JP2002292871A - Ink-jet recording head and ink-jet recorder - Google Patents

Ink-jet recording head and ink-jet recorder

Info

Publication number
JP2002292871A
JP2002292871A JP2001102970A JP2001102970A JP2002292871A JP 2002292871 A JP2002292871 A JP 2002292871A JP 2001102970 A JP2001102970 A JP 2001102970A JP 2001102970 A JP2001102970 A JP 2001102970A JP 2002292871 A JP2002292871 A JP 2002292871A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
piezoelectric element
recording head
jet recording
substrate
ink jet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001102970A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Kamei
宏行 亀井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2001102970A priority Critical patent/JP2002292871A/en
Publication of JP2002292871A publication Critical patent/JP2002292871A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ink-jet recording head and an ink-jet recorder in which an integrated circuit and a piezoelectric element are surely connected with each other and a substrate is prevented from deforming and breaking. SOLUTION: The ink-jet recording head is provided with the channel formation substrate 10 formed of a single crystal silicon where pressure generation chambers communicating with nozzle openings 21 are defined, and the piezoelectric element 300 comprising a lower electrode 60, a piezoelectric layer 70 and an upper electrode 80 set via a diaphragm to one face side of the channel formation substrate 10. The ink-jet recording head is provided with the jointing substrate 40 jointed to the side of the piezoelectric element 300 of the channel formation substrate 10 thereby forming a sealing space 43 for sealing the piezoelectric element 300. As an adhesive for jointing the jointing substrate 40 and the channel formation substrate 10 with each other and sealing the sealing space 43, a conductive adhesive 30 containing a conductive filler 31 is used. Moreover, a discrete electrode 90 of the piezoelectric element 300 and a driving system wiring line 42 connected to each terminal of the integrated circuit 41 set to the side of a jointing face of the jointing substrate 40 are electrically connected to each other via the conductive adhesive 30.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、インク滴を吐出す
るノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構
成し、この振動板を介して圧電素子を設けて、圧電素子
の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式記
録ヘッド及びインクジェット式記録装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure generating chamber which communicates with a nozzle opening for discharging ink droplets, which is constituted by a vibrating plate. TECHNICAL FIELD The present invention relates to an ink jet recording head and an ink jet recording apparatus for ejecting ink droplets by using an ink jet recording head.

【0002】[0002]

【従来の技術】インク滴を吐出するノズル開口と連通す
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧して
ノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長、収縮する縦
振動モードの圧電アクチュエータを使用したものと、た
わみ振動モードの圧電アクチュエータを使用したものの
2種類が実用化されている。
2. Description of the Related Art A part of a pressure generating chamber communicating with a nozzle opening for discharging ink droplets is constituted by a vibrating plate, and the vibrating plate is deformed by a piezoelectric element to pressurize the ink in the pressure generating chamber to pass the nozzle opening. Two types of ink jet recording heads that eject ink droplets have been commercialized, one using a longitudinal vibration mode piezoelectric actuator that expands and contracts in the axial direction of the piezoelectric element, and the other using a flexural vibration mode piezoelectric actuator. ing.

【0003】前者は圧電素子の端面を振動板に当接させ
ることにより圧力発生室の容積を変化させることができ
て、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電素子をノズル開口の配列ピッチに一致させて櫛
歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられた
圧電素子を圧力発生室に位置決めして固定する作業が必
要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。
[0003] In the former, the volume of the pressure generating chamber can be changed by bringing the end face of the piezoelectric element into contact with the diaphragm, and a head suitable for high-density printing can be manufactured. There is a problem in that a difficult process of cutting into a comb shape in accordance with the arrangement pitch of the openings and an operation of positioning and fixing the cut piezoelectric element in the pressure generating chamber are required, and the manufacturing process is complicated.

【0004】これに対して後者は、圧電材料のグリーン
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電素子を作
り付けることができるものの、たわみ振動を利用する関
係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困難
であるという問題がある。
On the other hand, in the latter, a piezoelectric element can be formed on a diaphragm by a relatively simple process of sticking a green sheet of a piezoelectric material according to the shape of a pressure generating chamber and firing the green sheet. In addition, there is a problem that a certain area is required due to the use of flexural vibration, and that high-density arrangement is difficult.

【0005】一方、後者の記録ヘッドの不都合を解消す
べく、特開平5−286131号公報に見られるよう
に、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧
電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法に
より圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生
室毎に独立するように圧電素子を形成したものが提案さ
れている。
On the other hand, in order to solve the latter disadvantage of the recording head, a uniform piezoelectric material layer is formed over the entire surface of the diaphragm by a film forming technique as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-286131. A proposal has been made in which the piezoelectric material layer is cut into a shape corresponding to the pressure generating chambers by a lithography method, and a piezoelectric element is formed so as to be independent for each pressure generating chamber.

【0006】これによれば圧電素子を振動板に貼付ける
作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、か
つ簡便な手法で圧電素子を作り付けることができるばか
りでなく、圧電素子の厚みを薄くできて高速駆動が可能
になるという利点がある。
This eliminates the need for attaching the piezoelectric element to the vibration plate, which not only allows the piezoelectric element to be manufactured by a precise and simple method such as lithography, but also reduces the thickness of the piezoelectric element. There is an advantage that it can be made thin and can be driven at high speed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】このようなインクジェ
ット式記録ヘッドには、圧電素子を駆動する集積回路が
一体的に設けられている。この集積回路と圧電素子の個
別電極から引き出された引き出し配線とは、ワイヤーボ
ンディング等により接続されており、接続時の加熱、あ
るいはその際に生じる振動によって基板に変形や割れが
発生してしまうという問題がある。
In such an ink jet recording head, an integrated circuit for driving a piezoelectric element is integrally provided. The integrated circuit and the lead wiring drawn from the individual electrode of the piezoelectric element are connected by wire bonding or the like, and the substrate is deformed or cracked due to heating at the time of connection or vibration generated at that time. There's a problem.

【0008】また、ワイヤーボンディングによって接続
する場合、組立工程が比較的煩雑であり製造効率が低い
という問題がある。
[0008] In the case of connection by wire bonding, there is a problem that the assembling process is relatively complicated and the manufacturing efficiency is low.

【0009】本発明は、このような事情に鑑み、集積回
路と圧電素子とを確実に接続すると共に基板の変形及び
割れを防止したインクジェット式記録ヘッド及びインク
ジェット式記録装置を提供することを課題とする。
In view of such circumstances, an object of the present invention is to provide an ink jet type recording head and an ink jet type recording apparatus in which an integrated circuit and a piezoelectric element are securely connected and a substrate is prevented from being deformed and cracked. I do.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の第1の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室が
画成される単結晶シリコンからなる流路形成基板と、該
流路形成基板の一方面側に振動板を介して設けられる下
電極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子とを具備す
るインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記流路形成
基板の前記圧電素子側に接合されて当該圧電素子を封止
する封止空間を形成する接合基板を具備し、この接合基
板と前記流路形成基板とを接合すると共に前記封止空間
を封止する接着剤として、導電フィラを含有する導電性
接着剤を用いると共に、当該導電性接着剤を介して前記
圧電素子の個別電極と前記接合基板の接合面側に設けら
れた集積回路の各端子に接続された駆動系配線とが電気
的に接続されていることを特徴とするインクジェット式
記録ヘッドにある。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a flow path forming substrate made of single-crystal silicon, in which a pressure generating chamber communicating with a nozzle opening is defined; In an ink jet recording head including a lower electrode provided on one surface side of a formation substrate via a vibration plate, and a piezoelectric element including a piezoelectric layer and an upper electrode, the ink jet recording head is joined to the piezoelectric element side of the flow path formation substrate. A bonding substrate that forms a sealing space for sealing the piezoelectric element, and includes a conductive filler as an adhesive for bonding the bonding substrate and the flow path forming substrate and sealing the sealing space. In addition to using a conductive adhesive, the individual electrodes of the piezoelectric element and the drive system wiring connected to each terminal of the integrated circuit provided on the bonding surface side of the bonding substrate via the conductive adhesive are electrically connected. Connected In an ink jet recording head, characterized in that.

【0011】かかる第1の態様では、圧電素子と集積回
路とを導電性接着剤を介して電気的に接続し、接合基板
と流路形成基板との間に導電性接着剤によって圧電素子
を封止する封止空間を形成することで、圧電素子と集積
回路とを確実に接続することができると共に圧電素子の
外部環境による劣化を防止することができる。
In the first aspect, the piezoelectric element and the integrated circuit are electrically connected via a conductive adhesive, and the piezoelectric element is sealed between the bonding substrate and the flow path forming substrate with the conductive adhesive. By forming the sealed space for stopping the piezoelectric element, the piezoelectric element and the integrated circuit can be reliably connected, and the piezoelectric element can be prevented from being deteriorated by the external environment.

【0012】本発明の第2の態様は、第1の態様におい
て、前記個別電極が、前記圧電素子の上電極から前記流
路形成基板上に引き出された引き出し電極であることを
特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the individual electrode is an extraction electrode extended from the upper electrode of the piezoelectric element onto the flow path forming substrate. In the recording head.

【0013】かかる第2の態様では、引き出し電極によ
って集積回路と圧電素子とを導電性接着剤によって確実
に接続することができる。
In the second aspect, the integrated circuit and the piezoelectric element can be reliably connected to each other by the conductive adhesive using the lead-out electrode.

