JP4679664B2 - Transfer device - Google Patents

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Description

本発明は、例えば、光ディスクの記録層のように、基板上の樹脂に凹凸を形成するための技術に係り、特に、スタンパに形成された凹凸を樹脂に転写するための転写装置に関する。   The present invention relates to a technique for forming irregularities on a resin on a substrate, such as a recording layer of an optical disc, and more particularly to a transfer device for transferring irregularities formed on a stamper to a resin.

CDやDVD等の光ディスクには、ピットと呼ばれる突起により情報が記録されているものがある。このような光ディスクの製造工程においては、基板の表面にピットを形成する作業が不可欠となる。このようなピット列の形成は、ピットに対応する凹凸が形成されたスタンパを型として、凹凸を基板に転写した後、その表面に反射膜を形成することにより行われる。   Some optical discs such as CDs and DVDs have information recorded by projections called pits. In such an optical disk manufacturing process, it is essential to form pits on the surface of the substrate. Such a pit row is formed by using a stamper having irregularities corresponding to the pits as a mold, transferring the irregularities to the substrate, and then forming a reflective film on the surface.

スタンパによる凹凸の転写は、例えば、基板に樹脂を塗布し、その樹脂をスタンパの凹凸面に押し当てて、樹脂を硬化させることにより行われる。硬化後は、基板をスタンパから剥離することにより、微小な凹凸が基板に残ることになる。このようなスタンパには、基板と同様の材質、例えば、ポリカーボネートにより製造され、基板から剥離した後に廃棄されるソフトスタンパと、金属製で、一枚で数万枚の転写を行うメタルスタンパがある。   The unevenness transfer by the stamper is performed, for example, by applying a resin to the substrate, pressing the resin against the uneven surface of the stamper, and curing the resin. After curing, peeling the substrate from the stamper leaves minute irregularities on the substrate. Such stampers include a soft stamper that is made of the same material as the substrate, for example, polycarbonate, and is discarded after being peeled from the substrate, and a metal stamper that is made of metal and transfers tens of thousands of sheets in one piece. .

特開2005−243114号公報JP-A-2005-243114

ところで、樹脂を塗布した基板をスタンパに押し当てる際には、スタンパの凹凸の位置が、基板における記録領域に正確に一致している必要がある。これに対処するため、一般的には、基板とスタンパの中心穴に共通のセンターピンを挿入することにより、両者の位置決めを行っている(特許文献1参照)。   By the way, when the substrate coated with the resin is pressed against the stamper, the position of the unevenness of the stamper needs to exactly match the recording area on the substrate. In order to cope with this, in general, a common center pin is inserted into the center hole of the substrate and the stamper to position both of them (see Patent Document 1).

しかし、基板及びスタンパの中心穴にセンターピンをスムーズに挿入するためには、中心穴とセンターピンとの間には、ある程度の隙間が必要となる。このため、たとえ基板及びスタンパの中心穴をセンターピンに挿入しても、両者には、僅かにずれが生じる可能性がある。また、基板とスタンパのいずれか一方を固定していたとしても、他方はセンターピンと中心穴と間の隙間によって、ずれが生じることになる。   However, in order to smoothly insert the center pin into the center hole of the substrate and the stamper, a certain gap is required between the center hole and the center pin. For this reason, even if the center hole of the substrate and the stamper is inserted into the center pin, there is a possibility that a slight deviation occurs between them. Even if one of the substrate and the stamper is fixed, the other is displaced due to the gap between the center pin and the center hole.

本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するために提案されたものであり、その目的は、スタンパの凹凸を、基板の正確な位置に転写できる転写装置を提供することにある。   The present invention has been proposed to solve the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a transfer apparatus capable of transferring the unevenness of the stamper to an accurate position of the substrate. .

上記のような目的を達成するため、本発明は、基板上の樹脂にスタンパの凹凸面を接触させ、前記樹脂を硬化させることによって、前記樹脂に凹凸を転写する転写装置において、前記スタンパにおける凹凸面と反対側の面を保持する押圧プレートと、前記基板における樹脂と反対側の面を支持する支持台と、前記基板上の樹脂と前記スタンパとが接触する接触位置と、前記基板上の樹脂から前記スタンパが剥離する離間位置との間で、前記押圧プレートを移動させる駆動機構と、前記樹脂と前記スタンパとが接触した状態で、前記押圧プレートに保持された前記スタンパを、接触面と平行な方向に移動させることにより、前記基板及び前記スタンパの相対位置を合わせる位置決め手段と、前記位置決め手段による位置決め後に、前記樹脂を硬化させる硬化手段と、を有することを特徴とする。なお、押圧プレートが、前記基板における樹脂と反対側の面を保持し、支持台が、前記スタンパにおける凹凸面と反対側の面を支持し、位置決め手段が、前記支持台に支持された前記スタンパを、接触面と平行な方向に移動させることにより、前記基板及び前記スタンパの相対位置を合わせる態様も、本発明の一態様である。 To achieve the above object, the present invention is, resin contacting the surface of the stamper on the substrate, by curing the resin, in the transfer apparatus for transferring unevenness on the resin, irregularities in the stamper A pressing plate that holds the surface opposite to the surface; a support that supports the surface of the substrate opposite to the resin; a contact position where the resin on the substrate and the stamper contact; and a resin on the substrate The stamper held by the pressing plate in parallel with the contact surface in a state in which the resin and the stamper are in contact with the drive mechanism that moves the pressing plate between the stamper and the separation position where the stamper peels a by moving in the direction, and positioning means to align the relative position of the substrate and the stamper, after positioning by the positioning means, the hardness of the resin It characterized by having a a curing means for. The pressing plate holds the surface of the substrate opposite to the resin, the support base supports the surface of the stamper opposite to the uneven surface, and the positioning means is the stamper supported by the support base. A mode in which the relative positions of the substrate and the stamper are aligned by moving the substrate in a direction parallel to the contact surface is also an aspect of the present invention.

以上のような発明では、位置決め手段によって、スタンパを接触面に平行な方向に移動させることにより、基板とスタンパとの中心等の相対的な位置合わせが可能となるので、基板の正確な位置に凹凸を転写できる。
特に、位置合わせ後の基板とスタンパとの相対移動がないので、正確な位置決めが可能となる。
さらに、スタンパの保持、基板に対するスタンパの位置決め、基板に対するスタンパの押し付け、樹脂の硬化、スタンパの剥離を、一箇所で行うことができるので、構造及び工程を簡略化できる。
In the invention as described above, the positioning means moves the stamper in a direction parallel to the contact surface, thereby enabling relative alignment of the center of the substrate and the stamper, etc. Unevenness can be transferred.
In particular, since there is no relative movement between the substrate and the stamper after alignment, accurate positioning is possible.
Moreover, the holding of the stamper, the positioning of the stamper to the substrate, the pressing of the stamper to the substrate, curing the resin, the release of the stamper, it is possible to perform in Ichi箇plant can be simplified structure and process.

他の態様は、前記硬化手段は、前記基板を透過して、前記樹脂に電磁波を照射可能となる位置に設けられていることを特徴とする。 Another aspect is the curing means is transmitted through said substrate, characterized in that provided in the irradiation allows a position of the electromagnetic waves to the resin.

以上のような態様では、スタンパを基板の樹脂に押し付けた後、基板側から電磁波を照射することにより、樹脂を硬化させることができる。 In the above embodiments, the resin can be cured by irradiating electromagnetic waves from the substrate side after pressing the stamper against the resin of the substrate.

前記押圧プレート、前記支持台及び前記位置決め手段は、回転により前記基板及び前記スタンパを移動させるターンテーブルに設けられていることを特徴とする。 The press plate, the support base, and the positioning means are provided on a turntable that moves the substrate and the stamper by rotation.

以上のような態様では、ターンテーブルの回転に従って、基板及びスタンパを移動させながら、基板に対するスタンパの位置決め、スタンパの凹凸の樹脂への転写、樹脂の硬化を行うことができる。   In the aspect as described above, the stamper can be positioned with respect to the substrate, the stamper unevenness can be transferred to the resin, and the resin can be cured while the substrate and the stamper are moved according to the rotation of the turntable.

他の態様は、硬化した前記樹脂から前記スタンパを剥離する際に、前記基板及び前記スタンパの少なくとも一方を固定する固定手段を有することを特徴とする。   Another aspect is characterized by having fixing means for fixing at least one of the substrate and the stamper when the stamper is peeled from the cured resin.

以上のような態様では、押圧プレートによってスタンパと樹脂とを剥離する際に、基板及びスタンパの一方が固定手段によって固定されるので、不完全な剥離を防止できる。 In the above aspect, when the stamper and the resin are peeled off by the pressing plate , one of the substrate and the stamper is fixed by the fixing means, so that incomplete peeling can be prevented.

他の態様は、前記固定手段は、前記押圧プレート若しくは前記支持台とは独立に移動可能に設けられ、前記基板が有する中心穴を押さえるピンを有することを特徴とする。
以上のような態様では、スタンパと樹脂とを剥離する際に、基板はピンによって固定されるので、不完全な剥離を防止できる。
In another aspect, the fixing means is provided so as to be movable independently of the pressing plate or the support base, and has a pin for pressing a central hole of the substrate.
In the above aspect, when the stamper and the resin are peeled off, the substrate is fixed by the pins, so that incomplete peeling can be prevented.

他の態様は、前記樹脂に前記スタンパを接触させる際に、周囲の空間を真空引き可能となるように密閉する密閉手段を有し、前記位置決め手段の可動部は、前記密閉手段により密閉される空間の外部に設けられていることを特徴とする。   Another aspect has a sealing means for sealing the surrounding space so that the surrounding space can be evacuated when the stamper is brought into contact with the resin, and the movable portion of the positioning means is sealed by the sealing means. It is provided outside the space.

以上のような態様では、位置決め手段の可動部が、真空となる密閉空間の外部に配置されているので、潤滑油等に高価な真空用のものを使用する必要がなくなる。   In the above aspect, since the movable part of the positioning means is disposed outside the sealed space that becomes a vacuum, it is not necessary to use an expensive vacuum for the lubricating oil or the like.

他の態様は、前記基板及び前記スタンパの位置を検出する検出手段と、前記検出手段により検出された位置に基づいて、前記位置決め手段を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。   Another aspect is characterized by comprising detection means for detecting the positions of the substrate and the stamper, and control means for controlling the positioning means based on the position detected by the detection means.

以上のような態様では、基板及びスタンパの位置検出に基づいて、両者を正確に位置決めすることができる。   In the above aspect, based on the position detection of a board | substrate and a stamper, both can be positioned correctly.

以上、説明したように、本発明によれば、スタンパの凹凸を、基板の正確な位置に転写できる転写装置を提供することができる。   As described above, according to the present invention, it is possible to provide a transfer device capable of transferring the unevenness of the stamper to an accurate position of the substrate.

本発明の第1の実施形態を示す簡略構成図である。It is a simplified lineblock diagram showing a 1st embodiment of the present invention. 図1の実施形態による転写工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the transfer process by embodiment of FIG. 図1の実施形態における位置決め装置を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the positioning device in embodiment of FIG. 図1の実施形態における基板の位置検出を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the position detection of the board | substrate in embodiment of FIG. 図1の実施形態における位置決め工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the positioning process in embodiment of FIG. 図1の実施形態における押圧装置を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the press apparatus in embodiment of FIG. 図1の実施形態における押圧工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the press process in embodiment of FIG. 図1の実施形態における紫外線照射工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the ultraviolet irradiation process in embodiment of FIG. 図1の実施形態における剥離工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the peeling process in embodiment of FIG. 本発明の第2の実施形態を示す簡略構成図である。It is a simplified block diagram which shows the 2nd Embodiment of this invention. 図10の実施形態による転写工程を示すフローチャートである。11 is a flowchart showing a transfer process according to the embodiment of FIG. 図10の実施形態における押圧装置を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the press apparatus in embodiment of FIG. 図10の実施形態における基板の位置検出を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the position detection of the board | substrate in embodiment of FIG. 図10の実施形態における位置決め工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the positioning process in embodiment of FIG. 図10の実施形態における押圧工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the press process in embodiment of FIG. 図10の実施形態における剥離工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the peeling process in embodiment of FIG. 図10の実施形態における搬出工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the carrying-out process in embodiment of FIG. 本発明の他の実施形態を示す簡略構成図である。It is a simplified block diagram which shows other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態を示す簡略構成図である。It is a simplified block diagram which shows other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態の位置検出工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the position detection process of other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態の位置検出工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the position detection process of other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態の位置検出工程及び位置決め工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the position detection process and positioning process of other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態の位置検出工程及び位置決め工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the position detection process and positioning process of other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態の位置決め工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the positioning process of other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態の位置決め工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the positioning process of other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態の位置決め工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the positioning process of other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態の紫外線照射工程を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the ultraviolet irradiation process of other embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…搬送部
2…塗布部
3…転写部
3A…位置決めポジション
3B…押圧ポジション
3C…硬化ポジション
3D…搬出ポジション
11…アーム
21…アーム
22…スピン塗布装置
31…ターンテーブル
31a…ベース
31b,33c…ピン
32,33d…位置決め装置
32a…支持台
32b…駆動機構
32c…CCDカメラ
33…押圧装置
33a…押圧プレート
33b…真空チャンバ
34…紫外線照射装置
35…載置台
35a…平板
P…基板
R…樹脂
S…スタンパ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conveyance part 2 ... Application | coating part 3 ... Transfer part 3A ... Positioning position 3B ... Pressing position 3C ... Curing position 3D ... Unloading position 11 ... Arm 21 ... Arm 22 ... Spin coating device 31 ... Turntable 31a ... Base 31b, 33c ... Pin 32, 33d ... Positioning device 32a ... Supporting base 32b ... Drive mechanism 32c ... CCD camera 33 ... Pressing device 33a ... Pressing plate 33b ... Vacuum chamber 34 ... Ultraviolet irradiation device 35 ... Mounting table 35a ... Flat plate P ... Substrate R ... Resin S ... Stampa

次に、本発明の実施の形態(以下、実施形態と呼ぶ)について、図面を参照して具体的に説明する。
第1の参考例
[構成]
まず、実施形態の前提となる転写装置(以下、本装置と呼ぶ)の第1の参考例構成を、図1、図3〜9を参照して説明する。なお、本装置は、光ディスクの製造装置の一部を構成するものであり、本装置の上流工程に配設される基板の成型装置、本装置の下流工程に配設される反射膜の形成装置、基板の貼合装置、さらに各装置間で基板を受け渡す機構等については、公知のあらゆる技術を適用可能であり、説明を省略する。
Next, embodiments of the present invention (hereinafter referred to as embodiments) will be specifically described with reference to the drawings.
[ First Reference Example ]
[Constitution]
First, the configuration of a first reference example of a transfer apparatus (hereinafter referred to as the present apparatus) which is a premise of the embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 3 to 9. The apparatus constitutes a part of an optical disk manufacturing apparatus. A substrate molding apparatus disposed in an upstream process of the apparatus, and a reflection film forming apparatus disposed in a downstream process of the apparatus. Any known technique can be applied to the substrate bonding apparatus, the mechanism for transferring the substrate between the apparatuses, and the description thereof is omitted.

すなわち、本装置は、図1に示すように、光ディスク用の基板Pを投入、排出するための搬送部1と、基板P上に転写用の樹脂を塗布するための塗布部2と、基板P上に塗布された樹脂に、スタンパSの凹凸を押し付けて硬化させるための転写部3とを有している。   That is, as shown in FIG. 1, the apparatus includes a transport unit 1 for loading and unloading a substrate P for an optical disc, a coating unit 2 for coating a transfer resin on the substrate P, and a substrate P. A transfer portion 3 for pressing and curing the unevenness of the stamper S to the resin applied thereon is provided.

搬送部1は、図示しない駆動機構により水平方向に回転するアーム11の端部に、基板Pを把持(若しくは吸着)することにより、基板Pを搬送する手段である。前工程から投入された基板Pは、アーム11の端部に把持されて、塗布部2に渡される。また、アーム11は、転写部3において樹脂に凹凸が転写された基板Pを受け取って、次工程へ搬出する。   The transport unit 1 is means for transporting the substrate P by gripping (or adsorbing) the substrate P to the end of the arm 11 that rotates in the horizontal direction by a drive mechanism (not shown). The substrate P put in from the previous process is held by the end of the arm 11 and transferred to the coating unit 2. Further, the arm 11 receives the substrate P on which the unevenness is transferred to the resin in the transfer unit 3 and carries it out to the next process.

塗布部2は、図示しない駆動機構により水平方向に回転するアーム21と、基板P上に樹脂をスピンコートするスピン塗布装置22とを有している。アーム21は、アーム11から渡された基板Pを端部に把持(若しくは吸着)して、スピン塗布装置22へ載置し、スピンコート後の基板Pを転写部3へ受け渡す。なお、アーム21の端部は、スピンコート後の基板Pを反転させて転写部3に渡すように、回転可能に構成されている。   The coating unit 2 includes an arm 21 that rotates in a horizontal direction by a driving mechanism (not shown), and a spin coating device 22 that spin-coats resin on the substrate P. The arm 21 holds (or adsorbs) the substrate P delivered from the arm 11 at the end, places the substrate P on the spin coating device 22, and delivers the substrate P after spin coating to the transfer unit 3. Note that the end portion of the arm 21 is configured to be rotatable so that the substrate P after spin coating is reversed and passed to the transfer unit 3.

スピン塗布装置22は、図示しないターンテーブルに載置した基板P上に、供給装置から供給された樹脂を滴下装置によって滴下し、ターンテーブルを高速回転させることによって、遠心力で基板P上に樹脂を展延させる装置である。   The spin coating device 22 drops resin supplied from a supply device onto a substrate P placed on a turntable (not shown) by a dropping device, and rotates the turntable at a high speed, whereby the resin is applied onto the substrate P by centrifugal force. It is a device that spreads.

転写部3は、大径のターンテーブル31を回転させることによって、基板Pを移動させるとともに、基板PとスタンパSとの位置決め、樹脂へのスタンパSの押圧、樹脂の硬化、基板Pの搬出を行う装置である。それぞれの工程に対応する基板Pの位置は、位置決めポジション3A、押圧ポジション3B、硬化ポジション3C、搬出ポジション3Dとなっている。なお、ターンテーブル31は、図示しない駆動機構によって、上記のような各ポジションに合わせて間欠回転する。   The transfer unit 3 moves the substrate P by rotating the large-diameter turntable 31, and also positions the substrate P and the stamper S, presses the stamper S against the resin, cures the resin, and unloads the substrate P. It is a device to perform. The position of the substrate P corresponding to each process is a positioning position 3A, a pressing position 3B, a curing position 3C, and a carry-out position 3D. In addition, the turntable 31 rotates intermittently according to each position as described above by a driving mechanism (not shown).

ターンテーブル31上には、図3に示すように、サセプタ状のベース31aが支持されている。ベース31aの中心には、ピン31bが図示しない駆動機構によって昇降可能に設けられている。ピン31bの先端には、図4に示すように、塗布部2のアーム21によって搬送され、樹脂Rが下になるように反転された基板Pの中心穴が載置される(第1の保持手段)。   As shown in FIG. 3, a susceptor-like base 31 a is supported on the turntable 31. At the center of the base 31a, a pin 31b is provided so as to be moved up and down by a driving mechanism (not shown). As shown in FIG. 4, the center hole of the substrate P which is conveyed by the arm 21 of the coating unit 2 and is inverted so that the resin R is placed on the tip of the pin 31 b is placed (first holding). means).

また、ベース31a上には、位置決め装置32が設けられている。この位置決め装置32は、支持台32a、駆動機構32b及びCCDカメラ32cを備えている。支持台32aは、スタンパSが載置される台である。支持台32aのスタンパSの載置面は磁石になっており、ニッケル等の金属製のスタンパSが吸着保持されるように構成されている(第2の保持手段)。なお、支持台32aには、スタンパSの周囲を把持する把持具が設けられ、磁石による吸着とともに、スタンパSのずれを防止している(固定手段)。   A positioning device 32 is provided on the base 31a. The positioning device 32 includes a support base 32a, a drive mechanism 32b, and a CCD camera 32c. The support table 32a is a table on which the stamper S is placed. The mounting surface of the stamper S of the support base 32a is a magnet, and is configured to attract and hold a metal stamper S such as nickel (second holding means). In addition, the support stand 32a is provided with a gripping tool for gripping the periphery of the stamper S, and prevents the stamper S from being displaced (fixing means) while being attracted by a magnet.

駆動機構32bは、図5に示すように、ピン31b上の基板Pに対して、支持台32a上のスタンパSを位置決めする機構である。この駆動機構32bは、ピエゾ素子等の圧電素子への通電により、支持台32aを、基板PとスタンパSとの接触面に平行な水平方向(X−Y軸方向)に移動させることができる。CCDカメラ32cは、基板P及びスタンパSに位置決め用に付されたアラインメントマークを検出する手段である。駆動機構32bの制御は、基板P及びスタンパSのアラインメントマークを、CCDカメラ32cにより検出し、双方の中心が一致するように、制御装置が圧電素子への通電を制御することにより行う。   As shown in FIG. 5, the drive mechanism 32b is a mechanism for positioning the stamper S on the support base 32a with respect to the substrate P on the pin 31b. The drive mechanism 32b can move the support base 32a in a horizontal direction (XY axis direction) parallel to the contact surface between the substrate P and the stamper S by energizing a piezoelectric element such as a piezoelectric element. The CCD camera 32c is means for detecting alignment marks attached to the substrate P and the stamper S for positioning. The drive mechanism 32b is controlled by detecting the alignment marks of the substrate P and the stamper S with the CCD camera 32c, and the control device controls the energization to the piezoelectric element so that the centers of both coincide.

なお、上記のように、ピン31bの上端には基板Pの中心穴が載置されるため、ピン31bの径は、基板Pの中心穴よりも大きい。そして、スタンパSにも、中心穴が形成されており、ピン31bはこの中心穴を通して昇降する。このように、基板Pの中心穴よりも大きい径のピン31bを昇降可能とするため、スタンパSの中心穴の径は、基板Pの中心穴の径よりも大きくなっている。通常の光ディスク用の基板Pの中心穴径(内径)は15mmであり、記録領域の最小径は23mmである。そこで、例えば、スタンパSの内径を22mmとし、ピン31bの径を17mmとすることが考えられる。なお、この場合、ピン31bの径は、15mmよりも大きく、22mmより小さい範囲であればよい。   As described above, since the center hole of the substrate P is placed on the upper end of the pin 31b, the diameter of the pin 31b is larger than the center hole of the substrate P. The stamper S is also formed with a center hole, and the pin 31b moves up and down through the center hole. Thus, the diameter of the central hole of the stamper S is larger than the diameter of the central hole of the substrate P so that the pin 31b having a diameter larger than that of the central hole of the substrate P can be moved up and down. The center hole diameter (inner diameter) of a normal optical disk substrate P is 15 mm, and the minimum diameter of the recording area is 23 mm. Therefore, for example, it is conceivable that the inner diameter of the stamper S is 22 mm and the diameter of the pin 31b is 17 mm. In this case, the diameter of the pin 31b may be in a range larger than 15 mm and smaller than 22 mm.

押圧ポジション3Bには、図6、図7に示すように、押圧装置33が配設されている。押圧装置33は、基板Pを押圧する押圧プレート33aと、その周囲の空間を密閉する真空チャンバ33bとを有している。押圧プレート33aは、図示しない駆動機構によって昇降可能に設けられ、下降することにより基板PをスタンパSに押し付ける。真空チャンバ33bは、図示しない駆動機構によって昇降可能に設けられ、下降することにより、ベース31a上の空間を密閉する。この真空チャンバ33bには、図示しない真空源が接続されており、内部の密閉空間を真空にすることができる。   As shown in FIGS. 6 and 7, a pressing device 33 is disposed at the pressing position 3B. The pressing device 33 includes a pressing plate 33a that presses the substrate P and a vacuum chamber 33b that seals the surrounding space. The pressing plate 33a is provided so as to be movable up and down by a driving mechanism (not shown), and presses the substrate P against the stamper S by descending. The vacuum chamber 33b is provided so as to be movable up and down by a drive mechanism (not shown), and is lowered to seal the space on the base 31a. A vacuum source (not shown) is connected to the vacuum chamber 33b, and the internal sealed space can be evacuated.

硬化ポジション3Cには、図8に示すように、紫外線照射装置34が配設されている。この紫外線照射装置34は、スタンパSに押し付けられた基板Pの上から紫外線を照射することにより、凹凸が転写された樹脂を硬化させる手段である。硬化後の基板Pは、図9に示すように、ピン31bを上昇させることにより、スタンパSから剥離させることができる。   As shown in FIG. 8, an ultraviolet irradiation device 34 is disposed at the curing position 3C. The ultraviolet irradiation device 34 is a means for curing the resin having the concavo-convex transferred thereon by irradiating the substrate P pressed against the stamper S with ultraviolet rays. As shown in FIG. 9, the cured substrate P can be peeled off from the stamper S by raising the pins 31b.

なお、搬送部1、塗布部2及び転写部3における各駆動機構の動作タイミングは、制御装置によって制御される。この制御装置は、例えば、専用の電子回路若しくは所定のプログラムで動作するコンピュータ等によって実現できる。従って、以下に説明する手順で本装置の動作を制御するためのコンピュータプログラム及びこれを記録した記録媒体も、本発明の一態様である。   The operation timing of each driving mechanism in the transport unit 1, the coating unit 2, and the transfer unit 3 is controlled by a control device. This control device can be realized by, for example, a dedicated electronic circuit or a computer operating with a predetermined program. Therefore, a computer program for controlling the operation of the apparatus according to the procedure described below and a recording medium recording the computer program are also one aspect of the present invention.

[作用]
以上のような本装置によって、基板P上の樹脂にスタンパSの凹凸を転写する手順を、図2のフローチャートに従って、図1、図3〜9を参照して説明する。すなわち、図1に示すように、前工程において成型された基板Pは、搬送部1に投入され、アーム11からアーム21に渡される(ステップ201)。そして、アーム21は、基板Pをスピン塗布装置22のターンテーブル上に載置し、ここで、基板Pにスピンコートによって樹脂が展延される(ステップ202)。
[Action]
A procedure for transferring the unevenness of the stamper S to the resin on the substrate P by the apparatus as described above will be described with reference to FIGS. 1 and 3 to 9 according to the flowchart of FIG. That is, as shown in FIG. 1, the substrate P molded in the previous process is put into the transport unit 1 and transferred from the arm 11 to the arm 21 (step 201). Then, the arm 21 places the substrate P on the turntable of the spin coating device 22, and the resin is spread on the substrate P by spin coating (step 202).

一方、図3に示すように、位置決め装置32においては、CCDカメラ32cによってスタンパSのアラインメントマークが検出される(ステップ203)。そして、図4に示すように、樹脂Rが塗布された基板Pが、アーム21によって反転されて、位置決め装置32のピン31bに載置される(ステップ204)。このとき、基板Pのアラインメントマークが、CCDカメラ32cによって検出される(ステップ205)。さらに、図5に示すように、位置決め装置32の駆動機構32bが、検出されたアラインメントマークに基づいて、スタンパSの中心が基板Pの中心に一致するように、支持台32aを移動させて位置決めを行う(ステップ206)。   On the other hand, as shown in FIG. 3, in the positioning device 32, the alignment mark of the stamper S is detected by the CCD camera 32c (step 203). As shown in FIG. 4, the substrate P coated with the resin R is inverted by the arm 21 and placed on the pin 31b of the positioning device 32 (step 204). At this time, the alignment mark on the substrate P is detected by the CCD camera 32c (step 205). Further, as shown in FIG. 5, the drive mechanism 32 b of the positioning device 32 moves and positions the support base 32 a so that the center of the stamper S coincides with the center of the substrate P based on the detected alignment mark. (Step 206).

次に、ターンテーブル31の回転によって、基板PとスタンパSを、押圧ポジション3Bに移動させる(ステップ207)。押圧ポジション3Bにおいては、図6に示すように、真空チャンバ33bを下降させて、ベース31a上の空間を密閉する(ステップ208)。そして、真空源を作動させて、真空チャンバ33b内を真空引きする(ステップ209)。さらに、図7に示すように、押圧プレート33aを下降させることによって、基板Pを下方に押し下げる。これにより、基板Pとともにピン31bも下降して、基板Pの樹脂RがスタンパSの凹凸面に押し付けられる(ステップ210)。   Next, the substrate P and the stamper S are moved to the pressing position 3B by the rotation of the turntable 31 (step 207). In the pressing position 3B, as shown in FIG. 6, the vacuum chamber 33b is lowered to seal the space on the base 31a (step 208). Then, the vacuum source is operated to evacuate the vacuum chamber 33b (step 209). Further, as shown in FIG. 7, the substrate P is pushed downward by lowering the pressing plate 33a. As a result, the pin 31b is lowered together with the substrate P, and the resin R of the substrate P is pressed against the uneven surface of the stamper S (step 210).

その後、大気開放し、真空チャンバ33b及び押圧プレート33aを上昇させて(ステップ211)、ターンテーブル31の回転によって、基板PとスタンパSを、硬化ポジション3Cに移動させる(ステップ212)。硬化ポジション3Cにおいては、図8に示すように、紫外線照射装置34によって、基板Pの上から紫外線を照射することにより、樹脂Rを硬化させる(ステップ213)。   Thereafter, the atmosphere is released, the vacuum chamber 33b and the pressing plate 33a are raised (step 211), and the substrate P and the stamper S are moved to the curing position 3C by the rotation of the turntable 31 (step 212). In the curing position 3C, as shown in FIG. 8, the resin R is cured by irradiating ultraviolet rays from above the substrate P by the ultraviolet irradiation device 34 (step 213).

さらに、ターンテーブル31の回転によって、基板PとスタンパSを搬出ポジション3Dに移動させる(ステップ214)。搬出ポジション3Dにおいては、図9に示すように、ピン31bを上昇させることによって、基板PをスタンパSから剥離させる(ステップ215)。このとき、スタンパSは、磁石による吸着と把持具による把持によって固定されているので、基板Pのみを上昇させて、スタンパSから樹脂Rを剥離させることができる。これにより、凹凸を有した樹脂R付の基板Pが作製される。そして、搬送部1のアーム11によって、基板Pを次工程に搬出する(ステップ216)。   Further, the substrate P and the stamper S are moved to the carry-out position 3D by the rotation of the turntable 31 (step 214). At the carry-out position 3D, as shown in FIG. 9, the substrate P is separated from the stamper S by raising the pin 31b (step 215). At this time, since the stamper S is fixed by suction with a magnet and gripping with a gripping tool, only the substrate P can be raised and the resin R can be peeled from the stamper S. Thereby, the board | substrate P with the resin R which has an unevenness | corrugation is produced. And the board | substrate P is carried out to the following process with the arm 11 of the conveyance part 1 (step 216).

[効果]
以上のような参考例によれば、位置決め装置32によって、基板P及びスタンパSを接触面に平行な方向に移動させることにより、互いの中心等の位置決めが可能となるので、基板Pの正確な位置に凹凸を転写できる。特に、基板P及びスタンパSの位置決め用のアラインメントマークを、CCDカメラ32cで検出することによって、両者を正確に位置決めすることができる。
[effect]
According to the reference example as described above, since the positioning device 32 moves the substrate P and the stamper S in the direction parallel to the contact surface, the center of each other can be positioned. Unevenness can be transferred to the position. In particular, by detecting the alignment mark for positioning the substrate P and the stamper S with the CCD camera 32c, both can be accurately positioned.

また、ピン31bは、スタンパSを樹脂Rに接触させる前に基板Pを保持しておくことができるとともに、樹脂Rの硬化後にスタンパSから基板Pを剥離させることもでき、装置を簡略化できる。特に、ピン31bによってスタンパSと樹脂Rとを剥離する際に、スタンパSが磁石及び把持具によって固定されているので、不完全な剥離を防止できる。   Further, the pin 31b can hold the substrate P before the stamper S is brought into contact with the resin R, and can also peel the substrate P from the stamper S after the resin R is cured, thereby simplifying the apparatus. . In particular, when the stamper S and the resin R are peeled off by the pin 31b, the stamper S is fixed by the magnet and the gripping tool, so that incomplete peeling can be prevented.

さらに、ターンテーブル31の回転に従って、基板P及びスタンパSを移動させるとともに、基板Pに対するスタンパSの位置決め、スタンパSの凹凸の樹脂Rへの転写、樹脂Rの硬化を行うことができる。   Furthermore, the substrate P and the stamper S can be moved according to the rotation of the turntable 31, the stamper S can be positioned with respect to the substrate P, the unevenness of the stamper S can be transferred to the resin R, and the resin R can be cured.

第2の参考例
[構成]
本発明の第2の参考例を、図10、図12〜17を参照して説明する。本参考例は、上記の第1の参考例と基本的には同様の構成である。但し、本参考例においては、スタンパSが上で基板Pが下となり、押圧ポジション3Bにおいて、位置決め、転写、硬化を行うことができるように構成されている点が異なる(図10参照)。
[ Second Reference Example ]
[Constitution]
A second reference example of the present invention will be described with reference to FIGS. 10 and 12 to 17. This reference example has basically the same configuration as the first reference example . However, this reference example is different in that the stamper S is on the top and the substrate P is on the bottom, and the pressing position 3B can be positioned, transferred, and cured (see FIG. 10).

すなわち、本実施形態においては、図12に示すように、ターンテーブル31上の基板Pが載置される載置台35が、石英等の紫外線を透過する材質で形成された平板35aを有している。スタンパS及び基板Pのアラインメントマークを検出するCCDカメラ32cは、この平板35aの下方に配置されている。   That is, in this embodiment, as shown in FIG. 12, the mounting table 35 on which the substrate P on the turntable 31 is mounted has a flat plate 35a formed of a material that transmits ultraviolet rays such as quartz. Yes. The CCD camera 32c for detecting the alignment marks on the stamper S and the substrate P is disposed below the flat plate 35a.

一方、転写部3における押圧プレート33aには、スタンパSが支持されるように構成されている。押圧プレート33aにおけるスタンパSの支持面は、磁石になっており、スタンパSが吸着保持されるように構成されている(第2の保持手段)。なお、押圧プレート33aには、スタンパSの周囲を把持する把持具が設けられ、磁石による吸着とともに、スタンパSのずれを防止している(固定手段)。そして、図14に示すように、押圧プレート33aにおけるスタンパSの支持面に、位置決め装置33d(上記の駆動機構32bと同様)を設けることによって、スタンパSが水平方向に移動することにより、基板Pに対してスタンパSを位置決め可能に構成されている。 On the other hand, the stamper S in the transfer unit 3 is configured to support the stamper S. The support surface of the stamper S in the pressing plate 33a is a magnet, and is configured so that the stamper S is attracted and held (second holding means). Note that the pressing plate 33a is provided with a gripping tool for gripping the periphery of the stamper S, and prevents the stamper S from being displaced together with attraction by a magnet (fixing means). Then, as shown in FIG. 14, the support surface of the stamper S in pressing plate 33a, by providing the positioning device 33d (as above driving mechanism 32 b), by the stamper S is moved in the horizontal direction, the substrate P The stamper S is configured to be positionable with respect to.

また、押圧プレート33aの中心には、ピン33cが、図示しない駆動機構により、押圧プレート33aとは独立に昇降可能に設けられている。このピン33cは、図16に示すように、下降することにより先端が基板Pの中心穴を押さえ、基板Pのずれを防止できるように構成されている(固定手段)。さらに、載置台35の下方には、図15に示すように、紫外線照射装置34が配設されている。この紫外線照射装置34からの紫外線は、平板35a及び基板Pを透過して樹脂Rに照射される。   In addition, a pin 33c is provided at the center of the pressing plate 33a so as to be lifted and lowered independently of the pressing plate 33a by a driving mechanism (not shown). As shown in FIG. 16, the pin 33 c is configured so that the tip can hold the center hole of the substrate P and prevent the substrate P from being displaced by being lowered (fixing means). Further, an ultraviolet irradiation device 34 is disposed below the mounting table 35 as shown in FIG. The ultraviolet rays from the ultraviolet irradiation device 34 pass through the flat plate 35 a and the substrate P and are irradiated to the resin R.

[作用]
以上のような本実施形態の作用を、図11のフローチャートに従って、図10、図12〜17を参照して説明する。なお、本実施形態においては、押圧ポジション3Bの押圧装置33において、位置決めと転写が行われるが、それ以外の工程については、上記の第1の実施形態と同様であるため、説明を簡略化する。
[Action]
The operation of the present embodiment as described above will be described with reference to FIGS. 10 and 12 to 17 according to the flowchart of FIG. In the present embodiment, positioning and transfer are performed in the pressing device 33 at the pressing position 3B, but the other steps are the same as those in the first embodiment, so the description is simplified. .

まず、図12に示すように、押圧装置33におけるCCDカメラ32cによって、スタンパSのアラインメントマークが検出される(ステップ1101)。一方、前工程から投入され、スピン塗布装置22において樹脂Rが塗布された基板Pは、図13に示すように、樹脂Rを上として載置台35の平板35aに載置され、ターンテーブル31の回転によって、押圧ポジション3Bに移動する(ステップ1102〜1104)。このとき、CCDカメラ32cによって、基板Pのアラインメントマークが検出される(ステップ1105)。   First, as shown in FIG. 12, the alignment mark of the stamper S is detected by the CCD camera 32c in the pressing device 33 (step 1101). On the other hand, as shown in FIG. 13, the substrate P that is loaded from the previous process and coated with the resin R in the spin coating device 22 is placed on the flat plate 35 a of the mounting table 35 with the resin R facing up, By rotation, it moves to the pressing position 3B (steps 1102 to 1104). At this time, the alignment mark on the substrate P is detected by the CCD camera 32c (step 1105).

次に、図14に示すように、検出されたアラインメントマークに基づいて、スタンパSと基板Pとの中心が合うように、押圧プレート33aにおけるスタンパSの支持面を位置決め装置33dによって移動させて位置決めを行う(ステップ1106)。そして、図15に示すように、真空チャンバ33bを下降させて、ベース31a上の空間を密閉する(ステップ1107)。さらに、真空源を作動させて、真空チャンバ33b内を真空引きする(ステップ1108)。 Next, as shown in FIG. 14, based on the detected alignment mark, the support surface of the stamper S on the pressing plate 33a is moved by the positioning device 33d so that the centers of the stamper S and the substrate P are aligned. (Step 1106). Then, as shown in FIG. 15, the vacuum chamber 33b is lowered to seal the space on the base 31a (step 1107). Further, the vacuum source is operated to evacuate the vacuum chamber 33b (step 1108).

次に、押圧プレート33aを下降させることによって、スタンパSを基板P上の樹脂Rに押し付ける(ステップ1109)。この状態で、紫外線照射装置34から紫外線を照射すると、樹脂Rが硬化する(ステップ1110)。   Next, the stamper S is pressed against the resin R on the substrate P by lowering the pressing plate 33a (step 1109). In this state, when the ultraviolet ray is irradiated from the ultraviolet ray irradiation device 34, the resin R is cured (step 1110).

硬化後は、図16に示すように、ピン33cを下降させて基板Pを押えるとともに(ステップ1111)、大気開放し、真空チャンバ33b及び押圧プレート33aを上昇させることにより、スタンパSを基板Pから剥離させる(ステップ1112)。これにより、凹凸を有した樹脂R付の基板Pが作製される。そして、図17に示すように、ピン31bを上昇させて基板Pを解放し、ターンテーブル31の回転により、基板Pを搬出ポジションに移動させて(ステップ1113)、搬送部1のアーム11によって、基板Pを次工程に搬出する(ステップ1114)。   After the curing, as shown in FIG. 16, the pin 33c is lowered to press the substrate P (step 1111), the atmosphere is released, and the vacuum chamber 33b and the pressing plate 33a are raised to remove the stamper S from the substrate P. Strip (step 1112). Thereby, the board | substrate P with the resin R which has an unevenness | corrugation is produced. Then, as shown in FIG. 17, the pins 31 b are lifted to release the substrate P, and the turntable 31 is rotated to move the substrate P to the unloading position (step 1113). The substrate P is carried out to the next process (step 1114).

[効果]
以上のような本実施形態によれば、スタンパSの保持、基板Pに対するスタンパSの位置決め、基板Pに対するスタンパSの押し付け、樹脂Rの硬化、スタンパSの剥離を、一箇所の押圧装置33で行うことができるので、構造及び工程を簡略化できる。
[effect]
According to the present embodiment as described above, the stamper S is held, the stamper S is positioned with respect to the substrate P, the stamper S is pressed against the substrate P, the resin R is cured, and the stamper S is peeled off by one pressing device 33. Since it can be performed, the structure and the process can be simplified.

また、押圧プレート33aの上昇によってスタンパSと樹脂Rとを剥離する際に、スタンパS及び基板Pは、磁石、把持具及びピン33c等の固定手段によって固定されるので、不完全な剥離を防止できる。   Further, when the stamper S and the resin R are peeled off by raising the pressing plate 33a, the stamper S and the substrate P are fixed by fixing means such as a magnet, a gripper, and a pin 33c, thereby preventing incomplete peeling. it can.

実施形態
上記のような参考例を前提として、本発明の実施形態を説明する。例えば、図18、図19に示すように、転写部3のターンテーブル31上に、複数の位置決め装置32を設けて、複数の基板Pに対して、同時並行的に位置決め、転写、硬化、搬出の作業を行うことができるので、効率のよい生産が可能となる。この場合、複数のポジション毎に1つの基板Pを処理できるようにしてもよいし(図18)、複数の基板Pを処理できるようにしてもよい(図19)。また、それらを組み合わせてもよい。
[ Embodiment ]
The embodiment of the present invention will be described based on the above reference example. For example, as shown in FIGS. 18 and 19, a plurality of positioning devices 32 are provided on the turntable 31 of the transfer unit 3, and positioning, transfer, curing, and carrying out are simultaneously performed on a plurality of substrates P. Therefore, efficient production becomes possible. In this case, one substrate P may be processed for each of a plurality of positions (FIG. 18), or a plurality of substrates P may be processed (FIG. 19). Moreover, you may combine them.

また、図20及び図21に示すように、基板P及びスタンパSのアラインメントマークの検出を、押圧場所で同時に行うことにより、検出後の移動によるずれを防止して、より正確な位置決めを行うことができる。なお、検出手段であるCCDカメラ32cによる検出は、上記のように、装置の上下からであってもよいが、図21に示すように、基板PとスタンパSの間を挿排可能に設けたCCDカメラ32cによって、基板PとスタンパSの間から検出するように構成することにより、アラインメントマークを直接撮像できるようにして、認識率を高め、精度を向上させてもよい。さらに、図22及び図23に示すように、基板PとスタンパSとを圧着させた後に、アラインメントマークを検出して、正しい位置にずらすように位置決めをしてもよい。この場合、アラインメント後の上下動がないので、さらに正確な位置決めができる。   Further, as shown in FIGS. 20 and 21, by detecting the alignment marks of the substrate P and the stamper S at the same time at the pressing location, it is possible to prevent displacement due to movement after detection and perform more accurate positioning. Can do. As described above, the detection by the CCD camera 32c as the detection means may be performed from above and below the apparatus, but as shown in FIG. 21, the space between the substrate P and the stamper S is provided so as to be removable. By configuring the CCD camera 32c to detect from between the substrate P and the stamper S, the alignment mark may be directly imaged to increase the recognition rate and improve the accuracy. Further, as shown in FIGS. 22 and 23, after the substrate P and the stamper S are pressure-bonded, the alignment mark may be detected and positioned so as to shift to the correct position. In this case, since there is no vertical movement after alignment, more accurate positioning can be performed.

また、図24に示すように、ベース31a及びピン31bを駆動機構32bによって移動させることにより、位置決めを行ってもよい。このようにベース31a及びピン31bを移動させる方が、載置台32aを移動させるよりも負荷が軽くなるので、位置決め精度と、移動スピードの向上が可能となる。さらに、真空領域以外に駆動機構32bを配置するので、油滑のために高価な真空用のものを使用する必要がなくなる。   Further, as shown in FIG. 24, positioning may be performed by moving the base 31a and the pin 31b by the drive mechanism 32b. In this way, moving the base 31a and the pin 31b makes the load lighter than moving the mounting table 32a, so that positioning accuracy and moving speed can be improved. Furthermore, since the drive mechanism 32b is disposed outside the vacuum region, it is not necessary to use an expensive vacuum device for oil sliding.

また、図25に示すように、下降させたピン33cを基板Pの中心穴に挿入して、位置決め動作を行ってもよい。この場合、基板Pはピン33cで位置固定され、位置決めすることになるので、CCDカメラ32cによるアラインメントマーク検出はスタンパSのみで済み、検出ステップの削減になる。また、図26に示すように、基板Pの中心穴にピン33cを挿入した状態で、ピン33cにより基板Pを移動させ、スタンパSに対して位置決めしてもよい(シール、ガイド等は図示を省略)。   In addition, as shown in FIG. 25, the lowered pin 33c may be inserted into the center hole of the substrate P to perform the positioning operation. In this case, since the substrate P is fixed and positioned by the pins 33c, the alignment mark detection by the CCD camera 32c is only the stamper S, and the detection step is reduced. In addition, as shown in FIG. 26, in a state where the pin 33c is inserted into the center hole of the substrate P, the substrate P may be moved by the pin 33c and positioned with respect to the stamper S (the seal, guide, etc. are not shown). (Omitted).

また、図27に示すように、押圧プレート33aを、紫外線を透過する材質として、真空チャンバ33b内に紫外線照射装置34を設けることにより、真空中での紫外線照射を行い、酸素阻害を防止することも可能である。   In addition, as shown in FIG. 27, the pressing plate 33a is made of a material that transmits ultraviolet rays, and an ultraviolet irradiation device 34 is provided in the vacuum chamber 33b, so that ultraviolet irradiation is performed in a vacuum to prevent oxygen inhibition. Is also possible.

また、基板への樹脂の塗布方法は、自由であり、スピンコートには限定されない。樹脂の種類も、現在又は将来において利用可能なあらゆる材質のものが適用可能である。放射線硬化型の樹脂のように、外部から広義の電磁波を照射したり、熱硬化型の樹脂のように、温度変化を加えることによって硬化するものも適用可能である。   Further, the method of applying the resin to the substrate is free and is not limited to spin coating. As the resin, any material that can be used at present or in the future can be used. It is also possible to apply a material that is cured by irradiating a broad electromagnetic wave from the outside, such as a radiation curable resin, or by applying a temperature change, such as a thermosetting resin.

また、位置決めのための駆動機構も、圧電素子によるものには限定されない。例えば、送りねじによる走査機構によっても実現可能である。上記の第2の実施形態においては、押圧プレート33aに位置決め装置33dを設けたが、押圧プレート33aを水平方向に移動させる駆動機構若しくは真空チャンバ33bとともに押圧プレート33aを水平方向に移動させる駆動機構を設けることにより、押圧プレート33aに保持されたスタンパSの位置決めが行えるように構成してもよい。   Further, the driving mechanism for positioning is not limited to that using a piezoelectric element. For example, it can be realized by a scanning mechanism using a feed screw. In the second embodiment, the positioning device 33d is provided on the pressing plate 33a. However, a driving mechanism that moves the pressing plate 33a in the horizontal direction or a driving mechanism that moves the pressing plate 33a in the horizontal direction together with the vacuum chamber 33b. By providing, you may comprise so that positioning of the stamper S hold | maintained at the press plate 33a can be performed.

また、基板やスタンパの位置を検出する手段も、CCDカメラには限定されず、各種のセンサが適用可能である。スタンパ、基板についてそれぞれ別の検出手段を用いてもよい。スタンパ及び基板の剥離時の固定手段も、上記の実施形態で例示したものには限定されない。   Also, the means for detecting the position of the substrate or stamper is not limited to the CCD camera, and various sensors can be applied. Different detection means may be used for the stamper and the substrate. The fixing means at the time of peeling off the stamper and the substrate is not limited to the one exemplified in the above embodiment.

また、本発明の対象は、その大きさ、形状、材質、記録層の数等は自由であり、既存のCDやDVD等の規格に限定されず、将来において採用されるあらゆる規格の基板に適用可能である。再生専用の記憶媒体用に断続的なピットを形成することもできるし、追記可能、書き換え可能な記憶媒体用に連続したグルーブを形成することもできる。さらに、記録部分を凸状とするか凹状とするかも自由である。   In addition, the object of the present invention is free in size, shape, material, number of recording layers, etc., and is not limited to existing standards such as CD and DVD, but can be applied to substrates of all standards to be adopted in the future. Is possible. Intermittent pits can be formed for a read-only storage medium, or continuous grooves can be formed for a recordable and rewritable storage medium. Furthermore, it is free to make the recording part convex or concave.

Claims (8)

基板上の樹脂にスタンパの凹凸面を接触させ、前記樹脂を硬化させることによって、前記樹脂に凹凸を転写する転写装置において、
前記スタンパにおける凹凸面と反対側の面を保持する押圧プレートと、
前記基板における樹脂と反対側の面を支持する支持台と、
前記基板上の樹脂と前記スタンパとが接触する接触位置と、前記基板上の樹脂から前記スタンパが剥離する離間位置との間で、前記押圧プレートを移動させる駆動機構と、
前記樹脂と前記スタンパとが接触した状態で、前記押圧プレートに保持された前記スタンパを、接触面と平行な方向に移動させることにより、前記基板及び前記スタンパの相対位置を合わせる位置決め手段と、
前記位置決め手段による位置決め後に、前記樹脂を硬化させる硬化手段と、
を有することを特徴とする転写装置。
In the transfer device for transferring the unevenness to the resin by bringing the uneven surface of the stamper into contact with the resin on the substrate and curing the resin,
A pressing plate that holds a surface opposite to the uneven surface of the stamper;
A support for supporting the surface of the substrate opposite to the resin;
A drive mechanism for moving the pressing plate between a contact position where the resin on the substrate and the stamper are in contact and a separation position where the stamper is peeled off from the resin on the substrate;
Positioning means for aligning the relative positions of the substrate and the stamper by moving the stamper held by the pressing plate in a direction parallel to the contact surface in a state where the resin and the stamper are in contact with each other.
A curing means for curing the resin after positioning by the positioning means;
A transfer device comprising:
基板上の樹脂にスタンパの凹凸面を接触させ、前記樹脂を硬化させることによって、前記樹脂に凹凸を転写する転写装置において、
前記基板における樹脂と反対側の面を保持する押圧プレートと、
前記スタンパにおける凹凸面と反対側の面を支持する支持台と、
前記基板上の樹脂と前記スタンパとが接触する接触位置と、前記基板上の樹脂から前記スタンパが剥離する離間位置との間で、前記押圧プレートを移動させる駆動機構と、
前記樹脂と前記スタンパとが接触した状態で、前記支持台に支持された前記スタンパを、接触面と平行な方向に移動させることにより、前記基板及び前記スタンパの相対位置を合わせる位置決め手段と、
前記位置決め手段による位置決め後に、前記樹脂を硬化させる硬化手段と、
を有することを特徴とする転写装置。
In the transfer device for transferring the unevenness to the resin by bringing the uneven surface of the stamper into contact with the resin on the substrate and curing the resin,
A pressing plate that holds the surface of the substrate opposite to the resin;
A support base for supporting a surface opposite to the uneven surface of the stamper;
A drive mechanism for moving the pressing plate between a contact position where the resin on the substrate and the stamper are in contact and a separation position where the stamper is peeled off from the resin on the substrate;
Positioning means for aligning the relative positions of the substrate and the stamper by moving the stamper supported by the support base in a direction parallel to the contact surface in a state where the resin and the stamper are in contact with each other;
A curing means for curing the resin after positioning by the positioning means;
A transfer device comprising:
前記硬化手段は、前記基板を透過して、前記樹脂に電磁波を照射可能となる位置に設けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の転写装置。It said curing means is transmitted through said substrate transfer device according to claim 1 or claim 2 wherein, characterized in that provided in the irradiation allows a position of the electromagnetic waves to the resin. 前記押圧プレート、前記支持台及び前記位置決め手段は、回転により前記基板及び前記スタンパを移動させるターンテーブルに設けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の転写装置。 Said pressing plate, said support table and said positioning means, the transfer device according to claim 1 or claim 2 wherein, characterized in that provided in the turntable for moving the substrate and the stamper by rotation. 硬化した前記樹脂から前記スタンパを剥離する際に、前記基板及び前記スタンパの少なくとも一方を固定する固定手段を有することを特徴とする請求項1又は請求項2記載の転写装置。Upon the release of the stamper from the cured the resin, the substrate and the transfer apparatus according to claim 1 or claim 2, wherein characterized in that it has a fixing means for fixing at least one of the stamper. 前記固定手段は、前記押圧プレート若しくは前記支持台とは独立に移動可能に設けられ、前記基板が有する中心穴を押さえるピンを有することを特徴とする請求項5記載の転写装置。6. The transfer apparatus according to claim 5, wherein the fixing means includes a pin that is provided so as to be movable independently of the pressing plate or the support base and that presses a central hole of the substrate. 前記樹脂に前記スタンパを接触させる際に、周囲の空間を真空引き可能となるように密閉する密閉手段を有し、
前記位置決め手段の可動部は、前記密閉手段により密閉される空間の外部に設けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の転写装置。
When bringing the stamper into contact with the resin, it has a sealing means for sealing so that the surrounding space can be evacuated,
The movable part of the positioning means, the transfer device according to claim 1 or claim 2 wherein, characterized in that provided outside the space sealed by said sealing means.
前記基板及び前記スタンパの位置を検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された位置に基づいて、前記位置決め手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする請求項1又は請求項2記載の転写装置。
Detecting means for detecting positions of the substrate and the stamper;
Control means for controlling the positioning means based on the position detected by the detection means;
The transfer device of claim 1 or claim 2, wherein the having.
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