JP4586494B2 - 閃光放射装置 - Google Patents

閃光放射装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4586494B2
JP4586494B2 JP2004313006A JP2004313006A JP4586494B2 JP 4586494 B2 JP4586494 B2 JP 4586494B2 JP 2004313006 A JP2004313006 A JP 2004313006A JP 2004313006 A JP2004313006 A JP 2004313006A JP 4586494 B2 JP4586494 B2 JP 4586494B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flash
flash discharge
discharge lamp
lighting
arc tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2004313006A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006127866A (ja
Inventor
貴文 溝尻
満 池内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Original Assignee
Ushio Denki KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP2004313006A priority Critical patent/JP4586494B2/ja
Publication of JP2006127866A publication Critical patent/JP2006127866A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4586494B2 publication Critical patent/JP4586494B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Discharge-Lamp Control Circuits And Pulse- Feed Circuits (AREA)
  • Discharge Lamp (AREA)

Description

本発明は、閃光放射装置に係わり、例えば、シリコンウエハ等の基板を光照射により急速に加熱処理したり、液晶製造工程において、アモルファスシリコンをポリシリコンに結晶化させる際に使用される閃光放射装置に関する。
従来、半導体製造工程においては、シリコンウエハの等の基板の表面に酸化膜を形成するための成膜工程や、シリコンウエハの表層部分におけるシリコン結晶に対してホウ素や砒素等の不純物を注入した状態で1000℃以上に加熱処理を施し、前記不純物を拡散させる拡散工程において、光照射によって加熱処理することが行われいる。
このようなシリコンウエハを加熱処理するために用いられる光照射装置としては、加熱源であるハロゲンランプから放射される光をシリコンウエハに対して照射することによって当該シリコンウエハを急速に加熱し、その後、急速に冷却するRTP(Rapid Thermal Process)装置が知られている。
更に近年では、半導体集積回路の高集積化又は微細化の要請が一層強くなってきており、このような要請に対して、シリコンウエハに対する拡散処理においては、シリコンウエハの表面から深さが20nm以下の浅い領域(表層領域)において不純物を拡散させることが必要とされている。
しかしながら、ハロゲンランプを加熱源として備えた光照射装置においては、シリコンウエハの表面からの深さが25〜30nmの領域に対して熱処理を行うことが限界であり、表面からの深さが20nm以下の浅い領域においては、不純物の拡散処理を行うことができない、という問題があった。
そのため、シリコンウエハの表面から極めて浅い領域に不純物を拡散させる方法としては、例えば、キセノン(Xe)ガスと塩素(Cl)ガスとの混合ガスを発光物質とするXe−Clレーザを備え、Xe−Clレーザによる数ミリメートルのスポット径を有するレーザ光をスキャン(走査)しながら照射するレーザ照射装置を用いる方法が知られている。
しかしながら、このようなレーザ照射装置は、非常に高価であり、シリコンウエハの表面を小さなスポット径のレーザビームによりスキャンしながら熱処理することが必要とされるため、極めて処理効率が低く、高いスループット(生産性)を得ることが困難であった。
上記の問題に対処するために、例えば、特開2003−66197号公報によれば、多数本の閃光放電ランプを互いに平行に並べて筐体内に配置した閃光放射装置を用いて、これらの多数本の閃光放電ランプを一斉に点灯駆動することにより、シリコンウエハに対して極めて短時間の熱処理を施す方法が提案されている。
このような方法によれば、加熱源として多数本の閃光放電ランプを用いることにより、シリコンウエハの表面から深さが20nm以下の浅い領域においても不純物の拡散処理を行うことができると共に、大面積のシリコンウエハの熱処理も行うことができる。更に閃光放電ランプによる加熱処理は、シリコンウエハに対する光の照射時間が極めて短いため、シリコンウエハの温度上昇を表面層のみに留めることができ、これによりシリコンウエハの変形や破損を防止することができるという利点がある。
ところで、このような閃光放電ランプによる熱処理方法においては、図7に示すような点灯電流波形で点灯されるのが一般的である。
特開2003−66197号公報
しかしながら、図7に示すような点灯電流波形で閃光放電ランプを点灯させると、点灯回数を重ねるとともに発光管の内表面が黒化し、閃光放電ランプから放射される光量が低下してしまう。特に、陰極周辺の発光管内表面の黒化が著しく、場合によってはこの部分を起点として発光管が破裂する、という問題が生じることが判明した。発光管内表面の黒化部からは電極の基体金属である、例えば、タングステンが検出された。これより黒化の原因は陰極表面のエミッタ物質が点灯と共に枯渇していくために、最表面の基体金属が飛散し、管内壁に付着するものと考えられる。
本発明の目的は、上記の問題に鑑み、閃光放電ランプを長時間点灯させた場合でも電極表面のエミッタ物質を枯渇させることなく、その結果として、基体金属の飛散がなくなるため、発光管の内表面の黒化を防止することができ、閃光放電ランプの長寿命化を可能にした光放射装置を提供することにある。
はじめに、本発明者らが、上記の課題を解決するために、閃光放電ランプの電極に投入される点灯電流の波形について検討したところ、以下の着想を得たので説明する。
電流の投入初期(点灯開始)は、プラズマ中の陽イオンが電極表面に衝突して電子の放出やエミッタ物質の蒸発が生じ、その後ピーク電流値を越える付近では、電極表面は高温のプラズマにさらされるためエミッタ物質や基体金属の蒸発が生じる。このような電流波形における投入初期からピーク電流値を超える付近までの期間をエミッタ物質蒸発期間と称する。
その後、投入電流がピーク電流値を越えて下降し殆ど零になるまでの期間においては、電極最表面の温度は下がるので、エミッタ物質の蒸発は少なく、むしろ電極表面とその後端部との温度勾配によってエミッタ物質が電極内部から拡散し、エミッタ物質が電極の最表面に供給されている。このような、投入電流がピーク電流値を越えて下降し殆ど零になるまでの期間をエミッタ物質供給期間と称する。
すなわち、点灯電流波形は、その時間変化に応じて、エミッタ物質の蒸発期間とエミッタ物質の供給期間とに区分されるといえる。そして、通常、エミッタ物質供給期間のエネルギーは被照射物の温度上昇には寄与せず、不要であると考えられているが、本発明者らは、このようなエミッタ物質供給期間を長くすることにより上記のような発光管に黒化が生じる、という問題を良好に解決できることを見出したものである。
具体的には、点灯電流波形において点灯開始から投入電流がピーク電流値を越えて最初にピーク電流値の50%になるまでの期間をエミッタ物質蒸発期間と仮定し、それ以降の期間をエミッタ物質供給期間と仮定し、発光管の黒化を防止するのに最適なエミッタ物質供給期間の範囲を求めるべく、エミッタ物質蒸発期間の電流波形の時間積分値をA、エミッタ物質供給期間の電流波形の時間積分値をBとした場合に、時間積分値Aに対する時間積分値Bの割合(B/A)を実験的に求めることとした。
これにより、上記の課題を解決するための第1の手段は、発光管の内部に少なくとも1方の電極にエミッタ物質を含む1対の電極が配置された閃光放電ランプと、該閃光放電ランプを点灯させるための点灯回路とを備えた閃光放射装置において、前記点灯回路をPFN型回路により構成し、該PFN回路は、前記閃光放電ランプの各閃光放電における閃光放電電流波形において、点灯開始からその電流値がピーク電流値を超えて最初にピーク電流値の50%に至るまでの領域の時間積分値をAとし、それ以降の領域における時間積分値をBとしたとき、B/A≧0.5の関係を満たすように構成されていることを特徴とする閃光放射装置である。
第2の手段は、第1の手段において、前記PFN型回路内に、前記閃光放電ランプと直列に抵抗を挿入したことを特徴とする閃光放射装置である。
請求項1に記載の発明によれば、発光管の内部に少なくとも1方の電極にエミッタ物質を含む1対の電極が配置された閃光放電ランプと、該閃光放電ランプを点灯させるための点灯回路とを備えた閃光放射装置において、前記点灯回路をPFN型回路により構成し、該PFN型回路は、前記閃光放電ランプの各閃光放電における閃光放電電流波形において、点灯開始からその電流値がピーク電流値を超えて最初にピーク電流値の50%に至るまでの期間の時間積分値をAとし、それ以降の期間における時間積分値をBとしたとき、B/A≧0.5の関係を満たすように構成されているので、閃光放電ランプを長時間点灯させた場合でも電極表面のエミッタ物質が枯渇されず、結果として、基体金属の飛散がなくなるため、発光管の内表面の黒化を防止することができ、閃光放電ランプの長寿命化を図ることができる。
請求項2に記載の発明によれば、前記PFN型回路内に、前記閃光放電ランプと直列に抵抗を挿入したので、B/A≧0.5の関係を容易に設定することができる。
本発明の一実施形態を図1乃至図6を用いて説明する。
図1は、本実施形態の発明に係る閃光放射装置の構成を示す断面図である。
同図に示すように、閃光放射装置1は、筐体2内に配置された複数本の閃光放電ランプ3及び反射鏡4と点灯回路5とを備えている。
筐体2は、例えば、アルミニウム又はステンレス鋼よりなる、全体が直方体の箱状体から構成され、その下面には閃光放電ランプ3からの光を放射するための開口部6が形成されている。この開口部6には、例えば、石英ガラスからなる光透過窓7が開口部6を塞ぐように嵌合されて設けられている。
複数本の閃光放電ランプ3は、筐体2の内部空間において、互いに離間して平行に伸びるように配設されている。各閃光放電ランプ3間は等間隔に配置されており、隣接する閃光放電ランプ3のランプ中心軸(発光管の管軸)間の離間距離dは、被照射物に対して実質的に均一な光が照射されるように、例えば、10〜20mmに設定されている。閃光放電ランプ3の本数は特に制限されるものではなく、目的に応じて適宜設定することが可能である。また、各閃光放電ランプ3の外表面には誘電体部材9に被覆されたトリガー電極8が配設されている。
反射鏡4は、各閃光放電ランプ3からの光を反射して光透過窓7を介して外部に放射するためのものであり、筐体2の内部空間において、閃光放電ランプ3の後方、すなわち筐体2における開口部6と反対側の位置に、閃光放電ランプ3が伸びる方向と同方向に伸びるように配置されている。反射鏡4は、例えば、アルミニウムから構成される。
点灯回路5は、各閃光放電ランプ3及びトリガー電極8と電気的に接続され、各閃光放電ランプ3が同一の点灯条件で一斉に点灯駆動されるように構成されている。
各閃光放電ランプ3から放射された閃光は、直接又は反射鏡4によって反射されて光透過窓7を介して外部に放射される。
図2は、図1に示した閃光放電ランプ3の構成の一例を示す一部断面図である。
閃光放電ランプ3は、例えば、石英ガラス(アルミナ、サファイア)等の発光管材料が用いられ、両端が封止された直管状の発光管31を備えている。発光管31内には、陰極32及び陽極33が対向配置されている。陰極32又は陽極33を先端に有する、例えば、タングステンよりなる電極芯棒34,35が、発光管31内をその管軸方向に沿って伸び、後端が発光管31の両端におけるシール部を介して外方に突出するように配置されている。陰極32は、例えば、エミッタ物質として酸化ランタン、酸化バリウム、酸化トリウム、酸化セリウム等が用いられ、基体金属としてタングステン、モリブデンを用いた電極から構成されている。
更に、発光管31の外表面には、両端が封止された、例えば、石英ガラスからなる直管状の誘電体部材9が接触した状態で、発光管31と平行にその管軸方向に伸びるように、両端が支持部材10によって支持され、誘電体部材9の内部空間には、線状のトリガー電極8が配設されている。トリガー電極8は、誘電体部材9の端部に埋設された金属箔を介して図示されていないトリガー電圧印加用リード棒に接続されており、陰極32及び陽極33間に印加される電圧とは独立したトリガー電圧が印加される。
陰極32及び陽極33の電極間距離(L)は、被照射物の大きさに応じて適宜選択されるが、例えば、10cm以上、好ましくは15〜60cmである。また、発光管31内には、例えば、アルゴン、キセノン、クリプトン及びこれらの混合ガスが発光物質として封入されている。
図3は、本発明に係る閃光放射装置における閃光放電ランプの点灯電流波形を示す図である。同図において、縦軸は閃光放電ランプに流れる電流値(I)、横軸は時間(t)である。
本発明は、この点灯電流波形において、点灯開始(TO)からその電流値がピーク電流値(IO)を越えて最初のピーク電流値の50%(0.5IO)となる時間(T)に至るまでの期間(以下、エミッタ物質蒸発期間という)における電流値の総合計、すなわち時間積分値をAとし、時間(T)以降の期間(以下、エミッタ物質供給期間という)における電流値Iの時間積分値をBとしたとき、エミッタ物質供給期間のエミッタ物質蒸発期間に対する割合をB/Aで表し、B/A≧0.5の関係を満たすことを規定している。このように規定することにより、閃光放電ランプの発光管の内表面の黒化の発生を良好に防止することができる。
その理由は以下のように考えられる。ピーク電流値に達した後の電流値の下降速度を緩やかにすることにより、所定期間のエミッタ物質供給期間が生成されると、この期間は被照射物の加熱処理には寄与しないエネルギーであるが、このエミッタ物質供給期間によって電極が継続的に加熱される。その結果、エミッタ物質供給期間においては、電極内部から電極表面へエミッタ物質が拡散によって輸送される。そのため、閃光放電ランプを長時間点灯させた場合にも、電極(特に陰極)内部に含まれるエミッタ物質を電極表面に供給することが可能となり、点灯時間の経過に伴って電極最表面のエミッタ物質の枯渇を防止することができる。これにより、エミッタ物質の枯渇に起因すると考えられている基体金属の飛散を防止することができ、発光管内部の黒化を抑制することができると考えられる。
これに対し、点灯電流波形が上記の関係を満たさない従来の閃光放射装置においては、図7に示すように、ピーク電流値に達した後は電流値が急激に下降し、加熱処理に寄与しない発光エネルギーによって電極が加熱される時間が非常に短く、電極内部に含まれるエミッタ物質を電極表面に十分供給することができないため、点灯時間の経過に伴って電極最表面のエミッタ物質が枯渇することとなり、発光管の内表面が黒化する不具合を発生するものと考えられる。
図4は、本発明の閃光放射装置の点灯回路5の構成を示す図である。
同図に示すように、この点灯回路5はPFN(Pulse Forming Network)型回路で構成される。点灯回路5は閃光放電ランプ3と並列に接続され、閃光放電ランプ3に投入するエネルギーを蓄積する複数のコンデンサC1,C2・・・Cnと、閃光放電ランプ3と直列に接続されると共に、前記各コンデンサC1,C2・・・Cn間に直列にそれぞれが接続される、放電時の電流を制限する複数のコイルL1,L2・・・Lnと、直流電圧を発生する充電回路部51と、回路全体をコントロールする制御回路部52と、閃光放電ランプ3のトリガー電極8にトリガー電圧を供給するトリガー回路部53を備えている。
コンデンサC1,C2・・・Cn及びコイルL1,L2・・・Lnの個数は、閃光放電ランプの充電電圧の大きさ等に応じて設定され、またこれらの素子間の配線抵抗は、図3に示したような放電電流特性が得られるように考慮して設定される。
点灯回路5の動作について説明すると、制御回路部52より充電開始信号が充電回路部51に出力されると、充電回路部51は直流電圧を発生させ、コンデンサC1,C2・・・Cnにエネルギーを蓄積する。コンデンサC1,C2・・・Cnに充電された充電電圧が所定の電圧に達すると、制御回路部52は充電が完了したことを検知し、制御回路部52からトリガー回路部53にランプ発光信号が出力される。トリガー回路部53からトリガー電極8を介して閃光放電ランプ3にトリガー電圧が供給されると、閃光放電ランプ3は点灯する。
図5は、本発明の閃光放射装置の他の点灯回路5の構成を示す図である。
この点灯回路5は、閃光放電ランプ3とコイルL1,L2・・・Ln間に抵抗Rを直列に接続したものである。抵抗Rは、例えば、カンタル線からなる高耐熱性のものであり、抵抗値は30mΩ〜300mΩの範囲にある。
この点灯回路5を使用して閃光放電ランプ3を点灯させた場合は、図3で説明したエミッタ物質供給期間を容易に拡げることができ、上記関係式におけるB/Aをより容易に設定することができ、発光管の内表面の黒化をより効果的に防止することができる。
この理由は、抵抗Rを接続すると、時定数が延びることにより、抵抗を接続しない場合に比べて電極を長時間加熱することができるようになるためであると考えられる。
なお、閃光放電ランプ3から点灯回路5を見た全体の抵抗Rは、上記抵抗Rによる抵抗以外にも、コイルL1,L2・・・Lnに含まれる抵抗、コンデンサC1,C2・・・Cnの内部抵抗、更にこれらの素子間を結ぶ配線の抵抗が加算される。
従って、図4の点灯回路5にも示したように、必ずしも抵抗Rを設ける必要はなく、各素子間を結ぶ配線を長くする等の手段を採用することにより全体としての抵抗Rを任意の値に設定することができる。
次に、本発明の効果を確認するために行った実験結果について説明する。
本実験に用いた閃光放電ランプ3は、図2に示した構成を有し、発光管31は石英ガラスからなり、外径が13mm、内径が10mm、全長が580mmの直管状のものである。陰極32は、酸化ランタンを含有したタングステンの焼結体よりなり、最大外径が9mm、全長が15mmのものである。陽極33はタングステンよりなり、最大外径が9mm、全長が15mmのものである。電極芯棒34,35はタングステンよりなる直径2mm、全長が25mmのロッド状のものである。陰極32及び陽極33の電極間距離で示される発光長(L)の大きさは500mmである。発光管31内には、キセノンガスを60kPa封入した。
図6は、本発明の実験結果を示す表である。
実験は、閃光放電ランプ3を、点灯条件としてパルス幅700〜810μs、これに応じてTは800〜840μsとし、ピーク電流値2300Aに固定し、充電電圧(V)、1段当たりのコンデンサ容量(C)及びコイルのインダクタンス(L)を、同表に示すように4通り(実施例1〜実施例4)変化させることにより、エミッタ物質蒸発期間の時間積分値Aに対するエミッタ物質供給期間の時間積分値Bの割合B/Aを4通り変化させ、閃光放電ランプ3の発光管31における黒化発生の有無を調べた。実施例1〜3は図4に示す点灯回路を使用し、実施例4は図5に示す点灯回路を使用し、抵抗Rは270mΩである。何れの場合にも、コイル及びコンデンサはそれぞれ3個使用したPFN3段構造を採用した。
同表において、10万ショット後の陰極の前方にある発光管の表面を目視して、「○」は発光管が黒化しなかったことを示し、「△」は発光管が僅かに黒化したことを示し、「×」は発光管があきらかに黒化したことを示す。同表に示すように、B/Aの値が、B/A≧0.5の関係を満たす範囲内にある実施例3,4の場合は、閃光放電ランプの黒化は認められなかったが、B/Aの値が、B/A≧0.5の関係を満たす範囲内にない実施例1,2の場合は、発光管の黒化が認められた。
なお、本発明においては、点灯波形として山形状の波形について述べたが、特許請求の範囲の規定の範囲を満足するものであれば、その他の波形の場合にも適用可能である。
実施形態の発明に係る閃光放射装置の構成を示す断面図である。 図1に示した閃光放電ランプ3の構成の一例を示す一部断面図である。 本発明に係る閃光放射装置における閃光放電ランプの点灯電流波形を示す図である。 本発明の閃光放射装置の点灯回路5の構成を示す図である。 本発明の閃光放射装置の他の点灯回路5の構成を示す図である。 本発明の実験結果を示す表である。 従来技術に係る点灯回路における点灯電流波形を示す図である。
符号の説明
1 閃光放射装置
2 筐体
3 閃光放電ランプ
31 発光管
32 陰極
33 陽極
34,35 電極芯棒
4 反射鏡
5 点灯回路
51 充電回路部
52 制御回路部
53 トリガー回路部
6 開口部
7 光透過窓
8 トリガー電極
9 誘電体部材
10 支持部材
L1,L2・・・Ln コイル
C1,C2・・・Cn コンデンサ

Claims (2)

  1. 発光管の内部に少なくとも1方の電極にエミッタ物質を含む1対の電極が配置された閃光放電ランプと、該閃光放電ランプを点灯させるための点灯回路とを備えた閃光放射装置において、
    前記点灯回路をPFN型回路により構成し、
    該PFN型回路は、前記閃光放電ランプの各閃光放電における閃光放電電流波形において、点灯開始からその電流値がピーク電流値を超えて最初にピーク電流値の50%に至るまでの領域の時間積分値をAとし、それ以降の領域における時間積分値をBとしたとき、B/A≧0.5の関係を満たすように構成されていることを特徴とする閃光放射装置。
  2. 前記PFN型回路内に、前記閃光放電ランプと直列に抵抗を挿入したことを特徴とする請求項1に記載の閃光放射装置。
JP2004313006A 2004-10-27 2004-10-27 閃光放射装置 Active JP4586494B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004313006A JP4586494B2 (ja) 2004-10-27 2004-10-27 閃光放射装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004313006A JP4586494B2 (ja) 2004-10-27 2004-10-27 閃光放射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006127866A JP2006127866A (ja) 2006-05-18
JP4586494B2 true JP4586494B2 (ja) 2010-11-24

Family

ID=36722382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004313006A Active JP4586494B2 (ja) 2004-10-27 2004-10-27 閃光放射装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4586494B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3372156A1 (en) * 2017-03-08 2018-09-12 Koninklijke Philips N.V. Ecg cable for connection with an ecg monitor
JP2018206614A (ja) * 2017-06-05 2018-12-27 岩崎電気株式会社 キセノンフラッシュランプ

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04296834A (ja) * 1991-01-09 1992-10-21 Heimann Gmbh フラッシュランプ及びその点灯回路
JP2002289379A (ja) * 2001-03-23 2002-10-04 Phoenix Denki Kk 超高圧放電灯の点灯方法と点灯装置
JP2004071693A (ja) * 2002-08-02 2004-03-04 Ushio Inc 光加熱装置
JP2004241324A (ja) * 2003-02-07 2004-08-26 Iwasaki Electric Co Ltd 高圧放電ランプ装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04296834A (ja) * 1991-01-09 1992-10-21 Heimann Gmbh フラッシュランプ及びその点灯回路
JP2002289379A (ja) * 2001-03-23 2002-10-04 Phoenix Denki Kk 超高圧放電灯の点灯方法と点灯装置
JP2004071693A (ja) * 2002-08-02 2004-03-04 Ushio Inc 光加熱装置
JP2004241324A (ja) * 2003-02-07 2004-08-26 Iwasaki Electric Co Ltd 高圧放電ランプ装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006127866A (ja) 2006-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10249519B2 (en) Light-irradiation heat treatment apparatus
US20060055329A1 (en) Extra-high pressure mercury lamp
JP6894256B2 (ja) 熱処理方法および熱処理装置
US6842582B2 (en) Light heating apparatus and method therefor
US8054000B2 (en) Flash lamp irradiation apparatus
JP2022189855A (ja) 無電極単一低電力cwレーザー駆動プラズマランプ
JP6546512B2 (ja) 熱処理装置
JP4273200B2 (ja) フラッシュランプ発光装置
JP4586494B2 (ja) 閃光放射装置
CN111656489A (zh) 热处理方法及热处理装置
JP6847610B2 (ja) 熱処理装置
EP0858097B1 (en) Mercury lamp of the short arc type
CN111668135A (zh) 热处理方法及热处理装置
JP5034959B2 (ja) ランプ点灯装置
JP4207488B2 (ja) 光加熱装置
JP7174357B2 (ja) 光照射装置およびフラッシュランプ
JP2006344383A (ja) 光照射装置
JPWO2009019978A1 (ja) 放電ランプ
JP3988695B2 (ja) フラッシュランプおよびフラッシュランプ装置
JP2006139992A (ja) 閃光放電ランプおよび光エネルギー照射装置
US20230091404A1 (en) Heat treatment susceptor and heat treatment apparatus
CN210516668U (zh) 阻挡放电灯
JP6791693B2 (ja) 熱処理装置
TWI679677B (zh) 放電燈
TWI664660B (zh) Mercury discharge lamp

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070918

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100407

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100413

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100602

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100810

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100823

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4586494

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130917

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130917

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140917

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250