JP4736039B2 - シクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体及びその製造方法 - Google Patents

シクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4736039B2
JP4736039B2 JP2005340549A JP2005340549A JP4736039B2 JP 4736039 B2 JP4736039 B2 JP 4736039B2 JP 2005340549 A JP2005340549 A JP 2005340549A JP 2005340549 A JP2005340549 A JP 2005340549A JP 4736039 B2 JP4736039 B2 JP 4736039B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
phosphorus
containing polymer
cycloalkylidenyl
residue
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005340549A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007145951A (ja
Inventor
立彪 韓
由寛 篠原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST filed Critical National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority to JP2005340549A priority Critical patent/JP4736039B2/ja
Publication of JP2007145951A publication Critical patent/JP2007145951A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4736039B2 publication Critical patent/JP4736039B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

本発明は、難燃剤として有用な、化学構造中にシクロアルキリデニル基をもつ新規なリン含有重合体とその製造方法に関するものである。
化学構造中にリンを含む重合体としては、これまでにオレフィン性不飽和第三級ホスフィンオキシドを単独又は他のエチレン性不飽和化合物と重合させて得られる重合体(特許文献1参照)、ジアミノ置換リン又はそのオキシドで置換された共役ジエン系モノマー又はこれとアニオン共重合可能なモノマーとをアニオン重合触媒の存在下で重合させて得られるリン含有ポリマー(特許文献2参照)、ホスホン酸エステルから誘導される有機基をもつブタジエン化合物の重合体を含むリソグラフィー用反射防止膜形成組成物(特許文献3参照)などが知られている。
また、本発明者らは、先に化学構造中にシクロアルケニル基をもつリン含有化合物の製造方法を開発したが(非特許文献1参照)、この重合体は知られていない。
特公昭38−15491号公報(特許請求の範囲その他) 特開平3−95210号公報(特許請求の範囲その他) 特開2004−205900号公報(特許請求の範囲その他) 「オーガニック・レターズ(Org.Letters)」、2005年、第7巻、p.2909−2911
本発明は、難燃剤などとして有用な、シクロアルキリデニル基をもつ新規なリン含有重合体及びそれを製造する方法を提供することを目的としてなされたものである。
本発明者らは、新規なリン含有重合体を開発し、この種の重合体の利用分野を拡大するために、種々研究を重ねた結果、本発明者らが先に開発した、化学構造中にシクロアルケニル基をもつリン含有ジエン化合物が、ラジカル開始剤の存在下において容易に重合し、新規な重合体を与えることを見出し、この知見に基づいて本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、
Figure 0004736039
又は
Figure 0004736039
(式中のR1とR2はそれぞれ同一又は異なる炭化水素基であり、Xはそれが結合しているエチレン基とともに五員ないし七員のシクロアルキレン環を形成する基であり、n及びmは1である)
で表わされる構成単位からなるシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体、及び一般式
Figure 0004736039
又は
Figure 0004736039
(式中のR1及びR2はそれぞれ同一又は異なる炭化水素基であり、Xはそれが結合しているエチレン基とともに五員ないし七員のシクロアルキレン環を形成する基であり、n及びmは1である)
で表わされるリン含有ジエン化合物を、ラジカル開始剤の存在下で重合させることを特徴とする前記一般式(I)又は(II)で表わされるシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体の製造方法を提供するものである。
なお、上記の一般式中の式
Figure 0004736039
は、nとmの両方が1の場合は、ホスホン酸ジエステル基、すなわち
Figure 0004736039
を示す。
本発明のシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体は、前記一般式(I)又は(II)で表わされる構成単位からなっているが、一般式(I)で表わされる構成単位をもつ重合体は、前記一般式(III)で表わされるジエン化合物を、また一般式(II)で表わされる構成単位をもつ重合体は、前記一般式(IV)で表わされるジエン化合物をラジカル開始剤の存在下で重合させることにより製造される。
