultaneously with solidifying the plurality of members with the adhesive, thereby improving the manufacturing efficiency. In addition, the flexible substrate and the base can be electrically connected simultaneously with the joining of the members. In addition, the device mounting structure can be made compact.

また、前記部材同士を接合するに先立って、前記フレキシブル基板を前記部材に接合するものでは、その後に前記部材同士を接合することで、同時にフレキシブル基板と基体等の電気的接続が行われるようになる。
また、前記部材のうちの少なくとも1つは他の部材とは異なる材質からなると共に、前記部材同士を接合する工程において、熱処理を行うものでは、熱変形が発生しないように低温で接着樹脂を固化させたとしても、略同一硬化条件を有する接合樹脂を用いているので、フレキシブル基板と基体等の電気的接続を確実に行うことができる。
In addition, in the case where the flexible substrate is bonded to the member prior to bonding the members, the flexible substrate and the base are electrically connected at the same time by bonding the members thereafter. Become.
In addition, at least one of the members is made of a material different from that of the other members, and in the step of joining the members, heat treatment is performed, and the adhesive resin is solidified at a low temperature so that thermal deformation does not occur. Even if it makes it, since the joining resin which has substantially the same hardening conditions is used, electrical connection with a flexible substrate, a base | substrate, etc. can be performed reliably.

本発明に係る電子装置は、電子機器が、前述のデバイス実装構造を用いて基体上に実装された電子デバイスを備えるようにした。また、電子機器が、前述のデバイス実装方法を用いて基体上に実装された電子デバイスを備えるようにした。
この発明によれば、効率よく電子機器を製造することができ、電子機器の低コスト化が図られる。
In the electronic apparatus according to the present invention, an electronic device includes an electronic device mounted on a base using the above-described device mounting structure. In addition, the electronic apparatus includes an electronic device mounted on the base using the above-described device mounting method.
According to the present invention, an electronic device can be efficiently manufactured, and the cost of the electronic device can be reduced.

本発明に係る液滴吐出ヘッドは、液滴吐出ヘッドが、前述のデバイス実装構造を有するようにした。また、液滴吐出ヘッドが、前述のデバイス実装方法を用いて製造されるようにした。
この発明によれば、効率よく液滴吐出ヘッドを製造することができ、液滴吐出ヘッドの低コスト化が図られる。
In the liquid droplet ejection head according to the present invention, the liquid droplet ejection head has the above-described device mounting structure. In addition, the droplet discharge head is manufactured using the above-described device mounting method.
According to the present invention, the droplet discharge head can be efficiently manufactured, and the cost of the droplet discharge head can be reduced.

本発明に係る液滴吐出装置は、液滴吐出装置が、前述の液滴吐出ヘッドを備えるようにした。
この発明によれば、液滴吐出装置の低コスト化が図られる。
In the liquid droplet ejection apparatus according to the present invention, the liquid droplet ejection apparatus includes the above-described liquid droplet ejection head.
According to the present invention, the cost of the droplet discharge device can be reduced.

〔第1実施形態〕
以下、本発明のデバイス実装構造、デバイス実装方法、電子装置、液滴吐出ヘッドの第1実施形態について図を参照して説明する。
なお、以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれに直交する方向(すなわち鉛直方向)をZ軸方向とする。
[First Embodiment]
Hereinafter, a device mounting structure, a device mounting method, an electronic apparatus, and a droplet discharge head according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. The predetermined direction in the horizontal plane is the X-axis direction, the direction orthogonal to the X-axis direction in the horizontal plane is the Y-axis direction, and the direction orthogonal to each of the X-axis direction and the Y-axis direction (that is, the vertical direction) is the Z-axis direction. To do.

〔液滴吐出ヘッド]
図1は液滴吐出ヘッドの一実施形態を示す外観斜視図、図2は液滴吐出ヘッドをノズル開口部側から見た斜視図の一部破断図、図3は図1のA−A線断面矢視図である。
[Droplet ejection head]
1 is an external perspective view showing an embodiment of a droplet discharge head, FIG. 2 is a partially cutaway perspective view of the droplet discharge head viewed from the nozzle opening side, and FIG. 3 is a line AA in FIG. It is a cross-sectional arrow view.

図1に示すように、液滴吐出ヘッド1は、機能液の液滴を吐出するものであって、液滴が吐出されるノズル開口部15(図2参照)を備えたノズル基板16と、ノズル基板16上に接続されて液滴が流れる流路を形成する流路形成基板10と、流路形成基板10上に接続されて圧電素子300の駆動によって変位する振動板400と、振動板400上に接続されてリザーバ100を形成するためのリザーバ形成基板20と、からなる基体5を備えている。
更に、可撓性を有すると共に駆動回路部200と圧電素子300とを電気的に接続する配線パターン(不図示)を備えるフレキシブル基板500(501〜504)と、各フレキシブル基板500に搭載されて圧電素子300を駆動するための駆動回路部(ICドライバ)200と、を備えている。
As shown in FIG. 1, the droplet discharge head 1 discharges a droplet of a functional liquid, and includes a nozzle substrate 16 having a nozzle opening 15 (see FIG. 2) from which the droplet is discharged; A flow path forming substrate 10 that is connected to the nozzle substrate 16 to form a flow path through which droplets flow, a vibration plate 400 that is connected to the flow path forming substrate 10 and is displaced by driving the piezoelectric element 300, and the vibration plate 400 A substrate 5 is provided that includes a reservoir forming substrate 20 connected to the reservoir 100 to form the reservoir 100.
Furthermore, the flexible board 500 (501-504) which has a wiring pattern (not shown) which has flexibility and electrically connects the drive circuit unit 200 and the piezoelectric element 300, and is mounted on each flexible board 500 and is piezoelectric. And a driving circuit unit (IC driver) 200 for driving the element 300.

液滴吐出ヘッド1の動作は、外部コントローラCTによって制御される。そして、流路形成基板10と、ノズル基板16と、振動板400とで囲まれた空間によって、ノズル開口部15より吐出される前の機能液が配置される圧力発生室12(図3参照)が形成される。
また、リザーバ形成基板20と流路形成基板10とで囲まれた空間によって、圧力発生室12に供給される前の機能液を予備的に保持するリザーバ100(図3参照)が形成される。
The operation of the droplet discharge head 1 is controlled by an external controller CT. The pressure generating chamber 12 in which the functional liquid before being discharged from the nozzle opening 15 is disposed by the space surrounded by the flow path forming substrate 10, the nozzle substrate 16, and the vibration plate 400 (see FIG. 3). Is formed.
A reservoir 100 (see FIG. 3) that preliminarily holds the functional liquid before being supplied to the pressure generating chamber 12 is formed by the space surrounded by the reservoir forming substrate 20 and the flow path forming substrate 10.

図2に示すように、ノズル基板16は、ステンレス鋼からなり、流路形成基板10の一面に設けられた開口を覆って配設されている。
流路形成基板10とノズル基板16とは、例えば熱硬化性接着剤等の樹脂520を介して固定されている。
そのノズル基板16には、液滴を吐出するノズル開口部15が設けられている。ノズル開口部15はノズル基板16に複数設けられている。具体的には、ノズル基板16には、Y軸方向に複数並んで設けられたノズル開口部15によって構成された、第1ノズル開口群15A、第2ノズル開口群15B、第3ノズル開口群15C、及び第4ノズル開口群15Dのそれぞれが設けられている。
第1ノズル開口群15Aと第2ノズル開口群15BとはX軸方向に関して互いに対向するように配置されている。第3ノズル開口群15Cは第1ノズル開口群15Aの+Y側に設けられており、第4ノズル開口群15Dは第2ノズル開口群15Bの+Y側に設けられている。これら第3ノズル開口群15Cと第4ノズル開口群15DとはX軸方向に関して互いに対向するように配置されている。
なお、図2では、各ノズル開口群15A〜15Dのそれぞれは6個のノズル開口部15によって構成されて示されているが、実際には、例えば720個程度のノズル開口部15によって構成されている。
As shown in FIG. 2, the nozzle substrate 16 is made of stainless steel, and is disposed so as to cover an opening provided on one surface of the flow path forming substrate 10.
The flow path forming substrate 10 and the nozzle substrate 16 are fixed via a resin 520 such as a thermosetting adhesive.
The nozzle substrate 16 is provided with a nozzle opening 15 for discharging droplets. A plurality of nozzle openings 15 are provided in the nozzle substrate 16. Specifically, the nozzle substrate 16 includes a first nozzle opening group 15A, a second nozzle opening group 15B, and a third nozzle opening group 15C that are configured by a plurality of nozzle openings 15 provided side by side in the Y-axis direction. , And the fourth nozzle opening group 15D.
The first nozzle opening group 15A and the second nozzle opening group 15B are disposed so as to face each other in the X-axis direction. The third nozzle opening group 15C is provided on the + Y side of the first nozzle opening group 15A, and the fourth nozzle opening group 15D is provided on the + Y side of the second nozzle opening group 15B. The third nozzle opening group 15C and the fourth nozzle opening group 15D are arranged so as to face each other in the X-axis direction.
In FIG. 2, each of the nozzle opening groups 15 </ b> A to 15 </ b> D is configured by six nozzle openings 15, but actually, for example, it is configured by about 720 nozzle openings 15. Yes.

流路形成基板10の内側には複数の隔壁11が形成されている。流路形成基板10はシリコンによって形成されており、複数の隔壁11は、流路形成基板10の母材であるシリコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより形成される。
そして、複数の隔壁11を有する流路形成基板10と、ノズル基板16と、振動板400とで囲まれた空間として、複数の圧力発生室12が形成される。圧力発生室12は、複数のノズル開口部15に対応するように複数形成されている。すなわち、圧力発生室12は、第1〜第4ノズル開口群15A〜15Dのそれぞれを構成する複数のノズル開口部15に対応するように、Y軸方向に複数並んで設けられている。
そして、第1ノズル開口群15Aに対応して複数形成された圧力発生室12によって第1圧力発生室群12Aが構成されている。第2ノズル開口群15Bに対応して複数形成された圧力発生室12によって第2圧力発生室群12Bが構成されている。第3ノズル開口群15Cに対応して複数形成された圧力発生室12によって第3圧力発生室群12Cが構成されている。第4ノズル開口群15Dに対応して複数形成された圧力発生室12によって第4圧力発生室群12Dが構成されている。
第1圧力発生室群12Aと第2圧力発生室群12BとはX軸方向に関して互いに対向するように配置されており、それらの間には隔壁10Kが形成されている。同様に、第3圧力発生室群12Cと第4圧力発生室群12Dとは、X軸方向に関して互いに対向するように配置されており、それらの間には隔壁10Kが形成されている。
A plurality of partition walls 11 are formed inside the flow path forming substrate 10. The flow path forming substrate 10 is formed of silicon, and the plurality of partition walls 11 are formed by anisotropically etching a silicon single crystal substrate that is a base material of the flow path forming substrate 10.
A plurality of pressure generating chambers 12 are formed as a space surrounded by the flow path forming substrate 10 having the plurality of partition walls 11, the nozzle substrate 16, and the diaphragm 400. A plurality of pressure generating chambers 12 are formed so as to correspond to the plurality of nozzle openings 15. That is, a plurality of pressure generation chambers 12 are provided side by side in the Y-axis direction so as to correspond to the plurality of nozzle openings 15 constituting each of the first to fourth nozzle opening groups 15A to 15D.
The first pressure generation chamber group 12A is configured by a plurality of pressure generation chambers 12 formed corresponding to the first nozzle opening group 15A. A second pressure generation chamber group 12B is constituted by a plurality of pressure generation chambers 12 formed corresponding to the second nozzle opening group 15B. A third pressure generation chamber group 12C is constituted by a plurality of pressure generation chambers 12 formed corresponding to the third nozzle opening group 15C. A fourth pressure generation chamber group 12D is configured by a plurality of pressure generation chambers 12 formed corresponding to the fourth nozzle opening group 15D.
The first pressure generation chamber group 12A and the second pressure generation chamber group 12B are arranged to face each other in the X-axis direction, and a partition wall 10K is formed between them. Similarly, the third pressure generation chamber group 12C and the fourth pressure generation chamber group 12D are arranged to face each other in the X-axis direction, and a partition wall 10K is formed between them.

また、図2に示すように、第1圧力発生室群12Aを形成する複数の圧力発生室12のうち、−X側の端部は上述した隔壁10Kによって閉塞され、+X側の端部は互いに接続しかつ、リザーバ100(図3参照)と接続している。   Further, as shown in FIG. 2, among the plurality of pressure generating chambers 12 forming the first pressure generating chamber group 12A, the −X side ends are closed by the partition wall 10K described above, and the + X side ends are mutually connected. Connected to the reservoir 100 (see FIG. 3).

図3に示すように、リザーバ100は、機能液導入口25より導入され、圧力発生室12に供給される前の機能液を一時的に保持する。リザーバ100は、リザーバ形成基板20にY軸方向に延びるように形成されたリザーバ部21と、流路形成基板10にY軸方向に延びるように形成され、リザーバ部21と各圧力発生室12のそれぞれとを接続する連通部13とを備えている。すなわち、リザーバ100は、第1圧力発生室群12Aを構成する複数の圧力発生室12の共通の機能液保持室(インク室)である。
これにより、機能液導入口25より導入された機能液は、導入路26を経てリザーバ100に流れ込み、その後、供給路14を経て、第1圧力発生室群12Aを構成する複数の圧力発生室12のそれぞれに供給されるようになっている。
また、第2、第3、第4圧力発生室群12B、12C、12Dのそれぞれを構成する圧力発生室12のそれぞれにも、上述と同様のリザーバ100が接続されている。
As shown in FIG. 3, the reservoir 100 temporarily holds the functional liquid introduced from the functional liquid introduction port 25 and supplied to the pressure generation chamber 12. The reservoir 100 is formed on the reservoir forming substrate 20 so as to extend in the Y-axis direction, and is formed on the flow path forming substrate 10 so as to extend in the Y-axis direction. The communication part 13 which connects each is provided. That is, the reservoir 100 is a functional liquid holding chamber (ink chamber) common to the plurality of pressure generating chambers 12 constituting the first pressure generating chamber group 12A.
As a result, the functional liquid introduced from the functional liquid introduction port 25 flows into the reservoir 100 through the introduction path 26, and then passes through the supply path 14 to form a plurality of pressure generation chambers 12 constituting the first pressure generation chamber group 12 </ b> A. To be supplied to each of them.
A reservoir 100 similar to that described above is also connected to each of the pressure generation chambers 12 constituting each of the second, third, and fourth pressure generation chamber groups 12B, 12C, and 12D.

流路形成基板10とリザーバ形成基板20との間に配置された振動板400は、流路形成基板10の一面を覆う弾性膜50と、弾性膜50上に設けられた下電極膜60とを備えている。
弾性膜50は、例えば厚み1〜2μm程度の二酸化シリコンによって形成されている。下電極膜60は、例えば厚み0.2μm程度の金属によって構成されている。本実施形態において、下電極膜60は、複数の圧電素子300の共通電極となっている。
なお、流路形成基板10とリザーバ形成基板20は、例えば例えば熱硬化性接着剤等の樹脂520を介して固定されている。
The vibration plate 400 disposed between the flow path forming substrate 10 and the reservoir forming substrate 20 includes an elastic film 50 covering one surface of the flow path forming substrate 10 and a lower electrode film 60 provided on the elastic film 50. I have.
The elastic film 50 is made of, for example, silicon dioxide having a thickness of about 1 to 2 μm. The lower electrode film 60 is made of, for example, a metal having a thickness of about 0.2 μm. In the present embodiment, the lower electrode film 60 is a common electrode for the plurality of piezoelectric elements 300.
The flow path forming substrate 10 and the reservoir forming substrate 20 are fixed through a resin 520 such as a thermosetting adhesive, for example.

振動板400を変位させるための圧電素子300は、下電極膜60上に設けられた圧電体膜70と、その圧電体膜70上に設けられた上電極膜80とを備えている。
圧電体膜70は例えば厚み1μm程度であり、上電極膜80は例えば厚み0.1μm程度である。なお、圧電素子300の概念としては、圧電体膜70及び上電極膜80に加えて、下電極膜60を含むものであってもよい。すなわち、本実施形態における下電極膜60は、圧電素子300としての機能と、振動板400としての機能とを兼ね備えている。
また、本実施形態では、弾性膜50及び下電極膜60が振動板400として機能するが、弾性膜50を省略した構造とし、下電極膜60が弾性膜(50)を兼ねるようにしてもよい。
The piezoelectric element 300 for displacing the diaphragm 400 includes a piezoelectric film 70 provided on the lower electrode film 60 and an upper electrode film 80 provided on the piezoelectric film 70.
The piezoelectric film 70 has a thickness of about 1 μm, for example, and the upper electrode film 80 has a thickness of about 0.1 μm, for example. The concept of the piezoelectric element 300 may include the lower electrode film 60 in addition to the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80. That is, the lower electrode film 60 in the present embodiment has both the function as the piezoelectric element 300 and the function as the diaphragm 400.
In this embodiment, the elastic film 50 and the lower electrode film 60 function as the diaphragm 400. However, the elastic film 50 may be omitted, and the lower electrode film 60 may also serve as the elastic film (50). .

圧電体膜70及び上電極膜80(すなわち圧電素子300)は、複数のノズル開口部15及び圧力発生室12のそれぞれに対応するように複数設けられている。すなわち、圧電素子300は、ノズル開口部15ごとに(圧力発生室12ごとに)設けられている。上述したように、下電極膜60は複数の圧電素子300の共通電極として機能し、上電極膜80は複数の圧電素子300の個別電極として機能する。   A plurality of the piezoelectric films 70 and the upper electrode films 80 (that is, the piezoelectric elements 300) are provided so as to correspond to the plurality of nozzle openings 15 and the pressure generating chambers 12, respectively. That is, the piezoelectric element 300 is provided for each nozzle opening 15 (for each pressure generation chamber 12). As described above, the lower electrode film 60 functions as a common electrode for the plurality of piezoelectric elements 300, and the upper electrode film 80 functions as an individual electrode for the plurality of piezoelectric elements 300.

そして、第1ノズル開口群15Aの各ノズル開口部15に対応してY軸方向に並ぶ複数の圧電素子300によって、第1圧電素子群300Aが構成されている。第2ノズル開口群15Bの各ノズル開口部15に対応してY軸方向に並ぶ複数の圧電素子300によって、第2圧電素子群300Bが構成されている。第1圧電素子群300Aと第2圧電素子群300BとはX軸方向に関して互いに対向するように配置されている。同様に、第3ノズル開口群15Cの各ノズル開口部15に対応してY軸方向に並ぶ複数の圧電素子300によって、第3圧電素子群300Cが構成されている。第4ノズル開口群15Dの各ノズル開口部15に対応してY軸方向に並ぶ複数の圧電素子300によって、第4圧電素子群300Dが構成されている。第3圧電素子群300Cと第4圧電素子群300DとはX軸方向に関して互いに対向するように配置されている(なお、第3、第4圧電素子群300C、300Dは図3の紙面奥側に形成されているものであって、図示されていない)。   The first piezoelectric element group 300A is configured by a plurality of piezoelectric elements 300 arranged in the Y-axis direction corresponding to the respective nozzle openings 15 of the first nozzle opening group 15A. The plurality of piezoelectric elements 300 arranged in the Y-axis direction corresponding to each nozzle opening 15 of the second nozzle opening group 15B constitutes the second piezoelectric element group 300B. The first piezoelectric element group 300A and the second piezoelectric element group 300B are arranged to face each other in the X-axis direction. Similarly, the third piezoelectric element group 300C is configured by a plurality of piezoelectric elements 300 arranged in the Y-axis direction corresponding to the respective nozzle openings 15 of the third nozzle opening group 15C. A fourth piezoelectric element group 300D is configured by a plurality of piezoelectric elements 300 arranged in the Y-axis direction corresponding to the respective nozzle openings 15 of the fourth nozzle opening group 15D. The third piezoelectric element group 300C and the fourth piezoelectric element group 300D are disposed so as to face each other in the X-axis direction (note that the third and fourth piezoelectric element groups 300C and 300D are located on the back side of the drawing in FIG. 3). Formed, not shown).

リザーバ形成基板20上には、封止膜31と固定板32とを有するコンプライアンス基板30が、例えば熱硬化性接着剤等の樹脂520を介して接合されている。
封止膜31は、剛性が低く可撓性を有する材料(例えば、厚み6μm程度のポリフェニレンスルフィドフィルム)からなる。この封止膜31によってリザーバ部21が封止されている。また、固定板32は、金属等の硬質の材料(例えば、厚み30μm程度のステンレス鋼)で形成される。
この固定板32のうち、リザーバ100に対応する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部33となっている。そのため、リザーバ100の上部は、可撓性を有する封止膜31のみで封止され、内部圧力の変化によって変形可能な可撓部22となっている。
On the reservoir forming substrate 20, a compliance substrate 30 having a sealing film 31 and a fixing plate 32 is bonded via a resin 520 such as a thermosetting adhesive.
The sealing film 31 is made of a material having low rigidity and flexibility (for example, a polyphenylene sulfide film having a thickness of about 6 μm). The reservoir portion 21 is sealed by the sealing film 31. The fixing plate 32 is made of a hard material such as metal (for example, stainless steel having a thickness of about 30 μm).
A region of the fixed plate 32 corresponding to the reservoir 100 is an opening 33 that is completely removed in the thickness direction. Therefore, the upper part of the reservoir 100 is sealed only with a flexible sealing film 31 and is a flexible portion 22 that can be deformed by a change in internal pressure.

機能液導入口25からリザーバ100に機能液が供給されると、例えば、圧電素子300の駆動時の機能液の流れ、あるいは、周囲の熱などによってリザーバ100内に圧力変化が生じる。上述のように、リザーバ100の上部が可撓性を有する封止膜31(可撓部22)によって封止されていることにより、可撓部22が撓み変形してその圧力変化を吸収する。したがって、リザーバ100内は常に一定の圧力に保持される。その他の部分は固定板32によって十分な強度に保持されている。   When the functional liquid is supplied from the functional liquid introduction port 25 to the reservoir 100, for example, a pressure change occurs in the reservoir 100 due to the flow of the functional liquid when the piezoelectric element 300 is driven or the ambient heat. As described above, since the upper portion of the reservoir 100 is sealed with the flexible sealing film 31 (flexible portion 22), the flexible portion 22 is bent and deformed to absorb the pressure change. Therefore, the inside of the reservoir 100 is always maintained at a constant pressure. Other portions are held with sufficient strength by the fixing plate 32.

そして、リザーバ100の外側のコンプライアンス基板30上には、リザーバ100に機能液を供給するための機能液導入口25が形成されており、リザーバ形成基板20には、その機能液導入口25とリザーバ100の側壁とを連通する導入路26が設けられている。   A functional liquid introduction port 25 for supplying a functional liquid to the reservoir 100 is formed on the compliance substrate 30 outside the reservoir 100, and the functional liquid introduction port 25 and the reservoir are formed in the reservoir forming substrate 20. An introduction path 26 communicating with the 100 side walls is provided.

リザーバ形成基板20のうち、X軸方向に関して中央部には、Y軸方向に延びる開口部700が形成されている。開口部700によって、リザーバ形成基板20は、第1圧電素子群300Aを封止する第1封止部20Aと、第2圧電素子群300Bを封止する第2封止部20Bとに分けられる(図3参照)。
同様に、開口部700によって、第3圧電素子群300Cを封止する第3封止部20Cと、第4圧電素子群300Dを封止する第4封止部20Dとに分けられる(なお、第3、第4封止部20C、20Dは不図示)。
An opening 700 extending in the Y-axis direction is formed at the center of the reservoir forming substrate 20 in the X-axis direction. By the opening 700, the reservoir forming substrate 20 is divided into a first sealing portion 20A for sealing the first piezoelectric element group 300A and a second sealing portion 20B for sealing the second piezoelectric element group 300B ( (See FIG. 3).
Similarly, the opening 700 is divided into a third sealing portion 20C that seals the third piezoelectric element group 300C and a fourth sealing portion 20D that seals the fourth piezoelectric element group 300D (note that the first 3, the fourth sealing portions 20C and 20D are not shown).

第1封止部20Aは、圧電素子300に対向する領域に設けられた溝部24を有している。溝部24は、圧電素子300の運動を阻害しない程度の空間を確保するとともに、その空間を密封する。溝部24は、上記の第1〜第4封止部20A〜20Dのそれぞれに、第1〜第4圧電素子群300A〜300Dを覆う大きさで形成されている。また、圧電素子300のうち、少なくとも圧電体膜70は、この溝部24内に密封されている。   The first sealing portion 20 </ b> A has a groove portion 24 provided in a region facing the piezoelectric element 300. The groove portion 24 ensures a space that does not hinder the movement of the piezoelectric element 300 and seals the space. The groove portion 24 is formed in each of the first to fourth sealing portions 20A to 20D so as to cover the first to fourth piezoelectric element groups 300A to 300D. Of the piezoelectric element 300, at least the piezoelectric film 70 is sealed in the groove 24.

このように、リザーバ形成基板20は、圧電素子300を外部環境と遮断して、圧電素子300を封止する機能を有している。リザーバ形成基板20によって圧電素子300を封止することで、水分等の外部環境による圧電素子300の劣化が防止される。
また、本実施形態では、溝部24の内部を密封状態にしただけであるが、例えば、溝部24内の空間を真空にしたり、あるいは窒素又はアルゴン雰囲気等とすることにより、溝部24内を低湿度に保持し、圧電素子300の劣化をさらに確実に防止することができる。
なお、圧電素子300の上電極膜80からは流路形成基板10上に引き出し配線90(図4参照)が接続されており、の引き出し配線90は、リザーバ形成基板20の開口部700まで延設されている。そして、この引き出し配線90とフレキシブル基板501とを電気的に接続することで、圧電素子300を駆動することが可能となる。
Thus, the reservoir forming substrate 20 has a function of sealing the piezoelectric element 300 by blocking the piezoelectric element 300 from the external environment. By sealing the piezoelectric element 300 with the reservoir forming substrate 20, deterioration of the piezoelectric element 300 due to an external environment such as moisture is prevented.
Further, in the present embodiment, the inside of the groove 24 is only sealed, but the inside of the groove 24 is reduced in humidity by, for example, evacuating the space in the groove 24 or using a nitrogen or argon atmosphere. The deterioration of the piezoelectric element 300 can be further reliably prevented.
A lead wire 90 (see FIG. 4) is connected from the upper electrode film 80 of the piezoelectric element 300 onto the flow path forming substrate 10, and the lead wire 90 extends to the opening 700 of the reservoir forming substrate 20. Has been. Then, by electrically connecting the lead-out wiring 90 and the flexible substrate 501, the piezoelectric element 300 can be driven.

また、リザーバ形成基板20は剛体である。リザーバ形成基板20の形成材料としては、例えば、ガラス、セラミック材料等の流路形成基板10の熱膨張率と略同一の材料を用いることが好ましく、本実施形態では、流路形成基板10と同一材料のシリコン単結晶基板が用いられる。   The reservoir forming substrate 20 is a rigid body. As a forming material of the reservoir forming substrate 20, it is preferable to use a material substantially the same as the coefficient of thermal expansion of the flow path forming substrate 10 such as glass or ceramic material. In this embodiment, the same material as the flow path forming substrate 10 is used. A silicon single crystal substrate of material is used.

図1に戻り、圧電素子300を駆動するための駆動回路部200(200A〜200D)は、例えば回路基板あるいは駆動回路を含む半導体集積回路(IC)を含んで構成されており、各フレキシブル基板501〜504の一面に搭載されている。
フレキシブル基板501〜504はそれぞれ可撓性を有しており、例えばポリイミド等の絶縁性フィルムによって構成されている。前述したように、フレキシブル基板501〜504には、銅などの導電性材料からなる配線パターンが形成されている。
Returning to FIG. 1, the drive circuit unit 200 (200 </ b> A to 200 </ b> D) for driving the piezoelectric element 300 includes, for example, a circuit board or a semiconductor integrated circuit (IC) including a drive circuit, and each flexible board 501. It is mounted on one side of ~ 504.
Each of the flexible substrates 501 to 504 has flexibility, and is formed of an insulating film such as polyimide. As described above, the flexible substrates 501 to 504 are formed with a wiring pattern made of a conductive material such as copper.

図4は、フレキシブル基板501の配設状態を示す部分拡大図である。
駆動回路部200Aは、例えば熱硬化性接着剤等の接着樹脂515を介してリザーバ形成基板20に電気的に接続される。なお、リザーバ形成基板20上には、必要に応じて配線パターンが形成されるとともに、この配線パターンが駆動回路部200Aの端子に電気的に接続される。この駆動回路部200Aは、外部信号入力部580(図1参照)を介して外部コントローラCT(図1参照)に電気的に接続される。
また、フレキシブル基板501の両端に形成された端子部(不図示)は、例えば熱硬化性接着剤等の接着樹脂515を介して、流路形成基板10上に形成された引き出し配線90(圧電素子300の上電極膜80に接続する配線)に電気的に接続される。
FIG. 4 is a partially enlarged view showing an arrangement state of the flexible substrate 501.
The drive circuit unit 200A is electrically connected to the reservoir forming substrate 20 via an adhesive resin 515 such as a thermosetting adhesive. Note that a wiring pattern is formed on the reservoir forming substrate 20 as necessary, and this wiring pattern is electrically connected to a terminal of the drive circuit unit 200A. The drive circuit unit 200A is electrically connected to an external controller CT (see FIG. 1) via an external signal input unit 580 (see FIG. 1).
Further, terminal portions (not shown) formed at both ends of the flexible substrate 501 are connected to lead-out wirings 90 (piezoelectric elements) formed on the flow path forming substrate 10 via an adhesive resin 515 such as a thermosetting adhesive. 300 is electrically connected to the upper electrode film 80).

接着樹脂515には、導電性の金属粒子516が混錬されており、例えば、駆動回路部200Aをリザーバ形成基板20に押圧することにより、接着樹脂515に含まれる金属粒子516を介して、リザーバ形成基板20上の配線パターンと駆動回路部200Aとが電気的に接続される。
同様に、フレキシブル基板501を流路形成基板10上の引き出し配線90に押圧することにより、接着樹脂515に含まれる金属粒子516を介して、引き出し配線90とフレキシブル基板501とが電気的に接続される。
金属粒子516が混錬される接着樹脂515は、流路形成基板10とノズル基板16とを固定する樹脂、流路形成基板10とリザーバ形成基板20とを固定する樹脂、リザーバ形成基板20とコンプライアンス基板30とを固定する樹脂と同一の樹脂、または硬化条件が略同一の樹脂である。
このように、流路形成基板10、ノズル基板16、リザーバ形成基板20等の固定と同一の硬化条件を有する樹脂を用いることで、流路形成基板10、ノズル基板16、リザーバ形成基板20等の接合工程と同一の工程において、リザーバ形成基板20と駆動回路部200Aとの電気接続、流路形成基板10上の引き出し配線90とフレキシブル基板501との電気接続を行うことが可能となる。
The adhesive resin 515 is kneaded with conductive metal particles 516. For example, when the drive circuit unit 200A is pressed against the reservoir forming substrate 20, the reservoir resin 515 is passed through the metal particles 516 included in the adhesive resin 515. The wiring pattern on the formation substrate 20 and the drive circuit unit 200A are electrically connected.
Similarly, when the flexible substrate 501 is pressed against the lead wire 90 on the flow path forming substrate 10, the lead wire 90 and the flexible substrate 501 are electrically connected via the metal particles 516 included in the adhesive resin 515. The
The adhesive resin 515 in which the metal particles 516 are kneaded is a resin that fixes the flow path forming substrate 10 and the nozzle substrate 16, a resin that fixes the flow path forming substrate 10 and the reservoir forming substrate 20, and a compliance with the reservoir forming substrate 20. It is the same resin as the resin that fixes the substrate 30 or a resin having substantially the same curing conditions.
Thus, by using a resin having the same curing conditions as those for fixing the flow path forming substrate 10, the nozzle substrate 16, the reservoir forming substrate 20, etc., the flow path forming substrate 10, the nozzle substrate 16, the reservoir forming substrate 20, etc. In the same process as the bonding process, it is possible to perform electrical connection between the reservoir forming substrate 20 and the drive circuit unit 200A and electrical connection between the lead-out wiring 90 on the flow path forming substrate 10 and the flexible substrate 501.

フレキシブル基板501と流路形成基板10上の引き出し配線90との電気接続部分は、樹脂材202によって固定してもよい。その電気接続部分は、リザーバ形成基板20に形成された開口部700内の底部であるから、その開口部700に樹脂材202を充填すればよい。この樹脂材202によって、フレキシブル基板501と流路形成基板10上の引き出し配線90との接続部分の剥がれが防止される。   An electrical connection portion between the flexible substrate 501 and the lead wiring 90 on the flow path forming substrate 10 may be fixed by the resin material 202. Since the electrical connection portion is a bottom portion in the opening 700 formed in the reservoir forming substrate 20, the resin material 202 may be filled in the opening 700. The resin material 202 prevents the connection portion between the flexible substrate 501 and the lead-out wiring 90 on the flow path forming substrate 10 from being peeled off.

次に、上述した構成を有する液滴吐出ヘッド1の動作について説明する。
液滴吐出ヘッド1より機能液の液滴を吐出するために、外部コントローラCTは、機能液導入口25に接続された不図示の外部機能液供給装置を駆動する。外部機能液供給装置から送出された機能液は、機能液導入口25を介してリザーバ100に供給された後、ノズル開口部15に至るまでの液滴吐出ヘッド1の内部流路を満たす。
また、外部コントローラCTは、フレキシブル基板501〜504に設けられた外部信号入力部580を介して、駆動回路部200等に駆動電力や指令信号を送る。駆動回路部200は、外部コントローラCTからの指令に基づいて、フレキシブル基板501〜504を介して、圧力発生室12に対応するそれぞれの下電極膜60と上電極膜80との間に電圧を印加し、弾性膜50、下電極膜60及び圧電体膜70を変位させる。
このようにして各圧力発生室12内の圧力を高めて、ノズル開口部15より液滴を吐出する。
Next, the operation of the droplet discharge head 1 having the above-described configuration will be described.
In order to eject the functional liquid droplets from the liquid droplet ejection head 1, the external controller CT drives an external functional liquid supply device (not shown) connected to the functional liquid inlet 25. The functional liquid sent out from the external functional liquid supply device fills the internal flow path of the droplet discharge head 1 from the functional liquid introduction port 25 to the reservoir 100 until reaching the nozzle opening 15.
Further, the external controller CT sends drive power and a command signal to the drive circuit unit 200 and the like via the external signal input unit 580 provided on the flexible boards 501 to 504. The drive circuit unit 200 applies a voltage between the lower electrode film 60 and the upper electrode film 80 corresponding to the pressure generation chamber 12 via the flexible substrates 501 to 504 based on a command from the external controller CT. Then, the elastic film 50, the lower electrode film 60, and the piezoelectric film 70 are displaced.
In this way, the pressure in each pressure generating chamber 12 is increased, and droplets are ejected from the nozzle openings 15.

次に、液滴吐出ヘッド1の製造方法について、その一例を図5を参照して説明する。
なお、流路形成基板10やリザーバ形成基板20等を膜形成プロセスやエッチングプロセスを経ることで個別に形成する工程については、従来と異ならないので、その説明を省略する。
Next, an example of a method for manufacturing the droplet discharge head 1 will be described with reference to FIG.
Note that the process of individually forming the flow path forming substrate 10, the reservoir forming substrate 20 and the like through a film forming process and an etching process is not different from the conventional process, and the description thereof is omitted.

まず、図5(a)に示すように、リザーバ形成基板20と流路形成基板10とを樹脂520を介して仮接合する。
同様に、図5(b)に示すように、流路形成基板10のリザーバ形成基板20とは反対側の面にノズル基板16を樹脂520を介して仮接合する。また、リザーバ形成基板20上にコンプライアンス基板30を樹脂520を介して仮接合する。
First, as shown in FIG. 5A, the reservoir forming substrate 20 and the flow path forming substrate 10 are temporarily joined via a resin 520.
Similarly, as illustrated in FIG. 5B, the nozzle substrate 16 is temporarily bonded to the surface of the flow path forming substrate 10 opposite to the reservoir forming substrate 20 via a resin 520. Further, the compliance substrate 30 is temporarily bonded onto the reservoir forming substrate 20 via the resin 520.

更に、図5(c)に示すように、開口部700の両側のリザーバ形成基板20上に圧電素子300を駆動させる駆動回路部200を樹脂515を介してそれぞれ仮実装(電気的にも仮接続)する。また、フレキシブル基板501と流路形成基板10上の引き出し配線90とを接着樹脂515を介して電気的に仮接続する。   Further, as shown in FIG. 5C, the drive circuit units 200 for driving the piezoelectric elements 300 are temporarily mounted on the reservoir forming substrates 20 on both sides of the opening 700 via the resin 515 (electrically and temporarily connected). ) Further, the flexible substrate 501 and the lead wiring 90 on the flow path forming substrate 10 are electrically temporarily connected via the adhesive resin 515.

その後、樹脂520及び樹脂515を固化させるために、常温又は60℃程度の加熱状態において、5〜30時間経過することで、ノズル基板16、流路形成基板10、リザーバ形成基板20、コンプライアンス基板30が固定される。同時に、リザーバ形成基板20と駆動回路部200が固定されると共に電気的にも接続される。また、フレキシブル基板501と流路形成基板10上の引き出し配線90も固定されると共に電気的にも接続される。   Thereafter, in order to solidify the resin 520 and the resin 515, the nozzle substrate 16, the flow path forming substrate 10, the reservoir forming substrate 20, and the compliance substrate 30 are obtained after 5 to 30 hours have passed in a heating state at room temperature or about 60 ° C. Is fixed. At the same time, the reservoir forming substrate 20 and the drive circuit unit 200 are fixed and electrically connected. Further, the flexible substrate 501 and the lead wiring 90 on the flow path forming substrate 10 are also fixed and electrically connected.

このように、ノズル基板16等の部材を固定する樹脂520と、フレキシブル基板501等を電気的に接続する樹脂515とを、略同一の硬化条件を有する樹脂とすることで、固化工程を同一にすることができる。長時間を要する固化工程を一体とすることができるので、液滴吐出ヘッド1の製造工程の効率化を図ることができる。   In this way, the resin 520 that fixes the member such as the nozzle substrate 16 and the resin 515 that electrically connects the flexible substrate 501 and the like are made into resins having substantially the same curing conditions, so that the solidification process is made the same. can do. Since the solidification process requiring a long time can be integrated, the manufacturing process of the droplet discharge head 1 can be made more efficient.

〔第2実施形態〕
以下、本発明のデバイス実装構造、デバイス実装方法、電子装置、液滴吐出ヘッドの第2実施形態について図を参照して説明する。
なお、以下の説明においては、第1実施形態と同一の部材については、同一の符号を付して、その説明を省略する。
[Second Embodiment]
Hereinafter, a device mounting structure, a device mounting method, an electronic apparatus, and a droplet discharge head according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the following description, the same members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.

図6は、フレキシブル基板501の配設状態を示す部分拡大図である。
フレキシブル基板501は、リザーバ形成基板20の上面及び下面に対して固定されている。
リザーバ形成基板20の上面に固定されたフレキシブル基板501上には、更に駆動回路部200Aが固定される。
リザーバ形成基板20の下面に固定されたフレキシブル基板501は、リザーバ形成基板20の下面に形成された堀込部28に収容された状態で固定されている。堀込部28の深さは、フレキシブル基板501の厚みと略同一である。このため、リザーバ形成基板20の下面と堀込部28に収容されたフレキシブル基板501の表面とは、同一の面を形成するようになっている。
したがって、リザーバ形成基板20とフレキシブル基板501とが一体となって、圧電素子300を封止できるようになっている。それと同時に、フレキシブル基板501が流路形成基板10上に形成された引き出し配線90(圧電素子300の上電極膜80に接続する配線)に電気的にも接続されるようになっている。
FIG. 6 is a partially enlarged view showing an arrangement state of the flexible substrate 501.
The flexible substrate 501 is fixed to the upper surface and the lower surface of the reservoir forming substrate 20.
On the flexible substrate 501 fixed to the upper surface of the reservoir forming substrate 20, the drive circuit unit 200A is further fixed.
The flexible substrate 501 fixed to the lower surface of the reservoir forming substrate 20 is fixed in a state where it is accommodated in the digging portion 28 formed on the lower surface of the reservoir forming substrate 20. The depth of the digging portion 28 is substantially the same as the thickness of the flexible substrate 501. For this reason, the lower surface of the reservoir forming substrate 20 and the surface of the flexible substrate 501 accommodated in the digging portion 28 form the same surface.
Therefore, the reservoir forming substrate 20 and the flexible substrate 501 are integrated so that the piezoelectric element 300 can be sealed. At the same time, the flexible substrate 501 is also electrically connected to the lead-out wiring 90 (wiring connected to the upper electrode film 80 of the piezoelectric element 300) formed on the flow path forming substrate 10.

このように、フレキシブル基板501がリザーバ形成基板20の上面及び下面に対して固定されているので、開口部700を必要最小限に形成することができる。すなわち、リザーバ形成基板20に形成される開口部700は、フレキシブル基板501と流路形成基板10上の引き出し配線90とを電気的接続に接続するために、流路形成基板10上の引き出し配線90を露出させるための空間である。しかし、フレキシブル基板501をリザーバ形成基板20の下面に固定した状態で、フレキシブル基板501を流路形成基板10上の引き出し配線90に電気的に接続させることができるので、開口部700の大きさとしては、フレキシブル基板501を連通可能な大きさとすれであればよい。
このため、リザーバ形成基板20に形成される溝部24や圧電素子300をより近接配置することが可能となる。更には、流路形成基板10の圧力発生室12やノズル開口部15をより近接配置することが可能となる。したがって、高いノズル配置密度を有する液滴吐出ヘッド2を形成することが可能となる。
As described above, since the flexible substrate 501 is fixed to the upper surface and the lower surface of the reservoir forming substrate 20, the opening 700 can be formed to the minimum necessary. That is, the opening 700 formed in the reservoir forming substrate 20 is connected to the flexible substrate 501 and the lead-out wiring 90 on the flow-path forming substrate 10 in an electrical connection. It is a space for exposing. However, since the flexible substrate 501 can be electrically connected to the lead-out wiring 90 on the flow path forming substrate 10 while the flexible substrate 501 is fixed to the lower surface of the reservoir forming substrate 20, the size of the opening 700 is set. May be any size as long as the flexible substrate 501 can communicate.
For this reason, the groove part 24 and the piezoelectric element 300 formed in the reservoir forming substrate 20 can be arranged closer to each other. Furthermore, the pressure generation chamber 12 and the nozzle opening 15 of the flow path forming substrate 10 can be arranged closer to each other. Therefore, it is possible to form the droplet discharge head 2 having a high nozzle arrangement density.

次に、液滴吐出ヘッド2の製造方法について、その一例を図7を参照して説明する。
まず、図7(a)に示すように、リザーバ形成基板20に対して、フレキシブル基板501を、樹脂520又は樹脂515を介して固定する。
次に、図7(b)に示すように、リザーバ形成基板20と流路形成基板10とを樹脂520を介して仮接合する。なお、リザーバ形成基板20に固定されたフレキシブル基板501が流路形成基板10に接合する部分ついては、樹脂515を用いる。これにより、フレキシブル基板501と流路形成基板10上の引き出し配線90とが電気的に接続される。
Next, an example of a method for manufacturing the droplet discharge head 2 will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 7A, the flexible substrate 501 is fixed to the reservoir forming substrate 20 via the resin 520 or the resin 515.
Next, as shown in FIG. 7B, the reservoir forming substrate 20 and the flow path forming substrate 10 are temporarily joined via a resin 520. A resin 515 is used for a portion where the flexible substrate 501 fixed to the reservoir forming substrate 20 is bonded to the flow path forming substrate 10. As a result, the flexible substrate 501 and the lead wiring 90 on the flow path forming substrate 10 are electrically connected.

次に、図7(c)に示すように、流路形成基板10とノズル基板16、及びリザーバ形成基板20とコンプライアンス基板30とを樹脂520を介して仮接合する。
更に、図7(d)に示すように、リザーバ形成基板20の上面側のフレキシブル基板501上に、圧電素子300を駆動させる駆動回路部200を樹脂515を介してそれぞれ仮実装(電気的にも仮接続)する。
Next, as illustrated in FIG. 7C, the flow path forming substrate 10 and the nozzle substrate 16, and the reservoir forming substrate 20 and the compliance substrate 30 are temporarily bonded via a resin 520.
Further, as shown in FIG. 7D, the drive circuit unit 200 for driving the piezoelectric element 300 is temporarily mounted (electrically, electrically) on the flexible substrate 501 on the upper surface side of the reservoir forming substrate 20 via a resin 515. Temporary connection).

その後、樹脂520及び樹脂515を固化させるために、常温又は60℃程度の加熱状態において、5〜30時間経過することで、ノズル基板16、流路形成基板10、リザーバ形成基板20、コンプライアンス基板30が固定される。同時に、フレキシブル基板501と流路形成基板10上の引き出し配線90、フレキシブル基板501と駆動回路部200が、それぞれ固定されると共に電気的にも接続される。   Thereafter, in order to solidify the resin 520 and the resin 515, the nozzle substrate 16, the flow path forming substrate 10, the reservoir forming substrate 20, and the compliance substrate 30 are obtained after 5 to 30 hours have passed in a heating state at room temperature or about 60 ° C. Is fixed. At the same time, the flexible substrate 501 and the lead-out wiring 90 on the flow path forming substrate 10, and the flexible substrate 501 and the drive circuit unit 200 are fixed and electrically connected.

