JP4760847B2 - Semiconductor device - Google Patents

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本発明は半導体装置に関し、特に、磁気抵抗あるいは相変化抵抗を利用して情報を記憶するメモリセルを用いた低電力、高速、高集積な不揮発性メモリを含む半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device including a low-power, high-speed, highly integrated nonvolatile memory using memory cells that store information using magnetic resistance or phase change resistance.

不揮発性メモリでありながら、読み書き回数に制限がないメモリとして、マグネトレジスティブ・ランダム・アクセス・メモリ(MRAM)の開発がなされている。MRAMは、メモリセル中の強磁性体の磁化の向きで素子の抵抗が異なる磁気抵抗効果を利用して情報を記憶する。近年、マグネト・レジスタンス(MR)と呼ばれる磁気抵抗変化率が従来の素子よりも大きいマグネティック・トンネル・ジャンクション(MTJ)素子の開発と、そのMRAMへの応用が進められ、スタティック・ランダム・アクセス・メモリ(SRAM)並みの高速読み書き動作が可能で、ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ(DRAM)並みの高集積度が実現できる可能性が示された。このことは、例えば、非特許文献1で述べられている。   Magnetic memory random access memory (MRAM) has been developed as a non-volatile memory with no limit on the number of reading and writing. The MRAM stores information using a magnetoresistive effect in which the resistance of the element varies depending on the magnetization direction of the ferromagnetic material in the memory cell. In recent years, development of a magnetic tunnel junction (MTJ) element called magneto resistance (MR) having a larger magnetoresistive change rate than that of a conventional element and its application to MRAM have been promoted, and a static random access memory. (SRAM) high-speed read / write operation is possible, and the possibility of realizing a high degree of integration equivalent to a dynamic random access memory (DRAM) has been shown. This is described in Non-Patent Document 1, for example.

図11は、MRAMのメモリセルの基本構成を示している。1個のMTJ素子MTJと1個のトランジスタMTからなり、書き込みワード線WW及び読み出しワード線WRと、データ線DLに接続される。MTJ素子MTJは、通常の動作において磁化の向きが固定された強磁性体の固定層と、書き込み動作により磁化の向きが反転可能な強磁性体の自由層との間に、トンネル絶縁膜が挟まれた構造である。このMTJ素子の2端子間の抵抗は、二つの強磁性体層における磁化の向きによって変化し、同じ向きの時は低抵抗状態、互いに逆向きの時は高抵抗状態となる。   FIG. 11 shows a basic configuration of an MRAM memory cell. It consists of one MTJ element MTJ and one transistor MT, and is connected to the write word line WW, the read word line WR, and the data line DL. In the MTJ element MTJ, a tunnel insulating film is sandwiched between a ferromagnetic fixed layer whose magnetization direction is fixed in a normal operation and a ferromagnetic free layer whose magnetization direction can be reversed by a write operation. It is a structured. The resistance between the two terminals of the MTJ element changes depending on the direction of magnetization in the two ferromagnetic layers. When the directions are the same, the resistance is in the low resistance state, and when the directions are opposite, the resistance is in the high resistance state.

読み出し動作は、図12に示すように行う。すなわち、読み出しワード線WRを選択することにより、トランジスタMMCを導通させ、MTJ素子MTJの端子間に電圧を印加し、データ線DLを介してMTJ素子MTJの磁気抵抗に応じて流れる電流IDLを検出することにより、記憶情報を読み出す。一方、書き込み動作は、図13に示すように行う。すなわち、選択された書き込みワード線WWの電流IWWを、書き込みワード線電流IWSとし、データ線DLに書き込みデータに応じた書き込み電流ID1あるいはID0を流すことにより行う。この時、MTJ素子の低抵抗状態に対する高抵抗状態の抵抗増加分の比率である磁化抵抗変化MRは、図14に示すようなヒステリシス特性を示す。書き込みワード線電流IWSで生じるハードアクシス磁界により、MTJ素子の磁化反転が起こりやすくなり、イージーアクシス磁界を生じさせるデータ線電流IDLに対して狭いヒステリシス特性となる。これにより、書き込みワード線WWにより選択したメモリセルのみ磁化反転させて記憶情報を書き込むことができる。なお、図12から図14では、MTJ素子の低抵抗状態を'1',高抵抗状態を'0'としているが、逆であっても構わない。   The read operation is performed as shown in FIG. That is, by selecting the read word line WR, the transistor MMC is turned on, a voltage is applied between the terminals of the MTJ element MTJ, and the current IDL flowing according to the magnetic resistance of the MTJ element MTJ is detected via the data line DL. As a result, the stored information is read out. On the other hand, the write operation is performed as shown in FIG. That is, the current IWW of the selected write word line WW is set as the write word line current IWS, and the write current ID1 or ID0 corresponding to the write data is supplied to the data line DL. At this time, the magnetization resistance change MR, which is the ratio of the resistance increase in the high resistance state to the low resistance state of the MTJ element, exhibits hysteresis characteristics as shown in FIG. Due to the hard axis magnetic field generated by the write word line current IWS, the magnetization reversal of the MTJ element is likely to occur, and the hysteresis characteristic is narrow with respect to the data line current IDL that generates the easy axis magnetic field. Thereby, only the memory cell selected by the write word line WW can be reversed in magnetization and the stored information can be written. In FIGS. 12 to 14, the low resistance state of the MTJ element is “1” and the high resistance state is “0”, but the reverse is also possible.

MRAMと同様に、高速で高集積な不揮発性メモリを目指して、相変化メモリも開発が進められている。例えば、非特許文献2で述べられている。相変化メモリは、相変化材料の状態によ
り抵抗が異なることを利用して情報を記憶する。相変化抵抗の書き換えは、電流を流して発熱させることにより行う。
Similar to MRAM, a phase change memory is being developed aiming at a high-speed and highly integrated nonvolatile memory. For example, it is described in Non-Patent Document 2. The phase change memory stores information using the fact that the resistance varies depending on the state of the phase change material. The rewriting of the phase change resistor is performed by causing a current to flow to generate heat.

シンポジウム・オン・VLSI・サーキッツ、ダイジェスト・オブ・テクニカル・ペーパーズ、第160頁から第163頁(2002年)(2002 Symposium On VLSI Circuits Digest of Technical Papers, pp. 160-163.)Symposium on VLSI Circuits Digest of Technical Papers, pp. 160-163 (2002) アイ・イー・イー・イー、インターナショナル・ソリッドステート・サーキッツ・コンファレンス、ダイジェスト・オブ・テクニカル・ペーパーズ、第202頁から第203頁(2002年)(2002 IEEE International Solid-State Circuits Conference, Digest of Technical Papers, pp. 202-203.)IEE, International Solid-State Circuits Conference, Digest of Technical Papers, pages 202-203 (2002) (2002 IEEE International Solid-State Circuits Conference, Digest of Technical Papers, pp. 202-203.)

本願発明者等は、本願に先立って、MRAMを高集積化した場合の書きこみ動作での消費電流について検討を行った。現状、図13に示した書き込みワード線電流IWS及び書き込み電流ID1あるいはID0は、十分大きな磁界を発生させるために、2mAから8mA程度の大きさが必要である。文献1では、ワード線及びデータ線が発生する磁界をMTJ素子側に集中させるクラッディングという技術を提案しているが、4mA程度の電流を用いている。同時に書き込むビット数が大きくなると、それと同数のデータ線に書き込み電流を流すため、合計の書き込み電流が大きくなることを本願発明者等は見いだした。また、一般に、強磁性体の面積を小さくすると、磁化反転に必要な磁界が大きくなり、さらに大きな電流が必要となることを本願発明者等は見いだした。   Prior to the present application, the inventors of the present application have examined the current consumption in the write operation when the MRAM is highly integrated. At present, the write word line current IWS and the write current ID1 or ID0 shown in FIG. 13 need to have a magnitude of about 2 mA to 8 mA in order to generate a sufficiently large magnetic field. Document 1 proposes a technique called cladding that concentrates magnetic fields generated by word lines and data lines on the MTJ element side, but uses a current of about 4 mA. The inventors of the present application have found that the total write current increases because the write current flows through the same number of data lines as the number of bits simultaneously written increases. In addition, the inventors of the present application have found that, in general, when the area of the ferromagnetic material is reduced, the magnetic field required for magnetization reversal is increased and a larger current is required.

また、相変化メモリも、相変化抵抗に十分な温度上昇を起こすために書き込みに要する電流が大きい。しかも、読み出しと書き込みが同じ電流経路であり、読み出しによるディスターブを防止するためには、読み出し電流と書き込み電流とに所望の比率で差をつけなければならない。そのため、高速な読み出し動作のために読み出し電流を大きくしようとすると、書き込み電流も大きくしなければならないことを本願発明者等は見いだした。   The phase change memory also requires a large current for writing in order to cause a sufficient temperature rise in the phase change resistance. In addition, reading and writing have the same current path, and in order to prevent disturbance due to reading, it is necessary to make a difference between the reading current and the writing current at a desired ratio. For this reason, the inventors of the present application have found that if the read current is increased for a high-speed read operation, the write current must also be increased.

そこで本願発明の目的は、書き込み時の消費電流が小さく低電力で、高集積な高速不揮発性メモリを実現することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to realize a highly integrated high-speed nonvolatile memory with low current consumption at the time of writing and low power.

上記目的を達成するための本発明の代表的な手段の一つを示せば以下の通りである。即ち、複数のワード線と複数のデータ線との所望の交点に配置された複数のメモリセルとを含むメモリアレイと、データ線の両端を駆動し書き込み電流を流すライトバッファとを有し、複数のメモリセルの各々は、相変化抵抗素子とトランジスタとを含み、ライトバッファは、該データ線上の前記メモリセルを反転書き込みする場合のみ、該データ線を駆動する。   One representative means of the present invention for achieving the above object is as follows. That is, a memory array including a plurality of memory cells arranged at desired intersections of a plurality of word lines and a plurality of data lines, a write buffer that drives both ends of the data lines and allows a write current to flow. Each of the memory cells includes a phase change resistance element and a transistor, and the write buffer drives the data line only when the memory cell on the data line is reversely written.

本願発明によれば、データ線に電流を流すことによりメモリセルにデータを書き込む不揮発性半導体メモリにおいては、ライト動作の際に書き込みを行うビット数を低減することにより、消費電流を低減できる。それにより、低電力で高集積なメモリを有する半導体装置が実現できる。   According to the present invention, in a nonvolatile semiconductor memory in which data is written to a memory cell by passing a current through a data line, current consumption can be reduced by reducing the number of bits to be written during a write operation. Accordingly, a semiconductor device having a low power and highly integrated memory can be realized.

以下、本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明する。実施例の各機能ブロックを構成する回路素子は、特に制限されないが、公知のCMOS(相補型MOSトランジスタ)等の集積回路技術によって、単結晶シリコンのような半導体基板上に形成される。図面で、PMOSトランジスタにはボディに矢印の記号を付すことで、NMOSトランジスタと区別することとする。図面にはMOSトランジスタの基板電位の接続は特に明記していないが、MOSトランジスタが正常動作可能な範囲であれば、その接続方法は特に限定しない。また、特に断りの無い場合、信号のロウレベルを'0',ハイレベルを'1'とする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The circuit elements constituting each functional block in the embodiment are not particularly limited, but are formed on a semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known integrated circuit technology such as a CMOS (complementary MOS transistor). In the drawing, the PMOS transistor is distinguished from the NMOS transistor by attaching an arrow symbol to the body. Although the connection of the substrate potential of the MOS transistor is not particularly specified in the drawing, the connection method is not particularly limited as long as the MOS transistor can operate normally. Unless otherwise noted, the signal low level is set to “0” and the high level is set to “1”.

(第1の実施例)
図1は、本発明によるメモリの要部ブロック図である。データエンコーダWCとデータデコーダRDを設けていることが特長である。ここでは、同期式メモリの構成例を示している。クロックバッファCLKB, コマンドバッファCB, コマンドデコーダCD, アドレスバッファAB, アドレスカウンタACT, 入力バッファDIB, 出力バッファDOBを有し、さらにメモリアレイMARを含んだセクタSCT0, SCT1, …が設けられている。セクタはバンクに対応している設けられるが、バンクあたり複数個のセクタとしてもよい。セクタはさらに、ロウプリデコーダXPD, カラムプリデコーダYPD, データエンコーダWC,データデコーダRDなどを有する。
(First embodiment)
FIG. 1 is a principal block diagram of a memory according to the present invention. A feature is that a data encoder WC and a data decoder RD are provided. Here, a configuration example of a synchronous memory is shown. A clock buffer CLKB, a command buffer CB, a command decoder CD, an address buffer AB, an address counter ACT, an input buffer DIB, an output buffer DOB, and sectors SCT0, SCT1,... Including a memory array MAR are provided. A sector is provided corresponding to a bank, but a plurality of sectors may be provided per bank. The sector further includes a row predecoder XPD, a column predecoder YPD, a data encoder WC, a data decoder RD, and the like.

各回路ブロックは、以下のような役割を果たす。クロックバッファCLKBは、外部クロックCLKを内部クロックCLKIとして、コマンドデコーダCDなどに分配する。コマンドデコーダCDは、コマンドバッファCBが取り込む外部からの制御信号CMDに応じて、アドレスバッファAB、カラムアドレスカウンタYCT、入力バッファDIB、出力バッファDOBなどを制御する制御信号CPを発生する。アドレスバッファABは、外部クロックCLKに応じた所望のタイミングで、外部からのアドレスADRを取り込み、アドレスカウンタACTへ送る。アドレスカウンタACTはそのアドレスを初期値として、バースト動作を行うアドレスを発生し、ロウアドレスBXをロウアドレスプリデコーダXPDへ、カラムアドレスBYをカラムアドレスプリデコーダYPDへ送る。ロウアドレスプリデコーダXPDは、ロウアドレスBXをプリデコードし、ロウプリデコードアドレスCXをメモリアレイMARへ出力する。カラムアドレスプリデコーダYPDによりプリデコードして、カラムプリデコードアドレスCYをメモリアレイMARへ出力する。入力バッファDIBは、外部との入出力データDQのデータを所望のタイミングで取り込む。データエンコーダWCは、メモリアレイMARからの読み出しデータGOと比較して、入力データDIをエンコードし、書き込みデータGIをメモリアレイMARへ出力する。一方、データデコーダRDは、読み出しデータGOをデコードし、出力データDOを出力バッファDOBへ送る。出力バッファDOBは、入出力データDQへ所望のタイミングで、出力データDOを出力する。   Each circuit block plays the following role. The clock buffer CLKB distributes the external clock CLK as the internal clock CLKI to the command decoder CD and the like. The command decoder CD generates a control signal CP for controlling the address buffer AB, the column address counter YCT, the input buffer DIB, the output buffer DOB, and the like in accordance with an external control signal CMD captured by the command buffer CB. The address buffer AB takes in an external address ADR at a desired timing according to the external clock CLK and sends it to the address counter ACT. The address counter ACT generates an address for performing a burst operation using the address as an initial value, and sends the row address BX to the row address predecoder XPD and the column address BY to the column address predecoder YPD. The row address predecoder XPD predecodes the row address BX and outputs the row predecode address CX to the memory array MAR. Predecoding is performed by the column address predecoder YPD, and the column predecode address CY is output to the memory array MAR. The input buffer DIB takes in the input / output data DQ with the outside at a desired timing. The data encoder WC encodes the input data DI and outputs the write data GI to the memory array MAR as compared with the read data GO from the memory array MAR. On the other hand, the data decoder RD decodes the read data GO and sends the output data DO to the output buffer DOB. The output buffer DOB outputs the output data DO to the input / output data DQ at a desired timing.

ここで、メモリアレイMARは、後で示すように、MTJ素子とトランジスタを含んだメモリセルを配置して構成される。また、データエンコーダWCとデータデコーダRDにより、通常のバイナリの入出力データDQに対し、メモリアレイMARに書き込むデータを、反転するビット数が少なくなるコードにする。このコーディングは、バス・インバート・コーディング(Bus-Invert Coding)と呼ばれ、非特許文献3:アイ・イー・イー・イー トランズアクションズ・オン・ベリー・ラージ・スケール・インテグレーション(VLSI)システムズ、第3巻1号、第49頁から第58頁、1995年3月(IEEE Transactions on Very Large Scale Integration (VLSI) Systems, Vol. 3, No. 1, pp. 49-58. March 1995.)に示されているコーディングと同様なコーディングである。文献3では、バス・インバート・コーディングにより、チップ間のバスのデータについて、反転するビット数の最大値を半減でき、平均的な個数を低減できることが述べられている。このようなコーディングを用いることにより、メモリアレイMAR中で反転書き込みするメモリセル数の最大値を半減できる。それにより、書き込み時のメモリアレイMARの合計の消費電流の最大値を低減できる。また、消費電流の平均値も低減される。   Here, the memory array MAR is configured by arranging memory cells including MTJ elements and transistors, as will be described later. Further, the data encoder WC and the data decoder RD change the data to be written into the memory array MAR to the code that reduces the number of bits to be inverted with respect to the normal binary input / output data DQ. This coding is called Bus-Invert Coding. Non-Patent Document 3: IEE Transactions on Very Large Scale Integration (VLSI) Systems, No. 3 Vol. 1, pp. 49-58, March 1995 (IEEE Transactions on Very Large Scale Integration (VLSI) Systems, Vol. 3, No. 1, pp. 49-58. March 1995.) It is the same coding as the existing coding. Document 3 states that the maximum number of bits to be inverted can be reduced by half and the average number of bus data between chips can be reduced by bus invert coding. By using such coding, the maximum value of the number of memory cells to be inverted and written in the memory array MAR can be halved. Thereby, the maximum value of the total current consumption of the memory array MAR at the time of writing can be reduced. Moreover, the average value of current consumption is also reduced.

データエンコーダWCをセクタ毎に設けることにより、データをエンコードする際に、メモリアレイMARから読み出した読み出しデータGOをデータエンコーダWCまで伝達するパスを短くしている。それにより、読み出しデータGOの伝達に伴う遅延時間と消費電力を小さくしている。ここでは、データデコーダRDも、データエンコーダWCに合わせて、セクタ毎に設けている。   By providing the data encoder WC for each sector, the path for transmitting the read data GO read from the memory array MAR to the data encoder WC when the data is encoded is shortened. Thereby, the delay time and power consumption associated with the transmission of the read data GO are reduced. Here, the data decoder RD is also provided for each sector in accordance with the data encoder WC.

以下に、データエンコーダWCとデータデコーダRDの構成と動作を説明する。以下では、8ビットのバイナリの入力データDIを、データエンコードWCにより、フラグとして1ビットを加えた9ビットの書き込みデータGIにエンコードする場合を示す。逆に、9ビットの読み出しデータGOを、データデコーダRDにより、フラグを取り除いた8ビットの出力データDOにデコードする。ここで、8ビットのバイナリの入力データDIは、相補信号DI0t〜DI7t,DI0b〜DI7bで伝達される。また、9ビットの書き込みデータGIも、相補信号GI0t〜GI8t,GI0b〜GI8bで伝達される。同様に、9ビットの読み出しデータGOも、相補信号GO0t〜GO8t,GO0b〜GO8bで伝達される。一方、8ビットの出力データDOは、トゥルー信号DO0〜DO7で伝達される。本発明は、このデータ伝達方法に限定されないことはもちろん、このビット数に限定されず、他のビット数でも適用可能である。ただし、ビット数が大きいとデータエンコーダWC及びデータデコーダRDの回路規模が大きくなり、ビット数が小さいとフラグの分のメモリセル数が増加する。そのため、8ビットを9ビットにするコーディング程度が適当である。16ビット構成のメモリの場合、上位8ビットと下位8ビットに分けて、それぞれコーディングすることが望ましい。   Hereinafter, the configuration and operation of the data encoder WC and the data decoder RD will be described. In the following, a case where 8-bit binary input data DI is encoded into 9-bit write data GI with 1 bit added as a flag by data encoding WC is shown. Conversely, the 9-bit read data GO is decoded by the data decoder RD into 8-bit output data DO with the flags removed. Here, 8-bit binary input data DI is transmitted by complementary signals DI0t to DI7t and DI0b to DI7b. Also, 9-bit write data GI is transmitted by complementary signals GI0t to GI8t and GI0b to GI8b. Similarly, 9-bit read data GO is also transmitted by complementary signals GO0t to GO8t and GO0b to GO8b. On the other hand, 8-bit output data DO is transmitted by true signals DO0 to DO7. The present invention is not limited to this data transmission method, but is not limited to this number of bits, and can be applied to other numbers of bits. However, if the number of bits is large, the circuit scale of the data encoder WC and the data decoder RD is large, and if the number of bits is small, the number of memory cells corresponding to the flag increases. For this reason, a coding level in which 8 bits are changed to 9 bits is appropriate. In the case of a 16-bit memory, it is desirable to code each of the upper 8 bits and lower 8 bits separately.

図2は、データエンコーダWCの構成例を示している。8ビットの入力データDI0t〜DI7t,DI0b〜DI7bに対応した8個のデータ制御回路GICと、フラグ制御回路GFCと、判定回路IFDにより構成される。データ制御回路GICは、入力データDI0t〜DI7t,DI0b〜DI7bと読み出しデータGO0t〜GO7t,GO0b〜GO7bを比較し、判定回路IFDが出力する制御信号DIFt, DIFbにより制御されて、書き込みデータGI0t〜GI7t,GI0b〜GI7bを出力する。フラグ制御回路GFCは、フラグの読み出しデータGO8t,GO8bを受け、制御信号DIFt, DIFbにより制御されて、フラグの書き込みデータGI8t,GI8bを出力する。判定回路IFDは、8個のデータ制御回路GICのデータ比較結果DH0〜DH7及びフラグの読み出しデータGO8tに応じて、制御信号DIFt, DIFbを出力する。この制御信号DIFt, DIFbは、データを反転させるか否かを示し、反転させる場合にはDIFtが'0',DIFbが'1'となる。   FIG. 2 shows a configuration example of the data encoder WC. It is composed of eight data control circuits GIC corresponding to 8-bit input data DI0t to DI7t, DI0b to DI7b, a flag control circuit GFC, and a determination circuit IFD. The data control circuit GIC compares the input data DI0t to DI7t, DI0b to DI7b with the read data GO0t to GO7t, GO0b to GO7b, and is controlled by the control signals DIFt and DIFb output from the determination circuit IFD to write data GI0t to GI7t , GI0b to GI7b are output. The flag control circuit GFC receives the flag read data GO8t and GO8b, is controlled by the control signals DIFt and DIFb, and outputs the flag write data GI8t and GI8b. The determination circuit IFD outputs control signals DIFt and DIFb according to the data comparison results DH0 to DH7 of the eight data control circuits GIC and the flag read data GO8t. The control signals DIFt and DIFb indicate whether or not the data is to be inverted. In the case of inversion, DIFt is “0” and DIFb is “1”.

