JP4737092B2 - Circuit board for molding and three-dimensional circuit obtained using the same - Google Patents

Circuit board for molding and three-dimensional circuit obtained using the same Download PDF

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Description

本発明は、絞り加工や深絞り加工可能な成形加工用回路基板とこれを加工して得られた立体回路に関する。   The present invention relates to a molding circuit board capable of drawing or deep drawing and a three-dimensional circuit obtained by processing the circuit board.

平面状のフィルムアンテナはそのフレキシブル性、小型化が可能という性質より携帯電話等の小型の電子機器に用いられている。近時、こうした電子機器の一層の小型化、多機能化、低コスト化が求められるようになり、立体化した回路基板を電子機器に搭載する方法が提案され、実現されてきている。   Planar film antennas are used in small electronic devices such as cellular phones because of their flexibility and miniaturization. Recently, there has been a demand for further downsizing, multi-functionalization, and cost reduction of such electronic devices, and a method of mounting a three-dimensional circuit board on an electronic device has been proposed and realized.

例えば、モールドプリント回路板(MPCB:Molded Printed Circuit Board)、あるいは射出成形回路(MID:Molded Interconnection Device )等がある。これらの射出成形により回路基板を得るものであるが、大別してめっき方式によるものと回路フィルム方式によるものとがある。   For example, there is a mold printed circuit board (MPCB) or an injection molding circuit (MID). A circuit board is obtained by these injection moldings, and is roughly classified into a plating system and a circuit film system.

めっき方式とは、樹脂成形品にめっきを施すことにより得られ、その代表的な製法として1ショットモールド法、2ショットモールド法がある。1ショットモールド法は、まず無電解メッキ可能な樹脂用いて所望の立体形状に成形し、次にこの成形品の表面にフォトレジストを塗布し、回路パターンを露光し、現像し、露出した樹脂表面に無電解メッキを施して立体回路基板を形成するものである。   The plating method is obtained by plating a resin molded product, and a representative production method includes a one-shot mold method and a two-shot mold method. In the one-shot mold method, first, a desired three-dimensional shape is formed using a resin capable of electroless plating, then a photoresist is applied to the surface of the molded product, a circuit pattern is exposed, developed, and an exposed resin surface. A three-dimensional circuit board is formed by electroless plating.

これに対して、2ショットモールド法は、メッキ用の触媒を配合した樹脂を用い、最初の射出成形によって無電解メッキが可能な立体を形成し、更に2回目の射出成形によって、この立体の所定の表面に無電解メッキを行わない表面層を形成し、次いで最初に成形した立体表面に無電解メッキを施して導電部を形成するものである。   In contrast, the two-shot mold method uses a resin mixed with a catalyst for plating, forms a solid that can be electrolessly plated by the first injection molding, and further determines the predetermined of the solid by the second injection molding. A surface layer that is not subjected to electroless plating is formed on the surface, and then electroconductive plating is performed on the first molded three-dimensional surface to form a conductive portion.

一方、回路フィルム方式は、フィルム面に所定の回路パターンを形成し、樹脂成形時に上記所定の回路パターンを一体化または転写する方式であって、インモールド法等がある。インモールド法は、基板となるフィルム面に従来公知の方法により回路パターンを形成した後、この回路パターン形成済みの基板を成形金型内に装填し、樹脂を充填することにより樹脂成形体と一体化する、もしくは樹脂成形体に上記回路パターンを転写することにより回路成形体を製造する方法である。   On the other hand, the circuit film system is a system in which a predetermined circuit pattern is formed on the film surface, and the predetermined circuit pattern is integrated or transferred at the time of resin molding. The in-mold method forms a circuit pattern on the film surface to be a substrate by a conventionally known method, and then loads the substrate on which the circuit pattern has been formed into a molding die and fills the resin with the resin molded body. Or a circuit molded body is manufactured by transferring the circuit pattern to a resin molded body.

しかしながら、前記した各種製法には、それぞれが有する特徴的製造工程から以下のような問題がある。例えば、1ショットモールド法では、製造工程が非常に長く、コストが高くつく。また、3次元の曲面形状を有する立体形状の製造には不向きである。さらに、樹脂成形品の形成材料が限定され、回路のパターニングが困難である。   However, the various manufacturing methods described above have the following problems due to their characteristic manufacturing processes. For example, in the one-shot mold method, the manufacturing process is very long and the cost is high. Further, it is not suitable for manufacturing a three-dimensional shape having a three-dimensional curved surface shape. Furthermore, the material for forming the resin molded product is limited, and patterning of the circuit is difficult.

また、2ショットモールド法は、3次元の曲面形状を有する立体形状の製造に適しているものの、成形用金型として精度の高いがものが要求されること、2回の射出成型を行うためことなどからコストが高くなる。   In addition, although the two-shot mold method is suitable for manufacturing a three-dimensional shape having a three-dimensional curved surface shape, a high-precision mold is required as a molding die, and two injection moldings are performed. The cost becomes higher.

また、回路フィルム方式のインモールド法は、回路パターンの形成に種々の工法を適用することができ、樹脂成形体の形成材料の選定自由度が高いものの、回路パターンと樹脂成形体との密着の度合い、および3次元形状への追従性という点で充分に満足のいくものではない。   In addition, the circuit film type in-mold method can apply various methods to the formation of the circuit pattern and has a high degree of freedom in selecting the material for forming the resin molded product, but the adhesion between the circuit pattern and the resin molded product can be improved. It is not fully satisfactory in terms of the degree and followability to the three-dimensional shape.

射出成形法を用いたこれらの方法の欠点を解消するものとして、金型内に充填する熱硬化性樹脂の熱分解温度よりも低く、かつ成形温度よりも高い融点を有する形成材料により形成された球状成形体の表面に、所定の導体回路パターンを形成し、球状成形体を、成形型の内周面と所定の空間を保った状態で成形型内に装填し、熱硬化性樹脂を上記空間に充填、この熱硬化性樹脂を熱硬化させて熱硬化性樹脂硬化体と球状成形体とからなる熱硬化性樹脂製成形体を形成した後に、この熱硬化性樹脂製成形体の内部から上記球状成形体を溶融除去して立体成形回路体を製造する方法が特許文献1に開示されている。   In order to eliminate the drawbacks of these methods using the injection molding method, it was formed of a forming material having a melting point lower than the thermal decomposition temperature of the thermosetting resin filled in the mold and higher than the molding temperature. A predetermined conductor circuit pattern is formed on the surface of the spherical molded body, and the spherical molded body is loaded in the mold while maintaining a predetermined space with the inner peripheral surface of the mold, and the thermosetting resin is placed in the space. After the thermosetting resin is thermoset to form a thermosetting resin molded body composed of a thermosetting resin cured body and a spherical molded body, the above-mentioned thermosetting resin molded body is filled with the above-mentioned Patent Document 1 discloses a method for manufacturing a three-dimensional molded circuit body by melting and removing a spherical molded body.

しかし、これらの何れの方法においても射出成形法自体が有する工程が長いという問題点、高価な金型を使用するという問題点、厚さの薄い成形体が得られにくいという問題点は解決されていない。加えて、無電解めっきを可能とする樹脂成形体を得る場合には、樹脂成形体製造用の樹脂に高価なPdを多量に加えて混練しなければならないという問題点がある。   However, in any of these methods, the problem that the injection molding method itself has a long process, the problem that an expensive mold is used, and the problem that it is difficult to obtain a thin molded product have been solved. Absent. In addition, when obtaining a resin molded body capable of electroless plating, there is a problem that a large amount of expensive Pd must be added to the resin for producing the resin molded body and kneaded.

ところで、薄いフィルム状の基材で立体的な回路パターンを形成する方法として、ABS樹脂,ポリカーポネート,ポリエーテルサルホンなど非晶質ポリマからなる樹脂製のフィルムやシート等の表面に銅や銀で導電部を形成したフィルム状部材と、ABS樹脂,ポリカーポネート,ポリエーテルサルホンなど非晶質ポリマからなる樹脂フィルムとを、該樹脂フィルム面に前記フィルム状部材の導電部が面する様に配置し、ブロー成形又はバキューム成形して前記フィルム状部材及び樹脂部材を密着させて立体に成形する方法が特許文献2に開示されている。   By the way, as a method of forming a three-dimensional circuit pattern with a thin film-like substrate, copper or the like is formed on the surface of a resin film or sheet made of an amorphous polymer such as ABS resin, polycarbonate, polyethersulfone or the like. A film-like member having a conductive part formed of silver and a resin film made of an amorphous polymer such as ABS resin, polycarbonate, polyethersulfone, and the conductive part of the film-like member face the resin film surface. Patent Document 2 discloses a method in which the film-like member and the resin member are brought into close contact with each other and blow-molded or vacuum-molded to form a three-dimensional shape.

射出成形法には、前述したように工程が非常に長く、高価な金型をいくつも使用することや、射出成形後に無電解めっきできるように、あらかじめ樹脂に高価なPdを十分な量加えるなどコストが高くなることから必ずしも十分とは言えない。   In the injection molding method, as described above, the process is very long, a number of expensive molds are used, and a sufficient amount of expensive Pd is added to the resin in advance so that electroless plating can be performed after injection molding. It is not necessarily sufficient because of the high cost.

また、特許文献2記載の方法では、あらかじめ樹脂製のフィルムやシートの表面にフォトレジスト法等によって回路パターンを形成するが、得られたシートを絞り加工等で2方向以上の立体形成を行うと、回路パターンを構成する金属と樹脂との伸び率や引張強度の差を起因として回路パターンを構成する配線が破断してしまうという問題が発生する。これを防止するためには、求める立体形状になるようにフィルム等の一部をカットし、金属と樹脂との伸びが相互に追随可能な範囲となるようにして成形加工を行うが、カットするフィルム等の部分には配線を形成することができず、回路設計において大きな制約となる。   In the method described in Patent Document 2, a circuit pattern is formed in advance on the surface of a resin film or sheet by a photoresist method or the like. When the obtained sheet is formed in two or more directions by drawing or the like, There is a problem that the wiring constituting the circuit pattern breaks due to the difference in elongation and tensile strength between the metal constituting the circuit pattern and the resin. In order to prevent this, a part of the film or the like is cut so as to obtain the desired three-dimensional shape, and the molding process is performed so that the elongation of the metal and the resin can follow each other, but the cutting is performed. Wiring cannot be formed on the film or the like, which is a great restriction in circuit design.

こうした問題を解消する手段として、多層構造からなる成形加工用回路基板で、少なくとも三層から成り、その第一層がポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)から選ばれるいずれか一つの樹脂フィルム、第二層が所望のパターンを有する回路、第三層がポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)から選ばれるいずれか一つの樹脂フィルムで、かつ第一層の樹脂フィルムと第二層の回路を構成する配線との密着強度が400N/m以上のものが検討されている。
特開平09−148712号公報 特開平04−082292号公報
As means for solving such problems, a circuit board for molding processing having a multilayer structure is composed of at least three layers, and the first layer is selected from polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), and polyethylene naphthalate (PEN). Any one resin film, the second layer has a circuit having a desired pattern, and the third layer is any one resin film selected from polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), and polyethylene naphthalate (PEN). And the thing with the adhesive strength of 400 N / m or more of the resin film of a 1st layer and the wiring which comprises the circuit of a 2nd layer is examined.
JP 09-148712 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 04-08292

この基板は、確かに前記の射出成形法等が有する問題点を解消し、またこの基板を用いて絞り加工等の2方向以上の立体成型をおこなっても、回路パターンは損傷されない。しかし、残念ながら深絞り加工を行うと、配線のコーナー部において配線に亀裂が生ずるという問題が明らかになった。   This substrate surely eliminates the problems of the injection molding method and the like, and even if three-dimensional molding such as drawing is performed using this substrate, the circuit pattern is not damaged. However, unfortunately, the deep drawing process has revealed the problem that the wiring is cracked at the corner of the wiring.

従って、本発明の課題は、深絞り加工しても配線の損傷を生じない成形加工用回路基板と、本成形加工用回路基板を用いて得た立体回路の提供である。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a molding circuit board that does not cause wiring damage even when deep drawing is performed, and a three-dimensional circuit obtained by using the molding circuit board.

前記課題を解決すべく本発明者らは種々の検討を行った結果、成形加工用回路基板の回路を構成する配線部のコーナーを特定の条件を満たす形状とすれば、第一層をポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)から選ばれるいずれか一つの樹脂フィルムとし、第二層を所望のパターンを有する回路とし、第1層と第2層の回路との密着強度を400N/m以上とする成形加工用回路基板で前記課題を解消できることを見出して本発明に至った。
即ち、前記課題を解決する本第一の発明は、多層構造からなる成形加工用回路基板であって、少なくとも二層から成り、その第一層がポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)から選ばれるいずれか一つの樹脂フィルムであり、第二層が下記特徴を有する回路であり、第一層の樹脂フィルムと第二層の回路との密着強度が400N/m以上のものである。
(回路の特徴)
回路を構成する配線のコーナー部において、そのコーナー部の形状を、そのコーナー部と最も近い配線の幅を t としたときに、コーナー内側を曲率半径 R が t/2 以上となる曲率を持つような湾曲状にする。
そして、本第2の発明は、前記発明に加えて、回路パターンを形成する配線間が配線幅と等幅以上となるように設けられたものである。
As a result of various studies conducted by the present inventors to solve the above problems, if the corner of the wiring part constituting the circuit of the circuit board for molding is formed into a shape that satisfies a specific condition, the first layer is polyimide, Any one resin film selected from polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), and polyethylene naphthalate (PEN), the second layer is a circuit having a desired pattern, and the first layer and the second layer circuit The present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved with a circuit board for molding with an adhesion strength of 400 N / m or more.
That is, the first invention for solving the above-mentioned problem is a circuit board for molding processing having a multilayer structure, which is composed of at least two layers, the first layer of which is polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), Any one resin film selected from polyethylene naphthalate (PEN), the second layer is a circuit having the following characteristics, and the adhesion strength between the first layer resin film and the second layer circuit is 400 N / m. That's all.
(Circuit features)
In the corner portion of the wiring that constitutes the circuit, the corner portion has a shape with a curvature radius R of t / 2 or more when the width of the wiring closest to the corner portion is t. Make it curved.
And in addition to the said invention, this 2nd invention is provided so that the space | interval between wiring which forms a circuit pattern may become equal to or more than wiring width.

そして、本第3の発明は、前記の何れかの発明において、回路が銅製であるものである。   In the third aspect of the present invention, in any one of the above aspects, the circuit is made of copper.

そして、本第4の発明は、本第1〜3のいずれかの成形加工用回路基板を成形加工して得た立体回路である。   The fourth invention is a three-dimensional circuit obtained by molding the molding circuit board according to any one of the first to third embodiments.

本発明の基板は、第一層の樹脂フィルム層と第二層の回路との密着強度が400N/m以上と高く、かつ回路を構成する配線のコーナー部において、そのコーナー部の形状を、そのコーナー部と最も近い配線の幅を t としたときに、コーナー内側に曲率半径 R がt/2 以上となる曲率を持つ湾曲状としたために深絞り加工により三次元形状の立体回路形成体を作成しても、歪みが集中することなく、得られる成形体の配線に損傷は起きない。更に、回路パターンを形成する配線と配線との間を配線幅と等幅以上に設けることにより深い絞り加工が可能となる。
なお、本発明の構造を採れば、線幅を2mmまで広くしても深絞り加工が可能である。
In the substrate of the present invention, the adhesion strength between the resin film layer of the first layer and the circuit of the second layer is as high as 400 N / m or more, and the shape of the corner portion is set at the corner portion of the wiring constituting the circuit. When the width of the wiring closest to the corner portion is t, a three-dimensional shape three-dimensional circuit formed body is created by deep drawing in order to obtain a curved shape with a curvature radius R of t / 2 or more inside the corner. Even so, the distortion does not concentrate and the resulting wiring of the molded body is not damaged. Furthermore, deep drawing can be performed by providing a space equal to or larger than the wiring width between the wirings forming the circuit pattern.
If the structure of the present invention is adopted, deep drawing can be performed even if the line width is increased to 2 mm.

本発明の最も特徴とするところは、回路形成において、配線を屈曲するようにデザインする場合や、配線が交差するようにデザインする場合に生じる配線のコーナー部分に、深絞り加工時に応力が集中しないように、コーナー部分の直近の最小線幅を t としたときに、コーナー部分の形状をコーナー内側に曲率半径 R が t/2 以上となるような湾曲状にする点である。こうすることによって、コーナー部の一点に応力が集中しないようにすることができる。   The most characteristic feature of the present invention is that stress is not concentrated at the time of deep drawing at the corner portion of the wiring that is generated when the wiring is designed to be bent or when the wiring is designed to intersect. Thus, when the minimum line width closest to the corner portion is t, the shape of the corner portion is curved so that the radius of curvature R becomes t / 2 or more inside the corner. By doing so, it is possible to prevent stress from being concentrated on one point of the corner portion.

また、回路パターンを形成する配線間が配線幅と等幅以上になるようにする点である。こうすることにより深絞り加工により配線に掛かる複雑な応力を樹脂部分に逃がすことが可能となり、より深い絞り加工を行っても配線は破断することがない。   In addition, the distance between the wirings forming the circuit pattern is equal to or larger than the wiring width. By doing so, it becomes possible to release the complicated stress applied to the wiring by the deep drawing process to the resin portion, and the wiring will not be broken even if the deep drawing process is performed.

次に、これ以外の構成について説明する。本発明では、回路と第一層との密着強度を400N/m以上とすることが必要である。従って、必要な密着強度があれば、第一層となる樹脂フィルムに接着剤を介して金属箔を張り合わせたものを用い、金属箔を加工して回路を作成し、その後回路の上に樹脂フィルムを貼りつけて成形加工用回路基板を作成しても、樹脂フィルム表面にめっき法で密着強度400N/m以上のめっき層を設け、これを用いて前記と同様に処理して成形加工用回路基板を得ても良い。   Next, a configuration other than this will be described. In the present invention, the adhesion strength between the circuit and the first layer needs to be 400 N / m or more. Therefore, if you have the required adhesion strength, use a resin film that is the first layer laminated with a metal foil via an adhesive, process the metal foil to create a circuit, and then place the resin film on the circuit Even if the circuit board for molding processing is prepared by pasting, a plating layer having an adhesion strength of 400 N / m or more is provided on the surface of the resin film by plating, and the same processing as described above is performed using the plating layer. You may get.

幅100μm以下の配線から成る回路を形成する場合には、得られる回路の信頼性、電気特性等より樹脂フィルムに直接金属層が設けられたものを用いることが推奨される。   In the case of forming a circuit composed of wiring having a width of 100 μm or less, it is recommended to use a resin film provided with a metal layer directly on the basis of reliability and electrical characteristics of the obtained circuit.

本発明の成形加工用回路基板を深絞り加工する場合に、回路表面にキズが入らないように回路表面に第1層と同種の樹脂フィルムを貼りあわせても良い。無論、深絞りか工事に回路表面を樹脂フィルムで覆って金型内に装填しても良い。   When deep-drawing the circuit board for molding according to the present invention, a resin film of the same type as that of the first layer may be bonded to the circuit surface so as not to damage the circuit surface. Of course, the circuit surface may be covered with a resin film for deep drawing or construction and loaded into the mold.

本発明において第一層として使用しうる樹脂フィルムはポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等である。これらを選択する理由は、回路を形成した際に要求される透明性、絶縁性、耐熱性、耐食性等の理由からである。   The resin film that can be used as the first layer in the present invention is polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), or the like. The reason for selecting these is for reasons such as transparency, insulation, heat resistance, and corrosion resistance required when a circuit is formed.

第二層の回路として使用できる材質は、回路としての機能を有するものであれば良く、その観点からは導電性のある材料であればよいが、電気特性、回路作成の容易性から銅を主とすることが好ましい。   The material that can be used as the circuit of the second layer is not particularly limited as long as it has a function as a circuit, and from this point of view, it may be a conductive material. It is preferable that

また、回路と第一層の樹脂フィルムとの密着強度を高くするため、第1層表面に乾式めっき法でシード層を設け、シード層の上に乾式めっき法や電解めっき法で金属層を設けてシード層と金属層とからなる導通層を形成し、この導通層をエッチング加工して回路を形成することが好ましい。この際に、シード層をNi、Cr、Co、Mo、W、あるいはこれらを主とする合金の薄膜で構成すると密着強度を高くする上でより好ましい。   Also, in order to increase the adhesion strength between the circuit and the first layer resin film, a seed layer is provided on the surface of the first layer by a dry plating method, and a metal layer is provided on the seed layer by a dry plating method or an electrolytic plating method. It is preferable to form a circuit by forming a conductive layer composed of a seed layer and a metal layer and etching the conductive layer. At this time, it is more preferable to increase the adhesion strength when the seed layer is formed of a thin film of Ni, Cr, Co, Mo, W, or an alloy mainly composed of these.

また、回路表面に変色防止膜を設けるのも、成形加工して得られた立体回路の長期使用による変色防止という観点から好ましい態様である。   In addition, providing a discoloration preventing film on the circuit surface is also a preferable aspect from the viewpoint of preventing discoloration due to long-term use of a three-dimensional circuit obtained by molding.

次に、本発明の成形加工用回路基板の作成例について説明する。   Next, an example of forming the circuit board for molding according to the present invention will be described.

本発明の成形加工用回路基板は、例えば以下の工程により作成することができる。
まずポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等の樹脂フィルム表面にシード層を乾式めっき法、例えば蒸着法やスパッタリング法などにより設ける。シード層はCuとしてもよいが、配線層と樹脂フィルムとの密着性をより確実にするためにはNi、Cr、Co、Mo、W、あるいはこれらを主とする合金で構成することが好ましい。具体的に採用される蒸着法やスパッタリング法の条件は、特に限定するものではなく、既に公開されている方法からターゲットとして用いる金属に合わせ適宜選択すればよい。
The circuit board for molding according to the present invention can be produced, for example, by the following steps.
First, a seed layer is provided on the surface of a resin film such as polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), or polyethylene naphthalate (PEN) by a dry plating method such as a vapor deposition method or a sputtering method. The seed layer may be made of Cu, but is preferably made of Ni, Cr, Co, Mo, W, or an alloy mainly composed of these in order to ensure the adhesion between the wiring layer and the resin film. The conditions of the vapor deposition method and sputtering method that are specifically employed are not particularly limited, and may be appropriately selected according to the metal used as the target from the methods already disclosed.

次に、シード層の上に蒸着法、スパッタリング法、めっき法の少なくとも一つにより金属を析出させて金属層を設け、シード層と金属層とからなる導電層を設ける。この際の金属層の材質としは、加工のし易さ、配線部の電気特性から銅とすることが好ましい。蒸着法、スパッタリング法、めっき法の具体的条件についても、前記と同様に汎用されている条件を選定すればよい。   Next, a metal is deposited on the seed layer by at least one of vapor deposition, sputtering, and plating to provide a metal layer, and a conductive layer composed of the seed layer and the metal layer is provided. The material of the metal layer at this time is preferably copper from the viewpoint of ease of processing and electrical characteristics of the wiring portion. As for the specific conditions of the vapor deposition method, the sputtering method, and the plating method, the commonly used conditions may be selected as described above.

次に、導電層をパターニングしてコーナー部が湾曲状の所望パターンの回路を作成するが、この際、例えば、導電層表面にフォトレジストをスクリーン印刷し、またはフォトレジストフィルムを貼りあわせ、所望のパターンを有するマスクを用いて露光し、現像してエッチングマスクを形成し、このエッチングマスクを用いて導体層とシード層をエッチングする。これらの方法は電子部品であるプリント配線板等の作成に用いられる技術がそのまま適用できる。   Next, the conductive layer is patterned to create a desired pattern circuit with curved corners. At this time, for example, a photoresist is screen-printed on the surface of the conductive layer, or a photoresist film is bonded to the desired layer. Exposure is performed using a mask having a pattern, development is performed to form an etching mask, and the conductor layer and the seed layer are etched using this etching mask. For these methods, the technique used for producing a printed wiring board or the like which is an electronic component can be applied as it is.

このようにして回路を形成した後、必要に応じて回路表面に樹脂フィルム層を設ける。この際の方法としては、液状の樹脂を塗布しても良く、フィルム状の樹脂を貼りつけも良い。この際用いる樹脂としては、成形加工時に金型によって形成可能なフィルムであれば特に限定されるものではないが、成形加工時に熱をかけて成形する場合があることや、第一層の樹脂と同様に伸びなければならないため、第一層の樹脂フィルムと同じ材料にするか、又はガラス転移温度や引張特性が第一層の樹脂に近い材料が好ましい。   After forming the circuit in this manner, a resin film layer is provided on the circuit surface as necessary. As a method at this time, a liquid resin may be applied, or a film-like resin may be attached. The resin used in this case is not particularly limited as long as it is a film that can be formed by a mold at the time of molding, but it may be molded by applying heat at the time of molding, and the resin of the first layer Similarly, since it must be stretched, the same material as that of the first layer resin film or a material having a glass transition temperature and tensile properties close to those of the first layer resin is preferable.

第1層の樹脂フィルムは、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)の樹脂が使用できる。   As the resin film of the first layer, a resin of polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), or polyethylene naphthalate (PEN) can be used.

なお、第1層と第2層とが密着強度が400N/m以上で接合された部材を使用する場合には、第2層をエッチング加工して回路を形成すれば良く、前記例に拘るものではない。   When using a member in which the first layer and the second layer are bonded with an adhesion strength of 400 N / m or more, the second layer may be etched to form a circuit. is not.

(実施例1〜15)
以下本発明の実施例を、図面を参照しながら具体的に説明する。
まず、回路パターンを図1に示した格子状の形状にし、配線が交差する内側のコーナー部を図2に示したような湾曲状として成形加工用回路基板を製造し、次にこれを深絞り加工したときに配線が破断するかどうか確認した。
第1層の樹脂フィルムとして、厚さ50μmのPETフィルム(東レ株式会社製 商品名S10)を用い、その表面に蒸着法によって銅でシード層を形成し、その後電解銅めっき法により銅めっき層を設け、銅層の厚さが10μmの導電層を形成した。電解銅めっき法の条件は以下の通りとした。
めっき浴組成:硫酸銅濃度100g/リットル、硫酸濃度180g/リットル、塩酸50mg/リットル
めっき浴温度:室温
陰極電流密度:1A/dm2
次に、導電層表面にドライフィルムレジスト(旭化成株式会社製 商品名 AQ−1158)を貼り合わせ、所定のマスクを用いて露光し、現像して図1、2に示した配線形状が得られるエッチングマスクを作製した。そして、導電層をエッチング除去し、最後に残存するエッチングマスクを剥離し、格子状の配線部の配線幅が1mm(実施例1〜5)、0.5mm(実施例6〜10)、0.2mm(実施例11〜15)の三種類の図1,2に示したパターンの回路を作成して2層構造の成形加工用回路基板を得た。なお、各回路とも格子のすき間は配線幅の2倍の巾になるように形成し、配線が交差する内側のコーナー部形状を表1に示す曲率の湾曲状にした。得られた成形加工用回路基板の回路とPETフィルムとの密着強度は何れも400N/m以上であった。
次に、図3に示す金型の内面に直接回路が触れないように薄いPETフィルムを得られた成形加工用回路基板の表面に載せ、図3の金型を用いて図4のように各辺の長さが20mm×50mm×高さ10mmの立方体になるように成形して立体回路を得た。加熱温度は160℃で、30秒間保持した。
その後、各立体回路の回路部に破断部がないかどうかを確認した。その結果を表1に示した。
(Examples 1 to 15)
Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.
First, the circuit pattern is made into the lattice shape shown in FIG. 1, and the inner corner where the wiring intersects is curved as shown in FIG. It was confirmed whether the wiring would break when processed.
As a first layer resin film, a 50 μm thick PET film (trade name S10, manufactured by Toray Industries, Inc.) is used. A seed layer is formed on the surface by copper using a vapor deposition method, and then a copper plating layer is formed by electrolytic copper plating. A conductive layer having a copper layer thickness of 10 μm was formed. The conditions of the electrolytic copper plating method were as follows.
Plating bath composition: copper sulfate concentration 100 g / liter, sulfuric acid concentration 180 g / liter, hydrochloric acid 50 mg / liter Plating bath temperature: room temperature Cathodic current density: 1 A / dm 2
Next, a dry film resist (trade name AQ-1158 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) is attached to the surface of the conductive layer, exposed using a predetermined mask, and developed to obtain the wiring shape shown in FIGS. A mask was prepared. Then, the conductive layer is removed by etching, the last remaining etching mask is peeled off, and the wiring width of the grid-like wiring portion is 1 mm (Examples 1 to 5), 0.5 mm (Examples 6 to 10), Two types of circuits having the patterns shown in FIGS. 1 and 2 of 2 mm (Examples 11 to 15) were prepared to obtain a circuit board for molding with a two-layer structure. In addition, each circuit was formed so that the gap of the lattice was twice as wide as the wiring width, and the inner corner portion shape where the wiring intersected was formed into a curved shape with the curvature shown in Table 1. The adhesion strength between the circuit of the obtained circuit board for molding and the PET film was 400 N / m or more.
Next, a thin PET film is obtained so that the circuit does not directly touch the inner surface of the mold shown in FIG. 3 and placed on the surface of the circuit board for molding, and each of the molds shown in FIG. A three-dimensional circuit was obtained by molding so as to form a cube having a side length of 20 mm × 50 mm × height 10 mm. The heating temperature was 160 ° C. and held for 30 seconds.
Thereafter, it was confirmed whether or not the circuit portion of each three-dimensional circuit had a broken portion. The results are shown in Table 1.

Figure 0004737092
Figure 0004737092

表1より、各立体回路に破断部は見出されなかった。この結果、配線幅に関係なく、コーナー部の曲率を配線幅(t)に対して曲率(R)がt/2以上の関係を満たすように形成された回路を有する成形加工用回路基板を用いれば、絞り加工をしても回路が破断することなく立体回路を得ることができることが確認された。   From Table 1, no break was found in each three-dimensional circuit. As a result, a circuit board for molding having a circuit formed so that the curvature (R) of the corner portion satisfies the relationship of t / 2 or more with respect to the wiring width (t) can be used regardless of the wiring width. For example, it has been confirmed that a three-dimensional circuit can be obtained without breaking the circuit even after drawing.

(実施例16〜30)
実施例1〜3と同様にしてその片面に回路が設けられたPETフィルムを得た。
次に、回路面上に、厚さ50μmのPETフィルムを、接着剤を介してラミネートして3層構造に形成して成形加工用回路基板を得た。得られた成形加工用回路基板の回路とPETフィルムとの密着強度は何れも400N/m以上であった。
得られた成形加工用回路基板を図3に示す金型を用いて、図4のように各辺の長さが20mm×50mm×高さ10mmの立方体になるように成形して立体回路を得た。加熱温度は160℃で、30秒間保持した。
その後、各立体回路の回路部に破断部がないかどうかを確認した。その結果を表2に示した。
(Examples 16 to 30)
In the same manner as in Examples 1 to 3, a PET film having a circuit provided on one side thereof was obtained.
Next, a PET film having a thickness of 50 μm was laminated on the circuit surface through an adhesive to form a three-layer structure to obtain a circuit board for molding. The adhesion strength between the circuit of the obtained circuit board for molding and the PET film was 400 N / m or more.
The obtained circuit board for molding processing is molded using a mold shown in FIG. 3 so that each side has a length of 20 mm × 50 mm × height 10 mm as shown in FIG. It was. The heating temperature was 160 ° C. and held for 30 seconds.
Thereafter, it was confirmed whether or not there was a break in the circuit portion of each three-dimensional circuit. The results are shown in Table 2.

Figure 0004737092
Figure 0004737092

表2より、各立体回路に破断部は見出されなかった。この結果、配線幅に関係なく、コーナー部の曲率を配線幅(t)に対して曲率(R)がt/2以上の関係を満たすように形成された回路を有する成形加工用回路基板を用いれば、絞り加工をしても回路が破断することなく立体回路を得ることができることが確認された。   From Table 2, no break was found in each three-dimensional circuit. As a result, a circuit board for molding having a circuit formed so that the curvature (R) of the corner portion satisfies the relationship of t / 2 or more with respect to the wiring width (t) can be used regardless of the wiring width. For example, it has been confirmed that a three-dimensional circuit can be obtained without breaking the circuit even after drawing.

(実施例31〜45)
次に、第1層の基材の種類をポリイミドフィルムにして実施例1と同様な方法で、配線が交差する内側のコーナーを所定の曲率の湾曲状とすることにより、配線が破断するかどうか確認した。
厚さ38μmのポリイミドフィルムの表面に厚さ8μmの銅箔が設けられた銅ポリ基板(住友金属鉱山株式会社製 商品名 S‘perFlex)を用い、実施例1と同様にして回路を形成して2層構造の成形加工用回路基板を得た。得られた成形加工用回路基板の回路とポリイミドフィルムとの密着強度は何れも400N/m以上であった。
その後、実施例1と同様に図3の金型を用いて成形加工して図4の立体回路を得た。加工時の温度は200℃、保持時間は2分間とした。
立体回路の回路部に破断部があるかどうかを調べた。その結果を表3に示した。
(Examples 31-45)
Next, whether or not the wiring breaks by making the inner corner where the wiring intersects into a curved shape with a predetermined curvature in the same manner as in Example 1 by using a polyimide film as the base material of the first layer confirmed.
Using a copper poly substrate (trade name S'perFlex, manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) in which a 8 μm thick copper foil was provided on the surface of a 38 μm thick polyimide film, a circuit was formed in the same manner as in Example 1. A two-layered circuit board for molding was obtained. The adhesion strength between the circuit of the obtained circuit board for molding processing and the polyimide film was 400 N / m or more.
Thereafter, in the same manner as in Example 1, the molding circuit of FIG. 4 was obtained by molding using the mold of FIG. The processing temperature was 200 ° C. and the holding time was 2 minutes.
It was investigated whether the circuit part of a three-dimensional circuit had a fracture part. The results are shown in Table 3.

Figure 0004737092
Figure 0004737092

表3より、配線幅に関係なく、コーナー部の曲率を配線幅(t)に対して曲率(R)がt/2以上になるように成形加工することにより、金属配線が破断することなく、立体的に形成できることが確認された。   From Table 3, regardless of the wiring width, by forming the curvature of the corner portion so that the curvature (R) is greater than or equal to t / 2 with respect to the wiring width (t), the metal wiring is not broken. It was confirmed that three-dimensional formation was possible.

(実施例46〜60)
次に、38μmのポリイミドフィルムの表面に厚さ8μmの銅箔が設けられた銅ポリ基板(住友金属鉱山株式会社製 商品名 S‘perFlex)を用い、実施例31と同様にして回路を形成した。得られた成形加工用回路基板の回路とポリイミドフィルムとの密着強度は何れも400N/m以上であった。
その後、回路表面上に、接着剤面が回路面側になるように回路上に株式会社巴川製作所製の粘着剤付きポリイミドを接し、温度180℃で30秒間熱圧着して3層構造の成形加工用回路基板を作成した。この成形加工用回路基板を実施例と同様に図3の金型を用いて成形加工して図4の立体回路を得た。加工時の温度は200℃、保持時間は2分間とした。
立体回路の回路部に破断部があるかどうかを調べた。その結果を表4に示した。
(Examples 46 to 60)
Next, a circuit was formed in the same manner as in Example 31 using a copper poly substrate (trade name S'perFlex, manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) in which a copper foil having a thickness of 8 μm was provided on the surface of a 38 μm polyimide film. . The adhesion strength between the circuit of the obtained circuit board for molding processing and the polyimide film was 400 N / m or more.
After that, a polyimide with adhesive made by Yodogawa Manufacturing Co., Ltd. is in contact with the circuit surface so that the adhesive surface is on the circuit surface side, and thermocompression bonding is performed at a temperature of 180 ° C. for 30 seconds to form a three-layer structure. A circuit board was prepared. The molding circuit board was molded using the mold shown in FIG. 3 in the same manner as in the example to obtain the three-dimensional circuit shown in FIG. The processing temperature was 200 ° C. and the holding time was 2 minutes.
It was investigated whether the circuit part of a three-dimensional circuit had a fracture part. The results are shown in Table 4.

Figure 0004737092
Figure 0004737092

表4より、配線幅に関係なく、コーナー部の曲率を配線幅(t)に対して曲率(R)がt/2以上になるように成形加工することにより、金属配線が破断することなく、立体的に形成できることが確認された。   From Table 4, regardless of the wiring width, by forming the curvature of the corner portion so that the curvature (R) is t / 2 or more with respect to the wiring width (t), the metal wiring is not broken, It was confirmed that three-dimensional formation was possible.

(実施例61,62)
次に、回路を図5のRがt/2の曲率をもつ湾曲状のコーナー部を有する図6の回路 とした以外は実施例1と同様にして2層構造の成形加工用回路基板を得た。得られた成 形加工用回路基板の回路とPETフィルムとの密着強度は何れも400N/m以上であ った。
得られた成形加工用回路基板を用いて図7(1)〜(3)の手順に従って深絞り成形 して図8のように各辺の長さが20mm×50mm×高さ20mmの立体回路を得た。
用いた金型は、所望形状となる凹部と、この凹部内部の気体を外部に吸引するための 吸引口13が設けられた上金型14と、上金型の凹部の略中央部に突き当たるように、 上下可動に設けられた吸引ノズル15とガス導入口16とを有する下金型から構成され るものである。
成形加工は、まず、成形加工用回路基板12の回路表面に薄いPETフィルムを載せ 、これを上金型14と下金型17とで固定し(図7(1))、次いで吸引ノズルを金型 内に挿入し、成形加工用回路基板12を上金型14の凹部内面に押しつけ、位置精度を 確保するために吸引ノズル15より吸引して成形加工用回路基板12を固定し(図7( 2))、次いで、吸引ノズル15と上金型14にも受けられたガス吸引口(13)より 金型内の空気を吸引しつつ、下金型(14)に設けられたガス導入口より圧縮ガスを導 入して行った。
なお、成型時の金型の温度は160℃とし、吸引し、及び圧宿空気を導入した後、3 0秒間その状態で保持した。
得られた立体回路が破断しているかどうかを確認したが、破断はしていなかった。
成型後の位置精度について、図1の成形加工後の位置確認用配線11が成型後の立体 回路の中央に位置しているかどうかを、位置確認用配線の任意の8ヶ所について確認し た。その結果を表5に示した。なお、表5の位置精度(%)は、中央の位置に対してず れた距離を、成型した形状の1/2辺の距離で除した値で示した。比較のために吸引ノ ズル15を作動させないで、上金型14のガス吸引口13から吸引し、下金型17のガ ス導入口16とから圧縮ガスを導入し、成形加工用回路基板12を成型した結果も表5 に示した。
(Examples 61 and 62)
Next, a circuit board for molding with a two-layer structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that the circuit was the circuit of FIG. 6 having a curved corner portion where R in FIG. 5 had a curvature of t / 2. It was. The adhesion strength between the circuit of the obtained circuit board for forming and the PET film was 400 N / m or more.
Using the obtained circuit board for molding processing, deep drawing is performed according to the procedure of FIGS. 7 (1) to (3), and a three-dimensional circuit having a length of each side of 20 mm × 50 mm × height 20 mm as shown in FIG. Obtained.
The mold used is such that it comes into contact with a recess having a desired shape, an upper mold 14 provided with a suction port 13 for sucking the gas inside the recess to the outside, and a substantially central portion of the recess of the upper mold. In addition, it is composed of a lower mold having a suction nozzle 15 and a gas introduction port 16 provided so as to be movable up and down.
In the molding process, first, a thin PET film is placed on the circuit surface of the circuit board 12 for molding process, and this is fixed by the upper mold 14 and the lower mold 17 (FIG. 7 (1)), and then the suction nozzle is moved to the mold. The molding circuit board 12 is inserted into the mold, pressed against the inner surface of the concave portion of the upper mold 14, and sucked from the suction nozzle 15 to secure the positional accuracy, thereby fixing the molding circuit board 12 (FIG. 7 ( 2)) Next, from the gas inlet port provided in the lower mold (14) while sucking air in the mold from the gas suction port (13) also received by the suction nozzle 15 and the upper mold 14 This was done by introducing compressed gas.
Note that the temperature of the mold during molding was 160 ° C., and after sucking and introducing pressurized air, the mold was held in that state for 30 seconds.
It was confirmed whether or not the obtained three-dimensional circuit was broken, but it was not broken.
Regarding the position accuracy after molding, whether or not the position confirmation wiring 11 after molding in FIG. 1 is located in the center of the three-dimensional circuit after molding was confirmed at any eight positions of the position confirmation wiring. The results are shown in Table 5. The position accuracy (%) in Table 5 is indicated by a value obtained by dividing the distance shifted from the center position by the distance of 1/2 side of the molded shape. For comparison, without operating the suction nozzle 15, suction is performed from the gas suction port 13 of the upper mold 14, and compressed gas is introduced from the gas inlet 16 of the lower mold 17, so that the circuit board 12 for molding processing is obtained. The results of molding are also shown in Table 5.

Figure 0004737092
Figure 0004737092

表5の結果から、吸引ノズル15を用いて位置決めせずに成形加工する場合、位置の ずれが大きく変化するが、吸引ノズル15を用いて位置決めして成型すれば、非常に位 置精度良く成型できることが確認された。     From the results in Table 5, when molding is performed without positioning using the suction nozzle 15, the position shift changes greatly, but if positioning and molding is performed using the suction nozzle 15, molding is performed with extremely high positioning accuracy. It was confirmed that it was possible.

(実施例63)
厚さ38μmのポリイミドフィルムに厚さ8μmの銅箔が形成された2層基板(住友金属鉱山株式会社製S‘perFlex)を用いた以外は実施例46と同様にして3層構造の成形加工用回路基板を得た。得られた成形加工用回路基板の回路とポリイミドフィルムとの密着強度は何れも400N/m以上であった。
得られた成形加工用回路基板を実施例61と同様にして立体回路を作成した。なお、加工時の金型の温度は200℃で行い、200℃の圧縮空気を注入し、保持時間は1分間とした。
実施例61と同様に成型後の位置精度を確認した結果、実施例61と同様な結果が得られた。
(Example 63)
For forming a three-layer structure in the same manner as in Example 46 except that a two-layer substrate (S'perFlex manufactured by Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) in which a copper foil having a thickness of 8 μm is formed on a 38 μm-thick polyimide film is used. A circuit board was obtained. The adhesion strength between the circuit of the obtained circuit board for molding processing and the polyimide film was 400 N / m or more.
A three-dimensional circuit was prepared from the obtained circuit board for molding processing in the same manner as in Example 61. The mold temperature during processing was 200 ° C., 200 ° C. compressed air was injected, and the holding time was 1 minute.
As a result of confirming the positional accuracy after molding in the same manner as in Example 61, the same result as in Example 61 was obtained.

図1は実施例1〜60で用いた格子状回路を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a lattice circuit used in Examples 1-60. 図2は実施例1〜60で用いた回路の配線コーナー部詳細を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing details of the wiring corner portions of the circuits used in Examples 1-60. 図3は実施例1〜60で得られた立体回路図である。FIG. 3 is a three-dimensional circuit diagram obtained in Examples 1-60. 図4は実施例1〜60で用いた絞り加工方法を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the drawing method used in Examples 1-60. 図5は実施例61,62で用いた回路の配線コーナー部詳細を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing details of wiring corner portions of the circuits used in Examples 61 and 62. In FIG. 図6は実施例61,62で得られた回路を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a circuit obtained in Examples 61 and 62. In FIG. 図7(1)は上金型と下金型とで成形加工用回路基板を挟んだ状態を示す断面図である。FIG. 7A is a cross-sectional view showing a state in which the circuit board for molding is sandwiched between the upper mold and the lower mold. 図7(2)は吸引ノズルで成形加工用回路基板を上金型内面に押しつけた状態示す断面図である。FIG. 7B is a cross-sectional view showing a state in which the molding circuit board is pressed against the inner surface of the upper mold by the suction nozzle. 図7(3)は吸引及び圧縮空気装入後に保持して成形している状態を示す断面図である。FIG. 7 (3) is a cross-sectional view showing a state in which it is held and molded after suction and compressed air charging. 図8は実施例61,62で実施した加工方法を示した図である。FIG. 8 is a diagram showing the processing method carried out in Examples 61 and 62.

符号の説明Explanation of symbols

1――――配線形成した基板
2――――金属配線
3――――金属配線のコーナー部
4――――立方体に成形した樹脂フィルム
5――――成形加工用回路基板
6――――金型(雌型)
7――――金型(雄型)
8――――樹脂フィルム
9――――配線
10――――配線のコーナー部分
11――――成型加工後の位置確認用配線
12――――成形加工用回路基板
13――――ガス吸引口
14――――上金型
15――――吸引ノズル
16――――ガス導入口
17――――下金型
1 ―――― Substrate with wiring formation 2 ―――― Metal wiring 3 ―――― Corner of metal wiring 4 ―――― Resin film molded into cube 5 ―――― Circuit board for molding 6―― -Mold (female)
7 --- Mold (male)
8 --- Resin film 9 --- Wiring 10 --- Corner corner 11 --- Position confirmation wiring 12 after molding ---- Processing circuit board 13 --- Gas suction port 14 ―――― Upper mold 15 ―――― Suction nozzle 16 ―――― Gas inlet 17 ―――― Lower mold

Claims (4)

多層構造からなる成形加工用回路基板であって、少なくとも二層から成り、その第一層がポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)から選ばれるいずれか一つの樹脂フィルムであり、第二層が下記特徴を有する回路であり、第一層の樹脂フィルムと第二層の回路との密着強度が400N/m以上であることを特徴とする成形加工用回路基板。
(回路の特徴)
回路を構成する配線のコーナー部において、そのコーナー部の形状を、そのコーナー部と最も近い配線の幅を t としたときに、コーナー内側を曲率半径 R が t/2 以上となる曲率を持つような湾曲状にする。
A circuit board for molding processing having a multilayer structure, comprising at least two layers, the first layer of which is selected from polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate (PET), and polyethylene naphthalate (PEN) A circuit board for molding, which is a film, wherein the second layer is a circuit having the following characteristics, and the adhesion strength between the resin film of the first layer and the circuit of the second layer is 400 N / m or more.
(Circuit features)
In the corner portion of the wiring that constitutes the circuit, the corner portion has a shape with a curvature radius R of t / 2 or more when the width of the wiring closest to the corner portion is t. Make it curved.
回路パターンを形成する配線間が配線幅と等幅以上となるように設けられたことを特徴とする請求項1記載の成形加工用回路基板。   2. The molding circuit board according to claim 1, wherein a space between wirings forming the circuit pattern is equal to or larger than a wiring width. 回路が銅製であることを特徴とする請求項1または2記載の成形加工用回路基板。   The circuit board for molding according to claim 1 or 2, wherein the circuit is made of copper. 請求項1〜3記載のいずれかの成形加工用回路基板を成形加工して得た立体回路である。   A three-dimensional circuit obtained by molding the circuit board for molding according to any one of claims 1 to 3.
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