【0014】本発明の第3の態様は、第1又は2の態様
において、前記封止空間を封止する領域に設けられる前
記導電性接着剤によって、前記引き出し配線と前記駆動
系配線とが電気的に接続されていることを特徴とするイ
ンクジェット式記録ヘッドにある。
According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the lead wiring and the drive system wiring are electrically connected to each other by the conductive adhesive provided in a region for sealing the sealing space. An ink jet type recording head characterized by being electrically connected.

【0015】かかる第3の態様では、引き出し配線と駆
動系配線との電気的な接続を行う導電性接着剤によって
封止空間を封止することによって、製造工程を簡略化し
て製造コストを低減することができる。
In the third aspect, the sealing space is sealed with a conductive adhesive for electrically connecting the lead wiring and the driving system wiring, thereby simplifying the manufacturing process and reducing the manufacturing cost. be able to.

【0016】本発明の第4の態様は、第1〜3の何れか
の態様において、前記流路形成基板上には、一端が前記
封止空間外に延設されて外部配線に接続され、他端が前
記集積回路の入力端子に接続された入力配線と前記導電
性接着剤を介して電気的に接続された信号系配線が設け
られていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッ
ドにある。
According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, one end of the flow path forming substrate extends outside the sealing space and is connected to an external wiring, An ink jet recording head is characterized in that the other end is provided with an input wiring connected to an input terminal of the integrated circuit and a signal wiring electrically connected through the conductive adhesive.

【0017】かかる第4の態様では、流路形成基板上に
設けられた信号系配線と入力配線とを導電性接着剤を介
して確実に接続することができる。
According to the fourth aspect, the signal wiring provided on the flow path forming substrate and the input wiring can be reliably connected via the conductive adhesive.

【0018】本発明の第5の態様は、第4の態様におい
て、前記封止空間を封止する領域に設けられる前記導電
性接着剤によって、前記信号系配線と前記入力配線とが
電気的に接続されていることを特徴とするインクジェッ
ト式記録ヘッドにある。
According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect, the signal wiring and the input wiring are electrically connected by the conductive adhesive provided in a region for sealing the sealing space. An ink jet recording head is characterized by being connected.

【0019】かかる第5の態様では、信号配線と入力配
線との電気的な接続を行う導電性接着剤によって封止空
間を封止することによって、製造工程を簡略化して製造
コストを低減することができる。
According to the fifth aspect, the sealing space is sealed with a conductive adhesive for electrically connecting the signal wiring and the input wiring, thereby simplifying the manufacturing process and reducing the manufacturing cost. Can be.

【0020】本発明の第6の態様は、第1〜5の何れか
の態様において、前記導電フィラの直径が、隣り合う前
記引き出し配線の間隔よりも小さく、且つ前記集積回路
の厚さと前記圧電素子の厚さの和よりも大きいことを特
徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
According to a sixth aspect of the present invention, in any one of the first to fifth aspects, the diameter of the conductive filler is smaller than the distance between the adjacent lead wires, and the thickness of the integrated circuit and the piezoelectric element are different from each other. An ink jet recording head is characterized by being larger than the sum of the element thicknesses.

【0021】かかる第6の態様では、導電性接着剤によ
る引き出し配線同士の短絡を防止できると共に封止空間
内で集積回路と圧電素子との短絡を確実に防止すること
ができる。
According to the sixth aspect, it is possible to prevent a short circuit between the lead wires due to the conductive adhesive and to reliably prevent a short circuit between the integrated circuit and the piezoelectric element in the sealed space.

【0022】本発明の第7の態様は、第1〜6の何れか
の態様において、前記導電性接着剤のベース接着剤がエ
ポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリイ
ミド樹脂及びポリサルホン樹脂からなる群から選択され
ることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにあ
る。
According to a seventh aspect of the present invention, in any one of the first to sixth aspects, the base adhesive of the conductive adhesive comprises an epoxy resin, a polyester resin, an acrylic resin, a polyimide resin and a polysulfone resin. Wherein the ink jet recording head is selected from the group consisting of:

【0023】かかる第7の態様では、導電性接着剤のベ
ース接着剤に所定の材料を用いることにより、流路形成
基板と接合基板とを確実に接合して、封止空間を封止す
ることができる。
In the seventh aspect, by using a predetermined material for the base adhesive of the conductive adhesive, the flow path forming substrate and the bonding substrate are securely bonded to seal the sealing space. Can be.

【0024】本発明の第8の態様は、第1〜7の何れか
の態様において、前記導電フィラが金、銅、銀、鉛、銀
と鉛の合金、炭素及びニッケルからなる群から選択され
ることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにあ
る。
According to an eighth aspect of the present invention, in any one of the first to seventh aspects, the conductive filler is selected from the group consisting of gold, copper, silver, lead, an alloy of silver and lead, carbon and nickel. An ink jet recording head is characterized in that:

【0025】かかる第8の態様では、導電フィラに所定
の材料を用いることにより、駆動系配線と引き出し配線
との電気的な導通を確実に図れる。
In the eighth aspect, by using a predetermined material for the conductive filler, electrical conduction between the drive system wiring and the lead wiring can be ensured.

【0026】本発明の第9の態様は、第1〜8の何れか
の態様において、前記圧力発生室が異方性エッチングに
より形成され、前記振動板及び前記圧電素子の各層が成
膜及びリソグラフィ法により形成されたものであること
を特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
According to a ninth aspect of the present invention, in any one of the first to eighth aspects, the pressure generating chamber is formed by anisotropic etching, and the respective layers of the diaphragm and the piezoelectric element are formed by lithography. An ink jet recording head characterized by being formed by a method.

【0027】かかる第9の態様では、高密度のノズル開
口を有するインクジェット式記録ヘッドを大量に且つ比
較的容易に製造することができる。
In the ninth aspect, an ink jet recording head having high-density nozzle openings can be manufactured in a large amount and relatively easily.

【0028】本発明の第10の態様は、第1〜9の何れ
かの態様のインクジェット式記録ヘッドを具備すること
を特徴とするインクジェット式記録装置にある。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided an ink jet recording apparatus comprising the ink jet recording head according to any one of the first to ninth aspects.

【0029】かかる第10の態様では、ヘッドのインク
吐出特性を向上したインクジェット式記録装置を実現で
きる。
According to the tenth aspect, it is possible to realize an ink jet recording apparatus in which the ink ejection characteristics of the head are improved.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下に本発明を実施形態に基づい
て詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail based on embodiments.

【0031】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図
であり、図2は、接合基板の上面図及び流路形成基板の
上面図であり、図3は、インクジェット式記録ヘッドの
1つの圧力発生室の長手方向及び並設方向における断面
構造を示す図である。
(Embodiment 1) FIG. 1 is an exploded perspective view showing an ink jet recording head according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a top view of a bonding substrate and a top view of a flow path forming substrate. FIG. 3 is a diagram showing a cross-sectional structure of one pressure generating chamber of the ink jet recording head in the longitudinal direction and the juxtaposed direction.

【0032】図示するように、流路形成基板10は、例
えば、50〜150μmの厚さの単結晶シリコン基板か
らなり、その一方面は開口面となり、他方面には予め熱
酸化により形成した二酸化シリコンからなる、厚さ0.
1〜2μmの弾性膜50が形成されている。
As shown in the figure, the flow path forming substrate 10 is made of, for example, a single crystal silicon substrate having a thickness of 50 to 150 μm, one surface of which is an opening surface, and the other surface of which is formed of a dioxide formed in advance by thermal oxidation. It is made of silicon and has a thickness of 0.
An elastic film 50 having a thickness of 1 to 2 μm is formed.

【0033】流路形成基板10の開口面には、異方性エ
ッチングにより複数の隔壁11によって区画された圧力
発生室12が形成されている。また、各圧力発生室12
の長手方向一端部には、後述するリザーバ形成基板のリ
ザーバ部に連通して各圧力発生室12の共通のインク室
となるリザーバ100の一部を構成する連通部13が形
成され、各圧力発生室12の長手方向一端部とそれぞれ
インク供給路14を介して連通されている。
On the opening surface of the flow path forming substrate 10, a pressure generating chamber 12 partitioned by a plurality of partition walls 11 is formed by anisotropic etching. Further, each pressure generating chamber 12
A communication portion 13 which forms a part of a reservoir 100 which communicates with a reservoir portion of a reservoir forming substrate, which will be described later, and which serves as a common ink chamber of each pressure generation chamber 12 is formed at one end portion in the longitudinal direction. Each of the chambers 12 communicates with one longitudinal end of the chamber 12 via an ink supply path 14.

【0034】なお、これら連通部13及びインク供給路
14は、圧力発生室12と共に異方性エッチングによっ
て形成されている。また、インク供給路14は、圧力発
生室12のインクの流出入を制御するためのものであ
り、圧力発生室12及び連通部13よりも浅く形成され
ている。
The communication section 13 and the ink supply path 14 are formed together with the pressure generating chamber 12 by anisotropic etching. The ink supply path 14 is for controlling the flow of ink into and out of the pressure generating chamber 12 and is formed shallower than the pressure generating chamber 12 and the communication portion 13.

【0035】ここで、異方性エッチングは、単結晶シリ
コン基板をKOH等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々
に侵食されて(110)面に垂直な第1の(111)面
と、この第1の(111)面と約70度の角度をなし且
つ上記(110)面と約35度の角度をなす第2の(1
11)面とが出現し、(110)面のエッチングレート
と比較して(111)面のエッチングレートが約1/1
80であるという性質を利用して行われるものである。
かかる異方性エッチングにより、二つの第1の(11
1)面と斜めの二つの第2の(111)面とで形成され
る平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行う
ことができ、圧力発生室12を高密度に配列することが
できる。
Here, in the anisotropic etching, when the single crystal silicon substrate is immersed in an alkaline solution such as KOH, the substrate is gradually eroded and the first (111) plane perpendicular to the (110) plane and the first (111) plane A second (1) which forms an angle of about 70 degrees with the (111) plane and forms an angle of about 35 degrees with the (110) plane.
11) plane, and the etching rate of the (111) plane is about 1/1 compared to the etching rate of the (110) plane.
This is performed using the property of being 80.
By such anisotropic etching, two first (11
Precision processing can be performed based on depth processing of a parallelogram formed by the 1) plane and two oblique second (111) planes, and the pressure generating chambers 12 can be arranged at high density. it can.

【0036】本実施形態では、各圧力発生室12の長辺
を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で
形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板1
0をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。なお、弾性膜50は、シ
リコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵さ
れる量がきわめて小さい。
In this embodiment, the long side of each pressure generating chamber 12 is formed by the first (111) plane, and the short side is formed by the second (111) plane. The pressure generating chamber 12 is provided on the flow path forming substrate 1.
It is formed by etching until it reaches the elastic film 50 almost through 0. The amount of the elastic film 50 that is attacked by the alkaline solution for etching the silicon single crystal substrate is extremely small.

【0037】この流路形成基板10の開口面側には、各
圧力発生室12のインク供給路14とは反対側で連通す
るノズル開口21が穿設されたノズルプレート20が接
着剤や熱溶着フィルム等を介して固着されている。な
お、ノズルプレート20は、厚さが例えば、0.1〜1
mmで、線膨張係数が300℃以下で、例えば2.5〜
4.5[×10-6/℃]であるガラスセラミックス、又
は不錆鋼などからなる。ノズルプレート20は、一方の
面で流路形成基板10の一面を全面的に覆い、シリコン
単結晶基板を衝撃や外力から保護する補強板の役目も果
たす。また、ノズルプレート20は、流路形成基板10
と熱膨張係数が略同一の材料で形成するようにしてもよ
い。この場合には、流路形成基板10とノズルプレート
20との熱による変形が略同一となるため、熱硬化性の
接着剤等を用いて容易に接合することができる。
A nozzle plate 20 having a nozzle opening 21 communicating with the pressure supply chamber 12 on the opposite side of the ink supply path 14 is provided on the opening side of the flow path forming substrate 10 with an adhesive or heat welding. It is fixed via a film or the like. The thickness of the nozzle plate 20 is, for example, 0.1 to 1
mm, the coefficient of linear expansion is 300 ° C. or less, for example, 2.5 to
It is made of 4.5 [× 10 −6 / ° C.] glass ceramic or non-rusting steel. The nozzle plate 20 entirely covers one surface of the flow path forming substrate 10 on one surface, and also serves as a reinforcing plate for protecting the silicon single crystal substrate from impact and external force. Further, the nozzle plate 20 is connected to the flow path forming substrate 10.
And may be formed of a material having substantially the same thermal expansion coefficient. In this case, since the deformation of the flow path forming substrate 10 and the nozzle plate 20 due to heat become substantially the same, it is possible to easily join them using a thermosetting adhesive or the like.

【0038】ここで、インク滴吐出圧力をインクに与え
る圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口21の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出
スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、
1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノ
ズル開口21は数十μmの直径で精度よく形成する必要
がある。
Here, the size of the pressure generating chamber 12 for applying the ink droplet ejection pressure to the ink and the size of the nozzle opening 21 for ejecting the ink droplet depend on the amount of the ejected ink droplet, the ejection speed, and the ejection frequency. Optimized. For example,
When recording 360 ink droplets per inch, the nozzle openings 21 need to be formed with a diameter of several tens of μm with high accuracy.

【0039】一方、流路形成基板10の弾性膜50上に
は、厚さが例えば、約0.2〜0.5μmの下電極膜6
0と、厚さが例えば、約1μmの圧電体層70と、厚さ
が例えば、約0.1μmの上電極膜80とが、後述する
プロセスで積層形成されて、圧電素子300を構成して
いる。ここで、圧電素子300は、下電極膜60、圧電
体層70及び上電極膜80を含む部分をいう。一般的に
は、圧電素子300の何れか一方の電極を共通電極と
し、他方の電極及び圧電体層70を各圧力発生室12毎
にパターニングして構成する。そして、ここではパター
ニングされた何れか一方の電極及び圧電体層70から構
成され、両電極への電圧の印加により圧電歪みが生じる
部分を圧電体能動部という。本実施形態では、下電極膜
60を圧電素子300の共通電極とし、上電極膜80を
圧電素子300の個別電極としているが、駆動回路や配
線の都合でこれを逆にしても支障はない。何れの場合に
おいても、各圧力発生室毎に圧電体能動部が形成されて
いることになる。また、ここでは、圧電素子300と当
該圧電素子300の駆動により変位が生じる弾性膜とを
合わせて圧電アクチュエータと称する。なお、上述した
例では、弾性膜50及び下電極膜60が振動板として作
用するが、下電極膜が弾性膜を兼ねるようにしてもよ
い。
On the other hand, the lower electrode film 6 having a thickness of, for example, about 0.2 to 0.5 μm is formed on the elastic film 50 of the flow path forming substrate 10.
0, a piezoelectric layer 70 having a thickness of, for example, about 1 μm, and an upper electrode film 80 having a thickness of, for example, about 0.1 μm are formed by lamination in a process described later to form the piezoelectric element 300. I have. Here, the piezoelectric element 300 refers to a portion including the lower electrode film 60, the piezoelectric layer 70, and the upper electrode film 80. In general, one of the electrodes of the piezoelectric element 300 is used as a common electrode, and the other electrode and the piezoelectric layer 70 are patterned for each of the pressure generating chambers 12. Here, a portion which is constituted by one of the patterned electrodes and the piezoelectric layer 70 and in which a piezoelectric strain is generated by applying a voltage to both electrodes is referred to as a piezoelectric active portion. In the present embodiment, the lower electrode film 60 is used as a common electrode of the piezoelectric element 300, and the upper electrode film 80 is used as an individual electrode of the piezoelectric element 300. In any case, a piezoelectric active portion is formed for each pressure generating chamber. Further, here, the piezoelectric element 300 and the elastic film whose displacement is generated by driving the piezoelectric element 300 are collectively referred to as a piezoelectric actuator. In the example described above, the elastic film 50 and the lower electrode film 60 function as a diaphragm, but the lower electrode film may also serve as the elastic film.

【0040】また、圧電素子300の個別電極である上
電極膜80から弾性膜50上まで引き出し電極であるリ
ード電極90が延設されており、このリード電極90
は、後述する集積回路41の各端子と電気的に接続され
ている。
A lead electrode 90 as a lead electrode extends from the upper electrode film 80, which is an individual electrode of the piezoelectric element 300, to the elastic film 50.
Are electrically connected to respective terminals of the integrated circuit 41 described later.

【0041】さらに、流路形成基板10の圧電素子30
0側、本実施形態では、弾性膜50上には、例えば、略
球形の導電フィラ31を含有する異方性導電接着剤から
なる異方性導電接着層30を介して接合基板40が接合
されている。
Further, the piezoelectric element 30 of the flow path forming substrate 10
On the 0 side, in the present embodiment, the bonding substrate 40 is bonded to the elastic film 50 via, for example, an anisotropic conductive adhesive layer 30 made of an anisotropic conductive adhesive containing a substantially spherical conductive filler 31. ing.

【0042】この接合基板40は、シリコン単結晶基板
からなり、圧電素子300に対向する領域に所定の集積
回路(IC)、例えば、本実施形態では、圧電素子30
0を駆動するための駆動回路41が一体的に形成されて
いる。なお、この駆動回路41は、本実施形態では、シ
リコン単結晶基板からなる接合基板40に半導体プロセ
スによって一体的に形成された半導体集積回路である。
The bonding substrate 40 is made of a silicon single crystal substrate, and a predetermined integrated circuit (IC), for example, the piezoelectric element 30 in the present embodiment is provided in a region facing the piezoelectric element 300.
A drive circuit 41 for driving the 0 is integrally formed. In this embodiment, the drive circuit 41 is a semiconductor integrated circuit integrally formed by a semiconductor process on a bonding substrate 40 formed of a silicon single crystal substrate.

【0043】この駆動回路41と各圧電素子300と
は、流路形成基板10と接合基板40とを接合する異方
性導電接着層30を介して電気接続されている。
The driving circuit 41 and each of the piezoelectric elements 300 are electrically connected via the anisotropic conductive adhesive layer 30 for joining the flow path forming substrate 10 and the joining substrate 40.

【0044】具体的には、異方性導電接着層30に含有
される導電フィラ31が、各圧電素子300から引き出
されたリード電極90と駆動回路41の各端子から接合
基板40上に延設された駆動系配線42との間に挟持さ
れることによって、駆動回路41と各圧電素子300と
が電気的に接続される。すなわち、圧電素子300と駆
動回路41とは、圧力発生室12に対向する領域外で電
気的に接続されている。
More specifically, a conductive filler 31 contained in the anisotropic conductive adhesive layer 30 extends on the bonding substrate 40 from the lead electrodes 90 drawn from the respective piezoelectric elements 300 and the respective terminals of the drive circuit 41. The driving circuit 41 and each of the piezoelectric elements 300 are electrically connected to each other by being sandwiched between the driving system wirings 42. That is, the piezoelectric element 300 and the drive circuit 41 are electrically connected outside the region facing the pressure generating chamber 12.

【0045】このため、導電フィラ31の直径は、隣接
するリード電極90同士が短絡しないように、隣り合う
リード電極90の隙間よりも小さいことが好ましい。
For this reason, it is preferable that the diameter of the conductive filler 31 is smaller than the gap between the adjacent lead electrodes 90 so that the adjacent lead electrodes 90 are not short-circuited.

【0046】また、このような異方性導電接着層30を
介して流路形成基板10と接合基板40と接合すること
により、両者の間には、圧電素子300の運動を阻害し
ない程度の空間を確保した状態でこの空間を密封可能な
封止空間である圧電素子保持部43が画成されている。
すなわち、異方性導電接着層30に含有される導電フィ
ラ31が流路形成基板10と接合基板40との間に挟持
されることにより、両者の間に所定の間隔が確保され、
圧電素子保持部43が画成される。
Further, by bonding the flow path forming substrate 10 and the bonding substrate 40 via the anisotropic conductive adhesive layer 30 as described above, a space between the two that does not hinder the movement of the piezoelectric element 300 is provided. The piezoelectric element holding portion 43, which is a sealed space capable of sealing this space while ensuring the above, is defined.
That is, the conductive filler 31 contained in the anisotropic conductive adhesive layer 30 is sandwiched between the flow path forming substrate 10 and the bonding substrate 40, so that a predetermined interval is secured between them.
The piezoelectric element holding part 43 is defined.

【0047】このため、導電フィラ31の直径は、圧電
素子300の膜厚と集積回路41の膜厚との和よりも大
きいことが好ましい。
Therefore, the diameter of the conductive filler 31 is preferably larger than the sum of the thickness of the piezoelectric element 300 and the thickness of the integrated circuit 41.

【0048】すなわち、導電フィラ31の直径rは、集
積回路41の膜厚t1と圧電素子300の膜厚t2との
和よりも大きく、且つ隣接するリード電極90の間隔w
よりも小さいことが好ましい。具体的には、導電フィラ
31の直径rが下記式(1)の関係を満たしていること
が好ましい。
That is, the diameter r of the conductive filler 31 is larger than the sum of the film thickness t1 of the integrated circuit 41 and the film thickness t2 of the piezoelectric element 300, and the distance w between the adjacent lead electrodes 90 is w.
It is preferably smaller than. Specifically, it is preferable that the diameter r of the conductive filler 31 satisfies the relationship of the following equation (1).

【0049】[0049]

【数1】 (t1+t2+2[μm])<r<(w−2[μm]) (1)(T1 + t2 + 2 [μm]) <r <(w−2 [μm]) (1)

【0050】本実施形態では、駆動回路41の膜厚t1
が1.5μmであり、圧電素子300の膜厚t2が1.
5μmであり、隣り合うリード電極90の隙間wが15
μmであるため、導電フィラ31の直径rは5μmより
も大きく、13μmよりも小さいことが好ましい。
In this embodiment, the film thickness t1 of the drive circuit 41
Is 1.5 μm, and the thickness t2 of the piezoelectric element 300 is 1.
5 μm, and the gap w between the adjacent lead electrodes 90 is 15 μm.
Therefore, the diameter r of the conductive filler 31 is preferably larger than 5 μm and smaller than 13 μm.

【0051】また、このような導電フィラ31は、導電
性の高い材料であれば特に限定されず、例えば、金、
銅、銀、鉛、銀と鉛の合金、炭素及びニッケル等を挙げ
ることができる。
The conductive filler 31 is not particularly limited as long as it is a material having high conductivity.
Examples thereof include copper, silver, lead, an alloy of silver and lead, carbon and nickel.

【0052】さらに、異方性導電接着層30のベース接
着剤は、特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂及びポリ
サルホン樹脂等の接着剤を挙げることができる。
Further, the base adhesive of the anisotropic conductive adhesive layer 30 is not particularly limited, and examples thereof include adhesives such as epoxy resin, polyester resin, acrylic resin, polyimide resin and polysulfone resin.

【0053】また、流路形成基板10の圧電素子300
の並設方向の一端部近傍には、圧電素子保持部43の内
側に形成された下電極膜60から所定幅で延設され、F
PC等の外部配線110と接続される接続部61が設け
られている。
The piezoelectric element 300 of the flow path forming substrate 10
Are extended with a predetermined width from the lower electrode film 60 formed inside the piezoelectric element holding portion 43 near one end in the juxtaposition direction.
A connection portion 61 connected to an external wiring 110 such as a PC is provided.

【0054】さらに、この下電極膜60の接続部61に
近接して、外部配線110と接続される複数の信号系配
線91が設けられている。具体的には、この信号系配線
91の一端部は、圧電素子保持部43内側に位置し、他
端部が流路成基板10の端部近傍まで延設され、この他
端部近傍で異方性導電材(AFC)等からなる接続層9
2を介して外部配線110が接続されている。また、信
号系配線91の一端部近傍には、駆動回路41の入力端
子から接合基板40上に延設される外部入力配線44が
電気的に接続されている。すなわち、この信号系配線9
1の一端部近傍と外部入力配線44とは、駆動系配線4
2とリード電極90との電気的な接続と同様に、信号系
配線91上に設けられた導電フィラ31を含有する異方
性導電接着層30によって電気的に接続されている。そ
して、これら信号系配線91、異方性導電接着層30及
び外部入力配線44を介して外部配線110から駆動回
路41に圧電素子300を駆動するための駆動信号等が
供給される。
Further, a plurality of signal lines 91 connected to the external lines 110 are provided near the connection portions 61 of the lower electrode film 60. Specifically, one end of the signal system wiring 91 is located inside the piezoelectric element holding portion 43, and the other end is extended to near the end of the flow path forming substrate 10. Connection layer 9 made of anisotropic conductive material (AFC) or the like
The external wiring 110 is connected through the connection line 2. In the vicinity of one end of the signal line 91, an external input line 44 extending from the input terminal of the drive circuit 41 to the bonding substrate 40 is electrically connected. That is, the signal system wiring 9
1 and the external input wiring 44 are connected to the driving system wiring 4
Similarly to the electrical connection between the lead 2 and the lead electrode 90, they are electrically connected by the anisotropic conductive adhesive layer 30 containing the conductive filler 31 provided on the signal line 91. Then, a drive signal or the like for driving the piezoelectric element 300 is supplied from the external wiring 110 to the drive circuit 41 via the signal system wiring 91, the anisotropic conductive adhesive layer 30, and the external input wiring 44.

【0055】以上説明したように、本実施形態では、圧
電素子300の上電極膜60からの引き出し配線である
リード電極90と駆動回路41の各端子と接続された駆
動系配線42とを、接合基板40と流路形成基板10と
を接合する接着剤である異方性導電接着層30によって
電気的に接続するようにしたので、配線を簡略化できる
と共に確実に接続することができる。また、各配線を異
方性導電接着層30によって接続することにより、圧電
素子300の繰り返し駆動に対する耐久性を向上するこ
とができる。
As described above, in the present embodiment, the lead electrode 90, which is a wiring drawn from the upper electrode film 60 of the piezoelectric element 300, and the drive system wiring 42 connected to each terminal of the drive circuit 41 are joined. Since the substrate 40 and the flow path forming substrate 10 are electrically connected by the anisotropic conductive adhesive layer 30 which is an adhesive for bonding, the wiring can be simplified and the connection can be reliably performed. Further, by connecting the respective wirings with the anisotropic conductive adhesive layer 30, the durability of the piezoelectric element 300 against repeated driving can be improved.

【0056】また、流路形成基板10と接合基板40の
圧電素子保持部43を設けて圧電素子300を外部環境
と遮断しているため、大気中の水分等の外部環境による
圧電素子300の破壊を防止することができ、耐環境性
を向上することができる。さらに、圧電素子300と同
様に、駆動回路41もこの圧電素子保持部43に封止さ
れるため、駆動回路41を遮光することができる。
Further, since the piezoelectric element holding portion 43 of the flow path forming substrate 10 and the bonding substrate 40 is provided to block the piezoelectric element 300 from the external environment, the piezoelectric element 300 is broken by the external environment such as moisture in the air. Can be prevented, and the environmental resistance can be improved. Further, like the piezoelectric element 300, the drive circuit 41 is also sealed in the piezoelectric element holding section 43, so that the drive circuit 41 can be shielded from light.

【0057】さらに、本実施形態では、圧電素子300
から弾性膜50上までリード電極90を延設し、インク
供給路14に対応する領域で、リード電極90と駆動系
配線42とを接続するようにしたので、接合基板40を
接合する際、この接合基板40の荷重が、直接圧電素子
300や振動板腕部にかかることがなく、圧電素子30
0及び振動板の破損を確実に防止することができる。
Further, in this embodiment, the piezoelectric element 300
Since the lead electrode 90 is extended from the surface to the elastic film 50 and the lead electrode 90 and the drive system wiring 42 are connected in a region corresponding to the ink supply path 14, when the bonding substrate 40 is bonded, The load of the bonding substrate 40 is not directly applied to the piezoelectric element 300 or the diaphragm arm, and the piezoelectric element 30
0 and the diaphragm can be reliably prevented from being damaged.

【0058】また、流路形成基板10の連通部13に対
向する領域には、リザーバ100の少なくとも一部を構
成するリザーバ部131を有するリザーバ形成基板13
0が接合されている。このリザーバ部131は、本実施
形態では、リザーバ形成基板130を厚さ方向に貫通し
て圧力発生室12の幅方向に亘って形成されている。そ
して、このリザーバ部131が、弾性膜50及び下電極
膜60を貫通して設けられる貫通孔51を介して流路形
成基板10の連通部13と連通され、各圧力発生室12
の共通のインク室となるリザーバ100が構成されてい
る。
Further, in a region facing the communication portion 13 of the flow path forming substrate 10, the reservoir forming substrate 13 having a reservoir portion 131 constituting at least a part of the reservoir 100 is provided.
0 is joined. In the present embodiment, the reservoir portion 131 is formed so as to penetrate the reservoir forming substrate 130 in the thickness direction and to extend in the width direction of the pressure generating chamber 12. The reservoir 131 is communicated with the communication part 13 of the flow path forming substrate 10 through the through hole 51 provided through the elastic film 50 and the lower electrode film 60, and
The reservoir 100 is a common ink chamber.

【0059】このようなリザーバ形成基板130として
は、流路形成基板10の熱膨張率と略同一の材料、例え
ば、ガラス、セラミック材料等を用いることが好まし
く、本実施形態では、流路形成基板10と同一材料のシ
リコン単結晶基板を用いて形成した。これにより、熱硬
化性の接着剤を用いた高温での接着であっても両者を確
実に接着することができる。したがって、製造工程を簡
略化することができる。
As the reservoir forming substrate 130, it is preferable to use a material having substantially the same thermal expansion coefficient as that of the flow path forming substrate 10, for example, glass, ceramic material, or the like. It was formed using a silicon single crystal substrate of the same material as that of No. 10. As a result, both can be reliably bonded even when bonding at a high temperature using a thermosetting adhesive. Therefore, the manufacturing process can be simplified.

【0060】また、リザーバ形成基板130には、封止
膜141及び固定板142とからなるコンプライアンス
基板140が接合されている。ここで、封止膜141
は、剛性が低く可撓性を有する材料(例えば、厚さが6
μmのポリフェニレンスルフィド(PPS)フィルム)
からなり、この封止膜141によってリザーバ部131
の一方面が封止されている。また、固定板142は、金
属等の硬質の材料(例えば、厚さが30μmのステンレ
ス鋼(SUS)等)で形成される。この固定板142の
リザーバ100に対向する領域は、厚さ方向に完全に除
去された開口部143となっているため、リザーバ10
0の一方面は可撓性を有する封止膜141のみで封止さ
れ、内部圧力の変化によって変形可能な可撓部145と
なっている。
Further, a compliance substrate 140 including a sealing film 141 and a fixing plate 142 is bonded to the reservoir forming substrate 130. Here, the sealing film 141
Is a material having low rigidity and flexibility (for example, having a thickness of 6
μm polyphenylene sulfide (PPS) film)
And the reservoir 131 is formed by the sealing film 141.
Is sealed on one side. The fixing plate 142 is formed of a hard material such as a metal (for example, stainless steel (SUS) having a thickness of 30 μm). The region of the fixing plate 142 facing the reservoir 100 is an opening 143 completely removed in the thickness direction.
0 is sealed only with a sealing film 141 having flexibility to form a flexible portion 145 that can be deformed by a change in internal pressure.

【0061】また、このリザーバ100の長手方向略中
央部外側のコンプライアンス基板140上には、リザー
バ100にインクを供給するためのインク導入口144
が形成されている。さらに、リザーバ形成基板130に
は、インク導入口144とリザーバ100の側壁とを連
通するインク導入路136が設けられている。
An ink introduction port 144 for supplying ink to the reservoir 100 is provided on the compliance substrate 140 substantially outside the central portion in the longitudinal direction of the reservoir 100.
Are formed. Further, the reservoir forming substrate 130 is provided with an ink introduction path 136 that communicates the ink introduction port 144 with the side wall of the reservoir 100.

【0062】このような本実施形態のインクジェット式
記録ヘッドは、図示しない外部インク供給手段と接続し
たインク導入口144からインクを取り込み、リザーバ
100からノズル開口21に至るまで内部をインクで満
たした後、駆動回路41からの記録信号に従い、圧力発
生室12に対応するそれぞれの下電極膜60と上電極膜
80との間に電圧を印加し、弾性膜50、下電極膜60
及び圧電体層70をたわみ変形させることにより、各圧
力発生室12内の圧力が高まりノズル開口21からイン
ク滴が吐出する。
The ink jet recording head of this embodiment takes in ink from an ink inlet 144 connected to an external ink supply means (not shown) and fills the inside from the reservoir 100 to the nozzle opening 21 with ink. According to the recording signal from the driving circuit 41, a voltage is applied between the lower electrode film 60 and the upper electrode film 80 corresponding to the pressure generating chamber 12, and the elastic film 50 and the lower electrode film 60 are applied.
By deforming the piezoelectric layer 70 flexibly, the pressure in each pressure generating chamber 12 increases, and ink droplets are ejected from the nozzle openings 21.

【0063】ここで、本実施形態のインクジェット式記
録ヘッドの製造工程について説明する。なお、図4〜図
6は、圧力発生室12の長手方向の断面図である。
Here, the manufacturing process of the ink jet recording head of this embodiment will be described. 4 to 6 are cross-sectional views of the pressure generating chamber 12 in the longitudinal direction.

【0064】まず、図4(a)に示すように、流路形成
基板10となる単結晶シリコン基板のウェハを約110
0℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性
膜50を形成する。
First, as shown in FIG. 4A, a wafer of a single crystal silicon
Thermal oxidation is performed in a diffusion furnace at 0 ° C. to form an elastic film 50 made of silicon dioxide.

【0065】次に、図4(b)に示すように、弾性膜5
0上の全面にスパッタリングで下電極膜60を形成する
と共に、所定形状にパターニングする。すなわち、パタ
ーニングにより、下電極膜60を基本的には圧電素子保
持部43が画成される領域内に形成すると共に所定の幅
で接続部61(図示なし)を形成する。
Next, as shown in FIG.
The lower electrode film 60 is formed on the entire surface of the substrate 0 by sputtering, and is patterned into a predetermined shape. That is, by patterning, the lower electrode film 60 is basically formed in a region where the piezoelectric element holding portion 43 is defined, and the connection portion 61 (not shown) is formed with a predetermined width.

【0066】この下電極膜60の材料としては、白金等
が好適である。これは、スパッタリング法やゾル−ゲル
法で成膜する後述の圧電体層70は、成膜後に大気雰囲
気下又は酸素雰囲気下で600〜1000℃程度の温度
で焼成して結晶化させる必要があるからである。すなわ
ち、下電極膜60の材料は、このような高温、酸化雰囲
気下で導電性を保持できなければならず、殊に、圧電体
層70としてチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)を用いた
場合には、酸化鉛の拡散による導電性の変化が少ないこ
とが望ましく、これらの理由から白金、イリジウム又は
それらの複層膜が好適である。
The material of the lower electrode film 60 is preferably platinum or the like. This is because it is necessary to crystallize a piezoelectric layer 70 described later formed by a sputtering method or a sol-gel method by firing at a temperature of about 600 to 1000 ° C. in an air atmosphere or an oxygen atmosphere after the film formation. Because. That is, the material of the lower electrode film 60 must be able to maintain conductivity under such a high temperature and oxidizing atmosphere. In particular, when the piezoelectric layer 70 is made of lead zirconate titanate (PZT), It is desirable that the change in conductivity due to the diffusion of lead oxide is small, and for these reasons, platinum, iridium, or a multilayer film thereof is preferable.

【0067】次に、図4(c)に示すように、下電極膜
60上に圧電体層70を成膜する。例えば、本実施形態
では、金属有機物を触媒に溶解・分散したいわゆるゾル
を塗布乾燥してゲル化し、さらに高温で焼成することで
金属酸化物からなる圧電体層70を得る、いわゆるゾル
−ゲル法を用いて形成した。圧電体層70の材料として
は、PZT系の材料がインクジェット式記録ヘッドに使
用する場合には好適である。なお、この圧電体層70の
成膜方法は、特に限定されず、例えば、スパッタリング
法又はMOD法(有機金属熱塗布分解法)等のスピンコ
ート法により成膜してもよい。
Next, as shown in FIG. 4C, a piezoelectric layer 70 is formed on the lower electrode film 60. For example, in the present embodiment, a so-called sol in which a metal organic material is dissolved and dispersed in a catalyst is applied and dried to form a gel, and then fired at a high temperature to obtain a piezoelectric layer 70 made of a metal oxide. Formed by using As a material for the piezoelectric layer 70, a PZT-based material is suitable when used in an ink jet recording head. The method for forming the piezoelectric layer 70 is not particularly limited. For example, the piezoelectric layer 70 may be formed by a spin coating method such as a sputtering method or a MOD method (organic metal thermal coating decomposition method).

【0068】さらに、ゾル−ゲル法又はスパッタリング
法もしくはMOD法等によりチタン酸ジルコン酸鉛の前
駆体膜を形成後、アルカリ水溶液中での高圧処理法にて
低温で結晶化させる方法を用いてもよい。
Further, a method of forming a precursor film of lead zirconate titanate by a sol-gel method, a sputtering method, a MOD method, or the like, and then crystallizing the film at a low temperature by a high-pressure treatment in an alkaline aqueous solution may be used. Good.

【0069】何れにしても、このように成膜された圧電
体層70は、バルクの圧電体とは異なり結晶が優先配向
しており、且つ本実施形態では、圧電体層70は、結晶
が柱状に形成されている。なお、優先配向とは、結晶の
配向方向が無秩序ではなく、特定の結晶面がほぼ一定の
方向に向いている状態をいう。また、結晶が柱状の薄膜
とは、略円柱体の結晶が中心軸を厚さ方向に略一致させ
た状態で面方向に亘って集合して薄膜を形成している状
態をいう。勿論、優先配向した粒状の結晶で形成された
薄膜であってもよい。なお、このように薄膜工程で製造
された圧電体層の厚さは、一般的に0.2〜5μmであ
る。
In any case, unlike the bulk piezoelectric, the piezoelectric layer 70 formed in this manner has crystals preferentially oriented, and in the present embodiment, the piezoelectric layer 70 has It is formed in a column shape. Note that the preferential orientation refers to a state in which a crystal orientation direction is not disordered and a specific crystal plane is oriented in a substantially constant direction. In addition, a crystal having a columnar thin film refers to a state in which substantially columnar crystals are gathered in a plane direction with their central axes substantially aligned in the thickness direction to form a thin film. Of course, it may be a thin film formed of preferentially oriented granular crystals. The thickness of the piezoelectric layer manufactured in the thin film process is generally 0.2 to 5 μm.

