JP4687450B2 - Flexible substrate mounting method, droplet discharge head manufacturing method, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus - Google Patents

Flexible substrate mounting method, droplet discharge head manufacturing method, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus Download PDF

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Description

本発明は、フレキシブル基板の実装方法、液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置に関する。 The present invention is implementation of a flexible substrate, a method of manufacturing a droplet discharge head, a droplet discharge head, and a droplet discharge device.

マイクロデバイスを製造する方法の1つとして、液滴吐出法(インクジェット法)が提案されている。この液滴吐出法は、デバイスを形成するための材料を含む機能液を液滴状にして、液滴吐出ヘッドより吐出する方法である。下記特許文献1には、液滴吐出ヘッド(インクジェット式記録ヘッド)に関する技術の一例が開示されている。この特許文献1に開示されている液滴吐出ヘッドでは、段差部の下段側に設けられた駆動素子(圧電素子)が、段差部の上段側に設けられた駆動デバイス(ドライバIC)にワイヤボンディングで接続された構造となっている。   As one method for manufacturing a microdevice, a droplet discharge method (inkjet method) has been proposed. This droplet discharge method is a method in which a functional liquid containing a material for forming a device is formed into droplets and discharged from a droplet discharge head. Patent Document 1 below discloses an example of a technique related to a droplet discharge head (inkjet recording head). In the droplet discharge head disclosed in Patent Document 1, a drive element (piezoelectric element) provided on the lower side of the stepped portion is wire-bonded to a drive device (driver IC) provided on the upper side of the stepped portion. It is a structure connected by.

ところで、液滴吐出法に基づいてマイクロデバイスを製造する際、マイクロデバイスの更なる微細化の要求に応えるために、液滴吐出ヘッドに設けられたノズル開口部どうしの間の距離(ノズルピッチ)を、できるだけ小さく(狭く)することが望まれている。しかし、前記駆動素子はノズル開口部に対応して複数設けられるため、ノズルピッチを小さくすると、そのノズルピッチに対応して駆動素子どうしの間の距離も小さく(短く)なる。
特開2000−296616号公報
By the way, when manufacturing a microdevice based on the droplet discharge method, in order to meet the demand for further miniaturization of the microdevice, the distance between the nozzle openings provided in the droplet discharge head (nozzle pitch) Is desired to be as small (narrow) as possible. However, since a plurality of the driving elements are provided corresponding to the nozzle openings, when the nozzle pitch is reduced, the distance between the driving elements is also reduced (shortened) corresponding to the nozzle pitch.
JP 2000-296616 A

ところが、駆動素子どうしの間の距離を小さく(短く)すると、これら複数の駆動素子それぞれとドライバICとをワイヤボンディングで接続するのは、ワイヤ間で短絡が起こり易くなることから非常に難しくなり、作業性が著しく損なわれてしまう。すなわち、現行構造では例えばワイヤ間のピッチ(配線ピッチ)が64μmとなるが、このようなピッチでのワイヤーボンディング実装では接続部強度が弱く、歩留まりが上がらないといった問題がある。また、これ以上端子間ピッチを狭くした場合、ワイボンディングでは対応がほとんど不可能であるといった問題もある。   However, if the distance between the drive elements is reduced (shortened), it is very difficult to connect each of the plurality of drive elements and the driver IC by wire bonding because a short circuit easily occurs between the wires. Workability will be significantly impaired. That is, in the current structure, for example, the pitch between the wires (wiring pitch) is 64 μm, but wire bonding mounting at such a pitch has a problem that the strength of the connection portion is weak and the yield does not increase. In addition, when the pitch between terminals is further narrowed, there is a problem that it is almost impossible to cope with wi bonding.

そこで、このようなワイヤボンディングによる接続に起因する問題を解消するため、予めアウターリードとして機能する配線パターンを形成したフレキシブル基板(可撓性基板)を用い、アウターリードボンディング接続を行うことで、短絡等の不都合を生じさせることなく、駆動素子(圧電素子)と駆動デバイス(ドライバIC)との間の電気的接続を行うことが考えられる。   Therefore, in order to eliminate the problems caused by the wire bonding connection, a short circuit is achieved by using an outer lead bonding connection using a flexible substrate (flexible substrate) in which a wiring pattern that functions as an outer lead is formed in advance. It is conceivable to make an electrical connection between the drive element (piezoelectric element) and the drive device (driver IC) without causing such inconveniences.

しかしながら、このようなフレキシブル基板を用いる場合には、このフレキシブル基板自体の液滴吐出ヘッドへの接続面積も小さいため、十分な接続強度を得るのが困難であり、したがって十分な接続強度が得られる手法が必要となる。
また、接着と電気的接続とを同時に行う手法としては、異方性導電材料を用いるのが一般的であるが、例えば異方性導電膜(ACF)は、その硬化温度が150℃程度と高いことから、これの硬化時に駆動素子を破壊してしまうおそれがある。
However, when such a flexible substrate is used, since the connection area of the flexible substrate itself to the droplet discharge head is small, it is difficult to obtain sufficient connection strength, and thus sufficient connection strength can be obtained. A technique is required.
In addition, as a method for performing adhesion and electrical connection at the same time, an anisotropic conductive material is generally used. For example, an anisotropic conductive film (ACF) has a high curing temperature of about 150 ° C. For this reason, there is a risk of destroying the drive element when it is cured.

また、段差部の下段側に設けられた駆動素子と段差部の上段側に設けられた駆動デバイスとを接続するためには、フレキシブル基板を下段側から上段側に立ち上がらせる必要がある。そして、前記したように十分な接続強度を得るためには、前記の立ち上がり部においても、例えば異方性導電材料を用いて前記の下段側の面に固着するのが望ましい。ところが、例えば異方性導電材料を用いて前記立ち上がり部を下段側の面に固着した場合、この固着部における異方性導電材料に含まれる導電粒子は電気的接続に寄与するものとならず、水分と電解によりマイグレーションを引き起こし、端子間をショートさせる要因となってしまう。   Further, in order to connect the driving element provided on the lower stage side of the stepped portion and the driving device provided on the upper stage side of the stepped portion, it is necessary to raise the flexible substrate from the lower stage side to the upper stage side. In order to obtain sufficient connection strength as described above, it is desirable that the rising portion is also fixed to the lower surface using, for example, an anisotropic conductive material. However, for example, when the rising portion is fixed to the lower surface using an anisotropic conductive material, the conductive particles contained in the anisotropic conductive material in the fixed portion do not contribute to electrical connection, Moisture and electrolysis cause migration and cause a short circuit between terminals.

また、フレキシブル基板を下段側の面に接続する場合、予めフレキシブル基板の接続部分に、異方性導電材料として例えば硬化前の異方性導電ペーストを付着させ、その状態でこの異方性導電ペーストを介して接続部分を前記下段側の面に接着することが考えられる。しかし、その場合に、フレキシブル基板の接続部分に付着させる異方性導電ペーストの量にバラツキが生じ、これに起因してフレキシブル基板の下段側の面に対する十分な接続強度が得られにくくなってしまう。すなわち、フレキシブル基板の接続部分に異方性導電ペーストを付着させるには、転写ステージに予め硬化前の異方性導電ペーストを配しておき、この異方性導電ペーストにフレキシブル基板を接触させ、引き上げることで該異方性導電ペーストをフレキシブル基板に転写させるが、その際、転写ステージに配された量の全てが必ずしもフレキシブル基板側に転写されないからである。   Further, when connecting the flexible substrate to the lower surface, for example, an anisotropic conductive paste before curing is attached to the connection portion of the flexible substrate in advance as an anisotropic conductive material, and this anisotropic conductive paste is in that state. It is conceivable to bond the connecting portion to the lower surface through the gap. However, in that case, the amount of the anisotropic conductive paste adhered to the connection portion of the flexible substrate varies, and this makes it difficult to obtain sufficient connection strength to the lower surface of the flexible substrate. . That is, in order to attach the anisotropic conductive paste to the connection portion of the flexible substrate, the anisotropic conductive paste before curing is arranged in advance on the transfer stage, the flexible substrate is brought into contact with the anisotropic conductive paste, This is because the anisotropic conductive paste is transferred to the flexible substrate by pulling up, but at this time, the entire amount disposed on the transfer stage is not necessarily transferred to the flexible substrate side.

さらに、転写ステージ上の異方性導電ペーストにフレキシブル基板を接触させ、引き上げて転写した際に、異方性導電ペースト中の熱硬化性樹脂が糸を引いてしまい、これによって転写された異方性導電ペースト中に気泡が混入してしまうことがある。すなわち、通常はフレキシブル基板を真っ直ぐに上に上げることで引き上げを行うが、このようにして引き上げを行うと、前記の糸が転写ステージから引き離され、フレキシブル基板に転写された際に、糸が大きく引いた状態から倒れることで、この糸が倒れた部分に空気が巻き込まれて細かい気泡として残ってしまう。そして、最終的にフレキシブル基板が実装された際、接着に用いられた異方性導電ペースト中に気泡がそのまま残されてしまう。すると、この気泡によって湿気が浸透することなどにより、接着力が低下し、フレキシブル基板に剥離が生じてしまうなどのおそれがある。   Furthermore, when the flexible substrate is brought into contact with the anisotropic conductive paste on the transfer stage, and the film is pulled up and transferred, the thermosetting resin in the anisotropic conductive paste pulls the yarn, and the transferred anisotropic material Bubbles may be mixed in the conductive paste. That is, normally, the flexible substrate is lifted by raising it straight up.However, when the flexible substrate is lifted in this way, the yarn becomes large when the yarn is pulled away from the transfer stage and transferred to the flexible substrate. By falling from the pulled state, air is trapped in the part where the thread has fallen and remains as fine bubbles. When the flexible substrate is finally mounted, bubbles remain in the anisotropic conductive paste used for bonding. Then, moisture permeates through the air bubbles, which may cause a decrease in adhesive strength and peeling of the flexible substrate.

本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、段差部の上段側から下段側にかけてフレキシブル基板を配置し、これら上段側と下段側との間にフレキシブル基板を実装させる手法として、特に実装するフレキシブル基板と段差部の下段側についての、十分な接続強度が得られる手法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to arrange a flexible substrate from the upper side to the lower side of the stepped portion and mount the flexible substrate between the upper side and the lower side. As a technique, it is to provide a technique capable of obtaining a sufficient connection strength particularly for the flexible substrate to be mounted and the lower side of the step portion.

前記目的を達成するため本発明のフレキシブル基板の実装方法は、導電部を有したフレキシブル基板を段差部の上段側から下段側にかけて配置し、これら上段側と下段側との間を、前記導電部によって電気的に導通させるフレキシブル基板の実装方法であって、
前記フレキシブル基板の前記導電部を有した下面の一端側を、熱硬化性樹脂中に導電粒子を含有してなる異方性導電ペーストを用いて前記段差部の下段側の面に接着し、前記フレキシブル基板の導電部と前記下段側の面に設けられた端子部とを導通させる工程と、
前記フレキシブル基板の下面の、前記一端側から前記段差部の段差に沿って立ち上がる立ち上がり部の、前記一端側の近傍部を、前記異方性導電ペースト中の熱硬化性樹脂と同じ熱硬化性樹脂によって前記段差部の下段側の面に固着する工程と、を備え、
前記フレキシブル基板の下面の一端側を前記段差部の下段側の面に接着する工程は、予め転写ステージ上に配された硬化前の前記異方性導電ペーストに、前記フレキシブル基板の下面の一端側を接触させ、その後引き上げることにより、該一端側に前記異方性導電ペーストを転写する工程と、異方性導電ペーストが転写された前記フレキシブル基板の一端側を、転写された異方性導電ペーストを介して前記段差部の下段側の面に接合する工程と、を備えてなり、
前記転写ステージとして、前記異方性導電ペーストを配するペースト配置領域を形成する面に、その全域において多数の凹部を形成したものを用いる、ことを特徴とする。
本発明のフレキシブル基板の実装方法は、導電部を有したフレキシブル基板を段差部の上段側から下段側にかけて配置し、これら上段側と下段側との間を、前記導電部によって電気的に導通させるフレキシブル基板の実装方法であって、
前記フレキシブル基板の前記導電部を有した下面の一端側を、熱硬化性樹脂中に導電粒子を含有してなる異方性導電ペーストを用いて前記段差部の下段側の面に接着し、前記フレキシブル基板の導電部と前記下段側の面に設けられた端子部とを導通させる工程と、
前記フレキシブル基板の下面の、前記一端側から前記段差部の段差に沿って立ち上がる立ち上がり部の、前記一端側の近傍部を、前記異方性導電ペースト中の熱硬化性樹脂と同じ熱硬化性樹脂によって前記段差部の下段側の面に固着する工程と、を備えたことを特徴とする。

In order to achieve the above object, a flexible substrate mounting method according to the present invention includes arranging a flexible substrate having a conductive portion from an upper stage side to a lower stage side of a stepped portion, and the conductive portion between the upper stage side and the lower stage side. A method for mounting a flexible substrate that is electrically conducted by
Adhering one end of the lower surface of the flexible substrate having the conductive portion to the lower surface of the step using an anisotropic conductive paste containing conductive particles in a thermosetting resin, Conducting the conductive portion of the flexible substrate and the terminal portion provided on the lower surface,
The thermosetting resin that is the same as the thermosetting resin in the anisotropic conductive paste at the vicinity of the one end side of the rising portion that rises along the step of the stepped portion from the one end side of the lower surface of the flexible substrate A step of adhering to the lower side surface of the stepped portion by,
The step of adhering one end side of the lower surface of the flexible substrate to the lower surface of the stepped portion is performed by applying one end side of the lower surface of the flexible substrate to the anisotropic conductive paste before curing disposed on the transfer stage in advance. And transferring the anisotropic conductive paste to the one end side, and then transferring the one end side of the flexible substrate to which the anisotropic conductive paste is transferred to the one end side. And a step of joining to the lower surface of the stepped portion via,
As the transfer stage, a surface on which a paste disposition region for disposing the anisotropic conductive paste is formed and a large number of recesses are formed in the entire region is used .
According to the flexible substrate mounting method of the present invention, a flexible substrate having a conductive portion is disposed from the upper side to the lower side of the stepped portion, and the upper portion and the lower step are electrically connected by the conductive portion. A flexible substrate mounting method,
Adhering one end of the lower surface of the flexible substrate having the conductive portion to the lower surface of the step using an anisotropic conductive paste containing conductive particles in a thermosetting resin, Conducting the conductive portion of the flexible substrate and the terminal portion provided on the lower surface,
The thermosetting resin that is the same as the thermosetting resin in the anisotropic conductive paste at the vicinity of the one end side of the rising portion that rises along the step of the stepped portion from the one end side of the lower surface of the flexible substrate And a step of fixing to the lower surface of the step portion.

このフレキシブル基板の実装方法によれば、異方性導電ペーストを用いてフレキシブル基板の下面の一端側を下段側の面に接着し、さらに前記フレキシブル基板の下面の立ち上がり部の、前記一端側の近傍部を熱硬化性樹脂によって前記段差部の下段側の面に固着しているので、フレキシブル基板と段差部の下段側との間の接続について、十分に高い接続強度が得られる。
また、前記立ち上がり部での固着を、異方性導電ペースト中の熱硬化性樹脂と同じ熱硬化性樹脂で行うので、この立ち上がり部には導電粒子がほとんど存在しなくなる。したがって、立ち上がり部に存在する導電粒子に起因するマイグレーションが抑制され、端子間のショートが防止される。
さらに、立ち上がり部での固着に用いる熱硬化性樹脂を、異方性導電ペースト中の熱硬化性樹脂と同じものとしているので、フレキシブル基板の下面の一端側での接着部分と立ち上がり部での固着部分とが、いずれも同じ熱硬化性樹脂の硬化物からなる。したがって、接着部分と固着部分とが熱的に同じ挙動を示すようになり、熱膨張係数の違いなどによるフレキシブル基板の剥離などが防止される。
According to this flexible substrate mounting method, one end of the lower surface of the flexible substrate is bonded to the lower surface using an anisotropic conductive paste, and the rising portion of the lower surface of the flexible substrate is near the one end. Since the portion is fixed to the lower surface of the step portion by the thermosetting resin, a sufficiently high connection strength can be obtained for the connection between the flexible substrate and the lower step side of the step portion.
Further, since the fixing at the rising portion is performed by the same thermosetting resin as the thermosetting resin in the anisotropic conductive paste, the conductive particles are hardly present at the rising portion. Therefore, migration due to the conductive particles present at the rising portion is suppressed, and a short circuit between the terminals is prevented.
Furthermore, since the thermosetting resin used for fixing at the rising portion is the same as the thermosetting resin in the anisotropic conductive paste, the bonding at the one end side of the lower surface of the flexible substrate and the fixing at the rising portion. Each part consists of the hardened | cured material of the same thermosetting resin. Therefore, the bonded portion and the fixed portion exhibit the same thermal behavior, and peeling of the flexible substrate due to a difference in thermal expansion coefficient is prevented.

また、前記フレキシブル基板の実装方法においては、前記フレキシブル基板の下面の一端側を前記段差部の下段側の面に接着する工程が、予め転写ステージ上に配された硬化前の前記異方性導電ペーストに、前記フレキシブル基板の下面の一端側を接触させ、その後引き上げることにより、該一端側に前記異方性導電ペーストを転写する工程と、異方性導電ペーストが転写された前記フレキシブル基板の一端側を、転写された異方性導電ペーストを介して前記段差部の下段側の面に接合する工程と、を備えてなり、前記転写ステージとして、前記異方性導電ペーストを配するペースト配置領域を形成する面に、その全域において多数の凹部を形成したものを用いる、ようにするのが好ましい。   In the flexible substrate mounting method, the step of adhering one end of the lower surface of the flexible substrate to the lower surface of the stepped portion includes the anisotropic conductive material before curing disposed on the transfer stage in advance. One end of the lower surface of the flexible substrate is brought into contact with the paste, and then pulled up to transfer the anisotropic conductive paste to the one end, and one end of the flexible substrate to which the anisotropic conductive paste has been transferred And a step of joining the anisotropic conductive paste to the lower surface of the stepped portion via the transferred anisotropic conductive paste, and the anisotropic conductive paste is disposed as the transfer stage. It is preferable to use a surface on which a large number of recesses are formed on the entire surface.

このようにすれば、フレキシブル基板の下面の一端側を転写ステージの異方性導電ペーストに接触させ、その後引き上げて異方性導電ペーストを転写させた際に、転写ステージのペースト配置領域を形成する面に、その全域において多数の凹部を形成しているので、該転写ステージの異方性導電ペーストがペースト配置領域を形成する面から容易に剥離するようになり、したがって異方性導電ペーストのほぼ全量がフレキシブル基板に転写されるようになる。よって、フレキシブル基板に転写される異方性導電ペーストの量のバラツキに起因して、フレキシブル基板の下段側の面に対する接続強度が十分になってしまうといった不都合が防止される。   In this way, when one end of the lower surface of the flexible substrate is brought into contact with the anisotropic conductive paste of the transfer stage and then lifted to transfer the anisotropic conductive paste, a paste placement region of the transfer stage is formed. Since a large number of recesses are formed on the entire surface of the surface, the anisotropic conductive paste of the transfer stage easily peels from the surface on which the paste placement region is formed. The entire amount is transferred to the flexible substrate. Therefore, the problem that the connection strength with respect to the lower surface of the flexible substrate becomes sufficient due to the variation in the amount of the anisotropic conductive paste transferred to the flexible substrate is prevented.

また、前記フレキシブル基板の実装方法においては、前記転写ステージに、前記異方性導電ペーストを収容するための凹状のペースト収容部が形成され、該ペースト収容部の底面が、前記ペースト配置領域を形成する面になっているとともに、該底面の一方の側は、ペースト収容部の開口に向けて傾斜する傾斜面となっており、
前記フレキシブル基板の一端側に前記異方性導電ペーストを転写する工程では、前記異方性導電ペーストに前記フレキシブル基板の下面の一端側を接触させ、その後引き上げる際に、前記ペースト収容部の底面の傾斜面における面方向に沿って、前記一方の側に向けて斜めに引き上げるのが好ましい。
Further, in the flexible substrate mounting method, a concave paste containing portion for containing the anisotropic conductive paste is formed on the transfer stage, and a bottom surface of the paste containing portion forms the paste arrangement region. And one side of the bottom surface is an inclined surface inclined toward the opening of the paste containing portion,
In the step of transferring the anisotropic conductive paste to one end of the flexible substrate, one end of the lower surface of the flexible substrate is brought into contact with the anisotropic conductive paste and then pulled up, It is preferable to pull up obliquely toward the one side along the surface direction of the inclined surface.

このようにすれば、引き上げの際にフレキシブル基板に転写された異方性導電ペーストは、その熱硬化性樹脂が糸を引くものの、フレキシブル基板が斜めに引き上げられることから、糸が大きく引かれることなく、比較的小さくしかも斜めに引かれるようになる。したがって、引き上げた際、引いた糸は転写された異方性導電ペースト側にすぐに倒れる。よって、このように小さく引いた状態ですぐに倒れた糸には、空気がほとんど巻き込まれないため、異方性導電ペースト中に気泡が残ることで接着力が低下し、実装後のフレキシブル基板に剥離が生じてしまうといった不都合が防止される。   In this way, the anisotropic conductive paste transferred to the flexible substrate at the time of pulling is pulled largely by the flexible substrate being pulled up diagonally, although the thermosetting resin pulls the yarn. It is relatively small and can be drawn diagonally. Therefore, when pulled up, the pulled yarn immediately falls to the transferred anisotropic conductive paste side. Therefore, almost no air is caught in the thread that has fallen immediately in such a small pulled state, so that air bubbles remain in the anisotropic conductive paste, resulting in a decrease in adhesive force, and the flexible substrate after mounting. Inconveniences such as peeling are prevented.

また、本発明のフレキシブル基板の実装構造は、導電部を有したフレキシブル基板が段差部の上段側から下段側にかけて配置され、これら上段側と下段側との間が、前記導電部によって電気的に導通させられてなるフレキシブル基板の実装構造であって、
前記フレキシブル基板の前記導電部を有した下面の一端側が、熱硬化性樹脂中に導電粒子を含有してなる異方性導電ペーストを介して前記段差部の下段側の面に接着し、これによって前記フレキシブル基板の導電部と前記下段側の面に設けられた端子部とが導通させられてなり、
前記フレキシブル基板の下面の、前記一端側から前記段差部の段差に沿って立ち上がる立ち上がり部の、前記一端側の近傍部が、前記異方性導電ペースト中の熱硬化性樹脂と同じ熱硬化性樹脂によって前記段差部の下段側の面に固着させられていることを特徴としている。
In the flexible substrate mounting structure of the present invention, the flexible substrate having the conductive portion is arranged from the upper side to the lower side of the stepped portion, and the upper portion and the lower step side are electrically connected by the conductive portion. A flexible substrate mounting structure made conductive,
One end side of the lower surface having the conductive portion of the flexible substrate is bonded to the lower surface of the step portion through an anisotropic conductive paste containing conductive particles in a thermosetting resin, thereby The conductive portion of the flexible substrate and the terminal portion provided on the lower surface are made conductive,
The thermosetting resin in the vicinity of the one end side of the rising portion rising from the one end side along the step of the step portion on the lower surface of the flexible substrate is the same as the thermosetting resin in the anisotropic conductive paste. Is fixed to the lower surface of the step portion.

このフレキシブル基板の実装構造によれば、異方性導電ペーストによってフレキシブル基板の下面の一端側が下段側の面に接着され、さらに前記フレキシブル基板の下面の立ち上がり部の、前記一端側の近傍部が熱硬化性樹脂によって前記段差部の下段側の面に固着されているので、フレキシブル基板と段差部の下段側との間の接続について、十分に高い接続強度が得られる。
また、前記立ち上がり部での固着が、異方性導電ペースト中の熱硬化性樹脂と同じ熱硬化性樹脂でなされているので、この立ち上がり部には導電粒子がほとんど存在しなくなる。したがって、立ち上がり部に存在する導電粒子に起因するマイグレーションが抑制され、端子間のショートが防止される。
さらに、立ち上がり部での固着に用いる熱硬化性樹脂が、異方性導電ペースト中の熱硬化性樹脂と同じものとなっているので、フレキシブル基板の下面の一端側での接着部分と立ち上がり部での固着部分とが、いずれも同じ熱硬化性樹脂の硬化物からなる。したがって、接着部分と固着部分とが熱的に同じ挙動を示すようになり、熱膨張係数の違いなどによるフレキシブル基板の剥離などが防止される。
According to this flexible substrate mounting structure, one end of the lower surface of the flexible substrate is bonded to the lower surface by the anisotropic conductive paste, and the rising portion of the lower surface of the flexible substrate near the one end is heated. Since it is fixed to the lower surface of the step portion by the curable resin, a sufficiently high connection strength can be obtained for the connection between the flexible substrate and the lower step side of the step portion.
Further, since the fixing at the rising portion is made of the same thermosetting resin as the thermosetting resin in the anisotropic conductive paste, almost no conductive particles are present at the rising portion. Therefore, migration due to the conductive particles present at the rising portion is suppressed, and a short circuit between the terminals is prevented.
Furthermore, since the thermosetting resin used for fixing at the rising portion is the same as the thermosetting resin in the anisotropic conductive paste, the adhesive portion and the rising portion at one end of the lower surface of the flexible substrate are used. These fixed portions are made of a cured product of the same thermosetting resin. Therefore, the bonded portion and the fixed portion exhibit the same thermal behavior, and peeling of the flexible substrate due to a difference in thermal expansion coefficient is prevented.

本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法は、段差部の上段側に設けられた駆動回路部と、前記段差部の下段側に設けられて前記駆動回路部によって駆動される駆動素子と、前記駆動回路部と前記駆動素子とを電気的に接続する導電部を有したフレキシブル基板と、を備えた液滴吐出ヘッドの製造方法において、前記フレキシブル基板を、前記フレキシブル基板の実装方法によって実装することを特徴としている。
また、本発明の液滴吐出ヘッドは、段差部の上段側に設けられた駆動回路部と、前記段差部の下段側に設けられて前記駆動回路部によって駆動される駆動素子と、前記駆動回路部と前記駆動素子とを電気的に接続する導電部を有したフレキシブル基板と、を備えた液滴吐出ヘッドにおいて、前記フレキシブル基板が、前記の実装方法によって実装されてなることを特徴としている。
The method for manufacturing a droplet discharge head according to the present invention includes a drive circuit unit provided on the upper side of the stepped portion, a drive element provided on the lower side of the stepped portion and driven by the drive circuit unit, and the drive And a flexible substrate having a conductive portion that electrically connects the circuit portion and the driving element, wherein the flexible substrate is mounted by the flexible substrate mounting method. It is a feature.
The droplet discharge head of the present invention includes a drive circuit unit provided on the upper side of the stepped portion, a drive element provided on the lower side of the stepped portion and driven by the drive circuit unit, and the drive circuit In a droplet discharge head including a flexible substrate having a conductive portion that electrically connects a portion and the driving element, the flexible substrate is mounted by the mounting method described above.

この液滴吐出ヘッドの製造方法、及び液滴吐出ヘッドによれば、フレキシブル基板と段差部の下段側との間の接続について、前述したように十分に高い接続強度が得られ、また、立ち上がり部に存在する導電粒子に起因するマイグレーションが抑制されて端子間のショートが防止され、さらに、熱膨張係数の違いなどによるフレキシブル基板の剥離などが防止される。   According to the manufacturing method of the droplet discharge head and the droplet discharge head, sufficiently high connection strength can be obtained as described above for the connection between the flexible substrate and the lower side of the step portion, and the rising portion Migration caused by the conductive particles present in the substrate is suppressed to prevent a short circuit between terminals, and further, peeling of the flexible substrate due to a difference in thermal expansion coefficient is prevented.

本発明の液滴吐出装置は、前記の液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴としている。
この液滴吐出装置によれば、フレキシブル基板と段差部の下段側との間の接続について、前述したように十分に高い接続強度が得られ、また、立ち上がり部に存在する導電粒子に起因するマイグレーションが抑制されて端子間のショートが防止され、さらに、熱膨張係数の違いなどによるフレキシブル基板の剥離などが防止された液滴吐出ヘッドを備えているので、この液滴吐出装置自体も、フレキシブル基板の接続不良などが防止された信頼性の高いものとなる。
A droplet discharge apparatus according to the present invention includes the droplet discharge head described above.
According to this droplet discharge device, sufficiently high connection strength can be obtained as described above for the connection between the flexible substrate and the lower side of the step portion, and migration caused by the conductive particles present in the rising portion The liquid droplet ejection device itself is also provided with a flexible substrate since the short circuit between the terminals is prevented and the flexible substrate is prevented from being peeled off due to a difference in thermal expansion coefficient. Therefore, it is possible to prevent a connection failure or the like from occurring.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内における所定方向をX軸方向、水平面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれに直交する方向(すなわち鉛直方向)をZ軸方向とする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each member will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. The predetermined direction in the horizontal plane is the X-axis direction, the direction orthogonal to the X-axis direction in the horizontal plane is the Y-axis direction, and the direction orthogonal to each of the X-axis direction and the Y-axis direction (that is, the vertical direction) is the Z-axis direction. To do.

<液滴吐出ヘッド>
まず、本発明のフレキシブル基板の実装構造を、液滴吐出ヘッドに適用した場合の一実施形態について、図1〜図4を参照しながら説明する。図1は液滴吐出ヘッドの一実施形態を示す外観斜視図、図2は液滴吐出ヘッドを下側から見た斜視図の一部破断図、図3は図1のA−A線矢視断面図、図4はフレキシブル基板を下面側から見た図である。
液滴吐出ヘッド1は、図3に示すようにドライバIC(駆動回路部)200と、該ドライバIC200により駆動される圧電素子(駆動素子)300と、段差部250を形成してなる基体とを備え、機能液の液滴を吐出するよう構成されたものである。
<Droplet ejection head>
First, an embodiment in which the flexible substrate mounting structure of the present invention is applied to a droplet discharge head will be described with reference to FIGS. 1 is an external perspective view showing an embodiment of a droplet discharge head, FIG. 2 is a partially broken view of the perspective view of the droplet discharge head as viewed from below, and FIG. 3 is a view taken along line AA in FIG. Sectional drawing and FIG. 4 are the figures which looked at the flexible substrate from the lower surface side.
As shown in FIG. 3, the droplet discharge head 1 includes a driver IC (driving circuit unit) 200, a piezoelectric element (driving element) 300 driven by the driver IC 200, and a substrate formed with a stepped portion 250. Provided and configured to eject droplets of functional liquid.

この液滴吐出ヘッド1は、液滴が吐出されるノズル開口部15を備えたノズル基板16と、ノズル基板16の上面に接続され、液滴が流れる流路を形成する流路形成基板10と、流路形成基板10の上面に接続され、圧電素子(駆動素子)300の駆動によって変位する振動板400と、振動板400の上面に接続され、リザーバ100を形成するためのリザーバ形成基板20と、リザーバ形成基板20の上面側に設けられた可撓性を有するフレキシブル基板500と、フレキシブル基板500の下面500Aに設けられ、圧電素子300を駆動するためのドライバIC(デバイス)200と、フレキシブル基板500の下面500Aに設けられ、ドライバIC200と圧電素子300とを電気的に接続する配線パターン(導電部)510と、を備えて構成されたものである。なお、本実施形態では、流路形成基板10とこれの上に配置されたリザーバ形成基板20等により、前記の段差部250が形成されている。   The liquid droplet ejection head 1 includes a nozzle substrate 16 having a nozzle opening 15 through which liquid droplets are ejected, and a flow path forming substrate 10 that is connected to the upper surface of the nozzle substrate 16 and forms a flow path through which liquid droplets flow. The diaphragm 400 connected to the upper surface of the flow path forming substrate 10 and displaced by driving the piezoelectric element (driving element) 300, and the reservoir forming substrate 20 connected to the upper surface of the diaphragm 400 and forming the reservoir 100 A flexible flexible substrate 500 provided on the upper surface side of the reservoir forming substrate 20; a driver IC (device) 200 for driving the piezoelectric element 300 provided on the lower surface 500A of the flexible substrate 500; A wiring pattern (conductive portion) 510 that is provided on the lower surface 500A of 500 and electrically connects the driver IC 200 and the piezoelectric element 300; Those configured with a. In the present embodiment, the step portion 250 is formed by the flow path forming substrate 10 and the reservoir forming substrate 20 or the like disposed thereon.

液滴吐出ヘッド1の動作は、外部コントローラCT(図1参照)によって制御される。
そして、流路形成基板10と、ノズル基板16と、振動板400とで囲まれた空間によって、ノズル開口部15より吐出される前の機能液が配置される圧力発生室12が形成されている。また、リザーバ形成基板20と流路形成基板10とで囲まれた空間によって、圧力発生室12に供給される前の機能液を予備的に保持するリザーバ100が形成されている。
The operation of the droplet discharge head 1 is controlled by an external controller CT (see FIG. 1).
The pressure generation chamber 12 in which the functional liquid before being discharged from the nozzle opening 15 is disposed is formed by a space surrounded by the flow path forming substrate 10, the nozzle substrate 16, and the vibration plate 400. . A reservoir 100 that preliminarily holds the functional liquid before being supplied to the pressure generating chamber 12 is formed by a space surrounded by the reservoir forming substrate 20 and the flow path forming substrate 10.

流路形成基板10の下面側は開口しており、その開口を覆うようにノズル基板16が流路形成基板10の下面に貼着されている。流路形成基板10の下面とノズル基板16とは、例えば接着剤や熱溶着フィルム等を介して固着されている。このノズル基板16には、図2に示すように液滴を吐出するノズル開口部15が、複数整列した状態で形成されている。すなわち、ノズル開口部15は、ノズル基板16においてY軸方向に複数配列されており、これによって第1ノズル開口群15A、第2ノズル開口群15B、第3ノズル開口群15C、及び第4ノズル開口群15Dを、それぞれ形成している。   The lower surface side of the flow path forming substrate 10 is open, and the nozzle substrate 16 is adhered to the lower surface of the flow path forming substrate 10 so as to cover the opening. The lower surface of the flow path forming substrate 10 and the nozzle substrate 16 are fixed to each other through, for example, an adhesive or a heat welding film. As shown in FIG. 2, a plurality of nozzle openings 15 for discharging droplets are formed in the nozzle substrate 16 in an aligned state. That is, a plurality of nozzle openings 15 are arranged in the Y-axis direction on the nozzle substrate 16, whereby the first nozzle opening group 15 </ b> A, the second nozzle opening group 15 </ b> B, the third nozzle opening group 15 </ b> C, and the fourth nozzle opening. Groups 15D are formed respectively.

第1ノズル開口群15Aと第2ノズル開口群15Bとは、X軸方向において互いに対向するように配置されている。第3ノズル開口群15Cは第1ノズル開口群15Aの+Y側に設けられており、第4ノズル開口群15Dは第2ノズル開口群15Bの+Y側に設けられている。したがって、これら第3ノズル開口群15Cと第4ノズル開口群15Dとは、X軸方向において互いに対向するように配置されている。
なお、図2では、各ノズル開口群15A〜15Dのそれぞれは6個のノズル開口部15で構成されているように示しているが、実際には、例えば720個程度のノズル開口部15によって構成されている。
The first nozzle opening group 15A and the second nozzle opening group 15B are arranged to face each other in the X-axis direction. The third nozzle opening group 15C is provided on the + Y side of the first nozzle opening group 15A, and the fourth nozzle opening group 15D is provided on the + Y side of the second nozzle opening group 15B. Therefore, the third nozzle opening group 15C and the fourth nozzle opening group 15D are arranged so as to face each other in the X-axis direction.
In FIG. 2, each of the nozzle opening groups 15 </ b> A to 15 </ b> D is shown to be configured by six nozzle openings 15, but actually, for example, it is configured by about 720 nozzle openings 15. Has been.

流路形成基板10には、前記開口内に複数の隔壁11が形成されている。流路形成基板10は、剛体であるシリコン単結晶によって形成されており、複数の隔壁11は、流路形成基板10の母材であるシリコン単結晶基板が異方性エッチングされたことで形成されている。そして、複数の隔壁11を有する流路形成基板10と、ノズル基板16と、振動板400とで囲まれた空間により、複数の圧力発生室12が形成されている。圧力発生室12は、複数のノズル開口部15に対応するように複数形成されている。すなわち、圧力発生室12は、第1〜第4ノズル開口群15A〜15Dのそれぞれを構成する複数のノズル開口部15に対応するように、Y軸方向に複数並んで設けられている。   In the flow path forming substrate 10, a plurality of partition walls 11 are formed in the opening. The flow path forming substrate 10 is formed of a silicon single crystal that is a rigid body, and the plurality of partition walls 11 are formed by anisotropic etching of the silicon single crystal substrate that is a base material of the flow path forming substrate 10. ing. A plurality of pressure generating chambers 12 are formed by a space surrounded by the flow path forming substrate 10 having the plurality of partition walls 11, the nozzle substrate 16, and the diaphragm 400. A plurality of pressure generating chambers 12 are formed so as to correspond to the plurality of nozzle openings 15. That is, a plurality of pressure generation chambers 12 are provided side by side in the Y-axis direction so as to correspond to the plurality of nozzle openings 15 constituting each of the first to fourth nozzle opening groups 15A to 15D.

そして、第1ノズル開口群15Aに対応して複数形成された圧力発生室12によって第1圧力発生室群12Aが構成され、第2ノズル開口群15Bに対応して複数形成された圧力発生室12によって第2圧力発生室群12Bが構成され、第3ノズル開口群15Cに対応して複数形成された圧力発生室12によって第3圧力発生室群12Cが構成され、第4ノズル開口群15Dに対応して複数形成された圧力発生室12によって第4圧力発生室群12Dが構成されている。第1圧力発生室群12Aと第2圧力発生室群12Bとは、X軸方向において互いに対向するように配置されており、それらの間には隔壁10Kが形成されている。同様に、第3圧力発生室群12Cと第4圧力発生室群12Dとの間にも隔壁10Kが形成されており、これらは、X軸方向において互いに対向するように配置されている。   A plurality of pressure generating chambers 12A corresponding to the first nozzle opening group 15A constitutes a first pressure generating chamber group 12A, and a plurality of pressure generating chambers 12 corresponding to the second nozzle opening group 15B are formed. Constitutes a second pressure generation chamber group 12B, and a plurality of pressure generation chambers 12 corresponding to the third nozzle opening group 15C constitutes a third pressure generation chamber group 12C, corresponding to the fourth nozzle opening group 15D. Thus, a fourth pressure generation chamber group 12D is configured by the plurality of pressure generation chambers 12 formed. The first pressure generation chamber group 12A and the second pressure generation chamber group 12B are arranged to face each other in the X-axis direction, and a partition wall 10K is formed between them. Similarly, a partition wall 10K is also formed between the third pressure generation chamber group 12C and the fourth pressure generation chamber group 12D, and these are arranged to face each other in the X-axis direction.

第1圧力発生室群12Aを形成する複数の圧力発生室12のうち、−X側の端部は前記隔壁10Kによって閉塞させられているが、+X側の端部は互いに連通せしめられており、図3に示すようにリザーバ100に接続させられている。リザーバ100は、機能液導入口25より導入され、圧力発生室12に供給される前の機能液を、一時的に保持するもので、リザーバ形成基板20においてY軸方向に延びるように形成されたリザーバ部21と、流路形成基板10においてY軸方向に延びるように形成され、リザーバ部21と各圧力発生室12のそれぞれとを連通させる連通部13と、を備えて形成されたものである。   Of the plurality of pressure generating chambers 12 forming the first pressure generating chamber group 12A, the end portion on the −X side is closed by the partition wall 10K, but the end portions on the + X side are connected to each other. As shown in FIG. 3, it is connected to the reservoir 100. The reservoir 100 is introduced from the functional liquid inlet 25 and temporarily holds the functional liquid before being supplied to the pressure generation chamber 12, and is formed to extend in the Y axis direction on the reservoir forming substrate 20. The reservoir portion 21 is formed to extend in the Y-axis direction in the flow path forming substrate 10, and is formed to include a communication portion 13 that allows the reservoir portion 21 and each of the pressure generation chambers 12 to communicate with each other. .

すなわち、リザーバ100は、第1圧力発生室群12Aを構成する複数の圧力発生室12の共通の機能液保持室(インク室)となっている。そして、機能液導入口25より導入された機能液は、導入路26を経てリザーバ100に流れ込み、供給路14を経て、第1圧力発生室群12Aを構成する複数の圧力発生室12のそれぞれに供給されるようになっている。なお、第2、第3、第4圧力発生室群12B、12C、12Dのそれぞれを構成する圧力発生室12も、前述と同様のリザーバ100にそれぞれが連通している。   That is, the reservoir 100 is a functional liquid holding chamber (ink chamber) common to the plurality of pressure generating chambers 12 constituting the first pressure generating chamber group 12A. Then, the functional liquid introduced from the functional liquid introduction port 25 flows into the reservoir 100 through the introduction path 26 and passes through the supply path 14 to each of the plurality of pressure generation chambers 12 constituting the first pressure generation chamber group 12A. It comes to be supplied. Note that the pressure generation chambers 12 constituting the second, third, and fourth pressure generation chamber groups 12B, 12C, and 12D also communicate with the reservoir 100 similar to the above.

流路形成基板10とリザーバ形成基板20との間に配置された振動板400は、流路形成基板10の上面を覆うように設けられた弾性膜50と、弾性膜50の上面に設けられた下電極膜60とからなっている。弾性膜50は、例えば厚み1〜2μm程度の二酸化シリコンによって形成されており、下電極膜60は、例えば厚み0.2μm程度の白金などによって形成されている。なお、本実施形態において下電極膜60は、複数の圧電素子300の共通電極となっている。   The diaphragm 400 disposed between the flow path forming substrate 10 and the reservoir forming substrate 20 is provided on the elastic film 50 so as to cover the upper surface of the flow path forming substrate 10 and on the upper surface of the elastic film 50. The lower electrode film 60 is included. The elastic film 50 is made of, for example, silicon dioxide having a thickness of about 1 to 2 μm, and the lower electrode film 60 is made of, for example, platinum having a thickness of about 0.2 μm. In the present embodiment, the lower electrode film 60 is a common electrode for the plurality of piezoelectric elements 300.

振動板400を変位させるための圧電素子300、すなわち本発明における駆動素子は、下電極膜60の上面に設けられた圧電体膜70と、この圧電体膜70の上面に設けられた上電極膜80とを備えて構成されたものである。圧電体膜70は、例えば厚み1μm程度、上電極膜80は、例えば厚み0.1μm程度に形成されたものである。なお、圧電素子300の概念としては、圧電体膜70及び上電極膜80に加えて、下電極膜60を含むものであってもよい。すなわち、本実施形態における下電極膜60は、圧電素子300としての機能と、振動板400としての機能とを兼ね備えている。また、本実施形態では、弾性膜50及び下電極膜60が振動板400として機能するが、弾性膜50を省略した構造とし、下電極膜60が弾性膜(50)を兼ねるようにしてもよい。   The piezoelectric element 300 for displacing the diaphragm 400, that is, the driving element in the present invention includes a piezoelectric film 70 provided on the upper surface of the lower electrode film 60 and an upper electrode film provided on the upper surface of the piezoelectric film 70. 80. The piezoelectric film 70 is formed with a thickness of about 1 μm, for example, and the upper electrode film 80 is formed with a thickness of about 0.1 μm, for example. The concept of the piezoelectric element 300 may include the lower electrode film 60 in addition to the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80. That is, the lower electrode film 60 in the present embodiment has both the function as the piezoelectric element 300 and the function as the diaphragm 400. In this embodiment, the elastic film 50 and the lower electrode film 60 function as the diaphragm 400. However, the elastic film 50 may be omitted, and the lower electrode film 60 may also serve as the elastic film (50). .

前記圧電素子300は、その上電極膜80が、リザーバ形成基板20に形成された段差部250の下段側の面(下段面)にまで延びて形成されたもので、この下段面上にて露出した部分が、本発明の端子部81となっている。なお、段差部250は、後述する、リザーバ形成基板20に形成された凹溝700の両側に、それぞれ形成されたものである。したがって、段差部250の下段面は、凹溝700の底面に一致したものとなっている。
また、圧電素子300は、複数のノズル開口部15及び圧力発生室12のそれぞれに対応するように複数設けられている。すなわち、圧電体膜70及び上電極膜80からなる圧電素子300は、各ノズル開口部15毎(圧力発生室12毎)に設けられている。そして、前述したように下電極膜60は複数の圧電素子300の共通電極として機能し、上電極膜80は複数の圧電素子300の個別電極として機能するよう構成されている。
The piezoelectric element 300 is formed such that the upper electrode film 80 extends to the lower surface (lower surface) of the step portion 250 formed on the reservoir forming substrate 20, and is exposed on the lower surface. This portion is the terminal portion 81 of the present invention. The step portions 250 are respectively formed on both sides of a concave groove 700 formed in the reservoir forming substrate 20 described later. Therefore, the lower step surface of the stepped portion 250 coincides with the bottom surface of the concave groove 700.
In addition, a plurality of piezoelectric elements 300 are provided so as to correspond to the plurality of nozzle openings 15 and the pressure generation chambers 12, respectively. That is, the piezoelectric element 300 including the piezoelectric film 70 and the upper electrode film 80 is provided for each nozzle opening 15 (for each pressure generation chamber 12). As described above, the lower electrode film 60 functions as a common electrode for the plurality of piezoelectric elements 300, and the upper electrode film 80 functions as an individual electrode for the plurality of piezoelectric elements 300.

なお、これら圧電素子300は、その一部が前記第1ノズル開口群15Aを構成するノズル開口部15のそれぞれに対応してY軸方向に複数並列させられ、これによって第1圧電素子群300Aが構成されている。同様に、その一部が前記第2ノズル開口群15Bを構成するノズル開口部15のそれぞれに対応してY軸方向に複数並列させられ、これによって第2圧電素子群300Bが構成されている。これら第1圧電素子群300Aと第2圧電素子群300Bとは、X軸方向において互いに対向するように配置されている。さらに、第3、第4ノズル開口群15C、15Dを構成するノズル開口部15のそれぞれに対応するように、第3、第4圧電素子群(図示せず)が構成されており、これら第3、第4圧電素子群どうしは、X軸方向において互いに対向するように配置されている。   A plurality of these piezoelectric elements 300 are juxtaposed in the Y-axis direction in correspondence with each of the nozzle openings 15 constituting the first nozzle opening group 15A, whereby the first piezoelectric element group 300A is formed. It is configured. Similarly, a part thereof is arranged in parallel in the Y-axis direction corresponding to each of the nozzle openings 15 constituting the second nozzle opening group 15B, thereby forming the second piezoelectric element group 300B. The first piezoelectric element group 300A and the second piezoelectric element group 300B are disposed so as to face each other in the X-axis direction. Further, third and fourth piezoelectric element groups (not shown) are configured so as to correspond to the nozzle openings 15 constituting the third and fourth nozzle opening groups 15C and 15D, respectively. The fourth piezoelectric element groups are arranged so as to face each other in the X-axis direction.

リザーバ形成基板20には、封止膜31と固定板32とを有するコンプライアンス基板30が接合されている。封止膜31は、剛性が低く可撓性を有する材料(例えば、厚み6μm程度のポリフェニレンスルフィドフィルム)からなり、この封止膜31によってリザーバ部21の上部が封止されている。また、固定板32は、金属等の硬質の材料(例えば、厚み30μm程度のステンレス鋼)で形成されている。この固定板32のうち、リザーバ100に対応する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部33となっている。このような構成のもとにリザーバ100の上部は、可撓性を有する封止膜31のみで封止されたものとなっており、したがって、内部圧力の変化によって変形可能な可撓部22となっている。   A compliance substrate 30 having a sealing film 31 and a fixing plate 32 is bonded to the reservoir forming substrate 20. The sealing film 31 is made of a material having low rigidity and flexibility (for example, a polyphenylene sulfide film having a thickness of about 6 μm), and the upper part of the reservoir portion 21 is sealed by the sealing film 31. The fixing plate 32 is made of a hard material such as metal (for example, stainless steel having a thickness of about 30 μm). A region of the fixed plate 32 corresponding to the reservoir 100 is an opening 33 that is completely removed in the thickness direction. Under such a configuration, the upper portion of the reservoir 100 is sealed only by the flexible sealing film 31. Therefore, the flexible portion 22 that can be deformed by a change in internal pressure and It has become.

リザーバ100の外側のコンプライアンス基板30上には、リザーバ100に機能液を供給するための機能液導入口25が形成されている。通常、この機能液導入口25からリザーバ100に機能液が供給されると、例えば圧電素子300の駆動時における機能液の流れ、あるいは周囲の熱などにより、リザーバ100内に圧力変化が生じる。しかしながら、前述したようにリザーバ100の上部が封止膜31のみによって封止された可撓部22となっているため、この可撓部22が撓み変形してその圧力変化を吸収する。したがって、リザーバ100内は、基本的には常に一定の圧力に保持されるようになっている。なお、その他の部分は固定板32によって十分な強度に保持されている。
リザーバ形成基板20には、前記機能液導入口25とリザーバ100の側壁部とを連通させる導入路26が設けられている。
A functional liquid inlet 25 for supplying the functional liquid to the reservoir 100 is formed on the compliance substrate 30 outside the reservoir 100. Normally, when a functional liquid is supplied from the functional liquid introduction port 25 to the reservoir 100, a pressure change occurs in the reservoir 100 due to, for example, the flow of the functional liquid during driving of the piezoelectric element 300 or ambient heat. However, since the upper portion of the reservoir 100 is the flexible portion 22 sealed only by the sealing film 31 as described above, the flexible portion 22 is bent and deformed to absorb the pressure change. Therefore, the inside of the reservoir 100 is basically maintained at a constant pressure. The other parts are held at a sufficient strength by the fixing plate 32.
The reservoir forming substrate 20 is provided with an introduction path 26 that allows the functional liquid inlet 25 to communicate with the side wall of the reservoir 100.

また、リザーバ形成基板20のうち、X軸方向に関して中央部には、Y軸方向に延びる凹溝700が形成されている。この凹溝700によってリザーバ形成基板20では、第1圧力発生室群12Aに対応して設けられた第1圧電素子群300Aを封止する第1封止部20Aと、第2圧力発生室群12Bに対応して設けられた第2圧電素子群300Bを封止する第2封止部20Bとが分けられている。同様に、第3圧力発生室群12Cに対応して設けられた第3圧電素子群(図示せず)を封止する第3封止部(図示せず)と、第4圧力発生室群12Dに対応して設けられた第4圧電素子群(図示せず)を封止する第4封止部(図示せず)とが、凹溝700によって分けられる。   In addition, a concave groove 700 extending in the Y-axis direction is formed in the central portion of the reservoir forming substrate 20 with respect to the X-axis direction. In the reservoir forming substrate 20 by the concave groove 700, the first sealing portion 20A for sealing the first piezoelectric element group 300A provided corresponding to the first pressure generating chamber group 12A, and the second pressure generating chamber group 12B. And a second sealing portion 20B for sealing the second piezoelectric element group 300B provided corresponding to the above. Similarly, a third sealing portion (not shown) for sealing a third piezoelectric element group (not shown) provided corresponding to the third pressure generation chamber group 12C, and a fourth pressure generation chamber group 12D. A fourth sealing portion (not shown) that seals a fourth piezoelectric element group (not shown) provided corresponding to is separated by a concave groove 700.

そして、凹溝700においては、流路形成基板10(隔壁10K)の一部が露出している。なお、前述したようにこの凹溝700の両側部が、それぞれ、前記の段差部250となっており、また、凹溝700において露出した流路形成基板10(隔壁10K)の一部が、この凹溝700の底面、すなわち前記段差部250の下段面(下段側の面)となっている。   And in the ditch | groove 700, a part of flow-path formation board | substrate 10 (partition 10K) is exposed. As described above, both side portions of the recessed groove 700 are the stepped portions 250, respectively, and a part of the flow path forming substrate 10 (partition wall 10K) exposed in the recessed groove 700 is The bottom surface of the concave groove 700, that is, the lower step surface (the lower step surface) of the step portion 250.

リザーバ形成基板20のうち、圧電素子300に対向する領域には、圧電素子300の動作に干渉しない閉空間が確保されており、この閉空間が圧電素子保持部24となっている。圧電素子保持部24は、第1〜第4封止部20A〜20D(図示せず)のそれぞれに形成されており、第1〜第4圧電素子群300A〜300D(図示せず)を覆う大きさに形成されている。また、圧電素子300のうち、少なくとも圧電体膜70は、この圧電素子保持部24内に密封されている。   A closed space that does not interfere with the operation of the piezoelectric element 300 is secured in a region of the reservoir forming substrate 20 facing the piezoelectric element 300, and this closed space serves as the piezoelectric element holding portion 24. The piezoelectric element holding part 24 is formed in each of the first to fourth sealing parts 20A to 20D (not shown) and covers the first to fourth piezoelectric element groups 300A to 300D (not shown). Is formed. Of the piezoelectric elements 300, at least the piezoelectric film 70 is sealed in the piezoelectric element holding portion 24.

このようにリザーバ形成基板20は、圧電素子300を外部環境と遮断し、圧電素子300を封止するための封止部材としても機能している。すなわち、リザーバ形成基板20によって圧電素子300を封止することで、水分等の外部環境による圧電素子300の劣化や破壊を防止することができる。また、本実施形態では、圧電素子保持部24を密封状態にしただけであるが、例えば、圧電素子保持部24となる閉空間を真空にしたり、あるいは窒素又はアルゴン雰囲気等とすることにより、圧電素子保持部24内を低湿度に保持することができ、圧電素子300の劣化や破壊をさらに確実に防止することができる。   As described above, the reservoir forming substrate 20 also functions as a sealing member for blocking the piezoelectric element 300 from the external environment and sealing the piezoelectric element 300. That is, by sealing the piezoelectric element 300 with the reservoir forming substrate 20, it is possible to prevent deterioration or destruction of the piezoelectric element 300 due to an external environment such as moisture. Further, in the present embodiment, the piezoelectric element holding part 24 is only sealed, but for example, the piezoelectric element holding part 24 can be evacuated, or the piezoelectric element holding part 24 can be evacuated or a nitrogen or argon atmosphere or the like. The inside of the element holding portion 24 can be held at a low humidity, and the deterioration and destruction of the piezoelectric element 300 can be further reliably prevented.

なお、リザーバ形成基板20は剛体であって、そのリザーバ形成基板20を形成する材料としては、例えば、ガラス、セラミック材料等の流路形成基板10の熱膨張率と略同一の材料を用いることが好ましい。本実施形態では、流路形成基板10と同一材料のシリコン単結晶基板が用いられている。   The reservoir forming substrate 20 is a rigid body, and as the material for forming the reservoir forming substrate 20, for example, a material substantially the same as the thermal expansion coefficient of the flow path forming substrate 10 such as glass or ceramic material is used. preferable. In this embodiment, a silicon single crystal substrate made of the same material as the flow path forming substrate 10 is used.

第1封止部20Aの圧電素子保持部24によって封止されている圧電素子300のうち、上電極膜80の−X側の端部は、前述したように第1封止部20Aの外側まで延びて段差部250の下段面上(凹溝700の底面上)で露出し、端子部81となっている。なお、本実施形態では、段差部250における下段面上、すなわち流路形成基板10の上に、下電極膜60の一部が延出して形成されている。したがって、この下電極膜60と端子部81(上電極膜80)との間の導通を防止するため、絶縁膜600が、下電極膜60と端子部81との間に形成されている。同様に、第2封止部20Bの圧電素子保持部24によって封止されている圧電素子300のうち、上電極膜80の+X側の端部も、第2封止部20Bの外側まで延びて端子部81となっている。さらに、図示しないものの、第3、第4封止部20C、20D(図示せず)で封止されている圧電素子300についても、その上電極膜80の一部が、第3、第4封止部20C、20Dの外側まで延びて段差部250の下段面上で露出し、端子部81となっている。   Among the piezoelectric elements 300 sealed by the piezoelectric element holding part 24 of the first sealing part 20A, the end on the −X side of the upper electrode film 80 extends to the outside of the first sealing part 20A as described above. It extends and is exposed on the lower surface of the stepped portion 250 (on the bottom surface of the recessed groove 700) to form a terminal portion 81. In the present embodiment, a part of the lower electrode film 60 extends and is formed on the lower step surface of the stepped portion 250, that is, on the flow path forming substrate 10. Therefore, an insulating film 600 is formed between the lower electrode film 60 and the terminal portion 81 in order to prevent conduction between the lower electrode film 60 and the terminal portion 81 (upper electrode film 80). Similarly, in the piezoelectric element 300 sealed by the piezoelectric element holding part 24 of the second sealing part 20B, the + X side end part of the upper electrode film 80 also extends to the outside of the second sealing part 20B. Terminal portion 81 is formed. Further, although not shown, a part of the upper electrode film 80 of the piezoelectric element 300 that is sealed by the third and fourth sealing portions 20C and 20D (not shown) is formed by the third and fourth sealing portions. It extends to the outside of the stop portions 20 </ b> C and 20 </ b> D and is exposed on the lower surface of the step portion 250, thereby forming a terminal portion 81.

圧電素子300を駆動するためのドライバIC(駆動回路部)200は、例えば回路基板や駆動回路を含む半導体集積回路(IC)によって構成されたデバイスであり、本実施形態ではフレキシブル基板500の下面500Aに接続されている。
フレキシブル基板500は、可撓性を有したフレキシブル回路基板からなるもので、例えば厚さ25μm程度のポリイミドからなる絶縁性のフィルム状部材によって構成されたものである。なお、フレキシブル基板500の下面500Aには、銅などの導電性材料からなる導電性の配線パターン(導電部)510が、プリント方式により、メッキやエッチングなどの手法によって設けられている。
The driver IC (driving circuit unit) 200 for driving the piezoelectric element 300 is a device configured by, for example, a semiconductor integrated circuit (IC) including a circuit board and a driving circuit. In this embodiment, the lower surface 500A of the flexible substrate 500 is used. It is connected to the.
The flexible substrate 500 is made of a flexible circuit board having flexibility, and is made of an insulating film-like member made of polyimide having a thickness of about 25 μm, for example. Note that a conductive wiring pattern (conductive portion) 510 made of a conductive material such as copper is provided on the lower surface 500A of the flexible substrate 500 by a printing method or a method such as plating or etching.

図4に示すように、フレキシブル基板500の下面500Aの所定領域にはドライバIC200が設けられている。ドライバIC200は、フレキシブル基板500の下面500Aにフリップチップ実装されたことにより、前記配線パターン510の一部に接続されたものである。ドライバIC200は、第1〜第4ノズル開口群15A〜15Dに応じて複数(4つ)設けられている。そして、第1〜第4ノズル開口群15A〜15Dに応じて設けられた第1〜第4ドライバIC200A〜200Dは、それぞれ、フレキシブル基板500に対してフリップチップ実装された後、樹脂201によってフレキシブル基板500に対して固定されている。   As shown in FIG. 4, a driver IC 200 is provided in a predetermined region of the lower surface 500 </ b> A of the flexible substrate 500. The driver IC 200 is connected to a part of the wiring pattern 510 by being flip chip mounted on the lower surface 500 </ b> A of the flexible substrate 500. A plurality (four) of driver ICs 200 are provided according to the first to fourth nozzle opening groups 15A to 15D. The first to fourth driver ICs 200 </ b> A to 200 </ b> D provided according to the first to fourth nozzle opening groups 15 </ b> A to 15 </ b> D are flip-chip mounted on the flexible substrate 500, respectively, and are then flexible with the resin 201. 500 is fixed.

また、フレキシブル基板500の一部には開口部520が二つ形成されている。これら開口部520は、第1ドライバIC200Aと第2ドライバIC200Bとの間の領域、及び第3ドライバIC200Cと第4ドライバIC200Dとの間の領域において、それぞれY軸方向に延びて形成されている。開口部520のY軸方向両端部のそれぞれには切欠部521が形成されている。そして、その切欠部521によって、フレキシブル基板500のうち、開口部520に対向する一部の領域(エッジ領域)530が開口部520の内側に曲げる(撓む)ことができるようになっている。エッジ領域530は、各ドライバIC200A〜200Dと開口部520との間の領域であって、開口部520に対向するエッジ領域530のエッジ部530Eは、Y軸方向に沿ってほぼ直線状に形成されている。すなわち、本実施形態においては、エッジ領域530は、Y軸方向を長手方向とする矩形状の領域であって、エッジ部530EがY軸まわり(θY方向)に回転するように曲げられるようになっている。   In addition, two openings 520 are formed in part of the flexible substrate 500. These openings 520 are formed to extend in the Y-axis direction in a region between the first driver IC 200A and the second driver IC 200B and a region between the third driver IC 200C and the fourth driver IC 200D, respectively. Cutouts 521 are formed at both ends of the opening 520 in the Y-axis direction. The cutout portion 521 allows a part of the flexible substrate 500 (the edge region) 530 facing the opening 520 to be bent (bend) inside the opening 520. The edge region 530 is a region between each of the driver ICs 200A to 200D and the opening 520, and the edge portion 530E of the edge region 530 that faces the opening 520 is formed substantially linearly along the Y-axis direction. ing. That is, in the present embodiment, the edge region 530 is a rectangular region whose longitudinal direction is the Y-axis direction, and is bent so that the edge portion 530E rotates about the Y-axis (θY direction). ing.

フレキシブル基板500の下面500Aのうち、開口部520におけるエッジ領域530には、配線パターン510の一部を構成する接続端子部(接続部)512が形成されている。第1ドライバIC200Aと開口部520との間の第1エッジ領域530Aには、第1ドライバIC200Aに配線パターン510を介して電気的に接続する複数の接続端子部512が形成されている。第1エッジ領域530Aに設けられた複数の接続端子部512は、第1圧電素子群300Aを構成する複数の圧電素子300(上電極膜80)のそれぞれに接続するようにパターニングされたものである。   In the lower surface 500 </ b> A of the flexible substrate 500, a connection terminal portion (connection portion) 512 constituting a part of the wiring pattern 510 is formed in the edge region 530 in the opening portion 520. In the first edge region 530A between the first driver IC 200A and the opening 520, a plurality of connection terminal portions 512 that are electrically connected to the first driver IC 200A via the wiring pattern 510 are formed. The plurality of connection terminal portions 512 provided in the first edge region 530A are patterned so as to be connected to each of the plurality of piezoelectric elements 300 (upper electrode film 80) constituting the first piezoelectric element group 300A. .

すなわち、これら接続端子部512は、第1圧電素子群300Aを構成する複数の圧電素子300にそれぞれ対応するように、Y軸方向に複数(例えば720個)が並列した状態に形成されており、これによって第1接続端子群512Aを構成している。したがって、接続端子部512と圧電素子300側の端子部81とがそれぞれ接続することにより、ドライバIC200は接続端子部512を含む配線パターン510を介して、圧電素子300と電気的に接続されたものとなっている。   That is, these connection terminal portions 512 are formed in a state where a plurality (for example, 720) are arranged in parallel in the Y-axis direction so as to correspond to the plurality of piezoelectric elements 300 constituting the first piezoelectric element group 300A, This constitutes the first connection terminal group 512A. Therefore, the driver IC 200 is electrically connected to the piezoelectric element 300 via the wiring pattern 510 including the connection terminal portion 512 by connecting the connection terminal portion 512 and the terminal portion 81 on the piezoelectric element 300 side. It has become.

同様に、第2ドライバIC200Bと開口部520との間の第2エッジ領域530Bには、第2圧電素子群300Bを構成する複数の圧電素子300に対応するように、Y軸方向に複数(例えば720個)が並列した状態に形成された接続端子部512からなる第2接続端子群512Bが設けられている。第1エッジ領域530Aと第2エッジ領域530Bとは、X軸方向において互いに対向するように配置されており、これら第1、第2エッジ領域530A、530Bのそれぞれに形成されている第1接続端子群512A及び第2接続端子群512Bも、X軸方向において互いに対向するように配置された構成となっている。   Similarly, in the second edge region 530B between the second driver IC 200B and the opening 520, a plurality (for example, in the Y-axis direction) corresponding to the plurality of piezoelectric elements 300 constituting the second piezoelectric element group 300B (for example, 720) is provided in a second connection terminal group 512B composed of connection terminal portions 512 formed in parallel. The first edge region 530A and the second edge region 530B are arranged to face each other in the X-axis direction, and the first connection terminals formed in the first and second edge regions 530A and 530B, respectively. The group 512A and the second connection terminal group 512B are also configured to be opposed to each other in the X-axis direction.

また、同様に、第3ドライバIC200Cと開口部520との間の第3エッジ領域530Cには、第3圧電素子群300Cを構成する複数の圧電素子300に対応するように、Y軸方向に複数(例えば720個)が並列した状態に形成された接続端子部512からなる第3接続端子群512Cが設けられており、第4ドライバIC200Dと開口部520との間の第4エッジ領域530Dには、第4圧電素子群300Dを構成する複数の圧電素子300に対応するように、Y軸方向に複数(例えば720個)が並列した状態に形成された接続端子部512からなる第4接続端子群512Dが設けられている。そして、第3エッジ領域530Cと第4エッジ領域530Dとは、X軸方向において互いに対向するように配置されている。   Similarly, the third edge region 530C between the third driver IC 200C and the opening 520 has a plurality in the Y-axis direction so as to correspond to the plurality of piezoelectric elements 300 constituting the third piezoelectric element group 300C. A third connection terminal group 512C composed of connection terminal portions 512 formed in a state where (for example, 720) are arranged in parallel is provided, and a fourth edge region 530D between the fourth driver IC 200D and the opening 520 is provided in the fourth edge region 530D. A fourth connection terminal group consisting of connection terminal portions 512 formed in a state in which a plurality (for example, 720) are arranged in parallel in the Y-axis direction so as to correspond to the plurality of piezoelectric elements 300 constituting the fourth piezoelectric element group 300D. 512D is provided. The third edge region 530C and the fourth edge region 530D are arranged to face each other in the X-axis direction.

そして、図3に示すように、フレキシブル基板500の下面500Aと、圧電素子300とを対向させ、開口部520と凹溝700とを位置決めした状態で、接続端子部512が形成されたエッジ領域530(一端側)が下方に曲げられたことにより、エッジ領域530側の下面500Aと段差部250の下段面(凹溝700の底面)とが、異方性導電ペースト(ACP)によって接続されている。これにより、フレキシブル基板500のエッジ領域530における下面500Aに設けられている接続端子部512と、段差部250の下段面(凹溝700の底面)に配置されている上電極膜80の端子部81とが、図5の要部側断面図に示すように、異方性導電ペースト560中に含有される導電粒子561によって電気的に接続されている。
なお、フレキシブル基板500については、そのエッジ領域530を下方に曲げて接続端子部512側を凹溝700内に入れ込む際、必要に応じて、該フレキシブル基板500を折り曲げてもよい。
Then, as shown in FIG. 3, the edge region 530 in which the connection terminal portion 512 is formed in a state where the lower surface 500A of the flexible substrate 500 and the piezoelectric element 300 are opposed to each other and the opening 520 and the groove 700 are positioned. Since (one end side) is bent downward, the lower surface 500A on the edge region 530 side and the lower step surface of the step portion 250 (the bottom surface of the groove 700) are connected by an anisotropic conductive paste (ACP). . Thereby, the connection terminal portion 512 provided on the lower surface 500A in the edge region 530 of the flexible substrate 500 and the terminal portion 81 of the upper electrode film 80 disposed on the lower step surface of the step portion 250 (the bottom surface of the groove 700). Are electrically connected by conductive particles 561 contained in the anisotropic conductive paste 560, as shown in the sectional side view of the main part of FIG.
As for the flexible substrate 500, when the edge region 530 is bent downward and the connection terminal portion 512 side is inserted into the concave groove 700, the flexible substrate 500 may be bent as necessary.

ここで、フレキシブル基板500は、エッジ領域530(一端側)が下方(凹溝700の底面側)に曲げられ、このエッジ領域530側の下面500Aと段差部250の下段面(凹溝700の底面)とが接続されたことにより、このフレキシブル基板500には、そのエッジ領域530側(一端側)から前記段差部250の段差に沿って立ち上がる立ち上がり部501が形成されている。そして、この立ち上がり部501には、そのエッジ領域530側(一端側)の近傍部501aに熱硬化性樹脂562が設けられている。   Here, in the flexible substrate 500, the edge region 530 (one end side) is bent downward (the bottom surface side of the concave groove 700), and the lower surface 500A on the edge region 530 side and the lower step surface of the step portion 250 (the bottom surface of the concave groove 700). ) Is connected to the flexible substrate 500, and a rising portion 501 rising from the edge region 530 side (one end side) along the stepped portion of the stepped portion 250 is formed. The rising portion 501 is provided with a thermosetting resin 562 in the vicinity 501a on the edge region 530 side (one end side).

このような構成によってフレキシブル基板500は、その下面500Aの、前記立ち上がり部501におけるエッジ領域530側(一端側)の近傍部501aが、熱硬化性樹脂562によって前記段差部250の下段面に固着している。すなわち、フレキシブル基板500は、その立ち上がり部501と段差部250の下段面との間に、熱硬化性樹脂562によるバックフィレットを形成したものとなっている。
また、この熱硬化性樹脂562は、前記異方性導電ペースト560中の熱硬化性樹脂562と同じ樹脂からなっている。すなわち、異方性導電ペースト560とは導電粒子561が含有されていないだけで、同じ樹脂成分のものとなっている。
With such a configuration, the flexible substrate 500 has a lower surface 500A in which the vicinity 501a on the edge region 530 side (one end side) of the rising portion 501 is fixed to the lower step surface of the stepped portion 250 by the thermosetting resin 562. ing. That is, the flexible substrate 500 has a back fillet formed of the thermosetting resin 562 between the rising portion 501 and the lower step surface of the step portion 250.
The thermosetting resin 562 is made of the same resin as the thermosetting resin 562 in the anisotropic conductive paste 560. That is, the anisotropic conductive paste 560 does not contain the conductive particles 561 and has the same resin component.

したがって、このフレキシブル基板500は、そのエッジ領域530側だけでなく、立ち上がり部501の前記近傍部501aも、熱硬化性樹脂562によって段差部250の下段面に固着されているので、段差部250の下段面に対して十分に高い接続強度で接続されたものとなる。
また、前記立ち上がり部501での固着が、異方性導電ペースト560中の熱硬化性樹脂562と同じ熱硬化性樹脂でなされており、したがってこの立ち上がり部501には導電粒子561がほとんど存在していないので、この立ち上がり部501に存在する導電粒子561に起因するマイグレーションが抑制され、端子部81、81間のショートが防止される。
Therefore, in the flexible substrate 500, not only the edge region 530 side but also the vicinity 501 a of the rising portion 501 is fixed to the lower step surface of the step portion 250 by the thermosetting resin 562. It is connected to the lower surface with sufficiently high connection strength.
Further, the fixing at the rising portion 501 is made of the same thermosetting resin as the thermosetting resin 562 in the anisotropic conductive paste 560. Therefore, the conductive particles 561 are almost present in the rising portion 501. Therefore, migration due to the conductive particles 561 present in the rising portion 501 is suppressed, and a short circuit between the terminal portions 81 and 81 is prevented.

さらに、立ち上がり部501での固着に用いられた熱硬化性樹脂562が、異方性導電ペースト560中の熱硬化性樹脂562と同じものとなっているので、フレキシブル基板500の下面500Aのエッジ領域530側(一端側)での接着部分と、立ち上がり部501での固着部分とが、いずれも同じ熱硬化性樹脂の硬化物によって形成されたものとなる。したがって、接着部分と固着部分とが熱的に同じ挙動を示すようになり、熱膨張係数の違いなどによるフレキシブル基板500の剥離などが防止されたものとなる。   Further, since the thermosetting resin 562 used for fixing at the rising portion 501 is the same as the thermosetting resin 562 in the anisotropic conductive paste 560, the edge region of the lower surface 500 </ b> A of the flexible substrate 500 is used. The bonded portion on the 530 side (one end side) and the fixed portion on the rising portion 501 are both formed by a cured product of the same thermosetting resin. Therefore, the bonded portion and the fixed portion exhibit the same thermal behavior, and peeling of the flexible substrate 500 due to a difference in thermal expansion coefficient is prevented.

なお、図3、図4に示したように前記の第1圧電素子群300Aは、フレキシブル基板500の第1エッジ領域530A及びその第1エッジ領域530Aに設けられた第1接続端子群512Aに対応するように配置されており、第2圧電素子群300Bは、フレキシブル基板500の第2エッジ領域530B及びその第2エッジ領域530Bに設けられた第2接続端子群512Bに対応するように配置されている。したがって、第1圧電素子群300Aを構成する複数の圧電素子300の端子部81(上電極膜80)と、第1接続端子群512Aを構成する複数の接続端子部512とのそれぞれが良好に接続されるとともに、第2圧電素子群300Bを構成する複数の圧電素子300の端子部81(上電極膜80)と、第2接続端子群512Bを構成する複数の接続端子部512とのそれぞれが良好に接続される。
同様に、第3、第4圧電素子群300C、300Dを構成する複数の圧電素子300の端子部81と、第3、第4接続端子群512C、512Dを構成する複数の接続端子部512とが、それぞれ、第3、第4エッジ領域530C、530Dを曲げた状態で接続される。
3 and 4, the first piezoelectric element group 300A corresponds to the first edge region 530A of the flexible substrate 500 and the first connection terminal group 512A provided in the first edge region 530A. The second piezoelectric element group 300B is disposed so as to correspond to the second edge region 530B of the flexible substrate 500 and the second connection terminal group 512B provided in the second edge region 530B. Yes. Therefore, each of the terminal portions 81 (upper electrode film 80) of the plurality of piezoelectric elements 300 constituting the first piezoelectric element group 300A and the plurality of connection terminal portions 512 constituting the first connection terminal group 512A are well connected. In addition, each of the terminal portions 81 (upper electrode film 80) of the plurality of piezoelectric elements 300 constituting the second piezoelectric element group 300B and the plurality of connection terminal portions 512 constituting the second connection terminal group 512B are good. Connected to.
Similarly, the terminal portions 81 of the plurality of piezoelectric elements 300 constituting the third and fourth piezoelectric element groups 300C and 300D and the plurality of connection terminal portions 512 constituting the third and fourth connection terminal groups 512C and 512D are provided. , And the third and fourth edge regions 530C and 530D are connected in a bent state.

また、図3に示すように、フレキシブル基板500とリザーバ形成基板20との間には樹脂202が配置されており、これによってフレキシブル基板500に設けられたドライバIC200は、リザーバ形成基板20上、すなわち段差部250の上段側に設けられたものとなっている。そして、この状態でフレキシブル基板500とリザーバ形成基板20とは、樹脂202による樹脂モールドによって固定されている。なお、樹脂202については、凹溝700内にも配置され、接続端子部512と圧電素子300の端子部81(上電極膜80)との間の接続部を樹脂モールドしていてもよい。   Further, as shown in FIG. 3, a resin 202 is disposed between the flexible substrate 500 and the reservoir forming substrate 20, so that the driver IC 200 provided on the flexible substrate 500 is placed on the reservoir forming substrate 20, that is, It is provided on the upper side of the stepped portion 250. In this state, the flexible substrate 500 and the reservoir forming substrate 20 are fixed by a resin mold made of the resin 202. The resin 202 may also be disposed in the concave groove 700, and a connection portion between the connection terminal portion 512 and the terminal portion 81 (upper electrode film 80) of the piezoelectric element 300 may be resin-molded.

次に、このような構成を有する液滴吐出ヘッド1の動作について説明する。液滴吐出ヘッド1から機能液(インク)の液滴を吐出するために、図1に示した外部コントローラCTは、機能液導入口25に接続された不図示の外部機能液供給装置を駆動する。外部機能液供給装置から送出された機能液は、機能液導入口25を介してリザーバ100に供給された後、ノズル開口部15に至るまでの液滴吐出ヘッド1の内部流路を満たす。また、外部コントローラCTは、フレキシブル基板500に設けられた外部信号入力部580を介して、ドライバIC200等に駆動電力や指令信号を送る。フレキシブル基板500には、前記配線パターン510とは異なる配線パターン(図示せず)が設けられており、外部信号入力部580からの指令信号等は、その配線パターンを介してドライバIC200に送られる。ドライバIC200は、外部コントローラCTからの指令に基づいて、接続端子部512を含む配線パターン510を介して、圧力発生室12に対応するそれぞれの下電極膜60と上電極膜80との間に電圧を印加し、圧電体膜70を変位させる。これにより、弾性膜50、下電極膜60を変位させ、各圧力発生室12内の圧力を高めて、ノズル開口部15より液滴を吐出させる。   Next, the operation of the droplet discharge head 1 having such a configuration will be described. In order to eject droplets of functional liquid (ink) from the droplet discharge head 1, the external controller CT shown in FIG. 1 drives an external functional liquid supply device (not shown) connected to the functional liquid inlet 25. . The functional liquid sent out from the external functional liquid supply device fills the internal flow path of the droplet discharge head 1 from the functional liquid introduction port 25 to the reservoir 100 until reaching the nozzle opening 15. Further, the external controller CT sends driving power and a command signal to the driver IC 200 and the like via the external signal input unit 580 provided on the flexible substrate 500. The flexible substrate 500 is provided with a wiring pattern (not shown) different from the wiring pattern 510, and a command signal or the like from the external signal input unit 580 is sent to the driver IC 200 via the wiring pattern. The driver IC 200 applies a voltage between the lower electrode film 60 and the upper electrode film 80 corresponding to the pressure generation chamber 12 via the wiring pattern 510 including the connection terminal portion 512 based on a command from the external controller CT. Is applied to displace the piezoelectric film 70. As a result, the elastic film 50 and the lower electrode film 60 are displaced, the pressure in each pressure generating chamber 12 is increased, and droplets are ejected from the nozzle openings 15.

次に、このような構成からなる液滴吐出ヘッド1の製造方法に基づき、本発明のフレキシブル基板の実装方法、及び液滴吐出ヘッドの製造方法の一例を説明する。
前記液滴吐出ヘッド1を製造するに際し、特にフレキシブル基板500の下面500Aのエッジ領域530(一端側)を段差部250の下段面(凹溝700の底面)に接着し、接続端子部512を凹溝700内、すなわち段差部250の下段面の端子部81に接続するには、まず、図6(a)に示すような転写ステージ570を用意する。
Next, based on the manufacturing method of the droplet discharge head 1 having such a configuration, an example of the flexible substrate mounting method and the droplet discharge head manufacturing method of the present invention will be described.
When manufacturing the droplet discharge head 1, in particular, the edge region 530 (one end side) of the lower surface 500 </ b> A of the flexible substrate 500 is bonded to the lower step surface of the step portion 250 (bottom surface of the groove 700), and the connection terminal portion 512 is recessed. In order to connect to the terminal portion 81 in the groove 700, that is, the lower surface of the step portion 250, first, a transfer stage 570 as shown in FIG. 6A is prepared.

この転写ステージ570は、硬化前の異方性導電ペーストを収容するための凹状のペースト収容部571を形成したもので、平面視した状態でその開口が矩形状のものである。このペースト収容部571には、その底面572に、本発明の凹部となるディンプル(窪み)573が多数形成されている。すなわち、ペースト収容部571の底面572は、転写ステージ570において、異方性導電ペーストを配するペースト配置領域を形成する面となっている。そして、この面に、おわんの内面形状、または半球の内面形状等のディンプル573が、規則的に、あるいは不規則に多数形成されている。   The transfer stage 570 is formed with a concave paste containing portion 571 for containing the anisotropic conductive paste before curing, and has a rectangular opening in a plan view. A large number of dimples (recesses) 573 serving as concave portions of the present invention are formed on the bottom surface 572 of the paste containing portion 571. That is, the bottom surface 572 of the paste containing portion 571 is a surface on the transfer stage 570 that forms a paste arrangement region for arranging the anisotropic conductive paste. A large number of dimples 573 such as a bowl inner surface shape or a hemispheric inner surface shape are regularly or irregularly formed on this surface.

これらディンプル573は、十分に小さく形成されたもので、例えば異方性導電ペースト中に含有される導電粒子の1倍〜3倍程度、具体的には、導電粒子の直径を5μmとすると、ディンプル573の直径は5〜15μm程度、好ましくは10μm程度とされる。なお、本発明における凹部としては、このようなディンプル形状に限定されることなく、例えば横断面が半円状や逆三角形状の溝を、多数並列させたものとしてもよい。その場合にも、溝の幅を、導電粒子の1倍〜3倍程度とするのが好ましい。   These dimples 573 are formed sufficiently small, for example, about 1 to 3 times the conductive particles contained in the anisotropic conductive paste. Specifically, if the diameter of the conductive particles is 5 μm, the dimples The diameter of 573 is about 5 to 15 μm, preferably about 10 μm. The concave portion in the present invention is not limited to such a dimple shape, and for example, a plurality of grooves having a semicircular cross section or an inverted triangular shape may be arranged in parallel. Also in that case, the width of the groove is preferably about 1 to 3 times that of the conductive particles.

また、ペースト収容部571は、その底面572の一方の側(一辺側)が、ペースト収容部571の開口に向けて傾斜する傾斜面572aとなっている。この傾斜面572aは、他の底面572部分から上側に行くに連れて、漸次傾斜してなるものである。すなわち、この傾斜面572aは、底面572とペースト収容部571の開口との間を連続的につなぐ部分であって、他の箇所における側面に代わって形成された部分である。   In addition, one side (one side) of the bottom surface 572 of the paste containing portion 571 is an inclined surface 572 a that is inclined toward the opening of the paste containing portion 571. The inclined surface 572a is gradually inclined toward the upper side from the other bottom surface 572 portion. That is, the inclined surface 572a is a portion that continuously connects the bottom surface 572 and the opening of the paste containing portion 571, and is a portion that is formed in place of the side surface at another location.

このような構成の転写ステージ570を用意したら、そのペースト収容部571内に、ディスペンサ法等によって異方性導電ペースト560を充填する。なお、ペースト収容部571の内面には、必要に応じて離型材を塗布しておいてもよい。そして、転写ステージ570の表面(ペースト収容部571の開口面)をスキージングすることにより、図6(b)に示すようにペースト収容部571内に、その容積分の異方性導電ペースト560だけを収容させる。   When the transfer stage 570 having such a structure is prepared, the anisotropic conductive paste 560 is filled into the paste containing portion 571 by a dispenser method or the like. In addition, you may apply | coat the mold release material to the inner surface of the paste accommodating part 571 as needed. Then, by squeezing the surface of the transfer stage 570 (the opening surface of the paste containing portion 571), only the anisotropic conductive paste 560 corresponding to the volume is placed in the paste containing portion 571 as shown in FIG. 6B. Contain.

次いで、転写ステージ570のペースト収容部571内に収容された(配された)異方性導電ペースト560に、図6(c)に示すように前記フレキシブル基板500の下面500Aのエッジ領域530(一端側)を接触させる。このとき、フレキシブル基板500の先端側(エッジ領域530)側を予め曲げ(折り曲げ)ておき、これによって曲げ部より立ち上がってなる立ち上がり部501をフレキシブル基板500に形成しておく。そして、フレキシブル基板500のエッジ領域530(一端側)を異方性導電ペースト560に接触させる際には、この立ち上がり部501側が、前記ペースト収容部571の傾斜面572a側となるようにする。   Next, the anisotropic conductive paste 560 accommodated (arranged) in the paste accommodating portion 571 of the transfer stage 570 is applied to the edge region 530 (one end of the lower surface 500A of the flexible substrate 500 as shown in FIG. 6C). Side). At this time, the front end side (edge region 530) side of the flexible substrate 500 is bent (bent) in advance, and thereby the rising portion 501 rising from the bent portion is formed in the flexible substrate 500. When the edge region 530 (one end side) of the flexible substrate 500 is brought into contact with the anisotropic conductive paste 560, the rising portion 501 side is set to the inclined surface 572a side of the paste containing portion 571.

その後、図6(d)に示すようにこのエッジ領域530(一端側)を引き上げることにより、該エッジ領域530(一端側)に異方性導電ペースト560を転写する。ここで、この引き上げに際しては、図6(d)中に矢印で示したように、前記ペースト収容部571の底面572の傾斜面572aにおける面方向に沿って斜めに引き上げる。
このようにして転写ステージ570のペースト収容部571からフレキシブル基板500のエッジ領域530(一端側)を引き上げると、ペースト収容部571の底面572に多数のディンプル(凹部)573が形成されているので、収容された異方性導電ペースト560が底面572から容易に剥離するようになり、したがって異方性導電ペースト560のほぼ全量がフレキシブル基板500に転写されるようになる。
Thereafter, as shown in FIG. 6D, the edge region 530 (one end side) is pulled up to transfer the anisotropic conductive paste 560 to the edge region 530 (one end side). In this case, as shown by an arrow in FIG. 6D, the pulling is performed obliquely along the surface direction of the inclined surface 572a of the bottom surface 572 of the paste containing portion 571.
When the edge region 530 (one end side) of the flexible substrate 500 is pulled up from the paste accommodating portion 571 of the transfer stage 570 in this way, a large number of dimples (concave portions) 573 are formed on the bottom surface 572 of the paste accommodating portion 571. The accommodated anisotropic conductive paste 560 is easily peeled off from the bottom surface 572, so that almost the entire amount of the anisotropic conductive paste 560 is transferred to the flexible substrate 500.

すなわち、底面が連続した平面である場合には、硬化前の異方性導電ペースト560に対する付着力が強く、引き上げ時に異方性導電ペースト560の一部が転写ステージの底面側に残り易くなってしまう。一方、本実施形態の転写ステージ570では、ディンプル573が多数形成されていることから、これらディンプル573によって転写ステージ570の底面572が非連続化され、異方性導電ペースト560に対する付着力が弱められており、したがって、前述したように異方性導電ペースト560が底面572から容易に剥離するようになっている。   That is, when the bottom surface is a continuous flat surface, the adhesive force to the anisotropic conductive paste 560 before curing is strong, and a part of the anisotropic conductive paste 560 tends to remain on the bottom surface side of the transfer stage when pulled up. End up. On the other hand, since a large number of dimples 573 are formed in the transfer stage 570 of this embodiment, the bottom surface 572 of the transfer stage 570 is discontinuous by these dimples 573, and the adhesive force to the anisotropic conductive paste 560 is weakened. Therefore, as described above, the anisotropic conductive paste 560 is easily peeled off from the bottom surface 572.

また、この引き上げの際に、特にフレキシブル基板500のエッジ領域530(一端側)を、ペースト収容部571の底面572の傾斜面572aにおける面方向に沿って斜めに引き上げているので、フレキシブル基板500に転写された異方性導電ペースト560中の熱硬化性樹脂562は少しは糸を引くものの、糸が大きく引かれることなく、比較的小さくしかも斜めに引かれるようになる。したがって、引き上げた際、引いた糸は転写された異方性導電ペースト560側にすぐに倒れる。よって、このように小さく引いた状態ですぐに倒れた糸には、空気がほとんど巻き込まれないため、異方性導電ペースト560中に気泡が残ることでその接着力が低下するといったことが防止される。   In addition, since the edge region 530 (one end side) of the flexible substrate 500 is lifted obliquely along the surface direction of the inclined surface 572a of the bottom surface 572 of the paste containing portion 571 during the pulling, Although the thermosetting resin 562 in the transferred anisotropic conductive paste 560 slightly pulls the thread, the thread is pulled relatively small and diagonally without being pulled largely. Therefore, when pulled up, the pulled yarn immediately falls to the transferred anisotropic conductive paste 560 side. Therefore, since the air that has fallen immediately in such a small pulled state hardly entrains air, it is prevented that the adhesive force is reduced due to bubbles remaining in the anisotropic conductive paste 560. The

また、このとき、フレキシブル基板500のエッジ領域530を、図6(d)中に矢印で示したように斜めに引き上げているので、引き上げ時にペースト収納部571中の導電粒子561は、僅かながら図6(d)中の矢印方向と反対の側に移動するようになる。
なお、このような斜め引き上げによってフレキシブル基板500のエッジ領域530に転写された異方性導電ペースト560は、特にフレキシブル基板500の立ち上がり部501側が、前記ペースト収容部571の底面572の傾斜面572a側の形状に対応して、図6(d)に示したように傾斜面560aを形成したものとなっている。
At this time, since the edge region 530 of the flexible substrate 500 is lifted obliquely as indicated by an arrow in FIG. 6D, the conductive particles 561 in the paste storage portion 571 are slightly shown in FIG. It moves to the side opposite to the arrow direction in 6 (d).
Note that the anisotropic conductive paste 560 transferred to the edge region 530 of the flexible substrate 500 by such an oblique pull-up has the rising portion 501 side of the flexible substrate 500 particularly on the inclined surface 572a side of the bottom surface 572 of the paste containing portion 571. Corresponding to the shape, an inclined surface 560a is formed as shown in FIG. 6 (d).

また、このようなフレキシブル基板500のエッジ領域530(一端側)への異方性導電ペースト560の転写とは別に、図7(a)に示すように、凹溝700内の段差部250近傍、すなわち段差部250の下段面に、例えばデスペンサDから硬化前の熱硬化性樹脂562を所定量配しておく。
そして、図7(b)に示すように、先に異方性導電ペースト560を転写しておいたフレキシブル基板500のエッジ領域530を、凹溝700内に入れ込み、フレキシブル基板500の上面側を適宜な押圧ブロック(図示せず)等によって押圧することにより、該エッジ領域530を、異方性導電ペースト560を介して段差部250の下段面上に接着する。
In addition to the transfer of the anisotropic conductive paste 560 to the edge region 530 (one end side) of the flexible substrate 500, as shown in FIG. That is, a predetermined amount of thermosetting resin 562 before curing is disposed from the dispenser D, for example, on the lower surface of the stepped portion 250.
Then, as shown in FIG. 7B, the edge region 530 of the flexible substrate 500 to which the anisotropic conductive paste 560 has been previously transferred is inserted into the concave groove 700, and the upper surface side of the flexible substrate 500 is appropriately placed. The edge region 530 is bonded onto the lower surface of the stepped portion 250 via the anisotropic conductive paste 560 by pressing with a pressing block (not shown) or the like.

このとき、フレキシブル基板500の立ち上がり部501側が前記段差部250側となるようにして、すなわち、前記の熱硬化性樹脂562側となるようにして配し、異方性導電ペースト560を介して接着する。すると、予め段差部250の下段面に熱硬化性樹脂562を配しているので、フレキシブル基板500の下面500Aの立ち上がり部501側は、この熱硬化性樹脂562によって段差部250の下段面(凹溝700の底面)に接着される。
その後、異方性導電ペースト560、及び熱硬化性樹脂562を加熱して硬化させることにより、フレキシブル基板500のエッジ領域530を段差部250の下段面上に接着すると同時に、フレキシブル基板500の立ち上がり部501を段差部250の下段面(凹溝700の底面)に固着し、図5に示した実装構造を得る。
At this time, the flexible substrate 500 is arranged so that the rising portion 501 side is the stepped portion 250 side, that is, the thermosetting resin 562 side, and is bonded via the anisotropic conductive paste 560. To do. Then, since the thermosetting resin 562 is arranged on the lower surface of the stepped portion 250 in advance, the rising portion 501 side of the lower surface 500A of the flexible substrate 500 is placed on the lower step surface (recessed) of the stepped portion 250 by the thermosetting resin 562. Bonded to the bottom surface of the groove 700.
Thereafter, the anisotropic conductive paste 560 and the thermosetting resin 562 are heated and cured to adhere the edge region 530 of the flexible substrate 500 to the lower surface of the stepped portion 250, and at the same time, the rising portion of the flexible substrate 500. The mounting structure shown in FIG. 5 is obtained by fixing 501 to the lower step surface of the step portion 250 (the bottom surface of the groove 700).

このような凹溝700からなる段差部250へのフレキシブル基板500の実装方法、すなわち液滴吐出ヘッド1の製造方法によれば、エッジ領域530側だけでなく、立ち上がり部501におけるエッジ領域530(一端側)の近傍部501aも、熱硬化性樹脂562によって段差部250の下段面に固着するので、フレキシブル基板500を段差部250の下段面に対して十分に高い接続強度で接続することができる。   According to the mounting method of the flexible substrate 500 to the step portion 250 including the concave groove 700, that is, the manufacturing method of the droplet discharge head 1, not only the edge region 530 side but also the edge region 530 (one end of the rising portion 501). The side portion 501a is also fixed to the lower step surface of the step portion 250 by the thermosetting resin 562, so that the flexible substrate 500 can be connected to the lower step surface of the step portion 250 with sufficiently high connection strength.

また、前記立ち上がり部501での固着を、異方性導電ペースト560中の熱硬化性樹脂562と同じ熱硬化性樹脂で行うので、この立ち上がり部501には導電粒子561がほとんど存在しなくなる。したがって、この立ち上がり部501に導電粒子561が存在してしまうことに起因するマイグレーションを抑制し、端子部81、81間のショートを防止することができる。   Further, since the fixing at the rising portion 501 is performed with the same thermosetting resin as the thermosetting resin 562 in the anisotropic conductive paste 560, the conductive particles 561 hardly exist in the rising portion 501. Therefore, migration due to the presence of the conductive particles 561 in the rising portion 501 can be suppressed, and a short circuit between the terminal portions 81 and 81 can be prevented.

なお、フレキシブル基板500のエッジ領域530に転写された異方性導電ペースト560は、斜め引き上げを行っていることで、前述したように図6(d)中の矢印方向と反対の側、すなわちフレキシブル基板500の立ち上がり部501側と反対の側に、導電粒子561が移動し、これによって立ち上がり部501側での導電粒子561の含有率が少なくなっている。また、斜め引き上げにより、フレキシブル基板500に転写された異方性導電ペースト560の立ち上がり部501側には、ペースト収容部571の傾斜面572aに対応した傾斜面560aを形成している。   Note that the anisotropic conductive paste 560 transferred to the edge region 530 of the flexible substrate 500 is obliquely pulled up, so that the side opposite to the arrow direction in FIG. The conductive particles 561 move to the side opposite to the rising portion 501 side of the substrate 500, thereby reducing the content of the conductive particles 561 on the rising portion 501 side. In addition, an inclined surface 560 a corresponding to the inclined surface 572 a of the paste containing portion 571 is formed on the rising portion 501 side of the anisotropic conductive paste 560 transferred to the flexible substrate 500 by oblique pulling.

したがって、特にフレキシブル基板500のエッジ領域530における立ち上がり部501側では、異方性導電ペースト560の転写量そのものが他の部位に比べて少なくなっており、しかも導電粒子561の含有率も少なくなっていることから、この立ち上がり部501側では、他の部位に比べ導電粒子561の絶対量が少なくなっている。よって、このエッジ領域530における立ち上がり部501側に転写された異方性導電ペースト560の一部が、接着時に立ち上がり部501に回り込んだとしても、導電粒子561の絶対量が少ないことから、導電粒子561は立ち上がり部501に回り込みにくくなる。これにより、導電粒子561が回り込んで立ち上がり部501に移行してしまい、この導電粒子561に起因してマイグレーションが生じてしまうのを、防止することができる。   Therefore, particularly on the rising portion 501 side in the edge region 530 of the flexible substrate 500, the transfer amount of the anisotropic conductive paste 560 is smaller than that of other portions, and the content of the conductive particles 561 is also reduced. Therefore, on the rising portion 501 side, the absolute amount of the conductive particles 561 is smaller than other portions. Therefore, even if a part of the anisotropic conductive paste 560 transferred to the rising portion 501 side in the edge region 530 wraps around the rising portion 501 during bonding, the absolute amount of the conductive particles 561 is small. The particles 561 are less likely to enter the rising portion 501. Accordingly, it is possible to prevent the conductive particles 561 from wrapping around and moving to the rising portion 501 and causing migration due to the conductive particles 561.

さらに、立ち上がり部501での固着に用いられた熱硬化性樹脂562を、異方性導電ペースト560中の熱硬化性樹脂562と同じものとしているので、フレキシブル基板500の下面500Aのエッジ領域530側(一端側)での接着部分と、立ち上がり部501での固着部分とが、いずれも同じ熱硬化性樹脂の硬化物によって形成されたものとなる。したがって、接着部分と固着部分とが熱的に同じ挙動を示すようになり、これにより、熱膨張係数の違いなどによるフレキシブル基板500の剥離などを防止することができる。   Further, since the thermosetting resin 562 used for fixing at the rising portion 501 is the same as the thermosetting resin 562 in the anisotropic conductive paste 560, the edge region 530 side of the lower surface 500A of the flexible substrate 500 is used. The bonded portion at (one end side) and the fixed portion at the rising portion 501 are both formed of the same thermosetting resin cured product. Accordingly, the bonded portion and the fixed portion exhibit the same thermal behavior, thereby preventing peeling of the flexible substrate 500 due to a difference in thermal expansion coefficient.

また、転写ステージ570におけるペースト配置領域の形成面となるペースト収容部571の底面に、ディンプル573を多数形成しているので、前述したようにフレキシブル基板500を転写ステージ570から引き上げた際に異方性導電ペースト560が底面572から容易に剥離するようになる。したがって、異方性導電ペーストのほぼ全量がフレキシブル基板500に転写されるようになり、これにより、フレキシブル基板500に転写される異方性導電ペースト560の量のバラツキに起因して、フレキシブル基板500の下段側の面に対する接続強度が十分になってしまうといった不都合を防止することができる。
また、転写ステージ570にペースト収容部571を形成し、このペースト収容部571内に収容した異方性導電ペースト560のほぼ全量を転写するようにしてので、フレキシブル基板500に転写される異方性導電ペースト560の量をペースト収容部571の容積でほぼ規定することができ、したがって、常に一定の量の異方性導電ペースト560をフレキシブル基板500に転写することができる。
In addition, since a large number of dimples 573 are formed on the bottom surface of the paste accommodating portion 571 that is the formation surface of the paste arrangement region in the transfer stage 570, as described above, when the flexible substrate 500 is lifted from the transfer stage 570, the anisotropic is obtained The conductive conductive paste 560 is easily peeled from the bottom surface 572. Accordingly, almost the entire amount of the anisotropic conductive paste is transferred to the flexible substrate 500. Accordingly, due to variation in the amount of the anisotropic conductive paste 560 transferred to the flexible substrate 500, the flexible substrate 500 is transferred. It is possible to prevent the inconvenience that the connection strength with respect to the lower surface is sufficient.
In addition, since the paste container 571 is formed on the transfer stage 570 and almost the entire amount of the anisotropic conductive paste 560 accommodated in the paste container 571 is transferred, the anisotropy transferred to the flexible substrate 500 is transferred. The amount of the conductive paste 560 can be substantially defined by the volume of the paste containing portion 571, and thus a certain amount of the anisotropic conductive paste 560 can always be transferred to the flexible substrate 500.

また、この引き上げの際に、特にフレキシブル基板500のエッジ領域530(一端側)を、ペースト収容部571の底面572の傾斜面572aにおける面方向に沿って斜めに引き上げているので、前述したように異方性導電ペースト560中に気泡が残ることが抑えられる。したがって、気泡によって異方性導電ペースト560の接着力が低下してしまうことを防止することができ、これにより、実装後のフレキシブル基板500に剥離が生じてしまうといった不都合を防止することができる。   Further, at the time of this lifting, the edge region 530 (one end side) of the flexible substrate 500 is lifted obliquely along the surface direction of the inclined surface 572a of the bottom surface 572 of the paste containing portion 571. It is possible to prevent bubbles from remaining in the anisotropic conductive paste 560. Therefore, it is possible to prevent the adhesive force of the anisotropic conductive paste 560 from being reduced due to the bubbles, thereby preventing the inconvenience that the flexible substrate 500 after mounting is peeled off.

なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない限り種々の変更が可能である。例えば、前記転写ステージでは、ペースト収容部571の一方の側にのみ傾斜面572aを形成したが、相対向する二つの側にそれぞれ傾斜面572aを形成してもよい。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in the transfer stage, the inclined surface 572a is formed only on one side of the paste containing portion 571, but the inclined surface 572a may be formed on two opposite sides.

<液滴吐出装置>
次に、前述した液滴吐出ヘッド1を備えた本発明の液滴吐出装置IJの一例について、図8を参照しながら説明する。図8は液滴吐出装置IJの概略構成を示す斜視図である。
<Droplet ejection device>
Next, an example of the droplet discharge apparatus IJ of the present invention provided with the above-described droplet discharge head 1 will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a perspective view showing a schematic configuration of the droplet discharge device IJ.

図8において液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1と、駆動軸4と、ガイド軸5と、コントローラCTと、ステージ7と、クリーニング機構8と、基台9と、ヒータ6とを備えている。ステージ7は、液滴吐出ヘッド1によって機能液が吐出される基板Pを支持するもので、基板Pを基準位置に固定する不図示の固定機構を備えたものである。液滴吐出ヘッド1のノズル開口部からは、ステージ7に支持されている基板Pに対し、機能液が吐出されるようになっている。   In FIG. 8, the droplet discharge device IJ includes a droplet discharge head 1, a drive shaft 4, a guide shaft 5, a controller CT, a stage 7, a cleaning mechanism 8, a base 9, and a heater 6. ing. The stage 7 supports the substrate P from which the functional liquid is discharged by the droplet discharge head 1, and includes a fixing mechanism (not shown) that fixes the substrate P at a reference position. The functional liquid is discharged from the nozzle opening of the droplet discharge head 1 onto the substrate P supported by the stage 7.

駆動軸4には駆動モータ2が接続されている。駆動モータ2はステッピングモータ等からなるもので、コントローラCTからY軸方向の駆動信号が供給されると、駆動軸4を回転させるようになっている。駆動軸4が回転すると、液滴吐出ヘッド1はY軸方向に移動する。ガイド軸5は基台9に対して動かないように固定されている。ステージ7は、駆動モータ3を備えている。駆動モータ3はステッピングモータ等からなるもので、コントローラCTからX軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ7をX軸方向に移動するようになっている。   A drive motor 2 is connected to the drive shaft 4. The drive motor 2 is composed of a stepping motor or the like. When a drive signal in the Y-axis direction is supplied from the controller CT, the drive shaft 4 is rotated. When the drive shaft 4 rotates, the droplet discharge head 1 moves in the Y-axis direction. The guide shaft 5 is fixed so as not to move with respect to the base 9. The stage 7 includes a drive motor 3. The drive motor 3 is composed of a stepping motor or the like. When a drive signal in the X-axis direction is supplied from the controller CT, the stage 7 is moved in the X-axis direction.

コントローラCTは、液滴吐出ヘッド1に対して液滴吐出を制御するための電圧を供給する。さらに、コントローラCTは、駆動モータ2に対して液滴吐出ヘッド1のY軸方向への移動を制御する駆動パルス信号を供給するとともに、駆動モータ3に対してステージ7のX軸方向への移動を制御する駆動パルス信号を供給する。   The controller CT supplies a voltage for controlling droplet ejection to the droplet ejection head 1. Further, the controller CT supplies a drive pulse signal for controlling the movement of the droplet discharge head 1 in the Y-axis direction to the drive motor 2 and moves the stage 7 in the X-axis direction to the drive motor 3. A drive pulse signal for controlling is supplied.

クリーニング機構8は液滴吐出ヘッド1をクリーニングするものであって、図示しない駆動モータを備えている。この駆動モータの駆動により、クリーニング機構8はガイド軸5に沿ってX軸方向に移動する。クリーニング機構8の移動もコントローラCTにより制御される。ヒータ6は、ここではランプアニールにより基板Pを熱処理する手段であり、基板P上に塗布された機能液に含まれる溶媒の蒸発及び乾燥を行うようになっている。このヒータ6の電源の投入及び遮断も、コントローラCTによって制御されるようになっている。
そして、液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1と基板Pを支持するステージ7とを相対的に走査しつつ基板Pに対して液滴を吐出する。
The cleaning mechanism 8 cleans the droplet discharge head 1 and includes a drive motor (not shown). By driving the drive motor, the cleaning mechanism 8 moves in the X-axis direction along the guide shaft 5. The movement of the cleaning mechanism 8 is also controlled by the controller CT. Here, the heater 6 is means for heat-treating the substrate P by lamp annealing, and evaporates and dries the solvent contained in the functional liquid applied on the substrate P. The power on and off of the heater 6 is also controlled by the controller CT.
The droplet discharge device IJ discharges droplets onto the substrate P while relatively scanning the droplet discharge head 1 and the stage 7 supporting the substrate P.

このような液滴吐出装置IJにあっては、前述したように、フレキシブル基板500(501、502)の変形によるフレキシブル基板の接続部での剥離が防止された液滴吐出ヘッドを備えているので、この液滴吐出装置自体も、前記接続部の剥離による不良が防止されたものとなり、長期に亘る信頼性が確保されたものとなる。   As described above, such a droplet discharge device IJ includes a droplet discharge head in which peeling at the connection portion of the flexible substrate due to deformation of the flexible substrate 500 (501, 502) is prevented. Also, the droplet discharge device itself is one in which a defect due to peeling of the connecting portion is prevented, and long-term reliability is ensured.

なお、前述した実施形態において、液滴吐出ヘッド1より吐出される機能液としては、液晶表示デバイスを形成するための液晶表示デバイス形成用材料、有機EL表示デバイスを形成するための有機EL形成用材料、電子回路の配線パターンを形成するための配線パターン形成用材料などを含むものとする。これにより、液滴吐出装置IJは、液滴吐出法に基づいて吐出した機能液によって、前記各デバイスを製造することができる。   In the above-described embodiment, the functional liquid discharged from the droplet discharge head 1 includes a liquid crystal display device forming material for forming a liquid crystal display device, and an organic EL forming device for forming an organic EL display device. It includes materials, wiring pattern forming materials for forming wiring patterns of electronic circuits, and the like. Thereby, the droplet discharge apparatus IJ can manufacture each of the devices with the functional liquid discharged based on the droplet discharge method.

本発明の一実施形態に係る液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。1 is an external perspective view of a droplet discharge head according to an embodiment of the present invention. 図1に示した液滴吐出ヘッドを下側から見た斜視図である。It is the perspective view which looked at the droplet discharge head shown in FIG. 1 from the lower side. 図1のA−A線矢視断面図である。It is AA arrow sectional drawing of FIG. フレキシブル基板を下面側から見た図である。It is the figure which looked at the flexible substrate from the lower surface side. 液滴吐出ヘッドの要部側断面図である。It is a principal part sectional side view of a droplet discharge head. (a)〜(d)はフレキシブル基板へのACP転写の説明図である。(A)-(d) is explanatory drawing of ACP transcription | transfer to a flexible substrate. (a)、(b)はフレキシブル基板の実装方法の説明図である。(A), (b) is explanatory drawing of the mounting method of a flexible substrate. 液滴吐出装置の一例を示す外観斜視図である。It is an external appearance perspective view which shows an example of a droplet discharge device.

符号の説明Explanation of symbols

1…液滴吐出ヘッド、15…ノズル開口部、15A〜15D…ノズル開口群、20…リザーバ形成基板、81…端子部、200…ドライバIC(駆動回路部)、250…段差部、300…圧電素子(駆動素子)、500…フレキシブル基板、501…立ち上がり部、501a…近傍部、510…配線パターン(導電部)、512…接続端子部、560…異方性導電ペースト、561…導電粒子、562…熱硬化性樹脂、570…転写ステージ、571…ペースト収容部、572…底面、572a…傾斜面、573…ディンプル、700…凹溝、IJ…液滴吐出装置

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Droplet discharge head, 15 ... Nozzle opening, 15A-15D ... Nozzle opening group, 20 ... Reservoir formation board, 81 ... Terminal part, 200 ... Driver IC (drive circuit part), 250 ... Step part, 300 ... Piezoelectric Element (drive element), 500 ... flexible substrate, 501 ... rising part, 501a ... vicinity part, 510 ... wiring pattern (conductive part), 512 ... connection terminal part, 560 ... anisotropic conductive paste, 561 ... conductive particle, 562 ... thermosetting resin, 570 ... transfer stage, 571 ... paste container, 572 ... bottom surface, 572a ... inclined surface, 573 ... dimple, 700 ... concave groove, IJ ... droplet ejection device

Claims (5)

導電部を有したフレキシブル基板を段差部の上段側から下段側にかけて配置し、これら上段側と下段側との間を、前記導電部によって電気的に導通させるフレキシブル基板の実装方法であって、
前記フレキシブル基板の前記導電部を有した下面の一端側を、熱硬化性樹脂中に導電粒子を含有してなる異方性導電ペーストを用いて前記段差部の下段側の面に接着し、前記フレキシブル基板の導電部と前記下段側の面に設けられた端子部とを導通させる工程と、
前記フレキシブル基板の下面の、前記一端側から前記段差部の段差に沿って立ち上がる立ち上がり部の、前記一端側の近傍部を、前記異方性導電ペースト中の熱硬化性樹脂と同じ熱硬化性樹脂によって前記段差部の下段側の面に固着する工程と、を備え
前記フレキシブル基板の下面の一端側を前記段差部の下段側の面に接着する工程は、予め転写ステージ上に配された硬化前の前記異方性導電ペーストに、前記フレキシブル基板の下面の一端側を接触させ、その後引き上げることにより、該一端側に前記異方性導電ペーストを転写する工程と、異方性導電ペーストが転写された前記フレキシブル基板の一端側を、転写された異方性導電ペーストを介して前記段差部の下段側の面に接合する工程と、を備えてなり、
前記転写ステージとして、前記異方性導電ペーストを配するペースト配置領域を形成する面に、その全域において多数の凹部を形成したものを用いる、ことを特徴とするフレキシブル基板の実装方法。
A flexible substrate having a conductive portion is disposed from the upper side to the lower side of the stepped portion, and the flexible substrate is mounted between the upper side and the lower side by the conductive portion.
Adhering one end of the lower surface of the flexible substrate having the conductive portion to the lower surface of the step using an anisotropic conductive paste containing conductive particles in a thermosetting resin, Conducting the conductive portion of the flexible substrate and the terminal portion provided on the lower surface,
The thermosetting resin that is the same as the thermosetting resin in the anisotropic conductive paste at the vicinity of the one end side of the rising portion that rises along the step of the stepped portion from the one end side of the lower surface of the flexible substrate A step of adhering to the lower side surface of the stepped portion by ,
The step of adhering one end side of the lower surface of the flexible substrate to the lower surface of the stepped portion is performed by applying one end side of the lower surface of the flexible substrate to the anisotropic conductive paste before curing disposed on the transfer stage in advance. And transferring the anisotropic conductive paste to the one end side, and then transferring the one end side of the flexible substrate to which the anisotropic conductive paste is transferred to the one end side. And a step of joining to the lower surface of the stepped portion via,
A mounting method for a flexible substrate , wherein a surface on which a paste arrangement region on which the anisotropic conductive paste is to be formed is formed as a plurality of concave portions is used as the transfer stage .
前記転写ステージには、前記異方性導電ペーストを収容するための凹状のペースト収容部が形成され、該ペースト収容部の底面が、前記ペースト配置領域を形成する面になっているとともに、該底面の一方の側は、ペースト収容部の開口に向けて傾斜する傾斜面となっており、
前記フレキシブル基板の一端側に前記異方性導電ペーストを転写する工程では、前記異方性導電ペーストに前記フレキシブル基板の下面の一端側を接触させ、その後引き上げる際に、前記ペースト収容部の底面の傾斜面における面方向に沿って、前記一方の側に向けて斜めに引き上げることを特徴とする請求項記載のフレキシブル基板の実装方法。
The transfer stage is formed with a concave paste containing portion for containing the anisotropic conductive paste, and the bottom surface of the paste containing portion is a surface that forms the paste arrangement region, and the bottom surface One side of the is an inclined surface inclined toward the opening of the paste container,
In the step of transferring the anisotropic conductive paste to one end of the flexible substrate, one end of the lower surface of the flexible substrate is brought into contact with the anisotropic conductive paste and then pulled up, 2. The method for mounting a flexible substrate according to claim 1 , wherein the flexible substrate is pulled up obliquely toward the one side along a surface direction of the inclined surface.
段差部の上段側に設けられた駆動回路部と、前記段差部の下段側に設けられて前記駆動回路部によって駆動される駆動素子と、前記駆動回路部と前記駆動素子とを電気的に接続する導電部を有したフレキシブル基板と、を備えた液滴吐出ヘッドの製造方法において、
前記フレキシブル基板を、請求項1又は2に記載の実装方法によって実装することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
A drive circuit portion provided on the upper side of the step portion, a drive element provided on the lower side of the step portion and driven by the drive circuit portion, and the drive circuit portion and the drive element are electrically connected In a manufacturing method of a droplet discharge head comprising a flexible substrate having a conductive portion to be
A method for manufacturing a droplet discharge head, wherein the flexible substrate is mounted by the mounting method according to claim 1 .
段差部の上段側に設けられた駆動回路部と、前記段差部の下段側に設けられて前記駆動回路部によって駆動される駆動素子と、前記駆動回路部と前記駆動素子とを電気的に接続する導電部を有したフレキシブル基板と、を備えた液滴吐出ヘッドにおいて、
前記フレキシブル基板が、請求項1又は2に記載の実装方法によって実装されてなることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
A drive circuit portion provided on the upper side of the step portion, a drive element provided on the lower side of the step portion and driven by the drive circuit portion, and the drive circuit portion and the drive element are electrically connected In a droplet discharge head provided with a flexible substrate having a conductive portion to be
A droplet discharge head, wherein the flexible substrate is mounted by the mounting method according to claim 1 .
請求項記載の液滴吐出ヘッドを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。 A droplet discharge apparatus comprising the droplet discharge head according to claim 4 .
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