JP4603330B2 - ワーク搬送処理装置 - Google Patents
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Description
各回転ドラムは、前段の回転ドラムから送り出されたワークを外周側から中心側に送り込む送り込み通路と、当該送り込み通路を介して中心側に送り込まれたワークを次段の回転ドラムに向けて送り出す送り出し通路とを備えており、
少なくとも一つの前記回転ドラムは、当該回転ドラム内を搬送されるワークに対して、メッキ処理を施すためのメッキ処理用回転ドラムであり、
前記メッキ処理用回転ドラムに接触状態に保持されるメッキ用のワイヤ電極と、
当該ワイヤ電極をその軸線方向に搬送するワイヤ電極送り機構とを有していることを特徴としている。
(全体構成)
図1は本発明を適用した多槽式インラインメッキ処理装置を示す全体構成図である。本例の多槽式インラインメッキ処理装置20は、前処理ステーションであるアルカリ洗浄ステーション21、水洗浄ステーション22、酸洗浄ステーション23および水洗浄ステーション24と、メッキ処理ステーション25と、後処理ステーションである水洗浄ステーション26および乾燥ステーション27とを有している。
次に、回転ドラム21(1)〜27(1)として用いるのに適した回転ドラムの例を説明する。図3(a)は本例の回転ドラムを前端側から見た場合の外観斜視図であり、(b)は後端側から見た場合の斜視図であり、内部構造が分かるように透視状態で示してある。本例の回転ドラム1は、そのドラム中心軸線1aの方向の前後に一定の間隔で対向配置した円形の前側端板2および後側端板3と、これらの間に渦巻き状に取り付けた仕切り板4とを有している。
図6は回転ドラム21(1)〜27(1)として用いることのできる回転ドラムの別の構成例を示す説明図である。本例の回転ドラム50は、その一方の端面の外周面側の部位にワーク投入口51が形成されており、回転ドラム50の内部には、ワーク投入口51に外周端側が連通し、半径方向の内方に向けて延びている送り込み通路52が形成されている。また、送り込み通路52の中心側の端は、中心軸線50aに沿って延びている送り出し通路53の一端に連通している。送り出し通路53の他端は、回転ドラム50の他方の端の中心に形成したワーク排出口54に連通している。送り込み通路52が中心軸線50aから下方に垂直に延びている回転位置(図6(a)、(b))においては、送り出し通路53に沿ってワークWが自重によって滑落してワーク排出口54に到るように、当該送り出し通路53の内周面にはテーパが付いている。
図7は本発明を適用した実施の形態2に係る多槽式インラインメッキ処理装置を示す全体構成図である。多槽式インラインメッキ処理装置60は、メッキ処理ステーション61と、洗浄ステーション62と、遠心分離による乾燥ステーション63とを有している。メッキ処理ステーション61には、図3および4に示す構造の回転ドラム64からなる投入部分を介してメッキ対象のワークが投入される。メッキ処理ステーション61は内周面に沿ってらせん状の送りフィン65aが形成された構成の回転ドラム65と、この回転ドラム65の下側部分が浸漬されているメッキ液槽66から構成されている。
図8は、本発明を適用した実施の形態3に係る多槽式インラインメッキ処理装置を示す全体構成図である。多槽式インラインメッキ処理装置80は、図3、4に示す構成の回転ドラムを4台タンデムに連結し、その最終段に同じく同一構成の回転ドラムからなる遠心分離乾燥機を連結した構成となっている。第1段の回転ドラム81は、その第1方向の回転に伴って、その端面の中心から水平に送り込まれたワークをその外周側に搬送、すなわち、降下させ、第2段の回転ドラム82に引き渡す。回転ドラム82の下側部分はメッキ液槽92に浸漬しており、所定時間だけワークを浸漬しておくことにより無電解メッキ処理がワークに施される。
なお、本発明のワーク搬送処理装置は、洗浄工程およびメッキ処理工程と共に、別の処理工程を含む構成とすることも可能である。たとえば、回転ドラムによってワークを搬送しながらワークの検査を行う検査ステーションなどを含む構成とすることも可能である。
1a、50a 中心軸線
2、3 端板
4 仕切り板
5 半円形円弧板部分
5c 大径内周面部分
6 渦巻き状曲面板部分
6c 渦巻き状内周面部分
7 半円形円弧板部分
7a 半円形内周面部分
8 螺旋状の送りフィン
8a 送りフィンの前端
8b 送りフィンの後端
9 搬入口
10 ガイド板
11 排出口
12、13 連結リング
14 従動歯車
15 渦巻き状通路
16 投入口
17 軸方向通路
20 多槽式インラインメッキ処理装置
21 アルカリ洗浄ステーション
22 水洗浄ステーション
23 酸洗浄ステーション
24 水洗浄ステーション
25 メッキ処理ステーション
26 水洗浄ステーション
27 乾燥ステーション
21(1)〜27(1) 回転ドラム
21(2)〜24(2)、26(2) 洗浄液槽
25(2) メッキ液槽
27(2) 洗浄液回収槽
28、29、30 駆動モータ
32 ワーク投入口
33 ワーク排出口
34 送り込み通路
35 送り出し通路
40 装置架台
Claims (9)
- 回転に伴って前段の回転ドラムから次段の回転ドラムに順次にワークを搬送するワーク搬送処理装置において、
各回転ドラムは、前段の回転ドラムから送り出されたワークを外周側から中心側に送り込む送り込み通路と、当該送り込み通路を介して中心側に送り込まれたワークを次段の回転ドラムに向けて送り出す送り出し通路とを備えており、
少なくとも一つの前記回転ドラムは、当該回転ドラム内を搬送されるワークに対して、メッキ処理を施すためのメッキ処理用回転ドラムであり、
前記メッキ処理用回転ドラムに接触状態に保持されるメッキ用のワイヤ電極と、
当該ワイヤ電極をその軸線方向に搬送するワイヤ電極送り機構とを有していることを特徴とするワーク搬送処理装置。 - 請求項1において、
前記メッキ処理用回転ドラムは、少なくともその外周側の部分が、メッキ液を貯留したメッキ処理槽に浸漬した状態で回転するように配置されていることを特徴とするワーク搬送処理装置。 - 請求項2において、
前記メッキ液槽は、交換可能なカートリッジ式メッキ液槽であることを特徴とするワーク搬送処理装置。 - 請求項1ないし3のうちのいずれかの項において、
少なくとも一つの前記回転ドラムを備えた前処理ステーションと、
前記メッキ処理用回転ドラムを備えたメッキ処理ステーションと、
少なくとも一つの前記回転ドラムを備えた後処理ステーションとを有し、
前記前処理ステーションにおいてワークの洗浄が行われ、
前記後処理ステーションにおいてメッキ後のワークの洗浄および乾燥が行われることを特徴とするワーク搬送処理装置。 - 請求項4において、
前記前処理ステーションは、ワークをアルカリ洗浄するためのアルカリ洗浄用回転ドラムと、アルカリ洗浄後のワークを水洗浄するための水洗浄用回転ドラムと、水洗浄後のワークを酸洗浄するための酸洗浄用回転ドラムと、酸洗浄後のワークを水洗浄する水洗浄用回転ドラムとを備え、
前記後処理ステーションは、メッキ後のワークを水洗浄するための水洗浄用回転ドラムと、水洗浄後のワークを乾燥する乾燥用回転ドラムとを備えていることを特徴とするワーク搬送処理装置。 - 請求項1ないし5のうちのいずれかの項において、
少なくとも一つの前記回転ドラムは、
前記送り込み通路が、当該回転ドラムの中心軸線を中心とする渦巻き状の経路に沿って、その外周側から中心側、あるいは中心側から外周側に向けてワークを送り出す渦巻き状通路であり、
前記送り出し通路が、前記中心軸線の方向に延びる螺旋状の送りフィンによってワークを当該中心軸線の方向に送り出す軸方向通路であることを特徴とするワーク搬送処理装置。 - 請求項6において、
前記渦巻き状通路は、前記中心軸線を中心として所定の角度ずつ周方向にオフセットした状態に形成された少なくとも第1および第2の渦巻き状通路を含んでいることを特徴とするワーク搬送処理装置。 - 請求項7において、
前記軸方向通路の前記送りフィンは、前記中心軸線を中心として所定の角度ずつ周方向にオフセットした状態に配置した第1および第2の送りフィンを含んでおり、
前記第1の渦巻き状通路と前記第1の送りフィンとの間でワークの受け渡しが行われ、
前記第2の渦巻き状通路と前記第2の送りフィンとの間でワークの受け渡しが行われることを特徴とするワーク搬送処理装置。 - 請求項1ないし5のうちのいずれかの項において、
少なくとも一つの前記回転ドラムは、
前記送り込み通路が、当該回転ドラムの半径方向に延びる通路であり、
前記送り出し通路が、当該回転ドラムの中心軸線に沿って延びる通路であることを特徴とするワーク搬送処理装置。
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