JP4636280B2 - Bandpass filter - Google Patents
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Description
本発明は、複数の共振器を備えたバンドパスフィルタに関する。 The present invention relates to a band-pass filter including a plurality of resonators.
ブルートゥース規格の通信装置や無線LAN(ローカルエリアネットワーク)用の通信装置では、小型化、薄型化の要求が強いことから、それに用いられる電子部品の小型化、薄型化が要求されている。上記通信装置における電子部品の一つに、受信信号を濾波するバンドパスフィルタがある。このバンドパスフィルタにおいても、小型化、薄型化が要求されている。そこで、上記の通信装置における使用周波数帯域に対応でき、且つ小型化、薄型化を実現可能なバンドパスフィルタとして、例えば特許文献1に示されるように、積層基板における導体層を用いて構成された複数の共振器を備えた積層型のバンドパスフィルタが提案されている。特許文献1に記載されたバンドパスフィルタは、同じ誘電体層上に並べて配置された3個の共振器電極を備えている。このバンドパスフィルタにおいて、隣接する共振器電極同士は誘導性結合し、且つキャパシタを介して接続されている。
Bluetooth communication devices and wireless LAN (local area network) communication devices are strongly demanded to be smaller and thinner, and therefore, electronic components used therefor are required to be smaller and thinner. One of the electronic components in the communication apparatus is a band-pass filter that filters a received signal. This band pass filter is also required to be small and thin. Therefore, as a band-pass filter that can correspond to the frequency band used in the communication device and can be reduced in size and thickness, for example, as shown in
ところで、バンドパスフィルタが使用される装置では、バンドパスフィルタの通過信号に対する高調波等のスプリアスを低減することが要求される場合がある。この場合、バンドパスフィルタに対して直列に、スプリアスを低減するためのノッチフィルタを設けることが考えられる。しかし、その場合には、バンドパスフィルタの通過帯域における挿入損失が大きくなるという問題が生じる。 By the way, in an apparatus in which a bandpass filter is used, it may be required to reduce spurious such as harmonics with respect to a passing signal of the bandpass filter. In this case, it is conceivable to provide a notch filter for reducing spurious in series with the bandpass filter. However, in that case, there arises a problem that the insertion loss in the passband of the bandpass filter becomes large.
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、複数の共振器を備えたバンドパスフィルタであって、容易にスプリアスを低減できるようにしたバンドパスフィルタを提供することにある。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a band-pass filter including a plurality of resonators, which can easily reduce spurious. .
本発明の第1のバンドパスフィルタは、誘導性結合する第1および第2の共振器と、第1の共振器と第2の共振器とを接続する接続部とを備えている。接続部は、直列に接続されたインダクタとキャパシタとを含んでいる。 The first band-pass filter of the present invention includes first and second resonators that are inductively coupled, and a connection portion that connects the first resonator and the second resonator. The connection part includes an inductor and a capacitor connected in series.
本発明の第1のバンドパスフィルタでは、直列に接続されたインダクタとキャパシタとを含む接続部によって第1の共振器と第2の共振器とが接続されていることにより、バンドパスフィルタの通過・減衰特性において、通過帯域よりも高周波側に存在するノッチの周波数を調整することが可能になる。 In the first band-pass filter of the present invention, the first resonator and the second resonator are connected by a connection portion including an inductor and a capacitor connected in series, so that the band-pass filter passes. In the attenuation characteristic, it becomes possible to adjust the frequency of the notch existing on the higher frequency side than the pass band.
本発明の第1のバンドパスフィルタは、更に、積層された複数の誘電体層を含む積層基板を備えていてもよい。この場合、第1の共振器は、積層基板内に設けられた第1の共振器用導体層を有し、第2の共振器は、積層基板内に設けられた第2の共振器用導体層を有していてもよい。 The first bandpass filter of the present invention may further include a laminated substrate including a plurality of laminated dielectric layers. In this case, the first resonator has a first resonator conductor layer provided in the multilayer substrate, and the second resonator has a second resonator conductor layer provided in the multilayer substrate. You may have.
本発明の第1のバンドパスフィルタは、更に、第1の共振器用導体層に接続され、インダクタを構成するインダクタ形成部とキャパシタの一部を構成するキャパシタ形成部とを含む接続部用導体層と、第2の共振器用導体層に接続され、少なくとも1つの誘電体層を介してキャパシタ形成部に対向するキャパシタ用導体層とを備え、キャパシタ形成部とキャパシタ用導体層と、これらの間に配置された誘電体層によってキャパシタが構成されていてもよい。 The first band-pass filter of the present invention is further connected to the first resonator conductor layer, and further includes an inductor forming portion constituting the inductor and a capacitor forming portion constituting a part of the capacitor. And a capacitor conductor layer connected to the second resonator conductor layer and facing the capacitor formation portion via at least one dielectric layer, and the capacitor formation portion and the capacitor conductor layer between them A capacitor may be configured by the disposed dielectric layer.
また、本発明の第1のバンドパスフィルタにおいて、複数の誘電体層は、第1の誘電率を有する複数の第1の誘電体層と、第1の誘電率よりも大きな第2の誘電率を有する複数の第2の誘電体層とを含み、第1および第2の共振器用導体層は、複数の第1の誘電体層によって囲まれ、接続部用導体層およびキャパシタ用導体層は、複数の第2の誘電体層によって囲まれていてもよい。 In the first band-pass filter of the present invention, the plurality of dielectric layers include a plurality of first dielectric layers having a first dielectric constant and a second dielectric constant larger than the first dielectric constant. A plurality of second dielectric layers, wherein the first and second resonator conductor layers are surrounded by the plurality of first dielectric layers, and the connection portion conductor layer and the capacitor conductor layer include: It may be surrounded by a plurality of second dielectric layers.
また、本発明の第1のバンドパスフィルタにおいて、第1および第2の共振器は、いずれも、開放端と短絡端とを有する1/4波長共振器であり、接続部は、第1および第2の共振器の開放端同士を接続していてもよい。 In the first bandpass filter of the present invention, each of the first and second resonators is a quarter wavelength resonator having an open end and a short-circuited end. The open ends of the second resonator may be connected to each other.
本発明の第2のバンドパスフィルタは、第1ないし第3の共振器を備え、第1の共振器と第2の共振器が誘導性結合し、且つ第2の共振器と第3の共振器が誘導性結合しているものである。本発明の第2のバンドパスフィルタは、更に、直列に接続された第1のインダクタと第1のキャパシタとを含み、第1の共振器と第2の共振器とを接続する第1の接続部と、直列に接続された第2のインダクタと第2のキャパシタとを含み、第2の共振器と第3の共振器とを接続する第2の接続部とを備えている。 The second band-pass filter of the present invention includes first to third resonators, the first resonator and the second resonator are inductively coupled, and the second resonator and the third resonance. The vessel is inductively coupled. The second band-pass filter of the present invention further includes a first inductor and a first capacitor connected in series, and a first connection for connecting the first resonator and the second resonator. And a second connection portion that includes a second inductor and a second capacitor connected in series, and connects the second resonator and the third resonator.
本発明の第2のバンドパスフィルタでは、直列に接続された第1のインダクタと第1のキャパシタとを含む第1の接続部によって第1の共振器と第2の共振器とが接続され、直列に接続された第2のインダクタと第2のキャパシタとを含む第2の接続部によって第2の共振器と第3の共振器とが接続されていることにより、バンドパスフィルタの通過・減衰特性において、通過帯域よりも高周波側に存在するノッチの周波数を調整することが可能になる。 In the second bandpass filter of the present invention, the first resonator and the second resonator are connected by a first connection portion including a first inductor and a first capacitor connected in series. Since the second resonator and the third resonator are connected by the second connection portion including the second inductor and the second capacitor connected in series, the pass / attenuation of the band-pass filter is achieved. In the characteristics, it is possible to adjust the frequency of the notch existing on the higher frequency side than the pass band.
本発明の第2のバンドパスフィルタは、更に、積層された複数の誘電体層を含む積層基板を備え、第1の共振器は、積層基板内に設けられた第1の共振器用導体層を有し、第2の共振器は、積層基板内に設けられた第2の共振器用導体層を有し、第3の共振器は、積層基板内に設けられた第3の共振器用導体層を有していてもよい。 The second band-pass filter of the present invention further includes a laminated substrate including a plurality of laminated dielectric layers, and the first resonator includes a first resonator conductor layer provided in the laminated substrate. And the second resonator has a second resonator conductor layer provided in the multilayer substrate, and the third resonator has a third resonator conductor layer provided in the laminate substrate. You may have.
本発明の第2のバンドパスフィルタは、更に、第1の共振器用導体層に接続され、第1のインダクタを構成する第1のインダクタ形成部と第1のキャパシタの一部を構成する第1のキャパシタ形成部とを含む第1の接続部用導体層と、第3の共振器用導体層に接続され、第2のインダクタを構成する第2のインダクタ形成部と第2のキャパシタの一部を構成する第2のキャパシタ形成部とを含む第2の接続部用導体層と、第2の共振器用導体層に接続され、少なくとも1つの誘電体層を介して第1および第2のキャパシタ形成部に対向するキャパシタ用導体層とを備えていてもよい。そして、第1のキャパシタ形成部とキャパシタ用導体層と、これらの間に配置された誘電体層によって第1のキャパシタが構成され、第2のキャパシタ形成部とキャパシタ用導体層と、これらの間に配置された誘電体層によって第2のキャパシタが構成されていてもよい。 The second band-pass filter of the present invention is further connected to the first resonator conductor layer, and the first inductor forming part constituting the first inductor and the first capacitor constituting a part of the first capacitor. A first connecting portion conductor layer including the capacitor forming portion, and a second inductor forming portion connected to the third resonator conductor layer and constituting the second inductor, and a part of the second capacitor. A second connecting portion conductor layer including a second capacitor forming portion, and a first and second capacitor forming portions connected to the second resonator conductor layer via at least one dielectric layer; And a capacitor conductor layer opposed to the capacitor. The first capacitor is formed by the first capacitor forming portion, the capacitor conductor layer, and the dielectric layer disposed therebetween, and the second capacitor forming portion and the capacitor conductor layer are interposed between them. The second capacitor may be configured by a dielectric layer disposed on the substrate.
また、本発明の第2のバンドパスフィルタにおいて、複数の誘電体層は、第1の誘電率を有する複数の第1の誘電体層と、第1の誘電率よりも大きな第2の誘電率を有する複数の第2の誘電体層とを含み、第1ないし第3の共振器用導体層は、複数の第1の誘電体層によって囲まれ、第1および第2の接続部用導体層およびキャパシタ用導体層は、複数の第2の誘電体層によって囲まれていてもよい。 In the second band-pass filter of the present invention, the plurality of dielectric layers include a plurality of first dielectric layers having a first dielectric constant and a second dielectric constant greater than the first dielectric constant. A plurality of second dielectric layers, wherein the first to third resonator conductor layers are surrounded by the plurality of first dielectric layers, and the first and second connection conductor layers and The capacitor conductor layer may be surrounded by a plurality of second dielectric layers.
また、本発明の第2のバンドパスフィルタは、更に、入力端子と、出力端子とを備え、第1の接続部用導体層は入力端子に接続され、第2の接続部用導体層は出力端子に接続されていてもよい。 The second bandpass filter of the present invention further includes an input terminal and an output terminal, the first connection portion conductor layer is connected to the input terminal, and the second connection portion conductor layer is the output. It may be connected to a terminal.
また、本発明の第2のバンドパスフィルタにおいて、第1ないし第3の共振器は、いずれも、開放端と短絡端とを有する1/4波長共振器であり、第1の接続部は第1および第2の共振器の開放端同士を接続し、第2の接続部は第2および第3の共振器の開放端同士を接続していてもよい。 In the second bandpass filter of the present invention, each of the first to third resonators is a quarter wavelength resonator having an open end and a short-circuited end, and the first connection portion is the first connection portion. The open ends of the first and second resonators may be connected to each other, and the second connection portion may connect the open ends of the second and third resonators.
本発明の第1のバンドパスフィルタでは、直列に接続されたインダクタとキャパシタとを含む接続部によって第1の共振器と第2の共振器とが接続されていることにより、バンドパスフィルタの通過・減衰特性において、通過帯域よりも高周波側に存在するノッチの周波数を調整することが可能になる。これにより、本発明によれば、バンドパスフィルタによって容易にスプリアスを低減することが可能になるという効果を奏する。 In the first band-pass filter of the present invention, the first resonator and the second resonator are connected by a connection portion including an inductor and a capacitor connected in series, so that the band-pass filter passes. In the attenuation characteristic, it becomes possible to adjust the frequency of the notch existing on the higher frequency side than the pass band. Thereby, according to this invention, there exists an effect that it becomes possible to reduce a spurious easily with a band pass filter.
本発明の第2のバンドパスフィルタでは、直列に接続された第1のインダクタと第1のキャパシタとを含む第1の接続部によって第1の共振器と第2の共振器とが接続され、直列に接続された第2のインダクタと第2のキャパシタとを含む第2の接続部によって第2の共振器と第3の共振器とが接続されていることにより、バンドパスフィルタの通過・減衰特性において、通過帯域よりも高周波側に存在するノッチの周波数を調整することが可能になる。これにより、本発明によれば、バンドパスフィルタによって容易にスプリアスを低減することが可能になるという効果を奏する。 In the second bandpass filter of the present invention, the first resonator and the second resonator are connected by a first connection portion including a first inductor and a first capacitor connected in series. Since the second resonator and the third resonator are connected by the second connection portion including the second inductor and the second capacitor connected in series, the pass / attenuation of the band-pass filter is achieved. In the characteristics, it is possible to adjust the frequency of the notch existing on the higher frequency side than the pass band. Thereby, according to this invention, there exists an effect that it becomes possible to reduce a spurious easily with a band pass filter.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。始めに、図4を参照して、本発明の一実施の形態に係るバンドパスフィルタの回路構成について説明する。図4に示したように、本実施の形態に係るバンドパスフィルタ1は、入力端子2と、出力端子3と、3つの共振器4,5,6と、接続部41,42と、キャパシタ19とを備えている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. First, a circuit configuration of a bandpass filter according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 4, the
共振器4は、インダクタ11とキャパシタ14とを有している。共振器5は、インダクタ12とキャパシタ15とを有している。共振器6は、インダクタ13とキャパシタ16とを有している。共振器4は入力端子2に接続され、共振器6は出力端子3に接続されている。共振器5は、共振器4と共振器6との間に配置されている。また、インダクタ12は、インダクタ11とインダクタ13との間に配置されている。インダクタ11,12は隣接し、誘導性結合している。インダクタ12,13も隣接し、誘導性結合している。図4では、インダクタ11,12間の誘導性結合と、インダクタ12,13間の誘導性結合を、それぞれ記号Mを付した曲線で表している。
The
接続部41は、直列に接続されたインダクタ7とキャパシタ17とを含み、共振器4と共振器5とを接続している。接続部42は、直列に接続されたインダクタ8とキャパシタ18とを含み、共振器5と共振器6とを接続している。
The
インダクタ7,11の一端とキャパシタ14,19の各一端は、入力端子2に接続されている。インダクタ11の他端とキャパシタ14の他端はグランドに接続されている。キャパシタ17の一端はインダクタ7の他端に接続されている。インダクタ12の一端とキャパシタ15,18の各一端は、キャパシタ17の他端に接続されている。インダクタ12の他端とキャパシタ15の他端はグランドに接続されている。インダクタ8の一端はキャパシタ18の他端に接続されている。インダクタ13の一端、キャパシタ16の一端、キャパシタ19の他端および出力端子3は、インダクタ8の他端に接続されている。インダクタ13の他端とキャパシタ16の他端はグランドに接続されている。
One end of the
共振器4,5,6はいずれも、開放端と短絡端とを有する1/4波長共振器である。共振器4,5,6は、それぞれ本発明における第1の共振器、第2の共振器、第3の共振器に対応する。隣接する共振器4,5は、誘導性結合していると共に、接続部41によって接続されている。隣接する共振器5,6は、誘導性結合していると共に、接続部42によって接続されている。接続部41は、共振器4,5の開放端同士を接続している。接続部42は、共振器5,6の開放端同士を接続している。接続部41は本発明における第1の接続部に対応し、インダクタ7は本発明における第1のインダクタに対応し、キャパシタ17は本発明における第1のキャパシタに対応する。接続部42は本発明における第2の接続部に対応し、インダクタ8は本発明における第2のインダクタに対応し、キャパシタ18は本発明における第2のキャパシタに対応する。
Each of the
本実施の形態に係るバンドパスフィルタ1では、入力端子2に信号が入力されると、そのうちの所定の周波数帯域内の周波数の信号が選択的に、共振器4,5,6を用いて構成されたバンドパスフィルタ1を通過し、出力端子3から出力される。
In the band-
次に、図1および図2を参照して、バンドパスフィルタ1の構造の概略について説明する。図1は、バンドパスフィルタ1の主要部分を示す斜視図である。図2は、バンドパスフィルタ1の外観を示す斜視図である。
Next, an outline of the structure of the
バンドパスフィルタ1は、バンドパスフィルタ1の構成要素を一体化するための積層基板20を備えている。後で詳しく説明するが、積層基板20は、積層された複数の誘電体層と複数の導体層とを含んでいる。インダクタ7,8,11〜13は、いずれも、積層基板20内の1つ以上の導体層を用いて構成されている。キャパシタ14〜19は、積層基板20内の導体層と誘電体層を用いて構成されている。
The
図2に示したように、積層基板20は、外周部として、上面と、底面と、4つの側面を有する直方体形状をなしている。積層基板20における1つの側面20aには、入力端子22と、その両側に配置された2つのグランド用端子24,25が設けられている。積層基板20において、入力端子22が設けられた側面20aと反対側の側面20bには、出力端子23と、その両側に配置された2つのグランド用端子26,27が設けられている。入力端子22は図4における入力端子2に対応し、出力端子23は図4における出力端子3に対応する。グランド用端子24,25,26,27はグランドに接続される。
As shown in FIG. 2, the
次に、図5ないし図8を参照して、積層基板20における誘電体層と導体層について詳しく説明する。図5において(a)〜(c)は、それぞれ、上から1層目ないし3層目の誘電体層の上面を示している。図6において(a)〜(c)は、それぞれ、上から4層目ないし6層目の誘電体層の上面を示している。図7において(a)〜(c)は、それぞれ、上から7層目ないし9層目の誘電体層の上面を示している。図8において(a)は、上から10層目の誘電体層の上面を示している。図8において(b)は、上から10層目の誘電体層およびその下の導体層を、上から見た状態で表したものである。
Next, the dielectric layer and the conductor layer in the
図5(a)に示した1層目の誘電体層31の上面には導体層は形成されていない。図5(b)に示した2層目の誘電体層32の上面には、グランドに接続されるグランド用導体層321が形成されている。この導体層321は、グランド用端子24〜27に接続される。図5(c)に示した3層目の誘電体層33の上面には導体層は形成されていない。
No conductor layer is formed on the top surface of the
図6(a)に示した4層目の誘電体層34の上面には、共振器用導体層111,121,131が形成されている。導体層111と導体層131は、それぞれ一方向に長い形状を有している。導体層111は積層基板20における側面20aの近傍に配置され、導体層131は積層基板20における側面20bの近傍に配置されている。導体層111における長手方向の一端部はグランド用端子25に接続される。導体層131における長手方向の一端部はグランド用端子27に接続される。導体層121は、二股分岐形状の共振器用導体層である。本実施の形態では特に、導体層121はT字形状になっている。導体層121は、一方向に長い第1の部分121aと、それぞれの長手方向の一端部が第1の部分121aにおける長手方向の一端部に接続された第2部分121bおよび第3の部分121cとを有している。第2部分121bは、第1の部分121aにおける一端部から積層基板20における側面20aに向けて延びている。第2部分121bにおける他端部はグランド用端子24に接続される。第3部分121cは、第1の部分121aにおける一端部から積層基板20における側面20bに向けて延びている。第3部分121cにおける他端部はグランド用端子26に接続される。導体層121における第1の部分121aは、導体層111,131の間に配置されている。また、第1の部分121aと導体層111,131のそれぞれの長手方向は平行である。導体層111,121は隣接し、誘導性結合している。導体層121,131も隣接し、誘導性結合している。本実施の形態では特に、導体層121における第1の部分121aは、導体層111,131のそれぞれに対してインターデジタル結合している。すなわち、第1の部分121aにおける開放側の端部(図6(a)における右側の端部)とグランド側の端部(図6(a)における左側の端部)の位置関係は、導体層111,131における開放側の端部(図6(a)における左側の端部)とグランド側の端部(図6(a)における右側の端部)の位置関係とは逆になっている。
Resonator conductor layers 111, 121, and 131 are formed on the upper surface of the
また、誘電体層34には、導体層111における他端部に接続されたスルーホール341と、導体層121の第1の部分121aにおける他端部に接続されたスルーホール342と、導体層131における他端部に接続されたスルーホール343とが形成されている。
The
図6(b)に示した5層目の誘電体層35の上面には、共振器用導体層112,122,132が形成されている。導体層112,122,132の形状、配置および相互の関係は、導体層111,121,131と同様である。すなわち、導体層112と導体層132は、それぞれ一方向に長い形状を有している。導体層112は積層基板20における側面20aの近傍に配置され、導体層132は積層基板20における側面20bの近傍に配置されている。導体層112における長手方向の一端部はグランド用端子25に接続される。導体層132における長手方向の一端部はグランド用端子27に接続される。導体層122は、二股分岐形状の共振器用導体層である。本実施の形態では特に、導体層122はT字形状になっている。導体層122は、一方向に長い第1の部分122aと、それぞれの長手方向の一端部が第1の部分122aにおける長手方向の一端部に接続された第2部分122bおよび第3の部分122cとを有している。第2部分122bは、第1の部分122aにおける一端部から積層基板20における側面20aに向けて延びている。第2部分122bにおける他端部はグランド用端子24に接続される。第3部分122cは、第1の部分122aにおける一端部から積層基板20における側面20bに向けて延びている。第3部分122cにおける他端部はグランド用端子26に接続される。導体層122における第1の部分122aは、導体層112,132の間に配置されている。また、第1の部分122aと導体層112,132のそれぞれの長手方向は平行である。導体層112,122は隣接し、誘導性結合している。導体層122,132も隣接し、誘導性結合している。本実施の形態では特に、導体層122における第1の部分122aは、導体層112,132のそれぞれに対してインターデジタル結合している。
Resonator conductor layers 112, 122, and 132 are formed on the top surface of the
また、誘電体層35には、導体層112における他端部に接続されたスルーホール351と、導体層122の第1の部分122aにおける他端部に接続されたスルーホール352と、導体層132における他端部に接続されたスルーホール353とが形成されている。スルーホール351,352,353は、それぞれスルーホール341,342,343に接続されている。
The
図6(c)に示した6層目の誘電体層36の上面には、共振器用導体層113,123,133が形成されている。導体層113,123,133の形状、配置および相互の関係は、導体層111,121,131と同様である。すなわち、導体層113と導体層133は、それぞれ一方向に長い形状を有している。導体層113は積層基板20における側面20aの近傍に配置され、導体層133は積層基板20における側面20bの近傍に配置されている。導体層113における長手方向の一端部はグランド用端子25に接続される。導体層133における長手方向の一端部はグランド用端子27に接続される。導体層123は、二股分岐形状の共振器用導体層である。本実施の形態では特に、導体層123はT字形状になっている。導体層123は、一方向に長い第1の部分123aと、それぞれの長手方向の一端部が第1の部分123aにおける長手方向の一端部に接続された第2部分123bおよび第3の部分123cとを有している。第2部分123bは、第1の部分123aにおける一端部から積層基板20における側面20aに向けて延びている。第2部分123bにおける他端部はグランド用端子24に接続される。第3部分123cは、第1の部分123aにおける一端部から積層基板20における側面20bに向けて延びている。第3部分123cにおける他端部はグランド用端子26に接続される。導体層123における第1の部分123aは、導体層113,133の間に配置されている。また、第1の部分123aと導体層113,133のそれぞれの長手方向は平行である。導体層113,123は隣接し、誘導性結合している。導体層123,133も隣接し、誘導性結合している。本実施の形態では特に、導体層123における第1の部分123aは、導体層113,133のそれぞれに対してインターデジタル結合している。
Resonator conductor layers 113, 123, and 133 are formed on the top surface of the
また、誘電体層36には、導体層113における他端部に接続されたスルーホール361と、導体層123の第1の部分123aにおける他端部に接続されたスルーホール362と、導体層133における他端部に接続されたスルーホール363とが形成されている。スルーホール361,362,363は、それぞれスルーホール351,352,353に接続されている。
The
導体層111,112,113は、それぞれインダクタンス成分を有している。導体層111,112,113は、スルーホール341,351とグランド用端子25を介して互いに接続されている。導体層111,112,113は、図4におけるインダクタ11を構成する。
Each of the conductor layers 111, 112, and 113 has an inductance component. The conductor layers 111, 112, and 113 are connected to each other through the through
導体層121,122,123は、それぞれインダクタンス成分を有している。導体層121,122,123は、スルーホール342,352とグランド用端子24,26を介して互いに接続されている。導体層121,122,123は、図4におけるインダクタ12を構成する。
Each of the conductor layers 121, 122, and 123 has an inductance component. The conductor layers 121, 122, and 123 are connected to each other through the through
導体層131,132,133は、それぞれインダクタンス成分を有している。導体層131,132,133は、スルーホール343,353とグランド用端子27を介して互いに接続されている。導体層131,132,133は、図4におけるインダクタ13を構成する。
Each of the conductor layers 131, 132, and 133 has an inductance component. The conductor layers 131, 132, and 133 are connected to each other through the through
図7(a)に示した7層目の誘電体層37の上面には導体層は形成されていない。誘電体層37には、スルーホール371,372,373が形成されている。スルーホール371,372,373は、それぞれスルーホール361,362,363に接続されている。
No conductor layer is formed on the top surface of the
図7(b)に示した8層目の誘電体層38の上面には、接続部用導体層381,383が形成されている。導体層381は積層基板20における側面20aの近傍に配置され、導体層382は積層基板20における側面20bの近傍に配置されている。導体層381は、一方向に長いインダクタ形成部381aと、このインダクタ形成部381aにおける長手方向の一端部より、側面20aから遠ざかる方向に突出するように形成されたキャパシタ形成部381bとを有している。導体層383は、一方向に長いインダクタ形成部383aと、このインダクタ形成部383aにおける長手方向の一端部より、側面20bから遠ざかる方向に突出するように形成されたキャパシタ形成部383bとを有している。インダクタ形成部381aにおける他端部の近傍の部分は、入力端子22に接続される。インダクタ形成部383aにおける他端部の近傍の部分は、出力端子23に接続される。接続部用導体層381は本発明における第1の接続部用導体層に対応し、インダクタ形成部381aは本発明における第1のインダクタ形成部に対応し、キャパシタ形成部381bは本発明における第1のキャパシタ形成部に対応する。また、接続部用導体層383は本発明における第2の接続部用導体層に対応し、インダクタ形成部383aは本発明における第2のインダクタ形成部に対応し、キャパシタ形成部383bは本発明における第2のキャパシタ形成部に対応する。
Connection portion conductor layers 381 and 383 are formed on the upper surface of the
また、誘電体層38には、インダクタ形成部381aにおける他端部およびスルーホール371に接続されたスルーホール384と、スルーホール372に接続されたスルーホール385と、インダクタ形成部383aにおける他端部およびスルーホール373に接続されたスルーホール386とが形成されている。
Further, the
図7(c)に示した9層目の誘電体層39の上面には、キャパシタ用導体層391が形成されている。また、誘電体層39には、スルーホール384に接続されたスルーホール394と、スルーホール385に接続されたスルーホール395と、スルーホール386に接続されたスルーホール396とが形成されている。
A
図8(a)に示した10層目の誘電体層40の上面には、キャパシタ用導体層401,402,403が形成されている。導体層401,402,403には、それぞれ、スルーホール394,395,396が接続されている。
Capacitor conductor layers 401, 402, and 403 are formed on the top surface of the
図8(b)に示したように、10層目の誘電体層40の下面には、グランドに接続されるグランド用導体層411と、入力端子用導体層412と、出力端子用導体層413とが形成されている。この導体層411はグランド用端子24〜27に接続され、導体層412は入力端子22に接続され、導体層413は出力端子23に接続される。
As shown in FIG. 8B, on the lower surface of the
図7(b)に示した導体層381は、複数のスルーホールを介して、導体層111,112,113に接続されている。導体層383は、複数のスルーホールを介して、導体層131,132,133に接続されている。インダクタ形成部381aは、図4におけるインダクタ7を構成する。インダクタ形成部383aは、図4におけるインダクタ8を構成する。キャパシタ形成部381bは、図4におけるキャパシタ17の一部を構成する。キャパシタ形成部383bは、図4におけるキャパシタ18の一部を構成する。キャパシタ形成部381b,383bは、誘電層38,39を介して導体層402に対向している。導体層402は、複数のスルーホールを介して、導体層121,122,123に接続されている。キャパシタ形成部381bと導体層402と、これらの間に配置された誘電層38,39によって、図4におけるキャパシタ17が構成されている。また、キャパシタ形成部383bと導体層402と、これらの間に配置された誘電層38,39によって、図4におけるキャパシタ18が構成されている。
The
図7(c)に示した導体層391は、誘電層39を介して導体層401,403に対向している。導体層401は、複数のスルーホールを介して、導体層111,112,113に接続されている。導体層403は、複数のスルーホールを介して、導体層131,132,133に接続されている。導体層391,401,403および誘電層39は、図4におけるキャパシタ19を構成している。
The
また、導体層401,402,403は、誘電体層40を介して導体層411に対向している。導体層401,411および誘電体層40は、図4におけるキャパシタ14を構成している。導体層402,411および誘電体層40は、図4におけるキャパシタ15を構成している。導体層403,411および誘電体層40は、図4におけるキャパシタ16を構成している。
The conductor layers 401, 402, and 403 are opposed to the
上述の1層目ないし10層目の誘電体層31〜40および導体層が積層されて、図1および図2に示した積層基板20が形成される。図2に示した端子22〜27は、この積層基板20の外周部に形成される。
The above-mentioned first to tenth
なお、本実施の形態において、積層基板20としては、誘電体層の材料として樹脂、セラミック、あるいは両者を複合した材料を用いたもの等、種々のものを用いることができる。しかし、積層基板20としては、特に、高周波特性に優れた低温同時焼成セラミック多層基板を用いることが好ましい。
In the present embodiment, as the
図3は、側面20aからより見た積層基板20の内部を示す説明図である。本実施の形態では、例えば、誘電体層33〜36は、いずれも第1の誘電率を有し、誘電体層31,32,37〜40は、いずれも、第1の誘電率よりも大きな第2の誘電率を有している。例えば、誘電体層33〜36の比誘電率は3〜45の範囲内であり、誘電体層31,32,37〜40の比誘電率は50〜100の範囲内である。以下、誘電体層33〜36を低誘電率誘電体層と呼び、誘電体層31,32,37〜40を高誘電率誘電体層と呼ぶ。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing the inside of the
インダクタ11を構成する導体層111〜113、インダクタ12を構成する導体層121〜123およびインダクタ13を構成する導体層131〜133は、複数の低誘電率誘電体層によって囲まれている。一方、接続部用導体層381,383およびキャパシタ用導体層391,402〜403は、複数の高誘電率誘電体層によって囲まれている。すなわち、インダクタ7,8およびキャパシタ14〜19は、複数の高誘電率誘電体層によって囲まれている。
The conductor layers 111 to 113 constituting the
本実施の形態では、共振器4は、インダクタ11を構成する共振器用導体層111〜113と、キャパシタ14とを有している。共振器5は、インダクタ12を構成する共振器用導体層121〜123と、キャパシタ15とを有している。共振器6は、インダクタ13を構成する共振器用導体層131〜133と、キャパシタ16とを有している。
In the present embodiment, the
ここで、図9を参照して、共振器用導体層111〜113と、共振器用導体層121〜123と、共振器用導体層131〜133の形状、配置および相互の関係について詳しく説明する。図9は、これら共振器用導体層を示す平面図である。なお、以下、導体層111,121,131について説明するが、以下の説明は、導体層112,122,132と、導体層113,123,133にも当てはまる。 Here, with reference to FIG. 9, the shape, arrangement | positioning, and mutual relationship of the conductor layers 111-113 for resonators, the conductor layers 121-123 for resonators, and the conductor layers 131-133 for resonators are demonstrated in detail. FIG. 9 is a plan view showing these resonator conductor layers. Hereinafter, the conductor layers 111, 121, and 131 will be described, but the following description also applies to the conductor layers 112, 122, and 132 and the conductor layers 113, 123, and 133.
前述のように、導体層111と導体層131は、それぞれ一方向に長い形状を有している。導体層111における長手方向の一端部はグランド用端子25に接続される。導体層131における長手方向の一端部はグランド用端子27に接続される。導体層121は、二股分岐形状の共振器用導体層であり、一方向に長い第1の部分121aと、それぞれの長手方向の一端部が第1の部分121aにおける長手方向の一端部に接続された第2部分121bおよび第3の部分121cとを有している。第2部分121bにおける他端部はグランド用端子24に接続される。第3部分121cにおける他端部はグランド用端子26に接続される。導体層121における第1の部分121aは、導体層111,131の間に配置されている。第1の部分121aと導体層111,131のそれぞれの長手方向は平行である。導体層111,121は隣接し、誘導性結合している。導体層121,131も隣接し、誘導性結合している。
As described above, each of the
ところで、本実施の形態のように、積層基板内に3個の共振器用導体層を一方向に並べて配置し、グランド用端子を、積層基板の外周部のうち、3個の共振器用導体層が並ぶ方向の両側の側面に配置する場合には、中央の共振器用導体層では、両側の共振器用導体層に比べて、共振器用導体層の主要部分と積層基板の側面との間の距離が大きくなるため、グランド用端子との接触面積を大きくすることが難しいと共に、主要部分とグランド用端子との間の距離が大きくなる。そのため、中央の共振器用導体層ではインダクタンス成分が大きくなりやすい。その結果、所望のフィルタの特性を実現することが困難になる場合がある。すなわち、中央の共振器用導体層のインダクタンス成分が所望の値よりも大きくなると、その共振器用導体層によって構成される共振器の共振周波数が所望の共振周波数よりも低くなり、その結果、例えばバンドパスフィルタの通過帯域外における減衰量が小さくなる等の問題が発生する。 By the way, as in the present embodiment, three resonator conductor layers are arranged in one direction in the multilayer substrate, and the ground terminals are arranged on the outer periphery of the multilayer substrate. When arranged on the side surfaces on both sides in the line-up direction, the distance between the main part of the resonator conductor layer and the side surface of the multilayer substrate is larger in the central resonator conductor layer than in the resonator conductor layers on both sides. Therefore, it is difficult to increase the contact area with the ground terminal, and the distance between the main portion and the ground terminal is increased. Therefore, the inductance component tends to increase in the central resonator conductor layer. As a result, it may be difficult to achieve desired filter characteristics. That is, when the inductance component of the central resonator conductor layer becomes larger than a desired value, the resonance frequency of the resonator constituted by the resonator conductor layer becomes lower than the desired resonance frequency. Problems such as a small attenuation outside the passband of the filter occur.
本実施の形態では、中央の導体層121が二股分岐形状になっている。そして、導体層121の第2の部分121bがグランド用端子24に接続され、導体層121の第3の部分121cがグランド用端子26に接続されている。そのため、本実施の形態では、中央の導体層が1箇所でのみグランド用導体層に接続される場合に比べて、導体層121とグランド用端子との接触面積を大きくすることができる。これにより、本実施の形態によれば、導体層121とグランド用端子との接触面積が小さいことによる導体層121のインダクタンス成分の増加を抑制することが可能になる。これにより、本実施の形態によれば、所望のフィルタの特性を実現することが容易になる。
In the present embodiment, the
また、第1ないし第3の部分121a,121b,121cをそれぞれ別個のインダクタとみなすと、導体層121全体によって構成されるインダクタのインダクタンスは、第1ないし第3の部分121a,121b,121cのそれぞれによって構成されるインダクタのインダクタンスの合成となる。第2の部分121bによって構成されるインダクタと第3の部分121cによって構成されるインダクタは、第1の部分121aによって構成されるインダクタの一端とグランドとの間に並列に設けられる。従って、導体層121全体によって構成されるインダクタのインダクタンスは、導体層121から第2の部分121bと第3の部分121cのうちの一方を除いた導体層のインダクタンスよりも小さくなる。このことから、本実施の形態によれば、第1の部分121aとグランド用端子との間の距離が大きいことによる導体層121のインダクタンス成分の増加を抑制することができる。これにより、本実施の形態によれば、所望のフィルタの特性を実現することが容易になる。導体層122,123についても同様のことが言える。
Further, when the first to
また、導体層121〜123によって構成されるインダクタ12は、図10に示したように表すことができる。すなわち、インダクタ12は、第1の部分121a〜123aによって構成される第1のインダクタ12aと、第2の部分121b〜123bによって構成される第2のインダクタ12bと、第3の部分121c〜123cによって構成される第3のインダクタ12cとを含む。インダクタ12b,12cは、インダクタ12aの一端とグランドとの間に並列に設けられる。インダクタ12bはグランド用端子24に接続され、インダクタ12cはグランド用端子26に接続される。このように、本実施の形態では、インダクタ12aの一端とグランドとが、並列に設けられたインダクタ12b,12cによって接続される。
Moreover, the
ここで、本実施の形態におけるインダクタ12に対する比較例として、図10に示したインダクタ12からインダクタ12b,12cのうちの一方を除いた構成のインダクタを考える。この比較例のインダクタは、導体層121〜123から第2の部分121b〜123bと第3の部分121c〜123cのうちの一方を除いた構成の3つの導体層によって構成されるインダクタである。インダクタ12のインダクタンスは、比較例のインダクタのインダクタンスよりも小さくなる。従って、本実施の形態によれば、バンドパスフィルタ1の構造や共振器5の配置に起因した共振器5のインダクタンス成分の増加、具体的には第1の部分121a〜123aとグランド用端子との間の距離が大きいことによるインダクタ12のインダクタンスの増加を抑制することができる。これにより、本実施の形態によれば、所望のフィルタの特性を実現することが容易になる。
Here, as a comparative example of the
また、本実施の形態では、図9に示したように、導体層121における第1の部分121aは、導体層111,131のそれぞれに対してインターデジタル結合している。そのため、本実施の形態では、第1の部分121aにおけるグランド側の端部(図9における左側の端部)と、導体層111,131におけるグランド側の端部(図9における右側の端部)は、第1の部分121aの長手方向について互いに反対側に配置される。これにより、本実施の形態によれば、積層基板20内の限られた空間を効率よく利用して、導体層111,121,131を配置することが可能になる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 9, the
また、本実施の形態では、図9に示したように、導体層121は、第1の部分121aを通り第1の部分121aの長手方向に平行な仮想の直線CLを中心として線対称となる形状を有している。また、導体層111と導体層131は、仮想の直線CLを中心として線対称となる形状を有している。このような構成とすることにより、積層基板20の内部の構成が簡単になると共に、フィルタの特性の調整が容易になる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 9, the
ここで、図9に示したように、第1の部分121aと導体層111とが互いに対向する領域、すなわち、第1の部分121aの長手方向に直交する方向(図9における上方または下方)から見たときに、第1の部分121aと導体層111とが重なる領域の長さをL4とする。また、第1の部分121aと導体層131とが互いに対向する領域、すなわち、第1の部分121aの長手方向に直交する方向(図9における上方または下方)から見たときに、第1の部分121aと導体層131とが重なる領域の長さをL5とする。本実施の形態では、長さL4,L5は、第1の部分の長さL2、導体層111の長さL1および導体層131の長さL3のいずれよりも小さい。長さL4,L5は、長さL1,L2,L3のうちの最も小さいものの25%以上75%以下であることがより好ましい。
Here, as shown in FIG. 9, from the region where the
本実施の形態では、導体層111と導体層121が誘導性結合し、導体層131と導体層121が誘導性結合している。ここで、上記の長さL4,L5が小さいほど、導体層111と導体層121との誘導性結合の大きさと、導体層131と導体層121との誘導性結合の大きさが小さくなる。従って、本実施の形態によれば、長さL4,L5を調整することによって、導体層111と導体層121との誘導性結合の大きさと導体層131と導体層121との誘導性結合の大きさを調整することができる。これにより、本実施の形態によれば、隣接する共振器4,5間の誘導性結合の大きさと、隣接する共振器5,6間の誘導性結合の大きさを容易に調整することが可能になる。その結果、本実施の形態によれば、バンドパスフィルタの特性を容易に調整することが可能になる。
In the present embodiment, the
また、本実施の形態によれば、長さL4,L5が長さL1,L2,L3より小さいことから、長さL4,L5が長さL1,L2,L3のいずれかと等しい場合に比べて、共振器4,5間の誘導性結合の大きさおよび共振器5,6間の誘導性結合の大きさを小さくすることができる。これにより、本実施の形態によれば、長さL4,L5が長さL1,L2,L3のいずれかと等しい場合に比べて、バンドパスフィルタの通過・減衰特性を示す曲線のうちの減衰極の近傍の部分における傾きを大きくすることができる。そのため、本実施の形態によれば、通過帯域における通過・減衰特性と通過帯域外における通過・減衰特性とを明確に区別することが可能になる。
Further, according to the present embodiment, since the lengths L4 and L5 are smaller than the lengths L1, L2 and L3, compared to the case where the lengths L4 and L5 are equal to any of the lengths L1, L2 and L3, The size of inductive coupling between the
本実施の形態に係るバンドパスフィルタ1は、例えば、2.4〜2.5GHzの周波数帯域における減衰量を小さくし、2.17GHzの近傍の周波数帯域における減衰量を大きくしたい場合に有効である。2.4〜2.5GHzという周波数帯域は、ブルートゥース規格の通信装置や無線LAN用の通信装置において用いられるバンドパスフィルタの通過帯域である。2.17GHzの近傍の周波数帯域は、広帯域符号分割多元接続(W−CDMA)方式の携帯電話で使用される周波数帯域である。
The
また、本実施の形態によれば、バンドパスフィルタ1の小型化、薄型化に伴って隣接する共振器間の距離を短くせざるを得ない場合であっても、隣接する共振器間の誘導性結合の大きさを小さくすることができるので、バンドパスフィルタ1の小型化、薄型化が容易になる。
In addition, according to the present embodiment, even when the distance between adjacent resonators must be shortened as the
また、本実施の形態では、直列に接続されたインダクタ7とキャパシタ17とを含む接続部41によって共振器11と共振器12とが接続され、直列に接続されたインダクタ8とキャパシタ18とを含む接続部42によって共振器12と共振器13とが接続されている。これにより、本実施の形態によれば、バンドパスフィルタ1の通過・減衰特性において、通過帯域よりも高周波側に存在するノッチの周波数を調整することが可能になる。そのため、本実施の形態によれば、通過帯域よりも高周波側に存在するノッチの周波数を調整することによって、バンドパスフィルタ1の通過信号に対する高調波等のスプリアスを容易に低減することが可能になる。
In the present embodiment, the
以下、シミュレーションの結果を参照して、上記の効果について詳しく説明する。このシミュレーションでは、本実施の形態に係るバンドパスフィルタ1と図11に示した比較例のバンドパスフィルタとで、通過・減衰特性を比較した。図11に示した比較例のバンドパスフィルタの回路構成は、図4に示した本実施の形態に係るバンドパスフィルタ1からインダクタ7,8を除いて、共振器4,5をキャパシタ17のみによって接続し、共振器5,6をキャパシタ18のみによって接続した構成である。
Hereinafter, the above effects will be described in detail with reference to simulation results. In this simulation, the pass / attenuation characteristics were compared between the
図12は、図11に示した比較例のバンドパスフィルタの通過・減衰特性を示している。図13は、図4に示した本実施の形態に係るバンドパスフィルタ1の通過・減衰特性を示している。なお、図12および図13に示した通過・減衰特性は、シミュレーションによって求めたものである。このシミュレーションでは、比較例のバンドパスフィルタと本実施の形態に係るバンドパスフィルタ1のいずれについても、通過帯域がおよそ2.4〜2.5GHzになり、2.17GHzの近傍に、通過帯域よりも低周波側に存在するノッチ(減衰極)が形成されるように設計されている。図12、図13において、符号101を付した矢印は、通過帯域よりも高周波側に存在する第1のノッチ(減衰極)を示している。また、図13において、符号102を付した矢印は、通過帯域よりも高周波側に存在する第2のノッチ(減衰極)を示している。第1のノッチ101は、通過帯域よりも高周波側において、通過帯域に最も近い位置に存在するノッチである。第2のノッチ102は、通過帯域よりも高周波側において、第1のノッチ101の次に通過帯域に最も近い位置に存在するノッチである。なお、比較例のバンドパスフィルタの通過・減衰特性においては、第2のノッチは、図12に示した周波数範囲よりも高周波側に存在するため、図12には現れていない。
FIG. 12 shows pass / attenuation characteristics of the bandpass filter of the comparative example shown in FIG. FIG. 13 shows the pass / attenuation characteristics of the
図13に示した本実施の形態に係るバンドパスフィルタ1の通過・減衰特性では、図12に示した比較例のバンドパスフィルタの通過・減衰特性に比べて、第1のノッチ101の周波数が高くなり、第2のノッチ102の周波数が低くなっている。このことから、図11に示した回路構成に対してインダクタ7,8を加えることにより、通過帯域をほとんど変化させずに、第1のノッチ101の位置を高周波側に移動させ、第2のノッチ102の位置を低周波側に移動させることができることが分かる。ノッチ101,102の位置の移動量は、インダクタ7,8のインダクタンスの大きさによって調整することができる。インダクタ7,8のインダクタンスの大きさは、例えば、インダクタ形成部381a,383aの長さや幅によって調整することができる。
In the pass / attenuation characteristic of the
このように、本実施の形態によれば、通過帯域よりも高周波側に存在するノッチ101,102の周波数を調整でき、これにより、バンドパスフィルタ1の通過信号に対する高調波等のスプリアスを容易に低減することが可能になる。例えば、バンドパスフィルタ1の通過信号の周波数帯域が2.4〜2.5GHzの場合には、通過信号に対する第2高調波の周波数帯域は4.8〜5.0GHzとなり、通過信号に対する第3高調波の周波数帯域は7.2〜7.5GHzとなる。図13に示した例では、第1のノッチ101が上記の第2高調波の周波数帯域の近傍に存在し、第2のノッチ102が上記の第3高調波の周波数帯域の近傍に存在している。従って、この例では、バンドパスフィルタ1によって、通過信号に対する第2高調波および第3高調波を低減することが可能になる。
As described above, according to the present embodiment, the frequencies of the
また、本実施の形態では、バンドパスフィルタ1に対して直列にノッチフィルタを設けることなく、バンドパスフィルタ1によって、バンドパスフィルタ1の通過信号に対する高調波等のスプリアスを容易に低減することが可能になる。そのため、本実施の形態によれば、バンドパスフィルタ1の通過帯域における挿入損失が大きくなることを防止することができる。
Moreover, in this Embodiment, without providing a notch filter in series with respect to the
また、本実施の形態では、共振器11〜13を構成する共振器用導体層111〜113、121〜123、131〜133は複数の低誘電率誘電体層によって囲まれ、接続部41,42を構成する接続部用導体層381,383およびキャパシタ用導体層391は複数の高誘電率誘電体層によって囲まれている。これにより、本実施の形態によれば、接続部41,42による上述の効果を顕著にすることができる。
In the present embodiment, the resonator conductor layers 111 to 113, 121 to 123, and 131 to 133 constituting the
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されず、種々の変更が可能である。例えば、本発明のバンドパスフィルタにおいて、共振器の数は、2つでもよいし、4つ以上であってもよい。共振器の数が2つの場合のバンドパスフィルタの構成は、例えば、図4に示した構成から、共振器6と接続部42を除いた構成となる。共振器の数が4つ以上の場合のバンドパスフィルタの構成は、例えば、図4に示した構成において、共振器6と出力端子3との間に、1つ以上の新たな共振器と、隣接する共振器を接続する1つ以上の新たな接続部を挿入した構成となる。共振器の数が2つや4つ以上の場合においても、誘導性結合する2つの共振器を、直列に接続されたインダクタとキャパシタとを含む接続部によって接続することにより、実施の形態と同様に、通過帯域よりも高周波側に存在するノッチの周波数を調整することが可能になり、これにより、容易にスプリアスを低減することが可能になる。
In addition, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible. For example, in the bandpass filter of the present invention, the number of resonators may be two, or four or more. The configuration of the bandpass filter when the number of resonators is two is, for example, a configuration in which the
また、実施の形態では、インダクタ11〜13をそれぞれ3つの共振器用導体層によって構成したが、インダクタ11〜13は、それぞれ、1つまたは2つの共振器用導体層によって構成してもよいし、4つ以上の共振器用導体層によって構成してもよい。
In the embodiment, each of the
本発明のバンドパスフィルタは、特に、ブルートゥース規格の通信装置や無線LAN用の通信装置において用いられるバンドパスフィルタとして有用である。 The band-pass filter of the present invention is particularly useful as a band-pass filter used in a Bluetooth standard communication device or a wireless LAN communication device.
1…バンドパスフィルタ、2…入力端子、3…出力端子、4〜6…共振器、7,8,11〜13…インダクタ、14〜19…キャパシタ、20…積層基板、22…入力端子、23…出力端子、24〜27…グランド用端子、31〜40…誘電体層、41…第1の接続部、42…第2の接続部、111〜113,121〜123,131〜133…共振器用導体層、381,383…接続部用導体層、381a,383a…インダクタ形成部、381b,383b…キャパシタ形成部、391,401〜403…キャパシタ用導体層。
DESCRIPTION OF
Claims (7)
直列に接続されたインダクタとキャパシタとを含み、前記第1の共振器と第2の共振器とを接続する接続部と、
積層された複数の誘電体層を含む積層基板とを備えたバンドパスフィルタであって、
前記第1の共振器は、前記積層基板内に設けられた第1の共振器用導体層を有し、前記第2の共振器は、前記積層基板内に設けられた第2の共振器用導体層を有し、
バンドパスフィルタは、更に、前記第1の共振器用導体層に接続され、前記インダクタを構成するインダクタ形成部と前記キャパシタの一部を構成するキャパシタ形成部とを含む接続部用導体層と、前記第2の共振器用導体層に接続され、少なくとも1つの誘電体層を介して前記キャパシタ形成部に対向するキャパシタ用導体層とを備え、
前記キャパシタ形成部と前記キャパシタ用導体層と、これらの間に配置された前記誘電体層によって前記キャパシタが構成されていることを特徴とするバンドパスフィルタ。 First and second resonators inductively coupled;
A connecting portion that includes an inductor and a capacitor connected in series, and that connects the first resonator and the second resonator ;
A bandpass filter comprising a laminated substrate including a plurality of laminated dielectric layers,
The first resonator has a first resonator conductor layer provided in the multilayer substrate, and the second resonator is a second resonator conductor layer provided in the multilayer substrate. Have
The band-pass filter is further connected to the first resonator conductor layer, and includes a conductor layer for connection part including an inductor formation part constituting the inductor and a capacitor formation part constituting a part of the capacitor; A capacitor conductor layer connected to the second resonator conductor layer and facing the capacitor forming portion via at least one dielectric layer;
The bandpass filter , wherein the capacitor is configured by the capacitor forming portion, the capacitor conductor layer, and the dielectric layer disposed therebetween .
直列に接続された第1のインダクタと第1のキャパシタとを含み、前記第1の共振器と第2の共振器とを接続する第1の接続部と、
直列に接続された第2のインダクタと第2のキャパシタとを含み、前記第2の共振器と第3の共振器とを接続する第2の接続部と、
積層された複数の誘電体層を含む積層基板とを備え、
前記第1の共振器は、前記積層基板内に設けられた第1の共振器用導体層を有し、前記第2の共振器は、前記積層基板内に設けられた第2の共振器用導体層を有し、前記第3の共振器は、前記積層基板内に設けられた第3の共振器用導体層を有し、
バンドパスフィルタは、更に、
前記第1の共振器用導体層に接続され、前記第1のインダクタを構成する第1のインダクタ形成部と前記第1のキャパシタの一部を構成する第1のキャパシタ形成部とを含む第1の接続部用導体層と、
前記第3の共振器用導体層に接続され、前記第2のインダクタを構成する第2のインダクタ形成部と前記第2のキャパシタの一部を構成する第2のキャパシタ形成部とを含む第2の接続部用導体層と、
前記第2の共振器用導体層に接続され、少なくとも1つの誘電体層を介して前記第1および第2のキャパシタ形成部に対向するキャパシタ用導体層とを備え、
前記第1のキャパシタ形成部と前記キャパシタ用導体層と、これらの間に配置された前記誘電体層によって前記第1のキャパシタが構成され、
前記第2のキャパシタ形成部と前記キャパシタ用導体層と、これらの間に配置された前記誘電体層によって前記第2のキャパシタが構成されていることを特徴とするバンドパスフィルタ。 A band-pass filter comprising first to third resonators, wherein the first resonator and the second resonator are inductively coupled, and the second resonator and the third resonator are inductively coupled. Furthermore,
A first connection part including a first inductor and a first capacitor connected in series, and connecting the first resonator and the second resonator;
A second connecting portion including a second inductor and a second capacitor connected in series, and connecting the second resonator and the third resonator ;
A laminated substrate including a plurality of laminated dielectric layers,
The first resonator has a first resonator conductor layer provided in the multilayer substrate, and the second resonator is a second resonator conductor layer provided in the multilayer substrate. And the third resonator has a third resonator conductor layer provided in the multilayer substrate,
The bandpass filter
A first inductor connected to the first resonator conductor layer and including a first inductor forming portion constituting the first inductor and a first capacitor forming portion constituting a part of the first capacitor. A conductor layer for the connecting portion;
A second inductor forming portion connected to the third resonator conductor layer and constituting the second inductor; and a second capacitor forming portion constituting a part of the second capacitor. A conductor layer for the connecting portion;
A capacitor conductor layer connected to the second resonator conductor layer and facing the first and second capacitor formation portions via at least one dielectric layer;
The first capacitor is configured by the first capacitor forming portion, the capacitor conductor layer, and the dielectric layer disposed therebetween,
The band-pass filter , wherein the second capacitor is constituted by the second capacitor forming portion, the capacitor conductor layer, and the dielectric layer disposed therebetween .
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