JPH10149976A - Stage device and aligner using it - Google Patents
Stage device and aligner using itInfo
- Publication number
- JPH10149976A JPH10149976A JP32232396A JP32232396A JPH10149976A JP H10149976 A JPH10149976 A JP H10149976A JP 32232396 A JP32232396 A JP 32232396A JP 32232396 A JP32232396 A JP 32232396A JP H10149976 A JPH10149976 A JP H10149976A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- guide
- moving
- guide surface
- reticle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体露光装置の
なかで、特に、レチクルパターンを円弧状あるいは矩形
状の帯状領域に限定してウエハ等基板（以下、「基板」
という。）に結像させ、レチクルと基板を同期的に走査
させることによって、レチクルパターン全体を露光して
基板に転写するいわゆる走査型の露光装置のステージ装
置およびこれを用いた露光装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor exposure apparatus, and more particularly, to a substrate such as a wafer (hereinafter referred to as "substrate") in which a reticle pattern is limited to an arc-shaped or rectangular band-shaped area.
That. The present invention relates to a stage apparatus of a so-called scanning type exposure apparatus for exposing an entire reticle pattern and transferring the reticle pattern to a substrate by synchronously scanning the reticle and the substrate, and an exposure apparatus using the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】原版であるレチクルと基板を同期的に走
査させてレチクルパターン全体を基板に転写するいわゆ
る走査型の露光装置においては、レチクルや基板の走査
速度を極めて高精度で安定して制御することのできるス
テージ装置が必要であり、このようなステージ装置の駆
動部には、リニアモータを用いるのが一般的である。2. Description of the Related Art In a so-called scanning type exposure apparatus for transferring an entire reticle pattern onto a substrate by synchronously scanning an original reticle and a substrate, the scanning speed of the reticle and the substrate is controlled with extremely high accuracy and stably. It is necessary to use a stage device capable of performing such operations, and a linear motor is generally used as a drive unit of such a stage device.
【０００３】図１１は、一従来例によるステージ装置を
示すもので、これは、図示しないベース上に固定された
平板状のガイド１１０２と、ガイド１１０２に沿って所
定の走査方向（Ｙ軸方向）に往復移動自在であるレチク
ルステージ１１０３と、レチクルステージ１１０３の走
行路に沿ってその両側にベースと一体的に配設された一
対のリニアモータ固定子１１０４，１１０５と、レチク
ルステージ１１０３の両側面とそれぞれ一体的に設けら
れた一対のリニアモータ可動子１１０６，１１０７を有
し、リニアモータ固定子１１０４，１１０５とリニアモ
ータ可動子１１０６，１１０７はそれぞれレチクルステ
ージ１１０３を走査方向に加速減速する一対のリニアモ
ータＲ1 ，Ｒ2 を構成する。レチクルステージ１１０３
は図６に示すエアスライド（静圧軸受装置）Ｅ0 によっ
てガイド１１０２に非接触で案内される。FIG. 11 shows a stage device according to a conventional example, which includes a flat guide 1102 fixed on a base (not shown) and a predetermined scanning direction (Y-axis direction) along the guide 1102. A reticle stage 1103 that is reciprocally movable, a pair of linear motor stators 1104 and 1105 disposed integrally with a base on both sides of the reticle stage 1103 along the traveling path, and both side surfaces of the reticle stage 1103. It has a pair of linear motor movers 1106 and 1107 provided integrally with each other. The linear motor stators 1104 and 1105 and the linear motor movers 1106 and 1107 respectively accelerate and decelerate the reticle stage 1103 in the scanning direction. The motors R 1 and R 2 are configured. Reticle stage 1103
It is guided without contact with the guide 1102 by an air slide (hydrostatic bearing apparatus) E 0 shown in FIG.
【０００４】各リニアモータ固定子１１０４，１１０５
は、ガイド１１０２に沿って直列に配設された複数のコ
イル１１０４ａ，１１０５ａとこれを支持するコイル台
１１０４ｂ，１１０５ｂからなる多相コイル切り換え方
式のリニアモータ固定子であって、各コイル列はリニア
モータ可動子１１０６，１１０７の開口１１０６ａ，１
１０７ａを貫通する。コイル１１０４ａ，１１０５ａに
図示しない電源から逐次駆動電流が供給されてこれらが
励磁されると、リニアモータ可動子１１０６，１１０７
との間に推力が発生し、これによってレチクルステージ
１１０３が加速あるいは減速される。[0004] Each linear motor stator 1104, 1105
Is a linear motor stator of a multi-phase coil switching type comprising a plurality of coils 1104a, 1105a arranged in series along a guide 1102 and coil stands 1104b, 1105b supporting the coils. Openings 1106a, 1 of motor movers 1106, 1107
107a. When a driving current is sequentially supplied from a power supply (not shown) to the coils 1104a and 1105a and they are excited, the linear motor movers 1106 and 1107 are excited.
And the reticle stage 1103 is accelerated or decelerated.
【０００５】レチクルステージ１１０３上にはレチクル
１１４０が吸着され、その下方にはウエハステージ１２
０３（図１３参照）によってウエハが保持されており、
ウエハステージ１２０３もレチクルステージ１１０３と
同様の駆動部を有し、同様に制御される。レチクル１１
４０の一部分に照射された帯状の露光光Ｌ0 （断面を図
１４に破線で示す）は、フレーム１２０４に支持された
投影光学系１２０５によってウエハに結像し、その帯状
領域を露光して、レチクルパターンの一部分を転写す
る。走査型の露光装置の各露光サイクルは、帯状の露光
光Ｌ0 に対してレチクルステージ１１０３とウエハステ
ージ１２０３を同期的に走行させることでレチクルパタ
ーン全体をウエハに転写するものであり、レチクルステ
ージ１１０３とウエハステージ１２０３の走行中はその
位置をレーザ干渉計１１０８，１２０８によってそれぞ
れ検出して駆動部にフィードバックする。リニアモータ
Ｒ1，Ｒ2 によるレチクルステージ１１０３の加速減速
および露光中の速度制御は以下のように行なわれる。A reticle 1140 is adsorbed on reticle stage 1103, and a wafer stage 12
03 (see FIG. 13), the wafer is held,
Wafer stage 1203 also has a drive unit similar to reticle stage 1103, and is similarly controlled. Reticle 11
The band-shaped exposure light L 0 (a cross-section is shown by a broken line in FIG. 14) applied to a part of 40 forms an image on a wafer by a projection optical system 1205 supported by a frame 1204, and exposes the band-shaped region. Transfer a part of the reticle pattern. Each exposure cycle of the scanning type exposure apparatus is to transfer the entire reticle pattern onto the wafer by synchronizing to driving a reticle stage 1103 and the wafer stage 1203 relative to the belt-like exposure light L 0, the reticle stage 1103 While the wafer stage 1203 is running, its position is detected by the laser interferometers 1108 and 1208, respectively, and fed back to the drive unit. The acceleration / deceleration of the reticle stage 1103 by the linear motors R 1 and R 2 and the speed control during exposure are performed as follows.
【０００６】図１４に平面図で示すように、例えば、レ
チクルステージ１１０３が走査方向の図示左端にありレ
チクルの走査方向の幅の中心Ｏ0 が加速開始位置Ｐ1 に
位置しているときにリニアモータＲ1 ，Ｒ2 の図示右向
きの推力による加速が開始され、レチクル１１４０の前
記中心Ｏ0 が加速終了位置Ｐ2 に到達したときに加速が
停止され、以後はリニアモータＲ1 ，Ｒ2 がレチクルス
テージ１１０３の走査速度を一定に制御する働きのみを
する。レチクル１１４０の中心Ｏ0 が減速開始位置Ｐ3
に到達するとリニアモータＲ1 ，Ｒ2 の図示左向きの推
力による減速が開始され、レチクル１１４０の中心Ｏ0
が減速終了位置Ｐ4 に到達したときにレチクルステージ
１１０３の走行が停止される。As shown in the plan view of FIG. 14, for example, when the reticle stage 1103 is at the left end in the scanning direction and the center O 0 of the width of the reticle in the scanning direction is located at the acceleration start position P 1 , Acceleration by the rightward thrust of the motors R 1 and R 2 is started. When the center O 0 of the reticle 1140 reaches the acceleration end position P 2 , the acceleration is stopped, and thereafter the linear motors R 1 and R 2 are turned off. Only functions to control the scanning speed of the reticle stage 1103 to be constant. The center O 0 of the reticle 1140 is at the deceleration start position P 3
, The deceleration by the leftward thrust of the linear motors R 1 and R 2 is started, and the center O 0 of the reticle 1140 is started.
There running of the reticle stage 1103 is stopped when reaching the deceleration end position P 4.
【０００７】このような加速減速サイクルにおいて、レ
チクルステージ１１０３が図示右向きに走行して、レチ
クル１１４０の中心Ｏ0 が加速終了位置Ｐ2 に到達する
と同時に露光光Ｌ0 がレチクルパターンの図示右端に入
射して露光が開始され、レチクル１１４０の中心Ｏ0 が
減速開始位置Ｐ3 に到達したときにレチクルパターンの
全面の露光が完了する。レチクル１１４０の露光中すな
わち、レチクルパターンが露光光Ｌ0 を横切って走行す
る間はレチクルステージ１１０３が一定の走査速度に制
御され、これと同期して、ウエハステージ１２０３の走
査速度も同様に制御される。なお、露光開始時のウエハ
とレチクル１１４０の相対位置は厳密に管理され、露光
中のウエハとレチクル１１４０の速度比は、両者の間の
投影光学系１２０５の縮小倍率に正確に一致するように
制御され、露光終了後は両者を適当に減速させる。In such an acceleration / deceleration cycle, the reticle stage 1103 travels rightward in the drawing, and the center O 0 of the reticle 1140 reaches the acceleration end position P 2 , and at the same time, the exposure light L 0 enters the right end of the reticle pattern in the drawing. When the center O 0 of the reticle 1140 reaches the deceleration start position P 3 , the exposure of the entire reticle pattern is completed. During exposure of a reticle 1140 that is, while the reticle pattern travels across the exposure light L 0 is the reticle stage 1103 is controlled at a constant scanning speed, in synchronization with this, the scanning speed of the wafer stage 1203 are also controlled in the same manner You. Note that the relative position between the wafer and the reticle 1140 at the start of exposure is strictly controlled, and the speed ratio between the wafer and the reticle 1140 during exposure is controlled so as to exactly match the reduction magnification of the projection optical system 1205 between the two. After the exposure, both are appropriately decelerated.
【０００８】次に、ガイド１１０２上のレチクルステー
ジ１１０３を非接触で支持するエアスライドＥ0 につい
て説明する。図１２はレチクルステージ１１０３の裏面
に設けられたエアスライドＥ0 をレチクルステージ１１
０３から分離してガイド１１０２上に残し、レチクルス
テージ１１０３とリニアモータ可動子１１０６，１１０
７およびリニアモータ固定子１１０４，１１０５のコイ
ル１１０４ａ，１１０５ａを上昇させることで、エアス
ライドＥ0 を露出させた状態を示すものである。[0008] Next, a description will be given air slide E 0 which supports the reticle stage 1103 on the guide 1102 without contact. FIG. 12 shows an air slide E 0 provided on the back surface of the reticle stage 1103.
The reticle stage 1103 and linear motor movers 1106 and 110
7 and the coil 1104a of the linear motor stators 1104 and 1105, by raising the 1105a, shows a state of exposing the air slide E 0.
【０００９】エアスライドＥ0 は、４個のエアパッド１
１１１〜１１１４を有し、そのうちの３個は、ガイド１
１０２の上面に対向する下向きパッド１１１１〜１１１
３であり、残りの１つは、ガイド１１０２の一側面に対
向して配設される側面パッド１１１４である。各下向き
パッド１１１１〜１１１３は、ガイド１１０２の上面に
加圧空気を噴出し、その静圧によってレチクルステージ
１１０３をガイド１１０２の上面から浮上させる。ま
た、側面パッド１１１４は、ガイド１１０２の側面に向
かって加圧空気を噴出し、その静圧によってレチクルス
テージ１１０３の側板１１０３ａをガイド１１０２の側
面から浮上させる。The air slide E 0 has four air pads 1.
111 to 1114, three of which are guides 1
Downward pads 1111-111 facing the upper surface of 102
3 and the remaining one is a side pad 1114 disposed opposite to one side of the guide 1102. Each of the downward pads 1111 to 1113 jets pressurized air onto the upper surface of the guide 1102, and causes the reticle stage 1103 to float above the upper surface of the guide 1102 by the static pressure. Further, the side surface pad 1114 blows out pressurized air toward the side surface of the guide 1102, and the side plate 1103a of the reticle stage 1103 floats from the side surface of the guide 1102 by the static pressure.
【００１０】３個の下向きパッド１１１１〜１１１３
は、それぞれレチクルステージ１１０３を露光光の光軸
（Ｚ軸）に垂直な平面（ＸＹ平面）内で３点支持するよ
うに配設され、各下向きパッド１１１１〜１１１３に供
給される加圧空気の圧力を制御することで、レチクルス
テージ１１０３のＺ軸方向の位置（高さ）と、ωＸ，ω
Ｙ軸方向の位置（傾斜）すなわちピッチング等を制御す
ることができる。また、側面パッド１１１４は、レチク
ルステージ１１０３のＸ軸方向の位置を制御することが
できる。[0010] Three downward pads 1111-1113
Are disposed so as to support the reticle stage 1103 at three points in a plane (XY plane) perpendicular to the optical axis (Z axis) of the exposure light, and pressurized air supplied to each of the downwardly directed pads 1111-1113. By controlling the pressure, the position (height) of reticle stage 1103 in the Z-axis direction and ωX, ω
The position (inclination) in the Y-axis direction, that is, pitching or the like can be controlled. The side pad 1114 can control the position of the reticle stage 1103 in the X-axis direction.
【００１１】エアスライドＥ0 はこのように、合計４個
のエアパッド１１１１〜１１１４によって、ガイド１１
０２上のレチクルステージ１１０３を非接触で支持し、
その高さや姿勢（４軸方向の位置）を厳密に管理しなが
ら走査方向に案内するように構成されている。As described above, the air slide E 0 is guided by the guides 11 by the total of four air pads 1111 to 1114.
02 supports the reticle stage 1103 in a non-contact manner,
It is configured to guide in the scanning direction while strictly managing the height and posture (position in the four-axis direction).
【００１２】なお、各エアパッド１１１１〜１１１４は
レチクルステージ１１０３の裏面に固着され、各エアパ
ッド１１１１〜１１１４の両側には、一対の予圧ユニッ
ト１１２１〜１１２４が配設される。各予圧ユニット１
１２１〜１１２４は、互に逆向きの磁極を有する２極の
磁石１１３１，１１３２と、これらの背面に接合された
バックヨーク１１３３からなり、第１の磁石１１３１の
Ｎ極から出た磁束が、ガイド１１０２を経て第２の磁石
１１３２に入り、バックヨーク１１３３を通って第１の
磁石１１３１に戻る磁気回路によって、レチクルステー
ジ１１０３とガイド１１０２の間に磁気的吸引力を発生
させる。この磁気的吸引力は各エアパッド１１１１〜１
１１４の静圧と逆向きに作用して軸受剛性を強化し、レ
チクルステージ１１０３とガイド１１０２の間に５ミク
ロン程度のエアギャップを維持する。The air pads 1111 to 1114 are fixed to the back surface of the reticle stage 1103, and a pair of preload units 1121 to 1124 are provided on both sides of each air pad 1111 to 1114. Each preload unit 1
Each of the magnets 121 to 1124 is composed of two magnets 1131 and 1132 having magnetic poles of opposite directions and a back yoke 1133 joined to their back surfaces. A magnetic attraction force is generated between the reticle stage 1103 and the guide 1102 by a magnetic circuit that enters the second magnet 1132 via the 1102 and returns to the first magnet 1131 through the back yoke 1133. This magnetic attraction force is applied to each air pad 1111-1 to 1
Acting in the opposite direction to the static pressure of 114, the rigidity of the bearing is enhanced, and an air gap of about 5 microns is maintained between the reticle stage 1103 and the guide 1102.
【００１３】ガイド１１０２の材質は、各予圧ユニット
１１２１〜１１２４の磁束を通すために強磁性体である
ことが必要であり、しかもレチクルステージ１１０３に
対向する上面や側面には高い面精度が要求され、このた
めに加工時に硬さが必要であるから、焼き入れ処理を施
した鉄を用いるのが一般的である。The material of the guide 1102 needs to be a ferromagnetic material in order to allow the magnetic flux of each of the preload units 1121 to 1124 to pass therethrough, and high surface accuracy is required for the upper surface and the side surface facing the reticle stage 1103. Because of this, hardness is required at the time of processing, so that iron that has been subjected to a quenching treatment is generally used.
【００１４】ウエハステージ１２０３のエアスライドや
ガイドも上記と同様に構成され、同様のリニアモータに
よって走査される。An air slide and a guide of the wafer stage 1203 are configured in the same manner as described above, and are scanned by a similar linear motor.
【００１５】[0015]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、前述のように、レチクルステージ等の
ガイドの材質が鉄等の強磁性体であるために、エアスラ
イド（静圧軸受装置）の予圧ユニットを構成する磁石の
移動に伴なってガイドに渦電流が発生し、これによっ
て、リニアモータの駆動力に抗して作用するいわゆる粘
性抵抗が増大する。その結果、リニアモータの駆動効率
が著しく低下するという未解決の課題がある。However, according to the above prior art, as described above, since the material of the guide of the reticle stage and the like is a ferromagnetic material such as iron, an air slide (hydrostatic bearing device). An eddy current is generated in the guides along with the movement of the magnets constituting the preload unit, thereby increasing the so-called viscous resistance acting against the driving force of the linear motor. As a result, there is an unsolved problem that the driving efficiency of the linear motor is significantly reduced.
【００１６】また、エアスライドは非接触であるから、
レチクルステージを所定の走査速度まで加速したのち
は、加速を停止してもレチクルステージの走査速度はほ
とんど減速することなく、逆向きの加速力による減速が
開始されるまでわずかな推力によって前記走査速度を保
つことができるはずである。ところが、ガイドに渦電流
が発生すると、これによる粘性抵抗に打ち勝つだけの推
力を付加しなければならず、露光中の必要駆動力が増大
し、リニアモータに供給する電流量が大きくなる。この
ように露光中の必要駆動力が増大すると、リニアモータ
の発熱等によってレチクルステージに熱歪を発生する等
のトラブルを誘発する。Also, since the air slide is non-contact,
After accelerating the reticle stage to the predetermined scanning speed, even if the acceleration is stopped, the scanning speed of the reticle stage hardly decelerates, and the scanning speed is reduced by a slight thrust until the deceleration by the opposite acceleration force is started. Should be able to keep. However, when an eddy current is generated in the guide, a thrust for overcoming the viscous resistance due to the eddy current must be added, and the required driving force during exposure increases, and the amount of current supplied to the linear motor increases. When the required driving force during the exposure increases in this way, troubles such as generation of thermal strain on the reticle stage due to heat generation of the linear motor and the like are induced.
【００１７】特に、前述のように多相コイル切り換え方
式のリニアモータを用いた場合は、コイル切り換えによ
ってこれと同じ周期で数％の推力むらを発生するため、
ガイドの粘性抵抗に打ち勝つようにリニアモータの駆動
量を大きくすると、上記の推力むらが外乱となって露光
中のレチクルステージの走査速度に影響し、露光装置の
転写精度を悪化させる。In particular, when a linear motor of a polyphase coil switching system is used as described above, thrust unevenness of several percent is generated in the same cycle by coil switching.
If the driving amount of the linear motor is increased so as to overcome the viscous resistance of the guide, the above-described uneven thrust causes disturbance, which affects the scanning speed of the reticle stage during exposure, and deteriorates the transfer accuracy of the exposure apparatus.
【００１８】この傾向は、レチクルステージ等の走査速
度が大きくなるほど顕著であるため、露光装置を高速化
して生産性を向上させるうえでの大きな障害となってい
る。This tendency becomes more remarkable as the scanning speed of the reticle stage or the like increases, which is a major obstacle in increasing the speed of the exposure apparatus and improving the productivity.