前記一般式(III)又は(IV)中のXは、このXが結合しているエチレン基とともに、五員ないし七員のシクロアルキレン環すなわちシクロペンタン環、シクロヘキサン環及びシクロヘプタン環を形成する基であるが、このシクロアルキレン基中の水素原子は、場合によりメチル基、エチル基、プロピル基のような低級アルキル基によって置換されていてもよい。
また、前記一般式(III)及び(IV)中のR1及びR2は同一であってもよいし、異なっていてもよく、それぞれが好ましくは炭素数1〜6の低級アルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基又は炭素数6〜10のアリール基、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基又は炭素数7〜12のアラルキル基例えばベンジル基、フェネチル基などである。
この一般式(III)で表わされるジエン化合物の例としては、2‐シクロペンテニル(1)エチレン、2‐シクロヘキセニル(1)エチレン、2‐シクロペンテニル‐(1)‐エチレン、2‐[3‐メチルシクロペンテニル‐(1)]エチレン、2‐[4‐メチルシクロヘキセニル‐(1)]エチレン、2‐[4‐エチルシクロヘキセニル‐(1)]エチレン、2‐[4‐メチルシクロヘプテニル(1)]エチレンなどの1位に、ホスホン酸ジエステル残基が結合したものを、また一般式(IV)で表わされるジエン化合物の例としては、上記のエチレン化合物の2位にホスホン酸ジエステル残基−PO(OR1)(OR2)、ホスフィン酸ジエステル残基−PO(R1)(OR2)又はホスフィンオキシド残基−P(O)R12が結合したものを挙げることができる。
このホスホン酸ジエステル残基としては、例えばホスホン酸ジメチル残基、ホスホン酸ジエチル残基、ホスホン酸メチルエチル残基、ホスホン酸ジイソプロピル残基、ホスホン酸ジフェニル残基、ホスホン酸ジトリル残基、ホスホン酸ジキシリル残基、ホスホン酸ジベンジル残基などが好ましい。
また、上記のホスフィン酸ジエステル残基としては、例えばホスフィン酸ジメチル残基、ホスフィン酸ジエチル残基、ホスフィン酸メチルエチル残基、ホスフィン酸ジイソプロピル残基、ホスフィン酸ジフェニル残基、ホスフィン酸ジトリル残基、ホスフィン酸ジキシリル残基、ホスフィン酸ジベンジル残基などが好ましい。
さらに、ホスフィンオキシド残基としては、例えばジメチルホスフィンオキシド残基、ジエチルホスフィンオキシド残基、メチルエチルホスフィンオキシド残基、ジブチルホスフィンオキシド残基、ジフェニルホスフィンオキシド残基、ジトリルホスフィンオキシド残基、ジキシリルホスフィンオキシド残基、ジベンジルホスフィンオキシド残基などが好ましい。
本発明のシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体の製造に際しては、一般式(III)又は(IV)で表わされるリン含有ジエン化合物をそれぞれ単独で重合させてもよいし、両者を混合して重合させてもよい。両者を混合して重合させた場合には、一般式(I)で表わされる構成単位と一般式(II)で表わされる構成単位の両方からなる共重合体が得られる。
上記の一般式(III)又は(IV)で表わされるリン含有ジエン化合物又はこれらの混合物の重合反応は、単に加熱のみによっても進行するが、効率よく重合させるには、ラジカル重合開始剤の存在下で反応させることが必要である。
この際用いるラジカル重合開始剤としては、過酸化物触媒例えば過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過酢酸、過酸化ベンゾイル、クメンヒドロペルオキシドやアゾ系触媒例えばアゾビスイソブチロニトリルなどが好ましい。これらの触媒は、単量体のリン含有アルカジエン化合物に基づき0.1〜50モル%、好ましくは1〜5モル%の範囲で用いられる。
この重合反応は、必ずしも必要ではないが、溶媒中で行うのが有利である。この溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素系溶媒や、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンのような環状エーテル系溶媒が好ましい。
重合温度としては、通常0℃ないし200℃、好ましくは室温ないし100℃の範囲が用いられる。この重合反応は、通常大気中で行うが、所望により、不活性雰囲気例えば窒素雰囲気中で行うこともできる。
このようにして、1〜100時間反応させることにより、質量平均分子量10,000〜1,000,000のシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体を形成させることができる。
重合反応終了後、反応混合物から溶媒を留去し、残留物を水、希酸水溶液で洗浄したのち、真空乾燥することにより、所望の重合体が40〜95%の収率で得られる。
本発明によれば、難燃剤として有用な、シクロアルキリデニル基をもつ新規リン含有重合体が提供される。
次に実施例により本発明を実施するための最良の形態を説明するが、これにより本発明はなんら限定されるものではない。
なお、実施例における質量平均分子量(Mw)及び難燃性は以下の方法により測定した。
(1)質量平均分子量;
カラムとして、トーソー(Tosoh)社製、商品名「GMHHR−H*2」を、また溶媒としてヘキサフルオロイソプロパノールを用い、ポリメチルメタクリレートをスタンダードとしたゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定した。
(2)難燃性;
試料についてUL−94テストを行い、着火しない場合を難燃性あり、着火した場合を難燃性なしと評価した。

Figure 0004736039
で示されるリン含有アルカジエン化合物(以下単にモノマーという)1モルを用い、トルエンの量を0モル、5モル又は10モルとし、かつ触媒のアゾビスイソブチロニトリルの量をモノマーに対し1モル%又は5モル%として、80℃において8時間又は17時間反応させた。反応終了後、反応混合物から目的とする重合体を回収し、その物性を測定した。その結果を表1に示す。
Figure 0004736039
実施例1の試験番号3において反応温度を100℃、反応時間を17時間に代えた以外は、同じ反応条件で重合させることにより収率23%で重合体を得た。
この重合体の質量平均分子量(Mw)は138635、分子量分布(Mw/Mn)は2.9であり、難燃性はありと評価された。
参考例
モノマーを無溶媒、無触媒で、120℃に加熱し、24時間重合させたところ、91%の収率で重合体を得ることができた。この重合体の質量平均分子量(Mw)は35495、分子量分布(Mw/Mn)は1.9であり、難燃性はありと評価された。
本発明のシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体は、優れた難燃性を有するので、難燃剤として利用可能である。

Claims (5)

  1. Figure 0004736039
    又は
    Figure 0004736039
    (式中のR1とR2はそれぞれ同一又は異なる炭化水素基であり、Xはそれが結合しているエチレン基とともに五員ないし七員のシクロアルキレン環を形成する基であり、n及びmはである)
    で表わされる構成単位からなるシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体。
  2. 質量平均分子量が10,000〜1,000,000である請求項1記載のシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体。
  3. 式中のR1及びR2がアルキル基、アリール基又はアラルキル基である請求項1又は2記載のシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体。
  4. 一般式
    Figure 0004736039
    又は
    Figure 0004736039
    (式中のR1及びR2はそれぞれ同一又は異なる炭化水素基であり、Xはそれが結合しているエチレン基とともに五員ないし七員のシクロアルキレン環を形成する基であり、n及びmはである)
    で表わされるリン含有ジエン化合物を、ラジカル開始剤の存在下で重合させることを特徴とする、一般式
    Figure 0004736039
    又は
    Figure 0004736039
    (式中のR1、R2 X、n及びmは前記と同じ意味をもつ)
    で表わされるシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体の製造方法。
  5. 質量平均分子量10,000ないし1,000,000の重合体が得られるまで重合を行う請求項4記載のシクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体の製造方法。
JP2005340549A 2005-11-25 2005-11-25 シクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体及びその製造方法 Expired - Fee Related JP4736039B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005340549A JP4736039B2 (ja) 2005-11-25 2005-11-25 シクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005340549A JP4736039B2 (ja) 2005-11-25 2005-11-25 シクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007145951A JP2007145951A (ja) 2007-06-14
JP4736039B2 true JP4736039B2 (ja) 2011-07-27

Family

ID=38207752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005340549A Expired - Fee Related JP4736039B2 (ja) 2005-11-25 2005-11-25 シクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4736039B2 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004205900A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Nissan Chem Ind Ltd リン系有機基含有高分子を含む反射防止膜形成組成物
JP2007091824A (ja) * 2005-09-27 2007-04-12 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 高分子量ポリジフェニルビニルホスフィンオキシド、その製造方法及び金属抽出剤
JP2007146131A (ja) * 2005-11-04 2007-06-14 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 新規リン含有アルカジエン重合体及びその製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004205900A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Nissan Chem Ind Ltd リン系有機基含有高分子を含む反射防止膜形成組成物
JP2007091824A (ja) * 2005-09-27 2007-04-12 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 高分子量ポリジフェニルビニルホスフィンオキシド、その製造方法及び金属抽出剤
JP2007146131A (ja) * 2005-11-04 2007-06-14 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 新規リン含有アルカジエン重合体及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007145951A (ja) 2007-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2636027A (en) Alkyl esters of allyl phosphonic acids and polymers prepared therefrom
JP5709094B2 (ja) アルケニルリン化合物、アルケニルリン化合物重合体、及びアルケニルリン化合物共重合体
WO2006083338A1 (en) Functionalized thermosetting resin systems
JP4836134B2 (ja) 新規リン含有アルカジエン重合体及びその製造方法
JP2005126442A (ja) 多官能性リビング(コ)ポリマーのラジカル重合の開始剤として使用可能なポリアルコキシアミンの製造方法
JP4897156B2 (ja) 透明耐熱性樹脂およびその製造方法
Avci et al. Synthesis and copolymerization of new phosphorus‐containing acrylates
JP2023532201A (ja) 難燃性アクリレート
KR20100065901A (ko) 새로운 인계 화합물, 그 제조방법 및 이를 이용한 난연성 열가소성 수지 조성물
JP4736039B2 (ja) シクロアルキリデニル基をもつリン含有重合体及びその製造方法
JPWO2011024806A1 (ja) 難燃剤、その製造方法、及びそれを含有する難燃性熱可塑性樹脂組成物
US4145507A (en) Reaction mixtures, processes for their preparation and their use as polymerization initiators
JP5786269B2 (ja) アルケニルリン化合物の製造方法、アルケニルリン化合物重合体の製造方法、及びアルケニルリン化合物共重合体の製造方法
JP5880907B2 (ja) アルケニルリン化合物、アルケニルリン化合物重合体、及びアルケニルリン化合物共重合体
US3058935A (en) Phosphorus-containing polyesters and process for their manufacture
JPS60161993A (ja) 含りんエポキシ化合物及びその製造方法
JP2022147761A (ja) ビニルエーテルとビニルリンの共重合体およびその製造方法
US3886236A (en) Halogenated esters of phosphorus-containing acids
JPH0670137B2 (ja) ポリ(チウラムジスルファイド)と、その製造方法と、そのビニル系モノマー重合への利用
US3065183A (en) Polyphosphonate-phosphinate esters and process for making same
CN107207644A (zh) 烷氧基胺的低温自由基聚合
JP2003267984A (ja) ペンタエリスリトールジホスホネート化合物およびその製造方法
US11827729B2 (en) Method for producing polyvinylphosphonic acid copolymer
JP2008115278A (ja) 光学活性リン含有高分子化合物とその製造方法
Leute Macromolecules with phosphorus functionalities

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080327

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20090608

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20110104

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110303

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110401

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110414

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees