JP4759377B2 - Method for manufacturing thin film and optical member - Google Patents

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Description

本発明は、薄膜及び光学部材の製造方法に関し、特に、レンズが着色せず、良好な帯電防止性及び撥水性を有する薄膜及び光学部材の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a thin film and an optical member, and more particularly, to a method for manufacturing a thin film and an optical member in which a lens is not colored and has good antistatic properties and water repellency.

従来から、プラスチック基材に、無機物質等を蒸着してなる反射防止膜を設けた光学部材が知られている。かかる光学部材は優れた反射防止性、耐擦傷性を有している。しかしながら、このような反射防止膜を有する光学部材は、プラスチック基材であるため、帯電防止効果が十分ではない。その課題を解決する方法として、例えば、プラスチック基材上にハードコート層と導電性及びハードコート性を有する帯電防止性ハードコート層とを順次設けることが知られている(例えば、特許文献1参照)。また、不定量の酸素を金属に反応させた導電性を有する金属酸化物からなる光学薄膜を反射防止膜中に導入することによって、帯電防止効果を付与することが知られている(例えば、特許文献2参照)。さらに、撥水性材料の中に、カーボンペーストなどの導電性物質を添加した薄膜形成材料を電子銃を用いて蒸発させて薄膜を製造する方法が知られている(例えば、特許文献3参照)。   2. Description of the Related Art Conventionally, an optical member is known in which a plastic substrate is provided with an antireflection film formed by depositing an inorganic substance or the like. Such an optical member has excellent antireflection properties and scratch resistance. However, since the optical member having such an antireflection film is a plastic substrate, the antistatic effect is not sufficient. As a method for solving the problem, for example, it is known to sequentially provide a hard coat layer and an antistatic hard coat layer having conductivity and hard coat properties on a plastic substrate (see, for example, Patent Document 1). ). It is also known to impart an antistatic effect by introducing an optical thin film made of a conductive metal oxide obtained by reacting an indefinite amount of oxygen with a metal into the antireflection film (for example, patents) Reference 2). Furthermore, a method of manufacturing a thin film by evaporating a thin film forming material obtained by adding a conductive substance such as carbon paste into a water repellent material using an electron gun is known (see, for example, Patent Document 3).

しかしながら、特許文献1などに開示されている帯電防止性ハードコート層は、帯電防止効果は十分あるものの、可視光の吸収が大きく、レンズが着色してしまうという課題を有していた。また、特許文献2などに開示されている光学部材は、帯電防止効果は十分あるものの、表面の耐擦傷性に課題を有していた。また、特許文献3に開示されている薄膜の製造方法は、撥水性材料の中に導電性物質が含有されていることにより電子銃を用いて安定的に撥水膜を施すことが可能となるが、帯電防止効果が充分でない。仮に、帯電防止効果を具備させようとして電子銃のパワーを強くして、薄膜形成材料を蒸発させた場合、帯電防止効果がレンズ面で不均一になる。この場合においても薄膜の帯電防止効果が充分でなかった。
特開2002−329598号公報 欧州特許公開第0834092号公報 特開平11−310869号公報
However, although the antistatic hard coat layer disclosed in Patent Document 1 has a sufficient antistatic effect, it has a problem that the absorption of visible light is large and the lens is colored. Further, the optical member disclosed in Patent Document 2 has a problem in surface scratch resistance, although it has a sufficient antistatic effect. In addition, the thin film manufacturing method disclosed in Patent Document 3 can stably apply a water-repellent film using an electron gun because the conductive material is contained in the water-repellent material. However, the antistatic effect is not sufficient. If the electron gun power is increased to evaporate the thin film forming material so as to provide an antistatic effect, the antistatic effect becomes uneven on the lens surface. Even in this case, the antistatic effect of the thin film was not sufficient.
JP 2002-329598 A European Patent Publication No. 0834092 JP-A-11-310869

本発明は、かかる課題を解決するためになされたもので、その目的は、レンズが着色せず、良好な帯電防止性及び撥水性を有する薄膜及び光学部材の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made to solve such a problem, and an object thereof is to provide a method for producing a thin film and an optical member in which a lens is not colored and has good antistatic properties and water repellency.

本発明者等は、前記の課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、(a)パーフルオロアルキル基を有する撥水剤、(b)シランカップリング剤、側鎖及び/又は両末端に有機基を導入した変性シリコーンオイル及びパーフルオロエーテル化合物との混合物、及び(c)フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも1種の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を用いて真空蒸着法にて薄膜を形成することにより、前記の目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have (a) a water repellent having a perfluoroalkyl group, (b) a silane coupling agent, an organic group on the side chain and / or both ends. A water repellent solution obtained by mixing a mixture of a modified silicone oil introduced with a group and a perfluoroether compound, and (c) at least one conductive material selected from fullerenes, carbon nanotubes and graphite compounds The inventors have found that the above-mentioned object can be achieved by forming a thin film by a vacuum vapor deposition method, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、(a)パーフルオロアルキル基を有する撥水剤、(b)シランカップリング剤、側鎖及び/又は両末端に有機基を導入した変性シリコーンオイル及びパーフルオロエーテル化合物との混合物、及び(c)フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも1種類の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を用い、真空蒸着法にて薄膜を形成する薄膜の製造方法、並びに、光学基板上に多層反射防止膜を形成する光学部材の製造方法において、該多層反射防止膜上に、前述の本発明の薄膜製造方法により薄膜をさらに形成する光学部材の製造方法を提供するものである。   That is, the present invention relates to (a) a water repellent having a perfluoroalkyl group, (b) a silane coupling agent, a modified silicone oil having an organic group introduced into the side chain and / or both ends, and a perfluoroether compound. Production of a thin film by forming a thin film by a vacuum deposition method using a mixture and (c) a water repellent solution obtained by mixing at least one conductive material selected from fullerenes, carbon nanotubes and graphite compounds And an optical member manufacturing method for forming a multilayer antireflection film on an optical substrate by further forming a thin film on the multilayer antireflection film by the above-described thin film manufacturing method of the present invention. It is to provide.

本発明の製造方法によると、レンズが着色せず、良好な帯電防止性及び撥水性を有する薄膜及び該薄膜を有する光学部材が得られる。   According to the production method of the present invention, the lens is not colored, and a thin film having good antistatic properties and water repellency and an optical member having the thin film are obtained.

本発明の薄膜の製造方法では、(a)パーフルオロアルキル基を有する撥水剤、(b)シランカップリング剤、側鎖及び/又は両末端に有機基を導入した変性シリコーンオイル及びパーフルオロエーテル化合物との混合物、及び(c)フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも1種の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を用い、真空蒸着法にて薄膜を形成する。
また、本発明の光学部材の製造方法では、光学基板上に形成された多層反射防止膜上に、前述の本発明の薄膜の製造方法により薄膜をさらに形成する。
In the method for producing a thin film of the present invention, (a) a water repellent having a perfluoroalkyl group, (b) a silane coupling agent, a modified silicone oil and a perfluoroether having an organic group introduced into the side chain and / or both ends A thin film is formed by vacuum deposition using a mixture with a compound and (c) a water repellent solution obtained by mixing at least one conductive material selected from fullerenes, carbon nanotubes and graphite compounds. .
In the method for producing an optical member of the present invention, a thin film is further formed on the multilayer antireflection film formed on the optical substrate by the above-described thin film production method of the present invention.

本発明で用いる前記(a)パーフルオロアルキル基を有する撥水剤は、撥水性、撥油性を有するものであれば特に限定されず、特開昭61−130902号公報、特開昭58−172246号公報、特開昭58−122979号公報、特開昭58−172242、特開昭60−40254号公報、特開昭50−6615号公報、特開昭60−221470号公報、特開昭62−148902号公報、特開平9−157582号公報、特開平9−202648号公報、特開平9−263728号公報に開示されるものが挙げられる。パーフルオロアルキル基の炭素数は、1〜100が好ましく、5〜20がより好ましい。
このパーフルオロアルキル基を有する撥水剤の具体例としては、下記一般式(I)〜(IV)で表される化合物等が挙げられる。
The (a) water repellent having a perfluoroalkyl group used in the present invention is not particularly limited as long as it has water repellency and oil repellency, and JP-A 61-130902 and JP-A 58-172246. JP, 58-122979, JP 58-172242, JP 60-40254, JP 50-6615, JP 60-22470, JP 62. No. 148902, JP-A-9-157582, JP-A-9-202648, JP-A-9-263728. 1-100 are preferable and, as for carbon number of a perfluoroalkyl group, 5-20 are more preferable.
Specific examples of the water repellent having a perfluoroalkyl group include compounds represented by the following general formulas (I) to (IV).

