JP4707700B2 - Metal foil laminate for etching and method for producing etched metal foil - Google Patents
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Description
本発明は、エッチング用金属箔積層体及びエッチド金属箔の製造方法に関する。 The present invention relates to a metal foil laminate for etching and a method for producing an etched metal foil.
従来におけるエッチド金属箔の製造方法は、例えば、金属箔の一面にアルカリ可溶性樹脂を含む紫外線硬化型レジストインキでグラビア印刷を施して所定のパターンのレジスト層を形成し、これに紫外線を照射した後、酸エッチングを行い、次いでアルカリ水溶液中でレジスト層を剥離除去することによって実施されている(特許文献1など参照)。すなわち、従来の方法では、酸性溶液とアルカリ水溶液の2種類の溶液が必要とされている。 A conventional method for producing an etched metal foil is, for example, by performing gravure printing with an ultraviolet curable resist ink containing an alkali-soluble resin on one surface of a metal foil to form a resist layer with a predetermined pattern, and then irradiating it with ultraviolet rays. In this method, acid etching is performed, and then the resist layer is peeled and removed in an alkaline aqueous solution (see, for example, Patent Document 1). That is, the conventional method requires two types of solutions, an acidic solution and an alkaline aqueous solution.
しかしながら、上記のような方法では、1)2種類の溶液を使用するためにそれぞれ工程を分けなければならない、2)溶液の管理が煩雑になる、3)各溶液のための設備が必要となる、4)トータルコストの上昇を招く等の問題がある。
このように、2種類の溶液を使用する方法では、前述したような点についてさらなる改善が必要とされている。 Thus, in the method using two types of solutions, further improvement is required for the above-described points.
従って、本発明の主な目的は、より効率的に工業的規模でエッチド金属箔を提供することにある。 Therefore, the main object of the present invention is to provide etched metal foil more efficiently on an industrial scale.
本発明者は、従来技術の問題点を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定のレジスト層を有する積層体を用いることによって上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、下記のエッチング用金属箔積層体及びエッチド金属箔の製造方法に係る。
As a result of intensive studies to solve the problems of the prior art, the present inventor has found that the above object can be achieved by using a laminate having a specific resist layer, and has completed the present invention. .
That is, this invention concerns on the manufacturing method of the following metal foil laminated body for etching, and etched metal foil.
1. ポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤を含むレジスト液によるレジスト層が金属箔の一部又は全部に形成されているエッチング用金属箔積層体。 1. A metal foil laminate for etching in which a resist layer made of a resist solution containing a polyester resin and an isocyanate curing agent is formed on a part or all of the metal foil.
2. ポリエステル系樹脂が、ポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤の合計量に対して44〜99.7重量%含まれる前記項1記載のエッチング用金属箔積層体。
2.
3. ポリエステル系樹脂の分子量が15000〜25000である前記項1又は2に記載のエッチング用金属箔積層体。
3. Item 3. The metal foil laminate for etching according to
4. ポリエステル系樹脂のガラス転移点が5〜70℃である前記項1〜3のいずれかに記載のエッチング用金属箔積層体。
4).
5. イソシアネート系硬化剤中のイソシアネート化合物の分子量が300〜1000である前記項1〜4のいずれかに記載のエッチング用金属箔積層体。
5. Item 5. The metal foil laminate for etching according to any one of
6. レジスト液がさらに無機質粉末を含有する前記項1〜5のいずれかに記載のエッチング用金属箔積層体。
6). Item 6. The metal foil laminate for etching according to any one of
7. ポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤を含むレジスト液を用いて金属箔の一部又は全部にレジスト層を形成し、当該レジスト層が硬化した後、1つのエッチング液中で当該金属箔のエッチング処理及び当該レジスト層の剥離処理を順次行うエッチド金属箔の製造方法。 7. After forming a resist layer on part or all of the metal foil using a resist solution containing a polyester-based resin and an isocyanate-based curing agent, and after the resist layer is cured, the etching treatment of the metal foil in one etching solution and A method for producing an etched metal foil in which the resist layer is sequentially peeled off.
8. 前記項1〜6のいずれかに記載のエッチング用金属箔積層体を用い、当該レジスト層が硬化した後、1つのエッチング液中で当該金属箔のエッチング処理及び当該レジスト層の剥離処理を順次行うエッチド金属箔の製造方法。
8). The etching metal foil laminate according to any one of
9. レジスト層が硬化した後、1つのエッチング液中で金属箔のエッチング処理及びレジスト層の剥離処理を順次行うために用いる前記項1〜6のいずれかに記載のエッチング用金属箔積層体。
9. Item 7. The metal foil laminate for etching according to any one of
10. ポリエステル系樹脂が、飽和ポリエステル又はその変性ポリエステルである前記項1〜5のいずれかに記載のエッチング用金属箔積層体。
10. Item 6. The metal foil laminate for etching according to any one of
1.エッチング用金属箔積層体
本発明のエッチング用金属箔積層体は、ポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤を含むレジスト液によるレジスト層が金属箔の一部又は全部に形成されている。
1. Metal foil laminate for etching In the metal foil laminate for etching of the present invention, a resist layer made of a resist solution containing a polyester-based resin and an isocyanate-based curing agent is formed on a part or all of the metal foil.
<金属箔>
本発明で用いる金属箔は特に限定されず、単一の金属箔のほか、合金箔等も包含される。例えば、アルミニウム、銅、鉄、チタン、スズ、これらを含む合金(スチール、ステンレススチール等)等が挙げられる。
<Metal foil>
The metal foil used in the present invention is not particularly limited, and includes an alloy foil and the like in addition to a single metal foil. For example, aluminum, copper, iron, titanium, tin, alloys containing these (steel, stainless steel, etc.), and the like can be given.
本発明では、金属箔はアルミニウム箔(純アルミニウム箔)又はアルミニウム合金箔であることが望ましい。アルミニウム合金箔としては、Fe、Si、Cu、Ni、Cr、Ti、Zr、Zn、Mn、Mg及びGaの少なくとも1種の金属成分を含むものが好ましい。これらの金属成分は、JIS等で規定されている所定の含有量であっても良い。 In the present invention, the metal foil is preferably an aluminum foil (pure aluminum foil) or an aluminum alloy foil. The aluminum alloy foil preferably contains at least one metal component of Fe, Si, Cu, Ni, Cr, Ti, Zr, Zn, Mn, Mg, and Ga. These metal components may have a predetermined content defined by JIS or the like.
これらアルミニウム箔又はアルミニウム合金箔としては、具体的には、純アルミニウム(JIS(AA)1000系、例えば1N30、1N70、1N90等)、Al−Mn系(JIS(AA)3000系、例えば3003、3004等)、Al−Mg系(JIS(AA)5000系)、Al−Fe系(JIS(AA)8000系、例えば8021、8079等)等が例示できる。また、これらアルミニウム箔又はアルミニウム合金箔は、硬質材、半硬質材、軟質材等のいずれであっても良いが、軟質材(特に圧延後に少なくとも1回の熱処理(好ましくは200〜500℃)を施した軟質材)が好適である。 Specifically, these aluminum foils or aluminum alloy foils include pure aluminum (JIS (AA) 1000 series, such as 1N30, 1N70, 1N90, etc.), Al-Mn series (JIS (AA) 3000 series, such as 3003, 3004, etc. Etc.), Al-Mg system (JIS (AA) 5000 system), Al-Fe system (JIS (AA) 8000 system, such as 8021, 8079, etc.). The aluminum foil or aluminum alloy foil may be any of a hard material, a semi-hard material, a soft material, etc., but a soft material (especially at least one heat treatment (preferably 200 to 500 ° C.) after rolling). (Applied soft material) is preferred.
本発明の金属箔の厚みは特に限定されず、最終製品の用途、使用方法等に応じて適宜設定すれば良い。一般的には、4〜300μmとすることが好ましい。 The thickness of the metal foil of this invention is not specifically limited, What is necessary is just to set suitably according to the use, usage method, etc. of a final product. In general, the thickness is preferably 4 to 300 μm.
本発明では、金属箔は、レジスト層とは別個に、樹脂フィルム層等の第三層を1層又は2層以上有していても良い。例えば、ポリアミド(ナイロン)、ポリエチレン(延伸ポリエチレン、高密度ポリエチレン等を含む。)、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート(アモルファスPETを含む。)、ポリ塩化ビニル等の1種又は2種以上を好適に用いることができる。第三層の厚みは、通常9〜50μm程度とすれば良い。 In the present invention, the metal foil may have one or more third layers such as a resin film layer separately from the resist layer. For example, one or more of polyamide (nylon), polyethylene (including stretched polyethylene, high-density polyethylene, etc.), polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate (including amorphous PET), and polyvinyl chloride are preferably used. be able to. The thickness of the third layer is usually about 9 to 50 μm.
第三層の形成方法は限定的でなく、公知の方法に従って実施することができる。例えば、1)ポリエステルウレタン系、ポリエステル系等の2液硬化型ウレタン系接着剤等を用いるドライラミネーション法、2)共押出法、3)押出コート法、4)熱ラミネーション法等を適用できる。この場合、金属箔の接着面には、予めアンカーコート処理、プライマーコート処理等を必要に応じて施すことができる。 The formation method of a 3rd layer is not limited, It can implement according to a well-known method. For example, 1) a dry lamination method using a two-component curable urethane adhesive such as a polyester urethane type or a polyester type, 2) a coextrusion method, 3) an extrusion coating method, 4) a thermal lamination method, etc. can be applied. In this case, an anchor coat process, a primer coat process, etc. can be applied to the adhesive surface of the metal foil in advance as required.
第三層の形態は、金属箔の一部又は全部がエッチングできるようにすれば良い。例えば、図1〜図2に示すような形態で第三層(樹脂フィルム層等)を設けることができる。 The form of the third layer may be such that part or all of the metal foil can be etched. For example, a 3rd layer (resin film layer etc.) can be provided with a form as shown in FIGS.
<レジスト液>
本発明では、レジスト層を形成するため、ポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤を含むレジスト液を用いる。
<Resist solution>
In the present invention, a resist solution containing a polyester resin and an isocyanate curing agent is used to form a resist layer.
ポリエステル系樹脂の種類は、用いるイソシアネート系硬化剤によって硬化するものであれば特に限定されず、公知又は市販のものも使用できる。ポリエステル系樹脂としては、例えば飽和ポリエステル(線状飽和ポリエステル)又はその変成ポリエステル(変成エーテル型ポリエステル等)等を好ましく使用できる。これらポリエステルは、2種以上のモノマーを組み合わせた共重合体であっても良い。これらポリエステルのうち、分子中の少なくとも2箇所以上にヒドロキシ基を有するポリエステル樹脂等が好ましい。 The type of polyester resin is not particularly limited as long as it is cured by the isocyanate curing agent to be used, and known or commercially available ones can also be used. As the polyester-based resin, for example, saturated polyester (linear saturated polyester) or a modified polyester thereof (modified ether type polyester or the like) can be preferably used. These polyesters may be copolymers obtained by combining two or more monomers. Of these polyesters, polyester resins having hydroxy groups at least in two or more positions in the molecule are preferred.
線状飽和ポリエステルとして、例えばアルコール成分(エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタジオール、1,4−ジシクロヘキサンジメタノール等)と、ジカルボン酸成分(アジピン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸等)との共縮合重合体が挙げられる。より具体的には、エチレングリコールとテレフタル酸との共重合体、エチレングリコールとイソフタル酸とテレフタル酸との共重合体、1,4−ジシクロヘキサンジメタノールとイソフタル酸とテレフタル酸との共重合体、プロピレングリコールとイソフタル酸とテレフタル酸等の共重合体等を例示できる。 Examples of linear saturated polyesters include alcohol components (ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butadiol, 1,4-dicyclohexane dimethanol and the like) and dicarboxylic acid components (aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and sebacic acid, And an aromatic dicarboxylic acid such as terephthalic acid, isophthalic acid and diphenylcarboxylic acid). More specifically, a copolymer of ethylene glycol and terephthalic acid, a copolymer of ethylene glycol, isophthalic acid and terephthalic acid, a copolymer of 1,4-dicyclohexanedimethanol, isophthalic acid and terephthalic acid And a copolymer of propylene glycol, isophthalic acid and terephthalic acid.
その他にも、飽和ポリエステル樹脂として、例えば飽和多塩基酸成分(フタル酸、イソフタル酸テレフタル酸、マレイン酸、マレイン酸誘導体、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸等)と、多価アルコール成分(エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、1−2プロピレングリコール、1−3ブタンジオール、ジプロピレングリコール、1−4ブタンジオール、1−6ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリコール、1−4シクロヘキサンジメタノール等)とのエステル結合により得られる重合体が例示できる。 Other saturated polyester resins include, for example, saturated polybasic acid components (phthalic acid, isophthalic acid terephthalic acid, maleic acid, maleic acid derivatives, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, etc.) and polyhydric alcohol components (ethylene glycol). , Diethylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, 1-2 propylene glycol, 1-3 butanediol, dipropylene glycol, 1-4 butanediol, 1-6 hexanediol, pentaerythritol, sorbitol, neopentyl glycol, 1-4 Examples thereof include a polymer obtained by an ester bond with cyclohexanedimethanol or the like.
本発明のポリエステル系樹脂は、特にガラス転移点(Tg)が5〜70℃(特に10〜60℃)であるものが好ましい。上記範囲内に設定する場合には、ブロッキング現象をより確実に回避できるとともに、レジスト層の剥離処理をより効率的に行うことが可能になる。 The polyester resin of the present invention preferably has a glass transition point (Tg) of 5 to 70 ° C. (particularly 10 to 60 ° C.). When set within the above range, the blocking phenomenon can be avoided more reliably, and the resist layer can be peeled off more efficiently.
また、本発明のポリエステル系樹脂は、特に分子量15000〜25000であるものが好ましい。上記分子量の範囲内に設定すれば、金属箔のエッチング処理後にレジスト層の剥離をより容易に行うことができる。 In addition, the polyester resin of the present invention preferably has a molecular weight of 15,000 to 25,000. If the molecular weight is set within the above range, the resist layer can be more easily removed after the metal foil etching process.
ポリエステル系樹脂の含有量は、使用するポリエステル系樹脂の種類、積層体の用途等に応じて適宜決定すれば良いが、特にポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤の合計量に対して44〜99.7重量%(固形分換算)となるようにすれば良い。かかる範囲に設定することによって、より優れた硬化性能、易剥離性等を達成することができる。 The content of the polyester resin may be appropriately determined according to the type of the polyester resin to be used, the use of the laminated body, and the like, but in particular, 44 to 99. with respect to the total amount of the polyester resin and the isocyanate curing agent. What is necessary is just to make it 7 weight% (solid content conversion). By setting to such a range, more excellent curing performance, easy peelability, and the like can be achieved.
イソシアネート系硬化剤は特に限定されず、公知又は市販のものを使用することができる。例えば、芳香族系イソシアネートとしてトルエンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート;脂肪族系イソシアネートとしてヘキサンメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物を含む硬化剤を用いることができる。 The isocyanate curing agent is not particularly limited, and known or commercially available ones can be used. For example, a curing agent containing an isocyanate compound such as toluene diisocyanate or diphenylmethane diisocyanate as the aromatic isocyanate; hexanemethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, or tetramethylxylylene diisocyanate as the aliphatic isocyanate can be used.
上記イソシアネート化合物の分子量は特に限定されないが、300〜1000とすることが好ましい。 Although the molecular weight of the said isocyanate compound is not specifically limited, It is preferable to set it as 300-1000.
イソシアネート系硬化剤の含有量は、使用するイソシアネート系硬化剤の種類、積層体の用途等に応じて適宜決定すれば良いが、特にポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤の合計量に対して0.3〜56重量%(固形分換算)となるようにすれば良い。 The content of the isocyanate curing agent may be appropriately determined according to the type of the isocyanate curing agent to be used, the use of the laminate, and the like. What is necessary is just to make it become 3 to 56 weight% (solid content conversion).
本発明では、必要に応じて、レジスト液中に他の添加材が含まれていても良い。例えば、レジスト層の耐ブロッキング性(積層体をロール状に巻き取ったり、積層体どうしを重ねて積載したときに、積層体相互が吸着して離れにくくなる現象を阻止する性能)、易剥離性等をより高めるために無機質粉末を含有させても良い。例えば、タルク、アルミナ、酸化ケイ素、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の粉末の1種又は2種以上を用いることができる。これらの中でもタルクが好ましい。また、これら粉末の平均粒径は限定的ではないが、0.1〜20μm程度とすれば良い。 In the present invention, other additives may be contained in the resist solution as necessary. For example, resist layer blocking resistance (the ability to prevent the layers from adsorbing to each other when they are wound into rolls or stacked together and stacked) In order to enhance the above, an inorganic powder may be included. For example, one kind or two or more kinds of powders such as talc, alumina, silicon oxide, titanium oxide, calcium carbonate, and barium sulfate can be used. Of these, talc is preferred. The average particle size of these powders is not limited, but may be about 0.1 to 20 μm.
無機質粉末の含有量は、所望のレジスト層の性能等に応じて適宜決定できるが、ポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤の合計量100重量部に対して5重量部以下、特に0.5〜5重量部とすることが望ましい。 The content of the inorganic powder can be appropriately determined according to the performance of the desired resist layer, etc., but is 5 parts by weight or less, particularly 0.5 to 5 parts per 100 parts by weight of the total amount of the polyester resin and the isocyanate curing agent. It is desirable to use parts by weight.
本発明のレジスト液は、必要に応じて溶媒を使用することもできる。例えば、トルエン、メチルエチルケトン、シンナー、アセトン、ベンジン、イソプロピルアルコール、酢酸メチル、酢酸エチル、ヘキサン等の有機溶剤を使用することができる。これらは、1種又は2種以上で用いることができる。溶媒の使用量は、使用するポリエステル系樹脂等の種類、所望のレジスト層の厚み等に応じて適宜設定すれば良い。 In the resist solution of the present invention, a solvent can be used as necessary. For example, organic solvents such as toluene, methyl ethyl ketone, thinner, acetone, benzine, isopropyl alcohol, methyl acetate, ethyl acetate, and hexane can be used. These can be used alone or in combination of two or more. What is necessary is just to set the usage-amount of a solvent suitably according to the kind of polyester-type resin etc. to be used, the thickness of a desired resist layer, etc.
また、本発明では、必要に応じて、レジスト液中に上記無機質粉末以外の添加剤を含有させても良い。例えば、着色顔料、粘度調整剤、硬化促進剤、分散剤、沈降防止剤、消泡剤、腐食防止剤、表面調整剤等を本発明の効果を損なわない範囲で適宜添加することができる。 Moreover, in this invention, you may contain additives other than the said inorganic powder in a resist liquid as needed. For example, a color pigment, a viscosity modifier, a curing accelerator, a dispersant, an anti-settling agent, an antifoaming agent, a corrosion inhibitor, a surface conditioner, and the like can be appropriately added as long as the effects of the present invention are not impaired.
<レジスト層の形成>
レジスト層の形成は、前記レジスト液を用いて金属箔の一部又は全部に形成すれば良い。形成方法は公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、刷毛、スプレー、ローラー、ドクタブレード、バーコーター等による塗布のほか、各種の印刷方法を用いることもできる。印刷による場合は、例えば凸版印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷等を適用できる。
<Formation of resist layer>
The resist layer may be formed on a part or all of the metal foil using the resist solution. What is necessary is just to implement the formation method according to a well-known method. For example, in addition to application with a brush, spray, roller, doctor blade, bar coater, etc., various printing methods can also be used. In the case of printing, for example, letterpress printing, screen printing, offset printing, gravure printing, etc. can be applied.
形成されたレジスト層は、経時的に硬化する。レジスト層の硬化は常温でも進行するが、加熱して硬化を促進させることもできる。例えば、30〜120℃程度で1分〜240時間保持することによって硬化させることもできる。 The formed resist layer is cured with time. Curing of the resist layer proceeds even at room temperature, but it can also be accelerated by heating. For example, it can be cured by holding at about 30 to 120 ° C. for 1 minute to 240 hours.
本発明のレジスト層(硬化後)の厚みは、エッチング条件、積層体の用途等に応じて適宜決定できるが、通常は0.3〜20μmとすることが望ましい。
2.エッチド金属箔の製造方法
本発明の製造方法は、ポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤を含むレジスト液を用いて金属箔の一部又は全部にレジスト層を形成し、当該レジスト層が硬化した後、1つの液中(エッチング液中)で当該金属箔のエッチング処理及び当該レジスト層の剥離処理を順次行うことを特徴とする。
Although the thickness of the resist layer (after curing) of the present invention can be appropriately determined according to the etching conditions, the use of the laminate, etc., it is usually desirable to be 0.3 to 20 μm.
2. Etching metal foil manufacturing method The manufacturing method of the present invention is to form a resist layer on part or all of the metal foil using a resist solution containing a polyester resin and an isocyanate curing agent, and after the resist layer is cured, The metal foil etching process and the resist layer peeling process are sequentially performed in one liquid (in the etching liquid).
本発明の製造方法のうち、レジスト層を硬化させる工程までは前記1.のエッチング用金属箔積層体の説明に従って実施することができる。すなわち、本発明は、前記エッチング用金属箔積層体を用い、レジスト層の硬化後、エッチング液中で当該金属箔のエッチング処理及び当該レジスト層の剥離処理を順次行うことが望ましい。なお、当該エッチング処理と当該剥離処理との間に乾燥工程を設け両処理を断続的に行っても良い。また、当該エッチング処理と当該剥離処理は、1つのエッチング液を用いる限り別々の槽中で行っても良い。 Among the production methods of the present invention, the steps up to 1. It can implement according to description of the metal foil laminated body for an etching. That is, in the present invention, it is desirable that the etching metal foil laminate is used, and after the resist layer is cured, the metal foil etching process and the resist layer peeling process are sequentially performed in an etching solution. Note that a drying process may be provided between the etching process and the peeling process to perform both processes intermittently. Further, the etching process and the peeling process may be performed in different tanks as long as one etching solution is used.
エッチング処理及び剥離処理を行うための液(エッチング液)は、塩酸、フッ酸、リン酸、シュウ酸、硫酸、塩化第二鉄水溶液、苛性ソーダ等の酸性溶液又はアルカリ性溶液(水溶液)を用いることができる。これら溶液の濃度は、積層体の種類等に応じて適宜設定すれば良いが、通常1〜30重量%程度とすれば良い。また、エッチング温度及び時間も、エッチング部位の形状、エッチング深さ等に応じて適宜調整すれば良いが、通常は温度20〜90℃で1〜30分程度とすれば良い。通電方式を採用する場合は、直流又は交流のいずれであっても良い。その場合の電流密度は、一般的には5〜10000mA/cm2程度とすれば良い。 As the liquid (etching liquid) for performing the etching process and the peeling process, an acidic solution or an alkaline solution (aqueous solution) such as hydrochloric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, oxalic acid, sulfuric acid, ferric chloride aqueous solution, caustic soda, or the like is used. it can. The concentration of these solutions may be appropriately set according to the type of the laminated body, but is usually about 1 to 30% by weight. Further, the etching temperature and time may be appropriately adjusted according to the shape of the etching site, the etching depth, etc., but it is usually sufficient that the temperature is 20 to 90 ° C. and about 1 to 30 minutes. When the energization method is adopted, either direct current or alternating current may be used. In this case, the current density is generally about 5 to 10000 mA / cm 2 .
また、エッチング処理は、金属箔に貫通孔、貫通溝、貫通帯等を設けるためのエッチング、金属箔の表面積を拡大させるためのエッチング、金属箔表面の表面粗度を調節するためのエッチング等のいずれのタイプのエッチング処理も適用できる。 Etching treatment includes etching for providing through holes, through grooves, through bands, etc. in the metal foil, etching for expanding the surface area of the metal foil, etching for adjusting the surface roughness of the metal foil surface, etc. Either type of etching process can be applied.
本発明では、エッチング処理に続いて、当該溶液中でレジスト層の剥離処理を行う。剥離方法自体は公知の方法に従えば良い。剥離に要する時間は、エッチング液の温度、レジスト層の組成又は厚み等に応じて適宜決定できる。 In the present invention, after the etching process, the resist layer is stripped in the solution. The peeling method itself may follow a known method. The time required for stripping can be appropriately determined according to the temperature of the etching solution, the composition or thickness of the resist layer, and the like.
本発明の製造方法により得られるエッチド金属箔は、公知のエッチド箔と同様の用途を含め、幅広い分野に利用される。例えば、プリント配線、非接触型共振タグ・ICカード等の回路、電解コンデンサの電極、二次電池・電気二重層コンデンサの集電体、電磁波遮蔽体・電磁波吸収体等に用いることができる。 The etched metal foil obtained by the production method of the present invention is used in a wide range of fields, including the same applications as known etched foils. For example, it can be used for printed wiring, circuits such as contactless resonance tags / IC cards, electrodes for electrolytic capacitors, current collectors for secondary batteries / electric double layer capacitors, electromagnetic wave shields / electromagnetic wave absorbers, and the like.
本発明によれば、レジスト層が特定のレジスト液により形成されているので、1種類のエッチング液でエッチング処理とレジスト層の剥離処理とを行うことが可能となる。その結果、1)従来技術に比して工程の短縮化が図られ、2)溶液の管理が容易となり、3)設備も従来より少なくて済む等の効果が得られる。 According to the present invention, since the resist layer is formed of a specific resist solution, the etching process and the resist layer peeling process can be performed with one kind of etching solution. As a result, 1) the process can be shortened as compared with the prior art, 2) the solution can be easily managed, and 3) less equipment than before can be obtained.
また、上記積層体では、レジスト層の組成を調整することにより、エッチング時間及び剥離時間を制御することができる。 In the above laminate, the etching time and the stripping time can be controlled by adjusting the composition of the resist layer.
さらに、レジスト層中に無機質粉末が含有される場合には、より優れた耐ブロッキング性能が発揮される。 Furthermore, when the inorganic powder is contained in the resist layer, more excellent anti-blocking performance is exhibited.
以下に実施例及び比較例を示し、本発明の特徴を一層明確にする。ただし、本発明の範囲は、これら実施例に限定されるものではない。 Examples and comparative examples are shown below to further clarify the features of the present invention. However, the scope of the present invention is not limited to these examples.
実施例及び比較例
表1に示す各レジストインキを150mm×150mm×厚み40μmのアルミニウム箔(JIS:1N99、軟質材)の片面にバーコーターにより塗布し、各試料を作製した。この場合、レジストインキを塗布した領域は、上記アルミニウム箔の中央部100mm×100mmの領域とした。
Examples and Comparative Examples Each resist ink shown in Table 1 was applied to one side of an aluminum foil (JIS: 1N99, soft material) of 150 mm × 150 mm × thickness 40 μm by a bar coater to prepare each sample. In this case, the area | region which apply | coated resist ink was made into the area | region of 100 mm x 100 mm center part of the said aluminum foil.
表1中のポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤の表示は、それぞれ以下のものを示す。 The indications of the polyester-based resin and the isocyanate-based curing agent in Table 1 are as follows.
PS1:線状飽和ポリエステル樹脂(分子量15000〜20000、ガラス転移点67℃)
PS2:線状飽和ポリエステル樹脂(分子量20000〜25000、ガラス転移点7℃)
PS3:変性エーテル型ポリエステル樹脂(分子量約20000、ガラス転移点22℃)
硬化剤:アダクト型トルエンジイソシアネート(分子量665)
また、各レジストインキは、粘度がザーンカップ4号で約20秒となるように混合溶剤(メチルエチルケトン:トルエン=1:1(重量比))で調整したものを使用した。
PS1: linear saturated polyester resin (molecular weight 15000-20000, glass transition point 67 ° C.)
PS2: linear saturated polyester resin (molecular weight 20000-25000, glass transition point 7 ° C.)
PS3: modified ether type polyester resin (molecular weight about 20000, glass transition point 22 ° C.)
Curing agent: adduct-type toluene diisocyanate (molecular weight 665)
Each resist ink used was adjusted with a mixed solvent (methyl ethyl ketone: toluene = 1: 1 (weight ratio)) such that the viscosity was about 20 seconds with Zahn Cup No. 4.
次いで、各試料を40℃で72時間乾燥した後、10重量%塩酸水溶液(75℃)中に浸漬することにより、エッチング処理及び剥離処理を同一の塩酸水溶液中で連続的に実施した。剥離終了後、試料を温風により乾燥させた。 Next, each sample was dried at 40 ° C. for 72 hours, and then immersed in a 10% by weight hydrochloric acid aqueous solution (75 ° C.), whereby the etching treatment and the stripping treatment were continuously performed in the same aqueous hydrochloric acid solution. After stripping, the sample was dried with warm air.
試験例1
実施例及び比較例の各試料について、剥離時間、ブロッキング及びレジスト効果について調べた。その結果を表1に示す。
Test example 1
About each sample of an Example and a comparative example, it investigated about peeling time, blocking, and the resist effect. The results are shown in Table 1.
<剥離時間>
レジスト層が完全に剥離するまでの時間を測定した。
<Peeling time>
The time until the resist layer completely peeled was measured.
<ブロッキングの評価>
エッチング前の各試料をレジスト層が対向するように重ね、ガラス板で挟持し、上方から500gの荷重をかけた状態で60℃の恒温室中で48時間保持した後、室温中で官能試験を行った。なお、表1中の評価内容は以下のとおりである。
<Evaluation of blocking>
Each sample before etching is stacked so that the resist layers face each other, sandwiched between glass plates, held in a constant temperature room at 60 ° C. for 48 hours under a load of 500 g from above, and then subjected to a sensory test at room temperature. went. The evaluation contents in Table 1 are as follows.
5:片手で容易に2枚に分離できる
4:片手で2枚に分離できる
3:片手で分離することは困難であるが、両手では容易に2枚に分離できる
2:両手で2枚に分離できる
1:両手で分離しようとすると表面が一部剥離する
<レジスト効果の評価>
各試料のエッチング及び剥離処理中の状況ならびに剥離後の試料を目視により観察して判断した。なお、表1中の評価内容は以下のとおりである。
5: Can be easily separated into two sheets with one hand 4: Can be separated into two sheets with one hand 3: Although difficult to separate with one hand, it can be easily separated into two sheets with both hands 2: Separated into two sheets with both hands Possible 1: Partial separation of the surface when trying to separate with both hands <Evaluation of resist effect>
The situation during etching and peeling treatment of each sample and the sample after peeling were visually observed and judged. The evaluation contents in Table 1 are as follows.
A:ほぼ一定時間後に均一に剥離し、レジスト部分は殆どエッチングされない
B:徐々に剥離するため、ムラができ、レジスト部分が部分的にエッチングされる
C:樹脂がちぎれて、レジスト効果がなく、不必要な部分までエッチングされる
D:剥離が早すぎてレジスト効果がなく、不必要な部分までエッチングされる
E:剥離しない
A: Stripped uniformly after a certain period of time, and the resist part is hardly etched B: Since the film is gradually peeled off, unevenness is caused and the resist part is partially etched C: Resin is broken and there is no resist effect, Etching up to unnecessary parts D: Peeling off too early and resist effect, etching up to unnecessary parts E: Not peeling
1…エッチング用金属箔積層体
2…金属箔
3a、3b…レジスト層
4…樹脂フィルム層
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007285916A JP4707700B2 (en) | 2007-11-02 | 2007-11-02 | Metal foil laminate for etching and method for producing etched metal foil |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007285916A JP4707700B2 (en) | 2007-11-02 | 2007-11-02 | Metal foil laminate for etching and method for producing etched metal foil |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003027303A Division JP4065993B2 (en) | 2003-02-04 | 2003-02-04 | Metal foil laminate for etching and method for producing etched metal foil |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008153627A JP2008153627A (en) | 2008-07-03 |
JP4707700B2 true JP4707700B2 (en) | 2011-06-22 |
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ID=39655433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007285916A Expired - Fee Related JP4707700B2 (en) | 2007-11-02 | 2007-11-02 | Metal foil laminate for etching and method for producing etched metal foil |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4707700B2 (en) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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---|---|
JP2008153627A (en) | 2008-07-03 |
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