【００１９】本発明は、上記従来の技術の有する未解決
の課題に鑑みてなされたものであり、ガイドの渦電流に
よる粘性抵抗を低減してリニアモータの駆動効率を向上
させ、露光装置の高速化と転写精度の向上に大きく貢献
できるステージ装置およびこれを用いた露光装置を提供
するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned unresolved problems of the prior art, and reduces the viscous resistance due to the eddy current of the guide to improve the driving efficiency of the linear motor, thereby improving the speed of the exposure apparatus. It is an object of the present invention to provide a stage device which can greatly contribute to the improvement of transfer accuracy and transfer accuracy, and an exposure apparatus using the same.
【００２０】[0020]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のステージ装置は、ガイドの案内面に沿って
移動自在である移動ステージと、これを移動させる駆動
手段と、前記移動ステージと前記案内面の間を非接触に
保つための静圧軸受手段と、前記案内面の所定の部位に
対向して移動するように前記移動ステージに保持された
磁気手段を有し、前記案内面の少なくとも前記所定の部
位が、絶縁層を介して複数の薄板磁性材を積層した積層
磁性体の側面によって構成されていることを特徴とす
る。In order to achieve the above object, a stage apparatus according to the present invention comprises: a moving stage movable along a guide surface of a guide; a driving means for moving the moving stage; Hydrostatic bearing means for keeping the guide surfaces in non-contact, and magnetic means held on the moving stage so as to move in opposition to a predetermined portion of the guide surface, At least the predetermined portion is configured by a side surface of a laminated magnetic body in which a plurality of thin plate magnetic materials are laminated via an insulating layer.
【００２１】案内面の所定の部位を除く残りの部分が、
非磁性材料で作られているとよい。The remaining portion of the guide surface excluding a predetermined portion is
It may be made of a non-magnetic material.
【００２２】積層磁性体が、ガイドと別体であり、該ガ
イドから独立して支持されているとよい。It is preferable that the laminated magnetic material is separate from the guide and is supported independently of the guide.
【００２３】積層磁性体の側面が、静圧軸受手段に対向
していてもよい。The side surface of the laminated magnetic body may face the hydrostatic bearing means.
【００２４】また、ガイドの案内面に沿って移動自在で
ある移動ステージと、これを移動させる駆動手段と、前
記移動ステージと前記案内面の間を非接触に保つための
静圧軸受手段と、前記案内面に対向するように前記移動
ステージに保持された磁気手段を有し、前記案内面が、
絶縁層を介して複数の薄板磁性材を積層した積層磁性体
の側面によって構成されていることを特徴とするステー
ジ装置であってもよい。A moving stage movable along a guide surface of the guide, a driving means for moving the moving stage, a hydrostatic bearing means for keeping the moving stage and the guide surface in non-contact, Magnetic means held on the moving stage so as to face the guide surface, wherein the guide surface is
A stage device comprising a side surface of a laminated magnetic body in which a plurality of thin plate magnetic materials are laminated via an insulating layer may be provided.
【００２５】ガイド全体が積層磁性体によって構成され
ていてもよい。The entire guide may be formed of a laminated magnetic body.
【００２６】[0026]
【作用】積層磁性体と磁気手段の間の磁気的吸引力によ
って移動ステージを案内面に向かって吸引（付勢）し、
静圧軸受手段の軸受剛性を強化する。The moving stage is attracted (biased) toward the guide surface by magnetic attraction between the laminated magnetic body and the magnetic means,
Strengthening the bearing rigidity of the hydrostatic bearing means.
【００２７】磁気手段が移動ステージとともに移動する
ときに発生する渦電流は、積層磁性体の絶縁層によって
分断される。その結果、前記渦電流による粘性抵抗を大
幅に低減し、走査ステージの定速走査中に必要な推力を
低減できる。このようにして、露光中の駆動手段の発熱
や推力むらによるトラブルを防ぎ、露光装置の転写精度
を大幅に改善するとともに、高速化による生産性の向上
にも大きく貢献できる。The eddy current generated when the magnetic means moves together with the moving stage is divided by the insulating layer of the laminated magnetic material. As a result, the viscous resistance due to the eddy current is greatly reduced, and the thrust required during constant-speed scanning of the scanning stage can be reduced. In this way, troubles due to heat generation and uneven thrust during the exposure can be prevented, the transfer accuracy of the exposure apparatus can be greatly improved, and productivity can be greatly improved by increasing the speed.
【００２８】[0028]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
【００２９】図１は、第１実施例によるステージ装置を
示すもので、これは、防振ベース１上に固定された平板
状のガイド２と、ガイド２に沿って走査方向（Ｙ軸方
向）に往復移動自在な移動ステージであるレチクルステ
ージ３と、レチクルステージ３の走行路に沿ってその両
側に防振ベース１と一体的に配設された一対のリニアモ
ータ固定子４，５と、レチクルステージ３の両側面とそ
れぞれ一体的に設けられた一対のリニアモータ可動子
６，７を有し、リニアモータ固定子４，５とリニアモー
タ可動子６，７はそれぞれレチクルステージ３を走査方
向に加速減速する駆動手段である一対のリニアモータを
構成する。レチクルステージ３は、図２に示すエアスラ
イドＥ1 によってガイド２に非接触で案内される。FIG. 1 shows a stage device according to a first embodiment, which comprises a flat guide 2 fixed on an anti-vibration base 1 and a scanning direction (Y-axis direction) along the guide 2. A reticle stage 3 which is a movable stage capable of reciprocating; a pair of linear motor stators 4 and 5 integrally provided with a vibration isolating base 1 on both sides of the reticle stage 3 along a traveling path; It has a pair of linear motor movers 6,7 provided integrally with both side surfaces of the stage 3, respectively. The linear motor stators 4,5 and the linear motor movers 6,7 respectively move the reticle stage 3 in the scanning direction. A pair of linear motors as driving means for accelerating and decelerating is configured. The reticle stage 3 is guided without contact with the guide 2 by an air slide E 1 shown in FIG.
【００３０】各リニアモータ固定子４，５は、ガイド２
に沿って直列に配設された複数のコイル４ａ，５ａとこ
れを支持するコイル台４ｂ，５ｂからなる多層コイル切
り換え方式のリニアモータ固定子であり、リニアモータ
可動子６，７の開口６ａ，７ａを貫通する。コイル４
ａ，５ａに図示しない電源から逐次駆動電流が供給され
てこれらが励磁されると、リニアモータ可動子６，７と
の間に推力が発生し、これによってレチクルステージ３
が加速あるいは減速される。Each of the linear motor stators 4 and 5 includes a guide 2
Is a multi-layer coil switching type linear motor stator comprising a plurality of coils 4a, 5a arranged in series along the axis, and coil stands 4b, 5b supporting the coils. 7a. Coil 4
When drive currents are sequentially supplied from a power supply (not shown) to the motors a and 5a and these are excited, a thrust is generated between the linear motor movers 6 and 7 and, thereby, the reticle stage 3 is driven.
Is accelerated or decelerated.
【００３１】レチクルステージ３上には原版であるレチ
クル３０が吸着され、その下方には、ウエハステージに
よって被露光体であるウエハが保持されており、ウエハ
ステージもレチクルステージ３と同様の駆動部を有し、
同様に制御される。露光手段である図示しない光源から
レチクル３０の一部分に照射された帯状の露光光は、従
来例と同様に投影光学系によってウエハに結像し、その
帯状領域を露光して、レチクルパターンの一部分を転写
する。A reticle 30, which is an original, is adsorbed on the reticle stage 3, and a wafer, which is an object to be exposed, is held below the reticle 30 by a wafer stage. Have
It is controlled similarly. A band-like exposure light applied to a part of the reticle 30 from a light source (not shown) serving as an exposure unit forms an image on a wafer by a projection optical system in the same manner as in the related art, and exposes the band-like area to form a part of the reticle pattern. Transcribe.
【００３２】レチクルステージ３とウエハステージを同
期的に走行させることでレチクルパターン全体をウエハ
に転写する。この間、レチクルステージ３とウエハステ
ージの位置をレーザ干渉計によってそれぞれ検出して駆
動部にフィードバックする。前記リニアモータによるレ
チクルステージ３の加速、減速および露光中の速度制御
は従来例と同様である。次にエアスライドＥ1 について
説明する。By moving the reticle stage 3 and the wafer stage synchronously, the entire reticle pattern is transferred to the wafer. During this time, the positions of the reticle stage 3 and the wafer stage are respectively detected by the laser interferometer and fed back to the drive unit. Acceleration and deceleration of the reticle stage 3 by the linear motor and speed control during exposure are the same as in the conventional example. Next will be explained an air slide E 1.
【００３３】図２に示すように、エアスライドＥ1 は、
４個のエアパッドユニット１１〜１４を有し、そのうち
の３個はガイド２の案内面である上面に対向する下向き
パッドユニット１１〜１３であり、残りの１個は、ガイ
ド２の案内面である一側面に対向して配設される側面パ
ッドユニット１４である。各下向きパットユニット１１
〜１３は、ガイド２の上面に加圧空気を噴出し、その静
圧によってレチクルステージ３をガイド２の上面から浮
上させる。また、側面パッドユニット１４は、ガイド２
の側面に向かって加圧空気を噴出し、その静圧によって
レチクルステージ３の側板３ａをガイド２の側面から浮
上させる。As shown in FIG. 2, the air slide E 1 is
It has four air pad units 11 to 14, three of which are downward pad units 11 to 13 facing the upper surface which is the guide surface of the guide 2, and the other one is the guide surface of the guide 2. The side surface pad unit 14 is disposed to face one side surface. Each downward pad unit 11
13 ejects pressurized air to the upper surface of the guide 2 and causes the reticle stage 3 to float from the upper surface of the guide 2 by the static pressure. The side pad unit 14 is provided with the guide 2.
Is blown toward the side surface of the reticle stage 3, and the side plate 3a of the reticle stage 3 floats from the side surface of the guide 2 by the static pressure.
