JP4682374B2 - 光触媒機能皮膜の形成方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 74
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims description 62
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 257
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 113
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 104
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 84
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 67
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 53
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 claims description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 24
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 21
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 11
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims description 11
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052586 apatite Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 claims description 10
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D pentacalcium;fluoride;triphosphate Chemical compound [F-].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O VSIIXMUUUJUKCM-UHFFFAOYSA-D 0.000 claims description 10
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 9
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010285 flame spraying Methods 0.000 claims description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 160
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 34
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 15
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 230000008859 change Effects 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 7
- UFBJCMHMOXMLKC-UHFFFAOYSA-N 2,4-dinitrophenol Chemical compound OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O UFBJCMHMOXMLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 5
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 3
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 2
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 2
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000002781 deodorant agent Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 1
- 238000010289 gas flame spraying Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 231100001261 hazardous Toxicity 0.000 description 1
- 229940088597 hormone Drugs 0.000 description 1
- 239000005556 hormone Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002468 redox effect Effects 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003303 reheating Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010454 slate Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 1
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Description
このように、いずれの成膜方法を使用しても、その成膜条件に制約があるため、汎用性のある成膜方法、例えば、常温又は大気圧で成膜でき、基材サイズ、基材種類、基材形状、及び成膜場所の制約がなく、しかも短時間に成膜でき、更には乾式成膜法(ドライ)で後施工が可能な光触媒成膜方法の開発が望まれている。この方法を実現する手段として、プラズマ溶射又は高温ガス(例えば、3000℃程度)のフレーム溶射といった溶射法を用いた成膜方法が開示されている。なお、この方法においては、二酸化チタンが高温に加熱された後に基材に被覆される(例えば、特許文献3参照)。
なお、溶射フレームの温度が700℃未満の場合、溶射材料への入熱が十分でなく、溶射層を基材に安定に形成することができない。一方、溶射フレームの温度が2000℃を超える場合、溶射材料への入熱が過剰になり、アナターゼ型からルチル型に変態する二酸化チタンの量が増加し、基材に形成した二酸化チタンが十分な光触媒機能を発揮できない。また、溶射時において、二酸化チタンの溶射フレーム中での滞留時間は瞬時であり、溶射フレームの温度が2000℃以下であれば、二酸化チタンの光触媒機能に大きな影響を及ぼさないものと考えられる。従って、光触媒機能を十分に発揮する二酸化チタンを、溶射層中に存在させるためには、溶射フレームの温度の下限値を700℃、好ましくは800℃にし、上限値を2000℃、好ましくは1500℃、更に好ましくは1000℃にする。
溶射材料の外形最大寸法が1μm未満の場合、溶射材料が細かくなり過ぎ、乾式の状態では溶射フレームに到達する前に凝集が起こり、溶射作業を安定して実施できない。一方、溶射材料の外形最大寸法が100μmを超える場合、溶射材料が大きくなり過ぎ、溶射層の表面に凹凸が生じ易く、例えば平滑化のために後処理を行う必要が生じる場合がある。このため、平滑化された溶射層を基材に安定して形成するためには、溶射材料の外形最大寸法の下限値を1μm、好ましくは5μmとし、上限値を100μm、好ましくは80μm、更に好ましくは60μmにする。
また、前記基材上に自溶合金のアンダーコート層を高速フレーム溶射してから、前記溶射材料の高速溶射を行なうことが好ましい。ここで、自溶合金とは、ニッケル基自溶合金、コバルト基自溶合金、及び鉄基自溶合金のいずれか1を指す。
また、溶射材料が1μm以上100μm以下に造粒されているので、溶射材料が溶射フレームに到達する際に凝集するのを防止でき、溶射フレームまで安定して搬送できる。このため、光触媒機能皮膜を基材上に安定して形成できる。
ここで、図1(A)は本発明の第1の実施の形態に係る光触媒機能皮膜の溶射層形成時の説明図、(B)は形成された溶射層の説明図、図2は同光触媒機能皮膜の溶射層に対する親水性試験の結果を示すグラフ、図3は変形例に係る溶射層の形成方法の説明図、図4は本発明の第1の実施の形態に係る光触媒機能皮膜の溶射層の形成に使用する溶射温度可変型の高速溶射装置の説明図、図5は溶射温度とアナターゼ型二酸化チタンの残存率との関係を示す説明図、図6(A)〜(C)はそれぞれプラズマ溶射、HVOF溶射、及び低温高速溶射により形成された溶射層のX線回折結果を示す説明図、図7は本発明の第1の実施の形態に係る光触媒機能皮膜の溶射層の形成に使用する溶射ガンを取付けた台車の説明図、図8は本発明の第3の実施の形態に係る光触媒機能皮膜のメチレンブルー分解試験の試験方法の説明図、図9は同光触媒機能皮膜の溶射層中のアナターゼ型二酸化チタン残存率とメチレンブルーの分解活性の関係を示すグラフである。
ここで、制御とは、例えば、アナターゼ型の残存率を変えることをいい、具体的には、溶射フレーム温度、フレームの勢い、及び雰囲気の酸化還元性のいずれか1又は2以上をコントロールすることを意味する。これによって、光触媒機能皮膜10中でのアナターゼ型二酸化チタンの残存率は、例えば、60%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上とすることができる。なお、溶射層14中の他の成分は、溶射時にアナターゼ型からルチル型へと変態したルチル型二酸化チタンと、不可避的不純物である。また、基材13は、500℃以上の温度に耐える特性を有すればよく、例えば、スレート材、コンクリート建材、タイルガラス、繊維、プラスチック系建材、アルミニウム系建材、又はステンレス等の鋼材、銅材を使用できる。
一般に、二酸化チタンの光誘起による超親水化反応は、以下のように説明される。すなわち、紫外線の照射で生成した正孔が二酸化チタンの酸素にトラップされたとき、チタン原子と酸素原子との結合距離が長くなる。これによって、二酸化チタンの酸素欠陥に配位した水酸基とチタン原子との相互作用が弱まり、二酸化チタンに吸着していた吸着水がチタン原子に配位して新たな表面水酸基が形成される。このため、表面の水酸基密度が増加し、超親水性が発現すると考えられる。そして、超親水化反応は、二酸化チタンの表面水酸基の構造変化とも考えられ、この反応は二酸化チタンの表面側の体積膨張を伴う可能性がある。
試験は、光触媒製品技術協議会により示されるアセトアルデヒドガス分解評価試験法(ガスバックB法)を採用した。この試験は、3時間以上紫外線を照射した試料とアセトアルデヒドガスを封入した袋を4つ準備し、2つの袋に紫外線を照射し(明条件試験区)、他の2つの袋を暗所に静置して(暗条件試験区)行った。なお、試料の大きさは50mm×50mm、紫外線照射位置から試料までの距離は30cm、紫外線照射強度は1mW/cm2で、評価は、20時間経過後の「暗条件試験区」のガス濃度平均値と「明条件試験区」のガス濃度平均値との差をとり、これを「暗条件試験区」のガス濃度平均値で除して行った。試験結果を表1に示す。
まず、二酸化チタンを基材13上に溶射する前に、基材13上に予めアンダーコート層12を高速フレーム溶射により形成する。そして、このアンダーコート層12に対して、アナターゼ型二酸化チタン粒子11を溶射する。ここで、使用する二酸化チタンの粒子11は、5nm以上500nm以下、好ましくは7nm以上300nm以下の微細粒であるため、乾式の状態のままでは溶射フレームに到達する前の搬送過程で凝集が起こり、溶射作業を安定して実施できない。
図4に示すように、溶射装置23は、高圧燃焼支援ガス(酸素+空気)及びガス燃料によって形成された高速の溶射フレーム24と共に、溶射材料を基材13に対して噴出して溶射層14を形成する溶射ガン(溶射ガンバレル)25を備えている。
一方、アナターゼ型二酸化チタンは、約800℃でルチル型へ変態し、ルチル型二酸化チタンは、アナターゼ型二酸化チタンに比べ、光触媒機能は極めて小さい。このため、アナターゼ型二酸化チタンの残存率が高い溶射層ほど光触媒機能は活性となる。図5から明らかなように、溶射時に使用する燃料量を少なくすることで、溶射温度が低下し、基材上に形成されるアナターゼ型二酸化チタンの残存率を増加できるので、低温高速フレーム溶射法を用いると、アナターゼ型二酸化チタン残存率が大きな溶射層が得られることが期待できる。
アナターゼ含有率(重量%)=100/{1+1.265×(IR/IA)}
図6(A)〜(C)に、各溶射層のX線回折結果を示す。図6(A)〜(C)中の●はアナターゼ型、×はルチル型、αは基板のそれぞれのX線回折強度を現している。
ここで、溶射層中に吸着材が存在していると、溶射層の表面側、溶射層の気孔の内面側には、二酸化チタン粒子と共に吸着材が存在することになり、この吸着材は被分解処理物を吸着する作用を有するため、分解処理が進行して被分解処理物の全体の濃度が低下しても二酸化チタン粒子の周囲では被分解処理物の濃度を高く保持することができる。その結果、被分解処理物と二酸化チタンの接触する頻度が、被分解処理物の濃度の影響を受けずに高位に維持されるので、被分解処理物の分解速度の低下を抑制して被分解処理物の効率的な分解を行なうことができる。
また、圧縮の残留応力が発生している溶射層にアパタイト、ゼオライト、及び活性炭のいずれか1又は2以上が含有されるようにしたが、残留応力の発生が無視できる溶射層又は引張の残留応力が発生している溶射層に、アパタイト、ゼオライト、及び活性炭のいずれか1又は2以上を含有させるようにしてもよい。これによって、溶射層に被処理物質を吸着させる機能を付与でき、被処理物の濃度が低下しても光触媒機能皮膜上での濃度を高く保持して、被処理物の処理を効率的に行なうことが可能になる。
更に、基材上に自溶合金のアンダーコート層を予め形成してから圧縮の残留応力が発生する溶射層を形成したが、基材上に自溶合金のアンダーコート層を予め形成してから残留応力の発生が無視できる溶射層又は引張の残留応力が発生する溶射層を形成することもできる。これによって、光触媒機能皮膜の酸化作用から基材の酸化を防止し基材の寿命を長くすることで光触媒機能皮膜の寿命を延長でき、基材と溶射層の結合力が高められることで光触媒機能皮膜の保持力が増して光触媒機能皮膜の寿命を延長することができる。
酸素に空気を最大で50%混合した燃焼支燃ガスを使用することでフレーム温度を制御し、溶射距離250mで、ステンレス基板上にアナターゼ型二酸化チタン粒子からなる溶射材料を低温高速溶射法で溶射層(3層の場合40μm、2層の場合30μm、1層の場合20μm)を形成した。フレーム温度は、溶射ガンの噴出ノズルから100mmの位置における温度である。そして、得られた溶射層の残留応力及びアナターゼ残存率、並びに溶射層によるメチレンブルーの分解活性を測定した。なお、残留応力は、日本材料学会X線材料強度部門委員会X線応力測定法標準に基づくsin2Ψ法を用いたX線残留応力測定法を用いた。その結果を表2に示す。
また、比較例1として、同一の溶射材料をステンレス基板上に高温ガスフレーム溶射法で溶射層を形成し、溶射層の残留応力及びアナターゼ残存率、並びに溶射層によるメチレンブルーの分解活性を測定した。その結果も表2に示す。
アナターゼ型二酸化チタン粒子に吸着材として5%のアパタイト、ゼオライト、及び活性炭をそれぞれ添加した溶射材料を調製し、低温高速溶射法でステンレスメッシュ上に、積層数が4層で溶射層を形成した。フレーム温度は1600〜1700℃、溶射距離は300mmである。また、比較例2として、吸着材を添加していないアナターゼ型二酸化チタン粒子からなる溶射材料を低温高速溶射法で溶射層を形成した。フレーム温度は、溶射ガンの噴出ノズルから100mmの位置における温度である。そして、得られた各溶射層による2、4ジニトロフェノール(DNP)の分解試験を4時間行なって、濃度の変化を調べた。その結果を表3に示す。
SS材及び銅板の基板にそれぞれニッケル基自溶合金を、SS材の基板にコバルト基自溶合金を高速フレーム溶射して基板上にアンダーコート層を形成した。次いで、アナターゼ型二酸化チタン粒子からなる溶射材料を、低温高速溶射法(フレーム温度は1600〜1700℃、溶射距離は200mm)によりアンダーコート層上に、積層数がSS材の場合3層、銅板の場合1層で溶射層を形成した。また、比較例3として、SS材及び銅板の基板上に、同一の溶射材料を低温高速溶射法(フレーム温度は1600〜1700℃、溶射距離は200mm)により、積層数がそれぞれ3層、1層で溶射層を形成した。そして、SS材の基板上に形成した溶射層に対して塩水噴霧試験を行ない、銅板の基板上に形成した溶射層については基板との密着性を調べた。その結果を表4に示す。
また、銅板を基板とした場合、自溶合金のアンダーコート層を設けることで、溶射層と基板(銅板)との間の結合力を向上できることが確認でき、銅板上への二酸化チタン溶射層の形成が可能になった。
例えば、本実施の形態では、予め基材に自溶合金のアンダーコート層を形成してから、低温高速溶射法で溶射層を形成したが、基材に低温高速溶射法で溶射層を形成することも可能である。
Claims (4)
- 熱膨張性を有する基材上に、燃料に加える酸素と空気の混合ガスからなる燃焼支援ガスの酸素ガス量に対する燃料量を減少させた、700℃以上1500℃以下の温度の溶射フレームを用い、5nm〜500nmのアナターゼ型二酸化チタン粒子をアルコール又はアルコールと水の混合物を用いて1μm以上100μm以下の粒子に造粒した溶射材料の高速溶射を行なって、圧縮の残留応力が発生し、しかもアナターゼ型二酸化チタンの残存率を80%以上とした溶射層を形成することを特徴とする光触媒機能皮膜の形成方法。
- 請求項1記載の光触媒機能皮膜の形成方法において、前記溶射層は前記基板上に1層又は2層以上の多孔質薄膜を積層して形成することを特徴とする光触媒機能皮膜の形成方法。
- 請求項1又は2記載の光触媒機能皮膜の形成方法において、前記溶射材料には、アパタイト、ゼオライト、及び活性炭のいずれか1又は2以上が含有されていることを特徴とする光触媒機能皮膜の形成方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の光触媒機能皮膜の形成方法において、予め前記基材上に自溶合金のアンダーコート層を高速フレーム溶射してから、前記溶射材料の高速溶射を行なうことを特徴とする光触媒機能皮膜の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006044219A JP4682374B2 (ja) | 2006-02-21 | 2006-02-21 | 光触媒機能皮膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006044219A JP4682374B2 (ja) | 2006-02-21 | 2006-02-21 | 光触媒機能皮膜の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007222720A JP2007222720A (ja) | 2007-09-06 |
JP4682374B2 true JP4682374B2 (ja) | 2011-05-11 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006044219A Active JP4682374B2 (ja) | 2006-02-21 | 2006-02-21 | 光触媒機能皮膜の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4682374B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6055289B2 (ja) * | 2012-11-22 | 2016-12-27 | 株式会社フジコー | 色素増感太陽電池の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2000044241A (ja) * | 1998-07-29 | 2000-02-15 | Yamaha Corp | アナターゼ型チタニア溶着体及びその製造方法 |
JP2000300999A (ja) * | 1999-04-22 | 2000-10-31 | Advanced Materials Processing Inst Kinki Japan | 光触媒機能材とその製造方法 |
JP2002047558A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-15 | Nippon Steel Corp | 光触媒活性を有する金属板及びその製造方法 |
JP2005133164A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Kurashiki Boring Kiko Co Ltd | 超親水性を有するロールとその製造方法 |
JP2005238115A (ja) * | 2004-02-26 | 2005-09-08 | Iwate Prefecture | 光触媒被覆材及び光触媒被覆材の製造方法 |
-
2006
- 2006-02-21 JP JP2006044219A patent/JP4682374B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2005238115A (ja) * | 2004-02-26 | 2005-09-08 | Iwate Prefecture | 光触媒被覆材及び光触媒被覆材の製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007222720A (ja) | 2007-09-06 |
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