JP4732108B2 - Planographic printing plate manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、平版印刷版の製造方法に関するものであり、特に赤外線レ−ザを用いた印刷版の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate, and more particularly to a method for producing a printing plate using an infrared laser.

近年、コンピュ−タのデジタルデ−タから直接製版するシステムとして、レーザによる入力方式が主流になってきている。特に、近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レ−ザ・半導体レ−ザは高出力かつ小型の物が容易に入手できるので、このような露光光源に対し適応性があり、且つ印刷適性に優れた平版印刷版材料への要望が高まっている。   In recent years, a laser input method has become mainstream as a system for making a plate directly from digital data of a computer. In particular, solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from near infrared to infrared are readily available in high output and small size, and are therefore adaptable to such exposure light sources and printing. There is a growing demand for lithographic printing plate materials with excellent suitability.

近年、このような露光光源に対し適応性があり、且つ、耐刷性に優れた平版印刷版材料への要望が高まっている。上記のような露光光源が適用される直接製版に用いられる版材の一つとして、赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料が挙げられる。   In recent years, there has been a growing demand for lithographic printing plate materials that are adaptable to such exposure light sources and that have excellent printing durability. As one of the plate materials used for direct plate making to which the exposure light source as described above is applied, there is a positive lithographic printing plate material for infrared laser.

赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版は、アルカリ性水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱を発生するIR染料等とを必須成分とし、IR染料等が、非露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)では、発生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まりアルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成する。   The positive type lithographic printing plate precursor for infrared laser has an alkaline aqueous solution-soluble binder resin, an IR dye that absorbs light and generates heat, and the like as essential components. In the non-exposed part (image part), Acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the solubility of the binder resin through interaction with the binder resin. In the exposed area (non-image area), the interaction between the IR dye and the binder resin is weakened by the generated heat, resulting in an alkali. A lithographic printing plate is formed by dissolving in a developer.

ポジ型平版印刷版原版に要求される性能としては、例えば、露光部の現像性の他、得られた平版印刷版の耐刷性、印刷中に使用されるプレートクリーナー等に対する耐薬品性、ハイライト露光時の網点再現性、及び耐クリーナ性などがある。このような要求に対して、感光層(記録層)に含有されるアルカリ可溶性樹脂を改良した感光性組成物、及び、該組成物を記録層に用いた平版印刷版などが提案されており(例えば、特許文献1参照)、耐クリーナ性のレベルは向上されるものの、バーニング耐刷性、及びハイライト露光時の網点再現性が低いという問題があり、耐クリーナ性、バーニング耐刷性、及び網点再現性の全てについて良好な平版印刷版を得るに到ってはいなかった。
欧州特許出願公開第1506858号明細書
The performance required for the positive type lithographic printing plate precursor includes, for example, developability of the exposed portion, printing durability of the obtained lithographic printing plate, chemical resistance to a plate cleaner used during printing, high resistance, etc. There are halftone dot reproducibility during light exposure and cleaner resistance. In response to such demands, a photosensitive composition in which an alkali-soluble resin contained in a photosensitive layer (recording layer) is improved, and a lithographic printing plate using the composition as a recording layer have been proposed ( For example, see Patent Document 1), although the level of cleaner resistance is improved, there are problems that burning printing durability and halftone dot reproducibility during highlight exposure are low, cleaner resistance, burning printing durability, In addition, satisfactory lithographic printing plates were not obtained for all of the halftone dot reproducibility.
European Patent Application No. 1506858

本発明は、前記従来技術の欠点を克服すべくなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、耐クリーナ性に優れ、且つバーニング耐刷性、及び網点再現性に優れた平版印刷版の製造方法を提供することにある。
The present invention has been made to overcome the above-mentioned drawbacks of the prior art, and aims to achieve the following objects.
That is, an object of the present invention is to provide a method for producing a lithographic printing plate excellent in cleaner resistance, burning printing durability, and dot reproducibility.

本発明者らは鋭意研究の結果、上記目的が達成される条件を見出した。
即ち、本発明は、支持体上に、下記一般式(1)で表される置換基によって置換されたフェニル基を有するモノマー単位を含むアルカリ可溶性樹脂、及び赤外線吸収剤を含有する記録層を有し、該支持体上に該記録層を塗設後、該記録層を乾燥する工程が、150℃以上250℃以下の温度条件を0.1秒以上60秒以下の間維持する加熱処理を含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法である。
As a result of intensive studies, the present inventors have found conditions for achieving the above-mentioned object.
That is, the present invention has a recording layer containing an alkali-soluble resin containing a monomer unit having a phenyl group substituted by a substituent represented by the following general formula (1) and an infrared absorber on a support. The step of drying the recording layer after coating the recording layer on the support includes a heat treatment for maintaining a temperature condition of 150 ° C. or more and 250 ° C. or less for 0.1 second or more and 60 seconds or less. This is a method for producing a lithographic printing plate.

Figure 0004732108
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一般式(1)中、Z1、Z2及びZ3は、各々独立に、水素原子又は非金属原子からなる1価の置換基を表す。 In the general formula (1), Z 1 , Z 2 and Z 3 each independently represent a monovalent substituent composed of a hydrogen atom or a nonmetallic atom.

また、本発明の平版印刷版の製造方法は、前記乾燥工程が、前記加熱処理の後に、前記記録層の温度が40℃になるまで平均冷却速度5℃/秒以上30℃/秒以下の範囲内の平均冷却速度で冷却する冷却処理を含むことができる。   In the lithographic printing plate production method of the present invention, the drying step is a range of an average cooling rate of 5 ° C./second to 30 ° C./second until the temperature of the recording layer reaches 40 ° C. after the heat treatment. A cooling process of cooling at an average cooling rate within the range may be included.

本発明の作用は明確ではないが、以下のように推測される。
本発明に係る平版印刷版の製造方法によって製造された平版印刷版は、記録層のアルカリ現像液に対する溶解性が低下し、画像部の強度が向上する。その理由は、明確ではないが、本発明の乾燥処理における乾燥条件により、アルカリ可溶性樹脂(以下、適宜「特定アルカリ可溶性樹脂」と称する。)同士が水素結合などの相互作用により記録層全体の強度が向上し、アルカリ現像液に対する溶解性が低下するものと考えられる。この相互作用は、赤外線レーザ露光による熱により容易に解除されるため、本発明の平版印刷版の製造方法によって製造された平版印刷版は、特にハイライト露光時の網点再現性に優れるものと推測される。
また、本発明の平版印刷版の製造方法における加熱処理によって得られた記録層中のアルカリ可溶性樹脂は、加熱時の三次元的構造化が進行しやすく、加熱処理による記録層強度が向上しやすいために、バーニング耐刷に優れた性質を持つと推測される。
Although the operation of the present invention is not clear, it is presumed as follows.
In the lithographic printing plate produced by the lithographic printing plate production method according to the present invention, the solubility of the recording layer in an alkaline developer is lowered, and the strength of the image area is improved. The reason for this is not clear, but depending on the drying conditions in the drying process of the present invention, the strength of the entire recording layer due to the interaction between alkali-soluble resins (hereinafter referred to as “specific alkali-soluble resins” as appropriate), such as hydrogen bonding. Is improved, and the solubility in an alkaline developer is considered to decrease. Since this interaction is easily released by heat generated by infrared laser exposure, the lithographic printing plate produced by the lithographic printing plate production method of the present invention is particularly excellent in halftone dot reproducibility during highlight exposure. Guessed.
In addition, the alkali-soluble resin in the recording layer obtained by the heat treatment in the lithographic printing plate manufacturing method of the present invention is likely to progress in three-dimensional structuring at the time of heating, and the recording layer strength by the heat treatment is likely to be improved. For this reason, it is presumed to have excellent properties in burning press life.

本発明の平版印刷版の製造方法によれば、支持体上に記録層を塗設後、記録層を乾燥する工程が、150℃以上250℃以下の温度条件を0.1秒以上60秒以下の間維持する加熱処理を含むので、高感度で、耐クリーナ性、バーニング耐刷性、ハイライト露光時の網点再現性に優れた平版印刷版の製造方法を提供できる。   According to the method for producing a lithographic printing plate of the present invention, the step of drying the recording layer after coating the recording layer on the support is performed at a temperature of 150 ° C. to 250 ° C. for 0.1 seconds to 60 seconds. Therefore, a method for producing a lithographic printing plate having high sensitivity, excellent resistance to cleaner, burning printing durability and halftone dot reproducibility during highlight exposure can be provided.

本発明について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版の製造方法は、支持体上に、下記一般式(1)で表される置換基によって置換されたフェニル基を有するモノマー単位を含むアルカリ可溶性樹脂、及び赤外線吸収剤を含有する記録層を有し、該支持体上に該記録層を塗設後、該記録層を乾燥する工程が、150℃以上250℃以下の温度条件を0.1秒以上60秒以下の間維持する加熱処理を含むことを特徴とする。
The present invention will be described in detail.
The method for producing a lithographic printing plate of the present invention comprises, on a support, an alkali-soluble resin containing a monomer unit having a phenyl group substituted by a substituent represented by the following general formula (1), and an infrared absorber. The step of drying the recording layer after coating the recording layer on the support and maintaining the temperature condition of 150 ° C. or higher and 250 ° C. or lower for 0.1 second or longer and 60 seconds or shorter Including heat treatment.

〔アルカリ可溶性樹脂〕
本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂は、下記一般式(1)で表される置換基によって置換されたフェニル基を有するモノマー単位を含むことを特徴としている。
[Alkali-soluble resin]
The alkali-soluble resin used in the present invention includes a monomer unit having a phenyl group substituted with a substituent represented by the following general formula (1).

Figure 0004732108
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一般式(1)において、Z1、Z2、及びZ3は、各々独立に、水素原子、又は非金属原子からなる1価の置換基を表す。
1、Z2、又はZ3で表される非金属原子からなる1価の置換基は、連結部位と末端部位とからなる置換基であることが好ましい。なお、連結部位は必要に応じて用いられるものであり、非金属原子からなる1価の置換基は末端部位のみから形成されていてもよい。
また、非金属原子からなる1価の置換基は、更に、アルキル基、アリール基により置換されていてもよい。
In the general formula (1), Z 1 , Z 2 , and Z 3 each independently represent a monovalent substituent composed of a hydrogen atom or a nonmetallic atom.
The monovalent substituent composed of a nonmetallic atom represented by Z 1 , Z 2 , or Z 3 is preferably a substituent composed of a linking site and a terminal site. In addition, a connection site | part is used as needed, and the monovalent substituent consisting of a nonmetallic atom may be formed only from the terminal site.
Moreover, the monovalent substituent consisting of a nonmetallic atom may be further substituted with an alkyl group or an aryl group.

連結部位としては、アルキレン基、アルケニレン基、フェニレン、ナフタレン等のアリーレン基、ピリジル、ピラジル、ピリミジル、チアゾイル等のヘテロ原子を含む複素環基、−(C24O)n−基(n=1〜12)、−(C24S)n−基(n=1〜12)、−Ph−NHSO2−基等、又は、これらを組み合わせたものが挙げられる。 The linking moiety, alkylene group, an alkenylene group, phenylene, arylene groups such as naphthalene, pyridyl, pyrazinyl, pyrimidyl, heterocyclic group containing a heteroatom such as thiazolyl, - (C 2 H 4 O ) n - group (n = 1~12), - (C 2 H 4 S) n - group (n = 1~12), - Ph -NHSO 2 - group, or include a combination of these.

また、末端部位としては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルキル基、不飽和環状炭化水素基、アリール基、複素環基、アラルキル基、−OR1、−SR1、−COOR1、−O−COR1、−CO−R2、−SO3−R1、−SO2−R1、−CN、−NO2、ハロゲン原子、ホスフェート基、ホスホネート基、t−アミン基、アミド基、イミド基、スルホンアミド基等が挙げられる。ここで、R1、R2は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルキル基、不飽和環状炭化水素基、アリール基、複素環基、アラルキル基、アミン基から選択される。 As the terminal portion, a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkyl group, an unsaturated cyclic hydrocarbon group, an aryl group, a heterocyclic group, an aralkyl group, -OR 1, -SR 1, - COOR 1, -O-COR 1, -CO-R 2, -SO 3 -R 1, -SO 2 -R 1, -CN, -NO 2, a halogen atom, a phosphate group, phosphonate group, t-amine group, Examples include an amide group, an imide group, and a sulfonamide group. Here, R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, a cycloalkyl group, an unsaturated cyclic hydrocarbon group, an aryl group, a heterocyclic group, or an aralkyl group. , Selected from amine groups.

上記一般式(1)で表される置換基によって置換されたフェニル基を有するモノマー単位を含むアルカリ可溶性樹脂の好ましい構造は、具体的には、下記一般式(2)によって示される。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。   The preferable structure of the alkali-soluble resin containing a monomer unit having a phenyl group substituted by the substituent represented by the general formula (1) is specifically represented by the following general formula (2). The present invention is not limited to these.

一般式(2)中、Z1、Z2、及びZ3は、一般式(1)におけるZ1、Z2、及びZ3はと同義であり、好ましい範囲も同様である。一般式(2)中、Rは、水素原子、炭素数1〜20の直鎖又は枝状アルキル基を表し、炭素数5以下のアルキル基であることが好ましい。一般式(2)中の各置換基R、Z1、Z2、及びZ3の例を下記表1〜表4に示す。
なお、下記表1〜表4に示すR、Z1、Z2、及びZ3は、それぞれ任意に組み合わせることができる。
In the general formula (2), Z 1, Z 2, and Z 3, Z 1, Z 2 in the general formula (1), and Z 3 are dove synonymous, and preferred ranges are also the same. In general formula (2), R represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and is preferably an alkyl group having 5 or less carbon atoms. Examples of each substituent R, Z 1 , Z 2 , and Z 3 in the general formula (2) are shown in Tables 1 to 4 below.
Incidentally, R shown in Table 1 to Table 4, Z 1, Z 2, and Z 3 may be combined with each other arbitrarily.

Figure 0004732108
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Figure 0004732108
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以下の表5に、本発明の平版印刷版原版に好適に使用されるアルカリ可溶性樹脂の具体例を挙げるが、本発明はこれらに制限されるものではない。   Specific examples of the alkali-soluble resin suitably used for the lithographic printing plate precursor according to the invention are listed in Table 5 below, but the invention is not limited thereto.

Figure 0004732108
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本発明に係る特定アルカリ可溶性樹脂の合成法としては、特に限定されるものではないが、例えば、フェノキシド置換基を有するフェノール樹脂の一部の置換基を特定置換基に置換するため、溶媒中で、Sn金属を触媒として、イソシアネート基と共に反応(求核付加反応)させて製造することができる。ノボラック型フェノール樹脂のフェノキシドと、イソシアネート基含有化合物との求核付加反応は、以下のように行うことができる。即ち、水酸基の一部を特定官能基に置換するためのノボラック型フェノール樹脂の総重量を、濃度20〜80質量%(好ましくは30〜70質量%)になるよう溶媒に溶解し、これに当該ノボラック型フェノール樹脂が有する水酸基の総モル数に対して、イソシアネート基含有化合物をそのモル比率が特定官能基に置換したいモル比率になるように加え、更にSn金属を触媒としてイソシアネート基含有化合物のモル数に対するモル比率が0.5〜5.0%(好ましくは1.0〜2.5)になるように10℃〜200℃の範囲の温度条件下で加え、その温度範囲に維持しながら数時間撹拌することにより行うことができる。なお、反応温度は、20℃〜150℃の範囲であることが好ましく、20℃〜100℃の範囲であることがより好ましい。このとき、上記反応に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、ジメトルスルホキシド(DMSO)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルエーテル(DME)、テトラヒドロフラン(THF)等が挙げられ、中でも、テトラヒドロフラン(THF)を用いることが好ましい。また、上記Sn金属としては、ジブチルスズジラウレート(dibutyltin dilaurate)を用いることが好ましい。   The method for synthesizing the specific alkali-soluble resin according to the present invention is not particularly limited. For example, in order to substitute a part of the substituent of the phenol resin having a phenoxide substituent with the specific substituent, , Sn metal as a catalyst can be produced by reacting with an isocyanate group (nucleophilic addition reaction). The nucleophilic addition reaction between the phenoxide of the novolak-type phenol resin and the isocyanate group-containing compound can be performed as follows. That is, the total weight of the novolak-type phenol resin for substituting a part of the hydroxyl group with a specific functional group is dissolved in a solvent so as to have a concentration of 20 to 80% by mass (preferably 30 to 70% by mass). With respect to the total number of moles of hydroxyl groups of the novolak-type phenol resin, the isocyanate group-containing compound is added so that the mole ratio thereof is a mole ratio to be substituted with a specific functional group, and further, the mole of the isocyanate group-containing compound using Sn metal as a catalyst. It is added under temperature conditions in the range of 10 ° C. to 200 ° C. so that the molar ratio to the number is 0.5 to 5.0% (preferably 1.0 to 2.5), and the number is maintained while maintaining the temperature range. This can be done by stirring for a period of time. In addition, it is preferable that reaction temperature is the range of 20 to 150 degreeC, and it is more preferable that it is the range of 20 to 100 degreeC. In this case, examples of the solvent used in the above reaction include chloroform, dichloromethane, dimethyl sulfoxide (DMSO), N, N-dimethylformamide (DMF), dimethyl ether (DME), tetrahydrofuran (THF), and the like. Tetrahydrofuran (THF) is preferably used. As the Sn metal, dibutyltin dilaurate is preferably used.

特定アルカリ可溶性樹脂の分子量としては、重量平均分子量では、2000以上が好ましく、3000〜50万の範囲内がより好ましい。また、数平均分子量では、1000以上が好ましく、2000〜40万の範囲内がより好ましい。   The molecular weight of the specific alkali-soluble resin is preferably 2000 or more in terms of weight average molecular weight, and more preferably in the range of 3000 to 500,000. Moreover, in number average molecular weight, 1000 or more are preferable and the inside of the range of 2000-400,000 is more preferable.

本発明に用いられる平版印刷版原版の記録層を構成する組成物中における特定アルカリ可溶性樹脂の含有量は、固形分換算で、好ましくは30〜98質量%、更に好ましくは
25〜90質量%の範囲である。
The content of the specific alkali-soluble resin in the composition constituting the recording layer of the lithographic printing plate precursor used in the present invention is preferably 30 to 98% by mass, more preferably 25 to 90% by mass in terms of solid content. It is a range.

また、本発明においては、上記特定アルカリ可溶性樹脂以外の、他のアルカリ可溶性樹脂を併用することもできる。上記特定アルカリ可溶性樹脂以外の他のアルカリ可溶性樹脂は、全アルカリ可溶性樹脂中に1〜90質量%程度、好ましくは5〜50質量%程度用いることができる。   Moreover, in this invention, other alkali-soluble resin other than the said specific alkali-soluble resin can also be used together. Other alkali-soluble resins other than the specific alkali-soluble resin can be used in the total alkali-soluble resin at about 1 to 90% by mass, preferably about 5 to 50% by mass.

なお、併用可能な他のアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものであれば特に制限はないが、高分子中の主鎖及び/又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体、又はこれらの混合物であることが好ましい。
中でも、併用可能な他のアルカリ可溶性樹脂としては、下記(1)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有する樹脂、下記(2)〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。
The other alkali-soluble resin that can be used in combination is not particularly limited as long as it has a property of dissolving when contacted with an alkaline developer, but contains an acidic group in the main chain and / or side chain in the polymer. It is preferable that the polymer is a homopolymer, a copolymer thereof, or a mixture thereof.
Among them, as other alkali-soluble resins that can be used in combination, resins having an acidic group listed in the following (1) in the main chain and / or side chain of the polymer, and acidic groups listed in the following (2) to (6): What is contained in the main chain and / or side chain of the polymer is preferable in terms of solubility in an alkaline developer and expression of dissolution inhibiting ability.

(1)フェノール基(−Ar−OH)
(2)スルホンアミド基(−SO2NH−R)
(3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド基」という。)
〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CONHSO2R〕
(4)カルボン酸基(−CO2H)
(5)スルホン酸基(−SO3H)
(6)リン酸基(−OPO32
(1) Phenol group (-Ar-OH)
(2) Sulfonamide group (—SO 2 NH—R)
(3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide group”)
[—SO 2 NHCOR, —SO 2 NHSO 2 R, —CONHSO 2 R]
(4) Carboxylic acid group (—CO 2 H)
(5) Sulfonic acid group (—SO 3 H)
(6) Phosphate group (—OPO 3 H 2 )

上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。   In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent. .

上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、(1)フェノール基、(2)スルホンアミド基及び(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、(1)フェノール基又は(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を充分に確保する点から最も好ましい。   Among the alkali-soluble resins having an acidic group selected from the above (1) to (6), (1) an alkali-soluble resin having a phenol group, (2) a sulfonamide group, and (3) an active imide group is preferable. An alkali-soluble resin having (1) a phenol group or (2) a sulfonamide group is most preferable from the viewpoint of sufficiently ensuring solubility in an alkaline developer, development latitude, and film strength.

上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば以下のものを挙げることができる。
(1)フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、上記のノボラック樹脂を除くものが挙げられ、例えば、ピロガロールアセトン樹脂や、側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物を用いることができる。側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子化合物としては、フェノール基と重合可能な不飽和結合とをそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる重合性モノマーを単独重合、或いは該モノマーに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物が挙げられる。
上記重合性モノマーとしては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
Examples of the alkali-soluble resin having an acidic group selected from the above (1) to (6) include the following.
(1) Examples of the alkali-soluble resin having a phenol group include those excluding the above-mentioned novolak resin. For example, a pyrogallol acetone resin or a polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain can be used. As the polymer compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer comprising a low molecular compound having at least one phenol group and at least one polymerizable unsaturated bond is homopolymerized, or other polymerizable property is used for the monomer. Examples thereof include a polymer compound obtained by copolymerizing monomers.
Examples of the polymerizable monomer include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, or hydroxystyrene having a phenol group.

(2)スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリール基、又はビニロキシ基と、置換或いはモノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式(i)〜(v)で表される化合物が挙げられる。   (2) As an alkali-soluble resin having a sulfonamide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having a sulfonamide group as a main constituent can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds having at least one sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Of these, low molecular weight compounds having an acryloyl group, an aryl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group in the molecule are preferable. For example, the following general formulas (i) to (v) The compound represented by these is mentioned.

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一般式(i)〜(v)中、X1及びX2は、それぞれ独立に−O−又は−NR7を表す。R1及びR4は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12及びR16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7及びR13は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R6及びR17は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R8、R10及びR14は、それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R11及びR15は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1及びY2は、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。 In general formulas (i) to (v), X 1 and X 2 each independently represent —O— or —NR 7 . R 1 and R 4 each independently represents a hydrogen atom or —CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 and R 16 each independently represent a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a substituent. R 3 , R 7 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 6 and R 17 each independently represent a C 1-12 alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, or aralkyl group that may have a substituent. R 8 , R 10 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or —CH 3 . R 11 and R 15 each independently represent a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a single bond or a substituent. Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or CO.

一般式(i)〜(v)で表される化合物のうち、特に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Among the compounds represented by the general formulas (i) to (v), in particular, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like. It can be preferably used.

(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物を挙げることができる。   (3) As an alkali-soluble resin having an active imide group, for example, a polymer composed of a minimum constituent unit derived from a compound having an active imide group as a main constituent can be mentioned. Examples of the compound as described above include compounds each having one or more active imide groups represented by the following structural formula and polymerizable unsaturated groups in the molecule.

Figure 0004732108
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具体的には、N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。   Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げることができる。
(6)リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。
(4) As an alkali-soluble resin having a carboxylic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one carboxylic acid group and polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.
(5) As an alkali-soluble resin having a sulfonic acid group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having one or more sulfonic acid groups and polymerizable unsaturated groups in the molecule is used as a main structural unit. A polymer can be mentioned.
(6) As an alkali-soluble resin having a phosphate group, for example, a minimum structural unit derived from a compound having at least one phosphate group and a polymerizable unsaturated group in the molecule is used as a main constituent component. A polymer can be mentioned.

併用可能な他のアルカリ可溶性樹脂を構成する、前記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一の酸性基を有する最小構成単位を2種以上、又は異なる酸性基を有する最小構成単位を2種以上共重合させたものを用いることもできる。   The minimum constitutional unit having an acidic group selected from the above (1) to (6), which constitutes another alkali-soluble resin that can be used in combination, does not have to be only one kind, and is the smallest constitutional unit having the same acidic group. Two or more units or a copolymer obtained by copolymerizing two or more minimum structural units having different acidic groups can also be used.

併用可能な他のアルカリ可溶性樹脂が共重合体である場合は、共重合成分となる(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が、共重合体中に10モル%以上含まれているものが好ましく、20モル%以上含まれているものがより好ましい。10モル%未満であると、現像ラチチュードを充分に向上させることができない傾向がある。   When the other alkali-soluble resin that can be used in combination is a copolymer, a compound having an acidic group selected from (1) to (6) serving as a copolymer component is contained in the copolymer in an amount of 10 mol% or more. What is contained is preferable, and what is contained 20 mol% or more is more preferable. If it is less than 10 mol%, the development latitude tends not to be sufficiently improved.

また、併用可能なアルカリ可溶性樹脂が共重合体である場合、共重合成分として、前記(1)〜(6)の酸性基を含まない他の化合物を用いることもできる。(1)〜(6)の酸性基を含まない他の化合物の例としては、下記(m1)〜(m12)に挙げる化合物を例示することができるが、これらに限定されるものではない。   Moreover, when the alkali-soluble resin which can be used together is a copolymer, the other compound which does not contain the acidic group of said (1)-(6) can also be used as a copolymerization component. Examples of other compounds not containing an acidic group of (1) to (6) include the compounds listed in the following (m1) to (m12), but are not limited thereto.

(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(M1) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(M2) Alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and glycidyl acrylate.
(M3) Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, and glycidyl methacrylate.
(M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.

(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
(m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
(M5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(M6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(M7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene.
(M8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(M9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
(M10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(M11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(M12) Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid.

このような併用可能な他のアルカリ可溶性樹脂としては、前記フェノール性水酸基を有する重合性モノマー、又は活性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体が好ましく、特にm−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド等の、スルホンアミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体のものが好ましい。また重量平均分子量は2,000以上、数平均分子量が500以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が5,000〜300,000で、数平均分子量が800〜250,000であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものである。また、本発明においてアルカリ可溶性樹脂がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂等の樹脂である場合には、重量平均分子量が500〜20,000であり、数平均分子量が200〜10,000のものが好ましい。   Such other alkali-soluble resins that can be used in combination are preferably a polymerizable monomer having a phenolic hydroxyl group or a homopolymer or copolymer of a polymerizable monomer having an active imide group, and particularly m-aminosulfonylphenyl. A homopolymer or copolymer of a polymerizable monomer having a sulfonamide group, such as methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide or the like is preferable. The weight average molecular weight is preferably 2,000 or more and the number average molecular weight is 500 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10. . In the present invention, when the alkali-soluble resin is a resin such as a phenol formaldehyde resin or a cresol aldehyde resin, the weight average molecular weight is 500 to 20,000, and the number average molecular weight is preferably 200 to 10,000. .

また、これらの併用可能なアルカリ可溶性樹脂は単独で用いるのみならず、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   Moreover, these alkali-soluble resins that can be used in combination may be used alone or in combination of two or more.

〔赤外線吸収剤〕
本発明に係る平版印刷版原版の記録層は、赤外線吸収剤を含有する。ここで用いうる赤外線吸収剤としては、光エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザへの適合性の観点から、波長700nm〜1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料として知られる種々の染料又は顔料が好ましく挙げられる。
[Infrared absorber]
The recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention contains an infrared absorber. The infrared absorber that can be used here is not particularly limited as long as it is a substance that absorbs light energy radiation and generates heat, but is compatible with easily available high-power lasers. From the viewpoint of the above, preferred are various dyes or pigments known as infrared absorbing dyes or pigments having an absorption maximum at a wavelength of 700 nm to 1200 nm.

このような赤外線吸収剤としては、公知の種々の顔料や染料等が好適に挙げられる。前記顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられる。   As such an infrared absorber, known various pigments and dyes are preferably exemplified. Examples of the pigment include a commercially available pigment and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986), “ Examples thereof include pigments described in "Printing Ink Technology", published by CMC Publishing, 1984).

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、及びポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、及びカーボンブラック等が挙げられる。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and polymer-bonded pigments. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments Quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, and carbon black.

顔料は、表面処理をせずに用いてもよく、表面処理をほどこして用いてもよい。該表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。前記表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   The pigment may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (for example, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The surface treatment method is described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Sachishobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). .

顔料の粒径は、0.01μm〜10μmの範囲であることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲であることがより好ましく、0.1μm〜1μmの範囲であることが特に好ましい。前記顔料の粒径が、0.01μm未満の場合には、分散物の記録層塗布液中での安定性の点で好ましくないことがあり、一方、10μmを超える場合には、記録層の均一性の点で好ましくない。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. When the particle size of the pigment is less than 0.01 μm, it may not be preferable in terms of the stability of the dispersion in the recording layer coating solution, whereas when it exceeds 10 μm, the recording layer is uniform. It is not preferable in terms of sex.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。前記分散には、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、及び加圧ニーダー等の分散機が用いられる。分散方法の詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Dispersers such as an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three roll mill, and a pressure kneader are used for the dispersion. . Details of the dispersion method are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

前記染料としては、市販の染料及び文献(例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載されている公知のものが挙げられ、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、及びシアニン染料などの染料が挙げられる。前記顔料、又は染料のうち赤外光、又は近赤外光を吸収する顔料・染料が、赤外光又は近赤外光を発光するレーザでの利用に適する点で特に好ましい。   Examples of the dye include commercially available dyes and known dyes described in the literature (for example, “Dye Handbook” edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970), such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azos. And dyes such as dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. Among the pigments or dyes, pigments and dyes that absorb infrared light or near infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near infrared light.

赤外光又は近赤外光を吸収する顔料としては、カーボンブラックが好適に用いられる。また、前記赤外光、又は近赤外光を吸収する染料としては、例えば特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、及び特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Carbon black is suitably used as the pigment that absorbs infrared light or near infrared light. Examples of the dye that absorbs the infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, and JP-A-60-78787. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, etc., JP-A-58-112793, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc. Examples thereof include squarylium dyes described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 58-112792, and cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、染料としては、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、特開昭58−220143号、特開昭59−41363号、特開昭59−84248号、特開昭59−84249号、特開昭59−146063号、及び特開昭59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、特開昭5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物、Epolight III−178、EpolightIII−130、Epolight III−125、EpolightV−176A等は特に好ましく用いられる。   As the dye, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also suitable. ) Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59 No. 41363, JP-A-59-84248, JP-A-59-84249, JP-A-59-146063, and JP-A-59-146061, Pyryllium compounds described in JP-A-59- No. 216146, a pentamethine thiopyrylium salt described in U.S. Pat. No. 4,283,475, JP-B-5-13514, JP-A-5-19702 Pyrylium compounds disclosed, Epolight III-178, EpolightIII-130, Epolight III-125, EpolightV-176A or the like is used particularly preferably.

また、前記染料として、特に好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料が挙げられる。   Moreover, as said dye, as another especially preferable example, the near-infrared absorptive dye described as U.S. Pat. No. 4,756,993 as the formulas (I) and (II) can be mentioned.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(3)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferable, and one particularly preferable example is a cyanine dye represented by the following general formula (3).

Figure 0004732108
一般式(3)
Figure 0004732108
General formula (3)

一般式(3)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。W1-は後述するXa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In General Formula (3), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. W 1− is defined in the same manner as Xa described later, and R a represents a substituent selected from a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, and a halogen atom.

Figure 0004732108
Figure 0004732108

1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Xa-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(3)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはW1-は必要ない。好ましいXa-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred substituents include hydrocarbon groups having 12 or less carbon atoms, halogen atoms, and alkoxy groups having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Xa represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by the general formula (3) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary, W 1− is not necessary. Preferred Xa is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, and particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the recording layer coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

赤外線吸収剤として用いられる前記顔料又は染料の添加量としては、記録層を構成する組成物全固形分に対し0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましい。前記染料の場合には、0.5〜10質量%が特に好ましく、顔料の場合には、3.1〜10質量%が特に好ましい。前記顔料又は染料の添加量が、上記範囲であると、ポジ型記録層として用いた場合の好ましい記録感度と共に、記録層の優れた均一性、耐久性を得ることができる。   The addition amount of the pigment or dye used as the infrared absorber is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the total solid content of the composition constituting the recording layer. In the case of the said dye, 0.5-10 mass% is especially preferable, and in the case of a pigment, 3.1-10 mass% is especially preferable. When the addition amount of the pigment or dye is within the above range, excellent uniformity and durability of the recording layer can be obtained together with preferable recording sensitivity when used as a positive recording layer.

〔その他の添加成分〕
本発明の平版印刷版原版の記録層には、更に必要に応じて上記の各成分の他、目的に応じて種々の公知の添加成分を併用することができる。
[Other additive components]
In the recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, various known additive components can be used in combination with the above-mentioned components as required, depending on the purpose.

例えば、記録層の溶解性を調節するためには、オニウム塩、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化合物等、添加するとアルカリ水可溶性高分子(アルカリ可溶性樹脂)の現像液への溶解阻止機能を向上させるいわゆる溶解抑止剤を添加することが好ましく、中でも、オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の熱分解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる物質を併用することが、画像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点で好ましい。   For example, in order to adjust the solubility of the recording layer, an onium salt, an aromatic sulfone compound, an aromatic sulfonic acid ester compound, a polyfunctional amine compound, or the like is added to the developer of an alkali water-soluble polymer (alkali-soluble resin). It is preferable to add a so-called dissolution inhibitor that improves the dissolution inhibiting function in the aqueous solution, and among them, onium salts, o-quinonediazide compounds, sulfonic acid alkyl esters, etc. are thermally decomposable, and in the state where they are not decomposed, the alkali-soluble resin is dissolved. It is preferable to use a substance that substantially reduces the property in terms of improving the dissolution inhibition of the image portion in the developer.

本発明において用いられるオニウム塩として、好適なものとしては、例えばS.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D.C.Necker et al,Macromolecules,17,2468(1984)、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号に記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号、特開平2−150848号、特開平2−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivello et al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同5,041,358号、同4,491,628号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等があげられる。   Preferred examples of the onium salt used in the present invention include S.P. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. Nos. 4,069,055, 4,069,056, and JP-A-3-140140. Ammonium salts described in the specification of C. Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1988), European Patent No. 104,143, US Pat. Nos. 5,041,358, 4,491,628, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514. Iodonium salts, J.M. V. Crivello et al, Polymer J. et al. 17, 73 (1985), J. Am. V. Crivello et al. J. et al. Org. Chem. 43, 3055 (1978); R. Watt et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 22, 1789 (1984), J. Am. V. Crivello et al, Polymer Bull. 14, 279 (1985), J. Am. V. Crivello et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. 17, 2877 (1979), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 3,902,114 No. 5,041,358, No. 4,491,628, No. 4,760,013, No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904 No. 626, No. 3,604,580, No. 3,604,581, sulfonium salts described in J.P. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988).

これらのオニウム塩の中でも、溶解阻止能や熱分解性の観点から、ジアゾニウム塩及び4級アンモニウム塩が特に好ましい。特に、ジアゾニウム塩としては、特開平5−158230号公報に記載の一般式(I)で示されるジアゾニウム塩や特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が好ましく、可視光領域の吸収波長が小さい特開平11−143064号公報に記載の一般式(1)で示されるジアゾニウム塩が最も好ましい。また4級アンモニウム塩としては、特開2002−229186号公報に記載[化8][化9]中の(1)〜(10)に示される4級アンモニウム塩が好ましい。   Among these onium salts, diazonium salts and quaternary ammonium salts are particularly preferable from the viewpoints of dissolution inhibition ability and thermal decomposability. In particular, the diazonium salt is preferably a diazonium salt represented by the general formula (I) described in JP-A-5-158230 or a diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064. The diazonium salt represented by the general formula (1) described in JP-A-11-143064 having a small absorption wavelength in the visible light region is most preferable. Moreover, as a quaternary ammonium salt, the quaternary ammonium salt shown by (1)-(10) in [Chemical 8] [Chemical 9] described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-229186 is preferable.

オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。   The counter ion of the onium salt includes tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfone Examples include acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and paratoluenesulfonic acid. Of these, particularly preferred are alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid.

好適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403号公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120号及び同第3,188,210号に記載されているベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。   Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and compounds having various structures can be used. That is, o-quinonediazide helps the solubility of the sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the change of o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include J. The compounds described in pages 339 to 352 of “Light-sensitive systems” by John Coley (John Wiley & Sons. Inc.) can be used, and in particular, o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. The sulfonic acid esters or sulfonic acid amides are preferred. Further, benzoquinone (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin as described in JP-B-43-28403 Esters of benzoquinone- (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazide- described in US Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 Esters of 5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin are also preferably used.

さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号、米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものをあげることができる。   Further, an ester of naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazido-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin Similarly, the esters are also preferably used. Other useful o-quinonediazide compounds are reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802, JP-A-48-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, Japanese Patent Publication Nos. 41-11222, 45-9610, 49-17474, U.S. Pat. Nos. 2,797,213, 3,454,400, 3,544,323, 3,573,917, 3,674,495, 3,785,825, British Patents 1,227,602, 1,251,345, 1,267, No. 005, No. 1,329,888, No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.

分解性溶解抑止剤であるオニウム塩、及び/又は、o−キノンジアジド化合物の添加量は好ましくは記録層の全固形分に対し、1〜10質量%、更に好ましくは1〜5質量%、特に好ましくは1〜2質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。   The amount of the onium salt and / or o-quinonediazide compound that is a degradable dissolution inhibitor is preferably 1 to 10% by mass, more preferably 1 to 5% by mass, particularly preferably the total solid content of the recording layer. Is in the range of 1-2% by weight. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.

o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の添加量は、好ましくは0.1質量%〜5質量%、更に好ましくは0.1質量%〜2質量%、特に好ましくは0.1質量%〜1.5質量%の範囲内である。記録層を重層構造とする場合には、本発明に係る添加剤と結着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。   The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 0.1% by mass to 5% by mass, more preferably 0.1% by mass to 2% by mass, and particularly preferably 0.1% by mass to 1.5% by mass. It is in the range of mass%. When the recording layer has a multilayer structure, the additive and binder according to the present invention are preferably contained in the same layer.

また、分解性を有さない溶解抑止剤を併用してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平10−268512号公報に詳細に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平11−190903号公報に詳細に記載されているラクトン骨格、N,N−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開2000−105454号公報に詳細に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。   Further, a dissolution inhibitor having no decomposability may be used in combination, and preferred dissolution inhibitors include sulfonate esters, phosphate esters, and aromatic carboxylic acids described in detail in JP-A-10-268512. Esters, aromatic disulfones, carboxylic anhydrides, aromatic ketones, aromatic aldehydes, aromatic amines, aromatic ethers, etc., as well as lactone skeletons described in detail in JP-A-11-190903, N, N- Examples thereof include an acid color-forming dye having a diarylamide skeleton and a diarylmethylimino skeleton, which also serves as a colorant, and nonionic surfactants described in detail in JP-A No. 2000-105454.

また、本発明に係る記録層には、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することができる。また、後述する界面活性剤、画像着色剤、及び可塑剤も、記録層に使用することができる。
環状酸無水物としては、米国特許第4,115,128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,4’−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4’,4"−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4’,3",4"−テトラヒドロキシ−3,5,3’,5’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942号、特開平2−96755号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル
上記の環状酸無水物、フェノール類、及び有機酸類の記録層中に占める割合は、0.05質量%〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.1質量%〜15質量%、特に好ましくは0.1質量%〜10質量%である。
In the recording layer according to the present invention, cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids can be used in combination for the purpose of improving sensitivity. Further, a surfactant, an image colorant, and a plasticizer described later can also be used for the recording layer.
Examples of cyclic acid anhydrides include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, 3,6-endooxy-4-tetrahydrophthalic anhydride, and tetrachlorophthalic anhydride described in US Pat. No. 4,115,128. , Maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol, 2,4,4′-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ′, 4 “-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ′, 3”, 4 ”-tetrahydroxy-3,5,3 ′, 5′-tetramethyltriphenylmethane, etc. Further, organic acids include The ratios of the sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl, and cyclic acid anhydrides, phenols, and organic acids described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-88942 and Japanese Patent Laid-Open No. 2-96755 are as follows. 0.05 mass% to 20 mass% is preferable, more preferably 0.1 mass% to 15 mass%, and particularly preferably 0.1 mass% to 1 mass%. % By mass.

また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には特開平8−276558号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物、及び本発明者らが先に提案した特開平11−160860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。   In addition to these, epoxy compounds, vinyl ethers, and further, phenol compounds having a hydroxymethyl group, phenol compounds having an alkoxymethyl group described in JP-A-8-276558, and the inventors previously proposed A crosslinkable compound having an alkali dissolution inhibiting action described in JP-A-11-160860 can be appropriately added depending on the purpose.

また、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭50−36209号、特開昭53−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223号、特開昭54−74728号、特開昭60−3626号、特開昭61−143748号、特開昭61−151644号、及び特開昭63−58440号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
Further, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure, or a dye or pigment as an image colorant can be added.
Typical examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating by exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, combinations of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halides and salt-forming organic dyes described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, JP-A-53-36223, JP-A-54-74728, JP-A-60-3626, JP-A-61-143748, JP-A-61-151644, and JP-A-63-58440 Mention may be made of the combinations of the described trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear printout images.

画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)などを挙げることができる。また、特開昭62−293247号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、記録層全固形分に対し、0.01質量%〜10質量%、好ましくは0.1質量%〜3質量%の割合で記録層中に添加することができる。   As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Examples of suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (oriental chemical industry) Manufactured by Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), and the like. The dyes described in JP-A-62-293247 are particularly preferred. These dyes can be added to the recording layer in a proportion of 0.01% by mass to 10% by mass, preferably 0.1% by mass to 3% by mass, based on the total solid content of the recording layer.

更に、本発明に係る記録層には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸、又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。   Furthermore, a plasticizer is added to the recording layer according to the present invention, if necessary, in order to impart flexibility of the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid, or methacrylic acid Acid oligomers and polymers are used.

[平版印刷版原版の作製]
以下、本発明に係る平版印刷版原版の作製について説明する。
[Preparation of lithographic printing plate precursor]
Hereinafter, preparation of a lithographic printing plate precursor according to the present invention will be described.

(塗布溶剤及び塗布方法)
本発明に係る平版印刷版原版は、記録層を構成する組成物を溶媒に溶かして適当な支持体上に塗布した後に、塗布した該記録層を乾燥することにより製造することができる。また、目的に応じて、後述する保護層、樹脂中間層、バックコート層などを同様にして形成することができる。
(Coating solvent and coating method)
The lithographic printing plate precursor according to the invention can be produced by dissolving the composition constituting the recording layer in a solvent and applying the solution onto a suitable support, and then drying the applied recording layer. Further, depending on the purpose, a protective layer, a resin intermediate layer, a backcoat layer and the like which will be described later can be formed in the same manner.

記録層の溶解・塗布に用いられる溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、1質量%〜50質量%の範囲内であることが好ましい。
塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般に、乾燥後の塗膜量が0.5mg/m2〜5.0mg/m2となる量が好ましく、0.6mg/m2〜2.0mg/m2となる量がより好ましい。
Solvents used for dissolving and coating the recording layer include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2. -Propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, etc. However, it is not limited to this. These solvents are used alone or in combination.
The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably in the range of 1% by mass to 50% by mass.
Coating, the coating amount on the support obtained after drying (solid content) may be varied according to the intended purpose, the amount of coating amount after drying of 0.5mg / m 2 ~5.0mg / m 2 is preferably , and more preferably it amounts to be 0.6mg / m 2 ~2.0mg / m 2 .

記録層塗布液を塗布する方法としては、支持体上に任意の厚みの均一な塗膜が形成できれば特に制限はなく、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。   The method for applying the recording layer coating liquid is not particularly limited as long as a uniform coating film having an arbitrary thickness can be formed on the support, and various methods can be used. For example, bar coater coating, spin coating, Examples thereof include spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film properties of the photosensitive film deteriorate.

次に乾燥方式及び加熱乾燥条件について記載する。
乾燥方式としては、特開平6−63487号に記載がある乾燥装置内にパスロールを配置し、ロールにウェブをラップさせて搬送するアーチ型ドライヤー、ウェブの上下面からノズルによりエアーを供給しウェブを浮上させながら乾燥する方式、あるいは熱風を用いず、高温に種々の媒体を用いて加熱し、その副射熱により乾燥する方式、あるいはロールを、種々媒体を用いて加熱しそのロールとウェブの接触による伝導伝熱により乾燥する方式等がある。
Next, the drying method and heat drying conditions will be described.
As a drying method, a pass roll is arranged in a drying apparatus described in JP-A-6-63487, an arch type dryer that wraps the web on the roll and transports it, and air is supplied from the upper and lower surfaces of the web by a nozzle to feed the web. A method of drying while floating, or a method of heating by using various media without using hot air, and a method of drying by the secondary radiant heat, or a method of heating a roll using various media and contacting the roll and the web There is a method of drying by conduction heat transfer.

この加熱(乾燥)工程において、記録層の塗膜は、150℃以上250℃以下の温度範囲、あるいは使用するバインダーポリマーのガラス転移点をTgとしたとき、Tg以上、250℃以下の温度範囲に加熱されることを要する。
この加熱温度条件は、少なくとも塗膜中の溶媒が蒸発、除去され、塗膜が硬化を開始する時点まで保持されることが効果の観点から好ましく、上記加熱温度条件が、0.1秒以上60秒以下の間維持されることが、効果の観点から望ましい。
塗布液から溶媒が充分に除去されたか否かは、常法、例えば、目視による表面状態の観察、乾燥ゾーンから取り出しての記録層塗膜の触診、乾燥ゾーン内の蒸気圧の変化、記録層塗布液を塗布した支持体の重量変化、等の判定方法により検知することができる。このTg近傍の所定温度以上の温度範囲に所定時間保持することにより、記録層塗膜内部で、水素結合による会合が十分に形成される。加熱保持時間が短すぎるとこの会合が十分形成されず、現像ラチチュードの改良効果が不充分となる。
In this heating (drying) step, the coating layer of the recording layer has a temperature range of 150 ° C. or more and 250 ° C. or less, or a temperature range of Tg or more and 250 ° C. or less, where Tg is the glass transition point of the binder polymer used. It needs to be heated.
From the viewpoint of the effect, it is preferable that the heating temperature condition is maintained until at least the solvent in the coating film is evaporated and removed and the coating film starts to be cured. It is desirable from the viewpoint of effect to be maintained for less than a second.
Whether or not the solvent has been sufficiently removed from the coating solution can be determined by conventional methods, for example, visual observation of the surface state, palpation of the recording layer coating film taken out from the drying zone, change in vapor pressure in the drying zone, recording layer It can be detected by a determination method such as a change in weight of the support on which the coating liquid is applied. By maintaining the temperature in the temperature range above the predetermined temperature in the vicinity of Tg for a predetermined time, association by hydrogen bonding is sufficiently formed inside the recording layer coating film. If the heating and holding time is too short, this association is not sufficiently formed, and the effect of improving the development latitude becomes insufficient.

記録層の温度は、150℃以上250℃以下の温度範囲が好ましく、160℃以上230℃以下の温度範囲が更に好ましく、170℃以上200℃以下の温度範囲が特に好ましい。
加熱温度が150℃未満であると、記録層の製造工程において生成する強い水素結合からなる会合が十分に形成されず、加熱温度が250℃より高いと記録層塗布液中に含有される光熱変換剤であるIR染料の分解が生じたり、ポリマーの皮膜形成性が低下するなどの不都合が生じやすくなり、いずれも好ましくない。
The temperature of the recording layer is preferably in the temperature range from 150 ° C. to 250 ° C., more preferably in the temperature range from 160 ° C. to 230 ° C., and particularly preferably in the temperature range from 170 ° C. to 200 ° C.
When the heating temperature is less than 150 ° C., sufficient association of strong hydrogen bonds generated in the production process of the recording layer is not formed, and when the heating temperature is higher than 250 ° C., the photothermal conversion contained in the recording layer coating liquid. Ingredients such as IR dyes are easily decomposed, and polymer film-forming properties are liable to be lowered.

上記加熱温度条件は、0.1秒以上60秒以下の間維持されることが好ましく、
0.5秒以上55秒以下の間維持されることが更に好ましく、1秒以上50秒以下の間維持されることが特に好ましい。
上記加熱温度条件が維持される時間が、0.1秒未満であると、加熱が不十分であるため本発明の効果が発現しなくなるという問題があり、60秒より長いと、支持体アルミの変形・変質が生じてしまうという問題がある。
The heating temperature condition is preferably maintained for 0.1 second to 60 seconds,
It is more preferable to maintain for 0.5 second or more and 55 seconds or less, and it is especially preferable to maintain for 1 second or more and 50 seconds or less.
When the heating temperature condition is maintained for less than 0.1 seconds, there is a problem that the effect of the present invention is not manifested due to insufficient heating. There is a problem that deformation and alteration occur.

次に熱風を用いる方式について、具体的に図面を参照して述べる。
図1は本発明に用いられる乾燥装置の一例を示す概略断面図である。案内ロールRに案内され連続的に走行する長尺アルミニウムウェブ221は、塗布部222により溶媒を含有する塗布液を塗布され第1ステップ乾燥ゾーン23に導入される。第1ステップ乾燥ゾーン223には給気口225及び排気口226が設けられている。給気口225から40℃〜130℃、露点−5〜15℃で供給される熱風は、整流板229により整流されて、アルミニウムウェブ221に前記塗布により形成された塗布皮膜表面に風速0.5〜4m/sで接触し、該塗布膜を乾燥させ排気口226から排出される。第1ステップ乾燥ゾーン223の出口付近に達したアルミニウムウェブ221の該塗布皮膜は、軟膜状態を呈する。引き続き案内ロールRに案内され連続的に走行する長尺アルミニウムウェブ221は、第2ステップ乾燥ゾーン224に導入される。第2ステップ乾燥ゾーン224には給気口227及び排気口228が設けられている。
Next, a method using hot air will be specifically described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a drying apparatus used in the present invention. The long aluminum web 221 guided by the guide roll R and continuously running is coated with a coating solution containing a solvent by the coating unit 222 and introduced into the first step drying zone 23. An air supply port 225 and an exhaust port 226 are provided in the first step drying zone 223. Hot air supplied from the air supply port 225 at 40 ° C. to 130 ° C. and a dew point of −5 to 15 ° C. is rectified by the rectifying plate 229, and the wind speed of 0.5 is applied to the surface of the coating film formed on the aluminum web 221 by the coating. The coating film is contacted at ˜4 m / s, dried, and discharged from the exhaust port 226. The coating film of the aluminum web 221 that has reached the vicinity of the outlet of the first step drying zone 223 exhibits a soft film state. Subsequently, the long aluminum web 221 continuously guided by the guide roll R is introduced into the second step drying zone 224. An air supply port 227 and an exhaust port 228 are provided in the second step drying zone 224.

少なくともこの乾燥ゾーンにおいて、記録層の塗膜は使用する樹脂のガラス転移点(Tg)以上の温度条件に保持される。ここでポリマーにノボラック樹脂を用いる場合、そのTgは90〜100℃であるので、給気口227から供給される熱風の温度は、記録層をその温度以上に加熱するため、100〜170℃、露点5〜20℃の範囲に調整される。この熱風はスリット型ノズル230より吹き出し風速5〜15m/sで噴出されアルミニウムウェブ221の塗布皮膜面に激しく接触する。これにより塗布皮膜の溶媒が蒸発し、塗布皮膜が硬化する。塗布皮膜と接触した後の気体は排気口228から排出される。バッチ式の場合には、この第2ステップ乾燥ゾーン内に配置する時間を調整し、連続式の場合には、支持体の搬送速度を調整して所定の時間、記録層が前記した温度範囲に保持されるように調整すればよい。熱風温度と記録層温度との差は、アルミニウム支持体の搬送速度が増すにつれて、また、支持体の厚みや幅が大きくなるにつれて大きくなり、一般的な条件においては、5〜40℃記録層温度が低くなる。
スリット型ノズルとしては先端のノズルクリアランスは0.2〜8mm、ピッチ30〜300mm、ノズル〜ウェブ間距離5〜200mmの条件で通常用いられる。
At least in this drying zone, the coating film of the recording layer is maintained at a temperature condition equal to or higher than the glass transition point (Tg) of the resin used. Here, when a novolac resin is used for the polymer, the Tg is 90 to 100 ° C., so the temperature of the hot air supplied from the air supply port 227 is 100 to 170 ° C. in order to heat the recording layer to the temperature or higher. The dew point is adjusted to a range of 5 to 20 ° C. This hot air is blown out from the slit type nozzle 230 at a blowing air speed of 5 to 15 m / s and comes into violent contact with the coating film surface of the aluminum web 221. As a result, the solvent of the coating film evaporates and the coating film is cured. The gas after coming into contact with the coating film is discharged from the exhaust port 228. In the case of the batch type, the time for placing in the second step drying zone is adjusted, and in the case of the continuous type, the conveying speed of the support is adjusted to keep the recording layer within the above temperature range for a predetermined time. What is necessary is just to adjust so that it may be hold | maintained. The difference between the hot air temperature and the recording layer temperature increases as the conveyance speed of the aluminum support increases and the thickness and width of the support increase. Under general conditions, the recording layer temperature is 5 to 40 ° C. Becomes lower.
As a slit type nozzle, the tip nozzle clearance is usually 0.2 to 8 mm, the pitch 30 to 300 mm, and the nozzle-web distance 5 to 200 mm.

前記のような加熱処理が終了した後、記録層は常温まで冷却されるが、この冷却処理において、加熱温度から降温する際に、記録層の温度が40℃になるまで平均冷却速度5℃/秒以上30℃/秒以下の範囲内の平均冷却速度で急激冷却することが好ましい。このように、急激冷却することで、乾燥加熱時に生じる支持体の変形・変質を抑えることができる。   After the heat treatment as described above is completed, the recording layer is cooled to room temperature. In this cooling treatment, when the temperature is lowered from the heating temperature, the average cooling rate is 5 ° C./until the temperature of the recording layer reaches 40 ° C. It is preferable to perform rapid cooling at an average cooling rate within a range of from 2 seconds to 30 ° C./second. Thus, rapid cooling can suppress the deformation / degeneration of the support that occurs during drying and heating.

降温速度が30℃/秒を超えるような速い速度で急速に冷却すると加熱処理で形成された水素結合による会合が破壊され、記録層の安定性が低下して、オン−オフの明確な画像形成をし難く、現像ラチチュードの向上効果が不充分となる。降温速度が低い場合は問題ないが、5℃/秒未満であると作業性の点で好ましくない。
具体的な降温条件としては、例えば、バッチ塗布法により記録層を形成した場合、記録層を40℃まで冷却するのに1〜3分間で徐冷することが好ましく、連続塗布による製造ラインにおいては、前記降温を約1分間かけて行なうことが好ましい。徐冷の方法としては、特に制限はないが、例えば、乾燥ゾーンを出てからの雰囲気温度や搬送ロールの温度を制御する方法等が挙げられる。
When the cooling rate is rapidly cooled at a high speed exceeding 30 ° C./second, the association due to the hydrogen bond formed by the heat treatment is destroyed, the stability of the recording layer is lowered, and clear on-off image formation The development latitude is not sufficiently improved. There is no problem when the cooling rate is low, but it is not preferable in terms of workability if it is less than 5 ° C./second.
As specific temperature-decreasing conditions, for example, when a recording layer is formed by a batch coating method, it is preferable to slowly cool the recording layer to 1 to 3 minutes to cool down to 40 ° C. The temperature lowering is preferably performed over about 1 minute. The method of slow cooling is not particularly limited, and examples thereof include a method of controlling the atmospheric temperature after leaving the drying zone and the temperature of the transport roll.

(記録層の層構成)
記録層は、単層構造、相分離構造、及び重層構造のいずれであってもよい。
単層型記録層としては、例えば、特開平7−285275号公報、国際公開97/39894号パンフレット記載の感光層、相分離型記録層としては、例えば、特開平11−44956号公報記載の感光層、重層型記録層としては、例えば、特開平11−218914号公報、米国特許第6352812B1号、米国特許第6352811B1号、米国特許第6358669B1号、米国特許第6534238B1号、欧州特許第864420B1号明細書記載の感光層を用いることができるが、これらに限定されない。
(Layer structure of recording layer)
The recording layer may have any of a single layer structure, a phase separation structure, and a multilayer structure.
As the single-layer recording layer, for example, the photosensitive layer described in JP-A-7-285275 and WO 97/39894 pamphlet, and as the phase-separated recording layer, for example, the photosensitive layer described in JP-A-11-44956. For example, JP-A-11-218914, U.S. Pat. No. 6,352,812 B1, U.S. Pat. No. 6,352,811 B1, U.S. Pat. No. 6,358,669 B1, U.S. Pat. The described photosensitive layer can be used, but is not limited thereto.

なお、記録層が重層構造の場合には、少なくとも最表層より下層側の記録層が、上記一般式(1)で表される置換基によって置換されたフェニル基を有するモノマー単位を含むアルカリ可溶性樹脂、及び赤外線吸収剤を含有し、各記録層を塗設後、各記録層を乾燥する工程が、150℃以上250℃以下の温度条件を0.1秒以上60秒以下の間維持する加熱処理を含むことが好ましく、さらに好ましくは、全ての記録層各々が、上記一般式(1)で表される置換基によって置換されたフェニル基を有するモノマー単位を含むアルカリ可溶性樹脂、及び赤外線吸収剤を含有し、各記録層を塗設後、各記録層を乾燥する工程が、150℃以上250℃以下の温度条件を0.1秒以上60秒以下の間維持する加熱処理を含むことが好ましい。   In the case where the recording layer has a multilayer structure, at least the recording layer on the lower layer side than the outermost layer contains an alkali-soluble resin containing a monomer unit having a phenyl group substituted by the substituent represented by the general formula (1). And a step of drying each recording layer after coating each recording layer, and maintaining the temperature condition of 150 ° C. or higher and 250 ° C. or lower for 0.1 second or longer and 60 seconds or shorter. More preferably, all of the recording layers each include an alkali-soluble resin containing a monomer unit having a phenyl group substituted with a substituent represented by the general formula (1), and an infrared absorber. Preferably, the step of drying each recording layer after coating each recording layer includes a heat treatment for maintaining a temperature condition of 150 ° C. or more and 250 ° C. or less for 0.1 seconds or more and 60 seconds or less.

記録層が重層構造の場合、最表層の記録層が紙等との摩擦により下層側の記録層に比べて先に摩耗された状態では、最表層より下層側の記録層により耐刷性が定まることから、少なくとも最表層より下層側の記録層が、上記一般式(1)で表される置換基によって置換されたフェニル基を有するモノマー単位を含むアルカリ可溶性樹脂、及び赤外線吸収剤を含有し、各記録層を塗設後、各記録層を乾燥する工程が、150℃以上250℃以下の温度条件を0.1秒以上60秒以下の間維持する加熱処理を含むことにより、バーニング耐刷性に優れた平版印刷版の製造方法を提供することができる。   When the recording layer has a multilayer structure, when the outermost recording layer is worn earlier than the lower recording layer due to friction with paper or the like, the printing durability is determined by the lower recording layer from the outermost layer. Therefore, at least the recording layer lower than the outermost layer contains an alkali-soluble resin containing a monomer unit having a phenyl group substituted by the substituent represented by the general formula (1), and an infrared absorber, The step of drying each recording layer after coating each recording layer includes a heat treatment for maintaining a temperature condition of 150 ° C. or more and 250 ° C. or less for 0.1 seconds or more and 60 seconds or less, thereby increasing the burning durability. A method for producing a lithographic printing plate excellent in the above can be provided.

(支持体)
平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフイルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフイルム等が挙げられる。
平版印刷版原版に適用し得る支持体としては、ポリエステルフイルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフイルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。
(Support)
The support used for the lithographic printing plate precursor is a dimensionally stable plate-like material, and is not particularly limited as long as it satisfies physical properties such as necessary strength and flexibility. Paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, Cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), paper on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited, or plastic film.
As a support that can be applied to a lithographic printing plate precursor, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements.
The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組合せた方法も利用することができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface is performed as desired. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 54-63902, a method in which both are combined can also be used. The roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment as necessary, and then subjected to anodization treatment if desired in order to enhance the water retention and wear resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が1質量%〜80質量%溶液、液温は5℃〜70℃、電流密度5A/dm2〜60A/dm2、電圧1V〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不充分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。 The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used and cannot be specified. However, in general, the electrolyte concentration is 1% to 80% by weight solution, the liquid temperature is 5 ° C. to 70 ° C., and the current density is 5 A / dm. 2 to 60 A / dm 2 , voltage 1 V to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are suitable. When the amount of the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image portion of the planographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged portion during printing. So-called “scratch stains” easily occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. The hydrophilization treatment used in the present invention is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There are alkali metal silicate (such as aqueous sodium silicate) methods. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, it is disclosed in potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and US Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272. A method of treating with polyvinylphosphonic acid is used.

(下塗層)
本発明に係る平版印刷版原版は、必要に応じて支持体と記録層との間に下塗層を設けることができる。この下塗層を設けることで、支持体と記録層との間の下塗層が断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることから、高感度化が図れるという利点を有する。また、記録層は、この下塗層を設ける際にも、露光面或いはその近傍に位置するため、赤外線レーザに対する感度は良好に維持される。
なお、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性である記録層自体が下塗層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、且つ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、露光部においては、溶解抑制能が解除された記録層の成分が速やかに現像液に溶解、分散し、さらには、支持体に隣接して存在するこの下塗層自体がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解し、現像性の向上にも寄与し、この下塗層は有用であると考えられる。
(Undercoat layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer can be provided between the support and the recording layer as necessary. By providing this undercoat layer, the undercoat layer between the support and the recording layer functions as a heat insulating layer, and the heat generated by the infrared laser exposure does not diffuse to the support and can be used efficiently. Therefore, there is an advantage that high sensitivity can be achieved. Further, since the recording layer is located on the exposed surface or in the vicinity thereof even when the undercoat layer is provided, the sensitivity to the infrared laser is maintained well.
In the unexposed area, the recording layer itself that is impermeable to the alkaline developer functions as a protective layer for the undercoat layer, so that the development stability is good and the image is excellent in discrimination. In the exposed area, the components of the recording layer whose dissolution inhibiting ability has been released are quickly dissolved and dispersed in the developer. Since the undercoat layer itself, which is adjacent to the support, is made of an alkali-soluble polymer, it has good solubility in a developer, for example, even when a developer with reduced activity is used. It is considered that this undercoat layer is useful because it dissolves rapidly without the formation of a film and the like and contributes to the improvement of developability.

下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよい。   Various organic compounds are used as the primer layer component. For example, phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid which may have a substituent Organic phosphonic acids such as naphthyl phosphonic acid, alkyl phosphonic acid, glycero phosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, phenyl phosphoric acid which may have a substituent, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid, glycerophosphinic acid and other organic phosphinic acids, glycine and β-alanine amino acids, and triethanolamine hydrochloric acid Has a hydroxy group such as salt -Alanine, and hydrochlorides of amines that may be used in combination of two or more.

さらに下記式で示される構造単位を有する有機高分子化合物群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む下塗層も好ましい。   Furthermore, an undercoat layer containing at least one compound selected from the group of organic polymer compounds having a structural unit represented by the following formula is also preferred.

Figure 0004732108
Figure 0004732108

11は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、R12及びR13はそれぞれ独立して、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、−OR14、−COOR15、−CONHR16、−COR17若しくは−CNを表すか、又はR12及びR13が結合して環を形成してもよく、R14〜R17はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表し、Xは水素原子、金属原子、NR18192021を表し、R18〜R21はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基若しくは置換アリール基を表すか、又はR18及びR19が結合して環を形成してもよく、mは1〜3の整数を表す。 R 11 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R 12 and R 13 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, —OR 14. , -COOR 15 , -CONHR 16 , -COR 17 or -CN, or R 12 and R 13 may be bonded to form a ring, and R 14 to R 17 are each independently an alkyl group or Represents an aryl group, X represents a hydrogen atom, a metal atom, or NR 18 R 19 R 20 R 21 , and R 18 to R 21 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl. Represents a group, or R 18 and R 19 may combine to form a ring, and m represents an integer of 1 to 3.

また、本発明における好適な下塗層成分として、特開2000−241962号公報に記載の酸基を有する構成成分とオニウム基を有する構成成分とを有する高分子化合物を挙げることができる。具体的には、酸基を有するモノマーとオニウム基を有するモノマーの共重合体が挙げられる。酸基として好ましいのは酸解離指数(pKa)が7以上の酸基であり、より好ましくは−COOH、−SO3H、−OSO3H、−PO32、―OPO32、―CONHSO2―、またはーSO2NHSO2−であり、特に好ましくは−COOHである。酸基を有するモノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、上記酸基を有するスチレンなどが挙げられる。オニウム塩として好ましいのは、周期表V族あるいは第VI族の原子からなるオニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子あるいは硫黄原子から成るオニウム塩であり、特に好ましくは窒素原子から成るオニウム塩である。オニウム塩を有するモノマーの具体例としては、側鎖にアンモニウム基を有するメタクリレート、メタクリルアミド、第4級アンモニウム基などのオニウム基を含む置換基などのオニウム基を含む置換基を有するスチレン等が挙げられる。
さらに、特開2000−108538号公報、特願2002−257484号公報、特願2003−78699号公報、等に記載されているような化合物についても、必要に応じて用いることができる。
Moreover, as a suitable undercoat layer component in the present invention, there can be mentioned a polymer compound having a component having an acid group and a component having an onium group, as described in JP-A No. 2000-241962. Specific examples include a copolymer of a monomer having an acid group and a monomer having an onium group. An acid group having an acid dissociation index (pKa) of 7 or more is preferred as the acid group, and more preferably —COOH, —SO 3 H, —OSO 3 H, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , — CONHSO 2 — or —SO 2 NHSO 2 —, particularly preferably —COOH. Specific examples of the monomer having an acid group include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, and styrene having the acid group. Preferred as the onium salt is an onium group composed of Group V or Group VI atoms, more preferably an onium salt composed of nitrogen, phosphorus or sulfur atoms, and particularly preferably an onium salt composed of nitrogen atoms. It is salt. Specific examples of the monomer having an onium salt include styrene having a substituent containing an onium group such as a methacrylate having an ammonium group in the side chain, a methacrylamide, a substituent containing an onium group such as a quaternary ammonium group, and the like. It is done.
Furthermore, compounds described in JP-A No. 2000-108538, Japanese Patent Application No. 2002-257484, Japanese Patent Application No. 2003-78699, and the like can be used as necessary.

これらの下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の0.005質量%〜10質量%の範囲内の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は0.01質量%〜20質量%、好ましくは0.05質量%〜5質量%の範囲内であり、浸漬温度は20℃〜90℃、好ましくは25℃〜50℃の範囲内であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分の範囲内である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。下塗層の被覆量は、2mg/m2〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5mg/m2〜100mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと充分な耐刷性能が得られない。また、200mg/m2より大きくても同様である。 These undercoat layers can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is dissolved and applied on an aluminum plate and dried, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. In this method, an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in the above organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, and then washed and dried with water or the like to provide an undercoat layer. In the former method, a solution having a concentration within the range of 0.005% by mass to 10% by mass of the organic compound can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is in the range of 0.01% by mass to 20% by mass, preferably 0.05% by mass to 5% by mass, and the immersion temperature is 20 ° C. to 90 ° C., preferably 25 ° C. The immersion time is in the range of ˜50 ° C., and the immersion time is in the range of 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The solution used for this can be adjusted to a pH range of 1 to 12 with basic substances such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid. A yellow dye can also be added to improve the tone reproducibility of the image recording material. The coverage of the undercoat layer, 2mg / m 2 ~200mg / m 2 is is suitable, and preferably from 5mg / m 2 ~100mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. Moreover, even if it is larger than 200 mg / m 2, it is the same.

本発明に係る平版印刷版原版は、熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長700nm〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。   The lithographic printing plate precursor according to the invention is image-formed by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head, scanning exposure using an infrared laser, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, infrared lamp exposure, and the like are used. A semiconductor that emits infrared light having a wavelength of 700 nm to 1200 nm. Exposure by a solid high-power infrared laser such as a laser or a YAG laser is suitable.

レーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましく、記録材料に照射されるエネルギーは10mJ/cm2〜500mJ/cm2であることが好ましい。 The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used in order to shorten the exposure time. It is preferable that the exposure time per pixel is preferably within 20μ seconds, it is preferable energy irradiated to the recording material is 10mJ / cm 2 ~500mJ / cm 2 .

本発明に係る平版印刷版原版に適用することのできる現像液は、pHが9.0〜14.0の範囲、好ましくは12.0〜13.5の範囲にある現像液である。現像液(以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ)には、従来から知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   The developer that can be applied to the lithographic printing plate precursor according to the invention is a developer having a pH in the range of 9.0 to 14.0, preferably in the range of 12.0 to 13.5. A conventionally known aqueous alkali solution can be used as the developer (hereinafter referred to as developer including the replenisher). For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples thereof include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are listed. These alkaline aqueous solutions may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

上記のアルカリ水溶液の内、本発明による効果が発揮される現像液は、一つは塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、所謂「シリケート現像液」と呼ばれるpH12以上の水溶液で、もう一つのより好ましい現像液は、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖(緩衝作用を有する有機化合物)と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」である。   Among the above alkaline aqueous solutions, one of the developing solutions that exert the effect according to the present invention is a so-called one containing an alkali silicate as a base or containing an alkali silicate by mixing a silicon compound with a base. Another more preferable developer, which is an aqueous solution called “silicate developer” having a pH of 12 or more, does not contain an alkali silicate, and contains a non-reducing sugar (an organic compound having a buffering action) and a base. Silicate developer ".

前者においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に〔SiO2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報に開示されているような、SiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の含有量が1質量%〜4質量%のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されているような、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1質量%〜4質量%であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。 In the former, the aqueous solution of alkali metal silicate is a ratio of silicon oxide SiO 2 which is a component of silicate and alkali metal oxide M 2 O (generally expressed as a molar ratio of [SiO 2 ] / [M 2 O]. ) And the density, the developability can be adjusted. For example, as disclosed in JP-A-54-62004, the SiO 2 / Na 2 O molar ratio is 1.0 to 1.5 (that is, [SiO 2 ] / [Na 2 O] is 1.0 to 1.5), and the content of SiO 2 is 1% by mass to 4% by mass of an aqueous solution of sodium silicate, or Japanese Examined Patent Publication No. 57-7427. As described in the publication, [SiO 2 ] / [M] is 0.5 to 0.75 (ie, [SiO 2 ] / [M 2 O] is 1.0 to 1.5), the concentration of SiO 2 is to 4 wt% 1 wt%, and the total alkali metal grayed the developing solution is present therein The beam atoms with respect containing potassium at least 20%, aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used.

また、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖と塩基とを含有したいわゆる「ノンシリケート現像液」が、本発明の平版印刷版材料の現像に適用するのには一層好ましい。この現像液を用いて、平版印刷版材料の現像処理を行うと、記録層の表面を劣化させることがなく、かつ記録層の着肉性を良好な状態に維持することができる。また、本発明の製造方法により得られた平版印刷版原版は、一般のものに比較して現像ラチチュードは広いが、ノンシリケート現像液にはpHの変動を抑える緩衝性を有する非還元糖が含まれているため、シリケートを含む現像処理液を用いた場合に比べて有利である。このため、本発明に係る平版印刷版原版の現像に非シリケート現像液を用いることで、微細面積画像の再現性が一層向上する。更に、非還元糖は、シリケートに比べて液活性度を制御するための電導度センサーやpHセンサー等を汚染し難いため、この点でも、ノンシリケート現像液は有利である。また、ディスクリミネーション向上効果が顕著である。これは、本発明において重要な現像液との接触(浸透)がマイルドとなり、露光部及び未露光部の差がさらに出やすくなっているためと推定される。   Further, a so-called “non-silicate developer” which does not contain an alkali silicate and contains a non-reducing sugar and a base is more preferable for application to the development of the lithographic printing plate material of the present invention. When the development processing of the lithographic printing plate material is performed using this developer, the surface of the recording layer is not deteriorated and the inking property of the recording layer can be maintained in a good state. In addition, the lithographic printing plate precursor obtained by the production method of the present invention has a wider development latitude than a general one, but the non-silicate developer contains a non-reducing sugar having a buffering property that suppresses pH fluctuations. Therefore, it is advantageous compared to the case of using a developing solution containing silicate. For this reason, the reproducibility of the fine area image is further improved by using the non-silicate developer for developing the lithographic printing plate precursor according to the invention. Furthermore, since non-reducing sugars are less likely to contaminate conductivity sensors, pH sensors and the like for controlling liquid activity compared to silicates, non-silicate developers are advantageous in this respect as well. Further, the effect of improving discrimination is remarkable. This is presumably because the contact (penetration) with the developer which is important in the present invention is mild, and the difference between the exposed and unexposed areas is more likely to occur.

前記非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本発明において好適に用いることができる。なお、本発明においては、特開平8−305039号公報に記載された非還元糖を好適に使用することができる。   The non-reducing sugar is a saccharide that does not have a free aldehyde group or a ketone group and does not exhibit reducibility, and is a trehalose-type oligosaccharide in which reducing groups are bonded to each other, or a glycoside in which a reducing group and a non-saccharide are bonded to each other. And sugar alcohols reduced by hydrogenation of saccharides and sugars, both of which can be suitably used in the present invention. In the present invention, non-reducing sugars described in JP-A-8-305039 can be preferably used.

前記トレハロース型少糖類としては、例えば、サッカロース、トレハロース等が挙げられる。前記配糖体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコールとしては、例えば、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、アロズルシット等が挙げられる。更に、二糖類のマルトースに水素添加したマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体(還元水あめ)等が好適に挙げられる。これらの非還元糖の中でも、トレハロース型少糖類、糖アルコールが好ましく、その中でも、D−ソルビット、サッカロース、還元水あめ、等が適度なpH領域に緩衝作用があり、低価格である点で好ましい。   Examples of the trehalose type oligosaccharides include saccharose and trehalose. Examples of the glycoside include alkyl glycosides, phenol glycosides, and mustard oil glycosides. Examples of the sugar alcohol include D, L-arabit, rebit, xylit, D, L-sorbit, D, L-mannit, D, L-exit, D, L-talit, zulsiit, allozulcit and the like. . Further, maltitol hydrogenated to disaccharide maltose, reduced form obtained by hydrogenation of oligosaccharide (reduced water candy), and the like are preferable. Among these non-reducing sugars, trehalose-type oligosaccharides and sugar alcohols are preferable, and among them, D-sorbitol, saccharose, reduced syrup, etc. are preferable in that they have a buffering action in an appropriate pH region and are inexpensive.

これらの非還元糖は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。前記非還元糖の前記ノンシリケート現像液中における含有量としては、0.1質量%〜30質量%が好ましく、1質量%〜20質量%がより好ましい。前記含有量が、0.1質量%未満であると充分な緩衝作用が得られなくなる傾向があり、30質量%を越えると高濃縮化し難く、また原価も高くなる傾向がある。   These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more. The content of the non-reducing sugar in the non-silicate developer is preferably 0.1% by mass to 30% by mass, and more preferably 1% by mass to 20% by mass. If the content is less than 0.1% by mass, a sufficient buffering effect tends to be not obtained, and if it exceeds 30% by mass, it is difficult to achieve high concentration and the cost tends to increase.

また、前記非還元糖と組合せて用いられる塩基としては、従来から公知のアルカリ剤、例えば、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等が挙げられる。無機アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等が挙げられる。   Examples of the base used in combination with the non-reducing sugar include conventionally known alkali agents such as inorganic alkali agents and organic alkali agents. Examples of the inorganic alkaline agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, Examples thereof include sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate.

有機アルカリ剤としては、例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等が挙げられる。   Examples of the organic alkali agent include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanol. Examples include amine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine.

前記塩基は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの塩基の中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、本発明においては、前記ノンシリケート現像液として、非還元糖と塩基との併用に代えて、非還元糖のアルカリ金属塩を主成分としたものを用いることもできる。   The said base may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Among these bases, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. In the present invention, as the non-silicate developer, a non-reducing sugar alkali metal salt as a main component can be used instead of the non-reducing sugar and the base.

また、前記ノンシリケート現像液に、前記非還元糖以外の弱酸と強塩基とからなるアルカリ性緩衝液を併用することができる。前記弱酸としては、解離定数(pKa)が10.0〜13.2のものが好ましく、例えば、Pergmon Press 社発行のIonization Constants of Organic Acidsin Aqueous Solution 等に記載されているものから選択できる。   In addition, an alkaline buffer composed of a weak acid other than the non-reducing sugar and a strong base can be used in combination with the non-silicate developer. The weak acid preferably has a dissociation constant (pKa) of 10.0 to 13.2, and can be selected from, for example, those described in Ionization Constants of Organic Acids Solution, published by Pergmon Press.

具体的には、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノ−ル−1、トリフルオロエタノール、トリクロロエタノール等のアルコール類、ピリジン−2−アルデヒド(、ピリジン−4−アルデヒド(等のアルデヒド類、サリチル酸、3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、カテコール、没食子酸、スルホサリチル酸、3,4−ジヒドロキシスルホン酸、3,4−ジヒドロキシ安息香酸、ハイドロキノン(同11.56)、ピロガロール、o−、m−,p−クレゾール、レゾルソノール等のフェノール性水酸基を有する化合物、アセトキシム、2−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム、ジメチルグリオキシム、エタンジアミドジオキシム、アセトフェノンオキシム等のオキシム類、アデノシン、イノシン、グアニン、シトシン、ヒポキサンチン、キサンチン等の核酸関連物質、その他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸、ベンズイミダゾール、バルビツル酸等が好適に挙げられる。   Specifically, alcohols such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol-1, trifluoroethanol and trichloroethanol, pyridine-2-aldehyde (, aldehydes such as pyridine-4-aldehyde (and the like) , Salicylic acid, 3-hydroxy-2-naphthoic acid, catechol, gallic acid, sulfosalicylic acid, 3,4-dihydroxysulfonic acid, 3,4-dihydroxybenzoic acid, hydroquinone (11.56), pyrogallol, o-, m Compounds having a phenolic hydroxyl group such as-, p-cresol, resorsonol, oximes such as acetoxime, 2-hydroxybenzaldehyde oxime, dimethylglyoxime, ethanediamide dioxime, acetophenone oxime, adenosine, inosine, guanine, cytosine, hypoxanthine , Ki Nucleic acid-related substances such as Nchin, other, diethylaminomethyl acid, benzimidazole, and the like barbituric acid is preferably exemplified.

前記現像液及び補充液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散または、印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性剤が好ましい。更に、前記現像液及び補充液には、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤等を加えることができる。   To the developer and replenisher, various surfactants and organic solvents are added as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, or improving ink affinity of the printing plate image area. it can. As the surfactant, anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants are preferable. Further, the developer and replenisher may contain a reducing agent such as sodium salt and potassium salt of inorganic acids such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, and bisulfite, as well as organic carboxylic acid, antifoaming agent, hard water, if necessary. Softeners and the like can be added.

前記現像液及び補充液を用いて現像処理された画像形成材料は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。前記画像形成材料を印刷版として使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。   The image forming material developed using the developer and the replenisher is post-processed with a desensitizing solution containing washing water, a rinsing solution containing a surfactant or the like, gum arabic or a starch derivative. As the post-treatment when the image forming material is used as a printing plate, these treatments can be used in various combinations.

更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤があげられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の平版印刷版原版の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
Further, when developing using an automatic developing machine, an aqueous solution (replenisher) having a higher alkali strength than that of the developer is added to the developer, so that a large amount of developer can be obtained without replacing the developer in the developer tank for a long time. It is known that PS plates can be processed. This replenishment method is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developer and replenisher as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, and improving ink affinity of the printing plate image area.
Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. If necessary, the developer and replenisher may contain reducing agents such as hydroquinone, resorcin, sulfurous acid, bisulfite, and other inorganic acids such as sodium salts and potassium salts, organic carboxylic acids, antifoaming agents, and hard water softeners. It can also be added.
The printing plate developed using the developer and the replenisher is post-treated with water-washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, a desensitizing solution containing gum arabic and starch derivatives. As the post-treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention, these treatments can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。   In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for transporting the printing plate, each processing liquid tank and a spray device, and each pumped up by a pump while transporting the exposed printing plate horizontally. The processing liquid is sprayed from the spray nozzle and developed. In addition, recently, a method is also known in which a printing plate is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with the processing liquid. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

本発明に係る平版印刷版原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フイルムのフイルムエッジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平2−13293号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平59−174842号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。   In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, image portions unnecessary for the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming (for example, film edge traces of the original film). Etc.), the unnecessary image portion is erased. Such erasing is preferably performed by applying an erasing solution as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293 to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then washing with water. As described in JP-A-59-174842, a method of developing after irradiating an unnecessary image portion with an actinic ray guided by an optical fiber can also be used.

〔加熱処理(バーニング処理)〕
本発明においては、以上のようにして得られた平版印刷版に、必要により不感脂化ガムを塗布したのち、加熱処理(バーニング処理)が施される。
[Heat treatment (burning treatment)]
In the present invention, the lithographic printing plate obtained as described above is subjected to heat treatment (burning treatment) after applying a desensitized gum as necessary.

バーニング処理は、バーニングプロセッサー(例えば、富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:「BP−1300」)などで、150℃以上350℃以下の範囲に加熱することにより行われる。
加熱温度は、150℃以上350℃以下の範囲であり、160℃以上300℃以下がより好ましく、180℃以上270℃以下が更に好ましい。また、加熱時間は、1分以上20分以下の範囲が好ましく、1分以上15分以下がより好ましく、1分以上10分以下が更に好ましい。
加熱温度及び加熱時間については、画像を形成している成分の種類を考慮して、最適な条件が選択される。
The burning process is performed by heating in a range of 150 ° C. or more and 350 ° C. or less with a burning processor (for example, burning processor “BP-1300” sold by Fuji Photo Film Co., Ltd.).
The heating temperature is in the range of 150 ° C to 350 ° C, more preferably 160 ° C to 300 ° C, and still more preferably 180 ° C to 270 ° C. The heating time is preferably in the range of 1 minute to 20 minutes, more preferably 1 minute to 15 minutes, and still more preferably 1 minute to 10 minutes.
As for the heating temperature and the heating time, optimum conditions are selected in consideration of the types of components forming the image.

バーニング処理に際しては、バーニング処理前に、特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。その方法としては、整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、整面液を平版印刷版上に塗布する方法、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法、自動コーターにより塗布する方法などが適用される。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。
In the burning process, before the burning process, a surface-conditioning liquid as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to process. As the method, a method of applying the surface-adjusting liquid onto the lithographic printing plate with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, or immersing and applying the printing plate in a vat filled with the surface-adjusting liquid The method, the method of apply | coating with an automatic coater, etc. are applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.
In general, the amount of surface-adjusting solution applied is suitably 0.03 to 0.8 g / m 2 (dry mass).

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来から行なわれている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
この様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
The lithographic printing plate that has been subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as necessary, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound is used. If so, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.
The planographic printing plate obtained by such processing is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated according to an Example, the scope of the present invention is not limited to these Examples.

(実施例1〜3、比較例1に用いる平版印刷版原版の作製)
〔支持体の作製〕
厚さ0.3mmのJIS−A−1050アルミニウム板を用いて、下記に示す工程を経て処理することで支持体を作製した。
(Preparation of lithographic printing plate precursors used in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1)
(Production of support)
The support body was produced by processing through the process shown below using a JIS-A-1050 aluminum plate with a thickness of 0.3 mm.

(a)機械的粗面化処理
比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(A) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of abrasive (silica sand) having a specific gravity of 1.12 and water as a polishing slurry liquid to a surface of an aluminum plate, it is mechanically rotated by a roller-like nylon brush. Roughening was performed. The average particle size of the abrasive was 8 μm, and the maximum particle size was 50 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に温度70℃のNaOH水溶液(濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を6g/m2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(B) Alkali etching treatment The aluminum plate obtained above was sprayed with an aqueous NaOH solution at a temperature of 70 ° C. (concentration 26 mass%, aluminum ion concentration 6.5 mass%) to perform an etching treatment, and the aluminum plate was 6 g / m. 2 dissolved. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmut treatment A desmut treatment was performed by spraying with a 1% by weight aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル)、温度50℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、DUTY比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(D) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a nitric acid 10.5 g / liter aqueous solution (aluminum ion 5 g / liter) at a temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform has an electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a DUTY ratio of 1: 1. went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type.
The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(E) Alkali etching treatment The aluminum plate was sprayed at a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 32 ° C. to dissolve the aluminum plate by 0.20 g / m 2 , The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening was used was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(f)デスマット処理
温度30℃の硫酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
(F) Desmut treatment Desmut treatment by spraying was performed with a 15% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water using well water. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む)、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / liter aqueous solution (containing 5 g / liter of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform was a rectangular wave, and an electrochemical surface roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell used was a radial cell type.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(H) Alkaline etching treatment An aluminum plate is etched by spraying at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass, and the aluminum plate is dissolved at 0.10 g / m 2 , so The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during the electrochemical surface roughening treatment was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Thereafter, washing with water was performed using well water.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
(I) Desmut treatment A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by mass aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then water washing by spraying was performed using well water.

(j)陽極酸化処理
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)、温度は43℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約30A/dm2であった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
(J) Anodizing treatment As the electrolytic solution, sulfuric acid was used. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions), and the temperature was 43 ° C. Thereafter, washing with water was performed using well water.
Both current densities were about 30 A / dm 2 . The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .

<支持体A>
上記(a)〜(j)の各工程を順に行い(e)工程におけるエッチング量は3.4g/m2となるようにして支持体Aを作製した。
<支持体B>
上記工程のうち(g)、(h)、(i)の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Bを作製した。
<Support A>
The steps (a) to (j) were sequentially performed, and the support A was produced so that the etching amount in the step (e) was 3.4 g / m 2 .
<Support B>
A support B was prepared by sequentially performing the steps except for omitting the steps (g), (h), and (i) among the above steps.

<支持体C>
上記工程のうち(a)、(g)、(h)、及び(i)の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Cを作製した。
<支持体D>
上記工程のうち(a)、(d)、(e)、及び(f)の工程を省略した以外は各工程を順に行い、(g)工程における電気量の総和が450C/dm2となるようにして支持体Dを作製した。
上記によって得られた支持体A、支持体B、支持体C、及び支持体Dには、引き続き下記の親水処理、下塗り処理を行った。
〔下塗り処理〕
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で15秒間乾燥することによって下塗層付き支持体を得た。乾燥後の被覆量は15mg/m2であった。
<下塗り液>
・下記高分子化合物(I) 0.3g
・メタノール 100g
・水 1g
<Support C>
A support C was prepared by sequentially performing the steps except that the steps (a), (g), (h), and (i) were omitted from the above steps.
<Support D>
Of the above steps, the steps (a), (d), (e), and (f) are omitted except that the steps are performed in order, and the total amount of electricity in step (g) is 450 C / dm 2. Thus, a support D was produced.
The support A, the support B, the support C, and the support D obtained as described above were subsequently subjected to the following hydrophilic treatment and undercoating treatment.
[Undercoating]
On the aluminum support after the alkali metal silicate treatment obtained as described above, an undercoat solution having the following composition was applied and dried at 80 ° C. for 15 seconds to obtain a support with an undercoat layer. The coating amount after drying was 15 mg / m 2 .
<Undercoat liquid>
・ The following polymer compound (I) 0.3 g
・ Methanol 100g
・ Water 1g

Figure 0004732108
Figure 0004732108

〔記録層の形成〕
次に、上記で得られた下塗層付き支持体に、下記組成の下層用塗布液Aを、ワイヤーバーで塗布した後、図1に記載の乾燥/冷却装置を用いて、下記表6に記載した乾燥/冷却条件で乾燥及び冷却を行い、塗布量を0.85g/m2とした。
得られた下層付き支持体に、下記組成の最上層用塗布液Bをワイヤーバーで塗布した。塗布後、140℃の乾燥オーブンで50秒間乾燥して、総塗布量を1.00g/m2とした。
以上のようにして、実施例1〜3、及び比較例1、2に用いるポジ型平版印刷版原版を得た。
[Formation of recording layer]
Next, the lower layer coating liquid A having the following composition was applied to the support with the undercoat layer obtained above with a wire bar, and the drying / cooling apparatus shown in FIG. Drying and cooling were performed under the described drying / cooling conditions, and the coating amount was 0.85 g / m 2 .
The top layer coating solution B having the following composition was applied to the obtained support with a lower layer with a wire bar. After coating, the coating was dried in a drying oven at 140 ° C. for 50 seconds to make a total coating amount of 1.00 g / m 2 .
As described above, positive lithographic printing plate precursors used in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were obtained.

<下層用塗布液A>
・表6記載の特定アルカリ可溶性樹脂 2.13g
・シアニン染料P(下記構造) 0.134g
・ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.126g
・テトラヒドロ無水フタル酸 0.19g
・p−トルエンスルホン酸 0.008g
・2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)
ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.032g
・エチルバイオレット−6−ナフタレンスルホン酸 0.078g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−780 大日本インキ化学工業(株)製) 0.023g
・γ−ブチロラクトン 13.16g
・メチルエチルケトン 25.39g
・1−メトキシ−2−プロパノール 12.95g
<最上層用塗布液B>
・m−クレゾール/p−クレゾールノボラック樹脂
(モル比60/40、重量平均分子量 5,000) 0.341g
・シアニン染料P(下記構造) 0.019g
・メチルエチルケトン 2.63g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.27g
<Coating liquid A for lower layer>
-Specific alkali-soluble resin described in Table 6 2.13 g
・ Cyanine dye P (structure shown below) 0.134 g
・ Bis-p-hydroxyphenylsulfone 0.126 g
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.19g
・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid
2-methoxy-4- (N-phenylamino)
Benzenediazonium hexafluorophosphate 0.032 g
・ Ethyl violet-6-naphthalenesulfonic acid 0.078g
・ Fluorosurfactant (Megafac F-780, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.023g
・ Γ-butyrolactone 13.16 g
・ Methyl ethyl ketone 25.39g
・ 1-methoxy-2-propanol 12.95 g
<Coating solution B for top layer>
-M-cresol / p-cresol novolak resin (molar ratio 60/40, weight average molecular weight 5,000) 0.341 g
・ Cyanine dye P (the following structure) 0.019 g
・ Methyl ethyl ketone 2.63g
・ 1-methoxy-2-propanol 5.27g

Figure 0004732108
Figure 0004732108

(実施例4〜6、比較例3、4に用いる平版印刷版原版の作製)
上記実施例1〜3に用いる平版印刷版原版と同様の方法で得られた下塗り層付き支持体に、下記組成の塗布液Cをワイヤーバーで塗布した後に、図1に記載の乾燥/冷却装置を用いて、下記表6記載の条件で乾燥/冷却を行い、総塗布量を1.00g/m2とした。
以上のようにして、実施例4〜6、及び比較例3、4に用いるポジ型平版印刷版原版を得た。
(Preparation of lithographic printing plate precursors used in Examples 4 to 6 and Comparative Examples 3 and 4)
After applying the coating liquid C having the following composition to the support with an undercoat layer obtained by the same method as the lithographic printing plate precursor used in Examples 1 to 3 with a wire bar, the drying / cooling device shown in FIG. Was used for drying / cooling under the conditions shown in Table 6 below to make the total coating amount 1.00 g / m 2 .
As described above, positive lithographic printing plate precursors used in Examples 4 to 6 and Comparative Examples 3 and 4 were obtained.

<塗布液C>
・下記表6に記載の特定アルカリ可溶性樹脂 0.75g
・m−クレゾール/p−クレゾールノボラック樹脂
(モル比60:40、重量平均分子量5,000) 0.25g
・p−トルエンスルホン酸 0.003g
・テトラヒドロ無水フタル酸 0.03g
・シアニン染料P(前記構造) 0.017g
・ビクトリアピュアブルー(BOHの対アニオンを
1−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料) 0.015g
・γ−ブチルラクトン 10.00g
・メチルエチルケトン 10.00g
・1−メトキシ−2−プロパノール 5.00g
<Coating liquid C>
・ Specific alkali-soluble resins listed in Table 6 below, 0.75 g
-M-cresol / p-cresol novolak resin (molar ratio 60:40, weight average molecular weight 5,000) 0.25 g
・ 0.003 g of p-toluenesulfonic acid
・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.03g
・ Cyanine dye P (the above structure) 0.017 g
・ Victoria Pure Blue (Dye with BOH counter anion as 1-naphthalenesulfonic acid anion) 0.015g
・ Γ-Butyllactone 10.00g
・ Methyl ethyl ketone 10.00g
・ 1-methoxy-2-propanol 5.00g

(実施例7〜9、比較例5、6に用いる平版印刷版原版の作製)
実施例1〜3に用いる平版印刷版原版と同様の方法で得られた下塗り層付き支持体に、下記組成の塗布液Dをワイヤーバーで塗布した。塗布後、図1記載の乾燥/冷却装置を用いて、下記表6に記載の条件で乾燥/冷却を行い、総塗布量を1.40g/m2とした。
以上のようにして、実施例7〜9、及び比較例5、6に用いるポジ型平版印刷版原版を得た。
(Preparation of planographic printing plate precursors used in Examples 7 to 9 and Comparative Examples 5 and 6)
The coating liquid D having the following composition was applied with a wire bar to a support with an undercoat layer obtained by the same method as the planographic printing plate precursor used in Examples 1 to 3. After the application, drying / cooling was performed under the conditions shown in Table 6 below using the drying / cooling apparatus shown in FIG. 1, and the total application amount was 1.40 g / m 2 .
As described above, positive lithographic printing plate precursors used in Examples 7 to 9 and Comparative Examples 5 and 6 were obtained.

<塗布液D>
・下記表6に記載の特定アルカリ可溶性樹脂 2.072g
・シアニン染料P(前記構造) 0.052g
・エチルバイオレット6−ナフタレンスルホン酸 0.078g
・メチルエチルケトン 25.30g
<Coating liquid D>
-Specific alkali-soluble resin 2.072g described in Table 6 below
・ Cyanine dye P (the above structure) 0.052 g
・ Ethyl violet 6-naphthalenesulfonic acid 0.078g
・ Methyl ethyl ketone 25.30g

(実施例1〜9、比較例1〜6の平版印刷版の作製)
〔露光・現像〕
上記のようにして得られた各ポジ型平版印刷版原版を、Creo社製Trendsetter800にて、ビーム強度10.0W、ドラム回転速度250rpmの条件でテスト画像を露光した。
露光後の各ポジ型平版印刷版原版を、Agfa社製現像液「EP26」を仕込んだAutolithPN85CE(Agfa社製)を用い25℃、0.96m/min.条件で現像した。
(Production of planographic printing plates of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 6)
[Exposure / Development]
Each positive lithographic printing plate precursor obtained as described above was exposed to a test image using a Trend setter 800 manufactured by Creo under the conditions of a beam intensity of 10.0 W and a drum rotation speed of 250 rpm.
Each positive type lithographic printing plate precursor after exposure was subjected to an Auto PN85CE (Agfa) charged with a developer “EP26” manufactured by Agfa at 25 ° C. and 0.96 m / min. Developed under conditions.

〔加熱処理(バーニング処理)〕
実施例1〜9、及び比較例1〜6について、現像後の平版印刷版に対して、以下のベーキングガム溶液を用いて、加熱処理を235℃で5分間行った。
<ベーキングガム溶液>
ベーキングガム溶液としては、富士写真フイルム株式会社製バ−ニング整面液BC−7を使用した。
以上のようにして、実施例1〜9、及び比較例1〜6の平版印刷版を得た。
[Heat treatment (burning treatment)]
About Examples 1-9 and Comparative Examples 1-6, the heat processing were performed at 235 degreeC for 5 minutes with respect to the lithographic printing plate after image development using the following baking gum solutions.
<Baking gum solution>
As a baking gum solution, Burning surface-adjusting solution BC-7 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.
As described above, lithographic printing plates of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 6 were obtained.

〔評価〕
〔平版印刷版原版の評価〕
次に、実施例1〜9、及び比較例1〜6のポジ型平版印刷版原版の性能評価を行った。なお、評価試験は上記感光層塗布後25℃で14日間保存したものについて行った。
[Evaluation]
[Evaluation of planographic printing plate precursor]
Next, performance evaluation of the positive planographic printing plate precursors of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 6 was performed. The evaluation test was conducted on the sample stored at 25 ° C. for 14 days after the photosensitive layer was applied.

(耐クリーナ性の評価)
ポジ型平版印刷版原版に、クリーナ液(富士写真フイルム(株)製:「プレートクリーナーCL2」)を滴下し、1分後の滴下部の濃度変化を目視により比較した。濃度変化が全くなかったものを○、濃度変化がややみられたものを△、大きく濃度変化したものを×とした。
(Evaluation of cleaner resistance)
A cleaner solution (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd .: “Plate Cleaner CL2”) was dropped onto the positive type lithographic printing plate precursor, and the density change of the dripping portion after 1 minute was visually compared. The case where there was no change in density was indicated as ◯, the case where the change in density was slightly observed was indicated as Δ, and the case where the change was greatly changed was indicated as x.

(網点画像再現性)
得られたポジ型平版印刷版原版をCreo社製Trendsetter3244にて、ビーム強度10.0W、ドラム回転速度250rpmの条件でSTACCATO20/50%網点テストパターンの画像状に描き込み(露光)を行った。上記条件露光後、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2(希釈して、電導度47mS/cmとしたもの)及び富士写真フイルム(株)製フィニッシャーFP−2W(1:1で希釈したもの)を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッサーLP−940Hを用い、液温を30℃に保ち現像時間12秒で現像した。その後、50倍のルーペにより1%網点部分が欠落していないかどうか評価した。なお、網点部が全く欠落していないものを○、網点部の欠落部がみられたものを×とした。
(Halftone image reproducibility)
The obtained positive type lithographic printing plate precursor was drawn (exposed) on an image of a STACCATO 20/50% halftone dot test pattern on a Trendsetter 3244 manufactured by Creo under the conditions of a beam intensity of 10.0 W and a drum rotation speed of 250 rpm. . After the above condition exposure, Fuji Photo Film Co., Ltd. developer DT-2 (diluted to a conductivity of 47 mS / cm) and Fuji Photo Film Co., Ltd. finisher FP-2W (diluted 1: 1). The product was developed using a PS processor LP-940H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., with a developing temperature of 12 seconds. Thereafter, it was evaluated whether or not the 1% halftone dot portion was missing with a 50 times magnifier. In addition, the thing in which the missing part of the halftone dot part was seen was set as (circle) and the thing in which the missing part of the halftone dot part was seen as x.

(バーニング耐刷性)
得られたポジ型平版印刷版原版をCreo社製Trendsetter3244にて、ビーム強度10.0W、ドラム回転速度250rpmの条件で画像状のテストパターンを露光し、Agfa製現像液EP26を仕込んだAutolithPN85CEを用い25℃、0.96m/min.条件で現像し、以下のベーキングガム溶液を用いて235℃5分間ベーキング処理を行った。その後ハイデルKOR−D機で印刷し正常の印刷物が刷られているかどうかを1万枚ごとに観測し、枚数を評価した。
以上の評価結果を表6に併記する
(Burning printing durability)
The obtained positive lithographic printing plate precursor was exposed with a Trend setter 3244 manufactured by Creo under the conditions of a beam intensity of 10.0 W and a drum rotation speed of 250 rpm, and an Autolite PN85CE charged with Agfa developer EP26 was used. 25 ° C., 0.96 m / min. The film was developed under the conditions and baked at 235 ° C. for 5 minutes using the following baking gum solution. Thereafter, printing was performed with a Heidel KOR-D machine, and whether or not normal printed matter was printed was observed every 10,000 sheets, and the number of sheets was evaluated.
The above evaluation results are also shown in Table 6.




Figure 0004732108
Figure 0004732108

表6中の特定アルカリ可溶性樹脂の種類を示す数字は、表5に前掲した具体例の化合物番号に対応する。
また、比較例1、5に用いた「樹脂A」、及び比較例3に用いた「樹脂B」の詳細は以下の通りである。
樹脂A: m/pクレゾールノボラソク樹脂 (m/p比=6/4、Mw:5000)
樹脂B: N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド
/アクリロニトリル/メタクリル酸メチル
(モル比36:34:30、重量平均分子量50,000)
The numbers indicating the types of specific alkali-soluble resins in Table 6 correspond to the compound numbers of the specific examples listed above in Table 5.
The details of “Resin A” used in Comparative Examples 1 and 5 and “Resin B” used in Comparative Example 3 are as follows.
Resin A: m / p cresol noborazo resin (m / p ratio = 6/4, Mw: 5000)
Resin B: N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide
/ Acrylonitrile / Methyl methacrylate
(Molar ratio 36:34:30, weight average molecular weight 50,000)

表6に示されるように、本発明の方法により得られた実施例1〜9の平版印刷版は、バーニング耐刷性、及び耐クリーナ性に優れると共に、網点画像再現性についても、良好な結果が得られた。
一方、本発明で用いた特定アルカリ可溶性樹脂に代えて、従来公知のアルカリ可溶性樹脂である樹脂Aを用いた比較例1、及び5の平版印刷版は、バーニング耐刷性、耐クリーナ性、及び網点画像再現性の全てについて、良好な結果は得られなかった。また、樹脂Bを用いた比較例3の平版印刷板版は、耐クリーナ性は得られるものの、バーニング耐刷性、及び網点画像再現性について、良好な結果は得られなかった。
また、本発明で用いた特定アルカリ可溶性樹脂に、乾燥冷却条件を、本発明の条件(150℃以上250℃以下の温度条件を0.1秒以上60秒以下の間維持する)の範囲外した比較例2、比較例4、及び比較例6では、耐クリーナ性は得られるものの、バーニング耐刷性及び網点画像再現性において良好な結果は得られなかった。
As shown in Table 6, the lithographic printing plates of Examples 1 to 9 obtained by the method of the present invention are excellent in burning printing resistance and cleaner resistance, and also have good dot image reproducibility. Results were obtained.
On the other hand, in place of the specific alkali-soluble resin used in the present invention, the lithographic printing plates of Comparative Examples 1 and 5 using a resin A that is a conventionally known alkali-soluble resin have burning printing resistance, cleaner resistance, and Good results were not obtained for all halftone dot image reproducibility. Further, the lithographic printing plate of Comparative Example 3 using the resin B was able to obtain cleaner resistance, but did not obtain good results with respect to burning printing durability and halftone image reproducibility.
Also, the specific alkali-soluble resin used in the present invention is out of the range of the dry cooling condition of the present invention (the temperature condition of 150 ° C. or higher and 250 ° C. or lower is maintained for 0.1 second or longer and 60 seconds or shorter). In Comparative Example 2, Comparative Example 4 and Comparative Example 6, although cleaner resistance was obtained, good results were not obtained in burning printing durability and halftone image reproducibility.

本発明に適用可能な、記録層塗布後の乾燥に用い得る乾燥装置の一態様を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows one aspect | mode of the drying apparatus which can be used for drying after recording layer application | coating applicable to this invention.

Claims (2)

支持体上に、下記一般式(1)で表される置換基によって置換されたフェニル基を有するモノマー単位を含むアルカリ可溶性樹脂、及び赤外線吸収剤を含有する記録層を有し、該支持体上に該記録層を塗設後、該記録層を乾燥する乾燥工程が、150℃以上250℃以下の温度条件を0.1秒以上60秒以下の間維持する加熱処理を含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。
Figure 0004732108
[一般式(1)中、Z1、Z2及びZ3は、各々独立に、水素原子又は非金属原子からなる1価の置換基を表す。]
On the support, there is a recording layer containing an alkali-soluble resin containing a monomer unit having a phenyl group substituted by a substituent represented by the following general formula (1), and an infrared absorber. In addition, the drying step of drying the recording layer after coating the recording layer includes a heat treatment for maintaining a temperature condition of 150 ° C. or more and 250 ° C. or less for 0.1 seconds or more and 60 seconds or less. A method for producing a lithographic printing plate.
Figure 0004732108
[In the general formula (1), Z 1 , Z 2 and Z 3 each independently represents a monovalent substituent consisting of a hydrogen atom or a nonmetallic atom. ]
前記乾燥工程が、前記加熱処理の後に、前記記録層の温度が40℃になるまで平均冷却速度5℃/秒以上30℃/秒以下の範囲内の平均冷却速度で冷却する冷却処理を含むことを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版の製造方法。   The drying step includes a cooling process in which, after the heat treatment, cooling is performed at an average cooling rate in the range of 5 ° C./second to 30 ° C./second until the temperature of the recording layer reaches 40 ° C. The method for producing a lithographic printing plate according to claim 1.
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