図3は、図2中の判定回路IFDの構成例を示している。この回路は、データ比較結果DH0〜DH7及びフラグの読み出しデータGO8tの9個の入力に対し、'1'が5個以上であるか否かを判定する。2個の論理回路IC4と、論理回路IC4Dからなる。論理回路IC4は、3個の2入力NANDゲートと、3個の2入力NORゲートと、2入力ずつのORをとってNANDをとる4入力複合ゲートと、2入力のORをとって他の2入力とNANDをとる複合ゲートで構成されている。この論理回路IC4は、4入力の'1'の個数に応じた出力を得る回路である。例えば、データ比較結果DH0〜DH3が入力される論理回路IC4の出力DHL1〜DHL4は以下のようになる。DHL1は、DH0〜DH3のいずれかが'1'で、'1'が1個以上の時に、'1'となる。DHL2は、DH0〜DH3中に'1'が2個以上の時に'1'となる。DHL3は、DH0〜DH3中に'1'が3個以上の時に'1'となる。DHL4は、DH0〜DH3がすべて'1'で、'1'の個数が4個の時、'1'となる。論理回路IC4の以上のような出力DHL1〜DHL4及びDHU1〜DHU4と、読み出しデータGO8tが、論理回路IC4Dに入力される。論理回路IC4Dは、2個の2入力NORゲートと、7個の2入力NANDゲートと、4入力のORをとって他の入力とNANDをとる複合ゲートと、4入力NANDゲートと、インバータから構成される。この論理回路IC4Dにより、データ比較結果DH0〜DH7及びフラグの読み出しデータGO8tの9個の入力に対し、'1'が5個以上の時、判定結果DIFtが'1',DIFbが'0'となる。   FIG. 3 shows a configuration example of the determination circuit IFD in FIG. This circuit determines whether “1” is five or more for nine inputs of the data comparison results DH0 to DH7 and flag read data GO8t. It consists of two logic circuits IC4 and logic circuit IC4D. The logic circuit IC4 includes three 2-input NAND gates, three 2-input NOR gates, a 4-input composite gate that takes a NAND by taking two inputs, and another 2 inputs by taking a 2-input OR. It consists of a composite gate that takes inputs and NAND. The logic circuit IC4 is a circuit that obtains an output corresponding to the number of 4-input '1's. For example, the outputs DHL1 to DHL4 of the logic circuit IC4 to which the data comparison results DH0 to DH3 are input are as follows. DHL1 becomes '1' when any of DH0 to DH3 is '1' and '1' is one or more. DHL2 becomes “1” when there are two or more “1” in DH0 to DH3. DHL3 becomes “1” when there are three or more “1” in DH0 to DH3. DHL4 is “1” when DH0 to DH3 are all “1” and the number of “1” is four. The outputs DHL1 to DHL4 and DHU1 to DHU4 as described above of the logic circuit IC4 and the read data GO8t are input to the logic circuit IC4D. The logic circuit IC4D is composed of two 2-input NOR gates, seven 2-input NAND gates, a composite gate that takes a 4-input OR and takes the NAND from the other inputs, a 4-input NAND gate, and an inverter. Is done. With this logic circuit IC4D, when the number of data comparison results DH0 to DH7 and the read data GO8t of the flag is 9 and '1' is 5 or more, the determination result DIFt is '1' and DIFb is '0'. Become.

この判定回路は、スタティックなCMOS論理ゲートで構成されており、タイミングを制御する信号を用いていない。そのため、コーディングによる書き込みデータの遅延を小さくできる。この判定回路は、複合ゲートを用いることにより、ゲート段数を少なくして遅延時間を小さくすると共に、回路規模を小さくしている。このようなCMOS論理ゲートではなく、多入力の差動アンプを用いて判定回路を構成することもできる。その場合、図3に示した判定回路に比べて、動作タイミングの設定などS/N確保に向けた工夫が必要であるが、素子数が低減できる。   This determination circuit is composed of a static CMOS logic gate and does not use a signal for controlling the timing. Therefore, the delay of write data due to coding can be reduced. This determination circuit uses a composite gate to reduce the number of gate stages, reduce the delay time, and reduce the circuit scale. The determination circuit can also be configured using a multi-input differential amplifier instead of such a CMOS logic gate. In that case, as compared with the determination circuit shown in FIG. 3, a device for securing S / N such as setting of operation timing is required, but the number of elements can be reduced.

図4は、図2中のデータ制御回路GICの構成例を示している。図の記号中のiが、0〜7のいずれかであることにより、図2に対応する。4個のPMOSトランジスタと4個のNMOSトランジスタからなる論理ゲートXORを2個と、インバータINVと、2個の2入力NANDゲートND2と、2入力ずつのORをとってNANDをとる4入力複合ゲートONA2を2個と、2入力NANDゲートとインバータからなる2個の書き込みデータドライバGIDで構成される。書き込みデータドライバGIDは、エネーブル信号GIEにより制御され、書き込みデータGIit, GIibを出力する。論理ゲートXORにより、相補信号の入力データDIit, DIibと読み出しデータGOit, GOibとの排他的NORをとり、データ比較結果DHiを出力する。また、インバータINVと論理ゲートXORにより、データ比較結果DHiと相補信号の判定結果DIFt, DIFbとの排他的ORを取り、制御信号GIiEを発生する。この制御信号GIiEは、反転書き込みが必要か否かを示す信号である。制御信号がGIiEが'0'ならば、書き込みデータGIit, GIibを両方'0'とする。制御信号がGIiEが'1'ならば、制御信号DIFtが'0',DIFbが'1'の場合には、入力データDIit, DIibのトゥルー信号とバー信号を入れ替えて書き込みデータGIit, GIibとして出力し、DIFtが'1'でDIFbが'0'の場合には、入力データDIit, DIibをそのまま書き込みデータGIit, GIibとして出力する。個の構成では、複合ゲートを用いることにより、少ないゲート段数で所望の論理を実現している。特に、入力データDIit, DIib及び読み出しデータGOit, GOibと判定結果DIFt, DIFbを相補信号とすることにより、排他的NOR及び排他的ORを1段のゲートで構成し、遅延時間の低減を小さくしている。   FIG. 4 shows a configuration example of the data control circuit GIC in FIG. The symbol i in the figure corresponds to FIG. 2 when i is 0 to 7. Two logic gates XOR consisting of four PMOS transistors and four NMOS transistors, inverter INV, two two-input NAND gates ND2, and a four-input composite gate that takes the NAND of two inputs each It consists of two ONA2 and two write data drivers GID consisting of a 2-input NAND gate and an inverter. The write data driver GID is controlled by an enable signal GIE and outputs write data GIit and GIib. The logical gate XOR takes exclusive NOR between the input data DIit and DIib of the complementary signal and the read data GOit and GOib, and outputs the data comparison result DHi. Further, the inverter INV and the logic gate XOR take the exclusive OR of the data comparison result DHi and the complementary signal determination results DIFt and DIFb to generate the control signal GIiE. This control signal GIiE is a signal indicating whether or not inversion writing is necessary. If the control signal GIiE is '0', both write data GIit and GIib are set to '0'. If control signal GIiE is '1', and control signal DIFt is '0' and DIFb is '1', the true signal and bar signal of input data DIit and DIib are swapped and output as write data GIit and GIib When DIFt is “1” and DIFb is “0”, the input data DIit and DIib are output as they are as write data GIit and GIib. In this configuration, a desired logic is realized with a small number of gate stages by using a composite gate. In particular, by making input data DIit, DIib and read data GOit, GOib and judgment results DIFt, DIFb as complementary signals, exclusive NOR and exclusive OR are configured with a single-stage gate to reduce delay time reduction. ing.

図5は、図2中のフラグ制御回路GFCの構成例を示している。4個のPMOSトランジスタと4個のNMOSトランジスタからなる論理ゲートXORと、2個の2入力NANDゲートND2と、2個のインバータINVと、2入力NANDゲートとインバータからなる2個の書き込みデータドライバGIDで構成される。図4のデータ制御回路GICと同様に、書き込みデータドライバGIDは、エネーブル信号GIEにより制御され、書き込みデータGI8t, GI8bを出力する。論理ゲートXORにより、相補信号のフラグの読み出しデータGO8t, GO8bと判定結果DIFt, DIFbとの排他的NORを取り、制御信号GI8Eを発生する。この制御信号GI8Eは、図4中の制御信号と同様GIiEと同様に、反転書き込みが必要か否かを示す信号である。制御信号がGI8Eが'0'ならば、書き込みデータGI8t, GI8bを両方'0'とする。制御信号がGI8Eが'1'ならば、判定結果DIFt, DIFbをそのまま書き込みデータGI8t, GI8bとして出力する。判定結果DIFt, DIFbに対して、この書き込みデータGI8t, GI8bを出力するパスは、図4のデータ制御回路GICが書き込みデータGIit, GIibを出力するパスと同じ段数となっており、遅延時間をほぼ揃えることができる。   FIG. 5 shows a configuration example of the flag control circuit GFC in FIG. Logic gate XOR consisting of 4 PMOS transistors and 4 NMOS transistors, 2 2-input NAND gates ND2, 2 inverters INV, and 2 write data drivers GID consisting of 2-input NAND gates and inverters Consists of. Similar to the data control circuit GIC of FIG. 4, the write data driver GID is controlled by an enable signal GIE and outputs write data GI8t, GI8b. The logic gate XOR takes exclusive NOR between the complementary signal flag read data GO8t, GO8b and the determination results DIFt, DIFb, and generates a control signal GI8E. This control signal GI8E is a signal indicating whether or not inversion writing is necessary, like GIiE, similarly to the control signal in FIG. If the control signal GI8E is “0”, both write data GI8t and GI8b are set to “0”. If the control signal is GI8E “1”, the determination results DIFt and DIFb are output as write data GI8t and GI8b as they are. For the determination results DIFt and DIFb, the path for outputting the write data GI8t and GI8b has the same number of stages as the path for the data control circuit GIC in FIG. 4 to output the write data GIit and GIib, and delay time is almost the same. Can be aligned.

図6は、データデコーダRDの構成例を示している。8ビットの出力データDO0〜DO7に対応して設けられ、フラグの読み出しデータGO8t, GO8bにより制御される8個のデータ制御回路DODにより構成されている。なお、フラグの読み出しデータGO8t, GO8bについて、8個のデータ制御回路DODに入力することにより、負荷容量が過大になる場合には、偶数段のインバータ列によるバッファを設ければ良い。   FIG. 6 shows a configuration example of the data decoder RD. It is provided corresponding to 8-bit output data DO0 to DO7, and is composed of eight data control circuits DOD controlled by flag read data GO8t and GO8b. When the load capacity becomes excessive by inputting the flag read data GO8t and GO8b to the eight data control circuits DOD, a buffer with an even number of inverter rows may be provided.

図7は、図6中のデータ制御回路DODの構成例を示している。図の記号中のiが、0〜7のいずれかであることにより、図6に対応する。2入力ずつのANDをとってNORをとる4入力複合ゲートNAO2と、2個のPMOSトランジスタと2個のNMOSトランジスタからなるトライステートインバータTIVで構成される。4入力複合ゲートNAO2は、相補信号であるフラグの読み出しデータGO8t, GO8bにより、読み出しデータGOit, GOibのいずれかを選択する。トライステートインバータTIVは、エネーブル信号DOEbがロウ,DOEtがハイになることにより、出力データDOiを出力する。このようにトライステートインバータを用いているのは、出力データDOiは、図1に示しているように、複数のセクタSCT0, SCT1, …から駆動されるバスであるためである。このように、簡単な回路構成で読み出しデータのエンコードは実現できる。遅延時間は小さく、リードのアクセス時間への影響は小さい。   FIG. 7 shows a configuration example of the data control circuit DOD in FIG. The symbol i in the figure corresponds to FIG. 6 because i is any one of 0 to 7. It consists of a 4-input composite gate NAO2 that takes an AND of two inputs and takes NOR, and a tri-state inverter TIV composed of two PMOS transistors and two NMOS transistors. The 4-input composite gate NAO2 selects any one of the read data GOit and GOib by the flag read data GO8t and GO8b which are complementary signals. The tri-state inverter TIV outputs the output data DOi when the enable signal DOEb is low and DOEt is high. The reason why the tri-state inverter is used is that the output data DOi is a bus driven from a plurality of sectors SCT0, SCT1,... As shown in FIG. In this way, encoding of read data can be realized with a simple circuit configuration. The delay time is small and the influence on the read access time is small.