〔液滴吐出装置〕
次に、上述した液滴吐出ヘッド1,2を備えた液滴吐出装置IJの一例について、図8を参照しながら説明する。
図8は、液滴吐出装置IJの概略構成を示す斜視図である。
液滴吐出ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載されている。
図8示すように、液滴吐出ヘッドを有する記録ヘッドユニット801A及び801Bには、インク供給手段を構成するカートリッジ802A及び802Bが着脱可能に設けられている。この記録ヘッドユニット801A及び801Bを搭載したキャリッジ803が、装置本体804に取り付けられたキャリッジ軸805に軸方向移動自在に取り付けられている。
[Droplet discharge device]
Next, an example of a droplet discharge device IJ including the droplet discharge heads 1 and 2 described above will be described with reference to FIG.
FIG. 8 is a perspective view showing a schematic configuration of the droplet discharge device IJ.
The droplet discharge head constitutes a part of a recording head unit having an ink flow path communicating with an ink cartridge or the like, and is mounted on an ink jet recording apparatus.
As shown in FIG. 8, recording head units 801A and 801B having a droplet discharge head are detachably provided with cartridges 802A and 802B constituting ink supply means. A carriage 803 on which the recording head units 801A and 801B are mounted is attached to a carriage shaft 805 attached to the apparatus main body 804 so as to be movable in the axial direction.

記録ヘッドユニット801A及び801Bは、例えば、それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物を吐出する。駆動モータ806の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト807を介してキャリッジ803に伝達される。この伝達により、記録ヘッドユニット801A及び801Bを搭載したキャリッジ803がキャリッジ軸805に沿って移動する。一方、装置本体804にはキャリッジ軸805に沿ってプラテン808が設けられている。
図示しない給紙ローラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートSがプラテン808上に搬送される。
上記構成を具備したインクジェット式記録装置は、前述の液滴吐出ヘッド1,2を備えているので、小型で信頼性が高く、更に低コストである。
The recording head units 801A and 801B, for example, discharge a black ink composition and a color ink composition, respectively. The driving force of the drive motor 806 is transmitted to the carriage 803 via a plurality of gears and a timing belt 807 (not shown). By this transmission, the carriage 803 on which the recording head units 801A and 801B are mounted moves along the carriage shaft 805. On the other hand, the apparatus main body 804 is provided with a platen 808 along the carriage shaft 805.
A recording sheet S, which is a recording medium such as paper fed by a paper feeding roller (not shown), is conveyed onto the platen 808.
Since the ink jet recording apparatus having the above configuration includes the droplet discharge heads 1 and 2 described above, the ink jet recording apparatus is small, highly reliable, and low in cost.

なお、図8では、本発明の液滴吐出装置の一例としてプリンタ単体としてのインクジェット式記録装置を示したが、本発明はこれに限らず、係る液滴吐出ヘッドを組み込むことによって実現されるプリンタユニットに適用することも可能である。このようなプリンタユニットは、例えば、テレビ等の表示デバイスやホワイトボード等の入力デバイスに装着され、該表示デバイス又は入力デバイスによって表示若しくは入力された画像を印刷するために使用される。   In FIG. 8, an ink jet recording apparatus as a single printer is shown as an example of the liquid droplet ejection apparatus of the present invention. However, the present invention is not limited to this, and a printer realized by incorporating such a liquid droplet ejection head. It can also be applied to units. Such a printer unit is attached to a display device such as a television or an input device such as a whiteboard, and is used to print an image displayed or input by the display device or the input device.

また上記液滴吐出ヘッドは、液相法により各種デバイスを形成するための液滴吐出装置にも適用することができる。この形態においては、液滴吐出ヘッドより吐出される機能液として、液晶表示デバイスを形成するための液晶表示デバイス形成用材料、有機EL表示デバイスを形成するための有機EL形成用材料、電子回路の配線パターンを形成するための配線パターン形成用材料などを含むものが用いられる。これらの機能液を液滴吐出装置により基体上に選択配置する製造プロセスによれば、フォトリソグラフィ工程を経ることなく機能材料のパターン配置が可能であるため、液晶表示装置や有機EL装置、回路基板等を安価に製造することができる。   The droplet discharge head can also be applied to a droplet discharge apparatus for forming various devices by a liquid phase method. In this embodiment, as the functional liquid discharged from the droplet discharge head, a liquid crystal display device forming material for forming a liquid crystal display device, an organic EL forming material for forming an organic EL display device, an electronic circuit A material including a wiring pattern forming material for forming a wiring pattern is used. According to the manufacturing process in which these functional liquids are selectively arranged on a substrate by a droplet discharge device, the pattern arrangement of the functional material is possible without going through a photolithography process, so a liquid crystal display device, an organic EL device, a circuit board Etc. can be manufactured at low cost.

以上、本発明の好ましい実施例を説明したが、本発明はこれら実施例に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。本発明は前述した説明によって限定されることはなく、添付のクレームの範囲によってのみ限定される。   The preferred embodiments of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to these embodiments. Additions, omissions, substitutions, and other modifications can be made without departing from the spirit of the present invention. The present invention is not limited by the above description, but only by the scope of the appended claims.

第1実施形態に係る液滴吐出ヘッドの一実施形態を示す外観斜視図である。1 is an external perspective view showing an embodiment of a droplet discharge head according to a first embodiment. 液滴吐出ヘッドをノズル開口部側から見た斜視図の一部破断図である。It is a partially broken view of a perspective view of a droplet discharge head as seen from the nozzle opening side. 図1のA−A線断面矢視図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1. フレキシブル基板の配設状態を示す部分拡大図である。It is the elements on larger scale which show the arrangement | positioning state of a flexible substrate. 液滴吐出ヘッドの製造方法の一例を工程順に示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing method of a droplet discharge head in order of a process. 第2実施形態に係るフレキシブル基板の配設状態を示す部分拡大図である。It is the elements on larger scale which show the arrangement | positioning state of the flexible substrate which concerns on 2nd Embodiment. 液滴吐出ヘッドの製造方法の一例を工程順に示す図である。It is a figure which shows an example of the manufacturing method of a droplet discharge head in order of a process. 液滴吐出装置の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of a droplet discharge apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1,2…液滴吐出ヘッド、5…基体、 10…流路形成基板、 16…ノズル基板、 20…リザーバ形成基板、 28…堀込部、 30…コンプライアンス基板、 200…駆動回路部、 300…圧電素子、 501〜504…フレキシブル基板、 515…接着樹脂、 516…金属粒子、 520…樹脂、 801A…記録ヘッドユニット、 IJ…液滴吐出装置



DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 ... Droplet discharge head, 5 ... Base | substrate, 10 ... Flow path formation board | substrate, 16 ... Nozzle board | substrate, 20 ... Reservoir formation board | substrate, 28 ... Engraving part, 30 ... Compliance board | substrate, 200 ... Drive circuit part, 300 ... Piezoelectric Element, 501 to 504 ... flexible substrate, 515 ... adhesive resin, 516 ... metal particle, 520 ... resin, 801A ... recording head unit, IJ ... droplet discharge device



Claims (11)

複数の部材を接合して形成される基体に対してデバイスを搭載すると共に、前記基体と前記デバイスとをフレキシブル基板を介して電気接続してなるデバイス実装構造であって、
前記フレキシブル基板と前記基体との接続部は、前記部材同士の接合部と一体に形成されると共に、
前記フレキシブル基板と前記基体との接続部及び/又は前記フレキシブル基板と前記デバイスとの接続部には、前記部材同士を接合するための樹脂と略同一硬化条件を有すると共に導電性粒子が混練された接合樹脂が配置されることを特徴とするデバイス実装構造。
A device mounting structure in which a device is mounted on a base formed by joining a plurality of members, and the base and the device are electrically connected via a flexible substrate,
The connecting portion between the flexible substrate and the base is formed integrally with the joint between the members,
The connecting portion between the flexible substrate and the base and / or the connecting portion between the flexible substrate and the device has substantially the same curing conditions as the resin for joining the members and conductive particles are kneaded. A device mounting structure in which bonding resin is arranged.
前記接合部を構成する前記部材の一方は、前記フレキシブル基板の厚みと略同一深さを有して前記フレキシブル基板を収容する堀込部を備えることを特徴とする請求項1に記載のデバイス実装構造。   2. The device mounting structure according to claim 1, wherein one of the members constituting the joining portion includes a digging portion that has substantially the same depth as the thickness of the flexible substrate and accommodates the flexible substrate. . 前記部材のうちの少なくとも1つは、他の部材とは異なる材質からなることを特徴とする請求項1又は2に記載のデバイス実装構造。 At least one of the device package structure according to claim 1 or 2, characterized in that it consists of a material different from the other member of said member. 複数の部材を接合して形成される基体に対してデバイスを搭載すると共に、前記基体と前記デバイスとをフレキシブル基板を介して電気接続してなるデバイス実装方法であって、
前記フレキシブル基板と前記基体との接続部を前記部材同士の接合部と一体に形成すると共に、
前記部材同士を接合すると同時に、前記フレキシブル基板と前記基体との電気接続及び/又は前記デバイスとの電気接続を行うことを特徴とするデバイス実装方法。
A device mounting method comprising mounting a device on a base formed by joining a plurality of members, and electrically connecting the base and the device via a flexible substrate,
While forming the connection part of the flexible substrate and the base body integrally with the joint part between the members,
At the same time as joining the members, an electrical connection between the flexible substrate and the base and / or an electrical connection with the device is performed.
前記部材同士を接合するに先立って、前記フレキシブル基板を前記部材に接合することを特徴とする請求項に記載のデバイス実装方法。 The device mounting method according to claim 4 , wherein the flexible substrate is joined to the member prior to joining the members. 前記部材のうちの少なくとも1つは他の部材とは異なる材質からなると共に、
前記部材同士を接合する工程において、熱処理を行うことを特徴とする請求項4又は5に記載のデバイス実装方法
At least one of the members is made of a material different from the other members,
The device mounting method according to claim 4 , wherein heat treatment is performed in the step of joining the members.
請求項1から請求項のいずれかに記載のデバイス実装構造を用いて基体上に実装された電子デバイスを備えたことを特徴とする電子装置。 Electronic device characterized by comprising an electronic device mounted on a substrate using the device package structure according to any one of claims 1 to claim 3. 請求項から請求項のいずれかに記載のデバイス実装方法を用いて基体上に実装された電子デバイスを備えることを特徴とする電子装置。 Electronic device characterized by comprising an electronic device mounted on a substrate using the device mounting method according to claims 4 to claim 6. 請求項1から請求項のいずれかに記載のデバイス実装構造を有することを特徴とする液滴吐出ヘッド。 Droplet discharge head is characterized by having a device mounting structure as claimed in any one of claims 3. 請求項から請求項のいずれかに記載のデバイス実装方法を用いて製造されたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。 Droplet discharge head is characterized in that claim 4 was prepared using a device packaging method according to any one of claims 6. 請求項または請求項10に記載の液滴吐出ヘッドを備えることを特徴とする液滴吐出装置。 Droplet discharge apparatus comprising: a droplet discharging head according to claim 9 or claim 10.
JP2005275430A 2005-09-22 2005-09-22 Device mounting structure, device mounting method, electronic apparatus, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus Expired - Fee Related JP4765511B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005275430A JP4765511B2 (en) 2005-09-22 2005-09-22 Device mounting structure, device mounting method, electronic apparatus, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005275430A JP4765511B2 (en) 2005-09-22 2005-09-22 Device mounting structure, device mounting method, electronic apparatus, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007088227A JP2007088227A (en) 2007-04-05
JP4765511B2 true JP4765511B2 (en) 2011-09-07

Family

ID=37974911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005275430A Expired - Fee Related JP4765511B2 (en) 2005-09-22 2005-09-22 Device mounting structure, device mounting method, electronic apparatus, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4765511B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5685816B2 (en) * 2010-01-28 2015-03-18 株式会社村田製作所 RF receiver module
JP6604035B2 (en) * 2015-05-27 2019-11-13 ブラザー工業株式会社 Liquid ejection device and method of manufacturing liquid ejection device

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09239978A (en) * 1996-03-07 1997-09-16 Ricoh Co Ltd Ink jet head
JP2004284176A (en) * 2003-03-20 2004-10-14 Seiko Epson Corp Manufacturing method for liquid injection head
JP4135565B2 (en) * 2003-06-06 2008-08-20 松下電器産業株式会社 Electronic circuit device and manufacturing method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007088227A (en) 2007-04-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4483738B2 (en) Device mounting structure, device mounting method, electronic apparatus, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus
JP4492520B2 (en) Droplet discharge head and droplet discharge device.
EP2716461B1 (en) Ink-jet head and ink-jet drawing device including same
JP2006116767A (en) Liquid droplet discharging head and liquid droplet discharging apparatus
JP2007290232A (en) Wiring structure, device, manufacturing method for device, liquid droplet ejection head, manufacturing method for liquid droplet ejection head, and liquid droplet ejector
JP2007050639A (en) Device mounting structure, device mounting method, electronic device, droplet ejecting head, and droplet ejector
JP2011136462A (en) Liquid droplet ejecting head and liquid droplet ejecting device
JP2007283691A (en) Wiring structure, device, manufacturing method of device, droplet discharge head, manufacturing method of droplet discharge head and droplet discharge device
JP2002292871A (en) Ink-jet recording head and ink-jet recorder
JP4765511B2 (en) Device mounting structure, device mounting method, electronic apparatus, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus
JP2006192685A (en) Droplet ejection head, its manufacturing method, and droplet ejector
JP2007036009A (en) Connection structure, connection method, and fluid-drop ejecting head
JP4661228B2 (en) Droplet discharge head and droplet discharge apparatus
JP4900461B2 (en) Droplet discharge head, droplet discharge device, and method of manufacturing droplet discharge head
JP4737389B2 (en) Liquid ejecting head and liquid ejecting apparatus
JP4998599B2 (en) Droplet discharge head, droplet discharge device, and method of manufacturing droplet discharge head
JP4730026B2 (en) Flexible substrate connection structure, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus
JP4497054B2 (en) Device mounting structure, liquid discharge head, liquid discharge apparatus, electronic device, and electronic apparatus
US8220906B2 (en) Liquid jet head, a liquid jet apparatus and a method for manufacturing a liquid jet head
JP2006231584A (en) Liquid jet head
JP2006068989A (en) Liquid droplet ejecting head, liquid droplet ejecting apparatus, and manufacturing method for liquid droplet ejecting head
JP2007175935A (en) Device mounting method, device mounting structure, manufacturing method for liquid droplet ejection head, and liquid droplet ejector
JP2010228249A (en) Mounting structure of semiconductor device and method of mounting the same
KR100846373B1 (en) Device mounting structure, device mounting method, electronic apparatus, liquid droplet ejection head, and liquid droplet ejection apparatus
JP2009166334A (en) Liquid jetting head and liquid jetting apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080626

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20080627

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101130

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110105

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20110106

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110517

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110530

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4765511

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees