JP4593762B2 - クリーニングシ―ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 - Google Patents
クリーニングシ―ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4593762B2 JP4593762B2 JP2000349972A JP2000349972A JP4593762B2 JP 4593762 B2 JP4593762 B2 JP 4593762B2 JP 2000349972 A JP2000349972 A JP 2000349972A JP 2000349972 A JP2000349972 A JP 2000349972A JP 4593762 B2 JP4593762 B2 JP 4593762B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaning sheet
- sensitive adhesive
- pressure
- molecular weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 181
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 37
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 71
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 59
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 57
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 42
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 32
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 13
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 10
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 claims description 6
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 3
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 39
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 24
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 229920001228 polyisocyanate Chemical class 0.000 description 8
- 239000005056 polyisocyanate Chemical class 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 7
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 7
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 cibenzyl Chemical compound 0.000 description 6
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 6
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- ZAMZCSIXTWIEDY-UHFFFAOYSA-N (2-propylphenyl)methanol Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1CO ZAMZCSIXTWIEDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWZAUXRKSMJLMH-UHFFFAOYSA-N 1,1-diethoxyethylbenzene Chemical compound CCOC(C)(OCC)C1=CC=CC=C1 BWZAUXRKSMJLMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYEDESPZQLZMCL-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=CC=C3SC2=C1 UYEDESPZQLZMCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 1-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTOHEPRICOKHIV-UHFFFAOYSA-N 1-dodecylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2CCCCCCCCCCCC CTOHEPRICOKHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NACPTFCBIGBTSJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-phenyl-1-(2-propan-2-ylphenyl)ethanone Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 NACPTFCBIGBTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001541 aziridines Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000000642 dynamic headspace extraction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 230000006855 networking Effects 0.000 description 1
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0014—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by incorporation in a layer which is removed with the contaminants
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0028—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by adhesive surfaces
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、各種の基板処理装置をクリーニングするシート、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法に関し、例えば、半導体、フラットパネルディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査装置など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニングシート及びクリーニング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
各種基板処理装置は、各搬送系と基板とを物理的に接触させながら搬送する。
その際、基板や搬送系に異物が付着していると、後続の基板を次々に汚染することになり、定期的に装置を停止させ、洗浄処理をする必要があった。このため、稼働率低下や多大な労力が必要になるという問題があった。これらの問題を解決するため、粘着性の物質を固着した基板を搬送することにより基板処理装置内の付着した異物をクリーニング除去する方法(特開平10−154686号)や、板状部材を搬送することにより基板裏面に付着する異物を除去する方法(特開平11−87458号)が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
粘着性の物質を固着した基板を搬送することにより基板処理装置内の付着した異物をクリーニング除去する方法は、前述の課題を克服する有効な方法である。しかしこの方法では、搬送装置内が100℃程度の加熱状態にある場合や高真空(10-7Torr)状態にある場合などにおいては、粘着性物質から多量の揮発性ガス(以下脱ガスと称する)が発生するため、装置内を汚染させたり、真空度を低下させたりするなどして、必ずしも簡便な方法ではなかった。
とりわけ、基板処理装置においては、例えばプラズマエッチング装置、スパッタエッチング装置、反応性イオンエッチング装置、CVD(Chemical Mechanical Deposition)装置など、装置内が高真空条件下にて処理を行う場合が多く、従ってこれらの装置でクリーニングを行うと真空度を低下させてしまうという問題があった。
また、板状部材を搬送することにより異物を除去する方法は、搬送時の装置汚染の問題は生じないが、肝心の除塵性に劣るという問題があった。
本発明は、このような事情に照らし、搬送時に脱ガスによる基板処理装置内の汚染や真空度の低下などその環境を悪化させることなく、かつ装置内に付着している異物を簡便かつ確実に除去できるクリーニングシート及びクリーニング方法を提供することを目的としている。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の目的を達成するために、鋭意検討した結果、クリーニング層を有するクリーニングシートあるいはクリーニングシートを設けた基板等の搬送部材を搬送することにより、基板処理装置内の付着した異物をクリーニング除去するにあたり、加熱下や真空下において脱ガスとして生じるのは、クリーニング層を構成する粘着剤中に含まれる脂肪族成分、芳香族成分や汚染成分である溶剤成分、フタル酸化膜エステルなどであり、とくに主剤成分である感圧接着性ポリマー、例えばアクリルポリマーなどに起因する、オリゴマー状の低分子量体が多く含まれているために、これらの低分子量体が加熱条件下や真空条件下において揮発性ガスとなって発生していることを究明した。
【0005】
本発明者らは、かかる究明に基づいて、さらに検討を続け、クリーニング層に含まれる低分子量体を架橋することによりクリーニング層のゲル分率を90%以上とし、かつクリーニングシートの揮発性ガス量が100℃下で500ppm(μg/gともいう)以下となるように設計することにより、前記問題を生じることなく、さらに異物を簡便かつ確実に除去できることを見出し、本発明を完成するに至つた。
また、本発明者らは上記究明に基づいて別途検討を続け、クリーニング層に低分子量体そのものが実質的に含まれていないように、かつクリーニングシートの揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下となるように設計することにより、前記問題を生じることなく、さらに異物を簡便かつ確実に除去できることもを見出し、本発明を完成するに至つた。
【0006】
即ち第一の本発明は、基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであって、クリーニング層(以下、クリーニングシート単体、積層シート、もしくは支持体との積層シートなどの形態としてを含む)が、少なくとも感圧接着性ポリマーと多官能性化合物を含み、該感圧接着性ポリマーが多官能性化合物により架橋されてなり、ゲル分率が90%以上で、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下であるクリーニングシート(請求項1)、基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであると共に、支持体の少なくとも片面にクリーニング層が設けられてなるクリーニングシートであって、該クリーニング層が、少なくとも感圧接着性ポリマーと多官能性化合物を含み、該感圧接着性ポリマーが多官能性化合物により架橋されてなり、ゲル分率が90%以上で、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下となるように設計されているクリーニングシート(請求項2)、基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであると共に、支持体の片面にクリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着剤層が設けられてなるクリーニングシートであって、該クリーニング層が、少なくとも感圧接着性ポリマーと多官能性化合物を含み、該感圧接着性ポリマーが多官能性化合物により架橋されてなり、ゲル分率が90%以上で、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下となるように設計されているクリーニングシート(請求項3)などに係るものである。
【0007】
また第二の本発明は、基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであって、クリーニング層(以下、クリーニングシート単体、積層シート、もしくは支持体との積層シートなどの形態としてを含む)が、感圧接着性ポリマーを主成分として含み、該感圧接着性ポリマーに分子量5000以下の低分子量体が実質的に含まれておらず、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下であるクリーニングシート(請求項4)、基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであると共に、支持体の少なくとも片面にクリーニング層が設けられてなるクリーニングシートであって、該クリーニング層が、感圧接着性ポリマーを主成分として含み、該感圧接着性ポリマーに分子量5000以下の低分子量体が実質的に含まれておらず、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下であるクリーニングシート(請求項5)、基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであると共に、支持体の片面にクリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着剤層が設けられてなるクリーニングシートであって、該クリーニング層が、感圧接着性ポリマーを主成分として含み、該感圧接着性ポリマーに分子量5000以下の低分子量体が実質的に含まれておらず、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下であるクリーニングシート(請求項6)、感圧接着性ポリマーの分子量の分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が10以下であることを特徴とする請求項4〜6いずれか記載のクリーニングシート(請求項7)、感圧接着性ポリマーが、貧溶媒による再沈殿処理が施されていることを特徴とする請求項4〜7いずれか記載のクリーニングシート(請求項8)などに係るものである。
【0008】
【発明の実施の形態】
第一の本発明のクリーニングシートにおけるクリーニング層は、後述のゲル分率が90%以上で、かつクリーニングシートからの揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下、より好ましくはクリーニング層のゲル分率が95%以上で、かつクリーニングシートからの揮発性ガス量が300ppm以下であることが必要である。 かかる揮発性ガス量は、後述の実施例の如くガスクロマトグラフィー/質量分析(GC/MS)を用いて測定した値であり、この揮発性ガス量が500ppmより大きいと、実際に処理装置に搬送した場合、脱ガスにより装置内部を汚染してしまったり、装置内の真空度を低下させてしまうため、好ましくない。
【0009】
かかるクリーニング層として用いられる材料は、上記ゲル分率と揮発性ガス量が特定値の範囲内であれば特に限定されないが、感圧接着性ポリマーを主成分とすることが好ましい。 この感圧接着性ポリマーとしては、公知の各種重合体がいずれも使用可能であるが、なかでも(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび/またはメタクリル酸アルキルエステルを主モノマーとしたアクリル系ポリマーが好ましく用いられる。 このアクリル系ポリマーは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび/またはメタクリル酸アルキルエステル、つまりアクリル酸やメタクリル酸と炭素数が通常12以下のアルコール類とのエステル(例えば、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシルなど)を主モノマーとし、これに必要によりカルボキシル基ないし水酸基含有単量体(例えばアクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレートなど)やその他の改質性モノマー(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル、アクリルアミド、グリシジルアクリレートなど)を用いて、これらのモノマー常法により溶液重合、乳化重合、懸濁重合、塊状重合などの方法で重合させることにより、得ることができる。
【0010】
このような方法で合成される感圧接着性ポリマーは、一般には分子量の分布幅が広く、分子量数千以下のオリゴマーから数百万のものまでの混合物となっており、分子量数千以下のオリゴマーが数%〜10%程度含まれている。 これらポリマー中の低分子量成分は、それ自体で光もしくは熱エネルギーの付与による高分子化はほとんど期待できないため、粘着剤特性に悪影響を及ぼすことがある。
本発明においては、このような感圧接着性ポリマーに対して、あらかじめ多官能性化合物を配合して、支持体上にクリーニング層を設ける際、つまり塗工後の乾燥工程やその後の加熱工程において、上記の多官能性化合物と感圧接着性ポリマー分子のカルボキシル基や水酸基と反応させて架橋処理し、特に上記ポリマーに含まれる低分子量体についても上記架橋反応に十分に関与させてその高分子化をはかりことにより、ゲル分率を90%以上となるように設計することができる。
なお、接着剤層を多官能性化合物により架橋処理すること自体は、これまでも行われているが、この架橋処理は、接着剤の凝集力を向上させることのみを目的としたものであって、本発明のように感圧接着性ポリマー中に含まれる低分子量体を高分子化することを目的としたものではなく、そのためにゲル分率はせいぜい85%程度までであり、この程度のゲル分率では、低分子量体由来の脱ガスの発生を抑えることはできなかった。
【0011】
第一の本発明において用いられる多官能性化合物としては、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アジリジン化合物などが挙げられ、十分な架橋反応を達成するために2種類以上を併用することも好ましい。 これら多官能性化合物の使用量は、クリーニング層のゲル分率が90%以上となるように適宜決定されるが、通常は感圧接着性ポリマー100重量部あたり、0.1〜30重量部、好ましくは2〜10重量部となるようにするのがよい。
【0012】
また第二の本発明のクリーニングシートのクリーニング層は、低分子量体が実質的に含まれておらず、かつクリーニングシートからの揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下であること、より好ましくは揮発性ガス量が300ppm以下であることが必要である。 かかる揮発性ガス量は、後述の実施例の如くガスクロマトグラフィー/質量分析(GC/MS)を用いて測定した値であり、この揮発性ガス量が500ppmより大きいと、実際に処理装置に搬送した場合、脱ガスにより装置内部を汚染してしまったり、装置内の真空度を低下させてしまうため、好ましくない。
【0013】
かかるクリーニング層として用いられる材料は、それ自体に低分子量体が実質的に含まれず、かつ揮発性ガス量が特定値の範囲内であれば特に限定されないが、感圧接着性ポリマーを主成分とすることが好ましい。 かかる場合には、この感圧接着性ポリマーに分子量5000以下、さらに好ましくは分子量10000以下の低分子量体が実質的に含まれていないことが望ましい。
また、この感圧接着性ポリマーの分子量の分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が10以下、好ましくは8以下、さらに好ましくは5以下(通常2まで)であるような分子量分布が狭いポリマーが望ましい。 その重量平均分子量は、通常50万〜500万の範囲、数平均分子量が30万〜300万の範囲にあるのが好ましい。 これらの平均分子量および分子量の分散度は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)法によるポリスチレン換算の値である。 また、ポリマー中の分子量5000以下の低分子量体は、その分子量分布曲線により、その有無を検出できる。
【0014】
この感圧接着性ポリマーとしては、公知の各種重合体がいずれも使用可能であるが、なかでも(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび/またはメタクリル酸アルキルエステルを主モノマーとしたアクリル系ポリマーが好ましく用いられる。 このアクリル系ポリマーは、(メタ)アクリル酸アルキルエステルおよび/またはメタクリル酸アルキルエステル、つまりアクリル酸やメタクリル酸と炭素数が通常12以下のアルコール類とのエステル(例えば、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシルなど)を主モノマーとし、これに必要によりカルボキシル基ないし水酸基含有単量体(例えばアクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレートなど)やその他の改質性モノマー(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル、アクリルアミド、グリシジルアクリレートなど)を用いて、これらのモノマー常法により溶液重合、乳化重合、懸濁重合、塊状重合などの方法で重合させることにより、得ることができる。
【0015】
このような方法で合成される感圧接着性ポリマーは、一般には分子量の分布幅が広く、分子量数千以下のオリゴマーから数百万のものまでの混合物となっており、分子量数千以下のオリゴマーが数%〜10%程度含まれている。 これらポリマー中の低分子量成分は、それ自体で光もしくは熱エネルギーの付与による高分子化はほとんど期待できないため、粘着剤特性に悪影響を及ぼすことがある。
【0016】
よって第二の本発明において用いる感圧接着性ポリマーは、前記感圧接着性ポリマーから公知の方法を用いて低分子量体を低減することにより得られるが、特に以下の貧溶媒による再沈殿処理を施すことにより、分子量5000以下、好ましくは10000以下の低分子量体が実質的に含まれないようにしたものが好適に用いられる。
かかる再沈殿処理は、例えばアクリル系ポリマーの場合は、貧溶媒としてこのポリマーの溶解性の小さい溶剤、一般にはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤やヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素系溶剤を用い、これに上記ポリマーを溶解させた後、室温又は低温下で放置して上記ポリマーを再沈殿させ、この沈殿ポリマーを乾燥回収する処理方法である。
かかる低分子量体は、このような再沈殿処理に限らず、その他公知の方法、例えば分離膜を用いて低分子量体を除く方法などにより低減することもできる。
【0017】
上記の第一および第二の本発明におけるクリーニング層は、さらに分子内に不飽和二重結合を1個以上有する重合性不飽和化合物、および重合開始剤を含む硬化型接着剤層が、紫外線や熱などの活性エネルギー源により硬化された接着剤層を用いることもできる。 かかる硬化接着剤層を用いることにより、搬送時にクリーニング層が被クリーニング部位と強く接着することがなく、より確実に搬送できるので好ましい。
【0018】
ここで、重合性不飽和化合物としては、不揮発性でかつ重量平均分子量が10000以下の低分子量体であるのがよく、特に硬化時のクリーニング層の三次元網状化が効率よくなされるように、5000以下の分子量を有しているのが好ましい。 このような重合性不飽和化合物の具体例としては、例えば、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ε−カプロラクトン(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、オリゴエステル(メタ)アクリレートなどが挙げられ、これらの中から、1種または2種以上が用いられる。
【0019】
また、クリーニング層に添加される重合開始剤は、特に限定されず公知のものを使用でき、例えば活性エネルギー源に熱を用いる場合は、ベンゾイルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリルなどの熱重合開始剤、また光を用いる場合は、ベンゾイル、ベンゾインエチルエーテル、シベンジル、イソプロピルベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンクロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、アセトフェノンジエチルケタール、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシシクロヒキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシメチルフェニルプロパン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノンなどの光重合開始剤が挙げられる。
【0020】
またクリーニング層の厚さは特に限定されないが、通常5〜100μm程度である。
【0021】
またかかるクリーニング層が支持体に設けられる場合(請求項2又は4)の支持体としては特に限定されないが、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、アセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリカルボジイミドなどのプラスチックフィルムなどが挙げられる。その厚みは通常10〜100μm程度が好ましい。特にクリーニング層が光硬化型接着剤層の場合は、紫外線などの光を透過するプラスチックフィルムが選択使用される。
【0022】
本発明はさらに、支持体の片面にクリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着剤層が設けられてなるクリーニングシート(請求項3又は6)も提供する。この通常の粘着剤層は、粘着機能を満たす限りその材質などは特に限定されず、通常の粘着剤(例えばアクリル系、ゴム系など)を用いることができる。
かかる構成とすることにより、クリーニングシートを通常の粘着剤層により各種基板や他のテープ・シートなどの搬送部材に貼り付けて、クリーニング機能付き搬送部材として装置内に搬送して、被洗浄部位に接触させてクリーニングすることができる。
また、上記の基板などの搬送部材を再利用するために、クリーニング後に基板をかかる粘着剤層から剥がす場合は、かかる通常の粘着剤層の粘着力は再剥離できる範囲であれば特に限定されないが、かかる粘着力は、シリコンウエハ(ミラー面)に対する180°引き剥がし粘着力が0.20〜0.98N/10mm、特に0.40〜0.98N/10mm程度であれば、搬送中に剥離することなく、かつクリーニング後に容易に再剥離できるので好ましい。
【0023】
クリーニングシートが貼り付けられる搬送部材としては特に限定されないが、例えば半導体ウエハ、LCD、PDPなどのフラットパネルディスプレイ用基板、その他コンパクトディスク、MRヘッドなどの基板などが挙げられる。
【0024】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 なお、以下、部とあるのは重量部を、Mwは重量平均分子量を、Mnは数平均分子量を、Mw/Mnはポリマーの分子量の分散度をそれぞれ意味するものとする。
実施例1
アクリル酸−2−エチルヘキシル30部、アクリル酸メチル70部、及びアクリル酸10部からなるモノマ―混合液から得たアクリルポリマーA(重量平均分子量が280万、重量平均分子量/数平均分子量が22)の27重量%トルエン溶液100gに対して、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製:商品名:コロネートL)を3g、ポリエポキシ化合物(三菱瓦斯化学製、商品名:テトラッドC)を3gを、均一に混合して粘着剤溶液Aを調整した。
次に、アクリル酸−2−エチルヘキシル75部、アクリル酸メチル20部、及びアクリル酸5部からなるモノマ―混合液から得たアクリルポリマーB(重量平均分子量70万)100gに対して、ポリエチレングリコ―ル200ジメタクリレ―ト(新中村化学製:商品名:NKエステル4G)を50g、ウレタンアクリレ―ト(新中村化学製:商品名:U−N−01)を50g、およびポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製:商品名:コロネートL)を3gを、均一に混合し、粘着剤溶液を調整した。
【0025】
この粘着剤溶液を、幅250mm、厚み25μmのポリエステル製支持体フィルムの片面に乾燥後の厚みが10μmになるように塗布して、通常の粘着剤層を設け、その表面に厚み38μmのポリエステル系剥離フィルムを貼った。 次に支持体フィルムのもう一方の側に、前記の粘着剤溶液Aを乾燥後の厚みが40μmになるように塗布してクリーニング層としての粘着剤層を設け、その表面に同様の剥離フィルムを貼り、クリーニングシートAを作製した。
【0026】
このクリーニングシートAのクリーニング層のゲル分率を以下の方法で測定した。 まず、クリーニング層としての粘着剤層15.0gを酢酸エチル500ml中に入れ、60℃で10時間攪拌したのち、不溶分をフィルターで濾過した。ロータリーエバポレーターによりろ液を濃縮後、さらに減圧乾燥(1mmHg、1時間)させ、酢酸エチルを完全に取り除いた。 この濃縮物の重量を測ったところ、0.3gであった。 したがってフィルターによって濾過された粘着剤重量は13.5gであることから、ゲル分率は90%と算出した。
【0027】
またこのクリーニングシートAのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、100℃下での加熱発生ガス量分析をガスクロマトグラフィー/質量分析(GC/MS)を用いて行った。測定はパージアンドトラップヘッドスペースサンプラー(日本分析工業製:JHS−100A)にてクリーニングシートを100℃下で10分間加熱し、発生した全加熱ガスをコールド・トラップし、このトラップ成分についてガスクロマトグラフ(HEWLETT PACKARD製:HP6890)/質量分析計(日本電子製:JMS−AMII150)を用いて行った。なお、定量標準の測定については標準液(n−デカン)をパージアンドヘッドスペースサンプラーに注入し、加熱条件を200℃×10分とし測定し、トータルイオンクロマトグラフ(m/z=10〜614)において検出されたピーク面積を用いて、n−デカン換算により算出した。その結果、クリーニングシートAの揮発性ガス発生量は381ppmであった。(表1参照)
【0028】
このクリーニングシートの通常の粘着剤層側の剥離フィルムを剥がし、8inchのシリコンウエハの裏面(ミラー面)にハンドローラで貼り付け、クリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハAを作製した。
【0029】
一方、レーザー式異物測定装置で、新品の8inchシリコンウエハ4枚のミラー面の0.2μm以上の異物を測定したところ、1枚目は11個、2枚目は13個、3枚目は6個、4枚目は12個であった。 これらのウエハを別々の静電吸着機構を有し、装置内の真空度が10-7Torrであるドライエッチング装置にミラー面を下側に向けて搬送した後、レーザー式異物測定装置でミラー面の0.2μm以上の異物を測定したところ、8inchウエハサイズのエリア内でそれぞれ25343個、30230個、29541個、28994個であった。
次いで前記で得た搬送用クリーニングウエハAのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、上記の25343個の異物が付着していたウエハステージをもつドライエッチング装置に搬送したところ、支障なく搬送できた。 その後に0.2μm以上の異物が11個のっていた新品の8inchシリコンウエハをミラー面を下側に向けて搬送し、レーザー式異物測定装置で0.2μm以上の異物を測定した。 この処理を5回実施し、その結果を表2に示した。
【0030】
実施例2
粘着剤溶液として、実施例1と同様のアクリルポリマーA100gに対して、多官能ウレタンアクリレート(日本合成化学社製:商品名:UV 1700B)を150g、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製:商品名:コロネートL)を3g、ポリエポキシ化合物(三菱瓦斯化学製:商品名:テトラッドC)を3g、および光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール(チバ・スペシャリティケミカルズ製:商品名:イルガキュアー651)を10gを均一に混合して、紫外線硬化型粘着剤溶液Bを調整した。
上記紫外線硬化型粘着剤溶液Bを用いた以外は、実施例1と同様な方法で得たクリーニングシートに、中心波長365nmの紫外線を積算光量1000mJ/cm2照射して、本発明のクリーニングシートBを得た。 このクリーニング層についてゲル分率を中心波長365nmの紫外線を積算光量1000mJ/cm2照射して用いた以外は実施例1と同様にして測定したところ、99%であった。
またこのクリーニングシートBのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、実施例1と同様にして測定した揮発性ガス発生量は、212ppmであった。(表1参照)
【0031】
このクリーニングシートBの通常の粘着剤層側の剥離フィルムを剥がし、8inchのシリコンウエハの裏面(ミラー面)にハンドローラで貼り付け、クリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハBを作製した。
【0032】
次いで前記で得た搬送用クリーニングウエハBのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、上記の30230個の異物が付着していたウエハステージを持つドライエッチング装置内に搬送したところ、装置内の真空度は10-7Torrを保っており、問題なく搬送できた。 その後に0.2μm以上の異物が13個のっていた新品の8inchシリコンウエハをミラー面を下側に向けて搬送し、レーザー式異物測定装置で0.2μm以上の異物を測定した。 この処理を5回実施し、その結果を表2に示した。
【0033】
比較例1
クリーニング層用の粘着剤溶液として、実施例1と同様のアクリルポリマーA100gに対して、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製:商品名:コロネートL)を3gを均一に混合して調整した粘着剤溶液Cを用いた以外は、実施例1と同様にしてクリーニングシートCとクリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハCを作製した。
このクリーニング層について、実施例1と同様に測定したゲル分率は85%、クリーニングシートCの揮発性ガス発生量は1417ppmであった。(表1参照)
【0034】
この搬送用クリーニングウエハCを、実施例1と同様に、29541個の異物が付着していたウエハステージを持つドライエッチング装置内に搬送したところ、1枚目で装置内の真空度が10-7Torrから10-1Torrへ低下していまい、2枚目以降のクリーニングを中止した。
【0035】
比較例2
クリーニング層用の粘着剤溶液として、実施例1と同様のアクリルポリマーA100gに対して、多官能ウレタンアクリレート(日本合成化学社製:商品名:UV 1700B)を150g、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製:商品名:コロネートL)を3g、および光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール(チバ・スペシャリティケミカルズ製:商品名:イルガキュアー651)を10gを均一に混合して調整した紫外線硬化型粘着剤溶液Dを用いた以外は、実施例2と同様にしてクリーニングシートDとクリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハDを作製した。
このクリーニング層について、実施例2と同様に測定したゲル分率は88%、クリーニングシートDの揮発性ガス発生量は947ppmであった。(表1参照)
【0036】
この搬送用クリーニングウエハDを、実施例1と同様に、28994個の異物が付着していたウエハステージを持つドライエッチング装置内に搬送したところ、1枚目で装置内の真空度が10-7Torrから10-1Torrへ低下していまい、2枚目以降のクリーニングを中止した。
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】
実施例3
実施例1と同様にして得たアクリルポリマーA(重量平均分子量が280万、重量平均分子量/数平均分子量が22)の27重量%トルエン溶液1000gを、メタノール70kgと混合し、15分間室温で攪拌した。 攪拌停止後15分間放置したのち、沈殿物を取り出し、溶剤を乾燥させることにより、飴状白色ポリマー190g(収率70%)を得た(以後アクリルポリマーEという)。 こうして得られた再沈殿後のポリマーEの分子量をGPCにて分析したところ、ポリスチレン換算による分子量は、Mw=380万、Mw/Mn=3.0であった。 また分子量分布曲線からは、Mw=5万以下の成分はまったく検出されなかった。 このアクリルポリマーE100gに対して、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製:商品名:コロネートL)を3gを均一に混合して、粘着剤溶液Eを調整した。
【0040】
次に前記粘着剤溶液Eをクリーニング層として用いた以外は実施例1と同様にして、クリーニングシートEとクリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハEを作製した。
このクリーニングシートEについて、実施例1と同様に測定した揮発性ガス発生量は258ppmであった。(表3参照)
【0041】
一方、レーザー式異物測定装置で、新品の8inchシリコンウエハ4枚のミラー面の0.2μm以上の異物を測定したところ、1枚目は13個、2枚目は6個、3枚目は8個、4枚目は11個であった。 これらのウエハを別々の静電吸着機構を有し、装置内の真空度が10-7Torrであるドライエッチング装置にミラー面を下側に向けて搬送した後、レーザー式異物測定装置でミラー面の0.2μm以上の異物を測定したところ、8inchウエハサイズのエリア内でそれぞれ33310個、26548個、27885個、26958個であった。
次いで前記で得た搬送用クリーニングウエハEのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、上記の33310個の異物が付着していたウエハステージをもつドライエッチング装置に搬送したところ、装置内の真空度は10-7Torrを保っており、問題なく搬送できた。 その後に0.2μm以上の異物が13個のっていた新品の8inchシリコンウエハをミラー面を下側に向けて搬送し、レーザー式異物測定装置で0.2μm以上の異物を測定した。 この処理を5回実施し、その結果を表4に示した。
【0042】
実施例4
粘着剤溶液として、実施例3と同様のアクリルポリマーE100gに対して、多官能ウレタンアクリレート(日本合成化学社製:商品名:UV 1700B)を150g、ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業製:商品名:コロネートL)を3g、および光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール(チバ・スペシャリティケミカルズ製:商品名:イルガキュアー651)を10gを均一に混合して、紫外線硬化型粘着剤溶液Fを調整した。
上記紫外線硬化型粘着剤溶液Fをクリーニング層用として用いた以外は、実施例3と同様な方法で得たクリーニングシートに、中心波長365nmの紫外線を積算光量1000mJ/cm2照射して、本発明のクリーニングシートFを得た。 このクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、実施例1と同様にして測定した揮発性ガス発生量は、184ppmであった。(表3参照)
【0043】
このクリーニングシートの通常の粘着剤層側の剥離フィルムを剥がし、8inchのシリコンウエハの裏面(ミラー面)にハンドローラで貼り付け、クリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハFを作製した。
【0044】
次いで前記で得た搬送用クリーニングウエハFのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、上記の26548個の異物が付着していたウエハステージを持つドライエッチング装置内に搬送したところ、装置内の真空度は10-7Torrを保っており、問題なく搬送できた。 その後に0.2μm以上の異物が6個のっていた新品の8inchシリコンウエハをミラー面を下側に向けて搬送し、レーザー式異物測定装置で0.2μm以上の異物を測定した。 この処理を5回実施し、その結果を表4に示した。
【0045】
比較例3
クリーニング層用の粘着剤溶液として、実施例3のアクリルポリマーEの代りにアクリルポリマーAを用いた以外は、実施例3と同様にしてクリーニングシートGとクリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハGを作製した。
このクリーニングシートGについて、実施例1と同様に測定した揮発性ガス発生量は、1353ppmであった。(表3参照)
【0046】
この搬送用クリーニングウエハGを、実施例3と同様に、27885個の異物が付着していたウエハステージを持つドライエッチング装置内に搬送したところ、1枚目で装置内の真空度が10-7Torrから10-1Torrへ低下していまい、2枚目以降のクリーニングを中止した。
【0047】
比較例4
クリーニング層用の粘着剤溶液として、実施例4のアクリルポリマーEの代りにアクリルポリマーAを用いた以外は、実施例4と同様にしてクリーニングシートHとクリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハHを作製した。
このクリーニングシートHについて、実施例1と同様に測定した揮発性ガス発生量は、866ppmであった。(表3参照)
【0048】
この搬送用クリーニングウエハHを、実施例4と同様に、26958個の異物が付着していたウエハステージを持つドライエッチング装置内に搬送したところ、1枚目で装置内の真空度が10-7Torrから10-1Torrへ低下していまい、2枚目以降のクリーニングを中止した。
【0049】
【表3】
【0050】
【表4】
【0051】
【発明の効果】
以上のように本発明のクリーニングシートによれば、搬送時に基板処理装置の環境を悪化させることなく、装置内に付着している異物を簡便かつ確実に除去できる。
Claims (12)
- 基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであって、クリーニング層が、少なくとも感圧接着性ポリマーと多官能性化合物を含み、該感圧接着性ポリマーが多官能性化合物により架橋されてなり、ゲル分率が90%以上で、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下であるクリーニングシート。
- 基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであると共に、支持体の少なくとも片面にクリーニング層が設けられてなるクリーニングシートであって、該クリーニング層が、少なくとも感圧接着性ポリマーと多官能性化合物を含み、該感圧接着性ポリマーが多官能性化合物により架橋されてなり、ゲル分率が90%以上で、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下となるように設計されているクリーニングシート。
- 基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであると共に、支持体の片面にクリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着剤層が設けられてなるクリーニングシートであって、該クリーニング層が、少なくとも感圧接着性ポリマーと多官能性化合物を含み、該感圧接着性ポリマーが多官能性化合物により架橋されてなり、ゲル分率が90%以上で、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下となるように設計されているクリーニングシート。
- 基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであって、クリーニング層が、感圧接着性ポリマーを主成分として含み、該感圧接着性ポリマーに分子量5000以下の低分子量体が実質的に含まれておらず、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下であるクリーニングシート。
- 基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであると共に、支持体の少なくとも片面にクリーニング層が設けられてなるクリーニングシートであって、該クリーニング層が、感圧接着性ポリマーを主成分として含み、該感圧接着性ポリマーに分子量5000以下の低分子量体が実質的に含まれておらず、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下であるクリーニングシート。
- 基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去するためのクリーニングシートであると共に、支持体の片面にクリーニング層が設けられ、他面に通常の粘着剤層が設けられてなるクリーニングシートであって、該クリーニング層が、感圧接着性ポリマーを主成分として含み、該感圧接着性ポリマーに分子量5000以下の低分子量体が実質的に含まれておらず、かつ揮発性ガス量が100℃下で500ppm以下であるクリーニングシート。
- 感圧接着性ポリマーの分子量の分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が10以下であることを特徴とする請求項4〜6いずれか記載のクリーニングシート。
- 感圧接着性ポリマーが、貧溶媒による再沈殿処理が施されていることを特徴とする請求項4〜7いずれか記載のクリーニングシート。
- クリーニング層が、さらに分子内に不飽和二重結合を1個以上有する重合性不飽和化合物、及び重合開始剤を含む硬化型接着剤層が活性エネルギーにより硬化された層であることを特徴とする請求項1〜8いずれか記載のクリーニングシート。
- 感圧接着性ポリマーが、(メタ)アクリル酸アルキルエステルを主モノマーとしたアクリル系ポリマーであることを特徴とする請求項1〜9いずれか記載のクリーニングシート。
- 請求項3又は6記載のクリーニングシートが、通常の粘着剤層を介して搬送部材に設けられてなるクリーニング機能付き搬送部材。
- 請求項1、2、4、5いずれか記載のクリーニングシート又は請求項11記載のクリーニング機能付き搬送部材を、基板処理装置内に搬送して上記装置内に付着している異物を除去することを特徴とする基板処理装置のクリーニング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000349972A JP4593762B2 (ja) | 2000-07-31 | 2000-11-16 | クリーニングシ―ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000-230338 | 2000-07-31 | ||
JP2000230338 | 2000-07-31 | ||
JP2000349972A JP4593762B2 (ja) | 2000-07-31 | 2000-11-16 | クリーニングシ―ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002113435A JP2002113435A (ja) | 2002-04-16 |
JP4593762B2 true JP4593762B2 (ja) | 2010-12-08 |
Family
ID=26596996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000349972A Expired - Fee Related JP4593762B2 (ja) | 2000-07-31 | 2000-11-16 | クリーニングシ―ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4593762B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4593935B2 (ja) * | 2003-05-19 | 2010-12-08 | 日東電工株式会社 | クリーニング機能付き搬送部材および基板処理装置のクリーニング方法 |
TWI395264B (zh) * | 2003-04-14 | 2013-05-01 | Nitto Denko Corp | 清潔片材,具有清潔功能之搬送構件及基板處理設備之清潔方法 |
JP4907058B2 (ja) * | 2004-01-19 | 2012-03-28 | 日東電工株式会社 | 光学用表面保護フィルム |
JP4737622B2 (ja) * | 2006-02-14 | 2011-08-03 | 日東電工株式会社 | クリーニング機能付搬送部材および基板処理装置のクリーニング方法 |
KR102323947B1 (ko) * | 2013-11-19 | 2021-11-09 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 수지 시트 |
-
2000
- 2000-11-16 JP JP2000349972A patent/JP4593762B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002113435A (ja) | 2002-04-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5902678A (en) | Pressure-sensitive adhesive or pressure-sensitive adhesive tape for foreign-matter removal | |
WO2004048008A1 (ja) | クリーニングシートおよび基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP4718667B2 (ja) | クリーニングシ―ト | |
JP4593762B2 (ja) | クリーニングシ―ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 | |
TW201141626A (en) | Cleaning sheet, carrying member with a cleaning function and method of cleaning substrate processing equipment | |
JP2005286261A (ja) | クリーニング機能付き搬送部材と基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP2005032971A (ja) | 基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP2001055546A (ja) | 低汚染性接着シ―ト類とレジスト材の除去方法 | |
JP4456666B2 (ja) | クリーニングシ―ト、クリーニング機能付き搬送部材及びこれらを用いた基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP4163705B2 (ja) | クリーニング機能付き搬送部材とこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP4593935B2 (ja) | クリーニング機能付き搬送部材および基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP4248018B2 (ja) | クリーニングシートおよび基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP2001198075A (ja) | クリーニングシ―ト | |
JP3740003B2 (ja) | クリーニングシ―ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP3970019B2 (ja) | クリーニングシート、およびこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP4406156B2 (ja) | 基板処理装置のクリーニング方法、及びこれに用いるクリーニングシ―ト | |
JP4316105B2 (ja) | クリーニングシ―ト | |
JP4593761B2 (ja) | クリーニングシ―ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP3740002B2 (ja) | クリーニングシ―ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP4071118B2 (ja) | クリーニングシートおよび基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP4280177B2 (ja) | 基板処理装置の除塵部材 | |
JP4280120B2 (ja) | クリーニングシートおよびこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP2002158199A (ja) | クリーニング機能付搬送部材の製造方法、及びそれに用いるクリーニングシート | |
JP2004174315A (ja) | クリーニングシートおよび基板処理装置のクリーニング方法 | |
JP2003340380A (ja) | クリーニングシートと基板処理装置のクリーニング方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061106 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090630 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090827 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090827 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100209 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100422 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100519 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100914 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100916 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130924 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160924 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |