JP4702313B2 - Stage equipment - Google Patents
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Description
本発明は、少なくともXY方向にワークを載置したプレートを移動させるステージ装置に係り、例えば、露光装置や検査装置などに使用され、プレート面において直交するXY方向にワークを載置したプレートを移動させるステージ装置に関する。 The present invention relates to a stage device that moves a plate on which a workpiece is placed at least in the XY directions, and is used in, for example, an exposure apparatus and an inspection device, and moves a plate on which a workpiece is placed in an XY direction orthogonal to the plate surface. The present invention relates to a stage device.
従来、載置される基板(ワーク)が大型化し重量が増えても、小さな力で移動できるステージ装置として、特許文献1に示されるサーフェスモータステージ装置やソーヤモータステージ装置と呼ばれるステージ装置が知られている。サーフェスモータステージ装置(ソーヤモータステージ装置)は、碁盤目状に強磁性体の凸極が設けられている平面状のプラテン上に、移動体をエアにより浮上させ、移動体に磁力を印加して、移動体とプラテンの凸極との間の磁力を変化させることにより移動体を移動させるように構成されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a stage device called a surface motor stage device or a soya motor stage device disclosed in
本件発明者は、先に特願2006−34071において、上記のサーフェスモータステージ装置(ソーヤモータステージ装置)の原理に基づいたXYθ方向にワークを載置したプレートを移動させるXYθ移動ステージを提案した。
図11は、上記出願の発明に係るXYθ移動ステージを適用した露光装置の構成を示す断面図、図12はXYθ移動ステージの平面図である。なお、図11は図12のA−A断面図である。
これらの図において、1はXYθ移動ステージが搭載されるベースプレートまたはベースフレームを構成するステージベース、2はステージベース1上に固定される推力発生手段、3はステージベース1に固定される基準支持部材、4はステージベース1に固定される補助支持部材、5は平面プレート6、ハニカムコア7、およびプラテン8からなる平面ステージ、6は表面に露光を行うワーク9を載置保持する平面プレート、7は平面プレート6の裏面側(ワーク9が保持される側とは反対側)に設けられ、平面プレート6を薄く軽くしても、剛性が保つために設けられたハニカムコア、8は平面プレート6の裏側に設けられ、ハニカムコア7を介して、複数に分割され隙間81を空けて取り付けられたプラテン、9はワーク、10は投影レンズである。
The inventor previously proposed an XYθ moving stage in Japanese Patent Application No. 2006-34071 that moves a plate on which a workpiece is placed in the XYθ directions based on the principle of the surface motor stage device (soya motor stage device).
FIG. 11 is a sectional view showing a configuration of an exposure apparatus to which the XYθ moving stage according to the invention of the above application is applied, and FIG. 12 is a plan view of the XYθ moving stage. 11 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.
In these drawings, 1 is a stage base constituting a base plate or base frame on which an XYθ moving stage is mounted, 2 is a thrust generating means fixed on the
これらの図に示すように、推力発生手段2は、平面プレート6を移動させるための、プラテン8の平面において直交するX方向及びY方向の移動磁界、並びにプラテン8の平面に対して直交する座標軸の周りのθ回転軸方向の移動磁界を発生する磁極を備える。また、推力発生手段2は、図12に示すように、移動磁界の方向がX軸に沿う方向に1個配置されたX方向推力発生手段21と、移動磁界の方向がY軸に沿う方向に2個配置されたY方向推力発生手段22とを有する。Y方向推力発生手段22の磁界を移動させず、X方向推力発生手段21の磁界を移動させると、平面プレート6はX方向に移動する。また、X方向推力発生手段21の磁界を移動させず、2つのY方向推力発生手段22の磁界を、同期して同じ方向に移動させると、平面プレート6はY方向に移動する。また、X方向推力発生手段21の磁界を移動させず、2つのY方向推力発生手段22の磁界を、反対方向に移動させると、平面プレート6はθ回転軸方向に回転移動する。
As shown in these drawings, the thrust generating means 2 is used to move the
基準支持部材3は、平面プレート6を支持するために複数個設けられ、平面プレート6が、その移動範囲内においてどこに移動しても、常に平面プレート6の下にあり、平面プレート6を支持できる位置に配置される。露光を行っている領域が、基準支持部材3が囲む領域内にあるので、露光を行っている領域が、傾いたり揺れたりすることがなく、安定した状態で露光処理を行うことができる。また、補助支持部材4は、平面プレート6を支持するために1個以上、平面プレート6が占める領域よりも広い範囲に設けられ、平面プレート6が移動する領域全体に渡って分散して配置される。これにより平面プレート6が、その移動範囲内においてどこに移動しても、常に平面プレート6は基準支持部材3の他に、補助支持部材4により支持され、平面プレート6に偏荷重がかかっても、平面プレート6は傾いたり揺れたりすることがなく、安定した状態で露光処理を行うことができる。
A plurality of
なお、推力発生手段2、基準支持部材3、および補助支持部材4の平面ステージ5に対向する面からエアを噴出させ、平面プレート6をエア圧力で浮上させる。平面プレート6は、表面は精度良く平面加工されており、ワーク9を保持するための不図示の真空吸着溝が形成され、真空配管が接続されている。プラテン8は、表面は碁盤目状に凸極が形成され、凸極と凸極の間が樹脂で埋められ、その後、平面研削されている。プラテン8は複数に分割され、隙間81が設けられているのは、平面プレート6が機械加工の容易なアルミニウム製であるのに対して、プラテン8は純鉄製であり、熱膨張率が異なるので、熱膨張の差を隙間81により吸収し、平面プレート6に反り等の変形が生じるのを防いでいる。
Air is ejected from the surfaces of the thrust generating means 2, the
図13は、推力発生手段2の具体的構成の一例を示す斜視図であり、推力発生手段2は、ステージベース1に対して高さ(上下)方向に自由度を有するように取り付けられる板ばね23と、板ばね23上に取り付けられ、一軸方向に移動磁界を発生する磁極24とから構成されている。また、磁極24の表面にはエア噴出孔25が設けられ、平面プレート6を浮上させるためのエアが供給されている。
FIG. 13 is a perspective view showing an example of a specific configuration of the thrust generating means 2, and the
図14は、基準支持部材3の具体的構成の一例を示す断面図であり、基準支持部材3は、エア噴出孔31を有するエアパッド32と、ステージベース1に固定されエアパッド32を支持する台座33と、エアパッド32を台座33に対して支持する球面軸受34とから構成される。エアパッド32は、多孔質、またはオリフィスが設けられた表面からエアが噴出するエア噴出孔31を備え、球面軸受34により自由に首振り可能に構成されている。
FIG. 14 is a cross-sectional view showing an example of a specific configuration of the
図15は、補助支持部材4の具体的構成の一例を示す断面図であり、補助支持部材4は、エア噴出孔41を有するエアパッド42と、エアパッド42を支持する中間台43と、中間台43からエアシリンダ45内に伸びるシャフト44と、ステージベース1に固定され中間台43を支持するエアシリンダ45と、エアパッド42を中間台43に対して支持する球面軸受46とから構成されている。 補助支持部材4は、エアシリンダ45によって供給されるエアの圧力を変化させることにより、シャフト44が任意の推力で上下し、エアパッド42を任意の高さに調整することができる。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing an example of a specific configuration of the
次に、図11ないし図15を用いて、このXYθ移動ステージの動作について説明する。まず、基準支持部材3の高さを設定し、設定後、補助支持部材4のエアシリンダ45にエアを供給し、シャフト44を上昇させる。補助支持部材4のエアシリンダ45に供給するエアの圧力は、平面ステージ5の自重撓みをなくする推力が得られる圧力とする。平面ステージ5の自重撓みをなくする推力は、平面ステージ5の大きさ重さと基準支持部材3や補助支持部材4の個数から予め計算により求めておく。次に、平面ステージ5を基準支持部材3のエアパッド32と補助支持部材4のエアパッド42上に置く。推力発生手段2は、自身の磁力により、推力発生手段2を支持する平行板ばね23が伸び、平面プレート6の裏面に設けたプラテン8に引き寄せられる。基準支持部材3のエアパッド32、補助支持部材4のエアパッド42および推力発生手段2にエアが供給されて、表面からエアが噴出されると、平面ステージ5が各エアパッド32,42および推力発生手段2に対して浮上する。露光処理を行うために、ワーク9が平面プレート6上に載置される。X方向推力発生手段21およびY方向推力発生手段22の磁界を移動させることにより、平面ステージ5がXY平面内を移動し、不図示の光照射部から、マスクを介して露光光を照射して、複数の露光領域に分割されたワーク9をステップ・アンド・リピートにより、分割された領域順に移動させることにより露光が行われる。全領域の露光の終了後、ワーク9を平面プレート6から搬出する。
Next, the operation of the XYθ moving stage will be described with reference to FIGS. First, the height of the
次に、図16を用いて、このXYθ移動ステージの移動原理について説明する。同図は、平面ステージ5に設けられるプラテン8と推力発生手段2に設けられる磁極24との関係を示す断面図である。
磁極24a〜24dに巻かれた各コイル27a、27bに、図示しない駆動回路から以下の手順で電流を流すことにより移動磁界を発生し、磁極24に対してプラテン8が同図左方向に移動する。
まず、図16(a)において、磁極24a、24b側のコイル27aに、磁極24aの磁力を強める方向に電流を流す。一方、磁極24c、24d側のコイル27bには電流を流さない。その結果、磁極24aは磁力が強められるので、プラテン8の凸極8aと強く引き合い、磁極24aと凸極8aとが対向位置になる。磁極24bはプラテン8の凸極8bと凸極8cとの間の非磁性体83に対向するので磁力は発生しない。磁極24cと磁極24dは各々斜め方向にある凸極8dと凸極8fと引き合う。
次に、図16(b)において、磁極24a、24b側のコイル27aの電流を止め、磁極24c、24d側のコイル27bに、今度は磁極24dの磁力を強めるように電流を流す。その結果、磁極24dと凸極8fとは強く引き合う。磁極24cはプラテン8の凸極8dと凸極8eとの間の非磁性体83に対向するので、凸極8dと引き合わなくなる。従って、磁極24dが凸極8fと対向するように、プラテン8は推力発生手段2に対して、同図左方向に移動する。磁極24aと磁極24bは各々斜め方向の凸極8aと凸極8cと引き合う。
次に、図16(c)において、磁極24c、24d側のコイル27bの電流を止め、磁極24a、24b側のコイル27aに、今度は磁極24bの磁力を強めるように電流を流す。その結果、磁極24bと凸極8cとは強く引き合う。磁極24aはプラテン8の凸極8aと凸極8bとの間の非磁性体83に対向するので、凸極8aと引き合わなくなる。従って、磁極24bが凸極8cと対向するように、プラテン8は推力発生手段2に対して、同図左方向に移動する。磁極24cと磁極24dは各々斜め方向の凸極8eと凸極8fと引き合う。
次に、図16(d)において、磁極24a、24b側のコイル27aの電流を止め、磁極24c、24d側のコイル27bに、今度は磁極24cの磁力を強めるように電流を流す。その結果、磁極24cと凸極8eとは強く引き合う。磁極24dはプラテン8の凸極8fと凸極8gとの間の非磁性体83に対向するので、凸極8fと引き合わなくなる。従って、磁極24cが凸極8eと対向するように、プラテン8は推力発生手段2に対して、同図左方向に移動する。磁極24aと磁極24bは各々斜め方向の凸極8bと凸極8cと引き合う。
なお、図16(d)の位置に移動後、コイル27bに電流を流し続けることにより、プラテン8、即ち、平面ステージ5を図16(d)の位置に保持することができる。
A moving magnetic field is generated by applying a current from a drive circuit (not shown) to the
First, in FIG. 16A, a current is passed through the
Next, in FIG. 16B, the current of the
Next, in FIG. 16C, the current of the
Next, in FIG. 16D, the current of the
In addition, after moving to the position of FIG.16 (d), the
上記の図11及び図12に示したXYθ移動ステージにおいて、平面プレート6に載置される基板(ワーク)が大型化し、平面プレート6の移動範囲が大きくなると、推力発生手段2が3個しか配置されていない場合は、図17に示すように、平面プレート6がその移動範囲の端まで移動すると、3個の推力発生手段2は、平面プレート6の端部に位置することになる。このような位置関係では、平面プレート6を移動させるために力点が、平面プレート6の隅(図17では平面プレート6の左下)になるので、平面プレート6の力点付近の微小な移動が、対角線上の反対側(図17では平面プレート6の右上)では大きな移動となって表れるので、平面プレート6の微小な移動制御が困難になる。さらに、平面プレート6の移動時、大きなモーメントが生じるので、推力発生手段2は、平面ステージ5を制動するために非常に大きな力が必要となり、平面プレート6の微小な移動制御がますます困難になる。
In the XYθ moving stage shown in FIGS. 11 and 12, when the substrate (work) placed on the
本発明の目的は、上記の問題点に鑑みて、ステージベースに対してエア浮上させたプレートを、ステージベースに固定された推力発生手段により発生させた推力により非接触で移動させるステージ装置において、プレートがその移動範囲のどの位置にあっても、プレートの微小な移動制御を容易に行うことのできるステージ装置を提供することにある。また、本発明の他の目的は、ステージ装置本体で処理されるワークを搬入搬出する機能を備えたステージ装置を提供することにある。 In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a stage apparatus that moves a plate that is air-floated with respect to a stage base in a non-contact manner by a thrust generated by a thrust generating means fixed to the stage base. It is an object of the present invention to provide a stage device that can easily perform minute movement control of a plate regardless of the position of the movement range of the plate. Another object of the present invention is to provide a stage apparatus having a function of carrying in and out a workpiece processed by the stage apparatus main body.
本発明は、上記の課題を解決するために、下記の手段を採用した。
第1の手段は、ワークを保持するプレートをプレート面において直交するXY方向に移動させるステージ装置において、ステージベースと、該ステージベースに固定され、エアを噴出し移動磁界を発生する磁極を有する複数の推力発生手段と、該推力発生手段に対向する面に碁盤目状の凸極が形成された平面状のプラテンが設けられ上記推力発生手段により駆動されるプレートと、該プレートの上記ステージベースに対する位置を検出するプレート位置検出手段と、該プレート位置検出手段からのプレート位置信号に基づき、上記複数の推力発生手段のうち動作させる推力発生手段を選択する制御部とを備えることを特徴とするステージ装置である。
第2の手段は、ワークを保持するプレートをプレート面において直交するXY方向に移動させるステージ装置において、ステージベースと、該ステージベース上に区画される、プレート上に保持されたワークを処理するワーク処理部と該ワーク処理部に隣接して配置され該ワーク処理部に未処理のワークを保持したプレートを搬入または該ワーク処理部から処理済みのワークを保持したプレートを搬出するプレート搬入搬出部と、該プレート搬入搬出部のプレート上に装置外から未処理のワークを搬入または上記プレート搬入搬出部のプレート上の処理済みのワークを装置外に搬出するワーク搬入搬出機構と、上記ワーク処理部および上記プレート搬入搬送部に設けられる、上記ステージベースに固定され、エアを噴出し移動磁界を発生する磁極を有する複数の推力発生手段と、上記推力発生手段に対向する面に碁盤目状の凸極が形成された平面状のプラテンが設けられ上記推力発生手段により駆動されるプレートと、該プレートの上記ステージベースに対する位置を検出するプレート位置検出手段と、該プレート位置検出手段からのプレート位置信号に基づき、上記複数の推力発生手段のうち動作させる推力発生手段を選択する制御部とを備えることを特徴とするステージ装置である。
第3の手段は、第2の手段において、上記プレート搬入搬出部と該プレート搬入搬出部にワークを搬入搬出するワーク搬入搬出機構とからなる組が複数組設けられていることを特徴とするステージ装置である。
第4の手段は、第1の手段ないし第3の手段のいずれか1つの手段において、上記複数の推力発生手段は、X方向に推力を発生する推力発生手段とY方向に推力を発生する推力発生手段とが並んで配置され、上記プレートの移動位置に拘わらず、上記プレートの下にある推力発生手段のうち、少なくとも3個の推力発生手段が動作することを特徴とするステージ装置である。
The present invention employs the following means in order to solve the above problems.
A first means is a stage apparatus that moves a plate holding a workpiece in XY directions orthogonal to each other on a plate surface. The stage base is fixed to the stage base, and a plurality of magnetic poles that eject air and generate a moving magnetic field are provided. Thrust generating means, a flat platen having a grid-like convex pole formed on the surface facing the thrust generating means, driven by the thrust generating means, and the plate with respect to the stage base A stage comprising: a plate position detecting unit for detecting a position; and a control unit for selecting a thrust generating unit to be operated among the plurality of thrust generating units based on a plate position signal from the plate position detecting unit. Device.
The second means is a stage apparatus that moves a plate holding a workpiece in XY directions perpendicular to the plate surface, and a workpiece that processes the workpiece held on the plate and partitioned on the stage base. A plate loading / unloading unit that is disposed adjacent to the processing unit and the workpiece processing unit and carries a plate holding an unprocessed workpiece to the workpiece processing unit or unloads a plate holding a processed workpiece from the workpiece processing unit; A workpiece loading / unloading mechanism for loading an unprocessed workpiece on the plate of the plate loading / unloading portion from the outside of the apparatus or unloading a processed workpiece on the plate of the plate loading / unloading portion to the outside of the apparatus; It is fixed to the stage base provided in the plate carry-in / conveying section, and generates a moving magnetic field by ejecting air. A plurality of thrust generating means having poles, a plate platen having a grid-like convex pole formed on a surface facing the thrust generating means and driven by the thrust generating means; A plate position detecting means for detecting a position with respect to the stage base; and a controller for selecting a thrust generating means to be operated among the plurality of thrust generating means based on a plate position signal from the plate position detecting means. This is a featured stage device.
A third means is the stage according to the second means, wherein a plurality of sets each including the plate loading / unloading section and a workpiece loading / unloading mechanism for loading / unloading the workpiece to / from the plate loading / unloading section are provided. Device.
The fourth means is any one of the first means to the third means, wherein the plurality of thrust generating means are thrust generating means for generating thrust in the X direction and thrust for generating thrust in the Y direction. The stage device is characterized in that the generating means are arranged side by side and at least three of the thrust generating means under the plate operate regardless of the movement position of the plate.
請求項1に記載の発明によれば、プレートが移動範囲の端まで移動しても、動作する推力発生手段の位置をプレートに対して比較的中央よりとすることができるので、プレートの微小な移動制御が容易となる。
請求項2に記載の発明の発明によれば、ステージ装置本体で処理されるワークの搬入搬出を容易に行うことができ、プレートが移動範囲の端まで移動しても、動作する推力発生手段の位置をプレートに対して比較的中央よりとすることができるので、プレートの微小な移動制御が容易となる。
請求項3に記載の発明によれば、複数組のプレート搬入搬出部とワーク搬入搬出機構を交互に動作させることによりステージ装置本体で処理されるワークの処理を迅速に行うことができる。
請求項4に記載の発明は、プレートの大小の如何に拘わらず、プレートの下にある推力発生手段のうち、少なくとも3個の推力発生手段を動作させることによりプレートを移動させることができる。
According to the first aspect of the present invention, even if the plate moves to the end of the moving range, the position of the thrust generating means that operates can be relatively centered with respect to the plate. Movement control becomes easy.
According to the invention of the second aspect, it is possible to easily carry in and out the workpiece processed by the stage apparatus main body, and the thrust generating means that operates even when the plate moves to the end of the moving range. Since the position can be relatively central to the plate, minute movement control of the plate is facilitated.
According to the third aspect of the present invention, it is possible to quickly process a workpiece processed by the stage apparatus main body by alternately operating a plurality of sets of plate loading / unloading units and workpiece loading / unloading mechanisms.
In the invention according to
本発明の第1の実施形態を図1ないし図5を用いて説明する。なお、以下の各実施形態においては、XYθ方向に移動が可能なステージ装置を例にして説明するが、XY方向に移動可能なステージ装置においても適用可能である。
図1は、本実施形態の発明に係るステージ装置の構成を示す断面図、図2はこのステージ装置の平面図である。なお、図1は図2のB−Bから見た断面図である。
これらの図において、21−1〜21−4はX方向推力発生手段、22−1〜22−5はY方向推力発生手段、11はX方向レーザ干渉計、12はY方向レーザ干渉計、13は制御部、14はステージベース1上に形成されたワーク9を処理するワーク処理部である。なお、その他の構成は図11に示した同符号の構成に対応するので説明を省略する。また、図1および図2に示されるX方向推力発生手段21−1〜21−4、Y方向推力発生手段22−1〜22−5、基準支持部材3、補助支持部材4の具体的構成はそれぞれ図13〜図15に説明したものと同様であるので説明を省略する。また、XYθ移動ステージの移動原理も図16において説明したものと同様であるので説明を省略する。また、図2において、平面プレート6の下に位置する推力発生手段21、22は実際は見えないが見えるように示してある。また、ワーク処理部14に示される4角の点線は全て仮想線であり実際は存在しない。
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In each of the following embodiments, a stage apparatus that can move in the XYθ direction will be described as an example, but the present invention can also be applied to a stage apparatus that can move in the XY direction.
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a stage apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the stage apparatus. FIG. 1 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG.
In these drawings, 21-1 to 21-4 are X-direction thrust generating means, 22-1 to 22-5 are Y-direction thrust generating means, 11 is an X-direction laser interferometer, 12 is a Y-direction laser interferometer, 13 Is a control unit, and 14 is a work processing unit for processing the work 9 formed on the
図1および図2に示すように、ステージベース1上には、3個の基準支持部材3、複数の補助支持部材4が設けられ、その上に平面プレート6がエア浮上により支持される。ステージベース1上の3個の基準支持部材は、平面プレート6が移動範囲内においてどこに移動しても、常に平面プレート6の下にあり、平面プレート6を支持できる位置に配置される。ステージベース1上には、平面プレート6を移動させるための推力を発生させる推力発生手段2が複数、例えば、図2においては9個の推力発生手段(X方向推力発生手段21−1〜21−4、Y方向推力発生手段22−1〜22−5)が設けられる。推力発生手段は、隣り合う推力発生手段の磁極の並ぶ方向が、互いに直交するように配置される。すなわち、平面プレート6をX方向に移動させるX方向推力発生手段21−1〜21−4とY方向に移動させるY方向推力発生手段22−1〜22−5とが交互に並んで配置される。平面プレート6は、X方向推力発生手段21−1〜21−4とY方向推力発生手段22−1〜22−5からの推力により、ステージベース1上の所定の範囲内を移動する。
As shown in FIGS. 1 and 2, three
また、上記のステージ装置においては、ステージベース1上には、平面プレート6の位置を検出するためのX方向レーザ干渉計11とY方向レーザ干渉計12とが設けられている。X方向レーザ干渉計11によって平面プレート6のX方向の移動距離を検出し、Y方向レーザ干渉計12によって平面ステージ5のY方向の移動距離を検出している。すなわち、X方向レーザ干渉計は11とY方向レーザ干渉計12によって、平面プレート6の原点位置からの移動距離を検出して、その検出信号を制御部13に出力している。制御部13では検出信号に基づいて平面プレート6の位置座標を演算する。制御部13には、予め平面プレート6の位置座標に対して、複数のX方向推力発生手段21−1〜21−4とY方向推力発生手段22−1〜22−5のうち、どの推力発生手段を動作させるかの情報が記憶されている。制御部13はこの情報に基づいて動作させるべき推力発生手段を選択し動作させる。
Further, in the above stage apparatus, an X direction laser interferometer 11 and a Y direction laser interferometer 12 for detecting the position of the
次に、図3ないし図5を用いて、上記のステージ装置の動作について説明する。これら図は、図1に示したステージ装置のワーク処理部14と平面プレート6と9個の推力発生手段(X方向推力発生手段21−1〜21−4、Y方向推力発生手段22−1〜22−5)の関係を示した図である。
まず、図3(a)では、平面プレート6がワーク処理部14の左下にあるとき、平面プレート6の位置座標を(0,0)とする(便宜的に平面プレート6の左下隅の位置を位置座標(0,0)とする)。同様にして、図3(b)では、平面プレート6のワーク処理部14の右下にあるときの平面プレート6の位置座標を(2,0)とし、同様に、図3(c)では、平面プレート6のワーク処理部14の左上にあるときの平面プレート6の位置座標を(0,2)とし、同様に、図4(d)では、平面プレート6のワーク処理部14の右上にあるときの平面プレート6の位置座標を(2,2)とする。従って、平面プレート6は、位置座標(0,0)〜(2,2)の範囲を移動することになる。そこで、平面プレート6の移動範囲を位置座標(0,0)〜(2,2)に対応して区分し、区分した位置座標(0,0)〜(2,2)に対応して動作させる推力発生手段をX方向推力発生手段21−1〜21−4およびY方向推力発生手段22−1〜22−5の中から選択し、その情報を制御部13に記憶する。
Next, the operation of the stage apparatus will be described with reference to FIGS. These drawings show the
First, in FIG. 3A, when the
制御部13は、図4(e)に示すように、平面プレート6の位置座標が(0,0)〜(1,1)まで、すなわち、(0≦X<1,0≦Y<1)の範囲にある場合は、この移動範囲内では確実に平面プレート6の下にある4つの推力発生手段(X方向推力発生手段21−1,21−3、Y方向推力発生手段22−2,22−3)を動作させて平面プレート6を移動させる。この4つの推力発生手段はX方向推力発生手段21−1,21−3とY方向推力発生手段22−2,22−3であるので、平面プレート6をXYθ方向の任意の方向に移動させることができる。
As shown in FIG. 4 (e), the
同様に、制御部13は、図4(f)に示すように、平面プレート6の位置座標が(1,0)〜(2,1)まで、すなわち、(1≦X<2,0≦Y<1)の範囲にある場合は、この移動範囲内では平面プレート6の下にある4つの推力発生手段(X方向推力発生手段21−3,21−4、Y方向推力発生手段22−3,22−5)を動作させて平面プレート6を移動させる。また、制御部13は、図5(g)に示すように、平面プレート6の位置座標が(0,1)〜(1,2)まで、すなわち、(0≦X<1,1≦Y<2)の範囲にある場合は、この移動範囲内では平面プレート6の下にある4つの推力発生手段(X方向推力発生手段21−1,21−2、Y方向推力発生手段22−1,22−3)を動作させて平面プレート6を移動させる。また、制御部13は、図5(h)に示すように、平面プレート6の位置座標が(1,1)〜(2,2)まで、すなわち、(1≦X<2,1≦Y<2)の範囲にある場合は、この移動範囲内では平面プレート6の下にある4つの推力発生手段(X方向推力発生手段21−2,21−4、Y方向推力発生手段22−3,22−4)を動作させて平面プレート6を移動させる。
Similarly, as shown in FIG. 4 (f), the
上記のごとく、このステージ装置においては、平面プレート6がその移動範囲内であれば、どの位置(座標)にあっても、4個の推力発生手段が必ず平面プレート6の下になるように配置されている。すなわち、平面プレート6の移動は、2個のX方向推力発生手段と2個のY方向推力発生手段とにより行われている。しかし、平面プレート6をXYθ方向に移動させるためには、先の出願(特願2006−34071)でも述べたように、推力発生手段は3個(X方向推力発生手段2個とY方向推力発生手段1個、またはX方向推力発生手段1個とY方向推力発生手段2個)であればX方向、Y方向およびθ方向に移動させることが可能である。従って、平面プレート6の移動範囲内においては、少なくとも3個の推力発生手段が平面プレート6の下に来るように推力発生手段を配置してもよい。例えば、図4(e)〜図5(h)においては、4個の推力発生手段のうち、Y方向推力発生手段22−3を取り除いてもよい。
As described above, in this stage apparatus, as long as the
本発明の第2の実施形態を図6ないし図10を用いて説明する。
図6ないし図10は、本実施形態の発明に係るステージ装置の構成および動作を説明するための平面図である。
これらの図において、6−1は第1の平面プレート、6−2は第2の平面プレート、9−1、9−2はワーク、14はステージベース1上に区画されるプレート6上に保持されたワーク9を処理するワーク処理部、15、16は、ステージベース1上に区画され、それぞれワーク処理部14に隣接して配置されワーク処理部14に未処理のワーク9を保持したプレート6を搬入またはワーク処理部14から処理済みのワーク9を保持したプレート6を搬出する第1のプレート搬入搬出部および第2のプレート搬入搬出部、17、18はそれぞれプレート搬入搬出部15、16のプレート6上に装置外から未処理のワーク9を搬入またはプレート搬入搬出部15、16のプレート6上の処理済みのワーク9を装置外に搬出する第1のワーク搬入搬出機構および第2のワーク搬入搬出機構、19はハンドラ、21−1〜21−14はX方向推力発生手段、22−1〜22−13はY方向推力発生手段である。
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
6 to 10 are plan views for explaining the configuration and operation of the stage apparatus according to the invention of this embodiment.
In these drawings, 6-1 is a first plane plate, 6-2 is a second plane plate, 9-1 and 9-2 are workpieces, and 14 is held on a
なお、X方向推力発生手段21−1〜21−14およびY方向推力発生手段22−1〜22−13の具体的構成は図13に示したものと同様であるので説明を省略する。また、複数の基準支持部材や補助支持部材は省略して図示されていないが、その具体的構成はそれぞれ図14および図15に説明したものと同様であるので説明を省略する。また、XYθ移動ステージの移動原理も図16において説明したものと同様であるので説明を省略する。また、平面プレート6の位置を検出するためのX方向レーザ干渉計とY方向レーザ干渉計も省略して図示されていないが、これらのレーザ干渉計によって平面プレート6の原点位置からの移動距離を検出した信号が入力される制御部も省略して図示されていないが、図2において説明したものと同様であるので説明を省略する。また、図6〜図10においては、平面プレート6の動作を分かりやすくするために、平面プレート6の下に位置する推力発生手段21、22は実際は見えないが見えるように示してある。また、ワーク処理部14および第1のプレート搬入搬出部15、第2のプレート搬入搬出部16に示される4角の点線は全て仮想線であり実際は存在しない。また、図6〜図10に示したステージ装置は、露光装置に適用した場合の構成であり、ワーク処理部14においてワークの露光処理が行われるが、このステージ装置は露光装置への適用に限定されず、例えば、検査装置にも適用可能である。
The specific configurations of the X-direction thrust generating means 21-1 to 21-14 and the Y-direction thrust generating means 22-1 to 22-13 are the same as those shown in FIG. Further, although a plurality of reference support members and auxiliary support members are omitted and not shown in the drawings, their specific configurations are the same as those described in FIGS. Further, the principle of movement of the XYθ moving stage is the same as that described with reference to FIG. Further, the X-direction laser interferometer and the Y-direction laser interferometer for detecting the position of the
本実施形態の発明に係るステージ装置は、図6〜図10に示すように、図2に示したワーク処理部14と同様のワーク処理部14に隣接して、ワーク処理部14に未処理のワーク9を保持したプレート6を搬入またはワーク処理部14から処理済みのワーク9を保持したプレート6を搬出するための2つのプレート搬入搬出部15,16が設けられている。また、図6〜図10に示すように、ワーク9を載置して移動する2枚の第1の平面プレート6−1と第2の平面プレート6−2が備えられている。例えば、一方の平面プレート6−1が処理を行うために移動しているときは、他方の平面プレート6−2は第2のプレート搬入搬出部16に待機し、処理済みのワーク9−1と処理前のワーク9−2の交換を迅速に行えるように構成されている。
As shown in FIGS. 6 to 10, the stage apparatus according to the invention of the present embodiment is adjacent to the
第1のプレート搬入搬出部15および第2のプレート搬入搬出部16には、それぞれハンドラ19を備えた第1のワーク搬入搬出機構17および第2のワーク搬入搬出機構18が付設されている。例えば、第1のワーク搬入搬出機構17は、ハンドラ19によって処理前のワーク9−1を保持し、第1のプレート搬入搬出部15に搬入し、処理の終わったワーク9−1を第1のプレート搬入搬出部15から装置外に搬出する。推力発生手段21、22は、ステージベース1上に、ワーク処理部14からその両脇の第1のプレート搬入搬出部15および第2のプレート搬入搬出部16にわたって、27個の隣り合う磁極の並ぶ方向が互いに直交するX方向推力発生手段21−1〜21−14とY方向推力発生手段22−1〜22−13とがステージベース1に固定されており、2枚の平面プレート6−1、6−2は、それぞれ第1のプレート搬入搬出部15とワーク処理部14との間および第2のプレート搬入搬出部16とワーク処理部14との間を移動することができる。
A first workpiece loading /
次に、図6〜図10を用いて、このステージ装置の動作について説明する。
まず、図6(a)に示すように、第1の平面プレート6−1が第1のプレート搬入搬出部15に待機している。第1の平面プレート6−2は、第2のプレート搬入搬出部16に待機している。第1のワーク搬入搬出機構17のハンドラ19により、ワーク9−1がステージ装置に搬入され、第1のプレート搬入搬出部15に待機している第1の平面プレート6−1上に載置される。ここで、第1の平面プレート6−1の移動制御は、X方向推力発生手段21−4、21−9およびY方向推力発生手段22−5、22−9により行われており、第2の平面プレート6−2はX方向推力発生手段21−1、21−5、およびY方向推力発生手段22−1、22−6により行われている。
Next, the operation of this stage apparatus will be described with reference to FIGS.
First, as shown in FIG. 6A, the first flat plate 6-1 is waiting at the first plate loading /
次に、図7(b)に示すように、第1の平面プレート6−1が、矢印に示すように、第1のプレート搬入搬出部15からワーク処理部14へ移動し、露光処理が開始される。なお、ワーク処理が行われている領域を斜線で示す。この第1のプレート搬入搬出部15からワーク処理部14への移動の際、X方向推力発生手段21−1、21−5、Y方向推力発生手段22−1、22−6からX方向推力発生手段21−4、21−8、Y方向推力発生手段22−4、22−9、続いてX方向推力発生手段21−3、21−8、Y方向推力発生手段22−4、22−8、続いてX方向推力発生手段21−3、21−7、Y方向推力発生手段22−3、22−8の順に切り換えられる。
Next, as shown in FIG. 7B, the first flat plate 6-1 moves from the first plate loading /
ワーク処理部14において、ワーク9−1の処理が行われている間に、第2のワーク搬入搬出機構18がハンドラ9によりワーク9−2をステージ装置内に搬入し、第2のプレート搬入搬出部6−2に待機している第2の平面プレート6−2上に載置する。
While the workpiece 9-1 is being processed in the
次に、図7(c)、図8(d)、図8(e)、図8(f)、図9(g)、図9(h)、図9(i)に示すように、第1の平面プレート6−1は推力発生手段21、22により順次移動され、第1の平面プレート6−1に載置されていたワーク9−1の全領域が、露光処理される。この間の移動動作は、図7(c)ではX方向推力発生手段21−2、21−7、Y方向推力発生手段22−3、22−7、図8(d)ではX方向推力発生手段21−7、21−10、Y方向推力発生手段22−7、22−10、図8(e)ではX方向推力発生手段21−7、21−11、Y方向推力発生手段22−8、22−10、図8(f)ではX方向推力発生手段21−11、21−12、Y方向推力発生手段22−10、22−12、図9(g)ではX方向推力発生手段21−10、21−12、Y方向推力発生手段22−10、22−11、図9(h)ではX方向推力発生手段21−12、21−13、Y方向推力発生手段22−11、22−13、図9(i)ではX方向推力発生手段21−12、21−14、Y方向推力発生手段22−12、22−13によって行われる。 Next, as shown in FIG. 7 (c), FIG. 8 (d), FIG. 8 (e), FIG. 8 (f), FIG. 9 (g), FIG. 9 (h), FIG. The one flat plate 6-1 is sequentially moved by the thrust generating means 21 and 22, and the entire area of the work 9-1 placed on the first flat plate 6-1 is exposed. The movement during this time is shown in FIG. 7 (c) as X direction thrust generating means 21-2, 21-7, Y direction thrust generating means 22-3, 22-7, and as shown in FIG. 8 (d), X direction thrust generating means 21. −7, 21-10, Y direction thrust generating means 22-7, 22-10, in FIG. 8E, X direction thrust generating means 21-7, 21-11, Y direction thrust generating means 22-8, 22−. 10, X direction thrust generating means 21-11, 21-12, Y direction thrust generating means 22-10, 22-12 in FIG. 8 (f), X direction thrust generating means 21-10, 21 in FIG. 9 (g). −12, Y direction thrust generating means 22-10, 22-11, in FIG. 9H, X direction thrust generating means 21-12, 21-13, Y direction thrust generating means 22-11, 22-13, FIG. In (i), X direction thrust generating means 21-12, 21-14, Y direction thrust generating means It is carried out by 2-12,22-13.
ここでは、平面プレート6の下に、4個以上の推力発生手段21、22が位置しているが、その際、動作させる複数の推力発生手段21、22が囲む領域内に、プレート6の重心が来るように、推力発生手段21、22の組合せを選択する。そのように選択することにより、平面プレート6を安定して移動させることができる。
Here, four or more thrust generating means 21 and 22 are located under the
次に、図9(i)において、ワーク9−1のワーク処理部14における処理が終わる。処理が終わると、図10(j)に示すように、第1の平面プレート6−1は、第1のプレート搬入搬出部15に移動し、第1のワーク搬入搬出機構17によりワーク9−1が装置外に搬出される。一方、ワーク9−2を載置した第2の平面プレート6−2がワーク処理部14へと移動し、処理が開始される。
Next, in FIG.9 (i), the process in the workpiece |
次に、図10(k)において、ワーク9−2がワーク処理部14において処理されている間、ワーク9−3が、第1のワーク搬入搬出機構17により装置内に搬入され、第1の平面プレート6−1上に載置される。以上、上記の動作を繰り返し、複数のワーク9が連続的に処理される。
Next, in FIG. 10 (k), while the workpiece 9-2 is being processed by the
1 ステージベース
2 推力発生手段
21、21−1〜21−14 X方向推力発生手段
22、22−1〜22−13 Y方向推力発生手段
23 板ばね
24 磁極
24a〜24d 磁極
25 エア噴出孔
26 永久磁石
27a、27b コイル
3 基準支持部材
31 エア噴出孔
32 エアパッド
33 台座
34 球面軸受
4 補助支持部材
41 エア噴出孔
42 エアパッド
43 中間台
45 エアシリンダ
46 球面軸受
5 平面ステージ
6 平面プレート
6−1 第1の平面プレート
6−2 第2の平面プレート
7 ハニカムコア
8 プラテン
8a〜8g 凸極
81 隙間
82 強磁性体
83 非磁性体
9、9−1、9−2、9−3 ワーク
10 投影レンズ
11 X方向レーザ干渉計
12 Y方向レーザ干渉計
13 制御部
14 ワーク処理部
15 第1のプレート搬入搬出部
16 第2のプレート搬入搬出部
17 第1のワーク搬入搬出機構
18 第2のワーク搬入搬出機構
19 ハンドラ
DESCRIPTION OF
Claims (4)
ステージベースと、
該ステージベースに固定され、エアを噴出し移動磁界を発生する磁極を有する複数の推力発生手段と、
該推力発生手段に対向する面に碁盤目状の凸極が形成された平面状のプラテンが設けられ上記推力発生手段により駆動されるプレートと、
該プレートの上記ステージベースに対する位置を検出するプレート位置検出手段と、
該プレート位置検出手段からのプレート位置信号に基づき、上記複数の推力発生手段のうち動作させる推力発生手段を選択する制御部とを備えることを特徴とするステージ装置。 In the stage device that moves the plate holding the workpiece in the XY directions perpendicular to the plate surface,
Stage base,
A plurality of thrust generating means fixed to the stage base and having magnetic poles for ejecting air and generating a moving magnetic field;
A plate that is provided with a planar platen having a grid-like convex pole formed on the surface facing the thrust generating means and is driven by the thrust generating means;
Plate position detecting means for detecting the position of the plate relative to the stage base;
A stage apparatus comprising: a control unit that selects a thrust generating means to be operated among the plurality of thrust generating means based on a plate position signal from the plate position detecting means.
ステージベースと、
該ステージベース上に区画される、プレート上に保持されたワークを処理するワーク処理部と該ワーク処理部に隣接して配置され該ワーク処理部に未処理のワークを保持したプレートを搬入または該ワーク処理部から処理済みのワークを保持したプレートを搬出するプレート搬入搬出部と、
該プレート搬入搬出部のプレート上に装置外から未処理のワークを搬入または上記プレート搬入搬出部のプレート上の処理済みのワークを装置外に搬出するワーク搬入搬出機構と、
上記ワーク処理部および上記プレート搬入搬送部に設けられる、上記ステージベースに固定され、エアを噴出し移動磁界を発生する磁極を有する複数の推力発生手段と、
上記推力発生手段に対向する面に碁盤目状の凸極が形成された平面状のプラテンが設けられ上記推力発生手段により駆動されるプレートと、
該プレートの上記ステージベースに対する位置を検出するプレート位置検出手段と、 該プレート位置検出手段からのプレート位置信号に基づき、上記複数の推力発生手段のうち動作させる推力発生手段を選択する制御部とを備えることを特徴とするステージ装置。 In the stage device that moves the plate holding the workpiece in the XY directions perpendicular to the plate surface,
Stage base,
A workpiece processing unit that processes a workpiece held on a plate and is placed on the stage base, and a plate that is arranged adjacent to the workpiece processing unit and holds an unprocessed workpiece is loaded into the workpiece processing unit. A plate loading / unloading unit for unloading a plate holding a processed workpiece from the workpiece processing unit;
A workpiece loading / unloading mechanism for loading an unprocessed workpiece on the plate of the plate loading / unloading portion from outside the apparatus or unloading a processed workpiece on the plate of the plate loading / unloading portion;
A plurality of thrust generation means provided in the work processing unit and the plate carry-in conveyance unit, fixed to the stage base and having magnetic poles for ejecting air and generating a moving magnetic field;
A plate that is provided with a planar platen having a grid-like convex pole formed on a surface facing the thrust generating means, and is driven by the thrust generating means;
A plate position detecting means for detecting the position of the plate with respect to the stage base; and a control unit for selecting a thrust generating means to be operated among the plurality of thrust generating means based on a plate position signal from the plate position detecting means. A stage apparatus comprising:
The plurality of thrust generating means are arranged such that a thrust generating means for generating a thrust in the X direction and a thrust generating means for generating a thrust in the Y direction are arranged side by side, regardless of the movement position of the plate. The stage apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein at least three of the thrust generating means are operated.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007075447A JP4702313B2 (en) | 2007-03-22 | 2007-03-22 | Stage equipment |
TW096140996A TW200839929A (en) | 2007-03-22 | 2007-10-31 | Stage apparatus |
KR1020070115654A KR20080086336A (en) | 2007-03-22 | 2007-11-13 | Stage apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007075447A JP4702313B2 (en) | 2007-03-22 | 2007-03-22 | Stage equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008235710A JP2008235710A (en) | 2008-10-02 |
JP4702313B2 true JP4702313B2 (en) | 2011-06-15 |
Family
ID=39908128
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007075447A Expired - Fee Related JP4702313B2 (en) | 2007-03-22 | 2007-03-22 | Stage equipment |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4702313B2 (en) |
KR (1) | KR20080086336A (en) |
TW (1) | TW200839929A (en) |
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---|---|
JP2008235710A (en) | 2008-10-02 |
KR20080086336A (en) | 2008-09-25 |
TW200839929A (en) | 2008-10-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090910 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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