JP4677599B2 - 微細構造作製方法及び装置 - Google Patents
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Description
1)エッチング中にFFM機構を用いた微細機械加工を行った場合でも、形成された加工変質層が、加工直後からマスク効果を発現し、微細構造物を作製できる。
2)マスク効果を持たない未加工部は、エッチング中に一定のエッチングレートで、その高さを減ずるため、微細機械加工を行うタイミングの差によって、マスク効果を発現する領域の初期高さに変化を与えることで、微細構造物の高さを制御できる。
3)エッチングを行いながら、一定の走査速度で面走査加工を行う場合、走査速度を変化させることで作製される微細構造の上面部の傾斜を変化させることができる。
4)従来のFFM加工によって形成された加工変質層と同様に、微細機械加工時の垂直荷重によってマスク強度が変化する性質を利用して、作製される微細構造物の高さを制御することができる。
5)微細機械加工時に同一領域を複数回重複して加工することでマスク強度が変化する性質を利用して、微細構造物の高さを制御することができる。
6)単一線の微細機械加工を空気中で行い、その後にエッチングして作製した凸状構造物と、エッチング液中で単一線の微細機械加工を行って作製した凸状微細構造物を比較したところ、後者のほうが凸状構造物の幅が狭くなった。
等の作用を奏することが明らかになった。従来の微細構造作製技術との組み合わせや、またエッチング時間等の加工条件をさらに高精度に制御することにより、さらに複雑な3次元微細構造物の作製が可能となる。
2 レンズ
3 シリコン材料
4 加工用カンチレバー
5 ガラス板
6 KOH(水酸化カリウム)水溶液
7 4分割フォトディテクタ
8 チューブPZTスキャナ
9 フィードバック制御装置
Claims (7)
- 単結晶シリコン材料をアルカリ性エッチング溶液に浸した状態で、摩擦力顕微鏡の機構により表面に所定形状の微細機械加工を施し、これにより生成されるマスク効果を発現する微細パターンによって、任意の領域のエッチングレートを低下させることで、所定形状の微細パターンを形成する微細構造作製方法において、
微細機械加工を行う時間に差を与えることで、形成される微細構造の高さを、加工開始点より終了点にかけて次第に該高さを減ずるように調節することを特徴とする微細構造作製方法。 - 微細機械加工工具を面走査する際に、走査速度を変化させることで、形成される微細構造の上面の傾斜角を調節することを特徴とする請求項1に記載の微細構造作製方法。
- 微細機械加工を同一領域に複数回重複して行うことで、エッチングマスクとしての強度を変化させ、形成される微細構造の高さを調節することを特徴とする請求項1に記載の微細構造作製方法。
- 微細機械加工を行う際の垂直荷重を変化させることで、エッチングマスクとしての強度を変化させ、形成される微細構造の高さを調節することを特徴とする請求項1に記載の微細構造作製方法。
- エッチング液中で単一線加工を行うことを特徴とする請求項1に記載の微細構造作製方法。
- 前記微細機械加工をガラス板と被加工材料の間にエッチング液を保持することのできる摩擦力顕微鏡の機構により行うことを特徴とする請求項1に記載の微細構造作製方法。
- 単結晶シリコン材料をアルカリ性エッチング溶液に浸した状態で、摩擦力顕微鏡の機構により表面に所定形状の微細機械加工を施する手段を備え、これにより生成されるマスク効果を発現する微細パターンによって、任意の領域のエッチングレートを低下させることで、所定形状の微細パターンを形成する微細構造作製装置において、
微細機械加工を行う時間に差を与えることで、形成される微細構造の高さを、加工開始点より終了点にかけて次第に該高さを減ずるように調節する手段を備えたことを特徴とする微細構造作製装置。
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