JP4722053B2 - メガボウルウエハを用いたマイクロチャネルプレート製作のためのデバイスおよび方法 - Google Patents
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- マイクロチャネルプレート(MCP)の製作に使用されるメガボウルであって、
該メガボウルは、少なくとも第1の領域、第2の領域、および第3の領域を含む断面を備え、
各領域が該断面の別個の部分を占め、
該第1および第2の領域が、複数の光ファイバを含み、該断面の横断方向に方向付けられ、各光ファイバが、エッチング不可能な材料から形成されるクラディング、およびエッチング可能な材料から形成されるコアを有し、
該第3の領域が、該第1の領域と該第2の領域との間にある隙間に配置され、該第1のおよび該第2の領域を取り囲み、エッチング不可能な材料から形成され、
該第1および第2の領域の各々は、MCPを製作するのに使用され、該第3の領域は、該第2の領域から該第1の領域を分離するのに使用される、
メガボウル。 - 前記断面の別の別個の部分を占める少なくとも第4の領域をさらに備え、
該第4の領域が、前記第1および第2の領域の前記光ファイバと実質的に類似した材料の他の複数の光ファイバを含み、
前記第3の領域が、該第1の領域と該第2の領域と該第4の領域との間にある隙間に配置され、該第1、第2および第4の領域を取り囲み、
該第4の領域は、別のMCPを製作するのに使用され、該第3の領域は、該第1、第2および第4の領域を互いから分離するのに使用される、
請求項1に記載のメガボウル。 - 前記エッチング可能な材料、および前記エッチング不可能な材料がガラスであり、該エッチング不可能な材料が、該エッチング可能な材料よりも多くの鉛容量を含む、請求項1に記載のメガボウル。
- 前記第3の領域の前記エッチング不可能な材料が、前記断面の横断方向に方向付けられた複数のサポートロッドを含み、
前記複数の光ファイバのうちの一つの光ファイバと該複数のサポートロッドのうちの一つのサポートロッドが、互いに実質的に類似する断面積を有する、
請求項1に記載のメガボウル。 - 前記第3の領域の前記エッチング不可能な材料が、前記断面の横断方向に方向付けられた複数のサポートロッドを含み、
前記第1の領域の前記複数の光ファイバ、および該複数のサポートロッドの一部分が、MCPとして使用されるように構成される、
請求項1に記載のメガボウル。 - 前記複数の光ファイバ、および前記複数のサポートロッドが、加熱およびプレスされるときにおいて、融合されたモノリシックスタックを形成する、請求項5に記載のメガボウル。
- 前記第1の領域の複数の光ファイバ、および前記第2の領域の複数の光ファイバが、前記コアのエッチングのときにおいて、該複数の光ファイバのコアに横断方向のマイクロチャネルを形成する、請求項1に記載のメガボウル。
- 前記第1および第2の領域の各々が、長方形の形状または円形の形状を形成する、請求項1に記載のメガボウル。
- 前記断面が所定の領域であり、
該所定の領域が、半導体ウエハ製作ツールへの順応に基づく、
請求項1に記載のメガボウル。 - 前記第1および第2の領域の各々が、イメージ増倍管の増幅器として構成されるMCPのアクティブ領域のサイズを含む、請求項1に記載のメガボウル。
- 複数のマイクロチャネルプレート(MCP)を形成する方法であって、該方法は、
(a)光ファイバのバンドルを提供するステップであって、各光ファイバが、エッチング不可能な材料から形成されるクラディング、およびエッチング可能な材料から形成されるコアを含む、ステップと、
(b)第1のミニボウルを規定する少なくとも第1の断面領域と、第2のミニボウルを規定する少なくとも第2の断面領域とを形成するように複数の該バンドルを積み重ねるステップと、
(c)少なくとも該第1のミニボウルと該第2のミニボウルとの間の隙間にあり、少なくとも該第1および第2のミニボウルを取り囲んでいるエッチング不可能な材料を積み重ねるステップと、
(d)該複数のバンドル、および該積み重ねられたエッチング不可能な材料を融合するステップと
を包含し、
該第1のミニボウルは、第1のMCPを形成するのに使用され、該第2のミニボウルは、第2のMCPを形成するのに使用される、方法。 - (e)複数のメガボウルウエハを形成するように前記融合されたバンドル、およびエッチング不可能な材料をさいの目に切断するステップであって、各メガボウルウエハがバッチダイを規定する、ステップと、
(f)前記複数のMCPを形成するために、各メガボウルウエハをアクティベートし、金属化するステップと
をさらに包含する、請求項11に記載の方法。 - (g)各メガボウルウエハから前記複数のMCPを取り出すステップをさらに包含する、請求項12に記載の方法。
- 前記ステップ(f)が、
前記光ファイバの前記コアにおいてマイクロチャネルを形成するように、各メガボウルウエハをエッチングすることと、
前記クラディングを電子放出性にするように、該光ファイバの該クラディングの該エッチング不可能な材料を還元することと、
前記複数のMCP上に電気接触を形成するために、前記メガボウルの各平面に薄い金属層を提供することと
を包含する、請求項12に記載の方法。 - 前記ステップ(d)が、モノリシックスタックを形成するように、前記複数のバンドル、および前記積み重ねられたエッチング不可能な材料を加熱し、プレスすることを包含する、請求項11に記載の方法。
- 前記ステップ(b)が、イメージ倍増管の増幅器として構成されるMCPのアクティブ領域の各断面サイズに実質的に対応するように前記第1および第2のミニボウルのそれぞれの少なくとも第1および第2の断面サイズを形成するように、前記複数のバンドルを積み重ねることを包含する、請求項11に記載の方法。
- 前記ステップ(b)および(c)が、所定の断面サイズを形成するように、前記複数のバンドル、および前記エッチング不可能な材料を積み重ねることを包含し、
該所定の断面サイズが半導体ウエハ製作ツールへの順応に基づいている、請求項11に記載の方法。 - 前記ステップ(b)が、少なくとも前記第1および第2の断面領域を、長方形の形状または円形の形状に形成するように、前記複数のバンドルを積み重ねることを包含する、請求項11に記載の方法。
- 複数のマイクロチャネルプレート(MCP)を形成するためのバッチダイを形成する方法であって、該方法は、
(a)エッチング可能な光学材料、およびエッチング不可能な光学材料を提供するステップと、
(b)少なくとも第1、第2、および第3の領域を含む断面を有するスタックを形成するように、該エッチング可能な光学材料、および該エッチング不可能な光学材料を積み重ねるステップと
を包含し、
該第1および第2の領域の各々に、該エッチング可能な光学材料、および該エッチング不可能な光学材料が積み重ねられ、該第3の領域に該エッチング不可能な光学材料が積み重ねられ、
該第3の領域が、該第1と第2の領域との間にある隙間に配置され、該第1および第2の領域を取り囲み、
該第1および第2の領域の各々は、MCPを製作するのに使用され、該第3の領域は、該第2の領域から該第1の領域を分離するのに使用され、
該エッチング可能な光学材料は、各光ファイバのコアのためのものであり、該エッチング不可能な光学材料は、該第1の領域および該第2の領域に積み重ねられた各光ファイバのクラディングのためのものであるか、または、該第3の領域に積み重ねられたサポートロッドのためのものであるかのいずれかである、
方法。 - 前記エッチング可能な光学材料、および前記エッチング不可能な光学材料の前記積み重ねが、前記第1、第2、および第3の領域を別個に、分離して形成することを包含する、請求項19に記載の方法。
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