JP4626455B2 - Manufacturing method of multilayer electronic component - Google Patents

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Description

本発明は、たとえば積層セラミックコンデンサなどの積層型電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer electronic component such as a multilayer ceramic capacitor.

近年、各種電子機器の小型化により、電子機器の内部に装着される電子部品の小型化および高性能化が進んでいる。電子部品の一つとして、積層セラミックコンデンサがあり、この積層セラミックコンデンサも小型化および高性能化が求められている。   In recent years, with the miniaturization of various electronic devices, miniaturization and high performance of electronic components mounted inside the electronic devices have been advanced. One of the electronic components is a multilayer ceramic capacitor, and the multilayer ceramic capacitor is also required to be small in size and high in performance.

この積層セラミックコンデンサの小型化および高性能化、特に高容量化を進めるために、誘電体層の薄層化が強く求められており、最近では、誘電体グリーンシートの厚みが数μm以下になってきた。   In order to reduce the size and performance of this multilayer ceramic capacitor, and in particular to increase the capacity, there is a strong demand for thinner dielectric layers. Recently, the thickness of dielectric green sheets has become several μm or less. I came.

セラミックグリーンシートは、通常、まずセラミック粉末、バインダ(アクリル系樹脂、ブチラール系樹脂など)、可塑剤および有機溶剤(トルエン、アルコール、MEKなど)からなるセラミック塗料を、ドクターブレード法などを用いてPETフィルムなどのキャリアシート上に塗布し、加熱乾燥させて製造される。   A ceramic green sheet is usually made of ceramic powder, a binder (acrylic resin, butyral resin, etc.), a plasticizer and an organic solvent (toluene, alcohol, MEK, etc.) using a doctor blade method. It is manufactured by applying on a carrier sheet such as a film and drying by heating.

また、近年、セラミック粉末とバインダが溶媒に混合されたセラミック懸濁液を準備し、この懸濁液を押出成形して得られるフィルム状成形体を二軸延伸して製造することも検討されている。   In recent years, it has been studied to prepare a ceramic suspension in which ceramic powder and a binder are mixed in a solvent, and to produce a film-like molded body obtained by extrusion-molding this suspension by biaxial stretching. Yes.

前述のセラミックグリーンシートを用いて、積層セラミックコンデンサを製造する方法を具体的に説明すると、セラミックグリーンシート上に、金属粉末とバインダを含む内部電極用導電性ペーストを所定パターンで印刷し、乾燥させて内部電極パターンを形成する。次に、前記セラミックグリーンシートからキャリアシートを剥離し、これらを複数、積層したものをチップ状に切断してグリーンチップとする。次に、このグリーンチップを焼成した後、外部電極を形成する。   A method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor using the ceramic green sheet will be described in detail. A conductive paste for internal electrodes including a metal powder and a binder is printed in a predetermined pattern on a ceramic green sheet and dried. To form an internal electrode pattern. Next, the carrier sheet is peeled from the ceramic green sheet, and a plurality of these laminated sheets are cut into chips to obtain green chips. Next, after firing the green chip, external electrodes are formed.

近年では、積層セラミックコンデンサの使用範囲の増大と共に、小型高容量化が市場の要求となっており、そのためには、内部電極が形成されるシートの層間厚みは年々薄層化の一途を辿っている。   In recent years, as the range of use of monolithic ceramic capacitors has increased, miniaturization and higher capacity have become a market demand. To that end, the interlayer thickness of the sheet on which the internal electrodes are formed has been increasingly reduced year by year. Yes.

ところが、薄層化したセラミックグリーンシートに内部電極用ペーストを印刷する場合に、内部電極用ペースト中の溶剤がセラミックグリーンシートのバインダ成分を溶解または膨潤させるという不具合がある。また、グリーンシート中に内部電極用ペーストが染み込むという不具合もある。これらの不具合は、短絡不良の発生原因となる場合が多い。   However, when the internal electrode paste is printed on the thinned ceramic green sheet, there is a problem that the solvent in the internal electrode paste dissolves or swells the binder component of the ceramic green sheet. There is also a problem that the internal electrode paste penetrates into the green sheet. These defects often cause short circuit defects.

このような不具合を解消するために、下記の特許文献1〜3では、内部電極パターンを支持シートに形成した後に乾燥させ、乾式タイプの電極パターンを別に準備している。この乾式タイプの電極パターンを、各セラミックグリーンシートの表面、あるいはセラミックグリーンシートの積層体の表面に転写する内部電極パターン転写法が提案されている。   In order to eliminate such problems, in Patent Documents 1 to 3 below, an internal electrode pattern is formed on a support sheet and then dried, and a dry type electrode pattern is separately prepared. An internal electrode pattern transfer method has been proposed in which this dry type electrode pattern is transferred to the surface of each ceramic green sheet or the surface of a laminate of ceramic green sheets.

ところが、これらの特許文献1〜3に示す技術では、特にグリーンシートの厚みが薄い場合に、電極パターン層をグリーンシートの表面に良好に接着して高精度に転写することは極めて困難であり、転写工程において、セラミックグリーンシートが部分的に破壊されてしまうこともある。   However, in the technologies shown in these Patent Documents 1 to 3, it is extremely difficult to transfer the electrode pattern layer to the surface of the green sheet with high accuracy, particularly when the thickness of the green sheet is thin, In the transfer process, the ceramic green sheet may be partially destroyed.

また、これらの従来技術に係る転写法では、電極パターン層をグリーンシートの表面に転写するために、高い圧力と熱を必要とし、このためにグリーンシート、電極層および支持シートの変形が起こりやすく、積層時に実用に供することができないものとなったり、グリーンシートの破壊により、短絡不良を引き起こす可能性がある。   In addition, the transfer methods according to these conventional techniques require high pressure and heat in order to transfer the electrode pattern layer to the surface of the green sheet. Therefore, the green sheet, the electrode layer, and the support sheet are easily deformed. There is a possibility that it may not be practically used at the time of lamination, or a short circuit failure may occur due to the destruction of the green sheet.

これに対して、本出願人は、既に乾式タイプの電極層を転写する際に、バインダ樹脂および可塑剤を含有する接着層を介して転写する方法を提案している(特許文献4)。この文献の技術によれば、グリーンシートを薄層化した場合においても、グリーンシートの表面に容易且つ高精度に乾式タイプの電極層を転写することが可能となった。しかしながら、このような接着層に、十分な接着性を発揮させるために、接着層の厚みを比較的に厚くすると(たとえば、0.2μmより厚くすると)、脱バインダ工程において、接着層に含有されるバインダ樹脂が分解されずに残り、焼結後の素体内部にボイドが形成され、その影響で層間剥離が発生してしまうという課題があった。一方で、上記問題を解決するために、接着層の厚みを薄くすると、接着性が不十分になってしまい、同様に層間剥離が発生してしまうという課題があった。   On the other hand, the present applicant has already proposed a method of transferring a dry type electrode layer via an adhesive layer containing a binder resin and a plasticizer (Patent Document 4). According to the technique of this document, even when the green sheet is thinned, it is possible to easily and accurately transfer the dry type electrode layer onto the surface of the green sheet. However, in order for such an adhesive layer to exhibit sufficient adhesiveness, if the thickness of the adhesive layer is relatively thick (for example, greater than 0.2 μm), it is contained in the adhesive layer in the binder removal step. There is a problem that the binder resin remains without being decomposed, voids are formed inside the sintered body, and delamination occurs due to the influence. On the other hand, when the thickness of the adhesive layer is reduced in order to solve the above problem, there is a problem that the adhesiveness becomes insufficient and delamination occurs similarly.

特開昭63−51616号公報JP-A-63-51616 特開平3−250612号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-250612 特開平7−312326号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-31326 国際公開第2004/61880号パンフレットInternational Publication No. 2004/61880 Pamphlet

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、接着層を介して、グリーンシートと電極層とを積層することにより、グリーンシートを薄層化した場合においても、グリーンシートが破壊または変形されることなく、グリーンシートの表面に容易且つ高精度に乾式タイプの電極層を転写することができ、特に、十分な接着性を維持しながら、接着層の薄層化が実現可能であり、接着層の形成に起因する層間剥離現象が有効に防止された積層型電子部品の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and even when the green sheet is thinned by laminating the green sheet and the electrode layer through the adhesive layer, the green sheet is broken or deformed. Therefore, the dry type electrode layer can be easily and accurately transferred to the surface of the green sheet, and in particular, the adhesive layer can be made thin while maintaining sufficient adhesiveness. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a multilayer electronic component in which the delamination phenomenon caused by the formation of is effectively prevented.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、電極層またはグリーンシートの表面に、接着層を形成する際に、所定の条件で乾燥処理を行うことにより、本発明の目的を達成することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has achieved the object of the present invention by performing a drying treatment under predetermined conditions when forming an adhesive layer on the surface of an electrode layer or a green sheet. It has been found that this can be achieved, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明の第1の観点に係る積層型電子部品の製造方法は、
電極層またはグリーンシートの表面に、バインダ樹脂および可塑剤を含有する接着層を形成する工程と、
前記接着層を介して、電極層とグリーンシートとを積層し、グリーンチップを形成する工程と、
前記グリーンチップを焼成する工程と、を有する積層型電子部品の製造方法であって、
前記接着層は、前記バインダ樹脂、前記可塑剤および溶剤を含有する接着層用ペーストを用いて形成される接着層用ペースト膜を、80℃超、160℃以下の温度で乾燥することにより形成されることを特徴とする。
That is, the manufacturing method of the multilayer electronic component according to the first aspect of the present invention includes:
Forming an adhesive layer containing a binder resin and a plasticizer on the surface of the electrode layer or the green sheet;
A step of laminating an electrode layer and a green sheet through the adhesive layer to form a green chip;
A step of firing the green chip, comprising the steps of:
The adhesive layer is formed by drying an adhesive layer paste film formed using an adhesive layer paste containing the binder resin, the plasticizer, and a solvent at a temperature of 80 ° C. or higher and 160 ° C. or lower. It is characterized by that.

本発明の第2の観点に係る積層型電子部品の製造方法は、
電極層またはグリーンシートの表面に、バインダ樹脂および可塑剤を含有する接着層を形成する工程と、
前記接着層を介して、電極層とグリーンシートとを積層し、グリーンチップを形成する工程と、
前記グリーンチップを焼成する工程と、を有する積層型電子部品の製造方法であって、
前記接着層は、前記バインダ樹脂、前記可塑剤および溶剤を含有する接着層用ペーストを用いて形成される接着層用ペースト膜を乾燥することにより形成され、
乾燥後の前記接着層が前記接着層をその表面に形成した前記電極層または前記グリーンシートを実際に被覆する面積の割合である被覆率が、5%〜50%となるように、前記乾燥を行うことを特徴とする。
A method for manufacturing a multilayer electronic component according to a second aspect of the present invention includes:
Forming an adhesive layer containing a binder resin and a plasticizer on the surface of the electrode layer or the green sheet;
A step of laminating an electrode layer and a green sheet through the adhesive layer to form a green chip;
A step of firing the green chip, comprising the steps of:
The adhesive layer is formed by drying an adhesive layer paste film formed using an adhesive layer paste containing the binder resin, the plasticizer, and a solvent,
The drying is performed so that the covering ratio, which is the ratio of the area actually covering the electrode layer or the green sheet on which the adhesive layer is formed on the surface, is 5% to 50%. It is characterized by performing.

本発明の第1の観点および第2の観点に係る積層型電子部品の製造方法では、電極層またはグリーンシートの表面に、接着層を形成し、その接着層を介して、電極層とグリーンシートとを接着する。接着層を形成することで、電極層とグリーンシートとを接着させる際に、高い圧力や熱が不要となり、より低圧および低温での接着が可能になる。したがって、グリーンシートが極めて薄い場合でも、グリーンシートが破壊されることはなくなり、電極層とグリーンシートとの積層を良好に行うことができ、短絡不良などの発生を有効に防止することができる。   In the multilayer electronic component manufacturing method according to the first and second aspects of the present invention, an adhesive layer is formed on the surface of the electrode layer or the green sheet, and the electrode layer and the green sheet are interposed via the adhesive layer. And glue. By forming the adhesive layer, high pressure and heat are not required when the electrode layer and the green sheet are bonded, and bonding at a lower pressure and a lower temperature is possible. Therefore, even when the green sheet is extremely thin, the green sheet is not destroyed, and the electrode layer and the green sheet can be laminated satisfactorily, and occurrence of a short circuit failure or the like can be effectively prevented.

しかも、本発明の第1の観点および第2の観点に係る積層型電子部品の製造方法では、接着層を形成する際に、上記条件で乾燥処理を行う。特に、上記条件で乾燥処理を行うことにより、接着層中の可塑剤を、接着層表面に滲み出し、その滲み出した可塑剤が粘着付与剤の役割を果たし、接着層の接着性を向上させることができる。   And in the manufacturing method of the multilayer electronic component which concerns on the 1st viewpoint and 2nd viewpoint of this invention, when forming an contact bonding layer, a drying process is performed on the said conditions. In particular, by performing a drying treatment under the above conditions, the plasticizer in the adhesive layer oozes out to the surface of the adhesive layer, and the oozed plasticizer serves as a tackifier and improves the adhesiveness of the adhesive layer. be able to.

好ましくは、前記接着層の平均膜厚を0.02〜0.2μmの範囲、より好ましくは0.02〜0.1μmの範囲と、薄層化する。
本発明では、接着層を形成する際に、上記所定の条件で乾燥処理を行うため、このように接着層の厚みを薄層化した場合においても、接着性(スタック強度)を十分に保つことができる。ただし、接着層の平均膜厚が薄すぎると、接着性が低下してしまい、複数の電極層とグリーンシートとから構成される積層体から支持シートを剥離する際に、電極層とグリーンシートとの間の転写界面が破断してしまい、この破断が欠陥となり、ショート不良の原因となる。さらに、電極層とグリーンシートとの間の転写界面での密着が不十分となり、焼結後に層間剥離現象が発生してしまう。一方、接着層が厚すぎると、脱バインダ工程において、接着層に含有されるバインダ樹脂が分解されずに残ってしまい、焼結後の素体内部にボイドが形成され、その影響で層間剥離が発生してしまう。さらに、接着層の厚みが厚すぎると、その接着層の厚みに依存して焼結後の素子本体の内部に隙間ができやすく、その体積分の静電容量が著しく低下する傾向にある。
Preferably, the adhesive layer is thinned so that the average film thickness is in the range of 0.02 to 0.2 μm, more preferably in the range of 0.02 to 0.1 μm.
In the present invention, when the adhesive layer is formed, the drying treatment is performed under the above-described predetermined conditions. Therefore, even when the thickness of the adhesive layer is reduced as described above, sufficient adhesion (stack strength) is maintained. Can do. However, if the average film thickness of the adhesive layer is too thin, the adhesiveness is reduced, and when peeling the support sheet from a laminate composed of a plurality of electrode layers and a green sheet, the electrode layer and the green sheet The transfer interface between them breaks, and this breakage becomes a defect, causing a short circuit failure. Furthermore, the adhesion at the transfer interface between the electrode layer and the green sheet becomes insufficient, and a delamination phenomenon occurs after sintering. On the other hand, if the adhesive layer is too thick, the binder resin contained in the adhesive layer remains in the binder removal process without being decomposed, and voids are formed inside the sintered body. Will occur. Furthermore, if the thickness of the adhesive layer is too thick, a gap is likely to be formed inside the element body after sintering depending on the thickness of the adhesive layer, and the electrostatic capacity corresponding to the volume tends to be significantly reduced.

好ましくは、前記接着層は、最初に支持シートの表面に剥離可能に形成され、前記電極層の表面または前記グリーンシートの表面に押し付けられて転写される。電極層またはグリーンシートの表面に接着層を直接塗布法などで形成せずに、転写法により形成することで、接着層の成分が電極層またはグリーンシートに染み込むことがないと共に、極めて薄い接着層の形成が可能になる。   Preferably, the adhesive layer is first formed to be peelable on the surface of the support sheet, and is transferred by being pressed against the surface of the electrode layer or the surface of the green sheet. The adhesive layer is not formed directly on the surface of the electrode layer or green sheet by the application method, but by the transfer method, the components of the adhesive layer do not soak into the electrode layer or the green sheet, and the extremely thin adhesive layer Can be formed.

好ましくは、前記接着層は、前記接着層をその表面に形成した前記電極層または前記グリーンシートを、実際に被覆している被覆部分と、実質的に被覆していない非被覆部分と、を有している。本発明においては、非被覆部分は、接着層を形成する際における乾燥処理条件を上記所定の範囲とした結果、接着層に含有されている可塑剤が滲み出してくることにより、形成される。そのため、非被覆部分は、通常、円形状のハジキ部分として観察される。   Preferably, the adhesive layer has a covered portion that actually covers the electrode layer or the green sheet on which the adhesive layer is formed, and a non-covered portion that is not substantially covered. is doing. In the present invention, the uncoated portion is formed when the plasticizer contained in the adhesive layer oozes out as a result of setting the drying treatment conditions when forming the adhesive layer to the predetermined range. For this reason, the uncovered portion is usually observed as a circular repellant portion.

好ましくは、前記非被覆部分(ハジキ部分)のうち、その直径が最大である最大非被覆部分(最大ハジキ部分)の直径が80μm以下、より好ましくは50μm以下である。最大ハジキ部分の直径が大きすぎると、接着性が低下してしまう傾向にある。   Preferably, the diameter of the maximum non-covered portion (maximum repellant portion) having the maximum diameter among the uncovered portions (repellent portions) is 80 μm or less, more preferably 50 μm or less. When the diameter of the maximum repellency portion is too large, the adhesiveness tends to decrease.

好ましくは、前記被覆部分の厚みが、0.05〜4μmの範囲、より好ましくは0.1〜2μmの範囲である。
本発明においては、前記非被覆部分(ハジキ部分)には、実質的に接着層を構成する成分(バインダ樹脂や可塑剤等)が存在せず、実際の厚みは、ほぼゼロとなる。一方で、乾燥処理前には前記非被覆部分(ハジキ部分)に存在していた接着層を構成する成分が、前記被覆部分側へとハジキ出されることとなる。そのため、被覆部分の厚みは、上記した前記接着層の平均膜厚よりも厚くなる傾向にある。なお、この場合の前記接着層の平均膜厚は、前記非被覆部分(ハジキ部分)の厚みと被覆部分の厚みとを、その存在割合に応じて、平均化したものとなる。
Preferably, the thickness of the covering portion is in the range of 0.05 to 4 μm, more preferably in the range of 0.1 to 2 μm.
In the present invention, the non-covered portion (repellent portion) is substantially free of components (binder resin, plasticizer, etc.) constituting the adhesive layer, and the actual thickness is substantially zero. On the other hand, the component which comprises the contact bonding layer which existed in the said non-coating part (peeling part) before the drying process will be sprinkled out to the said coating | coated part side. For this reason, the thickness of the covering portion tends to be thicker than the average film thickness of the adhesive layer. In addition, the average film thickness of the said adhesive layer in this case averages the thickness of the said non-coating part (repelling part), and the thickness of a coating | coated part according to the abundance ratio.

接着層中に含有される前記バインダ樹脂としては、特に限定されず、前記グリーンシートに含有されるバインダ樹脂と同種のものを使用すれば良い。このような樹脂としては、アクリル系樹脂およびブチラール系樹脂から選択される1種以上が好適に用いられる。   It does not specifically limit as said binder resin contained in a contact bonding layer, What is necessary is just to use the same kind as binder resin contained in the said green sheet. As such a resin, one or more selected from acrylic resins and butyral resins are preferably used.

好ましくは、前記接着層中における前記可塑剤の含有量は、前記バインダ樹脂100質量部に対して、10〜100質量部である。
好ましくは、前記接着層に含有される前記可塑剤がフタル酸エステルである。フタル酸エステルとしては、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ベンジルブチルなどが例示される。
Preferably, the content of the plasticizer in the adhesive layer is 10 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
Preferably, the plasticizer contained in the adhesive layer is a phthalate ester. Examples of the phthalate ester include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, and benzyl butyl phthalate.

好ましくは、前記グリーンシートの厚みが2μm以下である。本発明は、グリーンシートを薄層化した場合、特にグリーンシートの厚みを2μm以下の場合に効果が大きい。   Preferably, the green sheet has a thickness of 2 μm or less. The present invention is highly effective when the green sheet is thinned, particularly when the thickness of the green sheet is 2 μm or less.

好ましくは、前記電極層は、剥離層を介して、支持シートの表面に所定パターンで形成され、前記電極層が形成されていない剥離層の表面には、前記電極層と実質的に同じ厚みの余白パターン層が形成され、前記余白パターン層が、前記グリーンシートと実質的に同じ材質で構成してある。   Preferably, the electrode layer is formed in a predetermined pattern on the surface of the support sheet via the release layer, and the surface of the release layer on which the electrode layer is not formed has substantially the same thickness as the electrode layer. A blank pattern layer is formed, and the blank pattern layer is made of substantially the same material as the green sheet.

余白パターン層を形成することで、所定パターンの電極層による表面の段差が解消される。そのため、グリーンシートを多数積層してグリーンチップとし、焼成前のグリーンチップを加圧しても、積層体の外面が平面に保たれると共に、電極層が平面方向に位置ズレすることなく、しかも、グリーンシートを突き破り短絡の原因などになることもない。   By forming the blank pattern layer, the step on the surface due to the electrode layer having a predetermined pattern is eliminated. Therefore, a large number of green sheets are laminated to form a green chip, and even if the green chip before firing is pressed, the outer surface of the laminate is kept flat, and the electrode layer is not displaced in the plane direction. It will not break through the green sheet and cause a short circuit.

なお、本発明により製造される積層型電子部品としては、特に限定されないが、たとえば積層セラミックコンデンサ、積層インダクタ素子などが例示される。   The multilayer electronic component manufactured according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a multilayer ceramic capacitor and a multilayer inductor element.

また、本発明において、電極層とは、焼成後に内部電極層となる電極ペースト膜を含む概念で用いる。   Moreover, in this invention, an electrode layer is used by the concept containing the electrode paste film | membrane used as an internal electrode layer after baking.

本発明によれば、接着層を介して、グリーンシートと電極層とを積層するため、グリーンシートを薄層化した場合においても、グリーンシートが破壊または変形されることなく、グリーンシートの表面に容易且つ高精度に乾式タイプの電極層を転写することが可能であるコストが安価な積層型電子部品の製造方法を提供することができる。しかも、本発明においては、接着層を形成する際に、所定の条件で乾燥処理を行うため、十分な接着性を維持しながら、接着層の薄層化を実現することができ、接着層の形成に起因する層間剥離現象を有効に防止することもできる。   According to the present invention, since the green sheet and the electrode layer are laminated through the adhesive layer, even when the green sheet is thinned, the green sheet is not destroyed or deformed, and the surface of the green sheet is not damaged. It is possible to provide a method for manufacturing a laminated electronic component that can transfer a dry-type electrode layer easily and with high accuracy and at a low cost. Moreover, in the present invention, when the adhesive layer is formed, the drying process is performed under predetermined conditions, so that the adhesive layer can be thinned while maintaining sufficient adhesiveness. The delamination phenomenon resulting from the formation can be effectively prevented.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの概略断面図、図2(A)〜図2(C)および図3(A)〜図3(C)は電極層の転写方法を示す要部断面図、図4(A)〜図4(C)、図5(A)〜図5(C)は積層体ユニットの積層方法を示す要部断面図、図6(A)は本発明の実施例に係る接着層の表面写真、図6(B)、図6(C)は比較例に係る接着層の表面写真である。
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 2A to 2C and FIGS. 3A to 3C show a method for transferring an electrode layer. 4A to FIG. 4C, FIG. 5A to FIG. 5C are main part cross-sectional views showing a method of stacking the laminated body unit, and FIG. 6A is the present invention. FIG. 6B and FIG. 6C are surface photographs of the adhesive layer according to the comparative example.

積層セラミックコンデンサ
まず、本発明に係る方法により製造される電子部品の一実施形態として、積層セラミックコンデンサの全体構成について説明する。
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2は、誘電体層10と内部電極層12とが交互に積層された構成のコンデンサ素体4を有する。このコンデンサ素体4の両側端部には、素体4の内部で交互に配置された内部電極層12と各々導通する一対の外部電極6,8が形成してある。内部電極層12は、各側端面がコンデンサ素体4の対向する2端部の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極6,8は、コンデンサ素体4の両端部に形成され、交互に配置された内部電極層12の露出端面に接続されて、コンデンサ回路を構成する。
Multilayer Ceramic Capacitor First, the overall configuration of a multilayer ceramic capacitor will be described as an embodiment of an electronic component manufactured by the method according to the present invention.
As shown in FIG. 1, a multilayer ceramic capacitor 2 according to an embodiment of the present invention includes a capacitor element body 4 having a configuration in which dielectric layers 10 and internal electrode layers 12 are alternately stacked. A pair of external electrodes 6 and 8 are formed at both ends of the capacitor element body 4 so as to be electrically connected to the internal electrode layers 12 arranged alternately in the element element body 4. The internal electrode layers 12 are laminated such that the side end faces are alternately exposed on the surfaces of the two opposite ends of the capacitor body 4. The pair of external electrodes 6 and 8 are formed at both ends of the capacitor body 4 and are connected to the exposed end surfaces of the alternately arranged internal electrode layers 12 to constitute a capacitor circuit.

本実施形態では、内部電極層12は、後で詳細に説明するように、図2〜図5に示すように、電極層12aをセラミックグリーンシート10aに転写して形成される。   In the present embodiment, as will be described in detail later, the internal electrode layer 12 is formed by transferring the electrode layer 12a to the ceramic green sheet 10a as shown in FIGS.

誘電体層10の材質は、特に限定されず、たとえばチタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウムおよび/またはチタン酸バリウムなどの誘電体材料で構成される。各誘電体層10の厚みは、特に限定されないが、数μm〜数百μmのものが一般的である。特に本実施形態では、好ましくは5μm以下、より好ましくは3μm以下、さらに好ましくは2μm以下に薄層化されている。   The material of the dielectric layer 10 is not particularly limited, and is made of a dielectric material such as calcium titanate, strontium titanate and / or barium titanate. The thickness of each dielectric layer 10 is not particularly limited, but is generally several μm to several hundred μm. In particular, in this embodiment, the thickness is preferably 5 μm or less, more preferably 3 μm or less, and even more preferably 2 μm or less.

端子電極6および8の材質も特に限定されないが、通常、銅や銅合金、ニッケルやニッケル合金などが用いられるが、銀や銀とパラジウムの合金なども使用することができる。端子電極6および8の厚みも特に限定されないが、通常10〜50μm程度である。   Although the material of the terminal electrodes 6 and 8 is not particularly limited, copper, a copper alloy, nickel, a nickel alloy, or the like is usually used, but silver, an alloy of silver and palladium, or the like can also be used. The thickness of the terminal electrodes 6 and 8 is not particularly limited, but is usually about 10 to 50 μm.

積層セラミックコンデンサ2の形状やサイズは、目的や用途に応じて適宜決定すればよい。積層セラミックコンデンサ2が直方体形状の場合は、通常、縦(0.6〜5.6mm、好ましくは0.6〜3.2mm)×横(0.3〜5.0mm、好ましくは0.3〜1.6mm)×厚み(0.1〜1.9mm、好ましくは0.3〜1.6mm)程度である。   The shape and size of the multilayer ceramic capacitor 2 may be appropriately determined according to the purpose and application. When the multilayer ceramic capacitor 2 has a rectangular parallelepiped shape, it is usually vertical (0.6 to 5.6 mm, preferably 0.6 to 3.2 mm) × horizontal (0.3 to 5.0 mm, preferably 0.3 to 1.6 mm) × thickness (0.1 to 1.9 mm, preferably 0.3 to 1.6 mm).

積層セラミックコンデンサの製造方法
次に、本実施形態に係る積層セラミックコンデンサ2の製造方法の一例を説明する。
Method for Manufacturing Multilayer Ceramic Capacitor Next, an example of a method for manufacturing the multilayer ceramic capacitor 2 according to this embodiment will be described.

(1)まず、焼成後に図1に示す誘電体層10を構成することになるセラミックグリーンシートを製造するために、誘電体ペーストを準備する。
誘電体ペーストは、通常、誘電体原料と有機ビヒクルとを混練して得られた有機溶剤系ペースト、または水系ペーストで構成される。
(1) First, a dielectric paste is prepared in order to manufacture a ceramic green sheet that will constitute the dielectric layer 10 shown in FIG. 1 after firing.
The dielectric paste is usually composed of an organic solvent-based paste obtained by kneading a dielectric material and an organic vehicle, or an aqueous paste.

誘電体原料としては、複合酸化物や酸化物となる各種化合物、たとえば炭酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物などから適宜選択され、混合して用いることができる。誘電体原料は、通常、平均粒子径が0.4μm以下、好ましくは0.1〜3.0μm程度の粉末として用いられる。なお、極めて薄いグリーンシートを形成するためには、グリーンシート厚みよりも細かい粉末を使用することが望ましい。   As the dielectric material, various compounds to be complex oxides and oxides, for example, carbonates, nitrates, hydroxides, organometallic compounds, and the like are appropriately selected and used by mixing. The dielectric material is usually used as a powder having an average particle size of 0.4 μm or less, preferably about 0.1 to 3.0 μm. In order to form an extremely thin green sheet, it is desirable to use a powder finer than the thickness of the green sheet.

有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いられるバインダとしては、特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂などの通常の各種バインダが用いられるが、好ましくは、アクリル系樹脂や、ポリビニルブチラールなどのブチラール系樹脂が用いられる。   An organic vehicle is obtained by dissolving a binder in an organic solvent. The binder used in the organic vehicle is not particularly limited, and various ordinary binders such as ethyl cellulose, polyvinyl butyral, and acrylic resin are used. Preferably, acrylic resins and butyral resins such as polyvinyl butyral are used. .

また、有機ビヒクルに用いられる有機溶剤も特に限定されず、テルピネオール、アルコール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエンなどの有機溶剤が用いられる。また、水系ペーストにおけるビヒクルは、水に水溶性バインダを溶解させたものである。水溶性バインダとしては特に限定されず、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、水溶性アクリル樹脂、エマルジョンなどが用いられる。誘電体ペースト中の各成分の含有量は特に限定されず、通常の含有量、たとえばバインダは1〜5質量%程度、溶剤(または水)は10〜50質量%程度とすればよい。   Further, the organic solvent used in the organic vehicle is not particularly limited, and organic solvents such as terpineol, alcohol, butyl carbitol, acetone, and toluene are used. Further, the vehicle in the aqueous paste is obtained by dissolving a water-soluble binder in water. The water-soluble binder is not particularly limited, and polyvinyl alcohol, methyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, water-soluble acrylic resin, emulsion and the like are used. The content of each component in the dielectric paste is not particularly limited, and the normal content, for example, the binder may be about 1 to 5% by mass, and the solvent (or water) may be about 10 to 50% by mass.

誘電体ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、誘電体、ガラスフリット、絶縁体などから選択される添加物が含有されても良い。ただし、これらの総含有量は、10質量%以下とすることが望ましい。バインダ樹脂として、ブチラール系樹脂を用いる場合には、可塑剤は、バインダ樹脂100質量部に対して、25〜100質量部の含有量であることが好ましい。可塑剤が少なすぎると、グリーンシートが脆くなる傾向にあり、多すぎると、可塑剤が滲み出し、取り扱いが困難である。   The dielectric paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectrics, glass frit, insulators and the like as required. However, the total content of these is preferably 10% by mass or less. When a butyral resin is used as the binder resin, the plasticizer preferably has a content of 25 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin. If the amount of the plasticizer is too small, the green sheet tends to be brittle. If the amount is too large, the plasticizer oozes out and is difficult to handle.

そして、この誘電体ペーストを用いて、ドクターブレード法などにより、図3(A)に示すように、第2支持シートとしてのキャリアシート30上に、好ましくは0.5〜30μm、より好ましくは0.5〜10μm程度の厚みで、グリーンシート10aを形成する。グリーンシート10aは、キャリアシート30に形成された後に乾燥される。グリーンシート10aの乾燥温度は、好ましくは50〜100℃であり、乾燥時間は、好ましくは1〜20分である。乾燥後のグリーンシート10aの厚みは、乾燥前に比較して、5〜25%の厚みに収縮する。乾燥後のグリーンシートの厚みは、2μm以下が好ましい。   Then, by using this dielectric paste, it is preferably 0.5 to 30 μm, more preferably 0 on the carrier sheet 30 as the second support sheet, as shown in FIG. The green sheet 10a is formed with a thickness of about 5 to 10 μm. The green sheet 10 a is dried after being formed on the carrier sheet 30. The drying temperature of the green sheet 10a is preferably 50 to 100 ° C., and the drying time is preferably 1 to 20 minutes. The thickness of the green sheet 10a after drying shrinks to a thickness of 5 to 25% as compared with that before drying. The thickness of the green sheet after drying is preferably 2 μm or less.

(2)上記のキャリアシート30とは別に、図2(A)に示すように、第1支持シートとしてのキャリアシート20を準備し、その上に、剥離層22を形成し、その上に、所定パターンの電極層12aを形成し、その前後に、その電極層12aが形成されていない剥離層22の表面に、電極層12aと実質的に同じ厚みの余白パターン層24を形成する。   (2) Separately from the carrier sheet 30 described above, as shown in FIG. 2A, a carrier sheet 20 as a first support sheet is prepared, and a release layer 22 is formed thereon, on which An electrode layer 12a having a predetermined pattern is formed, and before and after that, a blank pattern layer 24 having substantially the same thickness as the electrode layer 12a is formed on the surface of the release layer 22 where the electrode layer 12a is not formed.

キャリアシート20および30(第1および第2支持シート)としては、たとえばPETフィルムなどが用いられ、剥離性を改善するために、シリコンなどがコーティングしてあるものが好ましい。これらのキャリアシート20および30の厚みは、特に限定されないが、好ましくは、5〜100μmである。これらのキャリアシート20および30の厚みは、同じでも異なっていても良い。   As carrier sheets 20 and 30 (first and second support sheets), for example, a PET film or the like is used, and those coated with silicon or the like are preferable in order to improve peelability. Although the thickness of these carrier sheets 20 and 30 is not specifically limited, Preferably, it is 5-100 micrometers. The thicknesses of these carrier sheets 20 and 30 may be the same or different.

剥離層22は、好ましくは図3(A)に示すグリーンシート10aを構成する誘電体と同じ誘電体粒子を含む。また、この剥離層22は、誘電体粒子以外に、バインダと、可塑剤と、離型剤とを含む。誘電体粒子の粒径は、グリーンシートに含まれる誘電体粒子の粒径と同じでも良いが、より小さいことが好ましい。   The release layer 22 preferably includes the same dielectric particles as the dielectric that constitutes the green sheet 10a shown in FIG. In addition to the dielectric particles, the release layer 22 includes a binder, a plasticizer, and a release agent. The particle size of the dielectric particles may be the same as the particle size of the dielectric particles contained in the green sheet, but is preferably smaller.

本実施形態では、剥離層22の厚みは、電極層12aの厚み以下の厚みであることが好ましく、好ましくは60%以下の厚み、さらに好ましくは30%以下に設定する。   In the present embodiment, the thickness of the release layer 22 is preferably less than or equal to the thickness of the electrode layer 12a, preferably 60% or less, and more preferably 30% or less.

剥離層22の塗布方法としては、特に限定されないが、極めて薄く形成する必要があるために、たとえばワイヤーバーコーターまたはダイコーターを用いる塗布方法が好ましい。なお、剥離層22の厚みの調整は、異なるワイヤー径のワイヤーバーコーターを選択することで行うことができる。すなわち、剥離層22の塗布厚みを薄くするためには、ワイヤー径の小さいものを選択すれば良く、逆に厚く形成するためには、太いワイヤー径のものを選択すればよい。剥離層22は、塗布後に乾燥される。乾燥温度は、好ましくは、50〜100℃であり、乾燥時間は、好ましくは1〜10分である。   The method for applying the release layer 22 is not particularly limited. However, since it is necessary to form the release layer 22 very thinly, for example, a coating method using a wire bar coater or a die coater is preferable. The thickness of the release layer 22 can be adjusted by selecting a wire bar coater having a different wire diameter. That is, in order to reduce the coating thickness of the release layer 22, a small wire diameter may be selected. Conversely, in order to form a thick film, a thick wire diameter may be selected. The release layer 22 is dried after application. The drying temperature is preferably 50 to 100 ° C., and the drying time is preferably 1 to 10 minutes.

剥離層22のためのバインダとしては、たとえば、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリスチレン、または、これらの共重合体からなる有機質、またはエマルジョンで構成される。剥離層22に含まれるバインダは、グリーンシート10aに含まれるバインダと同じでも異なっていても良いが同じであることが好ましい。   The binder for the release layer 22 is made of, for example, an organic material or an emulsion made of acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol, polyolefin, polyurethane, polystyrene, or a copolymer thereof. The binder contained in the release layer 22 may be the same as or different from the binder contained in the green sheet 10a, but is preferably the same.

剥離層22のための可塑剤としては、特に限定されないが、たとえばフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。剥離層22に含まれる可塑剤は、グリーンシート10aに含まれる可塑剤と同じでも異なっていても良い。   Although it does not specifically limit as a plasticizer for the peeling layer 22, For example, a phthalic acid ester, adipic acid, phosphoric acid ester, glycols etc. are illustrated. The plasticizer contained in the release layer 22 may be the same as or different from the plasticizer contained in the green sheet 10a.

剥離層22のための離型剤としては、特に限定されないが、たとえばパラフィン、ワックス、シリコーン油などが例示される。剥離層22に含まれる離型剤は、グリーンシート10aに含まれる離型剤と同じでも異なっていても良い。   Although it does not specifically limit as a mold release agent for the peeling layer 22, For example, a paraffin, a wax, silicone oil etc. are illustrated. The release agent contained in the release layer 22 may be the same as or different from the release agent contained in the green sheet 10a.

バインダは、剥離層22中に、誘電体粒子100質量部に対して、好ましくは2.5〜200質量部、さらに好ましくは5〜30質量部、特に好ましくは8〜30質量部程度で含まれる。ただし、剥離層22に含まれる誘電体粒子に対するバインダの含有割合は、グリーンシート10aに含まれる誘電体粒子に対するバインダの含有割合よりも、好ましくは10〜50%程度少なくする。剥離層22の剥離強度を弱めるためである。   The binder is contained in the release layer 22 in an amount of preferably 2.5 to 200 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, and particularly preferably about 8 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the dielectric particles. . However, the content ratio of the binder with respect to the dielectric particles contained in the release layer 22 is preferably about 10 to 50% less than the content ratio of the binder with respect to the dielectric particles contained in the green sheet 10a. This is to weaken the peel strength of the release layer 22.

可塑剤は、剥離層22中に、バインダ100質量部に対して、0〜200質量部、好ましくは20〜200質量部、さらに好ましくは50〜100質量部で含まれることが好ましい。ただし、剥離層22に含まれるバインダに対する可塑剤の含有割合は、グリーンシート10aに含まれるバインダに対する可塑剤の含有割合よりも、好ましくは10〜100%程度多くする。剥離層22の強度を弱めるためである。   The plasticizer is preferably contained in the release layer 22 in an amount of 0 to 200 parts by mass, preferably 20 to 200 parts by mass, and more preferably 50 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder. However, the content ratio of the plasticizer with respect to the binder contained in the release layer 22 is preferably about 10 to 100% higher than the content ratio of the plasticizer with respect to the binder contained in the green sheet 10a. This is to weaken the strength of the release layer 22.

離型剤は、剥離層22中に、バインダ100質量部に対して、0〜100質量部、好ましくは2〜50質量部、特に5〜20質量部で含まれることが好ましい。ただし、剥離層22に含まれるバインダに対する離型剤の含有割合は、グリーンシート10aに含まれるバインダに対する剥離剤の含有割合よりも、好ましくは10〜400%程度多くする。剥離層22の強度を弱めるためである。   The release agent is contained in the release layer 22 in an amount of 0 to 100 parts by weight, preferably 2 to 50 parts by weight, particularly 5 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder. However, the content ratio of the release agent with respect to the binder contained in the release layer 22 is preferably about 10 to 400% higher than the content ratio of the release agent with respect to the binder contained in the green sheet 10a. This is to weaken the strength of the release layer 22.

剥離層22をキャリアシート30の表面に形成した後、図2(A)に示すように、剥離層22の表面に、焼成後に内部電極層12を構成することになる電極層12aを所定パターンで形成する。電極層12aの厚さは、好ましくは0.1〜2μm、より好ましくは0.1〜1.0μm程度である。電極層12aは、単一の層で構成してあってもよく、あるいは2以上の組成の異なる複数の層で構成してあってもよい。   After the release layer 22 is formed on the surface of the carrier sheet 30, as shown in FIG. 2A, an electrode layer 12a that will constitute the internal electrode layer 12 after firing is formed on the surface of the release layer 22 in a predetermined pattern. Form. The thickness of the electrode layer 12a is preferably about 0.1 to 2 μm, more preferably about 0.1 to 1.0 μm. The electrode layer 12a may be composed of a single layer, or may be composed of a plurality of layers having two or more different compositions.

電極層12aは、たとえば電極ペーストを用いる印刷法などの厚膜形成方法、あるいは蒸着、スパッタリングなどの薄膜法により、剥離層22の表面に形成することができる。厚膜法の1種であるスクリーン印刷法あるいはグラビア印刷法により、剥離層22の表面に電極層12aを形成する場合には、以下のようにして行う。   The electrode layer 12a can be formed on the surface of the release layer 22 by a thick film forming method such as a printing method using an electrode paste, or a thin film method such as vapor deposition or sputtering. When the electrode layer 12a is formed on the surface of the release layer 22 by a screen printing method or a gravure printing method which is a kind of thick film method, it is performed as follows.

まず、電極ペーストを準備する。電極ペーストは、各種導電性金属や合金からなる導電体材料、あるいは焼成後に上記した導電体材料となる各種酸化物、有機金属化合物、またはレジネート等と、有機ビヒクルとを混練して調製する。   First, an electrode paste is prepared. The electrode paste is prepared by kneading a conductive material made of various conductive metals or alloys, or various oxides, organometallic compounds, resinates, or the like, which become the conductive material described above after firing, and an organic vehicle.

電極ペーストを製造する際に用いる導体材料としては、NiやNi合金さらにはこれらの混合物を用いる。このような導体材料は、球状、リン片状等、その形状に特に制限はなく、また、これらの形状のものが混合したものであってもよい。また、導体材料の平均粒子径は、通常、0.1〜2μm、好ましくは0.2〜1μm程度のものを用いればよい。   As a conductive material used when manufacturing the electrode paste, Ni, Ni alloy, or a mixture thereof is used. There are no particular restrictions on the shape of such a conductive material, such as a spherical shape or a flake shape, or a mixture of these shapes may be used. The average particle diameter of the conductor material is usually 0.1 to 2 μm, preferably about 0.2 to 1 μm.

有機ビヒクルは、バインダおよび溶剤を含有するものである。バインダとしては、エチルセルロース、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリスチレン、または、これらの共重合体などが例示されるが、特にポリビニルブチラールなどのブチラール系樹脂が好ましい。   The organic vehicle contains a binder and a solvent. Examples of the binder include ethyl cellulose, acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol, polyolefin, polyurethane, polystyrene, and copolymers thereof, but a butyral resin such as polyvinyl butyral is particularly preferable.

バインダは、電極ペースト中に、導体材料(金属粉末)100質量部に対して、好ましくは8〜20質量部含まれる。溶剤としては、たとえばテルピネオール、ブチルカルビトール、ケロシン等公知のものはいずれも使用可能である。溶剤含有量は、ペースト全体に対して、好ましくは20〜55質量%程度とする。   The binder is preferably included in the electrode paste in an amount of 8 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive material (metal powder). Any known solvents such as terpineol, butyl carbitol, and kerosene can be used as the solvent. The solvent content is preferably about 20 to 55% by mass with respect to the entire paste.

接着性の改善のために、電極ペーストには、可塑剤が含まれることが好ましい。可塑剤としては、フタル酸ベンジルブチル(BBP)などのフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。可塑剤の含有量は、電極ペースト中に、バインダ100質量部に対して、好ましくは10〜300質量部、さらに好ましくは10〜200質量部である。なお、可塑剤または粘着剤の添加量が多すぎると、電極層12aの強度が著しく低下する傾向にある。また、電極層12aの転写性を向上させるために、電極ペースト中に、可塑剤および/または粘着剤を添加して、電極ペーストの接着性および/または粘着性を向上させることが好ましい。   In order to improve adhesion, the electrode paste preferably contains a plasticizer. Examples of the plasticizer include phthalic acid esters such as benzylbutyl phthalate (BBP), adipic acid, phosphoric acid esters, glycols, and the like. The content of the plasticizer is preferably 10 to 300 parts by mass, and more preferably 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder in the electrode paste. In addition, when there is too much addition amount of a plasticizer or an adhesive, there exists a tendency for the intensity | strength of the electrode layer 12a to fall remarkably. In order to improve the transferability of the electrode layer 12a, it is preferable to add a plasticizer and / or a pressure-sensitive adhesive to the electrode paste to improve the adhesion and / or the pressure-sensitive adhesiveness of the electrode paste.

剥離層22の表面に、所定パターンの電極ペースト層を印刷法で形成した後、またはその前に、電極層12aが形成されていない剥離層22の表面に、電極層12aと実質的に同じ厚みの余白パターン層24を形成する。余白パターン層24は、図3(A)に示すグリーンシート10aと同様な材質で構成され、同様の方法により形成される。電極層12aおよび余白パターン層12aは、必要に応じて乾燥される。乾燥温度は、特に限定されないが、好ましくは70〜120℃であり、乾燥時間は、好ましくは5〜15分である。   After or before the electrode paste layer having a predetermined pattern is formed on the surface of the release layer 22 by the printing method, the surface of the release layer 22 on which the electrode layer 12a is not formed is substantially the same thickness as the electrode layer 12a. The blank pattern layer 24 is formed. The blank pattern layer 24 is made of the same material as the green sheet 10a shown in FIG. 3A and is formed by the same method. The electrode layer 12a and the blank pattern layer 12a are dried as necessary. The drying temperature is not particularly limited, but is preferably 70 to 120 ° C., and the drying time is preferably 5 to 15 minutes.

(3)上記のキャリアシート20および30とは別に、図2(A)に示すように、第3支持シートとしてのキャリアシート26の表面に接着層28が形成してある接着層転写用シートを準備する。キャリアシート26は、キャリアシート20および30と同様なシートで構成される。   (3) Separately from the carrier sheets 20 and 30, the adhesive layer transfer sheet in which the adhesive layer 28 is formed on the surface of the carrier sheet 26 as the third support sheet, as shown in FIG. prepare. The carrier sheet 26 is composed of a sheet similar to the carrier sheets 20 and 30.

接着層28は、バインダと、可塑剤と、を含む。接着層28には、グリーンシート10aを構成する誘電体と同じ誘電体粒子を含ませても良いが、本実施形態では、剥離層28を薄層化させるため、誘電体粒子を含ませない方がよい。   The adhesive layer 28 includes a binder and a plasticizer. The adhesive layer 28 may contain the same dielectric particles as the dielectric constituting the green sheet 10a. However, in the present embodiment, the release layer 28 is thinned, so that the dielectric particles are not included. Is good.

接着層28のためのバインダとしては、たとえば、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリオレフィン、ポリウレタン、ポリスチレン、または、これらの共重合体からなる有機質、またはエマルジョンで構成される。接着層28に含まれるバインダは、グリーンシート10aに含まれるバインダと同じでも異なっていても良いが同じであることが好ましく、特に、アクリル系樹脂、ブチラール系樹脂が好ましい。   The binder for the adhesive layer 28 is made of, for example, an organic material or an emulsion made of acrylic resin, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol, polyolefin, polyurethane, polystyrene, or a copolymer thereof. The binder contained in the adhesive layer 28 may be the same as or different from the binder contained in the green sheet 10a, but is preferably the same. In particular, acrylic resins and butyral resins are preferred.

接着層28のための可塑剤としては、特に限定されないが、たとえばフタル酸エステル、アジピン酸、燐酸エステル、グリコール類などが例示される。これらのなかでも、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ベンジルブチル等のフタル酸エステルが好ましい。   Although it does not specifically limit as a plasticizer for the contact bonding layer 28, For example, a phthalic acid ester, adipic acid, phosphoric acid ester, glycols etc. are illustrated. Of these, phthalic acid esters such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, and benzylbutyl phthalate are preferred.

接着層28中における可塑剤の含有量は、バインダ100質量部に対して、個好ましくは10〜100質量部、より好ましくは30〜80質量部である。   The content of the plasticizer in the adhesive layer 28 is preferably 10 to 100 parts by mass, more preferably 30 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder.

接着層28は、さらに帯電除剤を含んでいても良い。帯電除剤は、イミダゾリン系界面活性剤の中の1つを含み、帯電除剤の重量基準添加量は、バインダ樹脂の重量基準添加量以下であることが好ましい。すなわち、帯電除剤は、接着層28中に、バインダ100質量部に対して、0〜200質量部、好ましくは20〜200質量部、さらに好ましくは50〜100質量部で含まれることが好ましい。   The adhesive layer 28 may further contain an antistatic agent. The antistatic agent includes one of imidazoline surfactants, and the weight-based addition amount of the anti-static agent is preferably equal to or less than the weight-based addition amount of the binder resin. That is, it is preferable that the antistatic agent is contained in the adhesive layer 28 in an amount of 0 to 200 parts by weight, preferably 20 to 200 parts by weight, and more preferably 50 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder.

本実施形態においては、接着層28は、平均膜厚が、好ましくは0.02〜0.2μm、より好ましくは0.02〜0.1μmと薄層化する。なお、この平均厚みは、後に説明する被覆部分の厚みと、非被覆部分(ハジキ部分)の厚みとを、その存在割合に応じて、平均化したものである。   In the present embodiment, the adhesive layer 28 is thinned with an average film thickness of preferably 0.02 to 0.2 μm, more preferably 0.02 to 0.1 μm. In addition, this average thickness averages the thickness of the coating | coated part demonstrated later and the thickness of a non-coating part (repelling part) according to the abundance ratio.

接着層28の厚みが薄すぎると、接着力が低下してしまい、接着層を形成した効果が得られなくなってしまう。一方、厚すぎると、その接着層の厚みに依存して焼結後の素子本体の内部に隙間ができやすく、層間剥離の原因となる他、その体積分の静電容量が著しく低下する傾向にある。   If the thickness of the adhesive layer 28 is too thin, the adhesive force is reduced, and the effect of forming the adhesive layer cannot be obtained. On the other hand, if it is too thick, depending on the thickness of the adhesive layer, gaps are likely to be formed inside the element body after sintering, causing delamination, and the capacitance of the volume tends to decrease significantly. is there.

接着層28は、以下の方法により、第3支持シートとしてのキャリアシート26の表面に形成される。すなわち、まず、接着層用ペーストを使用して、たとえばバーコータ法、ダイコータ法、リバースコータ法、ディップコーター法、キスコーター法などの方法により、キャリアシート26の表面に接着層用ペースト膜を形成する。次いで、この接着層用ペースト膜に乾燥処理を施して、接着層28とする。なお、接着層用ペーストに含有される溶剤としては、特に限定されず、たとえば、上記した誘電体ペーストと同様のものが使用できる。   The adhesive layer 28 is formed on the surface of the carrier sheet 26 as the third support sheet by the following method. That is, first, using the adhesive layer paste, an adhesive layer paste film is formed on the surface of the carrier sheet 26 by a method such as a bar coater method, a die coater method, a reverse coater method, a dip coater method, or a kiss coater method. Next, the adhesive layer paste film is dried to form an adhesive layer 28. In addition, it does not specifically limit as a solvent contained in the paste for contact bonding layers, For example, the thing similar to the above-mentioned dielectric paste can be used.

次いで、キャリアシート26の表面に形成した接着層28を、転写法により、電極層12aおよび余白パターン層24の表面に転写する。すなわち、図2(B)に示すように、キャリアシート26の接着層28を、図2(B)に示すように、電極層12aおよび余白パターン層24の表面に押し付け、加熱加圧して、その後キャリアシート26を剥がすことにより、図2(C)に示すように、接着層28を、電極層12aおよび余白パターン層24の表面に転写する。なお、接着層28の転写は、図3(A)に示すグリーンシート10aの表面に対して行っても良い。転写時の加熱温度は、40〜100℃が好ましく、また、加圧力は、0.2〜15MPaが好ましい。加圧は、プレスによる加圧でも、カレンダロールによる加圧でも良いが、一対のロールにより行うことが好ましい。   Next, the adhesive layer 28 formed on the surface of the carrier sheet 26 is transferred to the surfaces of the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 by a transfer method. That is, as shown in FIG. 2B, the adhesive layer 28 of the carrier sheet 26 is pressed against the surfaces of the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 as shown in FIG. By peeling off the carrier sheet 26, the adhesive layer 28 is transferred to the surfaces of the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 as shown in FIG. The transfer of the adhesive layer 28 may be performed on the surface of the green sheet 10a shown in FIG. The heating temperature during transfer is preferably 40 to 100 ° C., and the applied pressure is preferably 0.2 to 15 MPa. The pressurization may be a pressurization or a calender roll, but is preferably performed by a pair of rolls.

本実施形態では、上記キャリアシート26上に形成した接着層用ペースト膜を乾燥する際における乾燥処理条件を所定の条件とする。すなわち、乾燥温度を、80℃超、160℃以下、好ましくは120〜140℃とし、接着層のキャリアシート26に対する被覆率を5%〜50%、好ましくは10〜30%とする。上記被覆率は、接着層を構成する成分が実質的に存在していない非被覆部分(ハジキ部分)が全く無いと仮定した場合に、接着層がPETフィルムを被覆する理想面積を100%とし、接着層がキャリアシート26を実際に被覆する面積の割合で定義される。なお、乾燥時間は、特に限定されないが、1〜10分とすることが好ましい。   In the present embodiment, the drying process conditions when drying the adhesive layer paste film formed on the carrier sheet 26 are set as predetermined conditions. That is, the drying temperature is over 80 ° C. and 160 ° C. or less, preferably 120 to 140 ° C., and the coverage of the adhesive layer on the carrier sheet 26 is 5% to 50%, preferably 10 to 30%. Assuming that there is no non-covered part (repellent part) where the component constituting the adhesive layer is not substantially present, the covering ratio is 100% as the ideal area where the adhesive layer covers the PET film, It is defined by the ratio of the area where the adhesive layer actually covers the carrier sheet 26. In addition, although drying time is not specifically limited, It is preferable to set it as 1 to 10 minutes.

また、この接着層28は、その後、キャリアシート26から電極層12aおよび余白パターン層24の表面に転写される事となるが、本実施形態では、この接着層28を電極層12aおよび余白パターン層24に転写する際には、上記被覆率を保ったまま、転写されるように転写条件を設定する。そのため、接着層28のキャリアシート26に対する被覆率は、接着層28の電極層12aおよび余白パターン層24に対する被覆率とほぼ等しくなる。   Further, the adhesive layer 28 is then transferred from the carrier sheet 26 to the surfaces of the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24. In this embodiment, the adhesive layer 28 is transferred to the electrode layer 12a and the blank pattern layer. When transferring to 24, transfer conditions are set so that transfer is performed while maintaining the above-mentioned coverage. Therefore, the coverage of the adhesive layer 28 to the carrier sheet 26 is substantially equal to the coverage of the adhesive layer 28 to the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24.

接着層28を形成する際に上記のような条件で乾燥処理を行うことにより、接着層中に含有されている可塑剤が、接着層表面に滲み出し、その滲み出した可塑剤が粘着付与剤の役割を果たし、接着層28の接着性を向上させることができる。そのため、本実施形態によると、接着層28の平均膜厚を上記のように薄層化した場合においても、接着層28の接着性を高く保つことができる。乾燥温度が低すぎると、このような効果が得られなくなり、一方、乾燥温度を高くし過ぎると、キャリアシート26が熱変形を起こしてしまい、転写可能な接着層を得ることができない。また、上記被覆率が低すぎても高すぎても、接着性が低下してしまい、積層ユニットとした後に、キャリアシート20を剥離する際に、電極層12aとグリーンシート10aとの転写界面が破断してしまう。そして、これがシート欠陥となり、ショート不良の原因となってしまうとともに、焼結後における層間剥離が多数発生してしまう。   When the adhesive layer 28 is formed, the plasticizer contained in the adhesive layer oozes out on the surface of the adhesive layer by performing a drying treatment under the above conditions, and the oozed plasticizer is a tackifier. The adhesiveness of the adhesive layer 28 can be improved. Therefore, according to this embodiment, even when the average film thickness of the adhesive layer 28 is reduced as described above, the adhesiveness of the adhesive layer 28 can be kept high. If the drying temperature is too low, such an effect cannot be obtained. On the other hand, if the drying temperature is too high, the carrier sheet 26 is thermally deformed and a transferable adhesive layer cannot be obtained. Further, if the coverage is too low or too high, the adhesiveness is lowered, and the transfer interface between the electrode layer 12a and the green sheet 10a is removed when the carrier sheet 20 is peeled after forming the laminated unit. It breaks. And this becomes a sheet defect and causes a short circuit defect, and many delaminations occur after sintering.

また、接着層28には、電極層12aおよび余白パターン層24(あるいは、キャリアシート26)の表面を実際に被覆している被覆部分と、実質的に被覆していない非被覆部分と、を有している。なお、非被覆部分には、実質的に接着層を構成する成分(バインダ樹脂や可塑剤等)が存在せず、実際の厚みは、ほぼゼロとなる。この非被覆部分は、可塑剤が接着層28の表面に滲み出すことにより形成されるハジキ部分であり、通常は円形状をしている。   Further, the adhesive layer 28 has a covered portion that actually covers the surfaces of the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 (or the carrier sheet 26) and an uncovered portion that is not substantially covered. is doing. In the uncovered portion, there are substantially no components (binder resin, plasticizer, etc.) constituting the adhesive layer, and the actual thickness is almost zero. The uncovered portion is a repellant portion formed by the plasticizer oozing out on the surface of the adhesive layer 28, and usually has a circular shape.

なお、これら被覆部分と非被覆部分(ハジキ部分)との割合は、上述した被覆率と深く関係している。すなわち、たとえば、上記被覆率が30%である場合には、接着層28中において、被覆部分の面積割合は30%であり、非被覆部分(ハジキ部分)の面積割合は70%となる。   In addition, the ratio of these coating | coated parts and a non-coating part (repellency part) is deeply related with the coverage mentioned above. That is, for example, when the coverage is 30%, in the adhesive layer 28, the area ratio of the covered portion is 30%, and the area ratio of the uncovered portion (repellent portion) is 70%.

本実施形態では、非被覆部分(ハジキ部分)のうち、その直径が最大である最大非被覆部分(最大ハジキ部分)の直径が、好ましくは80μm以下、より好ましくは50μm以下である。最大ハジキ部分の直径が大きすぎると、接着層28の接着性が低下してしまう傾向にある。   In the present embodiment, the diameter of the maximum non-covered portion (maximum repellant portion) having the maximum diameter among the non-covered portions (repellent portions) is preferably 80 μm or less, more preferably 50 μm or less. If the diameter of the maximum repellency portion is too large, the adhesiveness of the adhesive layer 28 tends to decrease.

また、被覆部分の厚みは、好ましくは0.05〜4μmの範囲、より好ましくは0.1〜2μmの範囲である。被覆部分は、乾燥処理前には非被覆部分(ハジキ部分)に存在していた成分が、被覆部分側へとハジキ出されることにより形成される部分である。そのため、この被覆部分の厚みは、上記した平均膜厚(好ましくは0.02〜0.2μm、より好ましくは0.02〜0.1μm)よりも、厚くなる傾向にある。   Further, the thickness of the covering portion is preferably in the range of 0.05 to 4 μm, more preferably in the range of 0.1 to 2 μm. The coated portion is a portion formed by repelling the components present in the non-coated portion (repellent portion) before the drying process toward the coated portion side. Therefore, the thickness of the covering portion tends to be thicker than the above average film thickness (preferably 0.02 to 0.2 μm, more preferably 0.02 to 0.1 μm).

(4)その後に、電極層12aを、図3(A)に示すキャリアシート30の表面に形成してあるグリーンシート10aの表面に接着する。そのために、図3(B)に示すように、キャリアシート20の電極層12aおよび余白パターン層24を、接着層28を介して、グリーンシート10aの表面にキャリアシート20と共に押し付け、加熱加圧して、図3(C)に示すように、電極層12aおよび余白パターン層24を、グリーンシート10aの表面に転写する。ただし、グリーンシート側のキャリアシート30が引き剥がされることから、グリーンシート10a側から見れば、グリーンシート10aが電極層12aおよび余白パターン層24に接着層28を介して転写される。   (4) Thereafter, the electrode layer 12a is bonded to the surface of the green sheet 10a formed on the surface of the carrier sheet 30 shown in FIG. For that purpose, as shown in FIG. 3B, the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 of the carrier sheet 20 are pressed together with the carrier sheet 20 onto the surface of the green sheet 10a via the adhesive layer 28, and heated and pressurized. As shown in FIG. 3C, the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 are transferred to the surface of the green sheet 10a. However, since the carrier sheet 30 on the green sheet side is peeled off, when viewed from the green sheet 10 a side, the green sheet 10 a is transferred to the electrode layer 12 a and the blank pattern layer 24 via the adhesive layer 28.

この転写時の加熱および加圧は、プレスによる加圧・加熱でも、カレンダロールによる加圧・加熱でも良いが、一対のロールにより行うことが好ましい。その加熱温度および加圧力は、接着層28を転写するときと同様である。   The heating and pressurization at the time of transfer may be pressurization / heating with a press or pressurization / heating with a calender roll, but is preferably performed with a pair of rolls. The heating temperature and pressure are the same as when the adhesive layer 28 is transferred.

図2(A)〜図3(C)に示す工程により、単一のグリーンシート10a上に、単一層の所定パターンの電極層12aが形成される。   2A to 3C, a single layer of electrode layer 12a having a predetermined pattern is formed on a single green sheet 10a.

次いで、図4(A)〜図4(C)に示すように、グリーンシート10aにおける反電極層側表面(裏面)に、接着層28を転写し、グリーンシート10a、電極層12aおよび余白パターン層24からなる積層体ユニットを得る。その後、図5(A)に示すように、この積層体ユニットと基材40とを、基材40を吸引保持台50で支持した状態で、グリーンシート10a表面に形成した接着層28を介して接着し、積層する。なお、積層体ユニットと基材40との積層は、プレスによって行う。その後に、図5(B)に示すように、上側のキャリアシート20を引き剥がし、図5(C)に示すように、別の積層体ユニットを積層する。そして、図5(B)、図5(C)に示す工程を繰り返し、所望の積層数を有する積層体を得る。なお、基材40としては特に限定されないが、たとえば、外層用のグリーンシート(電極層が形成されていないグリーンシートを複層積層した厚めの積層体)などが使用できる。   Next, as shown in FIGS. 4A to 4C, the adhesive layer 28 is transferred to the surface (back surface) on the counter electrode layer side of the green sheet 10a, and the green sheet 10a, the electrode layer 12a, and the blank pattern layer are transferred. A laminate unit consisting of 24 is obtained. Thereafter, as shown in FIG. 5A, the laminate unit and the base material 40 are supported via the adhesive layer 28 formed on the surface of the green sheet 10a in a state where the base material 40 is supported by the suction holding base 50. Glue and laminate. In addition, lamination | stacking with a laminated body unit and the base material 40 is performed by press. Thereafter, as shown in FIG. 5 (B), the upper carrier sheet 20 is peeled off, and another laminate unit is laminated as shown in FIG. 5 (C). Then, the steps shown in FIGS. 5B and 5C are repeated to obtain a stacked body having a desired number of stacked layers. In addition, although it does not specifically limit as the base material 40, For example, the green sheet for outer layers (The thick laminated body which laminated | stacked the multilayered green sheet in which the electrode layer is not formed) etc. can be used.

(5)その後、この積層体を最終加圧する。最終加圧時の圧力は、好ましくは10〜200MPaである。また、加熱温度は、40〜100℃が好ましい。その後に、積層体を所定サイズに切断し、グリーンチップを形成する。このグリーンチップは、脱バインダ処理、焼成処理が行われ、そして、誘電体層を再酸化させるため、熱処理が行われる。   (5) Then, this laminated body is finally pressurized. The pressure at the time of final pressurization is preferably 10 to 200 MPa. Moreover, 40-100 degreeC is preferable for heating temperature. Thereafter, the laminate is cut into a predetermined size to form a green chip. This green chip is subjected to binder removal processing and firing processing, and heat treatment is performed to reoxidize the dielectric layer.

脱バインダ処理は、通常の条件で行えばよいが、内部電極層の導電体材料にNiやNi合金等の卑金属を用いる場合、特に下記の条件で行うことが好ましい。   The binder removal treatment may be performed under normal conditions, but when a base metal such as Ni or Ni alloy is used as the conductor material of the internal electrode layer, it is particularly preferable to perform under the following conditions.

昇温速度:5〜300℃/時間、特に10〜50℃/時間、
保持温度:200〜400℃、特に250〜350℃、
保持時間:0.5〜20時間、特に1〜10時間、
雰囲気 :加湿したNとHとの混合ガス。
Temperature increase rate: 5 to 300 ° C./hour, particularly 10 to 50 ° C./hour,
Holding temperature: 200-400 ° C, especially 250-350 ° C,
Retention time: 0.5 to 20 hours, especially 1 to 10 hours,
Atmosphere: A mixed gas of humidified N 2 and H 2 .

焼成条件は、下記の条件が好ましい。
昇温速度:50〜500℃/時間、特に200〜300℃/時間、
保持温度:1100〜1300℃、特に1150〜1250℃、
保持時間:0.5〜8時間、特に1〜3時間、
冷却速度:50〜500℃/時間、特に200〜300℃/時間、
雰囲気ガス:加湿したNとHとの混合ガス等。
The firing conditions are preferably the following conditions.
Temperature increase rate: 50 to 500 ° C./hour, particularly 200 to 300 ° C./hour,
Holding temperature: 1100-1300 ° C., in particular 1150-1250 ° C.
Retention time: 0.5-8 hours, especially 1-3 hours,
Cooling rate: 50 to 500 ° C./hour, particularly 200 to 300 ° C./hour,
Atmospheric gas: A mixed gas of humidified N 2 and H 2 or the like.

ただし、焼成時の空気雰囲気中の酸素分圧は、10−2Pa以下、特に10−2〜10−8Paにて行うことが好ましい。前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にあり、また、酸素分圧があまり低すぎると、内部電極層の電極材料が異常焼結を起こし、途切れてしまう傾向にある。 However, the oxygen partial pressure in the air atmosphere during firing is preferably 10 −2 Pa or less, particularly 10 −2 to 10 −8 Pa. If the above range is exceeded, the internal electrode layer tends to oxidize, and if the oxygen partial pressure is too low, the electrode material of the internal electrode layer tends to abnormally sinter and tend to break.

このような焼成を行った後の熱処理は、保持温度または最高温度を、好ましくは1000℃以上、さらに好ましくは1000〜1100℃とする。熱処理時の保持温度または最高温度が、前記範囲未満では誘電体材料の酸化が不十分なために絶縁抵抗寿命が短くなる傾向にあり、前記範囲を超えると内部電極のNiが酸化し、容量が低下するだけでなく、誘電体素地と反応してしまい、寿命も短くなる傾向にある。熱処理の際の酸素分圧は、焼成時の還元雰囲気よりも高い酸素分圧であり、好ましくは10−3Pa〜1Pa、より好ましくは10−2Pa〜1Paである。前記範囲未満では、誘電体層2の再酸化が困難であり、前記範囲を超えると内部電極層3が酸化する傾向にある。そして、そのほかの熱処理条件は下記の条件が好ましい。 In the heat treatment after such firing is performed, the holding temperature or the maximum temperature is preferably 1000 ° C. or higher, more preferably 1000 to 1100 ° C. If the holding temperature or maximum temperature during the heat treatment is less than the above range, the dielectric material is insufficiently oxidized and the insulation resistance life tends to be shortened. In addition to a decrease, it tends to react with the dielectric substrate and shorten its lifetime. The oxygen partial pressure during the heat treatment is higher than the reducing atmosphere during firing, and is preferably 10 −3 Pa to 1 Pa, more preferably 10 −2 Pa to 1 Pa. If it is less than the above range, reoxidation of the dielectric layer 2 is difficult, and if it exceeds the above range, the internal electrode layer 3 tends to be oxidized. The other heat treatment conditions are preferably the following conditions.

保持時間:0〜6時間、特に2〜5時間、
冷却速度:50〜500℃/時間、特に100〜300℃/時間、
雰囲気用ガス:加湿したNガス等。
Retention time: 0-6 hours, especially 2-5 hours,
Cooling rate: 50 to 500 ° C./hour, in particular 100 to 300 ° C./hour,
Atmospheric gas: humidified N 2 gas or the like.

なお、Nガスや混合ガス等を加湿するには、例えばウェッター等を使用すればよい。この場合、水温は0〜75℃程度が好ましい。また脱バインダ処理、焼成および熱処理は、それぞれを連続して行っても、独立に行ってもよい。これらを連続して行なう場合、脱バインダ処理後、冷却せずに雰囲気を変更し、続いて焼成の際の保持温度まで昇温して焼成を行ない、次いで冷却し、熱処理の保持温度に達したときに雰囲気を変更して熱処理を行なうことが好ましい。一方、これらを独立して行なう場合、焼成に際しては、脱バインダ処理時の保持温度までNガスあるいは加湿したNガス雰囲気下で昇温した後、雰囲気を変更してさらに昇温を続けることが好ましく、熱処理時の保持温度まで冷却した後は、再びNガスあるいは加湿したNガス雰囲気に変更して冷却を続けることが好ましい。また、熱処理に際しては、Nガス雰囲気下で保持温度まで昇温した後、雰囲気を変更してもよく、熱処理の全過程を加湿したNガス雰囲気としてもよい。 Note that to wet the N 2 gas or mixed gas etc. may be used, for example a wetter etc.. In this case, the water temperature is preferably about 0 to 75 ° C. The binder removal treatment, firing and heat treatment may be performed continuously or independently. When performing these continuously, after removing the binder, the atmosphere is changed without cooling, and then the temperature is raised to the holding temperature at the time of baking to perform baking, and then cooled to reach the heat treatment holding temperature. Sometimes it is preferable to perform heat treatment by changing the atmosphere. On the other hand, when performing these independently, at the time of firing, after raising the temperature under N 2 gas atmosphere with N 2 gas or wet to the holding temperature of the binder removal processing, further continuing the heating to change the atmosphere Preferably, after cooling to the holding temperature at the time of heat treatment, it is preferable to change to N 2 gas or a humidified N 2 gas atmosphere and continue cooling. In the heat treatment, the temperature may be changed to a holding temperature in an N 2 gas atmosphere, and the atmosphere may be changed, or the entire process of the heat treatment may be a humidified N 2 gas atmosphere.

このようにして得られた焼結体(素子本体4)には、例えばバレル研磨、サンドプラスト等にて端面研磨を施し、端子電極用ペーストを焼きつけて端子電極6,8が形成される。端子電極用ペーストの焼成条件は、例えば、加湿したNとHとの混合ガス中で600〜800℃にて10分間〜1時間程度とすることが好ましい。そして、必要に応じ、端子電極6,8上にめっき等を行うことによりパッド層を形成する。なお、端子電極用ペーストは、上記した電極ペーストと同様にして調製すればよい。
このようにして製造された本発明の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。
The sintered body (element body 4) thus obtained is subjected to end surface polishing by, for example, barrel polishing, sand plast, etc., and terminal electrode paste 6 is baked to form terminal electrodes 6 and 8. The firing conditions for the terminal electrode paste are preferably, for example, about 10 minutes to 1 hour at 600 to 800 ° C. in a humidified mixed gas of N 2 and H 2 . Then, if necessary, a pad layer is formed on the terminal electrodes 6 and 8 by plating or the like. In addition, what is necessary is just to prepare the paste for terminal electrodes like the above-mentioned electrode paste.
The multilayer ceramic capacitor of the present invention thus manufactured is mounted on a printed circuit board by soldering or the like and used for various electronic devices.

本実施形態に係る積層セラミックコンデンサの製造方法では、グリーンシート10aが破壊または変形されることなく、グリーンシート10aの表面に高精度に乾式タイプの電極層12aを容易且つ高精度に転写することが可能である。   In the method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor according to the present embodiment, the dry-type electrode layer 12a can be easily and accurately transferred to the surface of the green sheet 10a without breaking or deforming the green sheet 10a. Is possible.

特に、本実施形態の製造方法では、電極層またはグリーンシートの表面に、転写法により接着層28を形成し、その接着層28を介して、電極層12aをグリーンシート10aの表面に接着する。接着層28を形成することで、電極層12aをグリーンシート10aの表面に接着させて転写する際に、高い圧力や熱が不要となり、より低圧および低温での接着が可能になる。したがって、グリーンシート10aが極めて薄い場合でも、グリーンシート10aが破壊されることはなくなり、電極層12aおよびグリーンシート10aを良好に積層することができ、短絡不良などの発生を有効に防止することができる。   In particular, in the manufacturing method of the present embodiment, the adhesive layer 28 is formed on the surface of the electrode layer or the green sheet by a transfer method, and the electrode layer 12a is adhered to the surface of the green sheet 10a via the adhesive layer 28. By forming the adhesive layer 28, when the electrode layer 12a is transferred to the surface of the green sheet 10a and transferred, high pressure and heat are not required, and bonding at a lower pressure and a lower temperature is possible. Therefore, even when the green sheet 10a is extremely thin, the green sheet 10a is not destroyed, the electrode layer 12a and the green sheet 10a can be satisfactorily stacked, and the occurrence of short-circuit defects and the like can be effectively prevented. it can.

しかも、本実施形態では、接着層28を形成する際に、上記した所定の条件で乾燥処理を行う。そのため、この乾燥処理により、接着層中に含有されている可塑剤が、接着層表面に滲み出し、その滲み出した可塑剤が粘着付与剤の役割を果たし、接着層28の接着性を向上させることができる。その結果、本実施形態によると、接着層28の平均膜厚を上記のように薄層化した場合においても、十分な接着性を確保でき、さらには、接着層28を薄層化することにより、脱バインダ工程において、接着層28に含有されるバインダ樹脂が分解されずに残ってしまうこともないため、接着層28を形成したことによる層間剥離現象の発生を有効に防止することができる。   In addition, in the present embodiment, when the adhesive layer 28 is formed, the drying process is performed under the predetermined conditions described above. Therefore, by this drying treatment, the plasticizer contained in the adhesive layer oozes out to the surface of the adhesive layer, and the oozed plasticizer serves as a tackifier and improves the adhesiveness of the adhesive layer 28. be able to. As a result, according to the present embodiment, even when the average film thickness of the adhesive layer 28 is reduced as described above, sufficient adhesiveness can be ensured, and further, by reducing the adhesive layer 28. In the binder removal step, the binder resin contained in the adhesive layer 28 does not remain without being decomposed, so that the delamination phenomenon due to the formation of the adhesive layer 28 can be effectively prevented.

なお、従来においては、接着層を形成する際における、乾燥処理温度を比較的に低い温度とし、高い平滑性を有する接着層を形成していた。そのため、接着層を薄層化すると、接着性が低下するという課題があった。これに対して、本実施形態は、接着層28を形成する際における乾燥処理温度を比較的に高い温度とし、接着層28に含有されている可塑剤を滲み出させることにより、接着層28の平滑性を低下させることにより、従来の課題を解決するものである。   In the past, the drying treatment temperature when forming the adhesive layer was set to a relatively low temperature, and an adhesive layer having high smoothness was formed. Therefore, when the adhesive layer is thinned, there is a problem that the adhesiveness is lowered. On the other hand, in the present embodiment, the drying treatment temperature when forming the adhesive layer 28 is set to a relatively high temperature, and the plasticizer contained in the adhesive layer 28 is oozed out. The conventional problem is solved by reducing the smoothness.

また、たとえば接着層28の接着力を、剥離層22の粘着力よりも強くし、しかも、剥離層22の粘着力を、グリーンシート10aとキャリアシート30との粘着力よりも強くすることなどにより、グリーンシート10a側のキャリアシート30を選択的に容易に剥離することができる。   Further, for example, by making the adhesive force of the adhesive layer 28 stronger than the adhesive force of the release layer 22 and making the adhesive force of the release layer 22 stronger than the adhesive force between the green sheet 10 a and the carrier sheet 30. The carrier sheet 30 on the green sheet 10a side can be selectively peeled easily.

さらに、本実施形態では、接着層28を転写法により形成することから、接着層28の成分が電極層12aまたはグリーンシート10aに染み込むことがないと共に、極めて薄い接着層28の形成が可能になる。そのため、たとえば接着層28の平均膜厚を0.02〜0.2μmと薄層化することができる。接着層28の厚みは薄くとも、接着層28の成分が電極層12aまたはグリーンシート10aに染み込むことがないことから、接着力は十分であり、しかも、電極層12aまたはグリーンシート10aの組成に悪影響を与えるおそれがない。   Furthermore, in this embodiment, since the adhesive layer 28 is formed by a transfer method, the components of the adhesive layer 28 do not soak into the electrode layer 12a or the green sheet 10a, and an extremely thin adhesive layer 28 can be formed. . Therefore, for example, the average film thickness of the adhesive layer 28 can be reduced to 0.02 to 0.2 μm. Even if the thickness of the adhesive layer 28 is thin, the components of the adhesive layer 28 do not soak into the electrode layer 12a or the green sheet 10a. Therefore, the adhesive force is sufficient, and the composition of the electrode layer 12a or the green sheet 10a is adversely affected. There is no risk of giving.

なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
たとえば、本発明の方法は、積層セラミックコンデンサの製造方法に限らず、その他の積層型電子部品の製造方法としても適用することが可能である。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.
For example, the method of the present invention can be applied not only to a method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor but also to a method for manufacturing other multilayer electronic components.

また、上述した実施形態では、接着層28を、転写法により形成する方法を例示したが、電極層12aまたはグリーンシート10aの表面に接着層28を直接、塗布法などで形成する方法を採用しても良い。   In the above-described embodiment, the method of forming the adhesive layer 28 by the transfer method is exemplified. However, a method of forming the adhesive layer 28 directly on the surface of the electrode layer 12a or the green sheet 10a by a coating method or the like is adopted. May be.

以下、本発明をさらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be described based on further detailed examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
実施例1においては、表1に示す試料番号1〜9(接着層を形成する際の乾燥条件を変化させた試料)を作製した。
まず、下記の各ペーストを準備した。
Example 1
In Example 1, sample numbers 1 to 9 shown in Table 1 (samples in which the drying conditions when forming the adhesive layer were changed) were prepared.
First, the following pastes were prepared.

誘電体ペースト(グリーンシート用および余白パターン用ペースト)
BaTiO粉末(BT−02/堺化学工業(株))と、MgCO、MnCO、(Ba0.6Ca0.4)SiOおよび希土類(Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Y)から選択された粉末とを、ボールミルにより16時間、湿式混合し、乾燥させることにより誘電体材料とした。これら原料粉末の平均粒径は0.1〜1μmであった。
Dielectric paste (green sheet and blank pattern paste)
BaTiO 3 powder (BT-02 / Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), MgCO 3 , MnCO 3 , (Ba 0.6 Ca 0.4 ) SiO 3 and rare earths (Gd 2 O 3 , Tb 4 O 7 , Dy 2 A powder selected from O 3 , Ho 2 O 3 , Er 2 O 3 , Tm 2 O 3 , Yb 2 O 3 , Lu 2 O 3 , Y 2 O 3 ) with a ball mill for 16 hours. A dielectric material was obtained by drying. These raw material powders had an average particle size of 0.1 to 1 μm.

(Ba0.6Ca0.4)SiOは、BaCO、CaCOおよびSiOをボールミルにより、16時間、湿式混合し、乾燥後に1150℃にて空気中で焼成したものをボールミルにより、100時間湿式粉砕して作製した。 (Ba 0.6 Ca 0.4 ) SiO 3 was obtained by wet-mixing BaCO 3 , CaCO 3 and SiO 2 with a ball mill for 16 hours, and firing in air at 1150 ° C. after drying using a ball mill. It was produced by wet milling for a period of time.

次いで、誘電体材料をペースト化するために、有機ビヒクルを誘電体材料に加え、ボールミルで混合し、誘電体グリーンシート用ペーストを得た。有機ビヒクルは、誘電体材料100質量部に対して、バインダとしてポリビニルブチラール:6質量部、可塑剤としてフタル酸ビス(2−エチルヘキシル)(DOP):3質量部、エタノール:78質量部、プロパノール:78質量部、キシレン:14質量部、剥離剤としてパラフィン:0.5質量部の配合比である。   Next, in order to paste the dielectric material, an organic vehicle was added to the dielectric material and mixed with a ball mill to obtain a dielectric green sheet paste. The organic vehicle is based on 100 parts by weight of the dielectric material, polyvinyl butyral: 6 parts by weight as a binder, bis (2-ethylhexyl) phthalate (DOP): 3 parts by weight, ethanol: 78 parts by weight, propanol: The mixing ratio is 78 parts by mass, xylene: 14 parts by mass, and paraffin as a release agent: 0.5 parts by mass.

剥離層用ペースト
前記の誘電体グリーンシート用ペーストをエタノール/トルエン(55/10)によって重量比で2倍に希釈したものを剥離層用ペーストとした。
Release Layer Paste A release layer paste was prepared by diluting the dielectric green sheet paste with ethanol / toluene (55/10) twice by weight.

接着層用ペースト
バインダとしてのブチラール樹脂:100質量部、溶剤としてのメチルエチルケトン:900質量部、可塑剤としてのフタル酸ビス(2−エチルヘキシル):50質量部を、撹拌溶解することにより接着層用ペーストを作製した。
Butylal resin as adhesive layer paste binder: 100 parts by weight, methyl ethyl ketone as solvent: 900 parts by weight, bis (2-ethylhexyl) phthalate as plasticizer: 50 parts by weight, stirring and dissolving paste for adhesive layer Was made.

内部電極用ペースト(転写される電極層用ペースト)
次に、下記に示される配合比にて、3本ロールにより混練し、スラリー化して内部電極用ペーストとした。すなわち、平均粒径が0.4μmのNi粒子100質量部に対して、有機ビヒクル(バインダとしてのエチルセルロース樹脂8質量部をターピネオール92質量部に溶解したもの)40質量部およびターピネオール10質量部を加え、3本ロールにより混練し、スラリー化して内部電極用ペーストとした。
Internal electrode paste (transferred electrode layer paste)
Next, it knead | mixed with three rolls with the compounding ratio shown below, and was made into the slurry, and was set as the paste for internal electrodes. That is, for 100 parts by mass of Ni particles having an average particle diameter of 0.4 μm, 40 parts by mass of organic vehicle (8 parts by mass of ethyl cellulose resin as a binder dissolved in 92 parts by mass of terpineol) and 10 parts by mass of terpineol were added. The mixture was kneaded with three rolls and slurried to obtain an internal electrode paste.

接着層の形成
PETフィルム(第3支持シート)の上に、以下の方法により、接着層28を形成した。すなわち、まず、上記の接着層用ペーストを用い、ワイヤーバーコーターにより、接着層用ペースト膜を形成し、その後、接着層用ペースト膜を乾燥温度:表1に示す各温度、乾燥時間:1分の条件で乾燥した。なお、本実施例においては、乾燥後の平均膜厚が0.05μmとなるように接着層(試料番号1〜9)を形成した。得られた接着層28について、PETフィルム表面の被覆率、最大非被覆部分(最大ハジキ部分)の直径、被覆部分の厚みを、後に説明する方法により測定した。
Formation of Adhesive Layer An adhesive layer 28 was formed on the PET film (third support sheet) by the following method. That is, first, using the above-mentioned adhesive layer paste, a wire bar coater is used to form an adhesive layer paste film. Thereafter, the adhesive layer paste film is dried at temperatures shown in Table 1 and drying time: 1 minute. It dried on the conditions of. In this example, the adhesive layers (sample numbers 1 to 9) were formed so that the average film thickness after drying was 0.05 μm. About the obtained adhesive layer 28, the coverage of the PET film surface, the diameter of the maximum uncoated portion (maximum repellency portion), and the thickness of the coated portion were measured by the method described later.

積層ユニットの作製
まず、上記のグリーンシート用ペーストを用いて、PETフィルム(第2支持シート)上に、ワイヤーバーコーターを用いて、厚み1.0μmのグリーンシートを形成した。次に、それとは別のPETフィルム(第1支持シート)上に、剥離層を形成するために、上記の剥離層用ペーストを、ワイヤーバーコーターにより塗布乾燥させて0.2μmの剥離層を形成した。
Production of Laminate Unit First, a green sheet having a thickness of 1.0 μm was formed on a PET film (second support sheet) using the above-described paste for green sheets, using a wire bar coater. Next, in order to form a release layer on another PET film (first support sheet), the above release layer paste is applied and dried with a wire bar coater to form a 0.2 μm release layer. did.

次に、剥離層の表面に、電極層12aおよび余白パターン層24を形成した。電極層12aは、上記の内部電極用ペーストを用いた印刷法により、1.2μmの厚みで形成した。余白パターン層24は、上記のグリーンシート用ペーストを用いた印刷法により、1.2μmの厚みで形成した。   Next, the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 were formed on the surface of the release layer. The electrode layer 12a was formed with a thickness of 1.2 μm by a printing method using the above internal electrode paste. The blank pattern layer 24 was formed with a thickness of 1.2 μm by a printing method using the above green sheet paste.

次に、図2に示す方法で、電極層12aおよび余白パターン層24の表面に、上記にてPETフィルム(第3支持シート)上に形成した接着層28を転写した。転写時には、一対のロールを用い、その加圧力は、1MPa、温度は、80℃とした。   Next, the adhesive layer 28 formed on the PET film (third support sheet) was transferred onto the surfaces of the electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 by the method shown in FIG. At the time of transfer, a pair of rolls were used, the pressure was 1 MPa, and the temperature was 80 ° C.

次に、図3(A)、図3(B)に示す方法で、接着層28を介してグリーンシート10aの表面に内部電極層12aおよび余白パターン層24を接着(転写)した。転写時には、一対のロールを用い、その加圧力は、1MPa、温度は、80℃とした。   Next, the internal electrode layer 12a and the blank pattern layer 24 were adhered (transferred) to the surface of the green sheet 10a via the adhesive layer 28 by the method shown in FIGS. 3 (A) and 3 (B). At the time of transfer, a pair of rolls were used, the pressure was 1 MPa, and the temperature was 80 ° C.

次に、図3(C)に示す方法で、グリーンシート10a表面からPETフィルム(第2支持シート)を剥離し、図4(A)〜図4(C)に示す方法で、グリーンシート10a表面に接着層28を転写して、図4(C)に示すような積層体ユニットの試料(試料番号1〜9)を得た。得られた積層ユニットについて、以下の方法により、スタック強度、および第1支持シートとしてのPETフィルムを積層ユニットから剥離する際の破断の有無を、後に説明する方法により確認した。   Next, the PET film (second support sheet) is peeled from the surface of the green sheet 10a by the method shown in FIG. 3 (C), and the surface of the green sheet 10a is removed by the method shown in FIGS. 4 (A) to 4 (C). The adhesive layer 28 was transferred to a laminate unit sample (sample numbers 1 to 9) as shown in FIG. About the obtained lamination | stacking unit, the presence or absence of the fracture | rupture at the time of peeling stack | stuck strength and PET film as a 1st support sheet from a lamination | stacking unit was confirmed with the method demonstrated later by the following method.

グリーンチップの作製
次に、上記にて作製した積層ユニットを複数準備し、所望の特性が得られるように、複数積層した。そして、その上下に、厚み10μmに成形された複数枚の外層用グリーンシートを、積層時の厚みが約50μmとなるように、積層し、焼成後に積層コンデンサの蓋部分(カバー層)となる外層を形成した。そして、得られた積層体にいて100MPaおよび70℃の条件でプレス成形を行い、その後、ダイシング加工機によって、切断することにより、焼成前のグリーンチップを得た。
Production of Green Chip Next, a plurality of the laminated units produced above were prepared , and a plurality of laminated units were laminated so as to obtain desired characteristics. Then, on the top and bottom, a plurality of outer layer green sheets molded to a thickness of 10 μm are stacked so that the thickness when stacked is about 50 μm, and the outer layer that becomes the lid portion (cover layer) of the multilayer capacitor after firing Formed. The obtained laminate was press-molded under conditions of 100 MPa and 70 ° C., and then cut by a dicing machine to obtain a green chip before firing.

焼結体の作製
次に、最終積層体を所定サイズに切断し、脱バインダ処理、焼成およびアニール(熱処理)を行って、チップ形状の焼結体を作製した。
Production of sintered body Next, the final laminate was cut into a predetermined size and subjected to binder removal processing, firing and annealing (heat treatment) to produce a chip-shaped sintered body.

脱バインダは、昇温速度:50℃/時間、保持温度:240℃、保持時間:8時間、雰囲気ガス:空気中、で行った。焼成は、昇温速度:300℃/時間、保持温度:1200℃、保持時間:2時間、冷却速度:300℃/時間、雰囲気ガス:露点20℃に制御されたNガスとH(5%)との混合ガス、で行った。アニール(再酸化)は、保持時間:3時間、冷却速度:300℃/時間、雰囲気用ガス:露点20℃に制御されたNガス、で行った。なお、雰囲気ガスの加湿には、ウェッターを用い、水温0〜75℃にて行った。 The binder removal was performed at a temperature rising rate: 50 ° C./hour, a holding temperature: 240 ° C., a holding time: 8 hours, and an atmospheric gas: in the air. Firing is carried out by heating at a heating rate of 300 ° C./hour, a holding temperature of 1200 ° C., a holding time of 2 hours, a cooling rate of 300 ° C./hour, and an atmosphere gas of N 2 gas and H 2 (5 %) And mixed gas. Annealing (reoxidation) was performed with a holding time: 3 hours, a cooling rate: 300 ° C./hour, and an atmosphere gas: N 2 gas controlled to a dew point of 20 ° C. The atmosphere gas was humidified using a wetter at a water temperature of 0 to 75 ° C.

次に、チップ形状の焼結体の端面をサンドブラストにて研磨したのち、In−Ga合金ペースストを端部に塗布し、その後、焼成を行うことにより外部電極を形成し、図1に示す構成の積層セラミックコンデンサのサンプルを得た。得られたコンデンサ試料(試料番号1〜9)について、ショート不良率、および層間剥離の発生数を後に説明する方法により測定した。   Next, after polishing the end surface of the chip-shaped sintered body with sand blasting, an In-Ga alloy paste is applied to the end portion, and then firing is performed to form an external electrode. A sample of a multilayer ceramic capacitor was obtained. About the obtained capacitor | condenser sample (sample number 1-9), the short-circuit defect rate and the generation | occurrence | production number of delamination were measured by the method demonstrated later.

接着層の被覆率、最大非被覆部分(最大ハジキ部分)の直径、被覆部分の厚み
接着層の被覆率は、まず、PETフィルム上に形成した接着層28の表面について、金属顕微鏡写真を撮影し、得られた金属顕微鏡写真を用いて、接着層の被覆率を測定した。具体的には、接着層中に、接着層を構成する成分が実質的に存在していない非被覆部分(ハジキ部分)が全く無いと仮定した場合に、接着層がPETフィルムを被覆する理想面積を100%とし、接着層を構成する成分が実質的に存在している被覆部分の面積の比率を計算することにより求めた。被覆率は、視野30μm×30μmについて測定した金属顕微鏡写真10枚を使用し、画像処理を用いた接着層の被覆部分と、非被覆部分と、の二値化により、面積比率を求めた。結果を表1に示す。
To determine the coverage of the adhesive layer, the diameter of the maximum uncovered portion (maximum repellency portion), the thickness of the coated portion, the coverage of the adhesive layer was first obtained by taking a metal micrograph on the surface of the adhesive layer 28 formed on the PET film. The coverage of the adhesive layer was measured using the obtained metal micrograph. Specifically, when it is assumed that the adhesive layer has no uncovered portion (repellent portion) where the component constituting the adhesive layer is not substantially present, the ideal area where the adhesive layer covers the PET film Was calculated by calculating the ratio of the area of the covering portion where the components constituting the adhesive layer substantially exist. For the coverage, 10 metal micrographs measured for a visual field of 30 μm × 30 μm were used, and the area ratio was determined by binarization of the coated portion and the uncoated portion of the adhesive layer using image processing. The results are shown in Table 1.

最大非被覆部分(最大ハジキ部分)の直径は、上記にて得られた金属顕微鏡写真を用いて、接着層中に存在する非被覆部分(ハジキ部分)のうち、最大の直径を有する最大非被覆部分の直径を、最大非被覆部分(最大ハジキ部分)の直径とした。なお、測定には、視野30μm×30μmについて測定した金属顕微鏡写真10枚を使用して求めた。   The diameter of the maximum uncovered portion (maximum repellency portion) is the maximum uncovered portion having the largest diameter among the non-covered portions (repellent portions) existing in the adhesive layer using the metal micrograph obtained above. The diameter of the part was taken as the diameter of the largest uncovered part (maximum repellency part). The measurement was performed using 10 metal micrographs measured for a visual field of 30 μm × 30 μm.

被覆部分の厚みは、接着層の平均膜厚(0.05μm)を、上記にて求めた接着層の被覆率で除すことにより、求めた。   The thickness of the covering portion was determined by dividing the average thickness (0.05 μm) of the adhesive layer by the coverage of the adhesive layer determined above.

なお、本実施例においては、PETフィルム上に形成した接着層28について、接着層の被覆率、最大非被覆部分(最大ハジキ部分)の大きさ、被覆部分の厚みを求めたが、PETフィルム上に形成した接着層28を、電極層12aおよびグリーンシート10aに転写した場合においても、同様の結果であった。   In this example, for the adhesive layer 28 formed on the PET film, the coverage of the adhesive layer, the size of the maximum uncovered portion (maximum repellency portion), and the thickness of the covered portion were determined. The same result was obtained when the adhesive layer 28 formed on was transferred to the electrode layer 12a and the green sheet 10a.

また、図6(A)〜図6(C)に、上記にて撮影した接着層の金属顕微鏡写真を示す。ここにおいて、図6(A)は、乾燥温度を120℃とした試料番号6の金属顕微鏡写真であり、図6(B)は、乾燥温度を40℃とした試料番号1の金属顕微鏡写真であり、図6(C)は、乾燥温度を60℃とした試料番号3の金属顕微鏡写真である。   6A to 6C show metal micrographs of the adhesive layer taken as described above. Here, FIG. 6A is a metal micrograph of sample number 6 with a drying temperature of 120 ° C., and FIG. 6B is a metal micrograph of sample number 1 with a drying temperature of 40 ° C. FIG. 6C is a metallographic micrograph of Sample No. 3 with a drying temperature of 60 ° C.

スタック強度の測定
スタック強度(単位は、N/cm)は、次のようにして評価した。すなわち、上記にて作製した図4(C)に示す構成を有する積層ユニット試料の表面に両面テープを貼り、インストロン5543の引張試験機を用い、シートを引き剥がす方向に引っ張り、引き剥がされた時の剥離強度を測定し、この時の剥離強度を、スタック強度とした。スタック強度が高いほど、接着性に優れている。結果を表1に示す。
Measurement of stack strength Stack strength (unit: N / cm 2 ) was evaluated as follows. That is, a double-sided tape was affixed to the surface of the laminated unit sample having the configuration shown in FIG. 4C prepared above, and the sheet was pulled and peeled using the Instron 5543 tensile tester. The peel strength at the time was measured, and the peel strength at this time was defined as the stack strength. The higher the stack strength, the better the adhesion. The results are shown in Table 1.

剥離時の破断の有無
剥離時の破断の有無は、次のようにして評価した。まず、上記にて作製した図4(C)に示す構成を有する積層ユニット試料から、第1支持シートとしてのPETフィルム20を剥離した際に、剥離後のPETフィルム20の表面を観察し、PETフィルム20の表面に電極層12aまたは余白パターン層24が残存しているか否かを確認した。電極層12aとグリーンシート10aとの間の界面で破断が起こり、PETフィルム20の表面に電極層12aまたは余白パターン層24が残存している場合を、破断有りとした。結果を表1に示す。本実施例においては、上記剥離および観察を、100個のサンプルについて行い、電極層12aまたは余白パターン層24の残存が確認されたサンプルが1個でもあった場合に、不可と評価し、表1中に「×」で示した。一方、電極層12aの残存が確認されなかった場合に、良好と判断し、表1中に「○」で示した。
Presence or absence of breakage at the time of peeling The presence or absence of breakage at the time of peeling was evaluated as follows. First, when the PET film 20 as the first support sheet was peeled from the laminated unit sample having the configuration shown in FIG. 4C prepared above, the surface of the peeled PET film 20 was observed, and the PET It was confirmed whether the electrode layer 12a or the blank pattern layer 24 remained on the surface of the film 20. When the fracture occurred at the interface between the electrode layer 12a and the green sheet 10a and the electrode layer 12a or the blank pattern layer 24 remained on the surface of the PET film 20, the fracture was considered. The results are shown in Table 1. In this example, the above peeling and observation were performed on 100 samples, and when there was even one sample in which the remaining electrode layer 12a or blank pattern layer 24 was confirmed, it was evaluated as impossible. Indicated by "x". On the other hand, when the remaining of the electrode layer 12a was not confirmed, it was judged to be good, and indicated by “◯” in Table 1.

ショート不良率
ショート不良率は、コンデンサ試料に対して、1Vrmsの電圧を印加し、絶縁抵抗計を使用して、抵抗値を測定することにより求めた。具体的には、100個のコンデンササンプルに対して測定を行い、抵抗値が10Ω以下となったサンプルをショート不良サンプルとし、全測定サンプルに対する、ショート不良サンプルの比率をショート不良率とした。結果を表1に示す。
Short defect rate The short defect rate was determined by applying a voltage of 1 Vrms to the capacitor sample and measuring the resistance value using an insulation resistance meter. Specifically, measurement was performed on 100 capacitor samples, a sample having a resistance value of 10Ω or less was defined as a short defect sample, and the ratio of the short defect sample to the total measurement sample was defined as a short defect rate. The results are shown in Table 1.

層間剥離の発生数
まず、得られたコンデンサ試料を、内部電極層と垂直な方向で切断した。次いで、この切断面を観察し、層間剥離現象が発生しているか否かを確認した。本実施例では、200個のサンプルについて検査を行った。結果を表1に示す。
Number of delaminations First, the obtained capacitor sample was cut in a direction perpendicular to the internal electrode layer. Next, this cut surface was observed to confirm whether or not a delamination phenomenon occurred. In this example, 200 samples were inspected. The results are shown in Table 1.

実施例2
接着層用ペーストに含有させるブチラール樹脂の含有量を、それぞれ250質量部、400質量部とし、接着層の平均膜厚をそれぞれ0.2μm(表1の試料番号10)、0.3μm(表1の試料番号11)とし、さらに、接着層の乾燥温度を85℃とした以外は、実施例1と同様にして、各試料を作製し、実施例1と同様にして評価を行った。結果を表1に示す。
Example 2
The content of butyral resin contained in the adhesive layer paste is 250 parts by mass and 400 parts by mass, respectively, and the average film thickness of the adhesive layer is 0.2 μm (sample number 10 in Table 1) and 0.3 μm (Table 1), respectively. Each sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the drying temperature of the adhesive layer was set to 85 ° C. and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

評価
接着層の平均膜厚を0.05μmとし、接着層を形成する際の乾燥温度を、それぞれ40℃、60℃、80℃とした試料番号1〜3は、いずれも接着層の被覆率が50%より大きかった。そして、これら試料番号1〜3は、スタック強度が40N/cm未満となり、剥離時の破断が確認され、その結果、ショート不良率に劣るとともに、層間剥離の発生数も多くなる結果となった。そのため、これら試料番号1〜3は「×(不良)」と評価した。
Sample numbers 1 to 3 in which the average film thickness of the evaluation adhesive layer was 0.05 μm, and the drying temperatures when forming the adhesive layer were 40 ° C., 60 ° C., and 80 ° C., respectively, had a coating rate of the adhesive layer. Greater than 50%. And these sample numbers 1 to 3 have a stack strength of less than 40 N / cm 2, and the fracture at the time of peeling was confirmed. As a result, the inferior short-circuit defect rate and the number of occurrences of delamination were increased. . Therefore, these sample numbers 1 to 3 were evaluated as “× (defect)”.

一方、接着層の平均膜厚を0.05μmとし、接着層を形成する際の乾燥温度を、それぞれ90〜160℃の範囲とした試料番号4〜8は、いずれも接着層の被覆率が50%以下であった。そして、これら試料番号4〜8は、スタック強度が40N/cm以上となり、剥離時の破断も確認されず、その結果、ショート不良率が低く、さらには層間剥離の発生数も低減されていた。特に、これら試料番号4〜8のなかでも、試料番号6,7は、ショート不良率が0%となり、しかも、層間剥離の発生数も極めて少なかったため、「◎(極めて良好)」と評価し、それ以外については、「○(良好)」と評価した。 On the other hand, in Sample Nos. 4 to 8, in which the average film thickness of the adhesive layer was 0.05 μm and the drying temperature when forming the adhesive layer was in the range of 90 to 160 ° C., respectively, the coverage of the adhesive layer was 50 % Or less. And these sample numbers 4-8 became stack strength 40N / cm < 2 > or more, the fracture | rupture at the time of peeling was not confirmed, as a result, the short-circuit defect rate was low, and also the generation | occurrence | production number of delamination was reduced. . In particular, among these sample numbers 4 to 8, sample numbers 6 and 7 were evaluated as “((very good)” because the short-circuit defect rate was 0% and the number of delaminations was extremely small. About other than that, it evaluated as "(good)."

なお、接着層を形成する際の乾燥温度を、170℃とした試料番号9においては、支持シートが変形してしまい、転写可能な接着層を得ることができなかった。   In Sample No. 9 where the drying temperature when forming the adhesive layer was 170 ° C., the support sheet was deformed, and a transferable adhesive layer could not be obtained.

また、接着層の平均膜厚をそれぞれ0.2μm、0.3μmと厚くした試料番号10および11の結果より、接着層の厚みが厚くなると、スタック強度が高くなる一方で、ショート不良率が悪化していくとともに、層間剥離の発生数も増大していくことが確認できる。なお、平均膜厚を0.2μmとした試料番号10は、ショート不良率が低く、層間剥離の発生数も少ないため、「○」と評価した。一方、平均膜厚を0.3μmとした試料番号11は、ショート不良率が100%となり、また、層間剥離の発生数も多くなる結果となったため、「×」と評価した。   In addition, from the results of Sample Nos. 10 and 11 in which the average thickness of the adhesive layer was increased to 0.2 μm and 0.3 μm, respectively, when the thickness of the adhesive layer is increased, the stack strength is increased while the short-circuit defect rate is deteriorated. It can be confirmed that the number of delaminations increases with the progress. Sample No. 10 having an average film thickness of 0.2 μm was evaluated as “◯” because the short-circuit defect rate was low and the number of delaminations was small. On the other hand, Sample No. 11 with an average film thickness of 0.3 μm was evaluated as “x” because the short-circuit defect rate was 100% and the number of delaminations was increased.

さらに、図6(A)〜図6(C)に、接着層の金属顕微鏡写真を示す。ここにおいて、図6(A)は、乾燥温度を120℃とした試料番号6の金属顕微鏡写真であり、図6(B)は、乾燥温度を40℃とした試料番号1の金属顕微鏡写真であり、図6(C)は、乾燥温度を60℃とした試料番号3の金属顕微鏡写真である。これらの写真より、乾燥処理の条件を変化させることにより、接着層の表面状態を変化させることができ、上記各結果より、接着層の表面状態を図6(A)に示すような構成とすることが好ましいことが確認できる。なお、図6(A)〜図6(C)において、白色部分は、剥離層の構成成分が存在している部分(被覆部分)であり、一方、黒色部分は、剥離層の構成成分が実質的に存在していない部分(非被覆部分)である。   Further, FIGS. 6A to 6C show metal micrographs of the adhesive layer. Here, FIG. 6A is a metal micrograph of sample number 6 with a drying temperature of 120 ° C., and FIG. 6B is a metal micrograph of sample number 1 with a drying temperature of 40 ° C. FIG. 6C is a metallographic micrograph of Sample No. 3 with a drying temperature of 60 ° C. From these photographs, it is possible to change the surface state of the adhesive layer by changing the conditions of the drying treatment. From the above results, the surface state of the adhesive layer is configured as shown in FIG. It can be confirmed that this is preferable. In FIGS. 6A to 6C, the white portion is the portion where the constituent component of the release layer is present (covered portion), while the black portion is substantially the constituent component of the release layer. This is a part that does not exist (uncoated part).

図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention. 図2(A)〜図2(C)は電極層の転写方法を示す要部断面図である。2 (A) to 2 (C) are cross-sectional views showing the main part of the electrode layer transfer method. 図3(A)〜図3(C)は図2の続きの工程を示す要部断面図である。FIG. 3A to FIG. 3C are cross-sectional views of relevant parts showing a step subsequent to FIG. 図4(A)〜図4(C)は電極層が接着されたグリーンシートの積層方法を示す要部断面図である。4 (A) to 4 (C) are cross-sectional views illustrating the main part of a method for laminating green sheets to which electrode layers are bonded. 図5(A)〜図5(C)は積層体ユニットの積層方法を示す要部断面図である。FIG. 5A to FIG. 5C are cross-sectional views of relevant parts showing a method for stacking stacked body units. 図6(A)は本発明の実施例に係る接着層の表面写真、図6(B)、図6(C)は比較例に係る接着層の表面写真である。FIG. 6A is a surface photograph of an adhesive layer according to an example of the present invention, and FIGS. 6B and 6C are surface photographs of an adhesive layer according to a comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

2… 積層セラミックコンデンサ
4… コンデンサ素体
6,8… 端子電極
10… 誘電体層
10a… グリーンシート
12… 内部電極層
12a… 電極層
20… キャリアシート(第1支持シート)
22… 剥離層
24… 余白パターン層
26… キャリアシート(第3支持シート)
28… 接着層
30… キャリアシート(第2支持シート)
40… 基材
50… 吸引保持台
2 ... Multilayer ceramic capacitor 4 ... Capacitor body 6, 8 ... Terminal electrode 10 ... Dielectric layer 10a ... Green sheet 12 ... Internal electrode layer 12a ... Electrode layer 20 ... Carrier sheet (first support sheet)
22 ... Release layer 24 ... Blank pattern layer 26 ... Carrier sheet (third support sheet)
28 ... Adhesive layer 30 ... Carrier sheet (second support sheet)
40 ... Base material 50 ... Suction holding stand

Claims (8)

電極層またはグリーンシートの表面に、バインダ樹脂および可塑剤を含有する接着層を形成する工程と、
前記接着層を介して、電極層とグリーンシートとを積層し、グリーンチップを形成する工程と、
前記グリーンチップを焼成する工程と、を有する積層型電子部品の製造方法であって、
前記接着層は、前記バインダ樹脂、前記可塑剤および溶剤を含有する接着層用ペーストを用いて形成される接着層用ペースト膜を、85〜160℃の温度で乾燥することにより形成され
乾燥後の前記接着層が前記接着層をその表面に形成した前記電極層または前記グリーンシートを実際に被覆する面積の割合である被覆率が、5%〜50%となるように、前記乾燥を行い、
前記接着層の平均膜厚を0.05〜0.2μmの範囲とすることを特徴とする積層型電子部品の製造方法。
Forming an adhesive layer containing a binder resin and a plasticizer on the surface of the electrode layer or the green sheet;
A step of laminating an electrode layer and a green sheet through the adhesive layer to form a green chip;
A step of firing the green chip, comprising the steps of:
The adhesive layer, the binder resin, the plasticizer and paste film adhesive layer formed using the adhesive layer paste contains a solvent, is formed by drying at a temperature of eighty-five to one hundred sixty ° C.,
The drying is performed so that the covering ratio, which is the ratio of the area actually covering the electrode layer or the green sheet on which the adhesive layer is formed on the surface, is 5% to 50%. Done
A method for manufacturing a multilayer electronic component, wherein an average film thickness of the adhesive layer is in a range of 0.05 to 0.2 μm .
前記接着層は、最初に支持シートの表面に剥離可能に形成され、前記電極層の表面または前記グリーンシートの表面に押し付けられて転写される請求項1に記載の積層型電子部品の製造方法。 2. The method of manufacturing a multilayer electronic component according to claim 1, wherein the adhesive layer is first formed on the surface of the support sheet so as to be peelable, and is pressed and transferred to the surface of the electrode layer or the surface of the green sheet. 前記接着層は、前記接着層をその表面に形成した前記電極層または前記グリーンシートを、実際に被覆している被覆部分と、実質的に被覆していな非被覆部分と、を有し、
前記非被覆部分のうち、その直径が最大である最大非被覆部分の直径が80μm以下である請求項1または2に記載の積層型電子部品の製造方法。
The adhesive layer has a covering part that actually covers the electrode layer or the green sheet on which the adhesive layer is formed, and an uncovered part that is not substantially covered,
3. The method for manufacturing a multilayer electronic component according to claim 1, wherein a diameter of a maximum uncovered portion having a maximum diameter among the uncovered portions is 80 μm or less.
前記接着層は、前記接着層をその表面に形成した前記電極層または前記グリーンシートを、実際に被覆している被覆部分と、実質的に被覆していな非被覆部分と、を有し、
前記被覆部分の厚みが、0.10〜1.0μmの範囲である請求項1〜のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。
The adhesive layer has a covering part that actually covers the electrode layer or the green sheet on which the adhesive layer is formed, and an uncovered part that is not substantially covered,
The thickness of the coating portion, the multilayer method for manufacturing the electronic component according to any of claims 1 to 3 in the range of 0.10~1.0Myuemu.
前記接着層中に含有される前記バインダ樹脂が、アクリル系樹脂およびブチラール系樹脂から選択される1種以上を含む請求項1〜にいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。 Wherein the binder resin contained in the adhesive layer, the manufacturing method of the multilayer electronic component according to any one to claims 1-4 containing one or more selected from acrylic resin and butyral resin. 前記接着層中における前記可塑剤の含有量が、前記バインダ樹脂100質量部に対して、10〜100質量部である請求項1〜のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。 The content of the plasticizer, relative to the binder resin 100 parts by weight, the multilayer method for manufacturing the electronic component according to any one of claims 1 to 5, 10 to 100 parts by weight of the adhesive layer. 前記接着層中に含有される可塑剤がフタル酸エステルである請求項1〜のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。 Method of manufacturing a multilayer electronic component according to any of claims 1-6 plasticizer is phthalate ester contained in the adhesive layer. 前記グリーンシートの厚みが、2μm以下である請求項1〜のいずれかに記載の積層型電子部品の製造方法。 The thickness of the green sheet is stacked method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 1 to 7 at 2μm or less.
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