Figure 0004759377
Figure 0004759377

[式中、Rfは炭素数1〜16の直鎖状のパーフルオロアルキル基(アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基等)、Xは水素原子又は炭素数1〜5の低級アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基等)、R1は加水分解可能な基(例えば、アミノ基、アルコキシ基等)又はハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等)、mは1〜50(好ましくは1〜30)の整数、nは0〜2(好ましくは1〜2)の整数、pは1〜10(好ましくは1〜8)の整数である。] [In the formula, Rf is a linear perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms (as an alkyl group, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, etc.), and X is A hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, etc.), R1 is a hydrolyzable group (for example, amino group, alkoxy group) Group) or a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.), m is an integer of 1-50 (preferably 1-30), n is an integer of 0-2 (preferably 1-2), p Is an integer of 1 to 10 (preferably 1 to 8). ]

q2q+1CH2CH2Si(NH2)3 (II)
(ただし、qは1以上、好ましくは2〜20の整数である)。
一般式(II)で表される化合物としては、n−トリフロロ(1,1,2,2−テトラヒドロ)プロピルシラザン(n−CF3CH2CH2Si(NH23)、n−ヘプタフロロ(1,1,2,2−テトラヒドロ)ペンチルシラザン(n−C37CH2CH2Si(NH23)、n−ノナフロロ(1,1,2,2−テトラヒドロ)ヘキシルシラザン(n−C49CH2CH2Si(NH23)、n−トリデカフロロ(1,1,2,2−テトラヒドロ)オクチルシラザン(n−C613CH2CH2Si(NH23)、n−ヘプタデカフロロ(1,1,2,2−テトラヒドロ)デシルシラザン(n−C817CH2CH2Si(NH23)等を例示することができる。
C q F 2q + 1 CH 2 CH 2 Si (NH 2 ) 3 (II)
(However, q is 1 or more, preferably an integer of 2 to 20).
Examples of the compound represented by the general formula (II) include n-trifluoro (1,1,2,2-tetrahydro) propylsilazane (n-CF 3 CH 2 CH 2 Si (NH 2 ) 3 ), n-heptafluoro ( 1,1,2,2-tetrahydro) Penchirushirazan (n-C 3 F 7 CH 2 CH 2 Si (NH 2) 3), n- Nonafuroro (1,1,2,2-tetrahydro) hexyl disilazane (n- C 4 F 9 CH 2 CH 2 Si (NH 2) 3), n- Toridekafuroro (1,1,2,2-tetrahydro) octyl disilazane (n-C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (NH 2) 3) N-heptadecafluoro (1,1,2,2-tetrahydro) decylsilazane (n-C 8 F 17 CH 2 CH 2 Si (NH 2 ) 3 ) and the like.

q'2q'+1CH2CH2Si(OCH3)3 (III)
(ただし、q'は1以上、好ましくは1〜20の整数である)
一般式(III)で表される化合物としては、2−(パーフルオロオクチル)エチルトリメトキシシラン(n−C817CH2CH2Si(OCH3)3)等を例示することができる。
C q ′ F 2q ′ + 1 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 (III)
(However, q ′ is 1 or more, preferably an integer of 1 to 20)
Examples of the compound represented by the general formula (III), 2- (perfluorooctyl) ethyltrimethoxysilane (n-C 8 F 17 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3) or the like can be exemplified.

Figure 0004759377
Figure 0004759377

[式中、Rf'は、−(Ck2k)O−(kは1〜6の整数である)で表わされる2価の直鎖状オキシパーフルオロアルキレン基であり、Rは、それぞれ独立に炭素原子数1〜8の一価炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基等)であり、X’は独立に加水分解可能な基(例えば、アミノ基、アルコキシ基等)又はハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等)であり、n’は独立に0〜2(好ましくは1〜2)の整数であり、m’は独立に1〜5(好ましくは1〜2)の整数であり、a及びbは独立に2又は3である。] [In the formula, Rf ′ is a divalent linear oxyperfluoroalkylene group represented by — (C k F 2k ) O— (k is an integer of 1 to 6), and each R is independently Is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, etc.), and X ′ can be independently hydrolyzed. A group (for example, amino group, alkoxy group, etc.) or a halogen atom (for example, fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.), n ′ is independently an integer of 0-2 (preferably 1-2), m 'Is independently an integer of 1 to 5 (preferably 1 to 2), and a and b are independently 2 or 3. ]

また、市販されているパーフルオロアルキル基を有する撥水剤として、KP801M(商品名、信越化学工業(株)製)、KY130(商品名、信越化学工業(株)製)、X−71−130(商品名、信越化学工業(株)製)、オプツ−ルDSX(商品名、ダイキン工業(株)製)などの撥水剤が好ましく挙げられる。
本発明で用いる撥水剤溶液に含まれる(a)成分の量は、(a)〜(c)成分の合計の30〜90重量%が好ましく、35〜80重量%がより好ましい。
As commercially available water repellents having a perfluoroalkyl group, KP801M (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), KY130 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), X-71-130 Preferable examples include water repellents (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Optur DSX (trade name, manufactured by Daikin Industries, Ltd.).
The amount of the component (a) contained in the water repellent solution used in the present invention is preferably 30 to 90% by weight, more preferably 35 to 80% by weight of the total of the components (a) to (c).

本発明で用いる(b)成分は、シランカップリング剤、側鎖及び/又は両末端に有機基を導入した変性シリコーンオイルおよびパーフルオロエーテル化合物の混合物であり、成膜された撥水膜の膜厚を確保する為に用いられる。(b)成分の使用により、従来の撥水層とは異なり、透明性を減少させずに厚い膜厚を確保することが可能となる。膜厚を増大させることは、導電性物質((c)成分)の薄膜中の含有量を増加することとなるので、帯電防止効果と耐久性の向上を確保できる。   The component (b) used in the present invention is a mixture of a silane coupling agent, a modified silicone oil in which an organic group is introduced into the side chain and / or both ends, and a perfluoroether compound. Used to ensure thickness. By using the component (b), unlike a conventional water repellent layer, it becomes possible to ensure a thick film thickness without reducing transparency. Increasing the film thickness increases the content of the conductive substance (component (c)) in the thin film, so that an antistatic effect and improved durability can be ensured.

(b)成分であるシランカップリング剤としては、下記一般式(V)で表される化合物が好ましく用いられる。
1 nSi(OR24-n (V)
(式中、R1は官能基を有する若しくは有しない炭素数1〜20の一価の炭化水素基、R2は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基または炭素数2〜10のアシル基、nは0、1または2を示し、R1が複数ある場合、複数のR1はたがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のR2Oはたがいに同一でも異なっていてもよい。)
その中でアミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシランなどのアミノプロピルトリアルコキシシランが好ましく用いられる。
As the silane coupling agent which is component (b), a compound represented by the following general formula (V) is preferably used.
R 1 n Si (OR 2 ) 4-n (V)
(In the formula, R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms with or without a functional group, R 2 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a carbon number. 7-10 aralkyl or an acyl group having 2 to 10 carbon atoms, n represents represents 0, 1 or 2, when R 1 is plural, R 1 is may be the same with or different from each other, a plurality R 2 O may be the same or different.
Of these, aminopropyltrialkoxysilanes such as aminopropyltrimethoxysilane and aminopropyltriethoxysilane are preferably used.

(b)成分である側鎖及び/又は両末端に有機基を導入した変性シリコーンオイルとしては、次の一般式(VI)、(VII)で示される変性シリコーンオイルが好ましく用いられる。
式(VI):ポリシロキサンの側鎖の一部に有機基を導入した側鎖変性シリコーンオイル

Figure 0004759377
(式中、mおよびnはそれぞれ独立して1以上の整数を表し、“有機基”は
Figure 0004759377
から選ばれる変性基を表し、nが2以上の整数の場合、2以上の“有機基”は同一でも異なっていてもよく、Rは、炭素数1〜10の炭化水素基を表し、R’は、炭素数1〜10の炭化水素基を表す)。 The modified silicone oil represented by the following general formulas (VI) and (VII) is preferably used as the modified silicone oil in which organic groups are introduced into the side chain and / or both ends as the component (b).
Formula (VI): Side chain modified silicone oil in which organic group is introduced into part of polysiloxane side chain
Figure 0004759377
(In the formula, m and n each independently represent an integer of 1 or more, and “organic group”
Figure 0004759377
In the case where n is an integer of 2 or more, two or more “organic groups” may be the same or different, R represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, R ′ Represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms).

式(VII):ポリシロキサンの両末端に有機基を導入した両末端変性シリコーンオイル

Figure 0004759377
(式中、nは1以上の整数を表し、2つの“有機基”は同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立して
Figure 0004759377
から選ばれる変性基を表し、Rは、炭素数1〜10の炭化水素基を表し、aは1〜6の整数、bは1〜6の整数を表す)。
上記変性シリコーンオイルのうち、エポキシ変性シリコーンオイルが好ましく用いられる。 Formula (VII): Both-end modified silicone oil having organic groups introduced at both ends of polysiloxane
Figure 0004759377
(In the formula, n represents an integer of 1 or more, and two “organic groups” may be the same or different.
Figure 0004759377
R represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a represents an integer of 1 to 6, and b represents an integer of 1 to 6).
Of the modified silicone oils, epoxy-modified silicone oils are preferably used.

パーフルオロエーテル化合物としては下記一般式(VIII)で示される化合物が好ましく用いられる。
n2n+1OCn'2n'+1 (VIII)
(式中、nおよびn’は独立して1以上の整数を表す)。
好ましいパーフルオロエーテル化合物としては、パーフルオロブチルエーテル、メチルパーフルオロブチルエーテル、ブチルパーフルオロメチルエーテル、プロピルパーフルオロエチルエーテルなどが挙げられる。
As the perfluoroether compound, a compound represented by the following general formula (VIII) is preferably used.
C n F 2n + 1 OC n ′ H 2n ′ + 1 (VIII)
(In the formula, n and n ′ independently represent an integer of 1 or more).
Preferred perfluoroether compounds include perfluorobutyl ether, methyl perfluorobutyl ether, butyl perfluoromethyl ether, propyl perfluoroethyl ether, and the like.

本発明で用いる撥水剤溶液に含まれる(b)成分の量は、(a)〜(c)成分の合計の9.5〜69.5重量%が好ましく、18.5〜50重量%がより好ましい。(b)成分と(a)成分の重量比(b)/(a)は0.7〜1.1が好ましい。
シランカップリング剤と変性シリコーンオイルとの割合は重量比で1:3〜3:1の範囲が好ましい。また、パーフルオロエーテル化合物の使用割合は、シランカップリング剤と変性シリコーンオイルとの合計量1重量部に対して、0.1〜0.8重量部が好ましい。
The amount of the component (b) contained in the water repellent solution used in the present invention is preferably 9.5 to 69.5% by weight, and 18.5 to 50% by weight of the total of the components (a) to (c). More preferred. The weight ratio (b) / (a) between the component (b) and the component (a) is preferably 0.7 to 1.1.
The ratio of the silane coupling agent and the modified silicone oil is preferably in the range of 1: 3 to 3: 1 by weight. Moreover, the usage-amount of a perfluoro ether compound has preferable 0.1-0.8 weight part with respect to 1 weight part of total amounts of a silane coupling agent and modified silicone oil.

本発明で用いる(c)成分は、フラーレン類、カーボンナノチューブ類および黒鉛化合物から選ばれる少なくとも1種の導電性物質である。フラーレン類は、Cz(zは60〜120の整数であり、好ましくは60〜95の整数である)の球状構造あるいはサッカーボール構造の化合物およびその誘導体から選ばれる少なくとも1種類であり、特にC60フラーレン、C72フラーレン及びその誘導体が好ましい。このフラーレン類の具体例としては、C6060、C602、C60HBr、C60(CH3)2、C60H(OH)、C60H(NH2)、C60(CN)2、および下記式(IX)、(X)、(XI)の化合物が挙げられる。 The component (c) used in the present invention is at least one conductive material selected from fullerenes, carbon nanotubes, and graphite compounds. Fullerenes, Cz (z is an integer of 60 to 120, preferably an integer of 60 to 95) is at least one selected from compounds and their derivatives of the spherical structure or soccer ball structure, in particular C 60 Fullerene, C 72 fullerene and derivatives thereof are preferred. Specific examples of these fullerenes include C 60 H 60 , C 60 H 2 , C 60 HBr, C 60 (CH 3 ) 2 , C 60 H (OH), C 60 H (NH 2 ), C 60 (CN ) 2 and compounds of the following formulas (IX), (X), (XI).

Figure 0004759377
X=CH2:3’H−シクロプロパ[1,9](C60−Ih)[5,6]フラーレン;
X=CHBr:3’−ブロモ−3’H−シクロプロパ[1,9](C60−Ih)[5,6]フラーレン;
X=O:オキシレノ[1,9](C60−Ih)[5,6]フラーレン;
X=NH:1’H−アジレノ[1,9](C60−Ih)[5,6]フラーレン、
Figure 0004759377
X = CH 2: 3'H- cyclopropa [1,9] (C 60 -I h ) [5,6] fullerene;
X = CHBr: 3'-Bromo -3'H- cyclopropa [1,9] (C 60 -I h ) [5,6] fullerene;
X = O: oxireno [1,9] (C 60 -I h ) [5,6] fullerene;
X = NH: 1′H-azireno [1,9] (C 60 -I h ) [5,6] fullerene,

Figure 0004759377
シクロブタ[b]ナフタレノ[1’2’:1,9](C60−Ih)[5,6]フラーレン
Figure 0004759377
Cyclobuta [b] naphthaleno [1 ′ , 2 ′: 1,9] (C 60 -I h ) [5,6] fullerene

Figure 0004759377
X=CH2:1(2)a−ホモ(C60−Ih)[5,6]フラーレン;
X=O:1a−オキサ−1(2)a−ホモ(C60−Ih)[5,6]フラーレン;
X=NH:1aH−1a−アザ−1(2)a−ホモ(C60−Ih)[5,6]フラーレン
以上の例におけるC60はC70であっても良い。なお、以上の具体例は、IUPAC 2002縮合命名法 によって命名している。
Figure 0004759377
X = CH 2 : 1 (2) a-homo (C 60 -I h ) [5,6] fullerene;
X = O: 1a- oxa -1 (2) a- homo (C 60 -I h) [5,6 ] fullerene;
X = NH: 1aH-1a- aza -1 (2) a- homo (C 60 -I h) [5,6 ] C 60 in the above example fullerenes may be C 70. The above specific examples are named by the IUPAC 2002 condensation nomenclature.

本発明で用いる(c)成分のカーボンナノチューブ(Carbon nanotube、以下、CNTと略すことがある)は、炭素によって作られる六員環ネットワーク(グラフェンシート)が単層あるいは多層の同軸管状になったものであり、単層のものをシングルウォールナノチューブ(SWNT)、複層のものをマルチウォールナノチューブ(MWNT)という。特に二層のものはダブルウォールナノチューブ(DWNT)とも呼ばれる。本発明においては、これらの中でもSWTN,DWNTが好ましい。   The carbon nanotube (Carbon nanotube, hereinafter sometimes abbreviated as CNT) of component (c) used in the present invention is a single-layer or multi-layer coaxial tube made of a six-membered ring network (graphene sheet) made of carbon. A single-walled one is called a single wall nanotube (SWNT), and a multi-walled one is called a multi-wall nanotube (MWNT). In particular, the double-walled one is also called double-wall nanotube (DWNT). In the present invention, SWTN and DWNT are preferable among these.

本発明で用いる(c)成分の黒鉛化合物は、グラファイト構造を有する化合物であり、カーボングラファイト(黒鉛)、弗化黒鉛及び膨張黒鉛等が挙げられる。カーボングラファイト(黒鉛)は公知のものであり、炭素の同素体の一つでベンゼン環が二次元の平面上に広がっており、この平面構造がいくつもの段になっている。平面と平面はファンデルワールス結合で結合しており、平面と平面はわずかにずれて重なっている。また、弗化黒鉛とは、前記カーボングラファイトの弗化物であり、膨張黒鉛とは、天然鱗片状黒鉛を化学処理することにより、製造されたもので難燃性である。   The (c) component graphite compound used in the present invention is a compound having a graphite structure, and examples thereof include carbon graphite (graphite), fluorinated graphite, and expanded graphite. Carbon graphite (graphite) is a well-known one, and is an allotrope of carbon, in which a benzene ring extends on a two-dimensional plane, and this planar structure has several steps. The plane and the plane are connected by van der Waals coupling, and the plane and the plane are slightly shifted and overlapped. Further, fluorinated graphite is a fluoride of the above carbon graphite, and expanded graphite is produced by chemically treating natural flake graphite and is flame retardant.

また、本発明においては、市販のフラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物を自動乳鉢を使用して二次加工し、粒径を整えるのが好ましい。それぞれの調整後の粒径は、80μm以下であると好ましく、50μm以下であるとより好ましく、20〜50μmであると特に好ましい。20μm以上であれば2次凝集体の発生が無く、80μm以下であれば界面活性剤(分散剤)との親和性が良好で、チップ注入時にカーボン類が残留することが無い。また、前記粒径とするため、自動乳鉢の撹拌速度は100rpm以下が好ましく、100〜50rpmの範囲である。撹拌時間は通常60分以下で、20〜60分の間であると好ましい。   In the present invention, it is preferable that secondary particle processing is performed on commercially available fullerenes, carbon nanotubes, and graphite compounds using an automatic mortar to adjust the particle size. The particle diameter after each adjustment is preferably 80 μm or less, more preferably 50 μm or less, and particularly preferably 20 to 50 μm. If it is 20 μm or more, there is no generation of secondary aggregates, and if it is 80 μm or less, the affinity with the surfactant (dispersant) is good, and carbons do not remain at the time of chip injection. Moreover, in order to set it as the said particle size, 100 rpm or less is preferable and the stirring speed of an automatic mortar is the range of 100-50 rpm. The stirring time is usually 60 minutes or less and preferably 20 to 60 minutes.

本発明で用いる撥水剤溶液に含まれる(c)成分の量は、0.5〜30重量%が好ましく、1.5〜15重量%がより好ましい。 The amount of the component (c) contained in the water repellent solution used in the present invention is preferably 0.5 to 30% by weight, and more preferably 1.5 to 15% by weight.

本発明で用いる撥水剤溶液には、前記(a)〜(c)成分に加え、溶媒、ケイ素非含有パーフルオロポリエーテルなどを含有することも可能である。前記溶媒としては、m−キシレンヘキサフロライドなどのフッ素系溶媒等が挙げられる。   In addition to the components (a) to (c), the water repellent solution used in the present invention may contain a solvent, a silicon-free perfluoropolyether, and the like. Examples of the solvent include fluorine-based solvents such as m-xylene hexafluoride.

前記ケイ素非含有パ−フルオロポリエ−テル(以下「PFPE」ということがある)としては、種々の構造のものを用いることができる。その例として、下記の一般式(XII)
−(R’O)− (XII)
(式中、R’は炭素数1〜3のパーフルオロアルキレン基である。)
で表される単位を含むポリエーテルが挙げられる。重量平均分子量は好ましくは1000〜10000、より好ましくは2000〜10000である。R’は具体的には、CF2,CF2CF2,CF2CF2CF2,CF(CF3)CF2等の基が挙げられる。これらのPFPEは常温で液状であり、いわゆるフッ素オイルと称されるものである。
PFPEの市販品としては、例えば、ダイキン工業(株)製の商品名デムナムシリーズ(S−20(平均分子量2700)、S−65(平均分子量4500)、S−100(平均分子量5600)、S−200(平均分子量8400))、NOKクリューバー社製の商品名バリエルタシリーズ、旭硝子(株)製の商品名フォンブリンシリーズ、デュポン社製の商品名KRYTOXシリーズ、ダウコ−ニング社製の商品名モリコ−トHF−30オイルなどが挙げられる。
As the silicon-free perfluoropolyether (hereinafter sometimes referred to as “PFPE”), those having various structures can be used. As an example, the following general formula (XII)
-(R'O)-(XII)
(In the formula, R ′ is a perfluoroalkylene group having 1 to 3 carbon atoms.)
The polyether containing the unit represented by these is mentioned. The weight average molecular weight is preferably 1000 to 10,000, more preferably 2000 to 10,000. Specific examples of R ′ include groups such as CF 2 , CF 2 CF 2 , CF 2 CF 2 CF 2 , and CF (CF 3 ) CF 2 . These PFPEs are liquid at room temperature and are called so-called fluorine oil.
Examples of commercially available products of PFPE include trade name demnum series (S-20 (average molecular weight 2700), S-65 (average molecular weight 4500), S-100 (average molecular weight 5600), S, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) -200 (average molecular weight 8400)), product name Varielta series manufactured by NOK Kluber, product name Fomblin series manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., product name KRYTOX series manufactured by DuPont, product name manufactured by Dow Corning Examples include Moricot HF-30 oil.

前述した撥水剤溶液に含まれる各成分は、撹拌を行いながら混合することが望ましく、攪拌の回転速度としては200〜1000rpmが好ましい。撹拌時間は2分〜24時間であると好ましい。また、撥水剤溶液の調製手順としては、下記第1表に示される手順を用いることが望ましい。なお、各原料使用量は、適宜増減を行っても良い。 It is desirable to mix each component contained in the water repellent solution described above while stirring, and the rotation speed of stirring is preferably 200 to 1000 rpm. The stirring time is preferably 2 minutes to 24 hours. Moreover, as a preparation procedure of the water repellent solution, it is desirable to use the procedure shown in Table 1 below. In addition, you may increase / decrease each raw material usage-amount suitably.

本発明の薄膜は、真空蒸着法で形成される。また、膜強度及び薄膜と基板との密着性を良好にするために、イオン銃、プラズマ銃等で成膜前処理を実施することが好ましい。
成膜時の加熱源としては、電子銃、ハロゲンヒータ、抵抗加熱、セラミックヒータ等の何れかを用いることが可能であるが、電子銃が好ましい。
本発明における撥水剤溶液は、はそのまま容器に入れて加熱しても良いが、均一な蒸着膜が多く得られるとの観点から、多孔性材料に含浸させることがより好ましい。多孔性材料としては、銅やステンレスなどの熱伝導性の高い金属粉末を焼結した焼結フィルターを用いることが好ましい。すなわち、前記撥水剤溶液を、多孔性材料からなる焼結フィルターに含浸させ、真空中で該焼結フィルターを加熱して薄膜を形成することが好ましい。また、多孔性材料のメッシュは、適度な蒸着速度が得られるという観点から、40〜200μmが好ましく、80〜120μmがより好ましい。
The thin film of the present invention is formed by a vacuum deposition method. In addition, in order to improve the film strength and the adhesion between the thin film and the substrate, it is preferable to perform a film formation pretreatment with an ion gun, a plasma gun, or the like.
As a heating source at the time of film formation, any of an electron gun, a halogen heater, resistance heating, a ceramic heater, and the like can be used, but an electron gun is preferable.
The water repellent solution in the present invention may be put in a container and heated as it is, but it is more preferable to impregnate a porous material from the viewpoint that a large number of uniform deposited films can be obtained. As the porous material, it is preferable to use a sintered filter obtained by sintering metal powder having high thermal conductivity such as copper or stainless steel. That is, it is preferable to impregnate a sintered filter made of a porous material with the water repellent solution and heat the sintered filter in a vacuum to form a thin film. Moreover, 40-200 micrometers is preferable and 80-120 micrometers is more preferable from a viewpoint that the moderate vapor deposition rate is obtained for the mesh of a porous material.

本発明において、撥水剤溶液は、減圧下、原料を加熱して蒸着する加熱蒸着によって基板やその上に形成された反射防止膜上に蒸着することが好ましい。その場合の真空蒸着装置内の真空度としては、特に限定はないが、均質な撥水膜を得るとの観点から、1.33×10-1〜1.33×10-6Pa(10-3〜10-8Torr)が好ましく、6.66×10-1〜8.00×10-4Pa(5.0×10-3〜6.0×10-6Torr)であるとより好ましい。 In the present invention, the water repellent solution is preferably vapor-deposited on the substrate and the antireflection film formed thereon by heat vapor deposition in which the raw material is heated and vapor-deposited under reduced pressure. The degree of vacuum in the vacuum evaporation apparatus in that case is not particularly limited, but from the viewpoint of obtaining a homogeneous water-repellent film, 1.33 × 10 −1 to 1.33 × 10 −6 Pa (10 − 3 to 10 −8 Torr), preferably 6.66 × 10 −1 to 8.00 × 10 −4 Pa (5.0 × 10 −3 to 6.0 × 10 −6 Torr).

撥水剤溶液を加熱する際の温度は、前記(a)〜(c)成分の種類、蒸着する真空条件により異なるが、所望の真空度における前記(a)〜(c)成分の蒸着開始温度以上から前記(a)〜(c)成分の分解温度を超えない範囲で行うことが好ましい。ここで蒸着開始温度とは前記(a)〜(c)成分を含む溶液の蒸気圧が真空度と等しくなったときの温度をいい、また分解温度とは1分間に(a)〜(c)成分の50%が分解する温度(窒素雰囲気下、(a)〜(c)成分と反応性のある物質が存在しない条件で)をいう。   The temperature at which the water repellent solution is heated varies depending on the types of the components (a) to (c) and the vacuum conditions for vapor deposition, but the deposition start temperature of the components (a) to (c) at a desired degree of vacuum. From the above, it is preferable to carry out in a range not exceeding the decomposition temperature of the components (a) to (c). Here, the deposition start temperature refers to the temperature at which the vapor pressure of the solution containing the components (a) to (c) becomes equal to the degree of vacuum, and the decomposition temperature refers to (a) to (c) per minute. The temperature at which 50% of the components are decomposed (under a condition in which no substance reactive with the components (a) to (c) exists in a nitrogen atmosphere).

また、撥水剤溶液の蒸着速度は、4〜7nm/minであると好ましく、前記蒸着速度を達成する方法としては、前記撥水剤溶液に電子ビ−ムを照射する方法が好ましく挙げられる。電子ビ−ムを発生する方法は、従来、蒸着装置で用いられている電子銃を用いることができる。電子銃を用いれば、前記撥水剤溶液全体に、均一にエネルギ−を照射することができ均一な撥水膜を形成しやすくなる。電子銃のパワーは、使用物質、蒸着装置、真空度、照射面積によって異なるが、加速電圧が6kV前後で、印加電流5〜80mA程度が好ましい。   Moreover, the vapor deposition rate of the water repellent solution is preferably 4 to 7 nm / min, and the method for achieving the vapor deposition rate is preferably a method of irradiating the water repellent solution with an electron beam. As a method for generating an electron beam, an electron gun conventionally used in a vapor deposition apparatus can be used. If an electron gun is used, the entire water repellent solution can be uniformly irradiated with energy, and a uniform water repellent film can be easily formed. The power of the electron gun varies depending on the substance used, the vapor deposition apparatus, the degree of vacuum, and the irradiation area, but the acceleration voltage is about 6 kV and the applied current is preferably about 5 to 80 mA.

本発明の光学部材の光学基板としては、特に限定されないが、例えば、メチルメタクリレート単独重合体、メチルメタクリレートと1種以上の他のモノマーとの共重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート単独重合体、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートと1種以上の他のモノマーとの共重合体、イオウ含有共重合体、ハロゲン含有共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタンなどのプラスチック製光学基板、あるいは無機ガラス製光学基板などが挙げられる。また、上記基板は基板上にハードコード層を有するものであってもよい。ハードコード層としては、例えば、有機ケイ素化合物、アクリル化合物等を含んだ硬化膜などが挙げられる。   The optical substrate of the optical member of the present invention is not particularly limited. For example, methyl methacrylate homopolymer, copolymer of methyl methacrylate and one or more other monomers, diethylene glycol bisallyl carbonate homopolymer, diethylene glycol bis Plastic optical substrates such as copolymers of allyl carbonate with one or more other monomers, sulfur-containing copolymers, halogen-containing copolymers, polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, unsaturated polyester, polyethylene terephthalate, polyurethane, etc. Or an optical substrate made of inorganic glass. The substrate may have a hard code layer on the substrate. Examples of the hard code layer include a cured film containing an organosilicon compound, an acrylic compound, and the like.

また、前記光学基板上に形成される反射防止膜(蒸着膜)としては、例えば、レンズ等の光学基板表面の反射を減少させるために使用されるZrO2、SiO2、TiO2、Ta25、Y23、MgF2、Al23などから形成される単層又は多層膜、及びCrO2などから形成される着色膜が挙げられる。なお、反射防止膜の最外層に二酸化ケイ素を主成分とする層を用いることが好ましい。ここで二酸化ケイ素を主成分とするとは、実質的に二酸化ケイ素からなる層、あるいは二酸化ケイ素、酸化アルミニウム及び有機化合物からなるハイブリッド層をいう。 The antireflection film (deposited film) formed on the optical substrate is, for example, ZrO 2 , SiO 2 , TiO 2 , Ta 2 O used to reduce reflection on the surface of the optical substrate such as a lens. 5 , a single layer or a multilayer film formed from Y 2 O 3 , MgF 2 , Al 2 O 3 or the like, and a colored film formed from CrO 2 or the like. In addition, it is preferable to use a layer mainly composed of silicon dioxide as the outermost layer of the antireflection film. Here, silicon dioxide as a main component means a layer substantially composed of silicon dioxide or a hybrid layer composed of silicon dioxide, aluminum oxide and an organic compound.

前記反射防止膜の層構成の具体例としては、基材側から空気側へ順に、以下の7層からなる膜が好ましく挙げられる。
第1層:常温常圧下で液体である有機ケイ素化合物及び/又は常温常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物と、二酸化ケイ素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
第2層:酸化タンタルを少なくとも50重量%含有している層
第3層:常温常圧下で液体である有機ケイ素化合物及び/又は常温常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物と、二酸化ケイ素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
第4層:酸化タンタルを少なくとも50重量%含有している層
第5層:常温常圧下で液体である有機ケイ素化合物及び/又は常温常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物と、二酸化ケイ素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
第6層:酸化タンタルを少なくとも50重量%含有している層
第7層:常温常圧下で液体である有機ケイ素化合物及び/又は常温常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物と、二酸化ケイ素を含有する無機物質とを蒸着原料として形成されるハイブリッド層
As a specific example of the layer configuration of the antireflection film, a film composed of the following seven layers in order from the substrate side to the air side is preferably exemplified.
First layer: a hybrid layer formed using an organic silicon compound that is liquid at normal temperature and pressure and / or a silicon-free organic compound that is liquid at normal temperature and pressure and an inorganic material containing silicon dioxide as a deposition material. Layer: Layer containing at least 50% by weight of tantalum oxide Third layer: Organosilicon compound that is liquid under normal temperature and normal pressure and / or silicon-free organic compound that is liquid under normal temperature and pressure and silicon dioxide Hybrid layer formed using an inorganic substance as a deposition material Layer 4: Layer containing at least 50% by weight of tantalum oxide Layer 5: Organosilicon compound that is liquid at room temperature and pressure and / or Liquid at room temperature and pressure A hybrid layer formed using a silicon-free organic compound and an inorganic substance containing silicon dioxide as a deposition material. Sixth layer: tantalum oxide Layer containing at least 50% by weight Seventh layer: An organic silicon compound that is liquid under normal temperature and pressure and / or a silicon-free organic compound that is liquid under normal temperature and pressure, and an inorganic substance containing silicon dioxide Hybrid layer formed as an evaporation source

前記反射防止膜における前記有機ケイ素化合物としては、例えば、下記一般式(a)〜(d)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the organosilicon compound in the antireflection film include compounds represented by the following general formulas (a) to (d).

一般式(a):シラン又はシロキサン化合物

Figure 0004759377
General formula (a): Silane or siloxane compound
Figure 0004759377

一般式(b):シラザン化合物

Figure 0004759377
General formula (b): Silazane compound
Figure 0004759377

一般式(c):シクロシロキサン化合物

Figure 0004759377
General formula (c): cyclosiloxane compound
Figure 0004759377

一般式(d):シクロシラザン化合物

Figure 0004759377
General formula (d): cyclosilazane compound
Figure 0004759377

一般式(a)〜(d)において、式中のm、nは、それぞれ独立に0以上の整数を表す。また、X1〜X8はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基(飽和・不飽和双方を含む)、−OR1基、−CH2OR2基、−COOR3基、−OCOR4基、−SR5基、−CH2SR6基、−NR7 2基、または、−CH2NR8 2基(R1〜R8は水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基(飽和・不飽和双方を含む)を表す。前記X1〜X8及びR1〜R8の示す炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基等が挙げられる。 In the general formulas (a) to (d), m and n in the formula each independently represent an integer of 0 or more. X 1 to X 8 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms (including both saturated and unsaturated), —OR 1 group, —CH 2 OR 2 group, and —COOR 3 group. , —OCOR 4 group, —SR 5 group, —CH 2 SR 6 group, —NR 7 2 group, or —CH 2 NR 8 2 group (R 1 to R 8 are hydrogen atoms or carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms) Represents a hydrogen group (including both saturated and unsaturated groups) Examples of the hydrocarbon group represented by X 1 to X 8 and R 1 to R 8 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, An n-butyl group etc. are mentioned.

また、前記反射防止膜における前記ケイ素非含有有機化合物としては、例えば、下記一般式(e)〜(g)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the silicon-free organic compound in the antireflection film include compounds represented by the following general formulas (e) to (g).

一般式(e):片末端にエポキシ基を有する、炭素及び水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物

Figure 0004759377
General formula (e): Silicon-free organic compound having an epoxy group at one end and containing carbon and hydrogen as essential components
Figure 0004759377

一般式(f):両末端にエポキシ基を有する、炭素及び水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物

Figure 0004759377
General formula (f): silicon-free organic compound having an epoxy group at both ends and containing carbon and hydrogen as essential components
Figure 0004759377

一般式(g):不飽和結合を含む、炭素及び水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物
CX910=CX1112 (g)
General formula (g): silicon-free organic compound containing unsaturated bonds and containing carbon and hydrogen as essential components
CX 9 X 10 = CX 11 X 12 (g)

一般式(e)及び(f)において、R9は水素原子、又は酸素を含んでいてもよい炭素数1〜10の炭化水素基、R10は、酸素を含んでいてもよい炭素数1〜7の二価の炭化水素基を表す。一般式(g)において、X9〜X12は、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、又は炭素数1〜10の炭素原子、水素原子を必須成分とし、さらに酸素及び窒素の少なくとも一方を必須成分とする有機基を表す。
前記R9及びX9〜X12の示す炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、等が挙げられる。
前記R10の示す二価の炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、n−プロピレン基、イソプロピレン基、n−ブチレン基、等が挙げられる。
前記X9〜X12の示す有機基としては、例えば、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、ポリエーテル基、等が挙げられる。
本発明の製造方法によって得られる光学部材はプラスチックレンズであると好ましい。
In the general formulas (e) and (f), R 9 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms which may contain oxygen, and R 10 has 1 to 1 carbon atoms which may contain oxygen. 7 represents a divalent hydrocarbon group. In the general formula (g), X 9 to X 12 are each independently a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a carbon atom having 1 to 10 carbon atoms, a hydrogen atom as an essential component, and oxygen and An organic group containing at least one of nitrogen as an essential component is represented.
Examples of the hydrocarbon group represented by R 9 and X 9 to X 12 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and an n-butyl group.
Examples of the divalent hydrocarbon group represented by R 10 include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, and an n-butylene group.
Examples of the organic group represented by X 9 to X 12 include an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, and a polyether group.
The optical member obtained by the production method of the present invention is preferably a plastic lens.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、実施例及び比較例において得られた光学部材の物性評価は以下のようにして行った。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples.
In addition, the physical property evaluation of the optical member obtained in the Example and the comparative example was performed as follows.

(1)視感透過率
プラスチックレンズの視感透過率Yは、両面に反射防止膜を有するプラスチックレンズをサンプルとして、日立分光光度計U−4100、U−3410を用い測定した。
(1) Luminous transmittance Y The luminous transmittance Y of a plastic lens was measured using Hitachi spectrophotometers U-4100 and U-3410 using a plastic lens having an antireflection film on both sides as a sample.

(2)視感反射率
プラスチックレンズの視感反射率Zは、両面に反射防止膜を有するプラスチックレンズをサンプルとして、日立分光光度計U−4100、U−3410を用い測定した。
(2) Luminous reflectance Z Luminous reflectance Z of a plastic lens was measured using Hitachi spectrophotometers U-4100 and U-3410 using a plastic lens having an antireflection film on both sides as a sample.

(3)耐衝撃性
レンズ中心部厚さが1.0mm又は2.0mm(CTと記載する)で、レンズ度数パワ−が0.00D(ディオプタ−)のレンズを作製してFDA(Food and Drug Administration)で定められているドロップボールテストを行い、以下の基準で評価した。
○:合格 ×:不合格
なお、ボ−ルの重さは16gであった。合格の基準は、ドロップボールテスト後、レンズの皹または割れが生じたものを不合格、ドロップボールテスト前とレンズの外観が変わらないものを合格とした。
(3) Impact resistance A lens having a lens center thickness of 1.0 mm or 2.0 mm (denoted as CT) and a lens power of 0.00D (diopter) was prepared to produce FDA (Food and Drug). The drop ball test specified in Administration was conducted and evaluated according to the following criteria.
○: Pass ×: Fail In addition, the weight of the ball was 16 g. The criteria for the acceptance was that after the drop ball test, when the lens was wrinkled or cracked, it was rejected, and when the lens appearance was not changed from that before the drop ball test.

(4)密着性
プラスチックレンズの表面に剃刀にて1mm×1mmの升目を100個作成し、升目上にセロハンテープ(ニチバン社製造販売)を貼り、一気にテープをはがし、升目の残存率(残った升目の数/100)で評価した。
(4) Adhesion 100 squares of 1 mm x 1 mm were made with a razor on the surface of the plastic lens, cellophane tape (manufactured and sold by Nichiban Co., Ltd.) was pasted on the squares, the tape was peeled off at once, and the residual rate of the squares (remaining The number of squares / 100) was evaluated.

(5)耐摩耗性
プラスチックレンズの表面にスチールウール(規格#0000,日本スチ−ルウ−ル社製)にて1kgf/cm2(0.1Mpa)の荷重をかけ、10ストローク擦り、表面状態により以下の基準で評価した。
UA:殆ど傷なし
A:細い傷数本あり
B:細い傷多数、太い傷数本あり
C:細い傷多数、太い傷多数あり
D:殆ど膜はげ状態
(5) Abrasion resistance The surface of the plastic lens was subjected to a load of 1 kgf / cm 2 (0.1 Mpa) with steel wool (standard # 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) and rubbed for 10 strokes depending on the surface condition. Evaluation was made according to the following criteria.
UA: almost no scratches A: several thin wounds B: many thin wounds, several thick wounds C: many thin wounds, many thick wounds D: almost film baldness

(6)耐熱性
プラスチックレンズをドライオーブンで60℃から、5℃ずつ上昇させて1時間加熱し、クラックの発生温度を測定した。
(6) Heat resistance The plastic lens was heated from 60 ° C. to 5 ° C. in a dry oven and heated for 1 hour, and the crack generation temperature was measured.

(7)耐アルカリ性
プラスチックレンズをNaOH10重量%水溶液に20℃、1時間浸漬し、表面状態により以下の基準で評価した。
UA:殆ど変化なし
A:点状の膜はげ数個あり
B:点状の膜はげが全面にあり
C:点状の膜はげが全面、面状の膜はげ数個あり
D:殆ど全面膜はげ
(7) Alkali resistance The plastic lens was immersed in a 10% by weight NaOH aqueous solution at 20 ° C for 1 hour, and evaluated according to the following criteria depending on the surface condition.
UA: Almost no change A: Several point-shaped film baldnesses B: Point-shaped film baldness on the entire surface C: Point-shaped film baldness on the entire surface, several sheet-shaped film baldness D: Almost all surface film baldness

(8)Bayer値
摩耗試験機 BTE Abrasion Tester(商品名、米COLTS社製)及び、ヘイズ値測定装置(村上色彩技術研究所社製)を使用し、基準レンズとのヘイズ値変化の差によりBayer値を測定した。
(サンプル数、測定方法)
(a) 基準レンズ(CR39基材)3枚、サンプルレンズ3枚を用意。
(b) 摩耗テスト前ヘイズ(haze)値の測定。
(c) BTE Abrasion Testerにて、摩耗性テスト。(砂による表面摩耗600往復)
(d) 摩耗テスト後ヘイズ値の測定。
(e) Bayer値算出 (3枚分の平均値とする)
(Bayer値=基準レンズの透過率変化/サンプルレンズの透過率変化)
(8) Bayer value Using a wear tester BTE Abrasion Tester (trade name, manufactured by COLTS, USA) and a haze value measuring device (Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.), the Bayer value varies depending on the difference in haze value from the reference lens. The value was measured.
(Number of samples, measuring method)
(a) Prepare three reference lenses (CR39 base material) and three sample lenses.
(b) Measurement of haze value before wear test.
(c) Abrasion test with BTE Abrasion Tester. (Surface wear due to sand 600 round trips)
(d) Measurement of haze value after abrasion test.
(e) Bayer value calculation (assuming average value for 3 sheets)
(Bayer value = change in transmittance of reference lens / change in transmittance of sample lens)

(9)帯電電圧
ティッシュペーパーを用いて、プラスチックレンズの凸面を100回手で擦り、その時の帯電電圧を静電メータFMX−002(シムコジャパン社製(商品名))を用いて測定した。帯電電圧は経時変化するため、100回擦った後、5、10、20、40、80、160、320秒後の帯電電圧を測定し、結果をV1=V0exp(−at)でフィッティングした。ここでV1、V0、1/a、tはそれぞれ、帯電電圧(V)、推定初期帯電電圧(V)、1/a減期(秒)、経過時間(秒)である。
この結果より、以下の基準で帯電防止効果のありなしを判断した。
0≦300V、かつ1/a≦50秒:帯電防止効果あり
0>300V、又は1/a>50秒:帯電防止効果なし
(9) Charging voltage Using tissue paper, the convex surface of the plastic lens was rubbed 100 times by hand, and the charging voltage at that time was measured using an electrostatic meter FMX-002 (manufactured by Simco Japan (trade name)). Since the charging voltage changes with time, after rubbing 100 times, the charging voltage after 5, 10, 20, 40, 80, 160, 320 seconds is measured, and the result is fitted with V 1 = V 0 exp (−at). did. Here, V 1 , V 0 , 1 / a, and t are a charging voltage (V), an estimated initial charging voltage (V), a 1 / a delay period (second), and an elapsed time (second), respectively.
From this result, the presence or absence of an antistatic effect was judged according to the following criteria.
V 0 ≦ 300 V and 1 / a ≦ 50 seconds: antistatic effect V 0 > 300 V, or 1 / a> 50 seconds: no antistatic effect

(10)処理液(撥水剤溶液)導電性の測定
ガラス上に滴下した処理液(撥水剤溶液)の抵抗値をテスターで測定し、処理液の導電性を測定した。処理液0.2ccをスライドガラス上に滴下し、直径10mmの円形に広げ、乾燥前にテスター測定子間隔約5mmで抵抗値を測定した。
以下の基準で処理液の帯電防止効果を判断した。
測定値 10MΩ以下:帯電防止効果が十分得られる。
測定値 10MΩ超:帯電防止効果が不十分となる。
(10) Measurement of treatment liquid (water repellent solution) conductivity The resistance value of the treatment liquid (water repellent solution) dropped on the glass was measured with a tester to measure the conductivity of the treatment liquid. 0.2 cc of the treatment liquid was dropped on a slide glass, spread into a circle having a diameter of 10 mm, and the resistance value was measured at a tester probe spacing of about 5 mm before drying.
The antistatic effect of the treatment liquid was judged according to the following criteria.
Measurement value: 10 MΩ or less: sufficient antistatic effect is obtained.
Measured value> 10 MΩ: Antistatic effect is insufficient.

(11)撥水性
協和界面科学接触角計で水の接触角を測定した。
(11) Water repellency The water contact angle was measured with a Kyowa Interface Science contact angle meter.

以下のようにして撥水剤溶液を調製した。撥水剤溶液の調製に使用した使用原料の性状を以下に示す。
(a)成分:パーフルオロアルキル基を有する撥水剤
KY130:信越化学工業(株)製 撥水剤
(b)成分:シランカップリング剤、変性シリコーンオイル、パーフルオロエーテル化合物
KBE903:信越化学工業(株)製 シランカップリング剤(アミノ基含有)
KF101:信越化学工業(株)製 変性シリコーンオイル(側鎖エポキシ変性)
KF105:信越化学工業(株)製 変性シリコーンオイル(両末端エポキシ変性)
HFE7100:住友スリーエム(株)パーフルオロエーテル化合物
HFE7200:住友スリーエム(株)パーフルオロエーテル化合物
A water repellent solution was prepared as follows. The properties of the raw materials used for the preparation of the water repellent solution are shown below.
(A) component: water repellent having a perfluoroalkyl group KY130: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. water repellent (b) component: silane coupling agent, modified silicone oil, perfluoroether compound KBE903: Shin-Etsu Chemical ( Silane coupling agent (containing amino group)
KF101: Modified silicone oil (side-chain epoxy-modified) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
KF105: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. modified silicone oil (both ends epoxy modified)
HFE7100: Sumitomo 3M Limited perfluoroether compound HFE7200: Sumitomo 3M Limited perfluoroether compound

前記シランカップリング剤、変性シリコーンオイル、パーフルオロエーテル化合物の構造式を以下に示す。
KBE903:(C25O)3SiC36NH2
KF101:

Figure 0004759377
KF105:
Figure 0004759377
HFE7100:C49OCH3
HFE7200:C37OC25 Structural formulas of the silane coupling agent, modified silicone oil, and perfluoroether compound are shown below.
KBE903: (C 2 H 5 O ) 3 SiC 3 H 6 NH 2
KF101:
Figure 0004759377
KF105:
Figure 0004759377
HFE7100: C 4 F 9 OCH 3
HFE7200: C 3 F 7 OC 2 H 5

(c)成分:導電性物質
CNT:本荘ケミカル製 カーボンナノチューブ(初期粒径;2〜20nm)
C60及びC70:関東科学 カーボンクラスター(初期粒径;5nm)
CBG:東海カーボン製 導電性カーボンブラック #3855(初期粒径;24nm)
これらの導電性物質を自動乳鉢を用いて粒径20〜50μmにした。
(C) Component: Conductive substance CNT: Carbon nanotube made by Honjo Chemical (initial particle size: 2 to 20 nm)
C60 and C70: Kanto Science Carbon Cluster (initial particle size: 5 nm)
CBG: Conductive carbon black # 3855 (initial particle size: 24 nm) manufactured by Tokai Carbon
These conductive materials were adjusted to a particle size of 20 to 50 μm using an automatic mortar.

製造例1(処理液の調製)
1.撹拌子を挿入したガラス容器に、粉砕したCNT(CBG又はC60/C70)を1.0g投入した。ここで、“CNT(CBG又はC60/C70)”との表記は、CNTの代わりに、CBG、又は、C60及び/又はC70を用いても良く、同様の効果が得られることを示している。
2.次に4gのKBE903を前記ガラス容器に注入し、120秒撹拌した。撹拌子回転数は500rpmとした。
3.次に、4gのKF105を前記容器に注入し24時間撹拌した。
前記1から3の混合物をフィラーAと呼称する。
4.120分攪拌後、別容器に準備した7.0gの撥水剤KY130中にフィラーAを3.5g 注入し120秒撹拌した。
5.次いで、パーフルオロエーテル化合物としてHFE7200を3g前記ガラス容器に注入し、24時間攪拌し、処理液(撥水剤溶液)を作成した。固形分中のカーボン率(CNT(CBG又はC60/C70)の含量)は7.91重量%であった。
以上の手順を第1表に示す。
Production Example 1 (Preparation of treatment liquid)
1. 1.0 g of pulverized CNT (CBG or C60 / C70) was put into a glass container in which a stirrer was inserted. Here, the notation “CNT (CBG or C60 / C70)” indicates that CBG or C60 and / or C70 may be used instead of CNT, and the same effect is obtained.
2. Next, 4 g of KBE903 was poured into the glass container and stirred for 120 seconds. The rotation speed of the stirring bar was 500 rpm.
3. Next, 4 g of KF105 was poured into the container and stirred for 24 hours.
The mixture of 1 to 3 is referred to as filler A.
4. After stirring for 120 minutes, 3.5 g of filler A was injected into 7.0 g of water repellent KY130 prepared in a separate container, and stirred for 120 seconds.
5. Next, 3 g of HFE7200 as a perfluoroether compound was poured into the glass container and stirred for 24 hours to prepare a treatment liquid (water repellent solution). The carbon ratio (content of CNT (CBG or C60 / C70)) in the solid content was 7.91% by weight.
The above procedure is shown in Table 1.

Figure 0004759377
Figure 0004759377

実施例1〜5及び比較例1〜4
第2表−1/5〜5/5及び第3表−1/4〜4/4に記載したように、プラスチックレンズ基材A〜D上に硬化膜A〜Bを形成し(工程1)、前処理イオン照射を行った後(工程2)、第1〜7層からなる反射防止膜を設け(工程3)、前処理イオン照射を行った後(工程4)、薄膜(撥水+帯電防止層)を形成し(工程5)、撥水及び帯電防止層を有するプラスチックレンズを得た。
Examples 1-5 and Comparative Examples 1-4
As described in Table 2-1 / 5 to 5/5 and Table 3-1 / 4 to 4/4, cured films A to B are formed on the plastic lens base materials A to D (Step 1). After the pretreatment ion irradiation (step 2), an antireflection film consisting of the first to seventh layers is provided (step 3), after the pretreatment ion irradiation (step 4), a thin film (water repellent + charged) Prevention layer) was formed (Step 5) to obtain a plastic lens having a water repellent and antistatic layer.

実施例及び比較例において使用した材料の種類、製造方法及び各種処理方法は、次の通りである。
プラスチックレンズ基板
基材A:ジエチレングリコ−ルビスアリルカ−ボネ−ト、屈折率1.50、中心厚2.0mm、レンズ度数0.00
基材B:EYRY基材(商品名、HOYA(株)製、エピチオ基を有する化合物を用いた重合体)屈折率1.70、中心厚1.0mm、レンズ度数0.00
基材C:EYNOA基材(商品名、HOYA(株)製造、ポリチオウレタン樹脂)屈折率1.67、中心厚1.0mm、レンズ度数0.00
The types of materials used in the examples and comparative examples, manufacturing methods, and various treatment methods are as follows.
Plastic lens substrate A: Diethylene glycol bisallyl carbonate, refractive index 1.50, center thickness 2.0 mm, lens power 0.00
Base material B: EYRY base material (trade name, manufactured by HOYA Co., Ltd., polymer using a compound having an epithio group) Refractive index 1.70, center thickness 1.0 mm, lens power 0.00
Base material C: EYNOA base material (trade name, manufactured by HOYA Co., Ltd., polythiourethane resin) Refractive index 1.67, center thickness 1.0 mm, lens power 0.00

実施例2においては、基材と硬化被膜との間にプライマ−層を施した。そのプライマ−層の形成方法は次の通りである。
ポリエステルタイプのポリオール(住友バイエルウレタン社、デスモフェンA−670(商品名)使用)6.65重量部、ブロック型ポリイソシアネート(住友バイエルウレタン社の商品名、BL−3175(商品名)使用)6.08重量部、硬化触媒としてジブチル錫ジラウレート0.17重量部、レベリング剤としてフッ素系レベリング剤(住友スリーエム社、フロラードFC−430(商品名)使用)0.17重量部、及び溶媒としてジアセトンアルコール95.71重量部からなる混合物を均一な状態になるまで充分攪拌した。かくして得られた液状プライマーを、アルカリ前処理したプラスチックレンズ基板上に浸漬法(引き上げ速度:24cm/分)にて塗布し、100℃で40分加熱硬化し、厚さ2〜3μmのプライマー層を形成した。
In Example 2, a primer layer was applied between the substrate and the cured coating. The method for forming the primer layer is as follows.
Polyester type polyol (Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd., using Desmophen A-670 (trade name)) 6.65 parts by weight, Block type polyisocyanate (Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd., using BL-3175 (trade name)) 08 parts by weight, 0.17 parts by weight of dibutyltin dilaurate as a curing catalyst, 0.17 parts by weight of a fluorine-based leveling agent (using Sumitomo 3M, Florard FC-430 (trade name)) as a leveling agent, and diacetone alcohol as a solvent The mixture consisting of 95.71 parts by weight was sufficiently stirred until it became uniform. The liquid primer thus obtained was applied on an alkali pretreated plastic lens substrate by a dipping method (pickup speed: 24 cm / min) and cured by heating at 100 ° C. for 40 minutes to form a primer layer having a thickness of 2 to 3 μm. Formed.

工程1:硬化膜の形成
(1−1)コ−ティング組成物Aの作製
5℃雰囲気下、変性酸化第二スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン−酸化珪素複合体メタノールゾル45重量部とγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン15重量部及びテトラエトキシシラン3重量部とを混合し、1時間攪拌した。その後、0.001モル/L濃度の塩酸4.5重量部を添加し、50時間攪拌した。その後、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル25重量部、ダイアセトンアルコール9重量部及びアルミニウムトリスアセチルアセトネート1.8重量部、過塩素酸アルミニウム0.05重量部を順次添加し、150時間攪拌した。得られた溶液を0.5μmフィルターでろ過してコ−ティング組成物Aを得た。
Step 1: Formation of cured film (1-1) Production of coating composition A Under an atmosphere of 5 ° C., 45 parts by weight of modified stannic oxide-zirconium oxide-tungsten oxide-silicon oxide complex methanol sol and γ-glyce Sidoxypropyltrimethoxysilane (15 parts by weight) and tetraethoxysilane (3 parts by weight) were mixed and stirred for 1 hour. Thereafter, 4.5 parts by weight of 0.001 mol / L hydrochloric acid was added and stirred for 50 hours. Thereafter, 25 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether, 9 parts by weight of diacetone alcohol, 1.8 parts by weight of aluminum trisacetylacetonate, and 0.05 parts by weight of aluminum perchlorate were sequentially added as a solvent and stirred for 150 hours. The obtained solution was filtered with a 0.5 μm filter to obtain a coating composition A.

(1−2)硬化膜Aの作製
前記基材Aを60℃、10重量%水酸化ナトリウム水溶液中に300秒間浸漬し、その後、超音波28kHz印加の下、イオン交換水を用いて300秒間洗浄した。最後に、70℃雰囲気下、乾燥させる一連の工程を基材前処理とした。
前処理を施した基材Aを、ディッピング法にてコーティング組成物Aに30秒間浸漬し、30cm/分にて引き上げた後、コーティング組成物Aを120℃、60分間の条件にて硬化させ硬化膜Aを作製した。
(1-2) Production of cured film A The substrate A was immersed in an aqueous solution of sodium hydroxide at 60 ° C. and 10% by weight for 300 seconds, and then washed with ion-exchanged water for 300 seconds while applying an ultrasonic wave of 28 kHz. did. Finally, a series of steps for drying in a 70 ° C. atmosphere was used as a substrate pretreatment.
The pretreated substrate A is dipped in the coating composition A for 30 seconds by the dipping method, pulled up at 30 cm / min, and then cured by curing the coating composition A at 120 ° C. for 60 minutes. Membrane A was prepared.

(1’−1)コ−ティング組成物Bの作製
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン100重量部を攪拌しながら0.01モル/L濃度塩酸1.4重量部、水23重量部を添加し、24時間攪拌してγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解物を得た。次に、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化珪素を主体とする複合体微粒子ゾル200重量部とエチルセロソルブ100重量部、シリコーン系界面活性剤0.5重量部及びアルミニウムアセチルアセトネート3.0重量部とを混合し、前記γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの加水分解物に加え、十分攪拌した後に、ろ過してコ−ティング組成物Bを得た。
(1′-1) Preparation of Coating Composition B While stirring 100 parts by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 1.4 parts by weight of 0.01 mol / L hydrochloric acid and 23 parts by weight of water were added. The mixture was stirred for 24 hours to obtain a hydrolyzate of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. Next, 200 parts by weight of a composite fine particle sol mainly composed of titanium oxide, zirconium oxide, and silicon oxide, 100 parts by weight of ethyl cellosolve, 0.5 parts by weight of a silicone-based surfactant, and 3.0 parts by weight of aluminum acetylacetonate Were mixed, added to the hydrolyzate of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, sufficiently stirred, and then filtered to obtain a coating composition B.

(1’−2)硬化膜Bの作製
アルカリ水溶液で前処理した基材B又は基材Cを、ディッピング法にてコーティング組成物Bに30秒間浸漬し、20cm/分にて引き上げた後、コーティング組成物Bを120℃、120分間の条件にて硬化させ硬化膜Bを作製した。
(1'-2) Preparation of cured film B Substrate B or substrate C pretreated with an alkaline aqueous solution was immersed in coating composition B for 30 seconds by dipping and pulled up at 20 cm / min, followed by coating. The composition B was cured under the conditions of 120 ° C. and 120 minutes to prepare a cured film B.

工程2:硬化膜のイオン銃処理(前処理)
硬化膜上に、表に記載したイオン加速電圧、照射時間、ガス雰囲気下の条件で、前処理としてイオン銃にてイオン照射を行った。
Process 2: Ion gun treatment (pretreatment) of cured film
On the cured film, ion irradiation was performed with an ion gun as pretreatment under the conditions of ion acceleration voltage, irradiation time, and gas atmosphere described in the table.

工程3:反射防止膜の作製
前処理イオン照射を行った後、第1〜7層からなる反射防止膜を形成した。
なお、ハイブリッド層は、無機物質の蒸着と有機物質との蒸着との二元蒸着として、ほぼ同時に蒸着するように条件を設定した。有機物質の蒸着の際は、外部加熱タンクにて気化し、気化した有機物を、ガスバルブ、マスフローコントローラを使用して、蒸着装置内に導入した。ハイブリッド層を形成する際には、アルゴンガス、酸素ガスとの混合ガスの雰囲気下にてイオンアシスト法を用いた。
Step 3: Preparation of antireflection film Pretreatment After ion irradiation, an antireflection film comprising the first to seventh layers was formed.
Note that the conditions were set so that the hybrid layer was deposited almost simultaneously as binary deposition of inorganic material and organic material. During the vapor deposition of the organic substance, the vaporized organic substance was introduced into the vapor deposition apparatus using a gas valve and a mass flow controller. When forming the hybrid layer, an ion assist method was used in an atmosphere of a mixed gas of argon gas and oxygen gas.

表中のCM1は有機ケイ素化合物、CM2はケイ素非含有有機化合物であることを表す。表中に記載されている有機化合物は以下の通りである。
エポライト70P(プロピレングリコ−ルジグリシジルエ−テル、分子量約188、共栄社化学社製)
デナコールEX920(ポリプロピレングリコ−ルジグリシジルエ−テル、分子量約300、ナガセケムテックス社製)
エピオ−ルP200(ポリプロピレングリコ−ルグリシジルエ−テル、平均分子量約304、日本油脂(株)製)
In the table, CM1 represents an organosilicon compound, and CM2 represents a silicon-free organic compound. The organic compounds described in the table are as follows.
Epolite 70P (propylene glycol diglycidyl ether, molecular weight of about 188, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
Denacol EX920 (polypropylene glycol diglycidyl ether, molecular weight of about 300, manufactured by Nagase ChemteX Corporation)
Epiol P200 (polypropylene glycol glycidyl ether, average molecular weight of about 304, manufactured by NOF Corporation)

工程4:反射防止膜のイオン銃処理(前処理)
反射防止膜上に、表に記載したイオン加速電圧、照射時間、ガス雰囲気下の条件で、前処理としてイオン銃にてイオン照射を行った。
Process 4: Anti-reflective film ion gun treatment (pretreatment)
On the antireflection film, ion irradiation was performed with an ion gun as pretreatment under the conditions of ion acceleration voltage, irradiation time, and gas atmosphere described in the table.

工程5:薄膜(撥水+帯電防止層)の形成
まず、製造例1で作製した処理液を使用し成膜用のチップを作製した。チップの作成はSUS製バイオカラムに分注器を使用して上記処理液を注入量0.3ccで注入し、80℃、約2時間で室温乾燥(又はドライオーブン)にて乾燥させ成膜用チップを得た。
得られたチップを用いEB(電子銃)を使用し、真空蒸着により反射防止膜上に薄膜を成膜した。成膜条件は以下のようである。
使用蒸着装置:BMC−1050−HP((株)シンクロン製)
成膜条件:開始真空度 2×10-3Pa
成膜時EB出力:20mA
なお、比較例で使用した、DOTITE D−550(藤倉化成社製(商品名))は銀系導電性ペーストであり、DOTITE XC−12(藤倉化成社製(商品名))はカーボン系導電性ペーストであり、KP801Pは信越化学工業(株)製の撥水剤である。
Step 5: Formation of thin film (water repellent + antistatic layer) First, a film-forming chip was prepared using the treatment liquid prepared in Production Example 1. Chips are prepared by injecting the above treatment liquid into an SUS biocolumn using a dispenser at an injection volume of 0.3 cc and drying at room temperature (or dry oven) at 80 ° C. for about 2 hours. I got a chip.
Using the obtained chip, an EB (electron gun) was used, and a thin film was formed on the antireflection film by vacuum deposition. The film forming conditions are as follows.
Vapor deposition equipment: BMC-1050-HP (manufactured by Syncron Co., Ltd.)
Film forming condition: Degree of starting vacuum 2 × 10 −3 Pa
EB output during film formation: 20 mA
In addition, DOTITE D-550 (made by Fujikura Kasei Co., Ltd. (product name)) used in the comparative example is a silver-based conductive paste, and DOTITE XC-12 (made by Fujikura Kasei Co., Ltd. (product name)) is a carbon-based conductive material. KP801P is a water repellent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

以上のようにして得られた薄膜を有するプラスチックレンズについて、前記(1)〜(11)の試験を行った。その結果を第4表−1/2〜2/2に示す。
第4表に示したように、実施例1〜5のプラスチックレンズの処理液の導電性は10MΩ以下、初期帯電電圧300V以下と優れた帯電防止性能を有しており、撥水性能は水の接触角において107℃以上を有していた。
The plastic lens having the thin film obtained as described above was subjected to the tests (1) to (11). The results are shown in Table 4 -1/2 to 2/2.
As shown in Table 4, the electrical conductivity of the processing solutions for the plastic lenses of Examples 1 to 5 is 10 MΩ or less and the initial charging voltage is 300 V or less, and has excellent antistatic performance. The contact angle was 107 ° C. or higher.

Figure 0004759377
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以上詳細に説明したように、本発明の製造方法によると、レンズが着色せず、良好な帯電防止性及び撥水性を有する薄膜及び光学部材が得られる。このためプラスチックレンズ等として極めて有用である。   As described above in detail, according to the production method of the present invention, the lens is not colored, and a thin film and an optical member having good antistatic properties and water repellency can be obtained. For this reason, it is extremely useful as a plastic lens or the like.

Claims (14)

(a)パーフルオロアルキル基を有する撥水剤、(b)シランカップリング剤、側鎖及び/又は両末端に有機基を導入した変性シリコーンオイル及びパーフルオロエーテル化合物との混合物、及び(c)フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも1種類の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を用い、真空蒸着法にて薄膜を形成する薄膜の製造方法。 (A) a water repellent having a perfluoroalkyl group, (b) a mixture of a silane coupling agent, a modified silicone oil having an organic group introduced into the side chain and / or both ends, and a perfluoroether compound, and (c) A method for producing a thin film, wherein a thin film is formed by a vacuum deposition method using a water repellent solution obtained by mixing at least one conductive material selected from fullerenes, carbon nanotubes, and graphite compounds. 前記パーフルオロエーテル化合物が下記一般式(VIII)で表される請求項1記載の薄膜の製造方法。
n2n+1OCn'2n'+1 (VIII)
(式中、nおよびn’は独立して1以上の整数を表す)。
2. The method for producing a thin film according to claim 1, wherein the perfluoroether compound is represented by the following general formula (VIII).
C n F 2n + 1 OC n ′ H 2n ′ + 1 (VIII)
(In the formula, n and n ′ independently represent an integer of 1 or more).
前記シランカップリング剤が下記一般式(V)で表される請求項1又は2記載の薄膜の製造方法。
1nSi(OR24-n (V)
(式中、R1は官能基を有する若しくは有しない炭素数1〜20の一価の炭化水素基、R2は炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基または炭素数2〜10のアシル基、nは0、1または2を示し、R1が複数ある場合、複数のR1はたがいに同一でも異なっていてもよいし、複数のR2Oはたがいに同一でも異なっていてもよい)。
The method for producing a thin film according to claim 1 or 2, wherein the silane coupling agent is represented by the following general formula (V).
R 1 nSi (OR 2 ) 4-n (V)
(In the formula, R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms with or without a functional group, R 2 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or a carbon number. 7-10 aralkyl or an acyl group having 2 to 10 carbon atoms, n represents represents 0, 1 or 2, when R 1 is plural, R 1 is may be the same with or different from each other, a plurality R 2 O may be the same or different.
前記シランカップリング剤は、アミノプロピルトリアルコキシシランである請求項3記載の薄膜の製造方法。 The method for producing a thin film according to claim 3, wherein the silane coupling agent is aminopropyltrialkoxysilane. 前記アミノプロピルトリアルコキシシランは、アミノプロピルトリメトキシシランまたはアミノプロピルトリエトキシシランである請求項4記載の薄膜の製造方法。 The method for producing a thin film according to claim 4, wherein the aminopropyltrialkoxysilane is aminopropyltrimethoxysilane or aminopropyltriethoxysilane. 前記側鎖及び/又は両末端に有機基を導入した変性シリコーンオイルが下記一般式(VI)又は(VII)で表される請求項1〜のいずれかに記載の薄膜の製造方法。
Figure 0004759377
Figure 0004759377
The manufacturing method of the thin film in any one of Claims 1-5 by which the modified silicone oil which introduce | transduced the organic group into the said side chain and / or both terminal is represented by the following general formula (VI) or (VII).
Figure 0004759377
Figure 0004759377
前記フラーレン類が、Cz(zは40〜120の整数)の球状構造を有する化合物から選ばれる少なくとも1種類である請求項1〜のいずれかに記載の薄膜の製造方法。 The fullerenes, Cz (z is an integer of 40 to 120) The method of manufacturing a thin film according to any one of claims 1 to 6 at least one selected from compounds having the spherical structure of. 前記フラーレン類が、C60及びC72の球状構造を有する化合物から選ばれる少なくとも1種類である請求項7記載の薄膜の製造方法。 The method for producing a thin film according to claim 7, wherein the fullerene is at least one selected from compounds having a spherical structure of C 60 and C 72 . 前記カーボンナノチューブ類が、多層カーボンナノチューブ(MWNT)及び単層カーボンナノチューブ(SWNT)から選ばれる少なくとも1種類である請求項1〜8のいずれかに記載の薄膜の製造方法。 The method for producing a thin film according to claim 1, wherein the carbon nanotubes are at least one kind selected from multi-walled carbon nanotubes (MWNT) and single-walled carbon nanotubes (SWNT). 前記黒鉛化合物が、カーボングラファイト、弗化黒鉛及び膨張黒鉛から選ばれる少なくとも1種類である請求項1〜8のいずれかに記載の薄膜の製造方法。 The method for producing a thin film according to claim 1, wherein the graphite compound is at least one selected from carbon graphite, fluorinated graphite, and expanded graphite. 前記フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物の粒径が、それぞれ80μm以下である請求項1〜10のいずれかに記載の薄膜の製造方法。 The method for producing a thin film according to claim 1, wherein the fullerenes, the carbon nanotubes, and the graphite compound each have a particle size of 80 μm or less. 前記撥水剤溶液を、多孔性材料からなる焼結フィルターに含浸させ、真空中で該焼結フィルターを加熱して薄膜を形成する請求項1〜11のいずれかに記載の薄膜の製造方法。 The method for producing a thin film according to claim 1, wherein the water repellent solution is impregnated into a sintered filter made of a porous material, and the sintered filter is heated in vacuum to form a thin film. 光学基板上形成された多層反射防止膜上に、(a)パーフルオロアルキル基を有する撥水剤、(b)シランカップリング剤、側鎖及び/又は両末端に有機基を導入した変性シリコーンオイル及びパーフルオロエーテル化合物との混合物、及び(c)フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも1種類の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を用い、真空蒸着法にて薄膜を形成する光学部材の製造方法。 Modified silicone oil in which (a) a water repellent having a perfluoroalkyl group, (b) a silane coupling agent, and side groups and / or organic groups are introduced into both ends on a multilayer antireflection film formed on an optical substrate And a mixture of a perfluoroether compound and (c) a water repellent solution formed by mixing at least one conductive material selected from fullerenes, carbon nanotubes, and graphite compounds, by a vacuum deposition method. A method for producing an optical member for forming a thin film. 前記光学部材が、プラスチックレンズである請求項13に記載の光学部材の製造方法。 The method of manufacturing an optical member according to claim 13, wherein the optical member is a plastic lens.
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