【0070】次に、図4(d)に示すように、圧電体層
70上に上電極膜80を成膜する。上電極膜80は、導
電性の高い材料であればよく、アルミニウム、金、ニッ
ケル、白金、イリジウム等の多くの金属や、導電性酸化
物等を使用できる。本実施形態では、白金をスパッタリ
ングにより成膜している。
Next, as shown in FIG. 4D, an upper electrode film 80 is formed on the piezoelectric layer 70. The upper electrode film 80 only needs to be a material having high conductivity, and many metals such as aluminum, gold, nickel, platinum, and iridium, and a conductive oxide can be used. In the present embodiment, platinum is formed by sputtering.

【0071】次に、図5(a)に示すように、圧電体層
70及び上電極膜80のみをエッチングして圧電素子3
00のパターニングを行う。また、本実施形態では、同
時に弾性膜50の連通部13に対向する領域をエッチン
グすることにより連通孔51を形成した。
Next, as shown in FIG. 5A, only the piezoelectric layer 70 and the upper electrode
00 patterning is performed. In the present embodiment, the communication hole 51 is formed by simultaneously etching the region of the elastic film 50 facing the communication portion 13.

【0072】次に、図5(b)に示すように、リード電
極90となる材料を、流路形成基板10の全面に亘って
形成すると共に各圧電素子300毎にリード電極90
と、信号系配線91をパターニングにより形成する。
Next, as shown in FIG. 5B, a material for the lead electrode 90 is formed over the entire surface of the flow path forming substrate 10 and the lead electrode 90 is provided for each piezoelectric element 300.
Then, the signal system wiring 91 is formed by patterning.

【0073】次に、図5(c)に示すように、流路形成
基板10を異方性エッチングすることにより、圧力発生
室12、インク供給路14、連通部13を形成する。
Next, as shown in FIG. 5C, the pressure generating chamber 12, the ink supply path 14, and the communication section 13 are formed by anisotropically etching the flow path forming substrate 10.

【0074】次に、図5(d)に示すように、弾性膜5
0上のリード電極90及び信号系配線91上となる位置
に、導電フィラ31を有する異方性導電接着層30の材
料である異方性導電接着剤30Aを所定量塗布する。
Next, as shown in FIG.
A predetermined amount of an anisotropic conductive adhesive 30A, which is a material of the anisotropic conductive adhesive layer 30 having the conductive filler 31, is applied to positions on the lead electrode 90 and the signal system wiring 91 on the zero.

【0075】次に、図6に示すように、流路形成基板1
0上に異方性導電接着剤30Aで形成された異方性導電
接着層30を介して駆動回路41及び各配線が形成され
た接合基板40を接合する。すなわち、接合基板40に
流路形成基板10側に向かって所定の荷重をかけること
で、異方性導電接着剤30Aに含有される導電フィラ3
1をリード電極90と駆動回路41の各駆動系配線42
との間に挟持させ、異方性導電接着剤30Aを硬化させ
ることで異方性導電接着層30を形成すると共に両者を
電気的に接続する。また、同様に、流路形成基板10上
に設けられた信号系配線91と駆動回路41の外部入力
配線44とが異方性導電接着層30を介して電気的に接
合される。また同時に、圧電素子300に対向する領域
に圧電素子保持部43が画成される。
Next, as shown in FIG.
The drive circuit 41 and the bonding substrate 40 on which each wiring is formed are bonded via the anisotropic conductive adhesive layer 30 formed of the anisotropic conductive adhesive 30A on the substrate 0. That is, by applying a predetermined load to the bonding substrate 40 toward the flow path forming substrate 10, the conductive filler 3 contained in the anisotropic conductive adhesive 30 </ b> A is formed.
1 is a lead electrode 90 and each drive system wiring 42 of the drive circuit 41.
To cure the anisotropic conductive adhesive 30A to form the anisotropic conductive adhesive layer 30 and electrically connect the two. Similarly, the signal wiring 91 provided on the flow path forming substrate 10 and the external input wiring 44 of the drive circuit 41 are electrically connected via the anisotropic conductive adhesive layer 30. At the same time, a piezoelectric element holding portion 43 is defined in a region facing the piezoelectric element 300.

【0076】また、接合基板40の接合を、窒素ガス、
アルゴンガス等の不活性ガス中で行うことにより、圧電
素子保持部43内が25℃で湿度5%RH以下(好まし
くは1%RH以下)となり、圧電素子300の水分によ
る駆動耐久性の劣化を防止することができる。
The bonding of the bonding substrate 40 is performed by using a nitrogen gas,
By performing the process in an inert gas such as an argon gas, the inside of the piezoelectric element holding unit 43 has a humidity of 5% RH or less (preferably 1% RH or less) at 25 ° C. Can be prevented.

【0077】このように、異方性導電接着層30を介し
て流路形成基板10と接合基板40とを接着することに
より、両者の間に圧電素子を封止する圧電素子保持部4
3を形成すると共に、この異方性導電接着層30によっ
て駆動回路41と各圧電素子300又は外部配線110
とを電気的に接続したため、圧電素子300を封止する
封止板と駆動回路を有する回路基板とを別々に設ける必
要が無く、部品点数を減らして製造工程を簡略化すると
共に製造コストを低減することができる。
As described above, by adhering the flow path forming substrate 10 and the bonding substrate 40 via the anisotropic conductive adhesive layer 30, the piezoelectric element holding portion 4 for sealing the piezoelectric element therebetween is provided.
3 and the driving circuit 41 and each piezoelectric element 300 or the external wiring 110 are formed by the anisotropic conductive adhesive layer 30.
Is electrically connected, there is no need to separately provide a sealing plate for sealing the piezoelectric element 300 and a circuit board having a drive circuit, thereby reducing the number of parts, simplifying the manufacturing process, and reducing the manufacturing cost. can do.

【0078】また、異方性導電接着層30によって各配
線を接続することにより、配線の接続時に加熱の必要が
なく、また振動が生じることがないため、基板に変形や
割れ等が発生するのを防止することができる。
Further, by connecting the respective wirings by the anisotropic conductive adhesive layer 30, there is no need for heating when connecting the wirings, and no vibration is generated. Can be prevented.

【0079】その後、流路形成基板10の開口面側にノ
ズル開口21が穿設されたノズルプレート、リザーバ形
成基板130及びコンプライアンス基板140を接合す
る。
Thereafter, the nozzle plate having the nozzle openings 21 formed on the opening surface side of the flow path forming substrate 10, the reservoir forming substrate 130, and the compliance substrate 140 are joined.

【0080】なお、以上説明した一連の膜形成及び異方
性エッチングによって、一枚のウェハ上に多数のチップ
を同時に形成し、プロセス終了後、図1に示すような一
つのチップサイズの流路形成基板10毎に分割し、流路
形成基板10上の下電極膜60の接続部61及び信号系
配線91に異方性導電材(ACF)等からなる接続層9
2を介してFPC等の外部配線110を接続することで
インクジェット式記録ヘッドとする。
By the series of film formation and anisotropic etching described above, a number of chips are simultaneously formed on one wafer, and after the process is completed, a flow path of one chip size as shown in FIG. The connection layer 9 made of an anisotropic conductive material (ACF) or the like is divided into each of the formation substrates
An external connection 110 such as an FPC is connected through the connection line 2 to form an ink jet recording head.

【0081】(他の実施形態)以上、本発明の各実施形
態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的
構成は上述したものに限定されるものではない。
(Other Embodiments) Although the embodiments of the present invention have been described above, the basic configuration of the ink jet recording head is not limited to the above.

【0082】例えば、上述した実施形態1では、圧電素
子保持部43を封止する異方性導電接着層30によっ
て、同時にリード電極90と駆動系配線41又は信号系
配線91と外部入力配線44とを電気的に接続するよう
にしたが、圧電素子保持部43の封止と各配線の接続と
を、それぞれ別々に設けた異方性導電接着層によって行
うようにしてもよい。
For example, in the first embodiment, the lead electrode 90 and the drive system wiring 41 or the signal system wiring 91 and the external input wiring 44 are simultaneously formed by the anisotropic conductive adhesive layer 30 that seals the piezoelectric element holding portion 43. Are electrically connected, but the sealing of the piezoelectric element holding portion 43 and the connection of each wiring may be performed by separately provided anisotropic conductive adhesive layers.

【0083】また、例えば、上述の実施形態1では、異
方性導電接着層30を介して接合基板40を接合するこ
とにより、圧電素子保持部43の封止を行ったが、接合
基板40に圧電素子保持部43とヘッド外部空間をつな
ぐ様な貫通孔を設け、接合基板40を接着後、ヘッド外
部空間及び圧電素子保持部43を真空排気し、水分を2
5℃で1%RH以下にした後、窒素又はアルゴンガス等
の不活性ガスを導入し、その状態で上述の貫通孔を接着
剤等で塞ぐことによって封止を行うようにしてもよい。
Further, for example, in the first embodiment described above, the piezoelectric element holding portion 43 is sealed by bonding the bonding substrate 40 via the anisotropic conductive adhesive layer 30. A through-hole is provided to connect the piezoelectric element holding portion 43 to the head external space, and after bonding the bonding substrate 40, the head external space and the piezoelectric element holding portion 43 are evacuated to remove water.
After reducing the temperature to 1% RH or less at 5 ° C., sealing may be performed by introducing an inert gas such as nitrogen or argon gas and closing the above-mentioned through-hole with an adhesive or the like in this state.

【0084】また、例えば、上述の実施形態1では、成
膜及びリソグラフィプロセスを応用して製造される薄膜
型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、勿論こ
れに限定されるものではなく、例えば、グリーンシート
を貼付する等の方法により形成される厚膜型のインクジ
ェット式記録ヘッドにも本発明を採用することができ
る。
Further, for example, in Embodiment 1 described above, a thin-film type ink jet recording head manufactured by applying a film forming and lithography process has been described as an example. However, the present invention is not limited to this. The present invention can also be applied to a thick-film type ink jet recording head formed by a method such as attaching a green sheet.

【0085】また、これら各実施形態のインクジェット
式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するイン
ク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成し
て、インクジェット式記録装置に搭載される。図7は、
そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図であ
る。
The ink jet recording head of each of these embodiments constitutes a part of a recording head unit having an ink flow path communicating with an ink cartridge or the like, and is mounted on an ink jet recording apparatus. FIG.
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of the ink jet recording apparatus.

【0086】図7に示すように、インクジェット式記録
ヘッドを有する記録ヘッドユニット1A及び1Bは、イ
ンク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが着
脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット1A及び1
Bを搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付けら
れたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられてい
る。この記録ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、
それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物
を吐出するものとしている。
As shown in FIG. 7, the recording head units 1A and 1B having ink jet recording heads are provided with detachable cartridges 2A and 2B constituting ink supply means.
The carriage 3 on which B is mounted is provided movably in the axial direction on a carriage shaft 5 attached to the apparatus main body 4. The recording head units 1A and 1B are, for example,
Each of them ejects a black ink composition and a color ink composition.

【0087】そして、駆動モータ6の駆動力が図示しな
い複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリ
ッジ3に伝達されることで、記録ヘッドユニット1A及
び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿っ
て移動される。一方、装置本体4にはキャリッジ軸5に
沿ってプラテン8が設けられており、図示しない給紙ロ
ーラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シ
ートSがプラテン8に巻き掛けられて搬送されるように
なっている。
The driving force of the driving motor 6 is transmitted to the carriage 3 via a plurality of gears and a timing belt 7 (not shown), so that the carriage 3 on which the recording head units 1A and 1B are mounted moves along the carriage shaft 5. Moved. On the other hand, a platen 8 is provided on the apparatus main body 4 along the carriage shaft 5, and a recording sheet S, which is a recording medium such as paper fed by a paper feed roller (not shown), is wound around the platen 8. It is designed to be transported.

【0088】[0088]

【発明の効果】以上説明したように本発明では、導電性
接着剤を介して圧電素子が形成された流路形成基板と、
圧電素子に対向する領域に集積回路を一体的に形成した
接合基板とを接合すると共に圧電素子の引き出し配線と
集積回路の各端子とを電気的に接続するようにしたた
め、接続の耐久性が向上すると共に接続時の加熱の必要
がないため基板の変形による破損を防止することができ
る。
As described above, according to the present invention, a flow path forming substrate on which a piezoelectric element is formed via a conductive adhesive,
Improves connection durability by joining a bonding substrate with an integrated circuit integrally formed in the area facing the piezoelectric element and electrically connecting the lead wires of the piezoelectric element to each terminal of the integrated circuit. In addition, since there is no need for heating at the time of connection, damage due to deformation of the substrate can be prevented.

【0089】また、接合基板は、圧電素子の封止板と集
積回路基板とを兼用するため、配線及び封止工程が簡略
化されて、製造コストを低減することができる。
Further, since the bonding substrate also serves as the sealing plate for the piezoelectric element and the integrated circuit substrate, the wiring and sealing steps are simplified, and the manufacturing cost can be reduced.

【0090】さらに、インクジェット式記録ヘッドを小
型化できると共に高密度化することができる。
Further, it is possible to reduce the size and the density of the ink jet recording head.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの概略を示す分解斜視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view schematically showing an ink jet recording head according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施形態1に係る接合基板の上面図及
び流路形成基板の上面図である。
FIG. 2 is a top view of a bonding substrate and a top view of a flow path forming substrate according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの圧力発生室の長手方向及び並設方向の断面図
である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of the pressure generating chamber of the inkjet recording head according to the first embodiment of the present invention in the longitudinal direction and the juxtaposed direction.

【図4】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの製造工程を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the ink jet recording head according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの製造工程を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the ink jet recording head according to Embodiment 1 of the present invention.

【図6】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの製造工程を示す断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the ink jet recording head according to Embodiment 1 of the present invention.

【図7】本発明の一実施形態に係るインクジェット式記
録装置の概略図である。
FIG. 7 is a schematic view of an ink jet recording apparatus according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 流路形成基板 11 隔壁 12 圧力発生室 13 リザーバ 14 インク供給路 20 ノズルプレート 21 ノズル開口 30 異方性導電接着層 30A 異方性導電接着剤 31 導電フィラ 40 接合基板 41 駆動回路 42 駆動系配線 43 圧電素子保持部 44 外部入力配線 50 弾性膜 60 下電極膜 70 圧電体層 80 上電極膜 90 リード電極 91 信号系配線 92 接続層 100 リザーバ 110 外部配線 130 リザーバ形成基板 140 コンプライアンス基板 300 圧電素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Flow path forming substrate 11 Partition wall 12 Pressure generating chamber 13 Reservoir 14 Ink supply path 20 Nozzle plate 21 Nozzle opening 30 Anisotropic conductive adhesive layer 30A Anisotropic conductive adhesive 31 Conductive filler 40 Joining substrate 41 Drive circuit 42 Drive system wiring 43 piezoelectric element holding section 44 external input wiring 50 elastic film 60 lower electrode film 70 piezoelectric layer 80 upper electrode film 90 lead electrode 91 signal system wiring 92 connection layer 100 reservoir 110 external wiring 130 reservoir forming substrate 140 compliance substrate 300 piezoelectric element

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ノズル開口に連通する圧力発生室が画成
される単結晶シリコンからなる流路形成基板と、該流路
形成基板の一方面側に振動板を介して設けられる下電
極、圧電体層及び上電極からなる圧電素子とを具備する
インクジェット式記録ヘッドにおいて、 前記流路形成基板の前記圧電素子側に接合されて当該圧
電素子を封止する封止空間を形成する接合基板を具備
し、この接合基板と前記流路形成基板とを接合すると共
に前記封止空間を封止する接着剤として、導電フィラを
含有する導電性接着剤を用いると共に、当該導電性接着
剤を介して前記圧電素子の個別電極と前記接合基板の接
合面側に設けられた集積回路の各端子に接続された駆動
系配線とが電気的に接続されていることを特徴とするイ
ンクジェット式記録ヘッド。
1. A flow path forming substrate made of single crystal silicon defining a pressure generating chamber communicating with a nozzle opening, a lower electrode provided on one surface side of the flow path forming substrate via a diaphragm, and a piezoelectric element. An ink jet recording head comprising a body layer and a piezoelectric element comprising an upper electrode, comprising: a bonding substrate which is bonded to the piezoelectric element side of the flow path forming substrate to form a sealing space for sealing the piezoelectric element. And, as an adhesive for joining the joining substrate and the flow path forming substrate and sealing the sealing space, a conductive adhesive containing a conductive filler is used, and the conductive adhesive is used via the conductive adhesive. An ink jet recording head, wherein an individual electrode of a piezoelectric element is electrically connected to a drive system wiring connected to each terminal of an integrated circuit provided on a bonding surface side of the bonding substrate.
【請求項2】 請求項1において、前記個別電極が、前
記圧電素子の上電極から前記流路形成基板上に引き出さ
れた引き出し電極であることを特徴とするインクジェッ
ト式記録ヘッド。
2. The ink jet recording head according to claim 1, wherein the individual electrode is a lead electrode drawn from the upper electrode of the piezoelectric element onto the flow path forming substrate.
【請求項3】 請求項1又は2において、前記封止空間
を封止する領域に設けられる前記導電性接着剤によっ
て、前記引き出し配線と前記駆動系配線とが電気的に接
続されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘ
ッド。
3. The method according to claim 1, wherein the lead wiring and the drive system wiring are electrically connected by the conductive adhesive provided in a region for sealing the sealing space. Characteristic inkjet recording head.
【請求項4】 請求項1〜3の何れかにおいて、前記流
路形成基板上には、一端が前記封止空間外に延設されて
外部配線に接続され、他端が前記集積回路の入力端子に
接続された入力配線と前記導電性接着剤を介して電気的
に接続された信号系配線が設けられていることを特徴と
するインクジェット式記録ヘッド。
4. The integrated circuit according to claim 1, wherein one end of the flow path forming substrate extends outside the sealed space and is connected to an external wiring, and the other end is an input of the integrated circuit. An ink jet recording head, comprising: an input wiring connected to a terminal; and a signal wiring electrically connected through the conductive adhesive.
【請求項5】 請求項4において、前記封止空間を封止
する領域に設けられる前記導電性接着剤によって、前記
信号系配線と前記入力配線とが電気的に接続されている
ことを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
5. The signal line according to claim 4, wherein the signal wiring and the input wiring are electrically connected by the conductive adhesive provided in a region for sealing the sealing space. Inkjet recording head.
【請求項6】 請求項1〜5の何れかにおいて、前記導
電フィラの直径が、隣り合う前記引き出し配線の間隔よ
りも小さく、且つ前記集積回路の厚さと前記圧電素子の
厚さの和よりも大きいことを特徴とするインクジェット
式記録ヘッド。
6. The conductive filler according to claim 1, wherein a diameter of the conductive filler is smaller than an interval between the adjacent lead wires, and is larger than a sum of a thickness of the integrated circuit and a thickness of the piezoelectric element. An ink jet recording head characterized by being large.
【請求項7】 請求項1〜6の何れかにおいて、前記導
電性接着剤のベース接着剤がエポキシ樹脂、ポリエステ
ル樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂及びポリサルホ
ン樹脂からなる群から選択されることを特徴とするイン
クジェット式記録ヘッド。
7. The method according to claim 1, wherein the base adhesive of the conductive adhesive is selected from the group consisting of an epoxy resin, a polyester resin, an acrylic resin, a polyimide resin and a polysulfone resin. Inkjet recording head.
【請求項8】 請求項1〜7の何れかにおいて、前記導
電フィラが金、銅、銀、鉛、銀と鉛の合金、炭素及びニ
ッケルからなる群から選択されることを特徴とするイン
クジェット式記録ヘッド。
8. The ink jet type according to claim 1, wherein the conductive filler is selected from the group consisting of gold, copper, silver, lead, an alloy of silver and lead, carbon and nickel. Recording head.
【請求項9】 請求項1〜8の何れかにおいて、前記圧
力発生室が異方性エッチングにより形成され、前記振動
板及び前記圧電素子の各層が成膜及びリソグラフィ法に
より形成されたものであることを特徴とするインクジェ
ット式記録ヘッド。
9. The pressure generating chamber according to claim 1, wherein the pressure generating chamber is formed by anisotropic etching, and each layer of the vibration plate and the piezoelectric element is formed by film formation and a lithography method. An ink jet recording head, characterized in that:
【請求項10】 請求項1〜9の何れかのインクジェッ
ト式記録ヘッドを具備することを特徴とするインクジェ
ット式記録装置。
10. An ink jet recording apparatus comprising the ink jet recording head according to claim 1.
JP2001102970A 2001-04-02 2001-04-02 Ink-jet recording head and ink-jet recorder Pending JP2002292871A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001102970A JP2002292871A (en) 2001-04-02 2001-04-02 Ink-jet recording head and ink-jet recorder

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001102970A JP2002292871A (en) 2001-04-02 2001-04-02 Ink-jet recording head and ink-jet recorder

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002292871A true JP2002292871A (en) 2002-10-09

Family

ID=18956096

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001102970A Pending JP2002292871A (en) 2001-04-02 2001-04-02 Ink-jet recording head and ink-jet recorder

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002292871A (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005035087A (en) * 2003-07-17 2005-02-10 Seiko Epson Corp Process for manufacturing liquid ejection head
JP2006188047A (en) * 2004-12-06 2006-07-20 Konica Minolta Holdings Inc Method of manufacturing inkjet head
JP2007136711A (en) * 2005-11-15 2007-06-07 Seiko Epson Corp Device mounting structure, method for mounting device, and liquid droplet jet head
JP2014051008A (en) * 2012-09-06 2014-03-20 Brother Ind Ltd Liquid jet device and piezoelectric actuator
JP2014065264A (en) * 2012-09-27 2014-04-17 Seiko Epson Corp Liquid droplet discharge head, printing device, and manufacturing method of liquid droplet discharge head
WO2016157832A1 (en) 2015-03-27 2016-10-06 Seiko Epson Corporation Inkjet head and inkjet printer
WO2016157788A1 (en) 2015-03-27 2016-10-06 Seiko Epson Corporation Inkjet head and inkjet printer
JP2017001403A (en) * 2016-10-07 2017-01-05 ブラザー工業株式会社 Liquid jet device and piezoelectric actuator
US9705066B2 (en) 2015-03-10 2017-07-11 Seiko Epson Corporation Head and liquid ejecting apparatus
US9919522B2 (en) 2015-09-08 2018-03-20 Seiko Epson Corporation MEMS device, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, manufacturing method of MEMS device, and manufacturing method of liquid ejecting head
US9944077B2 (en) 2015-09-08 2018-04-17 Seiko Epson Corporation MEMS device, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, manufacturing method of MEMS device, and manufacturing method of liquid ejecting head
US10011113B2 (en) 2015-03-10 2018-07-03 Seiko Epson Corporation Manufacturing method of head
JP2019067933A (en) * 2017-09-29 2019-04-25 ブラザー工業株式会社 Composite substrate
JP2020059291A (en) * 2020-01-24 2020-04-16 ブラザー工業株式会社 Liquid jet device and piezoelectric actuator

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005035087A (en) * 2003-07-17 2005-02-10 Seiko Epson Corp Process for manufacturing liquid ejection head
JP4492051B2 (en) * 2003-07-17 2010-06-30 セイコーエプソン株式会社 Method for manufacturing liquid jet head
JP2006188047A (en) * 2004-12-06 2006-07-20 Konica Minolta Holdings Inc Method of manufacturing inkjet head
JP2007136711A (en) * 2005-11-15 2007-06-07 Seiko Epson Corp Device mounting structure, method for mounting device, and liquid droplet jet head
JP4687410B2 (en) * 2005-11-15 2011-05-25 セイコーエプソン株式会社 Device mounting structure and droplet discharge head
JP2014051008A (en) * 2012-09-06 2014-03-20 Brother Ind Ltd Liquid jet device and piezoelectric actuator
JP2014065264A (en) * 2012-09-27 2014-04-17 Seiko Epson Corp Liquid droplet discharge head, printing device, and manufacturing method of liquid droplet discharge head
US9705066B2 (en) 2015-03-10 2017-07-11 Seiko Epson Corporation Head and liquid ejecting apparatus
US10011113B2 (en) 2015-03-10 2018-07-03 Seiko Epson Corporation Manufacturing method of head
WO2016157788A1 (en) 2015-03-27 2016-10-06 Seiko Epson Corporation Inkjet head and inkjet printer
WO2016157832A1 (en) 2015-03-27 2016-10-06 Seiko Epson Corporation Inkjet head and inkjet printer
US10059102B2 (en) 2015-03-27 2018-08-28 Seiko Epson Corporation Inkjet head and inkjet printer
US10150294B2 (en) 2015-03-27 2018-12-11 Seiko Epson Corporation Inkjet head and inkjet printer
US9919522B2 (en) 2015-09-08 2018-03-20 Seiko Epson Corporation MEMS device, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, manufacturing method of MEMS device, and manufacturing method of liquid ejecting head
US9944077B2 (en) 2015-09-08 2018-04-17 Seiko Epson Corporation MEMS device, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, manufacturing method of MEMS device, and manufacturing method of liquid ejecting head
US10449764B2 (en) 2015-09-08 2019-10-22 Seiko Epson Corporation MEMS device, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, manufacturing method of MEMS device, and manufacturing method of liquid ejecting head
JP2017001403A (en) * 2016-10-07 2017-01-05 ブラザー工業株式会社 Liquid jet device and piezoelectric actuator
JP2019067933A (en) * 2017-09-29 2019-04-25 ブラザー工業株式会社 Composite substrate
JP7056059B2 (en) 2017-09-29 2022-04-19 ブラザー工業株式会社 Composite board
JP2020059291A (en) * 2020-01-24 2020-04-16 ブラザー工業株式会社 Liquid jet device and piezoelectric actuator

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6802597B2 (en) Liquid-jet head and liquid-jet apparatus
JP3491688B2 (en) Ink jet recording head
US6840601B2 (en) Liquid-jet head and liquid-jet apparatus
JP2003127366A (en) Ink jet recording head and its manufacturing method, and ink jet recording device
JP2002292871A (en) Ink-jet recording head and ink-jet recorder
JP2003246065A (en) Liquid jet head and liquid jet apparatus
JP2002046281A (en) Ink jet recording head and its manufacturing method and ink jet recorder
JP2003291343A (en) Liquid ejection head, its manufacturing method and liquid ejector
JP2002036547A (en) Ink jet recording head, and its manufacturing method, and ink jet recorder
JP2000135790A (en) Actuator device, ink jet recording head, and ink jet recording device
US7175262B2 (en) Liquid-jet head, method of manufacturing the same and liquid-jet apparatus
JP4129614B2 (en) Inkjet recording head and inkjet recording apparatus
JP2001287363A (en) Ink jet recording head and ink jet recorder
JP3988042B2 (en) Liquid ejecting head, manufacturing method thereof, and liquid ejecting apparatus
JP2004154987A (en) Liquid injection head, its manufacturing process and liquid ejector
JP3636301B2 (en) Inkjet recording head
JP2003118110A (en) Ink-jet recording head and ink-jet recorder
JP4120761B2 (en) Inkjet recording head and inkjet recording apparatus
JP2004224035A (en) Liquid ejecting head, method of producing the same, and liquid ejecting device
JP3832586B2 (en) Method for manufacturing liquid jet head
US20040104975A1 (en) Liquid-jet head, method of manufacturing the same and liquid-jet apparatus
JP3953703B2 (en) Inkjet recording head and inkjet recording apparatus
JP2003251805A (en) Inkjet recording head and inkjet recorder
JP2001138511A (en) Ink jet recording head, method of making the same and ink jet recorder
JP2003080705A (en) Ink jet recording head, its manufacturing method and ink jet recorder