JP4580698B2 - ジャイラック加速電子型ecrイオン源及び多価イオン生成方法 - Google Patents
ジャイラック加速電子型ecrイオン源及び多価イオン生成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4580698B2 JP4580698B2 JP2004187385A JP2004187385A JP4580698B2 JP 4580698 B2 JP4580698 B2 JP 4580698B2 JP 2004187385 A JP2004187385 A JP 2004187385A JP 2004187385 A JP2004187385 A JP 2004187385A JP 4580698 B2 JP4580698 B2 JP 4580698B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- high frequency
- plasma chamber
- magnetic field
- plasma
- ion source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
このECRイオン源は、1960年代に、フランスのグルノーブル研究所のジェラー氏により発明された、電子サイクロトロン共鳴により高温電子を発生させて、中性元素を多価イオン化するイオン源である。
図2に示すように、ECRイオン源100は、ECR(Electron Cyclotron Resonance、電子サイクロトロン共鳴)の磁場を発生させ、軸方向にプラズマを閉じ込めるミラー磁場を発生するソレノイドコイル110と、半径方向にプラズマを閉じ込める多極磁場発生磁石120を備えている(特許文献1参照)。
図中、160は、電子に共鳴する高周波を発生する高周波電源で、170は、この高周波電源160からの高周波を伝送する導波管である。
この高エネルギーの電子が、イオンや原子と衝突して、これらのイオンや原子中の電子を徐々に剥がして行き、多価イオンを生成する。
多価のイオンを生成するためには、図3に示すように、プラズマ中の電子の温度、及び、電子の密度の双方が重要であるのに対して、上記した通り、従来のECRイオン源では、電子密度を増大させることのみに努力してきたことがわかる。
(1)請求項1に記載したように構成すると、プラズマ中に全電離されたイオン或いは、従来のECRイオン源よりも多価のイオンを大量に生産できるようになる。
(2)また、加速装置に印加する電圧が同じならば、イオンの加速エネルギーはイオンの価数に比例するので、半導体製造用のイオン注入装置に用いると、加速効率が良いイオンを発生することができ、ガン治療装置のイオン源としても好適である。
図1は、本発明のジャイラック加速電子型ECRイオン源の概略構成を示す正面図である。
本発明のジャイラック加速電子型ECRイオン源10では、従来のECRイオン源100同様に、ソレノイドコイル24によりミラー磁場を発生させておき、この磁場において、その磁場に合った電子サイクロトロン共鳴となる高い周波数の高周波を、高周波電源40から導波管42を通して、チェンバー22に投入し、中性元素をプラズマ化する。
この磁場において、その低い磁場に合った電子サイクロトロン共鳴となる低い周波数のパルス高周波を、高周波電源50から導波管52を通してプラズマチェンバー22に投入する。
これにより、ミラー磁場のピーク部分を減衰させていたパルス磁場が減衰し、ミラー磁場が上昇するに従って自動的にプラズマ中の電子は加速される。
これをジャイラック加速の原理という。
ECR(電子サイクロトロン共鳴)は、ソレノイドコイル110と多極磁場発生磁石120による固定磁場と、高周波電源160からの固定周波数の高周波では、相対論効果により、電子エネルギーは、数keVから10数keVが上限である。
しかし、ECRイオン源100は、他のイオン源と比較して、電子エネルギーが高いため、多価イオン源として利用されていることは上述した(図2参照)。
この電子加速の原理をジャイラック電子加速という。
最終的に磁場が元の強さに戻ったときに、電子の軌道がプラズマチェンバー22の中に十分留まっていれば、高エネルギー電子により、ECRイオン源100よりも、多価のイオンを生成できる。
また、同様に、ガン治療装置のイオン源としても好適である。
22:プラズマチェンバー
24:ソレノイドコイル
26:多極磁場発生磁石
30:パルスコイル
40:高い高周波電源
42:高い高周波導波管
50:低い高周波電源
52:低い高周波導波管
Claims (2)
- プラズマを収容するプラズマチェンバーと、
該プラズマチェンバーの軸方向にプラズマを閉じ込めるためのミラー磁場を発生するソレノイドコイルと、
径方向にプラズマを閉じ込める多極磁場発生磁石と、
前記プラズマチェンバーの外周に配置され、前記ミラー磁場のピーク部分を一時的に減衰させるパルス磁場を生成するパルスコイルと、
前記プラズマチェンバーに高い高周波を供給する高い高周波電源と、
前記高い高周波電源からの高周波を前記プラズマチェンバーに伝達する高い高周波導波管と、
前記プラズマチェンバーに低いパルス高周波を供給する低い高周波電源と、
前記低い高周波電源からのパルス高周波を前記プラズマチェンバーに伝達する低い高周波導波管とを備え、
ジャイラック加速の原理により電子を加速し、多価のイオンを生成するようにしたことを特徴とするジャイラック加速電子型ECRイオン源。 - 請求項1記載のジャイラック加速電子型ECRイオン源を用い、
前記プラズマチェンバーに、前記低い高周波電源から供給される高周波のパルス幅を調整することにより、前記プラズマチェンバー中の電子のエネルギーを変え、多価のイオンを生成するようにしたことを特徴とする多価イオン生成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004187385A JP4580698B2 (ja) | 2004-06-25 | 2004-06-25 | ジャイラック加速電子型ecrイオン源及び多価イオン生成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004187385A JP4580698B2 (ja) | 2004-06-25 | 2004-06-25 | ジャイラック加速電子型ecrイオン源及び多価イオン生成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006012575A JP2006012575A (ja) | 2006-01-12 |
JP4580698B2 true JP4580698B2 (ja) | 2010-11-17 |
Family
ID=35779578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004187385A Expired - Fee Related JP4580698B2 (ja) | 2004-06-25 | 2004-06-25 | ジャイラック加速電子型ecrイオン源及び多価イオン生成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4580698B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2942801B1 (fr) * | 2009-03-05 | 2012-03-23 | Quertech Ingenierie | Procede de traitement d'une piece en elastomere par des ions multi-energies he+ et he2+ pour diminuer le frottement |
FR2946490B1 (fr) * | 2009-06-05 | 2011-07-15 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif de generation de plasmas a la resonance cyclotron electronique |
CN114302548B (zh) * | 2021-12-31 | 2023-07-25 | 中山市博顿光电科技有限公司 | 射频电离装置、射频中和器及其控制方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0676751A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-03-18 | Japan Steel Works Ltd:The | パルス駆動型の電子サイクロトロン共振イオン源 |
JPH06139978A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Japan Steel Works Ltd:The | パルス駆動型の電子サイクロトロン共振イオン源 |
JPH06168685A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-14 | Japan Steel Works Ltd:The | 電子サイクロトロン共振多価イオン源 |
JPH06187934A (ja) * | 1992-09-18 | 1994-07-08 | Japan Steel Works Ltd:The | 電子サイクロトロン共振イオン源 |
JPH06325710A (ja) * | 1993-05-14 | 1994-11-25 | Hitachi Ltd | マイクロ波イオン源及びイオン打ち込み装置 |
-
2004
- 2004-06-25 JP JP2004187385A patent/JP4580698B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0676751A (ja) * | 1992-08-28 | 1994-03-18 | Japan Steel Works Ltd:The | パルス駆動型の電子サイクロトロン共振イオン源 |
JPH06187934A (ja) * | 1992-09-18 | 1994-07-08 | Japan Steel Works Ltd:The | 電子サイクロトロン共振イオン源 |
JPH06139978A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Japan Steel Works Ltd:The | パルス駆動型の電子サイクロトロン共振イオン源 |
JPH06168685A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-14 | Japan Steel Works Ltd:The | 電子サイクロトロン共振多価イオン源 |
JPH06325710A (ja) * | 1993-05-14 | 1994-11-25 | Hitachi Ltd | マイクロ波イオン源及びイオン打ち込み装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006012575A (ja) | 2006-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Skalyga et al. | New progress of high current gasdynamic ion source | |
Takeiri | Negative ion source development for fusion application | |
Xie | Production of highly charged ion beams from electron cyclotron resonance ion sources | |
Bacal et al. | Volume production negative hydrogen ion sources | |
TWI467615B (zh) | 離子源與調整離子束均一性的方法 | |
US5266146A (en) | Microwave-powered plasma-generating apparatus and method | |
US6922019B2 (en) | Microwave ion source | |
TWI343589B (en) | Ion source apparatus and electronic energy optimized method therefor | |
Leung | Multicusp ion sources | |
Stockli et al. | Ion injectors for high-intensity accelerators | |
JP4580698B2 (ja) | ジャイラック加速電子型ecrイオン源及び多価イオン生成方法 | |
KR101311467B1 (ko) | 전자 맴돌이 공명 이온원 장치 및 이의 인출 전류를 증가시키는 방법 | |
Hill | Ion and electron sources | |
Abdelrahman | Factors enhancing production of multicharged ion sources and their applications | |
Hamilton et al. | Physics and applications of charged particle beam sources | |
Yamada | Development of an Electron Attachment Type Negative Fullerene Ion Source | |
Fukumasa et al. | Electron cyclotron resonance negative ion source | |
Skalyga et al. | This is an electronic reprint of the original article. This reprint may differ from the original in pagination and typographic detail. | |
JP2744188B2 (ja) | マイクロ波イオン源及びイオン打ち込み装置 | |
Jung et al. | Development of a high-current helicon ion source with high monatomic fraction for the application of neutron generators | |
JP2002056786A (ja) | イオン注入装置用のイオン源 | |
Taki et al. | 6.4 GHz ECR ion source at VECC | |
Gammino | Ion Sources for Medical Applications | |
White et al. | CUSPIG Ion Source for Large and Very Large Ribbon Ion Beam Systems | |
Naik et al. | Design of a “two-ion source” Charge Breeder using ECR ion source in two frequency mode |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070425 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070525 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100818 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100830 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |