JP4728027B2 - 光測定装置 - Google Patents

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Description

本発明は、光源の波長および/または周波数に関連する値を測定するための光測定装置に関する。
ある測定応用例は、比較的小さな波長範囲に亘る非常に高いレベルの分解能で、光源の波長または周波数、または関連する変化を測定することを要求する。例には、一般の実験室応用例と同様に、高分解能干渉計型エンコーダ、様々な非接触側面計、電気通信事業における応用例、分光学が含まれる。さらに、多くの応用例において、上記測定は、小さい空間内でかつ低コストで行う必要がある。いくつかの方法は、一般に、分光計、干渉計、および光学フィルタを通した透過を含む波長測定に用いられる。
図1(a)は、光学バンドパスフィルタを用いた波長変化を測定するための簡単な公知の測定システム10を示す。測定システム10は、入力された入射ビーム12、バンドパスフィルタ14、フィルタに通されたビーム16、および出力検出器18を含む。入力された入射ビーム12は、フィルタ14に通され、フィルタに通されたビーム16を生成する。この例において、バンドパスフィルタ14は、無視できない波長透過依存性(すなわち、放射がその波長に従って異なる振る舞いをする)を有する如何なる光学要素を使用することができるように、厳密には、必要ではない。フィルタに通されたビーム16は、出力検出器18によって検出される。
図1(b)は、バンドパスフィルタ14の透過スペクトルを示す。フィルタ14は、その半値全幅(FWHM)波長Δλと同様に、中心波長λによって特徴付けられる。点Pが、波長X1および透過度Y1でのフィルタ曲線20上に示される。点Pは、フィルタ曲線20の急峻な部分上に位置し、図1(a)の出力検出器18によって行われる透過出力における変化を測定することによって、波長の僅かな変化を検知することができる。この方法において、フィルタ曲線20が一旦確立されると、図1(a),(b)の測定システム10は、透過出力すなわち強度に基づいて波長変化を求めるための簡素な構成を提供する。
図2は、図1(a)の測定システム10を超えるある改良を提供する公知の測定システム30を示す。図2に示すように、測定システム30は、ビームスプリッタ34、フィルタ38、および出力検出器42,46を含む。入力された入射ビーム32は、ビームスプリッタ34によって、2つのビーム36,44に分離される。第1ビーム36は、フィルタ38に通され、フィルタに通されたビーム40を生成する。既に述べたように、この応用例において、フィルタ38は、無視できない波長透過依存を有する如何なる光学要素を使用することができるように、厳密には、必要ではない。第2ビーム44の出力は、出力検出器46によって検出される。出力検出器42,46の出力を利用し、フィルタに通されないビームの出力に対するフィルタに通されたビームの出力の比を計算することによって、入射ビーム32における出力の偏差が名目上誤差源として排除される。換言すれば、波長変化と出力源変動とを区別することができない図1(a)の測定システムに対して、図2の測定システム30は、入射ビームにおける偏差を感知しない出力比信号を使用し、より確かに波長変化の差異を見つける。
図3(a)は、波長変化を測定するための代替構成を提供する公知の測定システム50を示す。図2の測定システム30と同様に、測定システム50は、2つの出力検出器間の比を利用し、入射出力依存を排除する。測定システム50は、ビームスプリッタ54、フィルタ58,66、および出力検出器62,70を含む。入力された入射ビーム52は、ビームスプリッタ54によって、ビーム56,64に分離される。第1ビーム56は、フィルタ58に通され、フィルタに通されたビーム60を生成する。フィルタに通されたビーム60の出力は、出力検出器62によって検出される。第2ビーム64は、フィルタ66に通され、フィルタに通された68を生成する。フィルタに通されたビーム68の出力は、出力検出器70によって検出される。
図3(b)は、フィルタ58,66にそれぞれ対応する2つのフィルタ曲線80,82を示す。図3(b)に示すように、フィルタ曲線80は、フィルタ曲線82と重なる。換言すれば、フィルタ58の透過スペクトルは、フィルタ66の透過スペクトルと重なる。点P2が、波長X1および透過度Y2でのフィルタ曲線80上に示され、点P1が波長X1および透過度Y1でのフィルタ曲線82上に示される。波長X1から増加する波長に対して、フィルタ曲線80上の透過出力は減少し、一方、フィルタ曲線82の透過出力は、増す。従って、フィルタ66に対応する透過出力Y1とフィルタ58に対応する透過出力Y2の比は、2つのフィルタ58,66によって分けられる波長透過スペクトルに亘る特定の波長に対して一意である。出力検出器62,70の出力を利用してフィルタに通されたビーム出力の比を計算することによって、入射出力における偏差は、大きく排除されるであろう。さらに、この構成は、波長変化に対して改良された感度を提供する。
しかしながら、上述したそれらの特有の欠点、または以下に述べる他の誤差に対する感受性のいずれかにより、上述したシステムのいずれも、好ましくないセットアップおよび操作制限が強要された場合を除いて、非常に高い精度で波長を検出するのに適さない。従って、そのような好ましくない制限のための要求ではなく、そのような誤差感受性を避ける波長検出システムおよび方法に対する要求がある。
特に、出力源変動を補正する上述したシステムは、入力光源の偏光方位に依存する誤差に敏感である。これは、光源のビームのP偏光およびS偏光成分が、ビームスプリッタまたはフィルタなどの偏光感知透過または反射面に、当該面に垂直でない角度で入射するときに、異なる割合で透過または反射するからである。透過および反射格子は、入力ビームの入射角に関わらず、偏光を感知する。前述した波長検出器に比して、本発明は、そのような誤差がここで述べる実施の形態のいくつかによって提供することができる精度レベルで重要であることを認識し、波長検出器など、光測定装置における偏光依存誤差を減少させるためのシステムおよび方法を提供する。さらに、本発明の様々な実施の形態は、出力変動および環境パラメータ変動などの他の要因による誤差に対して改良されたレベルの誤差減少を提供する。さらに、本発明の様々な実施の形態は、特に、小型で、安定した光測定装置を提供する。
本発明は、上記目的を達成するため、光源からの光の波長関連特性を求めるための光測定装置であって、前記光源からの光が入射し、前記光源から入射した光の第1部分を第1光路に沿って伝送し、前記入射した光の第2部分を第2光路に沿って伝送する格子と、バンドパスフィルタを有する波長依存光学素子と、線形偏光器と、前記第1光路に沿って前記格子の後方に位置決めされ、前記第1光路に沿って伝送される光の前記第1部分を受光する第1光出力測定器と、前記第2光路に沿って前記格子の後方に位置決めされ、前記第2光路に沿って伝送される光の前記第2部分を受光する第2光出力測定器とを備え、前記格子は、前記光源からの光が入射する偏光感知面を有し、前記波長依存光学素子と前記線形偏光器とは、前記第1光路に沿って伝送される光の前記第1部分と前記第2光路に沿って伝送される光の前記第2部分とが入射するように、前記格子と前記第1および第2光出力測定器との間に位置決めされ、前記線形偏光器は、前記第1光出力測定器によって受光される光が前記線形偏光器によって線形的に偏光されるように、かつ前記第2光出力測定器によって受光される光が前記線形偏光器によって線形的に偏光されるように位置決めされることを特徴とする光測定装置を提供する。
文中で示されない限り、用語「偏光感知面(polarization-sensitive surface)」は、異なる割合で入力されたビームのP偏光およびS偏光成分を透過または反射する、または入射ビームに対して出現するビームの偏光状態を変更する透過または反射光学面を意味する。偏光状態は、例えば、入射された偏光状態を混合することによって、または入射された電子フィールドのP偏光およびS偏光成分を区別して吸収することによって、偏光される。偏光感知面は、入力の入射角の関数である偏光感度、すなわち、0(rad)または垂直の入射角で偏光を感知しないが、非垂直入射角で偏光を感知する面を有する。面に対する透過または反射格子の付加は、垂直入射角でも、面に、偏光を感知させる。
文中で示されない限り、ここで用いられる用語「透過(transmitted)」は、伝搬が反射、一般的な透明(透過)材を介した透過、回折、またはビーム伝搬の他の公知の方法によって可能にされるかに関わらず、光路に沿った光ビームの連続した伝搬を意味する。用語「入射角」は、ここでは、光ビームの名目上の方向と光学面に対して垂直な方向との間の角度として使用される。光ビームがその光路に沿った様々な点で僅かに分岐しまたは集中すると、そのような点での名目上の方向は、ビームの中心光線のおおよその方向、ビームの概算の強度−重み付け平均方向などとして推定可能である。ここで、使用される用語「第1光路」、「第2光路」などは、一般に、「第1光出力測定器」、「第2光出力測定器」などによって受光される光線によって追跡される、全体路または全体路の一部を意味する。従って、「第2光路」は、その一部が第1光路から分離または分けられるまでは述べられないけれども、第1および第2光路は、一般に、それらの「源」線がいずれで重なっても、共存しまたは重なると見なされる。
本発明の様々な実施の形態において、光源からの波長関連特性を求めるための光測定装置が提供される。様々な実施の形態において、光測定装置は、波長依存光学素子(例えばバンドパスフィルタ)、光学出力測定検出器(例えば光検出器)、偏光感知反射および/または透過面、および1つ以上の線形偏光器を含む。少なくとも第1光路ビームは、波長依存光学素子、偏光感知反射および/または透過面、および1つ以上の線形偏光器を含む第1光路に沿って伝送され、第1光出力測定器に到達する。偏光感知反射および/または透過面は、光ビームを受光し、それを第1光路に沿って伝送する。波長依存光学素子は、偏光感知反射および/または透過面の前または後の第1光ビームの光出力を修正し、第1光ビームは、第1光路に沿った光出力測定器によって受光される。1つ以上の線形偏光器は、第1光出力測定器の前の第1光路に沿って選択された位置に置かれ、実質的に偏光依存誤差を排除する。例えば、線形偏光器が、波長依存光学素子の前または後に置かれてもよいし、さらに、例えば、2つ以上の線形偏光器が、必要ならば、波長依存光学素子の前および後の両方に置かれてもよい。
本発明の1つのアスペクトによれば、1つ以上の線形偏光器は、偏光感知反射および/または透過面(複数の面)に入射したビーム(複数のビーム)が、最初の入力光ビームの偏光状態に関係なく、偏光の実質的に固定された状態で光路に沿って受光および/または伝送されることを保証する。従って、そうでなければ原因になるかもしれない偏光依存誤差は、十分に減少されまたは排除される。
様々な実施の形態において、光ビームを受光した偏光感知反射および/または透過面は、例えばビームスプリッタまたは格子などの第1光路に沿って含まれる波長依存光学素子またはビーム分割素子の透過面である。
様々な実施の形態において、光ビームを受光する偏光感知反射および/または透過面は、非垂直入射角で配置されたビームスプリッタのビームスプリット面である。1つの実施の形態において、光測定装置は、さらに、第2光出力測定器を含み、ビームスプリッタは、第2光路に沿って伝送されて第2光出力測定器に到達する第2光ビームを提供する。他の実施の形態においては、第2波長依存光学素子が設けられ、該第2波長依存光学素子は、第2光ビームを受光し、それが第2光出力測定器に到達する前に第2光ビームの光出力を修正する。
1つの実施の形態において、光測定装置は、波長依存光学素子(例えばバンドパスフィルタ)、および光出力測定器(例えば光検出器)を含む。少なくとも1つの光ビームは、波長依存光学素子へ非垂直角で入射し、光ビームは、波長依存光学素子を抜けて、光路に沿った光出力測定器によって受光される。光測定装置は、さらに、光出力測定器の前方の光路に沿って選択された位置に置かれる1つ以上の線形偏光器を含む。例えば、線形偏光器は、波長依存光学素子の前方または後方に置かれてよいし、さらに、例えば、2つ以上の線形偏光器が、必要ならば、波長依存光学素子の前方および後方の両方に置かれてもよい。
本発明の他のアスペクトによれば、光測定装置は、さらに、波長依存光学素子の前方に光路に沿って置かれる、格子または部分反射および部分透過ビームスプリット面などのビーム分割素子を含む。ビーム分割素子は、ビーム分割素子へ入射した光ビームを、第1および第2光ビームへ分け、第1および第2光ビームの少なくとも1つは、波長依存光学素子へ非垂直角で入射する。光測定装置は、さらに、第1および第2光ビームを受光し、対応する第1および第2信号を出力するための第1および第2光出力測定器を含むようにしてもよい。様々な実施の形態において、第1および第2信号を受信して処理し、第1および第2信号に基づいて信号比を求める信号処理回路が設けられている。本発明の様々な実施の形態において、信号比は、光測定装置へ入力された光の少なくとも1つの光波長および光周波数を示す。
1つの実施の形態において、単一の線形偏光器は、ビーム分割素子の前に置かれる。他の実施の形態において、入力光は、固定された偏光方向を有し、同じ偏光方位を有する第1および第2線形偏光素子は、ビーム分割素子の後に、第1および第2光ビームのそれぞれの光路に沿って位置決めされる。さらに他の実施の形態において、入力光は、変化する偏光方向を有し、第1および第2線形偏光器は、同じ偏光方位を有し、この偏光方位は、光ビーム分割素子へ入射した光ビームの方向とビーム分割素子のビーム分割面(または平面)(光ビームが非垂直入射角で入射する)に対して垂直な方向との両方に平行である面に対して、直交または平行のいずれかに合わせられる。第1および第2線形偏光器は、ビーム分割素子の後方および第1および第2光出力測定器の前方のどこにでも、第1および第2光ビームのそれぞれの光路に沿って位置決めされてもよい。ビーム分割面が格子面でない場合、一般に、入射光ビームの方向とビーム分割面に対して垂直な方向との両方に平行な面に対して直交または平行のいずれかである線形偏光器の方位は、第1および第2光ビームに出現するSおよびP偏光成分を混合することを避けるように、これらの偏光器を位置合わせする。偏光器が同様に位置合わせされ、SおよびP偏光成分が混合されていないとき、すなわち、第1および第2光ビームがほぼ100%のS偏光またはほぼ100%のP偏光になるように偏光器が位置合わせさられているとき、第1および第2信号に基づいた信号比は、入力光の偏光方向を感知しない。
本発明のさらに他のアスペクトによれば、第1および第2波長依存光学素子が提供される。第1波長依存光学素子は、第1光ビームの光路に沿って置かれ、一方、第2波長依存光学素子は、第2光ビームの光路に沿って置かれる。前述したように、1つの実施の形態において、単一の線形偏光器は、ビーム分割素子の前方に置かれる。他の実施の形態において、入力光は、固定された偏光方向を有し、同一の偏光方位を有する第1および第2偏光器は、ビーム分割素子の後方に、第1および第2光ビームのそれぞれの光路に沿って置かれる。他の実施の形態において、入射光は、変化するまたは固定された偏光方向を有し、第1および第2線形偏光器は、同じ偏光方位を有し、この偏光方位は、光ビーム分割素子へ入射した光ビームの方向とビーム分割素子のビーム分割面(または平面)(光ビームが非垂直入射角で入射する)に対して垂直な方向との両方に平行である面に対して、直交または平行のいずれかに合わせられる。第1および第2線形偏光器は、ビーム分割素子の後方および第1および第2光出力測定器の前方のどこにでも、第1および第2光ビームのそれぞれの光路に沿って位置決めされてもよい。
本発明は、また、光の偏光の方位と実質的に依存しない方法で光源からの光の波長関連特性を求めるために使用可能な少なくとも1つの信号を供給する方法を提供する。この方法は、一般に、5つのステップを含む。第1のステップは、先に示したタイプの少なくとも1つの偏光感知面を含む第1光路に沿って光源からの第1光ビームを入力する。第2のステップは、第1光ビームを受光し、第1光路に沿って第1波長依存光学素子からの第1のフィルタに通されたビームを出力する。第3のステップは、第1光路に沿って置かれた第1光出力測定器を含む第1波長依存光学素子によって、第1のフィルタに通されたビームを受光する。第4のステップは、第1光出力測定器からの第1検出信号を出力する。最後に、第5のステップは、第1光ビームおよび/または第1のフィルタに通されたビームに含まれる光を線形に偏光する。様々な実施の形態において、第1光ビームおよび/または第1のフィルタに通されたビームに含まれる光を線形に偏光する第5のステップは、第1光出力測定器の前方にある第1光路に沿って様々な位置で発生する。本発明の方法は、第1光ビームおよび/または第1のフィルタに通されたビームに含まれる光を線形に偏光するステップを含み、光の波長関連特性を求めるために用いられる1つ以上の信号におけるいかなる偏光依存誤差を十分に減少しまたは排除する。
本方法の他の実施の形態において、第1のステップは、第1光ビームから第2光ビームを派生し、この第2光ビームは、第2光路に沿って導かれる。第2のステップは、さらに、第2光ビームを受光し、第2のフィルタに通されないビームまたはフィルタに通されたビームを第2光路に沿って第2波長依存光学素子から出力する。第3のステップは、さらに、第2光路に沿って置かれた第2光出力測定器を含む第2波長依存光学素子によって出力される第2のフィルタに通されないビームまたはフィルタに通されたビームを受光する。第4のステップは、さらに、第2光出力測定器から第2検出信号を出力する。最終的に、第5のステップは、さらに、第1光ビームおよび/または第1のフィルタに通されたビームと同様に、第2のフィルタに通されないビームおよび/または第2のフィルタに通されたビームに含まれる光を線形に偏光し、第1および第2光出力測定器の前方にある第2光路に沿って様々な位置で発生する。
本実施の形態の1つの変形において、この方法は、ビーム分割素子の前方にある線形偏光器を使用して第1のステップの前に第5のステップを実行する。本実施の形態の他の変形において、入射光は、固定された偏光方向を有し、本方法は、第1のステップ後に、同じ偏光方位を有し、第1および第2光ビームのそれぞれの光路に沿って位置決めされた第1および第2線形偏光器を使用する第3のステップの前に、第5のステップを実行する。本実施の形態の他の変形において、入力光は、変化するまたは固定された偏光方向を有し、本方法は、第2の光ビームを派生するのに使用されるビーム分割素子へ入射した第1光ビームの方向とビーム分割素子のビーム分割面に対して垂直な方向との両方に平行な面に対して直交または平行に合わせられる第1および第2線形偏光器を使用して第1のステップの後に第3のステップの前に第5のステップを実行する。
方法の様々な実施の形態において、第1光路に沿った第1波長依存光学素子および第2光路に沿った第2波長依存光学素子は同一の素子である。本方法の様々な実施の形態において、少なくとも1つの偏光感知透過および/または反射面は、第1光ビームに対して非垂直入射角で配置され、少なくとも1つのビームスプリッタ面および波長依存光学素子の面を含む。
本発明によれば、偏光依存誤差を減少させることができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
一般に、フィルタおよび/またはビーム分割素子の面を含む偏光感知反射および/または透過面によって伝送される入射光源出力の一部は、その入射角と光源の偏光状態(すなわち、そのP偏光成分とS偏光成分との間の関係)との両方によって影響を受ける。図4は空気/ガラス境界面を通過した光ビームの透過度がいかにして入射角に基づいて、また光ビームの偏光状態に基づいて変化するかを示す図であり、ガラスは、1.57の屈折率を有する。透過曲線410,412は、100%のP偏光された入射光ビーム、100%のS偏光された入射光ビームにそれぞれ対応する。曲線414は、透過曲線410,412間の透過の差分を示す。垂直入射角(0rad)で、光の透過特性は、P偏光およびS偏光された光410,412の両方に対して同じである。しかしながら、入射角が増すと、P偏光された光の透過特性は、S偏光された光の透過特性と異なる。
また、P偏光された光の透過および回折特性は、入射角に関わらず、透過または反射格子に対して、S偏光された光の透過および回折特性と異なることは、知られている。そのような効果は、簡単に、「Chapter 9 of Diffraction Grating Handbook, 5th Edition, by Christopher Palmer, published by Thermo RGL, Richardson Grating Laboratory, Rochester, New York (2002), which is incorporated herein by reference.」に述べられている。
よって、反射および/または透過面への非零入射角を有する光に関して、および、いかなる入射角で透過または反射格子に入射する光に関して、光の全体透過度は、光偏光状態すなわちP偏光およびS偏光成分の間の関係に依存する。従って、入射角の変化する通常未知の偏光状態は、そのような成分および/または配列を使用する様々な波長検出器におけるわずかな測定誤差の原因となる。余分な測定誤差は、従来の波長検出器の様々な成分の操作における変動する環境パラメータ(温度、湿度など)の影響により生じる。
図5(a)は、変動する環境パラメータに関わらず、減少された誤差で波長または波長変化を測定するための改良された構成を有する測定システム200を示す。測定システム200は、ビーム偏向素子として動作する格子210、フィルタ構造220、検出器250,255、および信号処理回路260を含む。入射光202が、格子210によって、透過ビーム212および+/−1次角を成すビーム214,216に分離される。透過ビーム212および1次角を成すビーム214は、フィルタ構造220(または無視できない波長透過依存性を有する他の素子)を通過し、フィルタに通されたビーム232および角度を成すフィルタに通された236にそれぞれなり、異なるフィルタ経路から2つのフィルタに通された信号を提供する。フィルタに通されたビーム232は、検出器250によって受光され、一方、角度を成すフィルタに通されたビーム236は、検出器255によって受光される。検出器250および検出器255は、それぞれ、出力252,257を信号処理回路260に対して提供する。単一のフィルタ構造220の使用は、各ビームに対して異なるフィルタを使用する図3(a)に示す従来のシステムを超える明確な効果を提供する。具体的には、単一のフィルタ構造を通した各光路のフィルタ特性の温度感度は、ほぼ同じ、または少なくとも非常に相互に関連する。その結果、温度変化および他の環境影響による各光路に沿った残存のフィルタ感度を、高い精度で確実に補正することができる。さらに、部品コストおよび測定システム設計の複雑さが減少される。図5(a)に示す実施の形態の設計方針に基づいたいくつかの例示的なシステム構成は、係属中の米国出願No.10/251,449(出願日2002年9月19日)に開示される。
図5(b)は、図5(a)の検出器250,255に対応する透過曲線270,280を示す透過スペクトル図である。具体的には、透過曲線270は、入射角0(rad)での入射ビームに基づいたフィルタに通されたビーム232に対応し、一方、透過曲線280は、非零の入射角(rad)での入射ビームに基づいた角度を成すフィルタに通されたビーム236に対応し、図示するように、全体的に、短い波長領域へ移行された透過曲線270に一致する。図5(b)は、透過曲線270,280の所望の操作領域290を示し、ここで、両曲線270,280は、実質的に線形で、交差点295で一致することが望ましいが、必ずしもそうとは限らない。操作領域290は、信号曲線270,280が重なる領域であり、その結果、信号源波長が同一のフィルタ構造220を通した2つの光路に沿って2つの有用な出力信号を生じる。好ましくは、信号曲線270,280は、図示するように、互いに、重なり、最大光透過度の約50%(交差点295)で交差し、有用操作領域290を保証する。操作領域290が操作領域290のいかなる波長に対しても線形領域であると仮定すると、2つの信号S1,S2の合計は、名目上一定になるであろう。名目上完全に制御された操作状態で、一方の信号曲線は、高精度で波長を求めるのに使用され得る。しかしながら、各信号における変化は、入射ビームの出力から、すなわち検出器の名目上のゲインにおける変化から生じる。多くのそのような変化は、測定システムにおける両信号に比例する。従って、操作領域290におけるいかなる波長も、同相モード出力およびゲイン変化に関して信号を標準化することによって、正確に求めることができる。例えば、各信号における同相モード出力およびゲイン変化の影響は、波長を結合した信号比の関数として求めることによって克服される。たとえ変化が両信号において厳密に比例しなくても、較正手順は、信号に適用され、その結果、同相モード出力およびゲイン変化はやはり排除可能である。
図6は、光源(図示せず)からの光の波長関連特性(例えば波長、波長変化、周波数、または周波数変化)を求めるための本発明に従って形成された光測定装置600Aの1つの実施の形態を示す。この実施の形態の光測定装置600Aは、以下に述べるように、偏光器の使用を除いて、上記図5(a)を参照して述べてシステムと同様である。具体的には、装置600Aは、無視できない波長透過依存性を有するバンドパスフィルタまたは他の素子など、1つ以上の波長依存(すなわち波長感受)光学素子602を含む。装置600Aは、また、光検出器などの1つ以上の光出力測定器(以下、光検出器という)604,606を含む。装置600Aは、さらに、図示するように、波長依存光学素子602の前すなわち入射側に置かれる線形偏光器610を含む。ここで、用語「Xの前(prior to X)」は、光路に沿ってXの入射側に設けられる素子の相対位置を呼ぶのに使用される。図6に示すようなこの構成において、光源(図示せず)からの入射光ビーム612は、線形偏光器610によって、偏光の実質的に固定された状態を有する(すなわち、P偏光およびS偏光成分の固定された比率を有する)偏光ビーム614へ偏光される。図示の光測定装置600Aは、さらに、線形偏光器610と波長依存光学素子602との間に置かれ、偏光ビーム614を透過ビーム616と角度を成すビーム617とに分ける格子615を含み、波長依存光学素子602を介してフィルタに通された両ビームは、それぞれ、光検出器604,604によって、受光される。光検出器604,606からの信号618,619は、信号を処理し、光源からの光の波長関連特性を求めるための電子回路を含む信号処理回路620によって受信される。例えば、2つの信号の比が、光の波長または波長変化を求めるために計算される。
線形偏光素子610の包含は、ビーム614が格子615に入射することを保証し、それによって、格子615によって分けられ、波長依存光学素子602へ入射する透過ビーム616および角度を成すビーム617は、最初の入射光ビーム612の偏光状態に関わらず、偏光の実質的に固定された状態を有する。よって、最初の入射光ビームの偏光状態における変化は、光検出器604,606から出力された信号618,619に対して、光出力の比例変化を導入する。従って、制御されておらず、そして知られていない偏光依存誤差を、十分に、減少または排除することができる。
本発明による偏光依存誤差を減少させるための適切な偏光器(1または複数)を選択して配置するためのいくつかの設計考慮を述べる。一般に、フィルタ(または無視できない波長透過依存性を有する他の素子)などの波長依存素子の透過範囲の上縁または下縁(すなわちバンドパス縁)に沿って変化する透過度(%)は、波長を変調することなく、特定の波長を敏感に選別する、変化する透過出力を生じる。スペクトルの青端に向けた透過バンドパス縁の範囲における波長の場合、非垂直入射角で使用される狭バンドパス誘電フィルタに関して、PおよびS偏光のそれぞれの透過曲線TFPおよびTFSは、それらが互いに波長Δ分移動されたように扱うことができる。次の式が単一の線形モデルに従って導き出される。
Figure 0004728027
合計入射光出力IをそのSおよびP偏光成分に分割することは、以下を生成する。
Figure 0004728027
ここで、εおよびεは、それぞれ、PおよびS偏光状態における合計入射光出力の割合である。偏光の固定された状態のビームに関して、割合εおよびεは、一定である。フィルタへ入力されるビームがビーム分割素子(例えば図6または図16を参照)から伝送されると、フィルタ透過光出力信号Sは、入力偏光器がない場合、次の式によって与えられる。
Figure 0004728027
ここで、TBSは、フィルタへ伝送される光に対するビームスプリッタ透過係数であり、σは信号Sを提供する検出器の検出感度である。
ビーム分割素子からの残存光(フィルタへ伝送されない)に基づいたフィルタに通されず、直接入力光出力に比例する信号S=(1−TBS)σIが与えられると、標準化された信号Sは、次の式によって与えられる。
Figure 0004728027
ここで、σが信号Sを提供する検出器の検出感度である。標準化された信号Sは、入力ビーム出力変動に依存しないが、偏光変化δεに対して波長読取誤差δλを生じ、波長読取誤差δλは、次の式によって与えられる。
Figure 0004728027
δλ=0.2nm、δε=0.10に対して、δλ=0.02nmが計算され、これは、高精度波長測定装置において重要な誤差を表す。偏光変化σεは、式(4)に示される初期または較正値εに対して固定または動的変化である。様々な実施の形態において、初期値εは、初期、基準または較正初期、基準または較正信号測定値が光波長との関係が確立されるとき、意図的にまたは暗黙に確立される。しかしながら、誤差δλは、偏光器が波長依存素子によって伝送された光ビームの偏光状態を固定するために用いられるとき、ε≒0のように、消される。
光ビームが波長依存素子へ入る前または波長依存素子を出た後のいずれかで、偏光器で光ビームの偏光を固定することは、結果的に生じた固定偏光ビームにおいて同じ光出力信号を生成する。すなわち、光路に沿ったこれらの2つの光学素子の順序は、置き換え可能であり、同じ誤差減少が上述した解析における信号SFに対応する信号を提供する光測定装置構成により提供される。波長依存素子の偏光感度から、より一般的には光ビームを伝送し、非垂直入射角で受光する光学素子のいかなる表面からも生じる前述の強調された信号変化は、光ビームを伝送し、いかなる入射角でも受光する回折格子と同様に、同様の偏光を導くであろう。従って、臨界光信号に沿っていかなる非垂直表面でもまたはいかなる偏光器でも伝送される光の偏光は、本発明により様々な実施の形態において、同様の方法で固定される。
(4)式に示す標準化された信号を有効にするために上述したように初期、基準、または較正信号測定値に従いながら、本発明による上述の誤差減少を提供するため、信号Sは、入力光偏光が変化するならば、信号Sのように同じ割合で変化する必要がある。様々な実施の形態において、本発明による波長測定装置は、入力光偏光が変化しない(それが未知であるかもしれないが)応用例において使用され、そのような実施の形態において、波長測定装置の構成は、そのような比例を保証するために、特定の偏光方位を含む必要はない。しかしながら、様々な他の実施の形態において、変化する入力光偏光の場合にそのような比例を保証するために、信号Sを求めるのに使用される光は、信号Sを求めるのに使用されるものと同様に、同じ偏光方位で固定され、偏光方位は、信号S,Sに基づいた信号比が入力光の偏光方向に対して不感知である。
様々な実施の形態において、これは、同じ偏光で、波長測定装置へ入力される全ての光を偏光する偏光器を設けることによって達成される。様々な他の実施の形態において、複数の同様の偏光器、または同じ偏光器の一部は、信号S,Sを求めるために用いられるそれぞれの光路に沿って同じ偏光方位を固定するのに使用される。ビーム分割素子が信号S,Sを求めるために用いられる2つの光路を提供するように非垂直入射角で用いられるとき、偏光方位は、ビーム分割素子へ入射する光ビームの方向とビーム分割素子のビーム分割面すなわち平面に対して垂直な方向との両方に平行な面に対して、直交または平行のいずれかになるように調整される。偏光器は、ビーム分割素子の後方および信号S,Sを提供するために使用される各光出力測定器の前方のいずれにも、信号S,Sを求めるために使用されるそれぞれの光路に沿って位置決めされてもよい。ビーム分割素子が格子面でない場合、一般に、入射する光ビームの方向とビーム分割面に対して垂直な方向との両方に平行な面に対して、直交または平行のいずれかである線形偏光器の方位は、信号S,Sを求めるために使用される各光光路に沿って伝送される光に出現するSおよびP偏光成分の混合を避けるように合わせられる。偏光器が同様に置かれ、SおよびP偏光成分が混合されていないとき、すなわち、第1および第2光ビームがほぼ100%のS偏光またはほぼ100%のP偏光になるように偏光器が位置合わせされるとき、標準化された信号Sは、入力光の偏光方向に不感知である。様々な応用例において使用可能な様々な代替構成について以下に述べる。
光の波長関連特性を求めるための光測定装置における1つ以上の偏光器の使用は、偏光変化すなわち変位が、光源に関連する要因に限定されることなく、様々な源によって引き起こされるから、特に有利である。偏光変化のいくつかの潜在的な源は、レーザ出力偏光(例えば、モードホップまたはモード競合による)、光列成分での非垂直入射角(例えば、時間および温度とともに変化する、ミラー、ビームスプリッタなどの誘電体コーティングからの位相シフト)、および偏光維持単一モードファイバの使用(例えば、ファイバの出力で楕円偏光状態を生じる不完全な入力結合および/またはファイバ内の偏光モード結合で、両方とも、機械的または熱的動揺により時間とともに変化する)を含むが、これに限定されることはない。
様々な偏光器は、それらが偏光されていない光から偏光された光へ変換することができる限り、本発明に従って構成される光測定装置に使用されてもよい。いくつかの適切な偏光器は、線形偏光フィルム(例えば、調整された長鎖ポリマー、プラスチックシートまたはガラス窓間に積層されたダイクロイックプラスチックシート)、金属薄膜(例えば、金属回転楕円面に調整された、ガラス間に蒸着された)、ダイクロイック線形偏光器(例えば、Polarcor(登録商標))、薄膜偏光器、ワイヤ格子、偏光キューブビームスプリッタ(例えば、固定または光学的に接触するプリズム間に蒸着された誘電フィルム)、およびグラントンプソンカルサイトまたは他の複屈折水晶プリズムを含むが、これに限定されるものではない。
図13は、光の透過度およびその波長の間の関係を示すバンドパス光学フィルタに対する2つの透過曲線を示すグラフである。具体的には、本図は、入射角π/18(rad)を有する光に対する、P偏光透過曲線710およびS偏光透過曲線712を示す。曲線710,712間の差分は、曲線714によって示される。図14は、同様のグラフであるが、光の入射角は、π/12(rad)である。図13と図14との比較は、入射角が増すと、光透過度における偏光状態の変化の効果が増し、よって、偏光状態変化による誤差を測定する可能性が増すことを示す(上記図4を参照)。従って、本発明による、光測定装置における線形偏光器の包含は、光測定装置の光路に沿ったいかなる反射および/または透過面(例えば、バンドパスフィルタ面またはビームスプリッタ面)上への光の入射角の増加とともに、より重要になる。
図15は、単一のバンドパス光学フィルタを通した光の波長測定誤差とS偏光成分割合との間の関係を示すグラフである。「0」のS偏光割合は、純粋にP偏光された光ビームを示し、一方、「1」のS偏光割合は、純粋にS偏光された光ビームを示す。P偏光器が使用されていないときに生じる波長測定誤差は、左側垂直軸に示され、一方、本発明によりP偏光器が使用されているときに生じる誤差は、右側垂直軸に示される。左と右垂直軸を比較することによって示されるように、P偏光器の使用は、係数「100」によって、波長測定誤差を減少させ、この係数「100」は、この計算において使用される偏光器の消光比に等しい。偏光変化から生じる誤差を最小にするために、最大可能消光比を有する偏光器を使用することが好ましい。また、同様のグラフが、生成され、光の波長測定誤差とP偏光成分割合との間の関係を示すようにしてもよい。この場合、100:1の消光比を有するS偏光器の使用は、また、係数100によって波長測定誤差を減少させることが予期される。従って、本発明の様々な実施の形態において、S偏光器(1または複数)またはP偏光器(1または複数)は、同じ波長測定誤差減少を実質的に達成するのに使用される。しかしながら、いくつかの応用例において、S偏光器(1または複数)またはP偏光器(1または複数)のいずれかは、他方より有効であり、よって、例えば使用される特定の素子(格子、ビームスプリッタなど)の光学特性に依存する波長測定誤差減少の点に関して、好ましい。これらの場合、より有効な偏光器は、様々な実施の形態において、実験またはシミュレーションによって求められそして/または検証される。
線形偏光器が偏光感知反射または透過面の前の光路における入力光を全て偏光するように位置決めされているこれらの実施の形態に関して、偏光器は、装置性能上の有害な影響がないSおよびP偏光成分を混合するように位置合わせされる。しかしながら、線形偏光器がビーム分割表面などの偏光感知透過または反射面の後方に位置決めされているそれらの実施の形態に関して、異なる信号路に沿って異なって釣り合わされたSまたはP偏光成分を混合することを避けるために、SまたはP偏光方向のいずれかに沿って同じ方位を有する全ての偏光器を位置合わせすることが好ましい。偏光感知透過または反射面により異なる信号路に沿って生じる、異なって偏光されたSまたはP成分を混合することは、上述したように、入力光の偏光を感知する信号比を有する信号を生成する。前述したように、入射光ビームの方向と入射面の非垂直角に対して垂直な方向との両方に平行な平面に対して直交または平行のいずれかである偏光器方位を調整することは、要求通り、SまたはP偏光方向の1つに沿った偏光器方位を提供する。同様に、垂直入射角で(例えば光分割素子として)使用される回折格子の溝に沿うまたは直交する偏光器方位を調整することは、回折効率が大きなSまたはP偏光依存を有するとき、要求通り、SまたはP偏光方向の1つに沿った偏光器方位を提供する。
図7は、光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置600Bの代替例を示す。この実施の形態、および後に示す他の実施の形態において、図6を参照して既に述べたと同様の要素は、同じ名称および番号が付けられ、そして、各実施の形態における固有の変形は、詳細に述べられるであろう。図7において、光測定装置600Bは、格子615bが線形偏光器610から受光された偏光ビーム614を2つの異なった角度を成すビーム621,622に分けるように構成され、配置されることを除いて、図6の光測定装置600Aと実質的に同様である。2つの異なる角度を成すビーム621,622は、それぞれ、偏光器610および格子615bの共通光軸623に対して、角度α,βを有する。2つの角度が互いに異なる限り、光検出器604,606からの信号618,619は、互いに一致せず、よって、光の波長関連特性を求めるために、信号処理回路620によって意味のある方法で処理されてもよい。図6、図7および以下の同様の図におけるいくつかの素子および面は、記述または文中の前後関係によって示されていない限り、図示されるのみである。例えば、光出力器604,606における窓の面での潜在的偏光依存効果を避けるために、様々な実施の形態においてそれらは、受光光に対して垂直になるように位置合させされる。同様に、ここでは連続単一素子として示されている様々な偏光器を、その代わりに、同様に位置合わせされている分離偏光器または偏光器の分離セグメントとすることができ、また、必要ならば、入射光に対して垂直になるように位置合わせされる。
図8は、光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置600Cのさらに他の代替例を示す。この実施の形態において、光測定装置600Cは、線形偏光器610が入射光ビーム612を2つの異なった角度を成すビーム627,628へ分ける格子615bと波長依存光学素子602との間に位置決めされることを除いて、図7の光測定装置600Bと実質的に同様である。この構成は、格子615bの動作すなわち回折が取るに足らない偏光依存性(または偏光感受性)を有するときに、または入力光の偏光方位が固定されている(しかし角度は未知である)ときに、使用に適する。偏光器が格子溝に対して平行または直交して位置合わせされると、この構成は、また、回折効率が偏光に依存する格子を用いるとき、すなわち格子615bが十分な偏光依存性を有するときに、使用に適する。図8において、2つの異なった角度を成すビーム627,628は、線形偏光器610を通して進み、固定された線形偏光の2つのビームになり、そして、異なる入射角度で波長依存光学素子602へ入射する。波長依存光学素子602からのフィルタに通されたビームは、それぞれ、光検出器604,606によって受光され、その後、光の波長関連特性を求めるために、信号処理回路620によって結合され処理される。
図9は、光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置600Dのさらに他の代替例を示す。この実施の形態において、光測定装置600Dは、線形偏光器610および波長依存光学素子602の位置が取り替えられていることを除いて、図8の光測定装置600Cと実質的に同様である。よって、格子615bからの2つの異なった角度を成す627,628は、まず異なる入射角で波長依存光学素子602へ入射し、波長依存光学素子602からのフィルタに通された630,631は、線形偏光器610へ入射し、偏光される。線形偏光器610からの偏光されたビームは、それぞれ、光検出器604,606によって受光され、その後、光の波長関連特性を求めるために、信号処理回路620によって、結合され処理される。線形偏光器610が波長依存光学素子602の後方に置かれるこの構成は、格子615bおよび波長依存光学素子602の動作が取るに足らない偏光依存性(または偏光感受性)を有するときに、または入力光の偏光方位が固定されている(しかし角度は未知である)ときに、使用に適する。偏光器が格子溝に対して平行にまたは直交して位置合わせされると、この構成は、また、回折効率が偏光に依存する格子を用いて、すなわち格子615bが十分な偏光依存性を有するときに、使用に適する。本発明のいくつかの実施の形態において、例えば、経済的に有用な偏光器の品質に依存する場合、2つの線形偏光器を置く、すなわち、一方を波長依存光学素子602または格子615bの前に、そして他方を波長依存光学素子602の後に置くことは有益であるかもしれない。
図10は、光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置600Eのさらに他の代替例を示す。この実施の形態において、光測定装置600Eは、2つの異なった角度を成すビーム627,628の両方によって共用される波長依存光学素子602および線形偏光器610が2つのセットに取り替えられ、一方は第1波長依存光学素子602aおよび第1線形偏光器610aを有し、他方は第2波長依存光学素子602bおよび第2線形偏光器620bを有することを除いて、図9の光測定装置600Dと実質的に同様である。前述したように、格子615bからの2つの異なった角度を成すビーム627,628は、それぞれ、波長依存光学素子および線形偏光器の対応するセットによってフィルタに通され、偏光され、光検出器604,606によって受光される。そして、2つの検出器604,606からの信号は、光の波長関連特性を求めるために、信号処理回路620によって、結合され処理される。
図11は、光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置600Fのさらに他の代替例を示す。この光測定装置600Fは、測定され処理されるべき4つの分離光ビームを生成する付加格子を含むことを除いて、図6の装置600Aと構成上同様である。この構成は、米国特許出願No.10/251,449に記載されているように、測定装置の精度の向上を許容する。
光測定装置600Fは、線形偏光器610、第1回折格子410、光学的に透明な基板420、第2回折格子430、波長依存光学素子(例えばフィルタ構造)440,445、および4つの光検出器450,451,452,453を有する光検出器アレイを含む。これらの部品の全ては、ハウジング470内に収容される。入射光ビーム402は、線形偏光器610によって偏光され、第1格子410によって入射0次ビーム412と入射1次ビーム416に分けられる。透明な基板420を通過した後、入射0次ビーム412は、第2格子430によって分けられ、フィルタに通されたビーム432および角度を成すフィルタに通されたビーム434を含む第1のフィルタに通されたビーム対431を提供する。同様に、入射1次ビーム416は、第2格子430によって分けられ、フィルタに通されたビーム436および角度を成すフィルタに通されたビーム438を含む第1のフィルタに通されたビーム対435を提供する。図11に示す実施の形態において、回折格子410,430は、一方が反転されてブレーズ角が図11に示すように概略操作可能方向に沿って4つの放射ビーム432,434,436,438を生成することを除いて、同じ仕様で製作されたブレーズ格子である。1つの実施の形態において、回折格子410,430は、0次および1次回折ビームにおける等しい効率の放射ビームを生成し、一方、そのような回折格子に対して一般に知られているように他の次数を抑える。そのような格子ピッチなどの格子パラメータは、図11には示されていない。4つの放射ビーム432,434,436,438は、それぞれ、4つの光検出器450,451,452,453によって受光され、4つの光検出器からの信号は、光の波長関連特性を求めるために、信号処理回路(図示せず)によって、結合され処理される。
光測定装置600Fからの信号、および/またはここで含まれる様々な他の光測定装置の実施の形態からの信号を処理するのに使用可能な各種信号処理方法および式は、米国特許出願No.10/251,449に開示されている。
図12は、光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置600Gのさらに他の代替例を示す。本実施の形態において、光測定装置600Gは、波長依存光学素子(例えばフィルタ)602が格子615からの偏光されかつ透過されたビーム616のみを垂直入射角で受光し透過するように設けられていることを除いて、図6の装置600Aと構成上同様である。線形偏光素子610は、格子615に入射するビームが固定された偏光状態を有することを保証するから、格子615の偏光依存により別に生じるいかなる測定誤差も、減少されまたは実質的に排除される。波長依存光学素子602からの偏光されかつフィルタに通されたビーム625は、光検出器604によって受光される。他方、偏光されかつ角度を成すビーム617は、波長依存光学素子602を通過することなく進み、他の光検出器606によって受光される。前述したように、2つの光検出器604,606からの信号は、光の波長関連特性を求めるために、後に、信号処理回路620によって結合され処理される。図12において、光検出器606は、全ての面が全ての垂直入射角で入力されるビームを受光する1つの実施の形態を強調するように明示されている。しかしながら、そのような構成において、格子615は、前述したように、やはり偏光感知面である。よって、本発明による偏光器610の使用は、やはり光測定装置600Gにおける好ましくない偏光依存誤差を減少しそして/または排除するために有益である。
図16は、ビームスプリッタ915を含み、光源(図示せず)からの光の波長関連特性(例えば波長)を求めるための本発明に従って構成される光測定装置900Aのさらに他の実施の形態を示す。本実施の形態の光測定装置900Aは、線形偏光器910が本発明の原理による構成に付加されていることを除いて、上記図2を参照して述べたビームスプリッタを含む従来のシステムと同様である構成を含む。具体的には、装置900Aは、ビームスプリッタ915の前方に置かれた線形偏光器910を含み、線形偏光器910は、光測定装置900Aの光路に沿って含まれる様々な面に対して制御された偏光方位を有する偏光されたビーム914を生成する。ビームスプリッタ915へ入射された偏光されたビーム914は、図示されるように、0(rad)の入射角の透過ビーム916と、角度を成すビーム917とに分割される。透過ビーム916は、波長依存光学素子902によってフィルタに通され、フィルタに通されたビーム918を生成し、フィルタに通されたビーム918の出力は、光検出器904によって検出される。角度を成すビーム917の出力は、他方の光検出器906によって検出される。前述したように、2つの光検出器904,906からの信号は、光の波長関連特性を求めるために、信号処理回路921によって、結合され処理される。線形偏光器910がビームスプリッタ915の前方に置かれるこの構成は、ビームスプリッタ915の角度を成す面が避けられない偏光依存性などを有する、すなわち、それが入射ビームの異なる偏光状態に対して入射ビームの出力をそれぞれに分けるから、有益である。線形偏光器910は、ビームスプリッタ915へ入射するビームが固定された偏光状態を有することを保証するから、ビームスプリッタ915の偏光依存性により別に生じるいかなる測定誤差も、減少されまたは実質的に排除される。前述したように、この構成において偏光器は、いかなる都合がよい方位で位置合せされてもよいし、関係なく、装置は、入力光の偏光変動を感知しないであろう(たとえ入力光のSおよびP偏光成分が方位によって混合されたとしても)。
図17は、ビームデバイダ915bを含み、光源(図示せず)からの光の波長関連特性(例えば波長)を求めるための本発明に従って構成される光測定装置900Bのさらに他の実施の形態を示す。本実施の形態の光測定装置900Bは、入射ビームを0(rad)の入射角の透過ビーム916と角度を成すビーム917とに分割するビームスプリッタ915が、操作可能な1つの相対角度に従って入射ビームを2つのビーム930,932へ分けるより一般的なビームデバイダ915bへ置き換えられていることを除いて、図16の光測定装置900Aと同様である。第1ビーム930は、波長依存光学素子902(例えばバンドパスフィルタ)によってフィルタに通され、フィルタに通されたビーム934を生成し、フィルタに通されたビーム934の出力は、光検出器904によって検知される。第2ビーム932の出力は、他方の光検出器906によって検出される。前述したように、2つの光検出器904,906からの信号919,920は、光の波長関連特性を求めるために、信号処理回路921によって、結合され処理される。
図18は、光源(図示せず)からの光の波長関連特性(例えば波長)を求めるための本発明に従って構成される光測定装置900Cのさらに他の実施の形態を示す。本実施の形態の光測定装置900Cは、2つの波長依存光学素子902a,902bがそれぞれ偏光、分割されたビーム930,932を受光し、2つのフィルタに通されたビーム934,935を生成するように置かれていることを除いて、図17の光測定装置900Bと同様である。第1のフィルタに通されたビーム934の出力は、光検出器904によって検出され、一方、第2のフィルタに通されたビーム935の出力は、光検出器906によって検出される。前述したように、2つの光検出器904,906からの信号919,920は、光の波長関連特性を求めるために、信号処理回路921によって、結合され処理される。
本発明の様々な実施の形態が説明されたが、本発明による光測定装置に使用される偏光器(1または複数)、波長依存光学素子(1または複数:例えばフィルタ)、光出力測定器(光検出器:1または複数)および様々な他の部品の、数および構成/配置は、各応用例に応じて変更されてもよい。
さらに、上述した本発明の様々な実施の形態は、全て、光測定装置における偏光依存誤差を減少させるように1つ以上の偏光器の使用を含むが、偏光依存誤差は、また、他の手段によって減少されてもよい。例えば、当業者に知られている様々な商業的に適用可能な光学素子または装置を使用すれば、配置は、光測定装置に入射する前の入射光の偏光をなくす、または光測定装置の様々な測定信号を獲得する際に使用される信号積分(信号処理)期間中光の偏光を連続的に回転させるようにされてもよく、これにより、装置のいかなる偏光依存性も効率的に無効にしまたは回避する。さらに例えば、入射光ビームが3つの光ビームに分割され、付加検出チャンネル(例えば第3検出チャンネル)を生成し、付加検出チャンネルにおける光の偏光が適切な偏光検出器を使用して測定されるようにしてもよい。いかなる偏光誤差も、ルックアップテーブルに格納されたまたは所定の解析関数に従って計算された所定の偏光依存較正係数と、第3検出チャンネルにおいて検出された偏光とに基づいて数的に補正することができる。さらに例えば、減少されたP−S透過依存性(減少された偏光依存性すなわち偏光感受性)を有するように具体的的に設計され製作されたフィルタが、波長依存光学素子として使用されてもよいし、そして/または他の素子が同様に製作されてもよく、これにより、装置のいかなる偏光依存性も効率的に無効にしまたは回避する。
本発明は、上述した多数の実施の形態と関連付けて述べられたが、様々な他の代替、修正、変形、改良および/または実質的に等価なものは、公知であろうと現在予測できないであろうと、少なくとも当業者に明らかになるであろう。従って、上述した本発明の実施の形態は、意図的に示されているが、これらに限定されるものではない。様々な変更は、本発明の精神および範囲を逸脱することなく、されてもよい。
(a)は光学バンドパスフィルタを用いた波長変化を測定するための簡単な公知の測定システムを示すブロック図、(b)は図1(a)のバンドパスフィルタの透過スペクトルを示す図である。 図1(a)の測定システムを超えるある改良を提供する公知の測定システムを示すブロック図である。 (a)は波長変化を測定するための代替構成を提供する公知の測定システムを示すブロック図、(b)は図3(a)の2つのフィルタに対応する透過スペクトルを示す図である。 空気/ガラス境界面を通過した光ビームの透過度がいかにして入射角に基づいて、また光ビームの偏光状態に基づいて変化するかを示す図である。 (a)は変動する環境パラメータに関わらず、減少された誤差で波長または波長変化を測定するための改良された構成を有する測定システムを示すブロック図、(b)は図5(a)の検出器に対応する透過曲線を示す透過スペクトル図である。 光源(図示せず)からの光の波長関連特性(波長、波長変化、周波数、または周波数変化)を求めるための本発明に従って形成された光測定装置の1つの実施の形態を示すブロック図である。 光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置の他の実施の形態を示すブロック図である。 光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置のさらに他の実施の形態を示すブロック図である。 光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置のさらに他の実施の形態を示すブロック図である。 光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置のさらに他の実施の形態を示すブロック図である。 光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置のさらに他の実施の形態を示すブロック図である。 光源(図示せず)からの光の波長関連特性を求めるための本発明に従って構成される光測定装置のさらに他の実施の形態を示すブロック図である。 光の透過度およびその波長の間の関係を示すバンドパス光学フィルタに対する2つの透過曲線を示すグラフである。 光の透過度およびその波長の間の関係を示すバンドパス光学フィルタに対する2つの透過曲線を示すグラフである。 単一のバンドパス光学フィルタを通した光の波長測定誤差とS偏光成分割合との間の関係を示すグラフである。 ビームスプリッタを含み、光源(図示せず)からの光の波長関連特性(例えば波長)を求めるための本発明に従って構成される光測定装置のさらに他の実施の形態を示すブロック図である。 ビームデバイダを含み、光源(図示せず)からの光の波長関連特性(例えば波長)を求めるための本発明に従って構成される光測定装置のさらに他の実施の形態を示すブロック図である。 光源(図示せず)からの光の波長関連特性(例えば波長)を求めるための本発明に従って構成される光測定装置のさらに他の実施の形態を示すブロック図である。
符号の説明
600A〜G,900A,900B 光測定装置
602,602a,602b,902 波長依存光学素子
604,606,904,906 光検出器(光出力測定器)
610,610a,610b,910 偏光器
615,615b 格子
620,921 信号処理回路
915 ビームスプリッタ
915b ビームデバイダ

Claims (5)

  1. 光源からの光の波長関連特性を求めるための光測定装置であって、
    前記光源からの光が入射し、前記光源から入射した光の第1部分を第1光路に沿って伝送し、前記入射した光の第2部分を第2光路に沿って伝送する格子と、
    バンドパスフィルタを有する波長依存光学素子と、
    線形偏光器と、
    前記第1光路に沿って前記格子の後方に位置決めされ、前記第1光路に沿って伝送される光の前記第1部分を受光する第1光出力測定器と、
    前記第2光路に沿って前記格子の後方に位置決めされ、前記第2光路に沿って伝送される光の前記第2部分を受光する第2光出力測定器とを備え、
    前記格子は、前記光源からの光が入射する偏光感知面を有し、
    前記波長依存光学素子と前記線形偏光器とは、前記第1光路に沿って伝送される光の前記第1部分と前記第2光路に沿って伝送される光の前記第2部分とが入射するように、前記格子と前記第1および第2光出力測定器との間に位置決めされ、
    前記線形偏光器は、前記第1光出力測定器によって受光される光が前記線形偏光器によって線形的に偏光されるように、かつ前記第2光出力測定器によって受光される光が前記線形偏光器によって線形的に偏光されるように位置決めされることを特徴とする光測定装置。
  2. 前記波長依存素子は、前記第1光路に沿って伝送される光の前記第1部分および前記第2光路に沿って伝送される光の前記第2部分が入射するように、前記格子と前記第1および第2光出力測定器との間に位置決めされた単一の波長依存素子からなり、
    前記線形偏光器は、前記第1光路に沿って伝送される光の前記第1部分および前記第2光路に沿って伝送される光の前記第2部分が入射するように、前記格子と前記第1および第2光出力測定器との間に位置決めされた単一の線形偏光器からなることを特徴とする請求項1記載の光測位装置。
  3. 前記波長依存素子は、前記第1光路に沿って伝送される光の前記第1部分と前記第2光路に沿って伝送される光の前記第2部分とがそれぞれ入射するように位置決めされた2つの波長依存素子からなり、
    前記線形偏光器は、前記第1光路に沿って伝送される光の前記第1部分と前記第2光路に沿って伝送される光の前記第2部分とがそれぞれ入射するように位置決めされた2つの線形偏光器からなることを特徴とする請求項1記載の光測位装置。
  4. 記第1および第2光出力測定器からそれぞれ第1および第2信号が供給され、少なくとも前記第1および第2信号に基づいた信号比は、前記光源からの光の波長関連特性を求めるのに使用され、該信号比は、前記光源からの光の偏光方位における変化に不感知であることを特徴とする請求項1記載の光測定装置。
  5. 前記第1および第2光出力測定器からの前記第1および第2信号を受信し、前記第1および第2信号に基づいて前記信号比を求める信号処理回路をさらに備え、前記信号比は、前記光源からの光の少なくとも光波長および光周波数の少なくとも1つを示すことを特徴とする請求項4記載の光測定装置。
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