図8は、図1中のメモリアレイMARの構成例を示している。メモリセルアレイMCA、ロウデコーダXDEC、ワードドライバ群WDP、データ線制御回路CCN, CCFを有する。ここでは、簡単のため、参照信号発生用のダミーセルなどは省略している。また、メモリ容量によっては、このような構成を繰り返して図1のメモリアレイMARとしても良い。メモリセルアレイMCAは、書き込みワード線WW0, WW1, WW2, WW3, …及び読み出しワード線WR0, WR1, WR2, WR3, …と、データ線DL0, DL1, DL2, DL3, …の交点に、メモリセルMCが設けられる。メモリセルMCは、両端を接地されたソース線SL01, SL23, …にも接続される。書き込みワード線WW0, WW1, WW2, WW3, …及び読み出しワード線WR0, WR1, WR2, WR3, …は、駆動回路を含むワードドライバ群WDPにより制御される。データ線DL0, DL1, DL2, DL3, …は、センスアンプ及びライトバッファを含むデータ線制御回路CCN, CCFにより両端を制御される。   FIG. 8 shows a configuration example of the memory array MAR in FIG. A memory cell array MCA, a row decoder XDEC, a word driver group WDP, and data line control circuits CCN and CCF are included. Here, for simplification, a dummy cell for generating a reference signal is omitted. Depending on the memory capacity, such a configuration may be repeated to form the memory array MAR in FIG. The memory cell array MCA has memory cells MC at the intersections of the write word lines WW0, WW1, WW2, WW3,... And the read word lines WR0, WR1, WR2, WR3,... And the data lines DL0, DL1, DL2, DL3,. Is provided. The memory cell MC is also connected to source lines SL01, SL23,. Write word lines WW0, WW1, WW2, WW3,... And read word lines WR0, WR1, WR2, WR3,... Are controlled by a word driver group WDP including a drive circuit. The data lines DL0, DL1, DL2, DL3,... Are controlled at both ends by data line control circuits CCN, CCF including a sense amplifier and a write buffer.

各メモリセルMCは、1個のMTJ素子MTJと1個のトランジスタMTからなる。MTJ素子MTJは、通常の動作において磁化の向きが固定された強磁性体の固定層と、書き込み動作により磁化の向きが反転可能な強磁性体の自由層との間に、トンネル絶縁膜が挟まれた構造である。このMTJ素子の2端子間の抵抗は、二つの強磁性体層における磁化の向きによって変化し、同じ向きの時は低抵抗状態、互いに逆向きの時は高抵抗状態となる。メモリセルMCの読み出し動作は、図12に示すように行う。すなわち、WR0, WR1, WR2, WR3, …中で選択した読み出しワード線WRをハイレベルにすることにより、該ワード線に接続されたメモリセル中でトランジスタMTを導通させてMTJ素子MTJの端子間に電圧を印加し、MTJ素子MTJの磁気抵抗に応じて、DL0, DL1, DL2, DL3, …中の所望のデータ線を介して流れる電流IDLを検出することにより、記憶情報を読み出す。一方、書き込み動作は、図13に示すように行う。すなわち、WW0, WW1, WW2, WW3, …中で選択された書き込みワード線の電流IWWを、書き込みワード線電流IWSとし、DL0, DL1, DL2, DL3, …中で選択したデータ線の電流を、書き込みデータに応じて正の書き込み電流ID1あるいは負のID0とすることにより磁界を発生させて行う。   Each memory cell MC includes one MTJ element MTJ and one transistor MT. In the MTJ element MTJ, a tunnel insulating film is sandwiched between a ferromagnetic fixed layer whose magnetization direction is fixed in a normal operation and a ferromagnetic free layer whose magnetization direction can be reversed by a write operation. It is a structured. The resistance between the two terminals of the MTJ element changes depending on the direction of magnetization in the two ferromagnetic layers. When the directions are the same, the resistance is in the low resistance state, and when the directions are opposite, the resistance is in the high resistance state. The read operation of the memory cell MC is performed as shown in FIG. That is, by setting the read word line WR selected in WR0, WR1, WR2, WR3,... To a high level, the transistor MT is turned on in the memory cell connected to the word line, and the MTJ element MTJ is connected between the terminals. Is read out by detecting a current IDL flowing through a desired data line in DL0, DL1, DL2, DL3,... According to the magnetic resistance of the MTJ element MTJ. On the other hand, the write operation is performed as shown in FIG. That is, the current IWW of the write word line selected in WW0, WW1, WW2, WW3,... Is the write word line current IWS, and the current of the data line selected in DL0, DL1, DL2, DL3,. The magnetic field is generated by setting the positive write current ID1 or the negative ID0 in accordance with the write data.

ロウデコーダXDECは、ロウプリデコードアドレスCXをデコードし、ロウデコード信号XA0, XA1, XA2, XA3, …をワードドライバ群WDPへ出力する。ワードドライバ群WDPは、書き込みワード線WW0, WW1, WW2, WW3, …及び読み出しワード線WR0, WR1, WR2, WR3, …に対応して、それぞれ2入力NANDゲートとインバータからなるワードドライバWWD及びWRDが設けられて構成される。ワードドライバWWDは、書き込みワード線駆動のエネーブル信号WWEが'1'の時、ロウデコード信号XA0, XA1, XA2, XA3, …により選択されて、書き込みワード線WW0, WW1, WW2, WW3, …のいずれかを駆動する。書き込みワード線WW0, WW1, WW2, WW3, …は、ワードドライバ群WDPとアレイを挟んだ反対側が接地されており、選択された書き込みワード線に書き込みワード線電流が流れる。ワードドライバWRDは、読み出しワード線駆動のエネーブル信号WREが'1'の時、ロウデコード信号XA0, XA1, XA2, XA3, …により選択されて、読み出しワード線WR0, WR1, WR2, WR3, …のいずれかを駆動する。   The row decoder XDEC decodes the row predecode address CX and outputs row decode signals XA0, XA1, XA2, XA3,... To the word driver group WDP. The word driver group WDP corresponds to write word lines WW0, WW1, WW2, WW3,... And read word lines WR0, WR1, WR2, WR3,. Is provided. The word driver WWD is selected by the row decode signals XA0, XA1, XA2, XA3,... When the write word line drive enable signal WWE is '1', and the Drive one. The write word lines WW0, WW1, WW2, WW3,... Are grounded on the opposite side across the word driver group WDP and the array, and a write word line current flows through the selected write word line. The word driver WRD is selected by the row decode signals XA0, XA1, XA2, XA3,. Drive one.

図9は、図8中のデータ線制御回路CCNの構成例を示している。ここでは、9ビットずつの読み出しあるいは書き込みを、144本のデータ線DL0〜DL143に対して行う例を示しており、3ビット分ずつ3分割された構成としている。3個のカラムデコーダYD16と、9個のライトバッファWBNと、9個のセンスアンプSAと、3個のカラムセレクタYSN3からなる。カラムデコーダYD16は、カラムプリデコードアドレスCYをデコードし、相補信号のカラム選択信号YN0t〜YN15tとYN0b〜YN15b,YN16t〜YN31tとYN16b〜YN31b,YN32t〜YN47tとYN32b〜YN47bの16対から1対ずつを選択する。ライトバッファWBNは、インバータとPMOSトランジスタとNMOSトランジスタとで構成され、書き込みデータGI0t〜GI8t,GI0b〜GI8bを受け、共通データ線DN0〜DN8を駆動する。例えば、書き込みデータGI0tがハイであれば共通データ線DN0をハイに駆動し、GI0bがロウであればDN0をロウに駆動する。ここで、書き込みデータGI0t, GI0bが両方ロウである場合には、ハイインピーダンス状態となる。センスアンプSAは、メモリセルの読み出し動作の際、共通データ線DN0〜DN8の信号を検出して、読み出しデータGO0t〜GO8t,GO0b〜GO8bを出力する。カラムセレクタYSN3は、それぞれ48本のデータ線DL0〜DL47, DL48〜DL95, DL96〜DL143の各々に、カラム選択信号YN0t〜YN15tとYN0b〜YN15b,YN16t〜YN31tとYN16b〜YN31b,YN32t〜YN47tとYN32b〜YN47bにより制御される1個のPMOSトランジスタと2個のNMOSが接続されてなり、48本のデータ線から3本を共通データ線DN0〜DN2, DN3〜DN5, DN6〜DN8に接続する。非選択のデータ線は、接地電圧VSSに保つ。例えば、カラム選択信号YN0tがハイ、YN0bがロウになると、データ線DL0〜DL2を共通データ線DN0〜DN2に接続し、データ線DL3〜DL47をVSSに保つ。   FIG. 9 shows a configuration example of the data line control circuit CCN in FIG. Here, an example in which reading or writing of 9 bits is performed on 144 data lines DL0 to DL143 is shown, and a configuration in which 3 bits are divided into 3 parts is shown. It consists of three column decoders YD16, nine write buffers WBN, nine sense amplifiers SA, and three column selectors YSN3. The column decoder YD16 decodes the column predecode address CY, and pairs of complementary column selection signals YN0t to YN15t and YN0b to YN15b, YN16t to YN31t and YN16b to YN31b, YN32t to YN47t and YN32b to YN47b, one pair at a time. Select. The write buffer WBN includes an inverter, a PMOS transistor, and an NMOS transistor, receives write data GI0t to GI8t, GI0b to GI8b, and drives the common data lines DN0 to DN8. For example, if the write data GI0t is high, the common data line DN0 is driven high, and if GI0b is low, DN0 is driven low. Here, when both the write data GI0t and GI0b are low, a high impedance state is set. The sense amplifier SA detects signals on the common data lines DN0 to DN8 and outputs read data GO0t to GO8t and GO0b to GO8b during a memory cell read operation. The column selector YSN3 is connected to each of 48 data lines DL0 to DL47, DL48 to DL95, DL96 to DL143, respectively, with column selection signals YN0t to YN15t and YN0b to YN15b, YN16t to YN31t, YN16b to YN31b, YN32t to YN47t and YN32b. One PMOS transistor and two NMOSs controlled by ˜YN47b are connected, and three of the 48 data lines are connected to common data lines DN0 to DN2, DN3 to DN5, and DN6 to DN8. Unselected data lines are kept at the ground voltage VSS. For example, when the column selection signal YN0t is high and YN0b is low, the data lines DL0 to DL2 are connected to the common data lines DN0 to DN2, and the data lines DL3 to DL47 are kept at VSS.

