JP4712888B2 - Positioning device - Google Patents
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Description
本発明は、位置決め用突起が形成されている対象物を位置決めする位置決め装置に関する。 The present invention relates to a positioning device that positions an object on which positioning protrusions are formed.
近年、半導体レーザー素子およびLED(発光ダイオード:Light Emitting Diode)素子等の化合物半導体を製造するための装置として、MOCVD装置が開発されている(例えば、引用文献1および2参照)。このようなMOCVD装置の一例について、以下に簡単に説明する。 In recent years, MOCVD apparatuses have been developed as apparatuses for manufacturing compound semiconductors such as semiconductor laser elements and LED (Light Emitting Diode) elements (see, for example, cited references 1 and 2). An example of such an MOCVD apparatus will be briefly described below.
図10はMOCVD装置(製膜装置)を示す側面断面図である。図10に示すように、MOCVD装置1では、反応室2の内部において、モーター7によって回転する回転軸6が配置され、回転軸6の上端には回転台4が支持されている。また、回転台4の上面には複数の載置台5が設けられており、これらの載置台5は自転ギア8および固定ギア9などによってそれぞれ自転する様に構成されている。
FIG. 10 is a side sectional view showing an MOCVD apparatus (film forming apparatus). As shown in FIG. 10, in the MOCVD apparatus 1, a rotating shaft 6 that is rotated by a
図12は回転台と載置台との関係を示す平面図である。図12に示すように、載置台5の上には数枚(本例では8枚)の基板3が乗せられる。基板3の材料には、例えばSi、GaAs、GaN、およびサファイアガラス等が挙げられ、生産する素子の種類により適切なものが使用される。載置台5上に載せられた基板3は、回転台4の回転と載置台5の自転とによって自転および公転をする。基板3が自転と公転する仕組みによって、結晶成長層の均一性は向上する。
FIG. 12 is a plan view showing the relationship between the turntable and the mounting table. As shown in FIG. 12, several (eight in this example)
回転台4の下方には基板3を加熱するヒーター10が配置されており、回転台4の情報には反応室2の内部空間を隔てる略平行な隔壁11が設けられている。
A
また、反応室2の上部には、ガス供給器15に接続された配管12のガス吹き出し口13が配置されている。結晶膜の原料である原料ガス14は、ガス吹き出し口13を介して、回転台4の回転軸上から回転台4表面に沿って放射状に供給され、載置台5上に載せられた基板3上を通過する。この結果、基板3上近傍で所望の化学反応が行われ、基板3上に所望の成膜処理が実行される。基板3上を通過した後の原料ガス14は、回転台4の外周に設けられた排気経路16より排気される。
In addition, a
ここで、回転台4上における複数の載置台5の間には、成膜処理中に生成物が回転台4に付着することを防止し、かつ基板表面と高さを揃えて基板3上部を通過する原料ガス14の流れを乱さないようするために、複数枚(本例では8枚)の回転台カバー17が配置されている。回転台カバー17の概略形状を図13に示す。
Here, between the plurality of mounting tables 5 on the rotating table 4, the product is prevented from adhering to the rotating table 4 during the film forming process, and the upper surface of the
回転台カバー17は石英製の板であって、回転台カバー17の下面に突設される一対の位置決めピン18が、回転台4上面に設けられた穴(図示しない)とが勘合することによって、回転台4に位置がずれないように固定される。
The
上述したようなMOCVD装置では、当然、成膜処理を行うに先立ち、装置内部に基板をセットしなくてはならない。また、成膜処理後には、基板だけではなく回転台カバーの表面に対しても成膜処理による生成物が付着するため、回転台カバーの交換が必須の作業になる。特に回転台カバーの交換では、上述のように位置決め用のピンを回転台上面の穴に勘合させる必要があるため、回転台カバーを正確に位置決めしなければならない。 In the MOCVD apparatus as described above, naturally, the substrate must be set inside the apparatus prior to the film forming process. In addition, after the film formation process, the product formed by the film formation process adheres not only to the substrate but also to the surface of the turntable cover. Therefore, it is necessary to replace the turntable cover. In particular, when replacing the turntable cover, it is necessary to fit the positioning pins into the holes on the top surface of the turntable as described above, so the turntable cover must be accurately positioned.
これらの作業は通常、人手で行われているが、基板や回転台カバーはサファイアや石英等の破損しやすい材料でできており、作業者には高度な熟練が要求され、また慎重に作業をしなければならないことから作業にも時間がかかってしまう。このため、これらの作業を自動化することが長く望まれている。 These operations are usually performed manually, but the substrate and the turntable cover are made of fragile materials such as sapphire and quartz, and the workers are required to be highly skilled and work carefully. Because it has to do, work takes time. For this reason, it has long been desired to automate these operations.
そこで、上述の作業を自動化するためには、MOCVD装置の反応室近傍に位置決め装置を配置することが必要であると考えられる。 Therefore, in order to automate the above-described work, it is considered necessary to arrange a positioning device in the vicinity of the reaction chamber of the MOCVD apparatus.
引用文献3には、基板に突設された円筒状の一対の位置決めピンを用いて、当該基板を位置決めする位置決め装置が開示されている。引用文献3に開示された位置決め装置では、基板に突設された一対の位置決めピンの各々を、押圧片によって、V溝基準片と平型基準片とに対してそれぞれ押圧することによって、基板が位置決めされている。
本発明者らは、引用文献3のように、V溝と平面との間に位置決めピンを位置決めする装置において、位置決めを首尾よく行うために必要となる摩擦係数について検討した。この検討結果について、図14を用いて説明する。
The present inventors examined the coefficient of friction required for successful positioning in a device that positions a positioning pin between a V-groove and a flat surface as in
図14において、位置決めピン103は、V字状溝101と平面部102と間に把持されて位置決めされる。位置決めピン103と平面部102との接点にかかる力をF1とし、その摩擦力をμF1とする。位置決めピン103とV字状溝101との接点にかかる力をF2とし、その摩擦力をμF2とする。また、V字状溝101の斜面と、V字状溝101の押圧方向に直角な方向との角度をθとする。
In FIG. 14, the
図14において、X方向のつりあいは以下の式(1)によって表され、Y方向のつりあいは以下の式(2)によって表される。 In FIG. 14, the balance in the X direction is represented by the following equation (1), and the balance in the Y direction is represented by the following equation (2).
F1=μF2sinθ+F2cosθ ・・・式(1)
F2sinθ=μF1+μF2cosθ ・・・式(2)
したがって、図14に示す姿勢のまま、位置決めピンの位置が維持されるために必要な摩擦係数(μ)は、以下の式(3)にて表される。
F 1 = μF 2 sin θ + F 2 cos θ (1)
F 2 sin θ = μF 1 + μF 2 cos θ (2)
Therefore, the friction coefficient (μ) necessary for maintaining the position of the positioning pin in the posture shown in FIG. 14 is expressed by the following equation (3).
μ=(√(cos2θ+sin2θ)−cosθ)/sinθ ・・・式(3)
本発明者らは、図14において位置決めを可能にするためには、V字状溝101と位置決めピン103との摩擦係数が、上記の式(3)で示される限界摩擦係数μ以下である必要があると考えた。
μ = (√ (cos 2 θ + sin 2 θ) −cos θ) / sin θ (3)
In order to enable positioning in FIG. 14, the present inventors need that the friction coefficient between the V-
例えばV字状溝101が金属から形成され、位置決めピン103が石英から形成されると仮定する。また、角度θが45degであると仮定する。このとき、上記式(3)によれば、位置決め可能な限界摩擦係数μは0.414以下である。
For example, it is assumed that the V-
ところが、一般に乾燥した金属と石英との摩擦係数は0.4〜0.6程度ある。このため、引用文献3の位置決め装置を用いる場合、上記の仮定条件の下では高確率で位置決めを失敗してしまう。
However, the friction coefficient between the dried metal and quartz is generally about 0.4 to 0.6. For this reason, when using the positioning apparatus of the cited
通常の装置であれば、V溝基準片や位置決めピンに潤滑油等を塗布したり、V溝基準片にPTFE等の潤滑性樹脂を使用したりすることによって摩擦係数を下げるという対応が考えられる。しかし、異物の進入を極度に嫌う成膜装置においては潤滑油等の使用は認められない。また、成膜後の成膜装置内における各部品の温度は数百度になる場合もあり、このため潤滑油や潤滑性油脂等を使用することはできない。 If it is a normal device, it is possible to reduce the friction coefficient by applying lubricating oil or the like to the V-groove reference piece or the positioning pin, or using a lubricating resin such as PTFE for the V-groove reference piece. . However, the use of lubricating oil or the like is not permitted in a film forming apparatus that is extremely reluctant to enter foreign substances. In addition, the temperature of each part in the film forming apparatus after film formation may be several hundred degrees, and therefore, lubricating oil, lubricating oil or the like cannot be used.
また二硫化モリブデンおよびグラファイト等の固体潤滑剤の使用によっても装置内部は汚染されるため、これらの使用は困難である。 Also, the use of solid lubricants such as molybdenum disulfide and graphite contaminates the inside of the apparatus, making it difficult to use them.
仮に潤滑油や固体潤滑材等の潤滑手段を用いることができたとしても、これらの潤滑手段は徐々にその潤滑状態が劣化する。このため。安定的な位置決め動作のためには定期的に潤滑材を補充するなどのメンテナンスが必要となり、手間およびコストがかかってしまう。 Even if lubricating means such as lubricating oil or solid lubricant can be used, the lubricating state of these lubricating means gradually deteriorates. For this reason. For stable positioning operation, maintenance such as periodic replenishment of lubricant is required, which takes time and cost.
なお、位置決め可能限界摩擦係数μの値を大きくするために、V字状溝101の斜面と、V字状溝101の押圧方向に直角な方向との角度θを45deg以上に広げることも考えられる。しかしながら、この場合には、V字状溝101の開き角が小さくなるため、位置決めできる位置誤差範囲が狭くなる、および位置決めピン103がV字状溝101に挟まってしまい抜けなくなる等の不具合が発生してしまう。
In order to increase the value of the limitable limit friction coefficient μ, the angle θ between the slope of the V-
したがって、引用文献3のように、V溝と平面との間に位置決めピンを位置決めする装置では、位置決め、特に成膜装置の部品の位置決めを安定的に行うことができない。
Therefore, as in the cited
また、引用文献3のような位置決め装置を用いる場合、その他の潤滑手段を取ることが困難である環境(高温環境および真空環境)においても、位置決めを行うことができない。
Moreover, when using the positioning apparatus like the cited
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、位置決め装置の位置決め用部材と、位置決め対象物の位置決め用突起との摩擦係数が高い場合であっても、潤滑手段を用いずに、位置決めを安定的に行うことのできる位置決め装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and the object thereof is lubrication means even when the coefficient of friction between the positioning member of the positioning device and the positioning projection of the positioning object is high. It is an object of the present invention to provide a positioning device that can stably perform positioning without using a sensor.
本発明に係る位置決め装置は、上記の問題を解決するために、一対の突起が円柱状に形成された対象物を位置決めする位置決め装置であって、
V字状溝を互いに対向する配置にそれぞれ備え、かつ、上記V字状溝同士の間に上記一対の突起のうちの一方の突起を受ける、接近離反可能な一対のV字状溝構造と、
平面部を互いに対向する配置にそれぞれ備え、かつ、上記平面部同士の間に上記一対の突起のうちの他方の突起を受ける、接近離反可能な一対の平面構造とを備え、
上記一対のV字状溝構造および上記一対の平面構造の各々は、上記一対の突起の各々を位置決めする各任意の位置において互いに近接することを特徴としている。
A positioning apparatus according to the present invention is a positioning apparatus that positions an object in which a pair of protrusions are formed in a columnar shape in order to solve the above-described problem,
A pair of V-shaped groove structures capable of approaching and separating, each having a V-shaped groove in an opposing arrangement and receiving one of the pair of protrusions between the V-shaped grooves;
A pair of planar structures capable of approaching and separating, each having a planar portion in an arrangement opposite to each other, and receiving the other projection of the pair of projections between the planar portions;
Each of the pair of V-shaped groove structures and the pair of planar structures is characterized by being close to each other at each arbitrary position for positioning each of the pair of protrusions.
本発明に係る位置決め装置は、一対のV字状溝構造および一対の平面構造によって、一対の突起を有する対象物を位置決めする。 The positioning device according to the present invention positions an object having a pair of protrusions by a pair of V-shaped groove structures and a pair of planar structures.
上記構成では、一対のV字状溝構造は、接近および離反することが可能であり、一対のV字状溝構造が接近すると、一方の突起を位置決めする任意の位置において互いに近接する。この際、一対のV字状溝構造におけるV字状溝を構成する斜面のうち、少なくとも3つの斜面が一方の突起と接触する。これによって、一方の突起がV字状溝同士の間に位置決めされる。 In the above configuration, the pair of V-shaped groove structures can approach and separate from each other, and when the pair of V-shaped groove structures approach, the pair of V-shaped groove structures approach each other at an arbitrary position for positioning one protrusion. At this time, at least three of the inclined surfaces constituting the V-shaped groove in the pair of V-shaped groove structures are in contact with one protrusion. Thereby, one protrusion is positioned between the V-shaped grooves.
一方、一対の平面構造は、接近および離反することが可能であり、一対の平面構造が接近すると、一方の突起を位置決めする任意の位置において互いに近接する。この際、一対の平面構造における少なくとも1つの平面部が他方の突起の他方と接触する。これによって、他方の突起が平面部同士の間に位置決めされる。 On the other hand, the pair of planar structures can approach and separate from each other. When the pair of planar structures approach, the pair of planar structures approach each other at an arbitrary position for positioning one projection. At this time, at least one planar portion in the pair of planar structures is in contact with the other of the other protrusions. Thereby, the other protrusion is positioned between the flat portions.
すなわち、本発明に係る位置決め装置では、一対のV字状溝構造が対象物の位置を決め、一対の平面構造が対象物の姿勢を決めることによって、位置決めが行なわれる。 That is, in the positioning device according to the present invention, positioning is performed by the pair of V-shaped groove structures determining the position of the object and the pair of planar structures determining the posture of the object.
また、上記構成において、V字状溝構造が一方の突起を位置決めする際、位置決めピン103と平面部102との接点にかかる力をF1とし、その摩擦力をμF1とする。位置決めピン103とV字状溝101との接点にかかる力をF2とし、その摩擦力をμF2とする。また、V字状溝を構成する斜面と、V字状溝構造の接近方向に直角な方向との角度をθとする。
In the above structure, when the V-shaped groove structure for positioning one of the projections, the force applied to the contact between the
このとき、V字状溝構造の接近方向に直角な方向における力のつりあいは、以下の式(4)により表され、V字状溝構造の接近方向における力のつりあいは、以下の式(5)により表される。 At this time, the balance of force in the direction perpendicular to the approach direction of the V-shaped groove structure is expressed by the following equation (4), and the balance of force in the approach direction of the V-shaped groove structure is expressed by the following equation (5). ).
F1sinθ+F2sinθ=μF1cosθ+μF2cosθ ・・・式(4)
F1cosθ+μF1sinθ=F2cosθ+μF2sinθ ・・・式(5)
したがって、上記構成において、位置決めピンの位置が維持されるために必要な摩擦係数(μ)は、以下の式(6)にて表される。V字状溝構造が一方の突起を位置決めするためには、V字状溝構造と一方の突起との摩擦係数が、以下の式(6)で示される限界摩擦係数(μ)以下であればよい。
F 1 sin θ + F 2 sin θ = μF 1 cos θ + μF 2 cos θ (4)
F 1 cos θ + μF 1 sin θ = F 2 cos θ + μF 2 sin θ (5)
Therefore, in the above configuration, the friction coefficient (μ) necessary for maintaining the position of the positioning pin is expressed by the following equation (6). In order for the V-shaped groove structure to position one protrusion, if the friction coefficient between the V-shaped groove structure and one protrusion is equal to or less than the limit friction coefficient (μ) represented by the following equation (6): Good.
μ=sinθ/cosθ・・・式(6)
上記式(6)によれば、仮に角度θが45°である場合、限界摩擦係数μは1となる。よって、この場合、V字状溝構造と一方の突起との摩擦係数が1以下であれば、位置決めが安定的に行なわれる。
μ = sin θ / cos θ (6)
According to the above equation (6), if the angle θ is 45 °, the limiting friction coefficient μ is 1. Therefore, in this case, if the coefficient of friction between the V-shaped groove structure and one protrusion is 1 or less, positioning is performed stably.
上記構成において定められる限界摩擦係数μは、上述した従来の位置決め装置における限界摩擦係数と比べて、飛躍的に高くなる。したがって、本発明に係る位置決め装置によれば、位置決め装置の位置決め用部材と、位置決め対象物の位置決め用突起との摩擦係数が高い場合であっても、潤滑手段を用いずに、位置決めを安定的に行うことができる。 The critical friction coefficient μ determined in the above configuration is dramatically higher than the critical friction coefficient in the conventional positioning device described above. Therefore, according to the positioning device of the present invention, even when the friction coefficient between the positioning member of the positioning device and the positioning projection of the positioning object is high, the positioning can be stably performed without using the lubricating means. Can be done.
また、本発明に係る位置決め装置において、上記一対のV字状溝構造の少なくとも一方と、上記一対の平面構造の少なくとも一方とは、一体的に構成されていてもよい。 In the positioning device according to the present invention, at least one of the pair of V-shaped groove structures and at least one of the pair of planar structures may be integrally formed.
上記構成によれば、上記一対のV字状溝構造および上記一対の平面構造をそれぞれ接近させるための駆動系を簡略化することができる。 According to the above configuration, it is possible to simplify the drive system for bringing the pair of V-shaped groove structures and the pair of planar structures close to each other.
さらに、本発明に係る位置決め装置において、上記一対のV字状溝構造および上記一対の平面構造の各々が、上記任意の位置において互いに近接したとき、
互いに対向する上記平面部同士の間の距離は、一方のV字状溝構造におけるV字状溝を構成する斜面と、当該斜面と対向する、他方のV字状溝構造におけるV字状溝を構成する斜面との間によって決定される2つの距離のうち、少なくとも1つの距離よりも長いことが好ましい。
Furthermore, in the positioning device according to the present invention, when the pair of V-shaped groove structures and the pair of planar structures are close to each other at the arbitrary positions,
The distance between the flat portions facing each other is as follows: a slope that forms a V-shaped groove in one V-shaped groove structure, and a V-shaped groove in the other V-shaped groove structure that faces the slope. Of the two distances determined by the distance between the slopes, the distance is preferably longer than at least one distance.
仮に一対のV字状溝構造が一方の突起を位置決めする前に、一方の平面構造が他方の把持してしまうといった事態が発生すると、その摩擦力によって、対象物はV字状溝構造による位置決めの前に拘束されてしまう。 If a situation occurs in which one planar structure grips the other before the pair of V-shaped groove structures position one projection, the object is positioned by the V-shaped groove structure due to the frictional force. Will be restrained before.
上記構成によれば、一対のV字状溝構造におけるV字状溝を構成する斜面のうち、少なくとも3つの斜面が一方の突起と接触した場合であっても、一方の平面構造における平面部同士の間に他方の突起が把持されてしまうことはない。すなわち、一対のV字状溝構造が接近を始めてから、上記少なくとも3つの斜面が一方の突起と接触するまでの間、一対の平面構造における少なくとも一方の平面部は、他方の突起との間に隙間を有する。よって、上記のような事態は発生しないため、一対のV字状溝構造による位置決め動作は阻害されることなく、対象物の位置決めは安定的に行なわれる。 According to the above configuration, even if at least three of the inclined surfaces constituting the V-shaped groove in the pair of V-shaped groove structures are in contact with one protrusion, the planar portions in the one planar structure are The other projection is not gripped during this period. That is, during a period from when the pair of V-shaped groove structures starts to approach until the at least three inclined surfaces come into contact with one projection, at least one plane portion in the pair of planar structures is between the other projection. Has a gap. Therefore, since the above situation does not occur, the positioning operation by the pair of V-shaped groove structures is not hindered, and the object can be positioned stably.
また、本発明に係る位置決め装置において、上記一対のV字状溝構造の少なくとも一方および上記一対の平面構造の少なくとも一方が、互いに独立して構成されていてもよい。 In the positioning device according to the present invention, at least one of the pair of V-shaped groove structures and at least one of the pair of planar structures may be configured independently of each other.
上記構成によれば、一対のV字状溝構造と一対の平面構造はそれぞれ独立して接近することができるため、好ましい順序で接近させることが容易になる。 According to the above configuration, the pair of V-shaped groove structures and the pair of planar structures can be approached independently, so that it is easy to approach them in a preferred order.
さらに、本発明に係る位置決め装置において、上記一対のV字状溝構造が上記任意の位置において互いに近接した後に、上記一対の平面構造が上記任意の位置決め位置において互いに近接することが好ましい。 Furthermore, in the positioning device according to the present invention, it is preferable that the pair of planar structures are close to each other at the arbitrary positioning position after the pair of V-shaped groove structures are close to each other at the arbitrary position.
上記構成によれば、一対の平面構造における各々の平面部は、一対のV字状溝構造による位置決め動作を阻害せず、かつ、間に隙間を有さず他方の突起と接触することができるため、一対の平面構造による位置決め誤差は低減される。 According to the above configuration, each planar portion in the pair of planar structures does not hinder the positioning operation by the pair of V-shaped groove structures, and can contact the other projection without a gap therebetween. Therefore, positioning errors due to the pair of planar structures are reduced.
また、本発明に係る位置決め装置において、上記一対の突起は石英から構成されており、上記V字状構造における少なくとも上記突起との接触部分は金属またはセラミックから構成されていることが好ましい。 In the positioning device according to the present invention, it is preferable that the pair of protrusions is made of quartz, and at least a contact portion with the protrusion in the V-shaped structure is made of metal or ceramic.
上記構成によれば、位置決めのための摩擦係数を満足し、かつ耐摩耗性および耐熱性の面において優れた位置決め装置を実現することができる。 According to the above configuration, a positioning device that satisfies the friction coefficient for positioning and that is excellent in terms of wear resistance and heat resistance can be realized.
本発明に係る位置決め装置によれば、V字状溝を互いに対向する配置にそれぞれ備え、かつ、上記V字状溝同士の間に上記一対の突起のうちの一方の突起を受ける、接近離反可能な一対のV字状溝構造と、平面部を互いに対向する配置にそれぞれ備え、かつ、上記平面部同士の間に上記一対の突起のうちの他方の突起を受ける、接近離反可能な一対の平面構造とを備えるので、何ら潤滑手段を用いずに、位置決めを安定的に行うことができる。 According to the positioning device of the present invention, the V-shaped grooves can be arranged in opposition to each other, and one of the pair of protrusions can be received between the V-shaped grooves to be able to approach and separate. A pair of V-shaped groove structures and a pair of planes that can be separated from each other and that receive the other projection of the pair of projections between the plane portions. Therefore, positioning can be performed stably without using any lubrication means.
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための形態についてについて説明する。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.
なお、以下の実施形態は、本発明に係る技術を具体化するために例示するものであり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。また、本発明に係る技術内容は、特許請求の範囲に記載された技術的範囲内において、種々の変更を加えることが可能である。例えば、各実施形態で具体的に説明している部材の組み合わせおよび寸法は、例示されたものに限られず、特に支障が生じなければ、異なる組み合わせおよび寸法であってもよい。 In addition, the following embodiment is illustrated in order to actualize the technique which concerns on this invention, and does not limit the technical scope of this invention. Further, the technical contents according to the present invention can be variously modified within the technical scope described in the claims. For example, the combinations and dimensions of the members specifically described in each embodiment are not limited to those illustrated, and may be different combinations and dimensions as long as no particular problem occurs.
〔実施形態1〕
第1の実施形態に係る位置決め装置20について以下に説明する。
Embodiment 1
The
以下の説明では、位置決め装置20が位置決めする対象物として回転台カバーを用いて説明するが、本発明はこれに限られず、一対の位置決めピンを設けられた部材を位置決めするための装置に適宜適用できる。
In the following description, a rotating table cover will be described as an object to be positioned by the
また、位置決め装置20は、限定するわけではないが、図11に示すように、回転台カバーを成膜装置(MOCVD装置等)50の近傍に配置され、また、搬送装置40によって搬送された回転台カバーを位置決めする装置とする。
Although the
位置決め装置20によって位置決めされた回転カバーは、位置決めされた姿勢のまま、搬送装置40の搬送ハンド42に保持され、搬送アーム41によって移動されて、成膜装置50の反応室内に搬送される。搬送された回転カバーは、さらに搬送装置40によって、成膜装置50の回転台上面に設けられた穴に位置決めピンを勘合される。
The rotary cover positioned by the
図1は、位置決め装置20を概略的に示す斜視図である。図1に示すように、位置決め装置20は、構成部品を載せるベース板21、一対のブロック22、ガイド機構23、駆動部24、および回転台カバー支持部27を備えている。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing the
位置決め装置20が位置決めする回転台カバー17は、石英製の厚さ2mmの板状部材であって、直径3mm、長さ6mmである2本の位置決めピン(突起)18が、100mmの間隔をあけて下面に突設されている。位置決めの際、回転台カバー17は、図1中の矢印に示すように、一対の位置決めピン18が一対のブロック22の間に挿入されるように配置され、回転台カバー支持部27によって支持される。
The
なお、位置決めピン18の形状は、図1に示すように円柱であればよい。
The shape of the
一対のブロック22は、駆動部24によって駆動されることによって、ガイド機構23に沿って互いに接近または離反するように移動する。なお、以下の説明においては、図1に示すように、一対のブロック22が互いに接近または離反する移動方向をX軸方向とし、ベース板21の平面上においてX軸方向に対して垂直である方向をY軸方向とする。
The pair of
また、一対のブロック22は、V字状溝30が互いに開口側を対峙するように配置された一対のV字状溝構造25と、平面(平面部)31が互いに平行に対峙するように一対の配置された平面構造26とを備えている。一対のV字状溝構造25における一対のV状溝間、および一対の平面構造26における一対の平面31の間には、位置決めピン18が1本ずつ配置されるように構成されている。
The pair of
一対のV字状溝構造25および一対の平面構造26は、一対の位置決めピン18の各々を位置決めする任意の位置において、互いに近接(最接近)する。任意の位置は、位置決めピン18の大きさ等に基づいて適宜設定されればよい。
The pair of V-shaped
一対のV字状溝構造25は、一対のブロック22が互いに最も接近したときに、位置決めピン18を把持するように構成されている。一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30を形成する斜面は角度(開き角)を形成している。この角度が広すぎる場合には、斜面と位置決めピン18との摩擦係数がある程度以上に低くないと位置決めが困難になってしまい、一方、狭すぎる場合には、V字状溝30に位置決めピン18が挟まって抜けなくなってしまう恐れがある。このため、本実施形態では、一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30の開き角を90°としている。
The pair of V-shaped
一対の平面構造26は、一対のブロック22が互いに最も接近したときに、位置決めピン18を把持しないように構成されている。すなわち、一対のブロック22が互いに最も接近したときであっても、一対の平面構造26における少なくとも一方の平面31は位置決めピン18との間に隙間を有するように構成されている。
The pair of
一対のブロック22の材料としては、耐熱製、耐摩耗性、およびコストを考慮して、ステンレス鋼(SUS304)を用いている。ただし、本発明はこれに限られるものではなく、耐熱製および耐摩耗性のみを考慮すれば、セラミックを用いることが好ましい。
As a material for the pair of
なお、一対のブロック22の全てがSUS304またはセラミックから構成されることに限られず、一対のV字状溝構造25における少なくとも位置決めピン18との接触部分が金属またはセラミックから構成されていることが好ましい。
Note that not all of the pair of
ガイド機構23は、一対のブロック22をX軸方向に沿って円滑に移動させるためのガイドであれば特に限定されない。例えば、本実施形態では、ガイド機構23はベース板21上に設けられたレール状の構造であり、一対のブロック22はガイド機構23に勘合して移動する。
The
駆動部24は、一対のブロック22が互いに接近または離反するように、各ブロック22を駆動する。駆動方法としては従来方法を用いればよく、特に限定されるものではない。
The
回転台カバー支持部27は、位置決めの際、回転台カバー17を下方から支持するものであれば特に限定されない。例えば、本実施形態では、回転台カバー支持部27は、ベース板21上に設けられた3個の円柱によって構成されている。また、位置決めの際、回転台カバー17の下面がブロック22の上面と接触しないように、回転台カバー支持部27の高さはブロック22の高さよりも高く設定されている。これによって、回転台カバー17のうちの位置決めピン18のみが、一対のブロック22と接触する。
The
次に、位置決め装置20の位置決め動作について図2および図3を参照して説明する。図2は、回転台カバー17がセットされた位置決め装置20における位置決め前の状態を示す上面図である。なお、図2では、説明のために回転台カバー17の板状部分を省略している。
Next, the positioning operation of the
図2に示すように、まず回転台カバー17は、一対のブロック22が互いに離反した状態の位置決め装置20にセットされる。セットは回転台カバー17を回転台カバー支持台27上に置くことで完了し、このときのセット位置は、一対のV字状溝構造25の間および一対の平面構造26の間に位置決めピン18が1本ずつ配置される位置であればよい。図2では、説明のために、位置決めピン18が位置決め後の位置からずれた状態を示している。
As shown in FIG. 2, first, the
セット後、駆動部24が一対のブロック22を駆動し、一対のブロック22は互いに近接するように移動する。この移動時、まず一対のV字状溝構造25におけるV字溝を構成する4つの斜面のいずれかが、一対のV字状溝構造25の間に配置された位置決めピン18に接触する。あるいは、まず一対の平面構造26における2つの平面31のいずれかが、一対の平面構造26の間に配置された位置決めピン18に接触する。このように、ブロック22におけるいずれかの面が、2本の位置決めピン18のうちのいずれか一方に接触すると、この位置決めピン18は接触したブロック22の面に押されて移動し、続いて、他方の位置決めピン18もブロック22における他の面と接触する。
After the setting, the driving
位置決めピン18の接触相手が一対のV字状溝構造25における4つの斜面のいずれかである場合、この位置決めピン18は接触した斜面に押されて、X軸方向およびY軸方向に移動する。一方、位置決めピン18の接触相手が一対の平面構造26における2つの平面31のいずれかである場合、この位置決めピン18は接触した平面31に押されて、X軸方向にのみ移動する。
When the contact partner of the
最終的には、一対のV字状溝構造25は、位置決めピン18をX軸方向およびY軸方向に移動させ、一対のV字状溝構造25におけるV字溝を構成する4つの斜面のうち、少なくとも3つの斜面によって位置決めピン18を把持する。これによって、一対のV字状溝構造25は、位置決めピン18を所定の位置に位置決めする。
Finally, the pair of V-shaped
これに対し、一対の平面構造26は、いずれか一方の平面31によって、位置決めピン18をX軸方向にのみ移動し、位置決めピン18を所定の位置に位置決めする。
On the other hand, the pair of
すなわち、一対のV字状溝構造25は、位置決めピン18をX軸方向およびY軸方向に移動させて所定の位置に位置決めするのに対し、一対の平面構造26は、一対のV字状溝構造25が把持した位置決めピン18を回転中心として、回転台カバー17の回転方向を所定の方向に位置決めする。言い換えると、一対のV字状溝構造25は回転台カバー17の位置を決め、一対の平面構造26は回転台カバー17の姿勢を決める。
That is, the pair of V-shaped
以上のようにして回転台カバー17の位置決めが行なわれる。図3は、位置決め装置20における位置決め後の状態を示す上面図である。
As described above, the
ここで仮に、一対のV字状溝構造25が位置決めピン18を把持するよりも先に、一対の平面構造26が位置決めピン18を把持してしまった場合、両方の位置決めピン18は動けなくなってしまい、一対のV字状溝構造25による位置決めが阻害されてしまう。
Here, if the pair of
そこで、本実施形態では、一対の平面構造26が、上述したように、位置決めピン18を把持しないように構成されている。
Therefore, in this embodiment, the pair of
具体的には、図4に示すように、一対のブロック22が最接近したとき、互いに対向する平面31同士の間の距離aは、一対のV字状溝30のうち、一方のV字状溝30を構成する斜面と、当該斜面と対向する、他方のV字状溝30を構成する斜面との間によって決定される距離b1およびb2のうち、少なくとも一方の距離よりも長い。すなわち、一対のブロック22が最接近したとき、一対のV字状溝30を構成する4つの斜面に関して、互いに対向する斜面の間に決定される2つの距離のうち少なくとも1つの距離b1またはb2が、位置決めピン18の直径に相当する。これに対し、一対のブロック22が最接近したとき、互いに対向する平面31同士の間の距離aは、位置決めピン18の直径よりも長い。
Specifically, as shown in FIG. 4, when the pair of
よって、一対のブロック22が最接近したとき、一対のV字状溝構造25は位置決めピン18を把持するが、一対の平面構造26におけるいずれかの平面31と位置決めピン18との間には隙間が存在する。
Therefore, when the pair of
このため、一対の平面構造26が位置決めピン18を把持することによって一対のV字状溝構造25による位置決めが阻害される、というような事態は本実施形態では発生しない。したがって、本実施形態に係る位置決め装置20は、位置決めピン18を安定的に位置決めすることができる。
For this reason, the situation that positioning by a pair of V-shaped
位置決めが完了した後には、再び駆動部24によって一対のブロック22を駆動して離反させることによって、位置決めピン18を開放すればよい。回転台カバー17は回転台カバー支持部27によって支持されているため、一対のブロック22が離反しても位置決めされた位置から移動することはない。
After the positioning is completed, the
なお、図3では、説明のために平面31と位置決めピン18との間の隙間を強調して示しているが、実際には、一対の平面構造26が位置決めピン18を把持しない程度の隙間であれば十分である。
In FIG. 3, the gap between the
次に、一対のV字状溝構造25と位置決めピン18との摩擦係数について、図5を参照して説明する。図5は、V字状溝構造25が位置決めピン18を位置決めする様子を説明するための説明図である。なお、図5では、説明のために、一対のV字状溝構造25のみを示しており、一対の平面構造26等については省略している。
Next, the friction coefficient between the pair of V-shaped
図5において、一対のV字状溝構造25が位置決めピン18を位置決めする際、位置決めピン18と一方のV字状溝30との接点にかかる力をF1とし、その摩擦力をμF1とする。位置決めピン18と他の一方のV字状溝30との接点にかかる力をF2とし、その摩擦力をμF2とする。また、一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30を構成する斜面と、一対のV字状溝構造25の接近方向に直角な方向との角度をθとする。
5, when a pair of V-shaped
このとき、一対のV字状溝構造25の接近方向に直角な方向における力のつりあいは、以下の式(7)により表され、V字状溝構造25の接近方向における力のつりあいは、以下の式(8)により表される。
At this time, the balance of force in the direction perpendicular to the approach direction of the pair of V-shaped
F1sinθ+F2sinθ=μF1cosθ+μF2cosθ ・・・式(7)
F1cosθ+μF1sinθ=F2cosθ+μF2sinθ ・・・式(8)
したがって、上記構成において、位置決めピン18の位置が維持されるために必要な摩擦係数(μ)は、以下の式(9)にて表される。V字状溝構造が一方の突起を位置決めするためには、一対のV字状溝構造25と位置決めピン18との摩擦係数が、以下の式(9)で示される限界摩擦係数(μ)以下であればよい。
F 1 sin θ + F 2 sin θ = μF 1 cos θ + μF 2 cos θ (7)
F 1 cos θ + μF 1 sin θ = F 2 cos θ + μF 2 sin θ (8)
Therefore, in the above configuration, the friction coefficient (μ) necessary for maintaining the position of the
μ=sinθ/cosθ・・・式(9)
本実施形態では、一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30の開き角は90°である。このため、角度θは45°となり、上記の式(9)によれば、位置決めのための限界摩擦係数μは1である。したがって、一対のV字状溝構造25と位置決めピン18との摩擦係数が1以下であれば、位置決めが十分可能である。
μ = sin θ / cos θ (9)
In the present embodiment, the opening angle of the V-shaped
本実施形態では、一対のV字状溝構造25とピン18との摩擦係数は、SUS304と石英との無潤滑時の摩擦係数であり、おおよそ0.4〜0.6である。よって、一対のV字状溝構造25と位置決めピン18との摩擦係数は、位置決めのための限界摩擦係数μの範囲に十分収まるものである。したがって、本実施形態に係る位置決め装置20は、潤滑手段を用いずとも、位置決めピン18を安定的に位置決めすることができる。
In the present embodiment, the friction coefficient between the pair of V-shaped
また、本実施形態における界摩擦係数μは従来と比べて大幅に向上しているため、仮に、位置決めピンと一対のV字状溝構造25との摩擦係数が高い場合であっても、潤滑手段を用いずに位置決めを安定的に行うことができる。
Further, since the field friction coefficient μ in the present embodiment is greatly improved as compared with the conventional case, even if the friction coefficient between the positioning pin and the pair of V-shaped
また、一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30の開き角は90°に限定されるものではなく、これより大きくても小さくてもよい。
Further, the opening angle of the V-shaped
例えば、一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30の開き角を大きくした場合、位置決め可能な位置範囲が広くなり、回転台カバー17の載置位置に大きな誤差があったとしても位置決めできるという利点がある。ただし、位置決めのための限界摩擦係数μは小さくなる。そこで、前述したように、金属と石英との無潤滑時の摩擦係数はおおよそ0.4〜0.6であるから、一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30の最大の開き角は、限界摩擦係数μが0.6となる118°とすることが好ましい。
For example, when the opening angle of the V-shaped
一方、一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30の開き角を小さくした場合、位置決めのための限界摩擦係数μが大きくなるという利点がある。ただし、位置決め可能な位置範囲が狭くなり、また、V字状溝30内にピンが挟まってしまい抜けなくなってしまう恐れが高くなる。そこで、一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30の最小の開き角は60°程度であることが好ましい。
On the other hand, when the opening angle of the V-shaped
以上のことから、一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30の開き角は60°〜118°の範囲であることが好ましく、加工性や組立性等から最適な角度を選択すればよい。
From the above, it is preferable that the opening angle of the V-shaped
なお、本実施形態では、一対のブロック22のそれぞれに独立に駆動部24を設けているが、本発明はこれに限られず、一対のブロック22が駆動部24を共用してもよいし、また一対のブロック22の一方を固定として他方のみを可動する構成にしてもよい。
In the present embodiment, the
〔実施の形態2〕
本発明に係る他の実施形態について、図6から図9に基づいて説明すれば以下の通りである。尚、本形態では、上記実施の形態1との相違点について説明するため、説明の便宜上、実施の形態1で説明した部材と同一の機能を有する部材には同一の部材番号を付し、その説明を省略する場合がある。
[Embodiment 2]
Another embodiment according to the present invention will be described below with reference to FIGS. In this embodiment, in order to explain the differences from the first embodiment, for the sake of convenience of explanation, members having the same functions as those described in the first embodiment are given the same member numbers, and The description may be omitted.
図6は、本形態の位置決め装置20aの構成を概略的に示す斜視図である。位置決め装置20aは、上記実施の形態1と同様、MOCVD装置の回転台カバー17を位置決めする装置である。上記した実施形態1の一対のブロック22に変えて、本形態では、図6に示すように、一対のV字状溝付きブロック28および一対の平面ブロック29を備えている。また、位置決め装置20aは、構成部品を載せるベース板21、ガイド機構23、駆動部24、および回転台カバー支持部27を備えている。
FIG. 6 is a perspective view schematically showing the configuration of the
回転台カバー17は、図6中の矢印に示すように、一対の位置決めピン18が一対のV字状溝構造25の間と一対の平面構造26の間とにそれぞれ入るように配置され、回転台カバー支持部27によって支持される。
As shown by the arrows in FIG. 6, the
一対のV字状溝付きブロック28は、駆動部24によって駆動されることによって、ガイド機構23に沿って互いに接近または離反するように移動する。また、一対のV字状溝付きブロック28は、V字状溝30が互いに開口側を対峙するように配置された一対のV字状溝構造25を備えている。
The pair of V-shaped
一対のV字状溝構造25は、一対のV字状溝付きブロック28が互いに最も接近したときに、位置決めピン18を把持するように構成されている。一対のV字状溝構造25におけるV字状溝30を形成する斜面の開き角は、上記実施の形態1と同様、90°としている。
The pair of V-shaped
一対の平面ブロック29は、駆動部24によって駆動されることによって、ガイド機構23に沿って互いに接近または離反するように移動する。また、一対の平面ブロック29は平面31が互いに平行に対峙するように一対の配置された平面構造26とを備えている。一対の平面構造26は、上記実施の形態1と異なり、一対の平面ブロック29が互いに最も接近したときに、位置決めピン18を把持するように構成されている。
The pair of
なお、本実施形態では、V字状溝付きブロック28および平面ブロック29の材料としては、耐熱製、耐摩耗性、およびコストを考慮して、SUS304を用いている。ただし、本発明はこれに限られるものではなく、耐熱製および耐摩耗性のみを考慮すれば、セラミックを用いることが好ましい。
In this embodiment, SUS304 is used as the material of the V-shaped
ガイド機構23は、一対のV字状溝付きブロック28および一対の平面ブロック29の各々に対して設けられており、これらのブロックをX軸方向に沿って円滑に移動させるためのガイドであれば特に限定されない。
The
駆動部24は、一対のV字状溝付きブロック28および一対の平面ブロック29の各々に対して設けられている。駆動部24は、一対のV字状溝付きブロック28を互いに接近または離反するように各V字状溝付きブロック28を駆動し、また、一対の平面ブロック29を互いに接近または離反するように各平面ブロック29を駆動する。
The
回転台カバー支持部27は、実施の形態1と同様、ベース板21上に設けられた3個の円柱によって構成されている。回転台カバー支持部27の高さは、位置決めの際、回転台カバー17の下面がV字状溝付きブロック28および平面ブロック29の上面と接触しないように、V字状溝付きブロック28および平面ブロック29の高さよりも高く設定されている。これによって、回転台カバー17のうちの位置決めピン18のみが、V字状溝付きブロック28および平面ブロック29と接触する。
The turntable
次に、位置決め装置20aの位置決め動作について図7から図9を参照して説明する。図7は、回転台カバー17が位置決め装置20にセットされた状態を示す上面図である。なお、図7では、説明のために回転台カバー17の板状部分を省略している。
Next, the positioning operation of the
図7に示すように、まず回転台カバー17は、一対のブロック22が互いに離反した状態の位置決め装置20aにセットされる。セットは回転台カバー17を回転台カバー支持台27に置くことで完了し、このときのセット位置は、一対のV字状溝構造25の間および一対の平面構造26の間に位置決めピン18が1本ずつ配置される位置であればよい。図7では、説明のために、位置決めピン18が位置決め後の位置からずれた状態を示している。
As shown in FIG. 7, the
セット後、駆動部24が一対のV字状溝付きブロック28を駆動し、一対のV字状溝付きブロック28は互いに近接するように移動する。この移動時、まず一対のV字状溝構造25におけるV字溝を構成する4つの斜面のいずれかが、一対のV字状溝構造25の間に配置された位置決めピン18に接触する。続いて、この位置決めピン18は接触したV字状溝構造25におけるV字状溝30の斜面に押され、X軸方向およびY軸方向に移動する。一対のV字状溝付きブロック28がさらに接近すると、最終的には図8に示すように、一対のV字状溝構造25におけるV字溝を構成する4つの斜面のうち、少なくとも3つの斜面によって位置決めピン18を把持する。
After setting, the
次に、駆動部24が一対の平面ブロック29を駆動し、一対の平面ブロック29は互いに近接するように移動する。この移動時、まず一対の平面構造26における2つの平面31のいずれかが、まだ把持されていない方の位置決めピン18と接触する。次いで、この位置決めピン18は接触した平面31に押されて、先に一対のV字状溝構造25が把持した位置決めピン18を回転中心として回転移動する。一対の平面ブロック29がさらに接近すると、最終的には図9に示すように、一対の平面構造26における2つの平面31が位置決めピン18を把持する。
Next, the driving
すなわち、本実施形態においても、一対のV字状溝構造25はX軸方向およびY軸方向に位置決めピン18を移動させて所定の位置に位置決めするのに対し、一対の平面構造26は一対のV字状溝構造25が把持した位置決めピン18を回転中心として、回転台カバー17の回転方向を所定の方向に位置決めする。言い換えると、一対のV字状溝構造25は回転台カバー17の位置を決め、一対の平面構造26は回転台カバー17の姿勢を決める。
That is, also in the present embodiment, the pair of V-shaped
以上のようにして回転台カバー17の位置決めが完了する。位置決めが完了した後には、一対のV字状溝付きブロック28および一対の平面ブロック29をそれぞれ離反させ、位置決めピン18を開放すればよい。
As described above, the positioning of the
本実施形態では、実施の形態1と同様に、一対のV字状溝構造25と一対の平面構造26を用いて位置決めを行っているため、一対のV字状溝構造25と位置決めピン18との摩擦係数が従来と比較して大きい場合であっても、位置決めを安定的に行うことができる。よって、本実施形態に係る位置決め装置20aは、潤滑手段を用いずとも、位置決めピン18を位置決めすることができる。
In the present embodiment, since the positioning is performed using the pair of V-shaped
また、本実施形態では、一対のV字状溝構造25が位置決めピン18を把持したあとに、一対の平面構造26が位置決めピン18を把持する。このため、一対の平面構造26が先に位置決めピン18を把持することによって一対のV字状溝構造25による位置決めが阻害される、というような事態は本実施形態においても発生しない。よって、本実施形態に係る位置決め装置20aは、位置決めピン18を安定的に位置決めすることができる。
In the present embodiment, the pair of
また、本実施形態では、一対の平面構造26が間に隙間を有さずに位置決めピン18を把持するため、位置決め誤差が少ない。
In the present embodiment, since the pair of
なお、V字状溝付きブロック28と平面ブロック29との移動順序は上述したものに限られない。例えば、先に一対の平面構造26を位置決めピン18に接近させ、その後に一対のV字状溝構造25を位置決めピン18を把持するような順序であってもよい。このとき、平面構造26で位置決めピン18を拘束しないように、一対の平面構造26で位置決めピン18を把持しなけいことが好ましい。
The moving order of the V-shaped
また、本実施形態ではV字状溝付きブロック28および平面ブロック29の各ブロックに対して駆動部24をそれぞれに独立に設けているが、本発明はこれに限られない。例えば、V字状溝付きブロック28同士もしくは平面ブロック29同士で共用してもよい。また、一対のV字状溝付きブロック28または一対の平面ブロック29のいずれか一方を固定し、他方のみを可動にする構成であってもよい。
Further, in the present embodiment, the
本発明に係る位置決め装置は、位置決め用突起が形成されている対象物を位置決めする装置として、特には、潤滑手段を用いることのできない成膜装置の部品を位置決めする装置として、好適に利用することができる。 The positioning device according to the present invention is preferably used as a device for positioning an object on which positioning protrusions are formed, particularly as a device for positioning a component of a film forming apparatus that cannot use a lubricating means. Can do.
17 回転台カバー
20、20a 位置決め装置
22 ブロック
25 V字状溝構造
26 平面構造
28 V字状溝付きブロック
29 平面ブロック
30 V字状溝
31 平面
17
Claims (5)
V字状溝を互いに対向する配置にそれぞれ備え、かつ、上記V字状溝同士の間に上記一対の突起のうちの一方の突起を受ける、接近離反可能な一対のV字状溝構造と、
平面部を互いに対向する配置にそれぞれ備え、かつ、上記平面部同士の間に上記一対の突起のうちの他方の突起を受ける、接近離反可能な一対の平面構造とを備え、
上記一対のV字状溝構造および上記一対の平面構造の各々は、上記一対の突起の各々を位置決めする各任意の位置において互いに近接し、
上記一対のV字状溝構造が上記任意の位置において互いに近接したとき、
互いに対向する上記平面部同士の間の距離は、一方のV字状溝構造におけるV字状溝を構成する斜面と、当該斜面と対向する、他方のV字状溝構造におけるV字状溝を構成する斜面との間によって決定される2つの距離のうち、少なくとも1つの距離よりも長いことを特徴とする位置決め装置。 A positioning device for positioning an object having a pair of protrusions formed in a columnar shape,
A pair of V-shaped groove structures capable of approaching and separating, each having a V-shaped groove in an opposing arrangement and receiving one of the pair of protrusions between the V-shaped grooves;
A pair of planar structures capable of approaching and separating, each having a planar portion in an arrangement opposite to each other, and receiving the other projection of the pair of projections between the planar portions;
Each of the pair of V-shaped groove structures and the pair of planar structures is close to each other at each arbitrary position for positioning the pair of protrusions ,
When the pair of V-shaped groove structures are close to each other at the arbitrary position,
The distance between the flat portions facing each other is as follows: a slope that forms a V-shaped groove in one V-shaped groove structure, and a V-shaped groove in the other V-shaped groove structure that faces the slope. A positioning device characterized by being longer than at least one of two distances determined by the distance between the slopes .
上記V字状溝構造における少なくとも上記突起との接触部分は金属またはセラミックから構成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の位置決め装置。 The pair of protrusions is made of quartz,
Positioning device for at least the contact portion between the projections according to any one of claims 1, characterized by being composed of metal or ceramic 4 in the V-shaped groove structure.
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