JP4731178B2 - 光学反射素子、その製造方法、及びその素子を具備する光学機器 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 95
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 32
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 claims description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 238000009304 pastoral farming Methods 0.000 claims description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims 2
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 claims 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 2
- 241000411951 Centrosema virginianum Species 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- JJWKPURADFRFRB-UHFFFAOYSA-N carbonyl sulfide Chemical compound O=C=S JJWKPURADFRFRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 241000238565 lobster Species 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
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- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/067—Construction details
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Description
・M.K.Joyらによる論文でシリコンウエハX線望遠鏡の画像特性と題された、SPIE、1994年、第2279号、283から286頁であり、この書類はX線を集束するために台に支持されたシリコンウエハを用いたカークパトリック・バエズ型の光学システムを記載するもの。
・L.V.Knightによる論文で、"X線光学素子としての多層X線反射素子の研究"と題されたDOE/DP/10741-1,1989年12月15日、1から52頁であって、背面にエッチングされたリブを有し、表面のそれぞれがX線を集束させるための多層コーティングを担持する構造のシリコンウエハの使用を記載した書類である。
・R.C.Woodburyらによる論文で、"多層構造のための曲面シリコン基板"と題された"Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering"1986年7月2日発行の第691巻、66から75頁であって、エッチングされたリブとX線を集束させるための多層コーティングのための基板として使用されるシリコンウエハの使用を記載した書類である。
・M.W.Beijersbergenらによる論文で、"マイクロチャンネルプレートを用いた高解像度微細孔X線光学,""Proceedings of SPIE"2001年の第4145巻、188から192頁であって、正方形の孔を有しX線を集束させるため積層されたガラスファイバーの使用について記載した書類である。
・Carlo F LaFiandraによる米国特許第6048070号、"耐性のある長いストロークの変形可能なミラー"という名称であって、この特許はプレートの背面に弾力のある支持部を形成し、アクチュエーターによって形状が構成されるものであって、プレートが変形可能な鏡として機能することを記載したものである。
・CE.TE.V. Centro Technologie Del Vuoto らによる欧州特許出願 EP 1085528 A2、"反復技術による薄膜多層構造を用いたX線鏡の製造方法"という名称であって、この特許出願はX線反射構造のためのマンドレルからのミラー再生方法について記載したものである。
2 下側ベース素子
4 上側ベース素子
5、5x モジュール
6 鏡
10〜12 プレート
100〜120 リブ
101〜121 反射面
620 リング
1010、1110 金層(反射面)
MP、MH 鏡
TWI 望遠鏡
Claims (21)
- 微小角入射でのX線、γ線、若しくは高エネルギー粒子の光線用の光学反射素子であって、該素子は積層型構造を形成する少なくとも2つの重なるプレートを有し、前記各プレートは前記光線を反射する上側の第1面と、2つの連続的に並べられる反射面の間の所定の間隔を画定するように前記積層型構造の2つの連続的に設けられるプレートの間のスぺーサーを形成する複数のリブと共に設けられる第2面とを有し、前記上側の第1面は高反射特性を有する材料の層に被覆されていることを特徴とする光学反射素子。
- 前記積層型構造はスぺーサーを構成するリブによって離間された複数の重ねられたプレートにより構成されることを特徴とする請求項1記載の光学反射素子。
- 前記リブは前記プレートと一体の部分とされることを特徴とする請求項2記載の光学反射素子。
- 前記プレートは単結晶シリコン、アルミニウム、ベリリウム、ニッケルからなるグループから選ばれる少なくとも1つの材料からなるウエハから作成されたものであることを特徴とする請求項1から3までのいずれかに記載の光学反射素子。
- 前記プレートは非弾性変形特性を呈するように単結晶シリコン、アルミニウム、ベリリウム、及びニッケルからなるグループから選ばれる少なくとも1つの非弾性材料からなるウエハから作成されたものであることを特徴とする請求項1から4までのいずれかに記載の光学反射素子。
- 前記高反射特性を有する材料は金属コーティングであることを特徴とする請求項1から5までのいずれかに記載の光学反射素子。
- 前記層は多層であることを特徴とする請求項6に記載の光学反射素子。
- 前記プレートは前記第1面が当該光学反射素子の光軸を形成する軸周りの回転体の所定の表面に存在するような形状とされることを特徴とする請求項1から7までのいずれかに記載の光学反射素子。
- 前記回転体の表面は円筒、円錐、放物面、楕円面、若しくは双曲面であることを特徴とする請求項8に記載の光学反射素子。
- 請求項1乃至請求項9の何れかに記載の光学反射素子を製造する方法であって、該方法は少なくとも次の、
前記プレートを少なくとも第1の所定の材料のウエハから形成する工程と、
前記プレート間のスぺーサーを形成する前記リブを形成する工程と、
前記プレートを得るために前記ウエハを切断して所定の形状にする工程と
を含むことを特徴とする光学反射素子を製造する方法。 - 第2の所定の材料の少なくとも1層で前記ウエハの上側表面が被覆される工程を含むことを特徴とする請求項10記載の製造方法。
- 前記プレートの第1及び第2の面のそれぞれを保護材料からなる各層で被覆する工程と、
前記リブを得るために機械加工、化学加工、若しくはこれらの組み合わせにより、前記保護材料の前記層を介して前記第2の面を加工する工程と、
前記プレートの前記第1及び第2の面を化学的に加工して前記保護材料からなる層を除去する工程と
を含むことを特徴とする請求項11記載の製造する方法。 - 前記リブで分けられる少なくとも2つのプレートを位置あわせする工程と、
前記2つのプレートを一緒に積層し結合させる工程とをさらに含むことを特徴とする請求項11記載の製造方法。 - 前記反射する上側の第1面がそれぞれ所定の表面を占めるように、積層されるプレートを造形する工程をさらに含むことを特徴とする請求項13記載の製造方法。
- 前記第1の材料は単結晶シリコン、アルミニウム、ベリリウム、ニッケル、又はこれらの組み合わせからなる材料であることを特徴とする請求項12乃至請求項13の何れか記載の製造方法。
- 前記ウエハの上側面を被覆する前記第2の材料の層は、金又はイリジウムからなることを特徴とする請求項11乃至請求項14の何れか記載の製造方法。
- 前記第2の材料の層は多層であることを特徴とする請求項16記載の製造方法。
- 少なくとも1つの鏡を有する光学機器であって、前記鏡は請求項1乃至請求項12に記載の複数の光学反射素子を有し、前記光学反射素子は、前記X線、前記γ線、若しくは高エネルギー粒子の入射光線が焦点面上に集束されるように、当該光学機器の光軸と称される当該光学機器の軸まわりに配設され、前記光線は前記複数の光学反射素子のプレートの前記反射する上側の第1面で反射されることを特徴とする光学機器。
- 当該光学機器は前記光軸周りで回転対称に形成され、且つ第1の複数の同心円リングを有し、前記リングのそれぞれは第2の複数の隣接セクターに分割され、それらセクターのそれぞれは第3の複数の光学反射素子によって構成されることを特徴とする請求項18記載の光学機器。
- 当該光学機器は、2つの鏡を縦列するように配置し、前記鏡の第1のものの前記光学反射素子の前記プレートの前記第1の反射面は回転体の放物面を得る形状とされ、前記鏡の第2のものの前記光学反射素子の前記プレートの前記第1の反射面は回転体の双曲面を得る形状とされ、タイプ1又は2として知られるウォルター望遠鏡、若しくはその円錐状の近似、或いはカークパトリック・バエズ型のシステムをなすように、微小角入射で望遠鏡の前方に入る前記X線の光線、前記γ線の光線、若しくは高エネルギー粒子のために前記第1の鏡は当該光学機器の入り口側に配置されることを特徴とする請求項19記載の光学機器。
- 前記光学反射素子の前記プレートの2つの連続した第1の反射面の間の前記間隔は、共通の焦点を得るために前記光軸と前記反射面の間の距離の関数として所定の関係に従って変化することを特徴とする請求項20記載の光学機器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0450278A FR2866438B1 (fr) | 2004-02-16 | 2004-02-16 | Element optique reflecteur, son procede de fabrication, et instrument optique mettant en oeuvre de tels elements |
FR0450278 | 2004-02-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005234573A JP2005234573A (ja) | 2005-09-02 |
JP4731178B2 true JP4731178B2 (ja) | 2011-07-20 |
Family
ID=34803489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005039799A Active JP4731178B2 (ja) | 2004-02-16 | 2005-02-16 | 光学反射素子、その製造方法、及びその素子を具備する光学機器 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7321127B2 (ja) |
JP (1) | JP4731178B2 (ja) |
FR (1) | FR2866438B1 (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2866438B1 (fr) * | 2004-02-16 | 2006-08-11 | Agence Spatiale Europeenne | Element optique reflecteur, son procede de fabrication, et instrument optique mettant en oeuvre de tels elements |
WO2007003359A1 (de) * | 2005-07-01 | 2007-01-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Kollektoreinheit für ein beleuchtungssystem mit wellenlängen ≤ 193 nm |
WO2007116639A1 (ja) | 2006-03-23 | 2007-10-18 | National Institute Of Information And Communications Technology | 結像素子、ディスプレイ装置 |
FR2901628B1 (fr) * | 2006-05-24 | 2008-08-22 | Xenocs Soc Par Actions Simplif | Ensemble optique de coques reflectives et procede associe |
US8331197B2 (en) * | 2007-08-07 | 2012-12-11 | Industrial Research Limited | Beam forming system and method |
US8152349B2 (en) * | 2009-01-15 | 2012-04-10 | Microsoft Corporation | End reflector for a flat panel lens |
US8050380B2 (en) * | 2009-05-05 | 2011-11-01 | Media Lario, S.R.L. | Zone-optimized mirrors and optical systems using same |
EP2290420B1 (en) * | 2009-08-28 | 2016-07-27 | European Space Agency | Method for assembling a mirror plate stack |
JP5494062B2 (ja) * | 2010-03-17 | 2014-05-14 | 三菱電機株式会社 | 光学ミラー |
JP5364844B2 (ja) * | 2010-04-28 | 2013-12-11 | シャープ株式会社 | 光学素子および光学システム |
JP2012037440A (ja) * | 2010-08-10 | 2012-02-23 | Tokyo Metropolitan Univ | X線光学系 |
JP5751573B2 (ja) * | 2010-10-21 | 2015-07-22 | 公立大学法人首都大学東京 | 中性子の集光および結像光学系、ならびにその製造方法 |
CZ306934B6 (cs) * | 2011-05-17 | 2017-09-27 | Rigaku Innovative Technologies Europe S.R.O. | Rentgenový optický systém |
CZ304312B6 (cs) * | 2012-01-12 | 2014-02-26 | České Vysoké Učení Technické V Praze Fakulta Jaderná A Fyzikálně Inženýrská | Tepelně tvarované křemíkové plátky pro přesnou rentgenovou optiku |
CZ304298B6 (cs) * | 2012-01-12 | 2014-02-19 | České Vysoké Učení Technické V Praze Fakulta Jaderná A Fyzikálně Inženýrská | Způsob tepelného tvarování křemíkových plátků pro přesnou rentgenovou optiku |
JP5920796B2 (ja) * | 2014-09-03 | 2016-05-18 | 公立大学法人首都大学東京 | X線反射装置の製造方法 |
NL1041110B1 (en) * | 2014-12-17 | 2016-09-22 | Cosine Science&Computing B V | Method for assembling an imaging x-ray optic. |
CN104900292A (zh) * | 2014-12-20 | 2015-09-09 | 中国航天科技集团公司第五研究院第五一三研究所 | 一种基于半导体工艺的平面型龙虾眼聚焦镜头的制备方法 |
CN105093484B (zh) * | 2015-08-27 | 2017-12-22 | 北京控制工程研究所 | 一种多层嵌套圆锥面型x射线掠入射光学镜头 |
JP6846691B2 (ja) * | 2016-04-12 | 2021-03-24 | 東京都公立大学法人 | X線光学系基材の製造方法 |
JP2019139190A (ja) * | 2018-02-15 | 2019-08-22 | ウシオ電機株式会社 | 微細穴光学素子の製造方法、および微細穴光学素子 |
EP3582009A1 (en) | 2018-06-15 | 2019-12-18 | ASML Netherlands B.V. | Reflector and method of manufacturing a reflector |
CN113916910B (zh) * | 2021-10-19 | 2023-07-28 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 一种x射线探测镜片及其制备方法和应用 |
CN116149053A (zh) * | 2023-03-16 | 2023-05-23 | 哈尔滨工业大学 | 一种极紫外波段光同时实现单点聚焦及波前分割的方法 |
CN116381923B (zh) * | 2023-03-17 | 2023-12-12 | 镇江中天光学仪器有限责任公司 | 一种随物镜自调节光焦的手术显微镜 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02145999A (ja) * | 1988-11-28 | 1990-06-05 | Nikon Corp | 多層膜x線反射鏡 |
US20050185306A1 (en) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Marcos Bavdaz | Optical reflector element, its method of fabrication, and an optical instrument implementing such elements |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3543024A (en) * | 1967-02-03 | 1970-11-24 | Frederick W Kantor | Glancing-incidence radiation focusing device having a plurality of members with tension-polished reflecting surfaces |
US3937969A (en) * | 1973-05-07 | 1976-02-10 | G. D. Searle & Co. | Gamma ray camera system with corrugated collimators |
US4054800A (en) * | 1975-07-28 | 1977-10-18 | Engineering Dynamics Corporation | Methods of collimator fabrication |
US4461018A (en) * | 1982-06-07 | 1984-07-17 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Diffraction crystal for sagittally focusing x-rays |
WO1988001428A1 (en) * | 1986-08-15 | 1988-02-25 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Or | Instrumentation for conditioning x-ray or neutron beams |
AUPM597794A0 (en) * | 1994-05-31 | 1994-06-23 | Australian National University, The | Lenses formed by arrays of reflectors |
US6048070A (en) | 1996-02-28 | 2000-04-11 | Raytheon Company | Durable large stroke deformable mirror |
IT1308223B1 (it) | 1999-09-16 | 2001-12-10 | Ce Te V Ct Tecnologie Del Vuot | Metodo per la realizzazione, mediante replica, di specchi per raggi xcon strutture multistrato a film sottili. |
DE19947537A1 (de) * | 1999-10-02 | 2001-04-05 | Philips Corp Intellectual Pty | Gitter zur Absorption von Röntgenstrahlung |
-
2004
- 2004-02-16 FR FR0450278A patent/FR2866438B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-02-16 US US11/059,108 patent/US7321127B2/en active Active
- 2005-02-16 JP JP2005039799A patent/JP4731178B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02145999A (ja) * | 1988-11-28 | 1990-06-05 | Nikon Corp | 多層膜x線反射鏡 |
US20050185306A1 (en) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Marcos Bavdaz | Optical reflector element, its method of fabrication, and an optical instrument implementing such elements |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2866438B1 (fr) | 2006-08-11 |
US7321127B2 (en) | 2008-01-22 |
US20050185306A1 (en) | 2005-08-25 |
FR2866438A1 (fr) | 2005-08-19 |
JP2005234573A (ja) | 2005-09-02 |
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