図10は、図8中のデータ線制御回路CCFの構成例を示している。図9のデータ線制御回路CCNがメモリセルの読み出しと書き込みの両方に寄与するのに対し、このデータ線制御回路CCFは書き込みのみに用いられる。図9のデータ線制御回路CCNに対応し、9ビットずつの書き込みを、144本のデータ線DL0〜DL143に対して行う例を示しており、3ビット分ずつ3分割された構成としている。3個のカラムデコーダYD16と、9個のライトバッファWBFと、3個のカラムセレクタYSF3からなる。カラムデコーダYD16は、カラムプリデコードアドレスCYをデコードし、相補信号のカラム選択信号YF0t〜YF15tとYF0b〜YF15b,YF16t〜YF31tとYF16b〜YF31b,YF32t〜YF47tとYF32b〜YF47bの16対から1対ずつを選択する。ライトバッファWBFは、図9中のライトバッファWBNと同様に、インバータとPMOSトランジスタとNMOSトランジスタとで構成され、書き込みデータGI0t〜GI8t,GI0b〜GI8bを受け、共通データ線DF0〜DF8を駆動する。ここで、図9中のライトバッファWBNとは、書き込みデータGI0t〜GI8t,GI0b〜GI8bが逆に接続されている。例えば、書き込みデータGI0tがハイであれば共通データ線DF0をロウに駆動し、GI0bがロウであればDF0をハイに駆動する。書き込みデータGI0t, GI0bが両方ロウである場合には、ハイインピーダンス状態となる。カラムセレクタYSN3は、それぞれ48本のデータ線DL0〜DL47, DL48〜DL95, DL96〜DL143の各々に、カラム選択信号YF0t〜YF15tとYF0b〜YF15b,YF16t〜YF31tとYF16b〜YF31b,YF32t〜YF47tとYF32b〜YF47bにより制御される1個のPMOSトランジスタと1個のNMOSが接続されてなり、48本のデータ線から3本を共通データ線DF0〜DF2, DF3〜DF5, DF6〜DF8に接続する。例えば、カラム選択信号YF0tがハイ、YF0bがロウになると、データ線DL0〜DL2を共通データ線DF0〜DF2に接続する。   FIG. 10 shows a configuration example of the data line control circuit CCF in FIG. The data line control circuit CCN of FIG. 9 contributes to both reading and writing of the memory cell, whereas the data line control circuit CCF is used only for writing. 9 shows an example in which writing of 9 bits is performed on 144 data lines DL0 to DL143 in correspondence with the data line control circuit CCN of FIG. It consists of three column decoders YD16, nine write buffers WBF, and three column selectors YSF3. The column decoder YD16 decodes the column predecode address CY, and pairs of complementary column selection signals YF0t to YF15t and YF0b to YF15b, YF16t to YF31t and YF16b to YF31b, YF32t to YF47t and YF32b to YF47b, one pair at a time. Select. Like the write buffer WBN in FIG. 9, the write buffer WBF includes an inverter, a PMOS transistor, and an NMOS transistor, receives write data GI0t to GI8t, GI0b to GI8b, and drives the common data lines DF0 to DF8. Here, write data GI0t to GI8t, GI0b to GI8b are connected in reverse to the write buffer WBN in FIG. For example, if the write data GI0t is high, the common data line DF0 is driven low, and if GI0b is low, DF0 is driven high. When the write data GI0t and GI0b are both low, the high impedance state is entered. The column selector YSN3 is connected to each of 48 data lines DL0 to DL47, DL48 to DL95, DL96 to DL143, respectively, with column selection signals YF0t to YF15t and YF0b to YF15b, YF16t to YF31t, YF16b to YF31b, YF32t to YF47t, and YF32b. One PMOS transistor controlled by ~ YF47b and one NMOS are connected, and three of the 48 data lines are connected to the common data lines DF0 to DF2, DF3 to DF5, and DF6 to DF8. For example, when the column selection signal YF0t is high and YF0b is low, the data lines DL0 to DL2 are connected to the common data lines DF0 to DF2.

このようにライトバッファWBN, WBFを構成することにより、書き込みデータの信号が両方ロウである場合に、ライトバッファが両方ハイインピーダンス状態となり、データ線に電流を流さないように制御できる。すなわち、不要な書き込み電流を防止できる。   By configuring the write buffers WBN and WBF as described above, when both the write data signals are low, both the write buffers are in a high impedance state, and control can be performed so that no current flows through the data lines. That is, unnecessary write current can be prevented.

本実施例のようにデータをコーディングすると、フラグを付加することにより、同時に選択するメモリセル数が2のべき乗ではなくなってしまう。8ビットを9ビットにコーディングする場合、このようにデータ線制御回路CCN, CCFを構成し、3ビットずつに3分割することにより、データパスを揃えることができ、センスアンプなどのタイミング制御が容易になる。   When data is coded as in the present embodiment, the number of memory cells selected at the same time is not a power of 2 by adding a flag. When coding 8 bits to 9 bits, the data line control circuits CCN and CCF are configured in this way, and the data path can be aligned by dividing the data line into 3 bits each, making it easy to control the timing of sense amplifiers, etc. become.

図15は、以上に説明してきた同期式MRAMのリード動作のタイミングの例を示している。このタイミングチャートに従い、動作を説明する。外部クロックCLKの立ち上がり毎に、コマンドデコーダCDが制御信号CMDを判断する。リードコマンドRが与えられることにより、アドレスADRからロウアドレス及びカラムアドレスをアドレスバッファABに取り込む。アドレスバッファABに取り込んだカラムアドレスを初期値として、アドレスカウンタACTがクロックサイクル毎に動作し、ロウアドレスBXとカラムアドレスBYを出力する。これを受けて、ロウアドレスプリデコーダXPDがロウプリデコードアドレスCXを、カラムアドレスプリデコーダYPDがカラムプリデコードアドレスCXを出力し、メモリアレイMAR内で、読み出し用ワード線WRとカラム選択信号YSが選択される。それにより選択されたデータ線に、データ線電流IDLが流れる。これをセンスアンプSAが検出して読み出しデータGOを出力する。データデコーダRDにより読み出しデータGOをデコードして、出力データDOを出力バッファDOBへ送る。さらに出力バッファDOBが外部クロックCLKに応じたタイミングでデータを入出力データDQへ出力する。ここでは、リードコマンドRに対してクロックCLKの2サイクル後の立ち上りに応じて、入出力データDQへ出力しており、リードレイテンシが3の場合を示している。クロックCLKのサイクル毎に、以上の動作が繰り返される。   FIG. 15 shows an example of the timing of the read operation of the synchronous MRAM described above. The operation will be described according to this timing chart. Every time the external clock CLK rises, the command decoder CD determines the control signal CMD. When the read command R is given, the row address and the column address are taken into the address buffer AB from the address ADR. With the column address taken into the address buffer AB as an initial value, the address counter ACT operates every clock cycle, and outputs a row address BX and a column address BY. In response to this, the row address predecoder XPD outputs a row predecode address CX, and the column address predecoder YPD outputs a column predecode address CX. Selected. As a result, the data line current IDL flows through the selected data line. This is detected by the sense amplifier SA and the read data GO is output. The data decoder RD decodes the read data GO and sends the output data DO to the output buffer DOB. Further, the output buffer DOB outputs data to the input / output data DQ at a timing according to the external clock CLK. Here, the case where the read command R is output to the input / output data DQ in response to the rise of the clock CLK after two cycles and the read latency is 3 is shown. The above operation is repeated for each cycle of the clock CLK.

図16は、ライト動作のタイミングの例を示している。リードコマンドWが与えられることにより、アドレスADRからロウアドレス及びカラムアドレスをアドレスバッファABに取り込む。アドレスバッファABに取り込んだカラムアドレスを初期値として、アドレスカウンタACTがクロックCLKの2サイクル毎に動作し、ロウアドレスBXとカラムアドレスBYを出力する。これを受けて、ロウアドレスプリデコーダXPDがロウプリデコードアドレスCXを、カラムアドレスプリデコーダYPDがカラムプリデコードアドレスCXを出力する。メモリアレイMAR内で、まず読み出し用ワード線WRとカラム選択信号YSが選択される。それにより選択されたデータ線に、データ線電流IDLが流れる。これをセンスアンプSAが検出して読み出しデータGOを出力する。一方、ライトコマンドが入力された次のクロックサイクルで、入力バッファDIBが入出力データDQを取り込み、入力データDIを出力する。データエンコーダWDにより、読み出しデータGOと比較して入力データDIをエンコードし、書き込みデータGIとする。読み出しワード線WRをリセットし、書き込みワード線電流IWWに所望の電流を流す。また、ライトバッファによりデータ線を書き込みデータGIに応じて電流を流す。その結果、所望のメモリセルに反転書き込みが行われる。クロックCLKの2サイクル毎に、以上の動作が繰り返される。   FIG. 16 shows an example of the timing of the write operation. When the read command W is given, the row address and the column address are taken into the address buffer AB from the address ADR. With the column address taken into the address buffer AB as an initial value, the address counter ACT operates every two cycles of the clock CLK, and outputs the row address BX and the column address BY. In response to this, the row address predecoder XPD outputs a row predecode address CX, and the column address predecoder YPD outputs a column predecode address CX. First, the read word line WR and the column selection signal YS are selected in the memory array MAR. As a result, the data line current IDL flows through the selected data line. This is detected by the sense amplifier SA and the read data GO is output. On the other hand, in the next clock cycle when the write command is input, the input buffer DIB takes in the input / output data DQ and outputs the input data DI. The data encoder WD encodes the input data DI in comparison with the read data GO to obtain write data GI. The read word line WR is reset, and a desired current is passed through the write word line current IWW. Further, a current is passed through the data line according to the write data GI by the write buffer. As a result, inversion writing is performed on a desired memory cell. The above operation is repeated every two cycles of the clock CLK.

このように、同期式メモリとすることで、外部クロックCLKと同期してコマンドやアドレスの取り込み及びデータの入出力を行う同期式メモリとすることにより、高い周波数での動作が可能であり、高データレートが実現できる。本発明によるMRAMは、SRAMやDRAMについて開発されている各種の高速メモリ方式が応用できる。   Thus, by using a synchronous memory, it is possible to operate at a high frequency by using a synchronous memory that takes in commands and addresses and inputs / outputs data in synchronization with the external clock CLK. Data rate can be realized. The MRAM according to the present invention can be applied to various high-speed memory systems developed for SRAM and DRAM.

この例では、図15のリード動作がクロックCLKと同じサイクルで行われるのに対し、ライト動作をクロックCLKの2サイクル毎としている。これは、ライト動作ではメモリセルからの読み出し動作後に反転書き込みを行うため、ライト動作よりもサイクル時間が長くなるためである。このようにライト動作を2サイクル毎とすることにより、リードのサイクルとなるクロックサイクル時間を短くできる。場合によっては、ライト動作もクロックサイクル毎に行うようにすることもできる。その方が、クロックサイクル時間が長くなるが、リード動作とライト動作のサイクルが揃うため、制御は容易となる。   In this example, the read operation in FIG. 15 is performed in the same cycle as the clock CLK, whereas the write operation is performed every two cycles of the clock CLK. This is because in the write operation, the inversion write is performed after the read operation from the memory cell, so that the cycle time becomes longer than the write operation. Thus, by setting the write operation every two cycles, the clock cycle time that becomes the read cycle can be shortened. In some cases, the write operation can be performed every clock cycle. In this case, the clock cycle time becomes longer, but the cycle of the read operation and the write operation is aligned, so that the control becomes easier.

また、図16のライト動作では、入力データをライトコマンドに対してクロックCLKの1サイクル後に取り込み、ライトレイテンシを1としている。このようにしても、メモリセルの書き込み動作は読み出し動作後に行うため、入力データがクリティカルパスとはならない。ライトレイテンシを1とすることにより、リードレイテンシとの差が小さくなり、入出力データDQのバスの使用効率を向上できる。   In the write operation of FIG. 16, input data is fetched after one cycle of the clock CLK with respect to the write command, and the write latency is set to 1. Even in this case, since the write operation of the memory cell is performed after the read operation, the input data does not become a critical path. By setting the write latency to 1, the difference from the read latency is reduced, and the use efficiency of the I / O data DQ bus can be improved.

図15及び図16では、リードコマンドRあるいはライトコマンドWで、ロウアドレスとカラムアドレスを同時に取り込んでいる。これにより、DRAMでは一般に必要とされているロウアドレス取り込みからカラムアドレス取り込みまでの遅延時間がなく、選択されたデータ線の情報のみを検出できる。DRAMと異なり、MRAMは非破壊読み出しが可能であり、ワード線上の全メモリセルのデータを検出する必要はないため、このような動作が可能である。選択されたデータ線の情報のみを検出することにより、消費電力が低減できる。   In FIG. 15 and FIG. 16, the row address and the column address are fetched simultaneously by the read command R or the write command W. As a result, there is no delay time from row address fetching to column address fetching, which is generally required in DRAMs, and only the information on the selected data line can be detected. Unlike DRAM, MRAM can perform non-destructive reading, and it is not necessary to detect data of all memory cells on the word line, and thus such operation is possible. By detecting only the information of the selected data line, power consumption can be reduced.

図8では、各メモリセルMCが、1個のMTJ素子MTJと1個のトランジスタMTからなる構成を示したが、非特許文献4:アイ・イー・イー・イー、インターナショナル・ソリッドステート・サーキッツ・コンファレンス、ダイジェスト・オブ・テクニカル・ペーパーズ、第128頁から第129頁(2000年)(2000 IEEE International Solid-State Circuits Conference, Digest of Technical Papers, pp. 128-129.)に示されているように、メモリセルを2個のMTJ素子と2個のトランジスタで構成するメモリアレイにも本発明は適用でき、同様に書き込み時の消費電流を低減する効果が得られる。そのようなメモリアレイでは、書き込み時のデータ線電流をループ状に流すため、片側で制御でき、データ線制御回路の構成を簡単化できる。   FIG. 8 shows a configuration in which each memory cell MC includes one MTJ element MTJ and one transistor MT. However, Non-Patent Document 4: IEE Eee, International Solid State Circuits. As shown in the Conference, Digest of Technical Papers, pages 128-129 (2000) (2000 IEEE International Solid-State Circuits Conference, Digest of Technical Papers, pp. 128-129.) In addition, the present invention can be applied to a memory array in which a memory cell is composed of two MTJ elements and two transistors, and an effect of reducing current consumption during writing can be obtained. In such a memory array, since the data line current at the time of writing flows in a loop shape, it can be controlled on one side, and the configuration of the data line control circuit can be simplified.

(第2の実施例)
第1の実施例で説明したような、書き込むビット数を減らす手法は、MRAMだけでなく、相変化メモリでも有効である。本発明を適用した相変化メモリは、MRAMと同様に図1のように構成でき、図2〜図7に示したデータエンコーダ及びデータデコーダを使用できる。図17は、メモリアレイの構成例を示しており、図1中のメモリアレイMARとして用いられる。メモリセルアレイOCA、ロウデコーダXDEC、ワードドライバ群WD、データ線制御回路CCOからなる。ここでも図8と同様に、簡単のため、参照信号発生用のダミーセルなどは省略している。また、メモリ容量によっては、このような構成を繰り返して図1のメモリアレイMARとしても良い。メモリセルアレイOCAは、ワード線WL0, WL1, WL2, WL3, …と、データ線OL0, OL1, OL2, OL3, …の交点に、メモリセルOCが設けられる。メモリセルOCは、両端を接地されたソース線SL01, SL23, …にも接続される。各メモリセルは、1個の相変化抵抗CRと1個のトランジスタMTからなる。相変化抵抗CRは、カルコゲナイド材料でなり、状態により低抵抗状態と高抵抗状態になる。ワード線WL0, WL1, WL2, WL3, …は、ワードドライバ群WDにより駆動される。ロウデコーダXDECは、ロウプリデコードアドレスCXをデコードし、ロウデコード信号XA0, XA1, XA2, XA3, …をワードドライバ群WDへ出力し、それに応じてワードドライバ群WDが選択的にワード線WL0, WL1, WL2, WL3, …を駆動する。データ線OL0, OL1, OL2, OL3, …は、センスアンプ及びライトバッファを含むデータ線制御回路CCOにより制御される。
(Second embodiment)
The technique for reducing the number of bits to be written as described in the first embodiment is effective not only in the MRAM but also in the phase change memory. A phase change memory to which the present invention is applied can be configured as shown in FIG. 1 like the MRAM, and the data encoder and data decoder shown in FIGS. 2 to 7 can be used. FIG. 17 shows a configuration example of the memory array, which is used as the memory array MAR in FIG. The memory cell array OCA, row decoder XDEC, word driver group WD, and data line control circuit CCO are included. Here, as in FIG. 8, for the sake of simplicity, reference signal generating dummy cells and the like are omitted. Depending on the memory capacity, such a configuration may be repeated to form the memory array MAR in FIG. In the memory cell array OCA, memory cells OC are provided at the intersections of the word lines WL0, WL1, WL2, WL3,... And the data lines OL0, OL1, OL2, OL3,. The memory cell OC is also connected to source lines SL01, SL23,. Each memory cell includes one phase change resistor CR and one transistor MT. The phase change resistance CR is made of a chalcogenide material, and changes into a low resistance state and a high resistance state depending on the state. Word lines WL0, WL1, WL2, WL3,... Are driven by a word driver group WD. The row decoder XDEC decodes the row predecode address CX and outputs row decode signals XA0, XA1, XA2, XA3,... To the word driver group WD, and the word driver group WD selectively selects the word lines WL0, Drives WL1, WL2, WL3,…. The data lines OL0, OL1, OL2, OL3,... Are controlled by a data line control circuit CCO including a sense amplifier and a write buffer.

図18は、図17中のデータ線制御回路CCOの構成例を示している。ここでも図9と同様に、9ビットずつの読み出しあるいは書き込みを、144本のデータ線DL0〜DL143に対して行う例を示しており、3ビット分ずつ3分割された構成としている。3個のカラムデコーダYD16と、書き込みパルス発生回路WPGと、9個のライトバッファWBOと、9個のセンスアンプSAOと、3個のカラムセレクタYSO3からなる。図9に示したMRAMのデータ線制御回路CCNと同様に、カラムデコーダYD16は、カラムプリデコードアドレスCYをデコードし、相補信号のカラム選択信号YO0t〜YO15tとYO0b〜YO15b,YO16t〜YO31tとYO16b〜YO31b,YO32t〜YO47tとYO32b〜YO47bの16対から1対ずつを選択する。カラムセレクタYSO3は、図9中のカラムセレクタYSN3と同じ構成であり、それぞれ48本のデータ線OL0〜OL47, OL48〜OL95, OL96〜OL143の各々に、カラム選択信号対により制御される1個のPMOSトランジスタと2個のNMOSが接続されてなり、48本のデータ線から3本を共通データ線CD0〜CD2, CD3〜CD5, CD6〜CD8に接続し、非選択のデータ線を接地電圧VSSに保つ。ライトパルス発生回路WPGは、'1'及び'0'の書き込み用のパルスを、書き込みパルス線WP1, WP0に出力する。ライトバッファWBNは、2個のインバータと2個のPMOSトランジスタとで構成され、書き込みデータGI0t〜GI8t,GI0b〜GI8bを受け、書き込みパルス線WP1, WP0に共通データ線DN0〜DN8を接続する。例えば、書き込みデータGI0tがハイであれば共通データ線CD0を書き込みパルス線WP1に接続し、GI0bがロウであればCD0をWP0に接続する。ここで、書き込みデータGI0t, GI0bが両方ロウである場合には、図9中のライトバッファWBNと同様に、ハイインピーダンス状態となる。センスアンプSAOは、メモリセルの読み出し動作の際、共通データ線CD0〜CD8の信号を検出して、読み出しデータGO0t〜GO8t, GO0b〜GO8bを出力する。   FIG. 18 shows a configuration example of the data line control circuit CCO in FIG. Here, as in FIG. 9, an example in which reading or writing of 9 bits is performed on 144 data lines DL0 to DL143 is shown, and a configuration in which 3 bits are divided into 3 parts is shown. It consists of three column decoders YD16, a write pulse generation circuit WPG, nine write buffers WBO, nine sense amplifiers SAO, and three column selectors YSO3. Similarly to the data line control circuit CCN of the MRAM shown in FIG. 9, the column decoder YD16 decodes the column predecode address CY, and complementary column select signals YO0t to YO15t and YO0b to YO15b, YO16t to YO31t and YO16b to Select one pair each from 16 pairs of YO31b, YO32t to YO47t, and YO32b to YO47b. The column selector YSO3 has the same configuration as the column selector YSN3 in FIG. 9, and each of the 48 data lines OL0 to OL47, OL48 to OL95, and OL96 to OL143 is controlled by a column selection signal pair. A PMOS transistor and two NMOSs are connected. Three of the 48 data lines are connected to the common data lines CD0 to CD2, CD3 to CD5, CD6 to CD8, and the unselected data lines are connected to the ground voltage VSS. keep. The write pulse generation circuit WPG outputs “1” and “0” write pulses to the write pulse lines WP1 and WP0. The write buffer WBN includes two inverters and two PMOS transistors, receives write data GI0t to GI8t, GI0b to GI8b, and connects the common data lines DN0 to DN8 to the write pulse lines WP1 and WP0. For example, if the write data GI0t is high, the common data line CD0 is connected to the write pulse line WP1, and if GI0b is low, CD0 is connected to WP0. Here, when both the write data GI0t and GI0b are low, as in the write buffer WBN in FIG. The sense amplifier SAO detects signals on the common data lines CD0 to CD8 and outputs read data GO0t to GO8t and GO0b to GO8b during a memory cell read operation.

リード動作は、図19に示すように行う。すなわち、WL0, WL1, WL2, WL3, …中で選択したワード線WLをハイレベルとし、該ワード線に接続されたメモリセル中でトランジスタMTを導通させ、所望のカラム選択信号対YOt, YObを選択することにより、センスアンプSAOからカラムセレクタ及びデータ線を介して、相変化抵抗CRの端子間に電圧を印加する。相変化抵抗CRの状態に応じてデータ線に流れる電流IOLにより、メモリセルOCから記憶情報を読み出し、センスアンプSAOで検出し、読み出しデータGOを出力する。ここで、データ線電流IOLの流れる期間は、センスアンプSAOにより定める。   The read operation is performed as shown in FIG. That is, the word line WL selected in WL0, WL1, WL2, WL3,... Is set to the high level, the transistor MT is turned on in the memory cell connected to the word line, and the desired column selection signal pair YOt, YOb is set. By selecting, a voltage is applied between the terminals of the phase change resistor CR from the sense amplifier SAO via the column selector and the data line. The storage information is read from the memory cell OC by the current IOL flowing through the data line according to the state of the phase change resistor CR, detected by the sense amplifier SAO, and read data GO is output. Here, the period during which the data line current IOL flows is determined by the sense amplifier SAO.

一方、ライト動作は、図20に示すように行う。まず、リード動作と同様にメモリセルOCからの読み出し動作を行う。ここで、ワード線WLとカラム選択信号対YOt, YObをそのまま保つ。読み出しデータに応じて書き込みデータが定まる。それに応じて、メモリセルOCへの書き込みを、データ線電流が流れることによる発熱によって、相変化抵抗CRの状態を変化させて行う。反転書き込みを行う場合には、データ線制御回路CCO内のライトパルス発生回路WPGとライトバッファWBNにより、データ線に書き込み電流を流す。'1'の書き込み('1'WRITE)では、小さな電流ID1を長いパルス幅で印加し、相変化抵抗CRをアニールして低抵抗化する。'1'の書き込み('1'WRITE)では、大きな電流ID0を短いパルス幅で印加し、相変化抵抗CRをアモルファス化して高抵抗化する。反転書き込みが不要(WRITE_VOID)な場合には、データ線電流IOLを0に保つ。   On the other hand, the write operation is performed as shown in FIG. First, similarly to the read operation, a read operation from the memory cell OC is performed. Here, the word line WL and the column selection signal pair YOt, YOb are kept as they are. Write data is determined according to read data. Accordingly, writing to the memory cell OC is performed by changing the state of the phase change resistor CR by heat generated by the flow of the data line current. When performing inversion writing, a write current is supplied to the data line by the write pulse generation circuit WPG and the write buffer WBN in the data line control circuit CCO. In writing “1” (“1” WRITE), a small current ID1 is applied with a long pulse width, and the phase change resistance CR is annealed to reduce the resistance. In writing “1” (“1” WRITE), a large current ID0 is applied with a short pulse width, and the phase change resistance CR is made amorphous to increase the resistance. When inversion writing is unnecessary (WRITE_VOID), the data line current IOL is kept at 0.

このようにして、相変化メモリでも、第1の実施例と同様に、書き込みを行うビット数を低減して消費電流を低減できる。相変化メモリでは特に、温度上昇を抑制して動作を安定させる効果が得られる。多数のメモリセルOCに同時に書き込むと、メモリセルアレイ全体の温度が上昇し、データ線電流IOLのパルス印加後の温度下降が遅くなる。そのため、'0'書き込み('0'WRITE)を短いパルスで行っても、低抵抗状態となってしまう恐れがある。本発明により、書き込みを行う最大のビット数を半減することによって、この問題を回避できる。   In this way, even in the phase change memory, the number of bits to be written can be reduced and the current consumption can be reduced as in the first embodiment. In particular, the phase change memory has the effect of suppressing the temperature rise and stabilizing the operation. If data is simultaneously written in a large number of memory cells OC, the temperature of the entire memory cell array increases, and the temperature decrease after the pulse of the data line current IOL is delayed. For this reason, even if “0” write (“0” WRITE) is performed with a short pulse, there is a possibility that a low resistance state is obtained. According to the present invention, this problem can be avoided by halving the maximum number of bits to be written.

また、相変化メモリでは、書き込み動作を繰り返すことによる相変化抵抗の劣化が懸念される。本発明により、メモリセル毎の書き込み回数を、平均的には低減できるため、相変化抵抗の劣化を低減し、高信頼化できる。   Further, in the phase change memory, there is a concern about deterioration of the phase change resistance due to repeated write operations. According to the present invention, since the number of times of writing for each memory cell can be reduced on average, deterioration of phase change resistance can be reduced and high reliability can be achieved.

図12及び図13を用いて説明したMRAMの動作と異なり、相変化メモリでは、読み出し動作と書き込み動作の両方でワード線WLをハイレベルとする。そのため、ライト動作でワード線WLをハイレベルとしたまま、読み出し動作に続けて書き込み動作を行える。したがって、周辺回路の消費電流や遅延時間について、書き込み動作の前に読み出し動作を行うことによるペナルティは小さい。   Unlike the operation of the MRAM described with reference to FIGS. 12 and 13, in the phase change memory, the word line WL is set to the high level in both the read operation and the write operation. Therefore, the write operation can be performed following the read operation while the word line WL is kept at the high level by the write operation. Therefore, the penalty for performing the read operation before the write operation is small with respect to the current consumption and delay time of the peripheral circuit.

(第3の実施例)
コーディングを用いない実施例を、MRAMについて次に説明する。図21は、MRAMのメモリアレイの、図8とは別な構成例を示している。MRAM全体は、例えば、図1からデータエンコーダWC,データデコーダRDを削除した構成される。このメモリアレイ構成は、メモリセルアレイMCA、ロウデコーダXDEC、ワードドライバ群WDP、データ線制御回路CCN2, CCF2を有する。メモリセルアレイMCAは、データ線数が異なるが、図8に示したように構成される。ロウデコーダXDEC、ワードドライバ群WDPは、図8と同様に動作する。
(Third embodiment)
An embodiment without coding will now be described for MRAM. FIG. 21 shows a configuration example different from that of FIG. 8 of the MRAM memory array. The entire MRAM is configured, for example, by deleting the data encoder WC and the data decoder RD from FIG. This memory array configuration includes a memory cell array MCA, a row decoder XDEC, a word driver group WDP, and data line control circuits CCN2 and CCF2. The memory cell array MCA is configured as shown in FIG. 8, although the number of data lines is different. The row decoder XDEC and the word driver group WDP operate in the same manner as in FIG.

データ線制御回路CCN2は、カラムセレクタYSNと、読み出しデータGO0, GO1,…に対応した複数の読み出し書き込み回路RWNを含む。ここでは、簡単のため、カラムデコーダなどは省略している。カラムセレクタYSNは、図9中のカラムセレクタYSN3と同様に構成され、所望のデータ線を共通データ線DN0, DN1, …に接続する。読み出し書き込み回路RWNは、センスアンプSAとライトバッファWBにより構成される。リード動作では、メモリセルアレイから読み出した共通データ線DN0, DN1, …の信号を、センスアンプSAにより検出し、読み出しデータGO0, GO1, …として出力する。ライト動作でも、まず、メモリセルアレイから読み出した共通データ線DN0, DN1, …の信号を、センスアンプSAにより検出する。その結果に応じて、ライトバッファWBにより、共通データ線DN0, DN1, …を介してデータ線を駆動する。すなわち、'1'を読み出した場合には、ハイレベルに駆動し、'0'を読み出した場合にはロウレベルに駆動する。   The data line control circuit CCN2 includes a column selector YSN and a plurality of read / write circuits RWN corresponding to read data GO0, GO1,. Here, for simplicity, a column decoder or the like is omitted. The column selector YSN is configured similarly to the column selector YSN3 in FIG. 9, and connects desired data lines to the common data lines DN0, DN1,. The read / write circuit RWN includes a sense amplifier SA and a write buffer WB. In the read operation, the signals of the common data lines DN0, DN1,... Read from the memory cell array are detected by the sense amplifier SA and output as read data GO0, GO1,. Also in the write operation, first, the signals of the common data lines DN0, DN1,... Read from the memory cell array are detected by the sense amplifier SA. In accordance with the result, the data lines are driven by the write buffer WB via the common data lines DN0, DN1,. That is, when “1” is read, it is driven to a high level, and when “0” is read, it is driven to a low level.

データ線制御回路CCF2は、カラムセレクタYSFと、書き込みデータGI0, GI1,…に対応した複数の書き込み回路WFを含む。ここでは、簡単のため、カラムデコーダなどは省略している。カラムセレクタYSFは、図10中のカラムセレクタYSF3と同様に構成され、所望のデータ線を共通データ線DF0, DF1, …に接続する。書き込み回路WFは、ライトバッファWBとインバータINVにより構成される。ライト動作において、入力された書き込みデータGI0, GI1, …を反転して、共通データ線DF0, DF1, …を介してデータ線を駆動する。すなわち、'1'が入力された場合には、ハイレベルに駆動し、'0'が入力された場合にはロウレベルに駆動する。   The data line control circuit CCF2 includes a column selector YSF and a plurality of write circuits WF corresponding to the write data GI0, GI1,. Here, for simplicity, a column decoder or the like is omitted. The column selector YSF is configured in the same way as the column selector YSF3 in FIG. 10, and connects desired data lines to the common data lines DF0, DF1,. The write circuit WF includes a write buffer WB and an inverter INV. In the write operation, the input write data GI0, GI1,... Are inverted, and the data lines are driven through the common data lines DF0, DF1,. That is, when '1' is input, it is driven to a high level, and when '0' is input, it is driven to a low level.

ライト動作において、以上のようにデータ線を駆動することにより、読み出しデータと書き込みデータが一致している場合には、データ線の両側が同じレベルに駆動され、電流が流れない。不一致の場合には、書き込みデータに応じて、データ線制御回路CCN2, CCF2間でデータ線に流れる。これにより、反転させるビットのみメモリセルへの書き込みを行うことが実現できる。反転書き込み不要なビットについては、データ線電流を流さないため、ライト動作の平均電流を低減できる。   In the write operation, by driving the data line as described above, when the read data and the write data match, both sides of the data line are driven to the same level and no current flows. In the case of mismatch, it flows to the data line between the data line control circuits CCN2 and CCF2 according to the write data. As a result, it is possible to write only the bits to be inverted to the memory cell. For the bits that do not require inversion writing, the data line current does not flow, so the average current of the write operation can be reduced.

第1の実施例では、コーディングによりフラグビットを付加するコーディングを用いて、反転書き込みのビット数を低減し、書き込むビット数の最大値と平均値を同時に低減していのに対し、本実施例では反転書き込みを行わないことにより、平均値を低減している。第1の実施例に比べ簡便な手法であり、フラグビットを付加することによるメモリセル数の増加はない。また、両側のデータ線制御回路の一方のみに書き込みデータを入力すれば良いため、従来の構成よりも配線数が少なくて済み、回路構成も簡単になる。   In the first embodiment, coding that adds flag bits by coding is used to reduce the number of bits for inverted writing, and simultaneously reduce the maximum value and the average value of the number of bits to be written. By not performing reverse writing, the average value is reduced. This is a simpler method than the first embodiment, and there is no increase in the number of memory cells by adding flag bits. Further, since write data need only be input to one of the data line control circuits on both sides, the number of wirings can be reduced as compared with the conventional configuration, and the circuit configuration is simplified.

(第4の実施例)
相変化メモリで、コーディングを用いない実施例を、次に説明する。図22は、相変化メモリのメモリアレイの、図17とは別な構成例を示している。相変化メモリ全体は、第3の実施例と同様に、例えば、図1からデータエンコーダWC,データデコーダRDを削除した構成される。このメモリアレイ構成は、メモリセルアレイOCA、ロウデコーダXDEC、ワードドライバ群WD、データ線制御回路CCO2を有する。メモリセルアレイOCAは、データ線数が異なるが、図17に示したように構成される。ロウデコーダXDEC、ワードドライバ群WDは、図17と同様に動作する。
(Fourth embodiment)
An embodiment without phase coding in a phase change memory will now be described. FIG. 22 shows a configuration example different from that of FIG. 17 of the memory array of the phase change memory. As in the third embodiment, the entire phase change memory is configured, for example, by deleting the data encoder WC and the data decoder RD from FIG. This memory array configuration includes a memory cell array OCA, a row decoder XDEC, a word driver group WD, and a data line control circuit CCO2. The memory cell array OCA is configured as shown in FIG. 17, although the number of data lines is different. The row decoder XDEC and the word driver group WD operate in the same manner as in FIG.

データ線制御回路CCO2は、カラムセレクタYSOと、書き込みデータGI0, GI1,…及び読み出しデータGO0, GO1, …に対応した複数の読み出し書き込み回路RWOと、書き込みパルス発生回路WPGを含む。ここでも、簡単のため、カラムデコーダなどは省略している。カラムセレクタYSOは、図18中のカラムセレクタYSO3と同様に構成され、所望のデータ線を共通データ線CD0, CD1, …に接続する。読み出し書き込み回路RWOは、センスアンプSAと、排他的ORゲートXOR2と、インバータと、2個のNANDゲートと、2個のPMOSトランジスタにより構成される。リード動作では、メモリセルアレイから読み出した共通データ線CD0, CD1,…の信号を、センスアンプSAにより検出し、読み出しデータGO0, GO1, …として出力する。ライト動作でも、まず、メモリセルアレイから読み出した信号を、センスアンプSAにより検出する。その結果を、排他的ORゲートXOR2により、書き込みデータGI0, GI1, …と比較する。不一致の場合、排他的ORゲートXOR2が'1'を出力し、PMOSトランジスタにより書き込みパルス線WP1, WP0を共通データ線に接続する。その結果、ライトパルス発生回路WPGが書き込みパルス線WP1, WP0に出力する'1'及び'0'の書き込み用のパルスがデータ線に伝えられる。これにより、反転させるビットのみメモリセルへの書き込みを行うことが実現できる。   The data line control circuit CCO2 includes a column selector YSO, a plurality of read / write circuits RWO corresponding to the write data GI0, GI1,... And read data GO0, GO1,. Again, for simplicity, column decoders and the like are omitted. The column selector YSO is configured similarly to the column selector YSO3 in FIG. 18, and connects desired data lines to the common data lines CD0, CD1,. The read / write circuit RWO includes a sense amplifier SA, an exclusive OR gate XOR2, an inverter, two NAND gates, and two PMOS transistors. In the read operation, the signals of the common data lines CD0, CD1,... Read from the memory cell array are detected by the sense amplifier SA and output as read data GO0, GO1,. Even in the write operation, first, a signal read from the memory cell array is detected by the sense amplifier SA. The result is compared with the write data GI0, GI1,... By the exclusive OR gate XOR2. In the case of mismatch, the exclusive OR gate XOR2 outputs “1”, and the write pulse lines WP1 and WP0 are connected to the common data line by the PMOS transistor. As a result, '1' and '0' write pulses output from the write pulse generation circuit WPG to the write pulse lines WP1 and WP0 are transmitted to the data lines. As a result, it is possible to write only the bits to be inverted to the memory cell.

本実施例でも、第3の実施例と同様に、反転書き込み不要なビットについては、データ線電流を流さないため、ライト動作の平均電流を低減できる。なお、特許文献1:特開平7-220479号に、スタティックRAMに関して、排他的ORゲートを用いてセンスアンプ出力と書き込みデータを比較し、反転書き込みのみを行い、書き込みの消費電流を低減する手法が開示されている。本発明は、その手法を相変化メモリに応用しているが、消費電流低減の効果に加え、第2の実施例について述べたような、メモリセルアレイ全体の温度上昇を抑制し書き込みを安定化する効果や、相変化抵抗の書き込み回数を低減して劣化を抑制し高信頼化する効果が得られる。また、特許文献2:特開平9-63286号には、EEPROMについて、読み出しデータと入力データを比較して消去回路及び書き込み回路を制御し、不必要な消去動作をなくして寿命を延ばす手法が開示されている。特許文献2の手法では、同時に動作させるデータ毎に比較を行って制御しているのに対し、本実施例では、ビット毎に比較して書き込み動作を行うか否かを判定している。そのため、本実施例の方が、不要な書き込みを行わない効果が大きく、特に同時に動作させるビット数が大きい場合に有効である。   In this embodiment, as in the third embodiment, the data line current does not flow for bits that do not require inversion writing, so that the average current of the write operation can be reduced. Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-220479 discloses a technique for reducing the current consumption of writing by comparing the sense amplifier output with the write data using an exclusive OR gate and performing only inversion writing with respect to the static RAM. It is disclosed. In the present invention, the technique is applied to the phase change memory. In addition to the effect of reducing the current consumption, as described in the second embodiment, the temperature rise of the entire memory cell array is suppressed and the writing is stabilized. An effect and an effect of reducing the number of times of writing of the phase change resistor to suppress deterioration and increasing reliability can be obtained. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-63286 discloses a method for extending the life of an EEPROM by comparing read data and input data to control an erase circuit and a write circuit to eliminate unnecessary erase operations. Has been. In the method of Patent Document 2, the comparison is performed for each piece of data to be operated simultaneously, whereas in this embodiment, it is determined whether or not the write operation is performed for each bit. For this reason, this embodiment has a greater effect of not performing unnecessary writing, and is particularly effective when the number of bits to be operated simultaneously is large.

なお、MRAMでも本実施例のように、排他的ORゲートを用いてセンスアンプ出力と書き込みデータを比較し、反転書き込みのみを行う構成とすることもできる。   It should be noted that the MRAM can also be configured such that only the inversion write is performed by comparing the sense amplifier output and the write data using an exclusive OR gate as in this embodiment.

以上の実施例で説明してきた本発明は、単体のMRAMや相変化メモリだけでなく、MRAMあるいは相変化メモリを混載したシステムLSIなど半導体装置一般に適用できることは言うまでもない。その場合にも、MRAMあるいは相変化メモリについて、実施例毎に説明したような効果が得られる。   It goes without saying that the present invention described in the above embodiments can be applied not only to a single MRAM and phase change memory but also to semiconductor devices such as a system LSI in which MRAM or phase change memory is embedded. Even in such a case, the effects described in each embodiment can be obtained for the MRAM or the phase change memory.

本発明による同期式メモリの構成例を示すブロック図。The block diagram which shows the structural example of the synchronous memory by this invention. データエンコーダの構成例を示すブロック図。The block diagram which shows the structural example of a data encoder. 図2中の判定回路の構成例を示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a determination circuit in FIG. 2. 図2中のデータ制御回路の構成例を示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration example of a data control circuit in FIG. 2. 図2中のフラグ制御回路の構成例を示す回路図。FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration example of a flag control circuit in FIG. 2. データデコーダの構成例を示すブロック図。The block diagram which shows the structural example of a data decoder. 図6中のデータ制御回路の構成例を示す回路図。FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration example of a data control circuit in FIG. 6. MRAMのメモリアレイの構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the memory array of MRAM. 図8中のデータ線制御回路の構成例を示す図。FIG. 9 is a diagram showing a configuration example of a data line control circuit in FIG. 8. 図8中の他端のデータ線制御回路の構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the data line control circuit of the other end in FIG. MRAMセルの構成例を示す図。The figure which shows the structural example of an MRAM cell. MRAMセルの読み出し動作を示す図。The figure which shows the read-out operation | movement of an MRAM cell. MRAMセルの書き込み動作を示す図。The figure which shows the write-in operation | movement of a MRAM cell. MTJ素子の書き込み特性を示す図。The figure which shows the write-in characteristic of an MTJ element. 本発明による同期式MRAMのリード動作のタイミングチャート。4 is a timing chart of the read operation of the synchronous MRAM according to the present invention. 本発明による同期式MRAMのライト動作のタイミングチャート。4 is a timing chart of the write operation of the synchronous MRAM according to the present invention. 相変化メモリのメモリアレイの構成例を示す図。The figure which shows the structural example of the memory array of a phase change memory. 図17中のデータ線制御回路の構成例を示す図。FIG. 18 is a diagram showing a configuration example of a data line control circuit in FIG. 17. 相変化メモリのメモリセルの読み出し動作を示す図。The figure which shows read-out operation | movement of the memory cell of phase change memory. 相変化メモリのメモリセルの書き込み動作を示す図。The figure which shows the write-in operation | movement of the memory cell of a phase change memory. MRAMのメモリアレイの別な構成例を示す図。The figure which shows another structural example of the memory array of MRAM. 相変化メモリのメモリアレイの別な構成例を示す図。The figure which shows another structural example of the memory array of a phase change memory.

符号の説明Explanation of symbols

AB…アドレスバッファ、
ACT…アドレスカウンタ、
ADD…外部からのアドレス信号、
BX…ロウアドレス、
BY…カラムアドレス、
CB…制御信号バッファ、
CCF, CCN, CCO, CCF2, CCN2, CCO2…データ線制御回路、
CD…コマンドデコーダ、
CLK…外部クロック、
CKB…クロックバッファ、
CLKI…内部クロック、
CMD…外部からの制御コマンド信号、
CP…制御信号、
CX…ロウプリデコードアドレス、
CY…カラムプリデコードアドレス、
DI…入力データ、
DIB…入力バッファ、
DL0〜DL3…データ線、
DO…出力データ、
DOB…出力バッファ、
DOD…データ制御回路、
DQ…外部との入出力データ、
GI…書き込みデータ、
GFC…フラグ制御回路、
GIC…データ制御回路、
GID…書き込みデータドライバ、
GO…読み出しデータ、
IFD…データエンコード用判定回路、
MA…メインアンプ、
MAR…メモリアレイ、
MC…MRAMのメモリセル、
MCA, MCA2…MRAMのメモリセルアレイ、
MIO…メイン入出力線、
OC…相変化メモリのメモリセル、
OCA, OCA2…相変化メモリのメモリセルアレイ、
RD…データデコーダ、
SA, SAO…センスアンプ、
WBF, WBN…ライトバッファ、
SCT0, SCT1…セクタ、
WB, WBF, WBN…ライトバッファ、
WC…データエンコーダ、
WD, WDP…ワードドライバ群、
WL, WL0〜WL3…ワード線、
WPG…書き込みパルス発生回路W、
WR, WR0〜WR3…読み出しワード線、
WRD, WWD…ワードドライバ、
WW, WW0〜WW3…書き込みワード線、
XDEC…ロウデコーダ、
XPD…ロウアドレスプリデコーダ、
YD16…カラムデコーダ、
YPD…カラムアドレスプリデコーダ、
YSF, YSN, YSO, YSF3, YSN3, YSO3…カラムセレクタ。
AB: Address buffer,
ACT ... Address counter,
ADD ... Address signal from outside,
BX ... low address,
BY ... column address,
CB ... Control signal buffer,
CCF, CCN, CCO, CCF2, CCN2, CCO2 ... Data line control circuit,
CD ... Command decoder,
CLK: External clock,
CKB ... clock buffer,
CLKI: Internal clock,
CMD ... Control command signal from outside,
CP: Control signal,
CX: Row predecode address,
CY ... Column predecode address,
DI: Input data,
DIB ... Input buffer,
DL0 to DL3 ... data line,
DO: Output data,
DOB ... Output buffer,
DOD ... Data control circuit,
DQ: I / O data with external,
GI: Write data,
GFC: Flag control circuit,
GIC: Data control circuit,
GID: Write data driver,
GO: Read data,
IFD: Judgment circuit for data encoding,
MA ... main amp,
MAR ... Memory array
MC ... MRAM memory cell,
MCA, MCA2 ... MRAM memory cell array,
MIO ... Main input / output line,
OC ... Memory cell of phase change memory,
OCA, OCA2 ... Memory cell array of phase change memory,
RD ... Data decoder,
SA, SAO ... sense amplifier,
WBF, WBN ... write buffer,
SCT0, SCT1 ... sector,
WB, WBF, WBN ... write buffer,
WC ... Data encoder,
WD, WDP ... word drivers,
WL, WL0 to WL3 ... word lines,
WPG ... Writing pulse generation circuit W,
WR, WR0 to WR3 ... Read word line,
WRD, WWD ... Word driver,
WW, WW0 to WW3 ... write word line,
XDEC: Row decoder,
XPD: Row address predecoder,
YD16 ... column decoder,
YPD: Column address predecoder,
YSF, YSN, YSO, YSF3, YSN3, YSO3 ... Column selector.

Claims (1)

半導体装置であって、
複数のワード線と複数のデータ線との所望の交点に配置された複数のメモリセルを含むメモリアレイと、
前記メモリセルに情報を書込む際に流す電流の電流経路の両端に配置された第1のライトバッファ及び第2のライトバッファと、
前記複数のデータ線に前記メモリセルから読み出された信号を検出するセンスアンプとを有し、
前記複数のメモリセルの各々は、磁気抵抗素子とトランジスタとを含み、
前記第1のライトバッファ及び前記第2のライトバッファは、前記メモリセルを反転書き込みする場合のみ、前記電流経路に書き込み電流を流し、
前記第1のライトバッファは、前記センスアンプの出力のみに応じて前記電流経路を駆動し、
前記第2のライトバッファは、入力データのみに応じて前記電流経路を駆動する半導体装置
A semiconductor device,
A memory array including a plurality of memory cells arranged at desired intersections of the plurality of word lines and the plurality of data lines;
A first write buffer and a second write buffer disposed at both ends of a current path of a current that flows when information is written to the memory cell;
A sense amplifier that detects signals read from the memory cells on the plurality of data lines;
Each of the plurality of memory cells includes a magnetoresistive element and a transistor,
The first write buffer and the second write buffer allow a write current to flow through the current path only when the memory cell is inverted and written.
The first write buffer drives the current path according to only the output of the sense amplifier,
The second write buffer is a semiconductor device that drives the current path only in accordance with input data .
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