【００３４】各エアパッドユニット１１〜１４は、Ｙ軸
方向に長尺な静圧軸受手段である一対のエアパッド２
１，２２と、その間に配設された磁気手段である予圧ユ
ニット２３を有する。予圧ユニット２３は、ガイド２に
沿ってＹ軸方向にのびる棒状の積層磁性体２４の側面に
対向して配設され、予圧ユニット２３と積層磁性体２４
の間の間隙寸法は０．５ｍｍ程度である。予圧ユニット
２３は、直列に配設した２極の磁石２３ａ，２３ｂと、
これらの背面に接合されたバックヨーク２３ｃからな
り、第１の磁石２３ａのＮ極から出た磁束が、積層磁性
体２４を経て第２の磁石２３ｂに入り、バックヨーク２
３ｃを通って第１の磁石２３ａに戻る磁気回路によっ
て、レチクルステージ３をガイド２に向かって吸引する
磁気的吸引力を発生させる。この磁気的吸引力は、エア
パッド２１，２２の静圧と逆向きに作用する予圧として
軸受剛性を強化し、レチクルステージ３とガイド２の間
に５ミクロン程度のエアギャップを維持する。Each of the air pad units 11 to 14 includes a pair of air pads 2 which are long hydrostatic bearings in the Y-axis direction.
1 and 22 and a preload unit 23 which is a magnetic means disposed therebetween. The preload unit 23 is disposed to face the side surface of the bar-shaped laminated magnetic body 24 extending in the Y-axis direction along the guide 2, and the preload unit 23 and the laminated magnetic body 24
Is about 0.5 mm. The preload unit 23 includes two pole magnets 23a and 23b arranged in series,
A magnetic flux emitted from the N pole of the first magnet 23a enters the second magnet 23b via the laminated magnetic body 24,
A magnetic attraction for attracting the reticle stage 3 toward the guide 2 is generated by a magnetic circuit returning to the first magnet 23a through 3c. This magnetic attraction force enhances the bearing rigidity as a preload acting in the direction opposite to the static pressure of the air pads 21 and 22, and maintains an air gap of about 5 μm between the reticle stage 3 and the guide 2.
【００３５】積層磁性体２４は、ガイド２の上面に２
本、ガイド２の側面に１本、合計３本設けられる。ガイ
ド２の上面の２本の積層磁性体２４は、それぞれガイド
２の上面に形成された溝２ａに収容されてＹ軸方向にの
びており、その両端のそれぞれを支持体２５によって支
持され、各支持体２５は、ガイド２やコイル台４ｂから
独立しており、これらとともに防振ベース１に支持され
ている。ガイド２の側面の積層磁性体２４も同様に、ガ
イド２の側面に設けられた溝２ａに収容されてＹ軸方向
にのびており、その両端を支持体２５によって支持され
ている。The laminated magnetic body 24 is provided on the upper surface of the guide 2.
A total of three guides are provided on the side of the book and the guide 2. The two laminated magnetic bodies 24 on the upper surface of the guide 2 are accommodated in grooves 2a formed on the upper surface of the guide 2 and extend in the Y-axis direction. The body 25 is independent of the guide 2 and the coil stand 4b, and is supported by the anti-vibration base 1 together with these. Similarly, the laminated magnetic body 24 on the side surface of the guide 2 is accommodated in the groove 2 a provided on the side surface of the guide 2, extends in the Y-axis direction, and both ends thereof are supported by the support 25.
【００３６】各溝２ａの断面寸法は、ガイド２と別体で
ある積層磁性体２４に接触しないように充分大きく設定
される。また、前述のように、各エアパッドユニット１
１〜１４のエアパッド２１，２２とガイド２の上面、側
面との間の隙間寸法（エアギャップ）は５ミクロン程度
であり、このために、エアパッド２１，２２が対向する
ガイド２の上面および側面は極めて高い面精度に加工す
ることが必要であるが、積層磁性体２４と磁石２３ａ，
２３ｂの間は０．５ｍｍ程度の隙間でよい。従って、積
層磁性体２４にはガイド２のような高精度の仕上げを必
要としない。The cross-sectional dimension of each groove 2a is set sufficiently large so as not to come into contact with the guide 2 and the laminated magnetic body 24 which is separate from the guide 2. In addition, as described above, each air pad unit 1
The gap dimension (air gap) between the air pads 21 and 22 and the upper surface and the side surface of the guide 2 is about 5 μm. Although it is necessary to work with extremely high surface accuracy, the laminated magnetic body 24 and the magnets 23a,
A gap of about 0.5 mm may be provided between 23b. Therefore, the laminated magnetic body 24 does not require high-precision finishing like the guide 2.
【００３７】ガイド２の材質は、非磁性材料でしかも加
工が比較的容易であるセラミックである。各積層磁性体
２４は、図３に拡大して示すように、エアパッド２１，
２２の軸受面に垂直で、レチクルステージ３の走査方向
（Ｙ軸方向）に長尺である複数の薄板磁性材２４ａを絶
縁層である薄板絶縁材２４ｂを介して重ね合わせた積層
体であり、その側面が予圧ユニット２３に対向し、積層
方向Ａ、すなわち各薄板磁性材２４ａと各薄板絶縁材２
４ｂの厚さ方向が、各予圧ユニット２３の２極の磁石２
３ａ，２３ｂの配列方向と着磁方向の双方に対して直交
するように配設される。The material of the guide 2 is a non-magnetic material and ceramic which is relatively easy to process. As shown in an enlarged manner in FIG.
22 is a laminate in which a plurality of thin magnetic materials 24a, which are perpendicular to the bearing surface of the reticle stage 3 and are long in the scanning direction (Y-axis direction) of the reticle stage 3, are stacked via a thin insulating material 24b as an insulating layer; The side faces the preload unit 23, and the stacking direction A, ie, each thin magnetic material 24a and each thin insulating material 2
4b corresponds to the two-pole magnet 2 of each preload unit 23.
3a and 23b are arranged so as to be orthogonal to both the arrangement direction and the magnetization direction.
【００３８】本実施例においては、ガイド２の上面に対
向するエアパッドユニットすなわち下向きパッドユニッ
ト１１〜１３のそれぞれの予圧ユニット２３の２極の磁
石２３ａ，２３ｂの配列方向がレチクルステージ３の走
査方向と同じＹ軸方向で、各磁石２３ａ，２３ｂの着磁
方向がガイド２の上面に垂直、すなわちＺ軸方向であ
る。従って、各下向きパッドユニット１１〜１３の予圧
ユニット２３に対向する積層磁性体２４の積層方向Ａ
は、Ｘ軸方向すなわち、ガイド２の上面に平行でレチク
ルステージ３の走査方向と直交する方向である。また、
側面パッドユニット１４については、その予圧ユニット
２３の２極の磁石２３ａ，２３ｂの配列方向がレチクル
ステージ３の走査方向と同じＹ軸方向で、各磁石２３
ａ，２３ｂの着磁方向がガイド２の側面に垂直、すなわ
ちＸ軸方向であるから、側面パッドユニット１４の予圧
ユニット２３に対向する積層磁性体２４の積層方向Ａ
は、Ｚ軸方向すなわち、ガイド２の側面に平行で、レチ
クルステージ３の走査方向と直交する方向である。In this embodiment, the arrangement direction of the two-pole magnets 23a and 23b of the preload unit 23 of the air pad unit facing the upper surface of the guide 2, ie, the downward facing pad units 11 to 13, is determined by the scanning direction of the reticle stage 3. In the same Y-axis direction, the magnetization direction of each of the magnets 23a and 23b is perpendicular to the upper surface of the guide 2, that is, the Z-axis direction. Therefore, the lamination direction A of the laminated magnetic body 24 that faces the preload unit 23 of each of the downward pad units 11 to 13.
Is the X-axis direction, that is, a direction parallel to the upper surface of the guide 2 and orthogonal to the scanning direction of the reticle stage 3. Also,
Regarding the side pad unit 14, the arrangement direction of the two-pole magnets 23 a and 23 b of the preload unit 23 is the same Y-axis direction as the scanning direction of the reticle stage 3, and each magnet 23
Since the magnetization directions of the a and b are perpendicular to the side surface of the guide 2, that is, the X-axis direction, the lamination direction A of the laminated magnetic body 24 facing the preload unit 23 of the side pad unit 14.
Is the Z-axis direction, that is, a direction parallel to the side surface of the guide 2 and orthogonal to the scanning direction of the reticle stage 3.
【００３９】前述のように、エアスライドＥ1 の各予圧
ユニット２３の磁気回路は、２極の磁石２３ａ，２３ｂ
の一方から出てこれらの磁極の配列方向に積層磁性体２
４内を進み、２極の磁石２３ａ，２３ｂの他方へ入って
これを着磁方向に貫通して、バックヨーク２３ｃ内を前
記と逆向きに進んで２極の磁石２３ａ，２３ｂの一方へ
戻る磁束によって構成される。このような磁束に対し
て、積層磁性体２４の積層方向Ａが直交しているため、
リニアモータが駆動されたとき、各予圧ユニット２３の
移動によって積層磁性体２４に発生する渦電流の電流路
は、薄板絶縁材２４ｂによって寸断される結果となる。
従って、ガイド２全体が鉄等の磁性体である場合や、積
層磁性体２４の替わりに棒状の鉄等の磁性体を各予圧ユ
ニット２３に対向させた場合に比べて、リニアモータの
駆動効率を低下させる渦電流の電流量は大幅に低減され
る。[0039] As described above, the magnetic circuit of each preload unit 23 of the air slide E 1 is of two-pole magnets 23a, 23b
From one of the magnetic poles in the direction in which the magnetic poles are arranged.
4 and enter the other one of the two-pole magnets 23a and 23b, penetrate it in the magnetizing direction, advance in the back yoke 23c in the opposite direction, and return to one of the two-pole magnets 23a and 23b. It is composed of magnetic flux. Since the lamination direction A of the laminated magnetic body 24 is orthogonal to such a magnetic flux,
When the linear motor is driven, the current path of the eddy current generated in the laminated magnetic body 24 by the movement of each preload unit 23 is broken by the thin insulating material 24b.
Therefore, the drive efficiency of the linear motor is reduced as compared with the case where the entire guide 2 is made of a magnetic material such as iron or the case where a magnetic material such as a bar-shaped iron is opposed to each preload unit 23 instead of the laminated magnetic material 24. The amount of eddy current to be reduced is greatly reduced.
【００４０】なお、エアスライドＥ1 の移動によって発
生する渦電流は、積層磁性体の側面における薄板磁性材
と薄板絶縁材の面積比に比例するものであり、渦電流に
よる粘性抵抗すなわちエネルギー損失は、前記面積比の
自乗に比例する。[0040] Incidentally, the eddy current generated by the movement of the air slide E 1 is in proportion to the area ratio of the thin magnetic material and the thin insulating material on the side surface of the laminated magnetic material, the viscous resistance or energy loss due to eddy currents , Is proportional to the square of the area ratio.
【００４１】従来例のように渦電流に打ち勝つ推力をレ
チクルステージ３に付加する必要がないため、露光中の
リニアモータの駆動電流は極くわずかですみ、リニアモ
ータの発熱等によって転写精度が劣化するおそれはな
い。また、リニアモータに推力むら等があっても、露光
中のリニアモータの推力自体が微小であるから、転写精
度に影響を与えるような外乱となるおそれもない。Since it is not necessary to apply a thrust to overcome the eddy current to the reticle stage 3 unlike the conventional example, the driving current of the linear motor during exposure is extremely small, and the transfer accuracy is deteriorated due to heat generation of the linear motor. There is no danger. Further, even if the linear motor has uneven thrust or the like, the thrust of the linear motor during the exposure is very small, so that there is no possibility that the disturbance may affect the transfer accuracy.
【００４２】その結果、走査型の露光装置の転写精度を
大幅に向上できる。As a result, the transfer accuracy of the scanning type exposure apparatus can be greatly improved.
【００４３】また、ガイドの渦電流による粘性抵抗は、
レチクルステージ等の走査速度が大きくなるほど増大す
るため、ガイド全体が焼き入れ鋼等である場合は、レチ
クルやウエハの走査速度を充分に速くすることができ
ず、露光工程の高速化の大きな障害となっていたが、本
実施例は、このようなトラブルを回避することで、レチ
クルステージ等の走査速度を速くして、露光装置の生産
性の向上に大きく貢献できる。The viscous resistance due to the eddy current of the guide is:
Since the scanning speed of the reticle stage and the like increases as the scanning speed increases, if the entire guide is made of hardened steel or the like, the scanning speed of the reticle or wafer cannot be sufficiently increased, which is a major obstacle to speeding up the exposure process. However, in the present embodiment, by avoiding such troubles, the scanning speed of the reticle stage and the like can be increased, and can greatly contribute to the improvement of the productivity of the exposure apparatus.
【００４４】本実施例においては、予圧ユニットの両側
に一対のエアパッドを設けたエアパッドユニットを用い
ているが、一対の予圧ユニットの間にエアパッドを配設
したものでもよい。さらに、予圧ユニットとエアパッド
をＹ軸方向にずらして配設することもできる。In this embodiment, an air pad unit having a pair of air pads on both sides of the preload unit is used, but an air pad may be provided between the pair of preload units. Further, the preload unit and the air pad can be arranged so as to be shifted in the Y-axis direction.
【００４５】図４は一変形例を示す。これは、長尺の棒
状体である積層磁性体２４をガイド２と別体に設ける替
わりに比較的幅の広い長尺の積層磁性体５４をガイド４
２に一体化し、各エアパッドユニット４１〜４４の軸受
面全体に積層磁性体５４の側面が対向するように構成し
たものである。各エアパッドユニット４１〜４４は、一
対の予圧ユニット５３とその間に配設されたエアパッド
５１を有し、ガイド４２の上面に対向するエアパッドユ
ニットすなわち下向きパッドユニット４１〜４３におい
ては、それぞれの予圧ユニット５３の２極の磁石５３
ａ，５３ｂの配列方向がレチクルステージ３の走査方
向、すなわちＹ軸方向になるように配設される。２極の
磁石５３ａ，５３ｂの着磁方向はガイド４２の上面に垂
直、すなわちＺ軸方向であるから、各下向きパッドユニ
ット４１〜４３の予圧ユニット５３に対向する積層磁性
体５４の積層方向は、Ｘ軸方向すなわち、ガイド４２の
上面に平行でレチクルステージ３の走査方向と直交する
方向である。また、側面パッドユニット４４において
は、その予圧ユニット５３の２極の磁石５３ａ，５３ｂ
の配列方向がレチクルステージ３の走査方向と同じＹ軸
方向で、各磁石５３ａ，５３ｂの着磁方向がガイド４２
の側面に垂直、すなわちＸ軸方向であるから、側面パッ
ドユニット４４の予圧ユニット５３に対向する積層磁性
体５４の積層方向は、Ｚ軸方向すなわち、ガイド４２の
側面に平行で、レチクルステージ３の走査方向と直交す
る方向である。FIG. 4 shows a modification. This is because, instead of providing the laminated magnetic body 24 which is a long rod-shaped body separately from the guide 2, a relatively wide elongated laminated magnetic body 54 is used for the guide 4.
2 so that the side surface of the laminated magnetic body 54 faces the entire bearing surface of each of the air pad units 41 to 44. Each of the air pad units 41 to 44 has a pair of preload units 53 and an air pad 51 disposed therebetween. In the air pad units facing the upper surface of the guide 42, that is, the downward pad units 41 to 43, the respective preload units 53 Two-pole magnet 53
The reticle stage 3 is arranged so that the arrangement direction of the a and 53b is the scanning direction of the reticle stage 3, that is, the Y-axis direction. Since the magnetizing directions of the two-pole magnets 53a and 53b are perpendicular to the upper surface of the guide 42, that is, the Z-axis direction, the laminating direction of the laminated magnetic body 54 facing the preload unit 53 of each of the downward pad units 41 to 43 is The X-axis direction, that is, a direction parallel to the upper surface of the guide 42 and orthogonal to the scanning direction of the reticle stage 3. In the side pad unit 44, the two-pole magnets 53a and 53b of the preload unit 53 are provided.
Are arranged in the same Y-axis direction as the scanning direction of the reticle stage 3, and the magnetizing directions of the magnets 53a and 53b are
Is perpendicular to the side surface of the reticle stage 3, that is, in the X-axis direction, the lamination direction of the laminated magnetic body 54 facing the preload unit 53 of the side surface pad unit 44 is parallel to the Z-axis direction, that is, parallel to the side surface of the guide 42. This is a direction orthogonal to the scanning direction.
【００４６】このように、ガイド４２の、各エアパッド
ユニット４１〜４４に対向する部分全体を積層磁性体５
４の側面によって構成すれば、予圧ユニットとエアパッ
ドをレチクルステージ３の走査方向に交差する方向、す
なわちＸ軸方向やＺ軸方向に平行に配設したエアパッド
ユニット等を用いることもできるため、ステージ装置の
設計上の制約が軽減されるという利点がある。As described above, the entire portion of the guide 42 facing each of the air pad units 41 to 44 is
4, an air pad unit or the like in which the preload unit and the air pad are arranged in a direction intersecting the scanning direction of the reticle stage 3, that is, in an X-axis direction or a Z-axis direction can be used. This has the advantage that the design constraints are reduced.
【００４７】図５はさらに別の変形例を示す。これは、
ガイド６２の両端に一対の積層磁性体７４を一体化した
ものである。各積層磁性体７４は、方形板状の薄板磁性
材を数多くＹ軸方向に積層して柱状体を形成し、その側
面が、各エアパッド６１〜６４の予圧ユニット７３に対
向するように配設したものである。ガイド６２の上面に
対向するエアパッドユニットすなわち下向きパッドユニ
ット６１〜６３においては、それぞれの予圧ユニット７
３の２極の磁石７３ａ，７３ｂの配列方向がＸ軸方向
で、各磁石７３ａ，７３ｂの着磁方向がガイド６２の上
面に垂直、すなわちＺ軸方向である。また、側面パッド
ユニット６４においては、その予圧ユニット７３の２極
の磁石７３ａ，７３ｂの配列方向がＺ軸方向で、各磁石
７３ａ，７３ｂの着磁方向がガイド６２の側面に垂直、
すなわちＸ軸方向である。FIG. 5 shows still another modification. this is,
A pair of laminated magnetic bodies 74 are integrated at both ends of the guide 62. Each laminated magnetic body 74 is formed by laminating a large number of rectangular plate-shaped thin plate magnetic materials in the Y-axis direction to form a columnar body, and is disposed such that a side surface thereof faces the preload unit 73 of each of the air pads 61 to 64. Things. In the air pad unit facing the upper surface of the guide 62, that is, the downward pad units 61 to 63, the respective preload units 7
The arrangement direction of the three two-pole magnets 73a and 73b is the X-axis direction, and the magnetizing direction of each magnet 73a and 73b is perpendicular to the upper surface of the guide 62, that is, the Z-axis direction. In the side pad unit 64, the arrangement direction of the two-pole magnets 73 a and 73 b of the preload unit 73 is the Z-axis direction, and the magnetization directions of the magnets 73 a and 73 b are perpendicular to the side surface of the guide 62.
That is, it is in the X-axis direction.
【００４８】一対の積層磁性体７４のうちの一方は、直
交する２つの側面が下向きパッドユニット６２，６３と
側面パッドユニット６４にそれぞれ対向しており、図４
の装置のように３個の積層磁性体を用いる場合に比べ
て、組立部品点数が少なくてすむいう利点がある。One of the pair of laminated magnetic members 74 has two orthogonal side surfaces facing the downward pad units 62 and 63 and the side surface pad unit 64, respectively, as shown in FIG.
There is an advantage in that the number of assembled parts can be reduced as compared with the case where three laminated magnetic bodies are used as in the apparatus described above.
【００４９】図６は第２実施例による露光装置のウエハ
ステージを示すもので、これは、ガイドである定盤１１
０上をＹ軸方向に往復移動自在な移動ステージであるＹ
ステージ１２０と、Ｙステージ１２０上をＸ軸方向に往
復移動自在な移動ステージであるＸステージ１３０と、
Ｙステージ１２０をＹ軸方向に移動させる駆動手段であ
る一対のＹリニアモータ１４０と、Ｘステージ１３０を
Ｘ軸方向に移動させる駆動手段であるＸリニアモータ１
５０を有するステージ装置である。FIG. 6 shows a wafer stage of the exposure apparatus according to the second embodiment, which is a guide plate 11.
Y which is a movable stage that can reciprocate in the Y-axis direction on
A stage 120, an X stage 130 that is a movable stage that is reciprocally movable on the Y stage 120 in the X-axis direction,
A pair of Y linear motors 140 as driving means for moving the Y stage 120 in the Y axis direction, and an X linear motor 1 as a driving means for moving the X stage 130 in the X axis direction.
50 is a stage device.
【００５０】定盤１１０は、Ｘステージ１３０の下面を
図７に示すエアスライドＥ2 を介して非接触で支持する
案内面であるＸＹガイド面を有する。定盤１１０のＸ軸
方向の一端には、Ｙステージ１２０をＹ軸方向に案内す
るＹガイド１１１が立設され、Ｙガイド１１１のＹガイ
ド面１１１ａとＹステージ１２０の間も、図示しないエ
アスライドによって非接触に保たれている。Ｙリニアモ
ータ１４０が駆動されると、Ｙステージ１２０が定盤１
１０のＸＹガイド面上をＹガイド１１１に沿って移動す
る。The platen 110 has an XY guide surface is a guide surface for supporting a non-contact through the air slide E 2 showing the lower surface of the X stage 130 in FIG. At one end of the surface plate 110 in the X-axis direction, a Y guide 111 for guiding the Y stage 120 in the Y-axis direction is provided upright. An air slide (not shown) is also provided between the Y guide surface 111a of the Y guide 111 and the Y stage 120. Is kept in non-contact. When the Y linear motor 140 is driven, the Y stage 120
10 along the Y guide 111 on the XY guide surface.
【００５１】Ｙステージ１２０は、一対のＹスライダ１
２１と両者の間に配設された一対のＸガイド１２２から
なる長尺の枠体であり、両Ｙスライダ１２１の下面が定
盤１１０のＸＹガイド面に面している。また、一方のＹ
スライダ１２１は他方よりＹ軸方向に長尺であり、その
側面１２１ａがＹガイド１１１のＹガイド面に面してお
り、前述のようにエアスライドを介して非接触に案内さ
れる。両Ｙスライダ１２１はそれぞれ、連結板１２３を
介してＹリニアモータ１４０の可動子１４１に連結さ
れ、連結板１２３はＹリニアモータ１４０の可動子１４
１とＹステージ１２０の双方と一体的に結合されてい
る。The Y stage 120 includes a pair of Y sliders 1
21 and a long frame composed of a pair of X guides 122 disposed between them, and the lower surfaces of both Y sliders 121 face the XY guide surface of the surface plate 110. Also, one Y
The slider 121 is longer in the Y-axis direction than the other, and the side surface 121a faces the Y guide surface of the Y guide 111, and is guided in a non-contact manner via the air slide as described above. Each of the Y sliders 121 is connected to a mover 141 of a Y linear motor 140 via a connecting plate 123, and the connecting plate 123 is connected to a mover 14 of the Y linear motor 140.
1 and the Y stage 120 are integrally connected.
【００５２】Ｘステージ１３０は、一対の天板１３１と
両者の間に配設された一対の側板１３２からなる中空枠
体であり、その中空部をＹステージ１２０の両Ｘガイド
１２２とＸリニアモータ１５０の固定子１５２が貫通し
ている。下方の天板１３１の底面は定盤１１０のＸＹガ
イド面に面しており、上方の天板１３１の上面は図示し
ない被露光体であるウエハを吸着保持するウエハ保持面
を形成している。The X stage 130 is a hollow frame composed of a pair of top plates 131 and a pair of side plates 132 disposed between them, and the hollow portion is formed by the X guides 122 of the Y stage 120 and the X linear motor. 150 stators 152 penetrate. The bottom surface of the lower top plate 131 faces the XY guide surface of the surface plate 110, and the upper surface of the upper top plate 131 forms a wafer holding surface for sucking and holding a wafer, which is a not-shown object to be exposed.
【００５３】Ｘステージ１３０の両側板１３２の内面１
３２ａは、Ｙステージ１２０の両Ｘガイド１２２の外側
面であるＸガイド面１２２ａに面しており、エアパッド
等によって非接触に案内される。Inner surface 1 of both side plates 132 of X stage 130
32a faces the X guide surface 122a which is the outer surface of both X guides 122 of the Y stage 120, and is guided in a non-contact manner by an air pad or the like.
【００５４】各Ｙリニアモータ１４０は、前述のように
連結板１２３と一体的に結合された可動子１４１と、そ
の開口部を貫通する固定子１４２を有する。固定子１４
２は、Ｙ軸方向に配列されたコイル列４２ａとその両端
を支持する固定部材１４２ｂを有し、可動子１４１は、
互に対向する磁石１４１ａを保持する一対のヨーク１４
１ｂと、これらの両端に固着された一対のアルミ板１４
１ｃからなる中空枠体である。Each Y linear motor 140 has the movable element 141 integrally connected to the connecting plate 123 as described above, and the stator 142 penetrating through the opening. Stator 14
2 has a coil array 42a arranged in the Y-axis direction and a fixing member 142b supporting both ends thereof.
A pair of yokes 14 holding magnets 141a facing each other
1b and a pair of aluminum plates 14 fixed to both ends thereof.
1c is a hollow frame body.
【００５５】両Ｙリニアモータ１４０の固定子１４２の
コイル列１４２ａのコイルに電流を供給すると、可動子
１４１の磁石１４１ａに対向するコイル面に沿ってロー
レンツ力による推力が発生し、Ｙステージ１２０をＹ軸
方向に移動させる。When current is supplied to the coils of the coil array 142a of the stator 142 of both Y linear motors 140, thrust due to Lorentz force is generated along the coil surface of the mover 141 facing the magnet 141a, and the Y stage 120 is moved. Move in the Y-axis direction.
【００５６】Ｘステージ１３０をＹステージ１２０のＸ
ガイド１２２に沿って移動させるＸリニアモータ１５０
の可動子１５１は、Ｘステージ１３０の上方の天板１３
１の下面に固着された中空枠体であり、Ｙリニアモータ
１４０の可動子１４１と同様に、互に対向する磁石１５
１ａを保持する一対の鉄板と、これらの両端に固着され
た一対のアルミ板からなる。The X stage 130 is replaced with the X of the Y stage 120.
X linear motor 150 moved along guide 122
The mover 151 is a top plate 13 above the X stage 130.
1 is a hollow frame fixed to the lower surface of the magnet 15, like the mover 141 of the Y linear motor 140.
It consists of a pair of iron plates holding 1a and a pair of aluminum plates fixed to both ends thereof.
【００５７】Ｘリニアモータ１５０の固定子１５２は、
Ｘ軸方向に配列された図示しないコイル列１５２ａとこ
れを支持する支持体１５２ｂを有し、コイル列１５２ａ
の各コイルに電流を供給することによって、可動子１５
１にローレンツ力による推力が発生し、Ｘステージ１３
０がＹステージ１２０のＸガイド１２２に沿ってＸ軸方
向に移動する。The stator 152 of the X linear motor 150 is
It has a coil row 152a (not shown) arranged in the X-axis direction and a support 152b for supporting the coil row 152a.
By supplying current to each coil of the movable element 15
Thrust due to Lorentz force is generated in 1 and X stage 13
0 moves in the X-axis direction along the X guide 122 of the Y stage 120.
【００５８】Ｘステージ１３０は、Ｙリニアモータ１４
０、Ｘリニアモータ１５０等を前述のように駆動するこ
とで、ウエハをステップを移動させ、ウエハの各露光画
角を投影光学系の直下の露光位置へ位置決めする。第１
実施例と同様のレチクルステージに保持された原版であ
るレチクルに対するアライメントを行ない、図示しない
露光手段である光源から発生された帯状断面の露光光に
対して、レチクルとウエハをＸ軸方向に同期的に走査さ
せることで露光画角全体を露光する。The X stage 130 is connected to the Y linear motor 14
By driving the 0, X linear motor 150 and the like as described above, the wafer is moved in steps, and each exposure angle of view of the wafer is positioned at an exposure position immediately below the projection optical system. First
Alignment is performed with respect to a reticle as an original held on a reticle stage similar to that in the embodiment, and a reticle and a wafer are synchronously moved in the X-axis direction with respect to exposure light having a band-shaped cross section generated from a light source as exposure means (not shown). To expose the entire exposure angle of view.
【００５９】エアスライドＥ2 は、方形枠形に配設され
た４個の静圧軸受手段であるエアパッドと、これらの間
に配設された４個の磁気手段である予圧ユニット２２１
を有し、エアパッド２１１と予圧ユニット２２１はすべ
てＸステージ１３０の下方の天板１３１に保持され、定
盤１１０のＸＹガイド面に下向きに対向している。The air slide E 2 is composed of four air pads, which are static pressure bearing means, arranged in a rectangular frame shape, and a preload unit 221 which is four magnetic means arranged therebetween.
The air pad 211 and the preload unit 221 are all held on the top plate 131 below the X stage 130, and face the XY guide surface of the surface plate 110 downward.
【００６０】定盤１１０は、複数の薄板磁性材１１０ａ
を絶縁層である薄板絶縁材１１０ｂを介して積層した積
層磁性体であり、一側面が前述のＸＹガイド面を構成す
る。各予圧ユニット２２１は、２極の磁石２２１ａ，２
２１ｂと、これらの背面に接合されたバックヨーク２２
１ｃからなり、一方の磁石２２１ａのＮ極から出た磁束
が、定盤１１０を経て他方の磁石２２１ｂに入り、バッ
クヨーク２２１ｃを通ってもとの磁石２２１ａに戻る磁
気回路によって、Ｘステージ１３０と定盤１１０の間に
磁気的吸引力を発生させる。この磁気的吸引力は、各エ
アパッド２２１の静圧と逆向きに作用する予圧として軸
受剛性を強化し、Ｘステージ１３０と定盤１１０の間に
５ミクロン程度のエアギャップを維持する。The platen 110 includes a plurality of thin magnetic members 110a.
Are laminated via a thin insulating material 110b as an insulating layer, and one side surface constitutes the XY guide surface described above. Each preload unit 221 has a two-pole magnet 221a,
21b and a back yoke 22 joined to the back surface
1c, the magnetic flux coming out of the N pole of one magnet 221a enters the other magnet 221b via the surface plate 110 and returns to the original magnet 221a after passing through the back yoke 221c. A magnetic attraction force is generated between the surface plates 110. This magnetic attraction enhances the bearing rigidity as a preload acting in the opposite direction to the static pressure of each air pad 221, and maintains an air gap of about 5 μm between the X stage 130 and the surface plate 110.
【００６１】定盤１１０を構成する積層磁性体の積層方
向は、ＸＹガイド面に平行であってウエハの走査方向す
なわちＸステージ１３０の移動方向（Ｘ軸方向）と直交
する方向すなわちＹ軸方向であり、各予圧ユニット２２
１の２極の磁石２２１ａ，２２１ｂの配列方向はＸ軸方
向である。従って、Ｘステージ１３０とともにエアスラ
イドＥ2 がＸ軸方向に移動したときに、各予圧ユニット
２２１の移動によって定盤１１０に発生する渦電流は薄
板絶縁材１１０ｂによって寸断される結果となり、定盤
全体がムクの磁性体である場合に比べて渦電流による粘
性抵抗が大幅に低減される。The lamination direction of the laminated magnetic material constituting the surface plate 110 is parallel to the XY guide surface and perpendicular to the scanning direction of the wafer, ie, the moving direction of the X stage 130 (X-axis direction), ie, the Y-axis direction. Yes, each preload unit 22
The arrangement direction of the one two-pole magnets 221a and 221b is the X-axis direction. Therefore, when together with the X stage 130 air slide E 2 is moved in the X-axis direction, an eddy current generated in the surface plate 110 by the movement of the preload unit 221 becomes a result of being shredded by the thin insulating material 110b, the entire plate The viscous resistance due to the eddy current is greatly reduced as compared with the case where is made of a magnetic material.
【００６２】その結果、第１実施例と同様に露光装置の
生産性と転写精度を大きく改善できる。As a result, similarly to the first embodiment, the productivity and transfer accuracy of the exposure apparatus can be greatly improved.
【００６３】図８は、第２実施例の一変形例を示すもの
で、これは、定盤３１０とＹガイド３１１を双方とも積
層磁性体によって構成し、第２の案内面であるＹガイド
３１１のＹガイド面に対向するエアパッド４１１と磁気
手段である予圧ユニット４２１をＹスライダ３２１ａに
固定したもので、予圧ユニット４２１の２極の磁石４２
１ａ，４２１ｂの配列方向はＺ軸方向である。本変形例
は、ウエハの走査方向をＹ軸方向とＸ軸方向のいずれに
も設定できるという利点を有する。FIG. 8 shows a modification of the second embodiment, in which both the surface plate 310 and the Y guide 311 are made of laminated magnetic material, and the Y guide 311 serving as a second guide surface. The air pad 411 facing the Y guide surface and a preload unit 421 as magnetic means are fixed to a Y slider 321a.
The arrangement direction of 1a and 421b is the Z-axis direction. This modification has an advantage that the scanning direction of the wafer can be set in both the Y-axis direction and the X-axis direction.
【００６４】なお、定盤３１０とＹガイド３１１の積層
方向は双方ともＹ軸方向であるから、Ｌ形の薄板磁性材
と薄板絶縁材を積層することで定盤とＹガイドを一体的
に製作してもよいし、定盤３１０の側面をＹガイドとし
て用いてもよい。Since the laminating direction of the surface plate 310 and the Y guide 311 are both in the Y-axis direction, the surface plate and the Y guide are integrally manufactured by laminating an L-shaped thin magnetic material and a thin insulating material. Alternatively, the side surface of the surface plate 310 may be used as a Y guide.
【００６５】次に上記説明した露光装置を利用した半導
体デバイスの製造方法の実施例を説明する。図９は半導
体デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、あるいは
液晶パネルやＣＣＤ等）の製造フローを示す。ステップ
１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行な
う。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パター
ンを形成したマスクを製作する。ステップ３（ウエハ製
造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記
用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術に
よってウエハ上に実際の回路を形成する。ステップ５
（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作
製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デ
バイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行な
う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これ
が出荷（ステップ７）される。Next, an embodiment of a method of manufacturing a semiconductor device using the above-described exposure apparatus will be described. FIG. 9 shows a manufacturing flow of a semiconductor device (a semiconductor chip such as an IC or an LSI, or a liquid crystal panel or a CCD). In step 1 (circuit design), the circuit of the semiconductor device is designed. Step 2 is a process for making a mask on the basis of the circuit pattern design. In step 3 (wafer manufacture), a wafer is manufactured using a material such as silicon.
Step 4 (wafer process) is called a pre-process, and an actual circuit is formed on the wafer by lithography using the prepared mask and wafer. Step 5
(Assembly) is called a post-process, and is a process of forming a semiconductor chip using the wafer produced in Step 4, and includes an assembly process (dicing, bonding),
It includes steps such as a packaging step (chip encapsulation). In step 6 (inspection), inspections such as an operation confirmation test and a durability test of the semiconductor device manufactured in step 5 are performed. Through these steps, a semiconductor device is completed and shipped (step 7).
【００６６】図１０は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって
マスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステッ
プ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステッ
プ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部
分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッ
チングが済んで不要となったレジストを取り除く。これ
らのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上
に多重に回路パターンが形成される。本実施例の製造方
法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導
体デバイスを製造することができる。FIG. 10 shows a detailed flow of the wafer process. Step 11 (oxidation) oxidizes the wafer's surface. Step 12 (CVD) forms an insulating film on the wafer surface. Step 13 (electrode formation) forms electrodes on the wafer by vapor deposition. In step 14 (ion implantation), ions are implanted into the wafer. Step 1
In 5 (resist processing), a photosensitive agent is applied to the wafer. Step 16 (exposure) uses the above-described exposure apparatus to print and expose the circuit pattern of the mask onto the wafer. Step 17 (development) develops the exposed wafer. In step 18 (etching), portions other than the developed resist image are removed. In step 19 (resist stripping), unnecessary resist after etching is removed. By repeating these steps, multiple circuit patterns are formed on the wafer. By using the manufacturing method of this embodiment, it is possible to manufacture a highly integrated semiconductor device, which has been conventionally difficult to manufacture.
【００６７】[0067]
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。Since the present invention is configured as described above, the following effects can be obtained.
【００６８】レチクルステージ等のガイドに発生する渦
電流を低減して、リニアモータ等の駆動効率を向上さ
せ、露光装置の高速化による生産性の向上と転写精度の
改善に大きく貢献できる。The eddy current generated in the guide of the reticle stage or the like is reduced, the driving efficiency of the linear motor or the like is improved, and it is possible to greatly contribute to the improvement of the productivity and the transfer accuracy by increasing the speed of the exposure apparatus.
【図１】第１実施例による走査ステージ装置を示す斜視
図である。FIG. 1 is a perspective view showing a scanning stage device according to a first embodiment.
【図２】図１の装置を分解して示す分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view showing the device of FIG. 1 in an exploded manner.
【図３】図１の装置の一部分を拡大して示す拡大部分斜
視図である。FIG. 3 is an enlarged partial perspective view showing a part of the apparatus of FIG. 1 in an enlarged manner.
【図４】第１実施例の第１の変形例を分解して示す分解
斜視図である。FIG. 4 is an exploded perspective view showing a first modification of the first embodiment in an exploded manner.
【図５】第１実施例の第２の変形例を分解して示す分解
斜視図である。FIG. 5 is an exploded perspective view showing an exploded view of a second modification of the first embodiment.
【図６】第２実施例によるステージ装置を示す斜視図で
ある。FIG. 6 is a perspective view showing a stage device according to a second embodiment.
【図７】図６の装置を分解して示す分解斜視図である。FIG. 7 is an exploded perspective view showing the device of FIG. 6 in an exploded manner.
【図８】第２実施例の一変形例を分解して示す分解斜視
図である。FIG. 8 is an exploded perspective view showing a modification of the second embodiment in an exploded manner.
【図９】微小デバイスの製造工程を示すフローチャート
である。FIG. 9 is a flowchart showing a manufacturing process of a micro device.
【図１０】ウエハプロセスを示すフローチャートであ
る。FIG. 10 is a flowchart showing a wafer process.
【図１１】一従来例を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing a conventional example.
【図１２】図１１の装置を分解して示す分解斜視図であ
る。FIG. 12 is an exploded perspective view showing the device of FIG. 11 in an exploded manner.
【図１３】露光装置全体を説明する図である。FIG. 13 is a diagram illustrating the entire exposure apparatus.
【図１４】レチクルステージの走査を説明する図であ
る。FIG. 14 is a diagram illustrating scanning of a reticle stage.
１ 防振ベース ２，４２，６２ ガイド ３ レチクルステージ ４，５ リニアモータ固定子 ６，７ リニアモータ可動子 １１〜１３，４１〜４３，６１〜６３ 下向きパッド
ユニット（エアパッドユニット） １４，４４，６４ 側面パッドユニット（エアパッド
ユニット） ２１，２２，５１，７１，２１１，４１１ エアパッ
ド ２３，５３，７３，２２１，４２１ 予圧ユニット ２３ａ，２３ｂ，５３ａ，５３ｂ，７３ａ，７３ｂ，２
２１ａ，２２１ｂ，４２１ａ，４２１ｂ 磁石 ２３ｃ，２２１ｃ バックヨーク ２４，５４，７４ 積層磁性体 ２５ 支持体 ３０ レチクル １１０，３１０ 定盤 １１１，３１１ Ｙガイド １２０ Ｙステージ １３０ Ｘステージ １４０ Ｘリニアモータ １５０ ＹリニアモータDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vibration-proof base 2, 42, 62 Guide 3 Reticle stage 4, 5 Linear motor stator 6, 7 Linear motor mover 11-13, 41-43, 61-63 Downward pad unit (air pad unit) 14, 44, 64 Side pad unit (air pad unit) 21, 22, 51, 71, 211, 411 Air pad 23, 53, 73, 221, 421 Preload unit 23a, 23b, 53a, 53b, 73a, 73b, 2
21a, 221b, 421a, 421b Magnet 23c, 221c Back Yoke 24, 54, 74 Laminated Magnetic Body 25 Support 30 Reticle 110, 310 Surface Plate 111, 311 Y Guide 120 Y Stage 130 X Stage 140 X Linear Motor 150 Y Linear Motor
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｇ Ｂ２３Ｑ 1/18 Ｚ ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 21/30 515G B23Q 1/18 Z
Claims (13)
移動ステージと、これを移動させる駆動手段と、前記移
動ステージと前記案内面の間を非接触に保つための静圧
軸受手段と、前記案内面の所定の部位に対向して移動す
るように前記移動ステージに保持された磁気手段を有
し、前記案内面の少なくとも前記所定の部位が、絶縁層
を介して複数の薄板磁性材を積層した積層磁性体の側面
によって構成されていることを特徴とするステージ装
置。1. A moving stage movable along a guide surface of a guide, a driving means for moving the moving stage, a hydrostatic bearing means for keeping a non-contact between the moving stage and the guide surface, Magnetic means held on the moving stage so as to move in opposition to a predetermined portion of the guide surface, wherein at least the predetermined portion of the guide surface includes a plurality of thin magnetic materials via an insulating layer. A stage device comprising a side surface of a laminated magnetic body.
が、非磁性材料で作られていることを特徴とする請求項
１記載のステージ装置。2. The stage device according to claim 1, wherein the remaining portion of the guide surface except for a predetermined portion is made of a non-magnetic material.
ガイドから独立して支持されていることを特徴とする請
求項１または２記載のステージ装置。3. The stage device according to claim 1, wherein the laminated magnetic body is separate from the guide, and is supported independently of the guide.
向していることを特徴とする請求項１ないし３いずれか
１項記載のステージ装置。4. The stage apparatus according to claim 1, wherein a side surface of the laminated magnetic body faces the hydrostatic bearing means.
石を有し、積層磁性体の積層方向が、前記２極の磁石の
着磁方向および配列方向に直交するように配設されてい
ることを特徴とする請求項１ないし４いずれか１項記載
のステージ装置。5. The magnetic means has two-pole magnets arranged in series, and is disposed such that the lamination direction of the laminated magnetic body is orthogonal to the magnetization direction and the arrangement direction of the two-pole magnets. The stage device according to any one of claims 1 to 4, wherein the stage device is provided.
ジの移動方向に平行に配設されていることを特徴とする
請求項１ないし５いずれか１項記載のステージ装置。6. The stage apparatus according to claim 1, wherein the hydrostatic bearing means and the magnetic means are arranged in parallel with the moving direction of the moving stage.
移動ステージと、これを移動させる駆動手段と、前記移
動ステージと前記案内面の間を非接触に保つための静圧
軸受手段と、前記案内面に対向するように前記移動ステ
ージに保持された磁気手段を有し、前記案内面が、絶縁
層を介して複数の薄板磁性材を積層した積層磁性体の側
面によって構成されていることを特徴とするステージ装
置。7. A moving stage movable along a guide surface of a guide, driving means for moving the moving stage, hydrostatic bearing means for keeping the moving stage and the guide surface in non-contact, Magnetic means held on the moving stage so as to face the guide surface, wherein the guide surface is constituted by a side surface of a laminated magnetic body in which a plurality of thin magnetic materials are laminated via an insulating layer. A stage device characterized by the above-mentioned.
方向に移動自在であることを特徴とする請求項７記載の
ステージ装置。8. The stage apparatus according to claim 7, wherein the moving stage is movable in two axial directions along the guide surface.
一方に沿って案内するための第２の案内面を有すること
を特徴とする請求項８記載のステージ装置。9. The stage apparatus according to claim 8, wherein the guide has a second guide surface for guiding the moving stage along one of two axes.
されていることを特徴とする請求項７ないし９いずれか
１項記載のステージ装置。10. The stage device according to claim 7, wherein the entire guide is made of a laminated magnetic body.
られていることを特徴とする請求項９記載のステージ装
置。11. The stage device according to claim 9, wherein the second guide surface is made of a non-magnetic material.
のステージ装置と、これに保持された被露光体を露光す
る露光手段を有する露光装置。12. An exposure apparatus comprising: the stage device according to claim 7; and an exposure unit configured to expose an object to be exposed held by the stage device.
ステージ装置と、これに保持された原版を通して被露光
体を露光する露光手段を有する露光装置。13. An exposure apparatus comprising: the stage device according to claim 1; and exposure means for exposing an object to be exposed through an original held by the stage device.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32232396A JP3639681B2 (en) | 1996-11-18 | 1996-11-18 | Stage apparatus and exposure apparatus using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32232396A JP3639681B2 (en) | 1996-11-18 | 1996-11-18 | Stage apparatus and exposure apparatus using the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10149976A true JPH10149976A (en) | 1998-06-02 |
| JP3639681B2 JP3639681B2 (en) | 2005-04-20 |
Family
ID=18142362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32232396A Expired - Fee Related JP3639681B2 (en) | 1996-11-18 | 1996-11-18 | Stage apparatus and exposure apparatus using the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3639681B2 (en) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0960783A1 (en) | 1998-05-29 | 1999-12-01 | TS Tech Co., Ltd | Trim assembly for vehicle and method for manufacturing the same |
| WO2001072659A1 (en) * | 2000-03-31 | 2001-10-04 | Toto Ltd. | Method for wet forming of powder, method for producing powder sintered compact, powdery sintered compact, and apparatus using powdery sintered compact |
| KR100471018B1 (en) * | 2000-11-28 | 2005-03-08 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | Gap adjustment apparatus and gap adjustment method for adjusting gap between two objects |
| JP2010183077A (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Asml Holding Nv | Reticle support reducing reticle slippage |
| JP2012119687A (en) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Asml Holding Nv | Patterning device support |
| JPWO2013069156A1 (en) * | 2011-11-11 | 2015-04-02 | 日本車輌製造株式会社 | Stage device for laser processing machine |
| JP2016530709A (en) * | 2013-07-17 | 2016-09-29 | メカトロニクス・アクチェンゲゼルシャフトＭｅｃａｔｒｏｎｉｘ ＡＧ | Positioning device for moving a substrate |
| CN115274529A (en) * | 2022-09-27 | 2022-11-01 | 无锡邑文电子科技有限公司 | Adjusting and positioning mechanism, adjusting and positioning method and semiconductor photoresist remover |
-
1996
- 1996-11-18 JP JP32232396A patent/JP3639681B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0960783A1 (en) | 1998-05-29 | 1999-12-01 | TS Tech Co., Ltd | Trim assembly for vehicle and method for manufacturing the same |
| WO2001072659A1 (en) * | 2000-03-31 | 2001-10-04 | Toto Ltd. | Method for wet forming of powder, method for producing powder sintered compact, powdery sintered compact, and apparatus using powdery sintered compact |
| US7288222B2 (en) | 2000-03-31 | 2007-10-30 | Toto Ltd. | Method of producing a carbide sintered compact |
| KR100471018B1 (en) * | 2000-11-28 | 2005-03-08 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | Gap adjustment apparatus and gap adjustment method for adjusting gap between two objects |
| JP2010183077A (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Asml Holding Nv | Reticle support reducing reticle slippage |
| US9229341B2 (en) | 2009-02-05 | 2016-01-05 | Asml Holding N.V. | Reticle support that reduces reticle slippage |
| JP2012119687A (en) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Asml Holding Nv | Patterning device support |
| US9298105B2 (en) | 2010-12-02 | 2016-03-29 | Asml Holding N.V. | Patterning device support |
| JPWO2013069156A1 (en) * | 2011-11-11 | 2015-04-02 | 日本車輌製造株式会社 | Stage device for laser processing machine |
| JP2016530709A (en) * | 2013-07-17 | 2016-09-29 | メカトロニクス・アクチェンゲゼルシャフトＭｅｃａｔｒｏｎｉｘ ＡＧ | Positioning device for moving a substrate |
| CN115274529A (en) * | 2022-09-27 | 2022-11-01 | 无锡邑文电子科技有限公司 | Adjusting and positioning mechanism, adjusting and positioning method and semiconductor photoresist remover |
| CN115274529B (en) * | 2022-09-27 | 2022-12-20 | 无锡邑文电子科技有限公司 | Adjusting and positioning mechanism, adjusting and positioning method and semiconductor photoresist remover |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3639681B2 (en) | 2005-04-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4639517B2 (en) | Stage apparatus, lithography system, positioning method, and stage apparatus driving method | |
| JP3363662B2 (en) | Scanning stage apparatus and exposure apparatus using the same | |
| JPH11191585A (en) | Stage device and aligner using it and/or device manufacture | |
| US20100167556A1 (en) | Three degree of movement mover and method for controlling a three degree of movement mover | |
| WO1999010970A1 (en) | Positioning device, driving unit, and aligner equipped with the device | |
| JP2002325421A (en) | Linear motor, stage apparatus using the same aligner, and device manufacturing method | |
| JP2004248400A (en) | Linear motor | |
| JP4314555B2 (en) | Linear motor device, stage device, and exposure device | |
| KR20180043759A (en) | Stage apparatus and its driving method | |
| JP2004364392A (en) | Linear motor, stage equipment comprising it, exposure system and process for fabricating device | |
| US20080012431A1 (en) | Monolithic stage devices providing motion in six degrees of freedom | |
| JP2004228473A (en) | Movable stage device | |
| JP3639681B2 (en) | Stage apparatus and exposure apparatus using the same | |
| JP3679509B2 (en) | Moving stage apparatus and exposure apparatus using the same | |
| JP4072212B2 (en) | Scanning exposure equipment | |
| JP2007258356A (en) | Stage equipment | |
| JP2008182210A (en) | Stage apparatus, exposure equipment, and device manufacturing method | |
| JP2008078377A (en) | Stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP2001145328A (en) | Linear motor, and stage apparatus and aligner therewith | |
| JPH1012538A (en) | Scanning stage unit and aligner using the same | |
| US7468783B2 (en) | Exposure apparatus, control method for the same, and device manufacturing method | |
| JP2014204634A (en) | Motor, mobile device and exposure device | |
| JPH1055953A (en) | Scanning stage device and aligner using this | |
| JP2002272087A (en) | Armature unit, motor, stage apparatus, exposure apparatus, and method of manufacturing device | |
| JPH11113239A (en) | Linear motor, and stage device, aligner and manufacture of device using the same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041224 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050111 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050117 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080121 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090121 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090121 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100121 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110121 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120121 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |