JP4577815B2 - Film for transparent protective layer of optical disc - Google Patents

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Description

本発明は、光線が透過することのない基板と、基板上に形成された情報信号部と、その上層に形成された透明接着剤とポリカーボネート系フィルムからなる光透過性の保護層からなる光ディスクにおいて、特定のジヒドロキシ化合物から誘導されるポリカーボネート樹脂(A)とポリカーボネート樹脂(B)をブレンドしてなる樹脂組成物からなるポリカーボネート系フィルムに関する。   The present invention relates to an optical disc comprising a substrate that does not transmit light, an information signal portion formed on the substrate, and a light-transmitting protective layer comprising a transparent adhesive and a polycarbonate film formed thereon. The present invention relates to a polycarbonate film comprising a resin composition obtained by blending a polycarbonate resin (A) derived from a specific dihydroxy compound and a polycarbonate resin (B).

現在、光線透過型の光ディスク基板が広く用いられている。例えば、アクリル基板、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(通称:ビスフェノールA)からなるポリカーボネート基板あるいは非晶質ポリオレフィン基板などが、CD基板(光透過厚さ1.2mm)あるいはDVD基板(光透過厚さ0.6mm)用途に広く用いられている。これらのディスクは、透明な基板に凸凹を転写し、その転写面の上にアルミニウムなどの金属反射膜からなる情報記録層を形成し、更にその上層に保護膜を形成することにより成り立ち、基板に転写された凸凹を赤色レーザーを用いて読みとる方式を用いている。その際、レーザー光線は照射光、反射光とも光ディスク基板内部を透過する。従って、光ディスク基板の複屈折が大きいと、信号の読み取りエラーが起こりやすくなることが知られており、それ故、現行の光ディスクの基板には複屈折が小さいことが強く要求されている。   Currently, light transmission type optical disk substrates are widely used. For example, an acrylic substrate, a polycarbonate substrate made of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (common name: bisphenol A), an amorphous polyolefin substrate, or the like is a CD substrate (light transmission thickness 1.2 mm) or a DVD substrate. (Light transmission thickness 0.6mm) Widely used for applications. These discs are formed by transferring irregularities to a transparent substrate, forming an information recording layer made of a metal reflective film such as aluminum on the transfer surface, and further forming a protective film on the upper layer. A system is used to read the transferred irregularities using a red laser. At that time, the laser beam passes through the inside of the optical disk substrate both for the irradiation light and the reflected light. Therefore, it is known that if the birefringence of the optical disk substrate is large, a signal reading error is likely to occur. Therefore, the substrate of the current optical disk is strongly required to have a small birefringence.

しかるに、近年、凸凹を小さくし、光ディスクの記録密度を飛躍的に高められる、青色レーザーを用いて信号を読み取る記録方式が開発された。この方式では、現行法と同様な、基板内部を光が透過する光ディスクを用いると、わずかな複屈折でも読み取りエラーが起こる。このような読み取りエラーを無くすためには、基板の厚さを0.1mm程度まで薄くする必要が生じるが、射出成形で凸凹を転写しながらこのような薄い基板を成形するのは技術的に極めて困難である。   However, in recent years, a recording method for reading a signal using a blue laser has been developed, which can reduce the unevenness and dramatically increase the recording density of the optical disk. In this method, as in the current method, when an optical disk that transmits light through the substrate is used, a reading error occurs even with a slight birefringence. In order to eliminate such reading errors, it is necessary to reduce the thickness of the substrate to about 0.1 mm. However, it is technically extremely difficult to form such a thin substrate while transferring irregularities by injection molding. Have difficulty.

そのため、青色レーザーを用いて情報の読み取りを行う場合には、凸凹を光線の透過することのない基板に転写し、この転写面の上に記録膜や反射膜からなる情報信号部を形成し、さらにその上部に光透過性の保護フィルムと透明接着剤よりなる膜厚100μmの保護層を形成し、保護フィルム側から青色レーザーを照射し、情報を読み取る方式が開発された。なお、情報信号部は反射膜、光磁気材料からなる膜、相変化材料からなる膜、または有機色素膜などからなる。光ディスクが再生専用の場合には情報信号部は、反射膜を少なくとも有する、単層膜または積層膜から構成される。他方、光ディスクが書き換え可能型であるならば、情報信号部は光磁気材料からなる膜や相変化材料からなる膜を少なくとも有する単層膜もしくは積層膜から構成され、追記型光ディスクの場合には、例えば有機色素材料からなる膜を少なくとも有する単層膜もしくは積層膜から構成される(例えば、特許文献1、2および3参照)。   Therefore, when reading information using a blue laser, the unevenness is transferred to a substrate that does not transmit light, and an information signal portion made of a recording film or a reflection film is formed on the transfer surface, Furthermore, a system was developed in which a protective layer having a thickness of 100 μm made of a light-transmitting protective film and a transparent adhesive was formed on the upper part, and a blue laser was irradiated from the protective film side to read information. The information signal portion is made of a reflective film, a film made of a magneto-optical material, a film made of a phase change material, or an organic dye film. When the optical disc is read-only, the information signal portion is composed of a single layer film or a laminated film having at least a reflection film. On the other hand, if the optical disc is a rewritable type, the information signal portion is composed of a single layer film or a laminated film having at least a film made of a magneto-optical material or a film made of a phase change material. For example, it is composed of a single layer film or a laminated film having at least a film made of an organic dye material (see, for example, Patent Documents 1, 2, and 3).

この方式では、光が透過するのは保護フィルムおよび透明接着剤からなる透明保護層のみとなるが、実質的に光線に影響を与えるのは透明保護層の殆どを占める保護フィルムである。従って、保護フィルムは、リターデーション値(定義:複屈折率×厚さ、単位:nm)が小さく、なおかつ表面が平滑で厚さが均一であることを強く求められる。更には、経済性の面から生産性の高い製造方法を用いて大量生産できることが重要となる。以上の条件を満たす樹脂として、例えば、ビスフェノールAからなるポリカーボネート樹脂を用いることが可能である。ただし、この場合いくつかの問題点が生じる。   In this system, light is transmitted only through the protective film and the transparent protective layer made of a transparent adhesive, but the protective film occupying most of the transparent protective layer substantially affects the light beam. Therefore, the protective film is strongly required to have a small retardation value (definition: birefringence x thickness, unit: nm), a smooth surface, and a uniform thickness. Furthermore, it is important that mass production is possible using a production method with high productivity from the viewpoint of economy. As a resin that satisfies the above conditions, for example, a polycarbonate resin made of bisphenol A can be used. However, several problems arise in this case.

ビスフェノールAからなるポリカーボネート樹脂を用いてフィルムを成形する方法としては、溶媒を用いる湿式成形法および溶融押出し成形法がある。前者は、ビスフェノールAからなるポリカーボネート樹脂を揮発性溶媒に溶解し、回転式スチールベルト上に該樹脂溶液を連続的に流延し、スチールベルト上で溶媒を蒸発除去して得られるフィルムを連続的に巻き取る方式である。この方法により得られるフィルムは、表面が平滑で厚みむらも小さく、なおかつ無延伸であるためリターデーション値も小さく光学的に優れたフィルムである。しかしながら、湿式成形法では、高価な製膜設備を必要とする上、揮発性溶媒を用いるため溶媒の回収設備が必要となり製造コストが大きくなるという欠点がある。また、回収しきれなかった溶媒は大気中に放出されるので、環境上から見て好ましくない。更には、溶媒蒸発時に突沸による微細な欠陥が生じることがあるため、表面に微細なボイドが発生し製品の歩留まりが悪くなるという欠点がある。一方、溶融押し出し成形法は、フィルム製造設備が比較的安価であること、溶媒回収が必要ないことから大量生産に適した成形法である。しかしながら、フィルム化の際に延伸がかかるため、ビスフェノールAからなるポリカーボネート樹脂では残留応力歪みによりリターデーション値が大きくなるという欠点がある。   As a method for forming a film using a polycarbonate resin composed of bisphenol A, there are a wet forming method using a solvent and a melt extrusion forming method. In the former, a film obtained by dissolving polycarbonate resin composed of bisphenol A in a volatile solvent, continuously casting the resin solution on a rotating steel belt, and evaporating and removing the solvent on the steel belt is continuously obtained. This is a winding method. The film obtained by this method is a film having a smooth surface with small thickness unevenness and a non-stretched film, which has a small retardation value and is optically excellent. However, the wet molding method has the disadvantages that an expensive film forming facility is required and a solvent recovery facility is required because a volatile solvent is used, resulting in an increase in manufacturing cost. Further, since the solvent that could not be recovered is released into the atmosphere, it is not preferable from the viewpoint of the environment. Furthermore, since a fine defect due to bumping may occur during the evaporation of the solvent, there is a drawback that a fine void is generated on the surface and the yield of the product is deteriorated. On the other hand, the melt extrusion molding method is a molding method suitable for mass production since the film production equipment is relatively inexpensive and solvent recovery is not necessary. However, since stretching takes place during film formation, the polycarbonate resin made of bisphenol A has a drawback that the retardation value increases due to residual stress strain.

例えば、フルオレン骨格を有するビスフェノールを共重合したポリカーボネート樹脂を用いる方法がある(例えば、特許文献4参照)。しかし、該ポリカーボネート樹脂は、リターデーション値を充分に低くするためにフルオレン骨格を有するビスフェノールを増量すると、ガラス転移温度が高くなりかつ流動性が悪くなるため溶融押し出し成形法によりフィルム化するのが困難になる。そのため該ビスフェノールの導入量が不充分となる。   For example, there is a method using a polycarbonate resin copolymerized with bisphenol having a fluorene skeleton (see, for example, Patent Document 4). However, when the amount of bisphenol having a fluorene skeleton is increased in order to sufficiently reduce the retardation value, the polycarbonate resin has a high glass transition temperature and poor fluidity, so it is difficult to form a film by a melt extrusion method. become. For this reason, the amount of bisphenol introduced is insufficient.

例えば、フルオレン骨格を有するビスフェノールとシロキサン結合を有するビスフェノールとを共重合成分として用いたポリカーボネート樹脂を溶融押出法で成形し、残留応力歪みが生じてもリターデーション値を低く抑えることができるフィルムがある(例えば、特許文献5参照)。該フィルムは成形性に優れ、表面平滑性が高く厚みむらも殆ど無いため、該光ディスクの保護フィルム向けに使用可能である。しかしながら、シロキサン結合を有するビスフェノールは高価であるため経済性に問題がある。   For example, there is a film in which a polycarbonate resin using bisphenol having a fluorene skeleton and bisphenol having a siloxane bond as a copolymerization component is molded by a melt extrusion method, and the retardation value can be kept low even if residual stress distortion occurs. (For example, refer to Patent Document 5). Since the film has excellent moldability, high surface smoothness and almost no unevenness in thickness, it can be used as a protective film for the optical disk. However, since bisphenol having a siloxane bond is expensive, there is a problem in economy.

特開2002−8269号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-8269 特開2002−74749号公報JP 2002-74749 A 特開平10−283683号公報JP-A-10-283683 特開平9−7222号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-7222 特開2002−317042号公報JP 2002-317042 A

本発明は上記課題を解決しようとするものであり、溶融押出法で成形し、残留応力歪みが生じても、リターデーション値を低く抑えることができ、かつ表面平滑性、厚み均一性および経済性に優れたフィルムを提供することにある。   The present invention is intended to solve the above-mentioned problems, and is formed by a melt extrusion method. Even if residual stress distortion occurs, the retardation value can be kept low, and surface smoothness, thickness uniformity, and economic efficiency are achieved. It is to provide an excellent film.

本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、基板上に形成された情報信号部を有する光線が透過することのない基板の上層に形成される光透過性の保護層に使用されるものであって、一般式(1)で表されるジヒドロキシ化合物95〜5モル%と、一般式(2)で表されるジヒドロキシ化合物5〜95モル%とを炭酸ジエステルによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂(A)と、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを炭酸ジエステルもしくはホスゲンによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂(B)とを、(100×(A))/((A)+(B))=1〜99重量%となるような比率でブレンドして得られるポリカーボネート樹脂組成物からなることを特徴とする光ディスクの透明保護層用フィルムにより上記課題を解決できることを見出し本発明に到達した。
(式中、R1、R2は水素原子またはメチル基である。)
(式中、Xは、炭素数1〜10のアルキレン基または炭素数4〜20シクロアルキレン基である)
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have made a light-transmitting protective layer formed on an upper layer of a substrate that does not transmit a light beam having an information signal portion formed on the substrate. The dihydroxy compound 95-5 mol% represented by the general formula (1) and the dihydroxy compound 5-95 mol% represented by the general formula (2) are carbonate-bonded with a carbonic acid diester. And (100 × (A)) / () a polycarbonate resin (B) formed by carbonate-bonding 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane with a carbonic acid diester or phosgene. (A) + (B)) = 1 to 99% by weight A polycarbonate resin composition obtained by blending at a ratio of 1 to 99% by weight We have reached the present invention can solve the above problems by a transparent protective layer film.
(In the formula, R 1 and R 2 are a hydrogen atom or a methyl group.)
(Wherein, X is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or a cycloalkylene group having 4 to 20 carbon atoms)

本発明により、厚みむらが殆どなく、リターデーション値の低い低複屈折フィルムを押出し成形法により効率よく生産することができ有用である。また、押出し成形法を用いることが可能になることで、溶媒回収設備が必要なくなりまた溶媒の環境中への揮散もなくなるため有用である。更に、該押出しフィルムは、光線が透過することのない基板と、基板上に形成された情報信号部と、その上層に形成された透明接着剤とポリカーボネート系フィルムからなる光透過性の保護層からなる光ディスクにおける保護フィルムとして好適に使用することができ大変有用である。   According to the present invention, a low birefringence film having almost no thickness unevenness and a low retardation value can be efficiently produced by an extrusion molding method, which is useful. In addition, since it becomes possible to use the extrusion molding method, a solvent recovery facility is not necessary, and volatilization of the solvent into the environment is eliminated, which is useful. Further, the extruded film includes a substrate through which light does not transmit, an information signal portion formed on the substrate, a transparent adhesive layer formed on the upper layer, and a light-transmitting protective layer comprising a polycarbonate film. It can be suitably used as a protective film in an optical disc, which is very useful.

本発明に使用されるポリカーボネート樹脂(A)を誘導する一般式(1)で示されるジヒドロキシ化合物としては、具体的には、9,9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)−3,5−ジメチルフェニル)フルオレンが例示される。その中で、9,9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレンが好適に使用される。   As the dihydroxy compound represented by the general formula (1) for deriving the polycarbonate resin (A) used in the present invention, specifically, 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) -3-methylphenyl) fluorene and 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) -3,5-dimethylphenyl) fluorene are exemplified. Among them, 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene is preferably used.

本発明に使用されるポリカーボネート樹脂(A)を誘導する一般式(2)で示されるジヒドロキシ化合物としては、具体的には、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノール、シクロヘキサン−1,4−ジメタノール、デカリン−2,6−ジメタノール、ノルボルナンジメタノール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、シクロペンタン−1,3−ジメタノール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール等が例示される。その中で、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノール、シクロヘキサン−1,4−ジメタノールあるいはペンタシクロペンタデカンジメタノールから選択される少なくとも1種からなる化合物が好適に使用される。 Specific examples of the dihydroxy compound represented by the general formula (2) for deriving the polycarbonate resin (A) used in the present invention include tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanedimethanol, cyclohexane. -1,4-dimethanol, decalin-2,6-dimethanol, norbornane dimethanol, pentacyclopentadecanedimethanol, cyclopentane-1,3-dimethanol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol Etc. are exemplified. Among them, a compound comprising at least one selected from tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decanedimethanol, cyclohexane-1,4-dimethanol or pentacyclopentadecanedimethanol is preferably used. The

先ず、本発明に関わるポリカーボネート樹脂(A)の製造方法について述べる。ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを、塩基性化合物触媒もしくはエステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下、反応させる公知の溶融重縮合法が好適に用いられる。   First, a method for producing a polycarbonate resin (A) according to the present invention will be described. A known melt polycondensation method in which a dihydroxy compound and a carbonic acid diester are reacted in the presence of a basic compound catalyst or a transesterification catalyst or a mixed catalyst composed of both is suitably used.

炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス(クロロフェニル)カーボネート、m−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等があげられる。これらの中でも特にジフェニルカーボネートが好ましい。炭酸ジエステルは、ジヒドロキシ化合物の合計1モルに対して0.97〜1.20モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは0.99〜1.10モルの比率である。   Examples of the carbonic acid diester include diphenyl carbonate, ditolyl carbonate, bis (chlorophenyl) carbonate, m-cresyl carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, dibutyl carbonate, and dicyclohexyl carbonate. Of these, diphenyl carbonate is particularly preferred. The carbonic acid diester is preferably used in a ratio of 0.97 to 1.20 mol, more preferably 0.99 to 1.10 mol, relative to a total of 1 mol of the dihydroxy compound.

塩基性化合物触媒としては、特にアルカリ金属化合物および/またはアルカリ土類金属化合物、含窒素化合物等があげられる。   Examples of the basic compound catalyst include alkali metal compounds and / or alkaline earth metal compounds, nitrogen-containing compounds, and the like.

このような化合物としては、アルカリ金属および/またはアルカリ土類金属化合物等の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコキシド、4級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。   Examples of such compounds include organic acid salts such as alkali metal and / or alkaline earth metal compounds, inorganic salts, oxides, hydroxides, hydrides or alkoxides, quaternary ammonium hydroxides and salts thereof, and amines. Etc. are preferably used, and these compounds can be used alone or in combination.

アルカリ金属化合物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素2ナトリウム、リン酸水素2カリウム、リン酸水素2リチウム、フェニルリン酸2ナトリウム、ビスフェノールAの2ナトリウム塩、2カリウム塩、2セシウム塩、2リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が用いられる。   Specific examples of the alkali metal compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, lithium hydroxide, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, cesium bicarbonate, lithium bicarbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, carbonate Cesium, lithium carbonate, sodium acetate, potassium acetate, cesium acetate, lithium acetate, sodium stearate, potassium stearate, cesium stearate, lithium stearate, sodium borohydride, sodium phenyl borohydride, sodium benzoate, potassium benzoate Cesium benzoate, lithium benzoate, disodium hydrogen phosphate, dipotassium hydrogen phosphate, dilithium hydrogen phosphate, disodium phenyl phosphate, disodium salt of bisphenol A, 2 potassium salt, 2 cesium , 2 lithium salt, sodium salt of phenol, potassium salt, cesium salt, lithium salt or the like is used.

アルカリ土類金属化合物としては、具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。   Specific examples of the alkaline earth metal compound include magnesium hydroxide, calcium hydroxide, strontium hydroxide, barium hydroxide, magnesium hydrogen carbonate, calcium hydrogen carbonate, strontium hydrogen carbonate, barium hydrogen carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate. Strontium carbonate, barium carbonate, magnesium acetate, calcium acetate, strontium acetate, barium acetate, magnesium stearate, calcium stearate, calcium benzoate, magnesium phenyl phosphate, and the like are used.

含窒素化合物としては、具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基およびアリール基等を有する4級アンモニウムヒドロキシド類、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の3級アミン類、ジエチルアミン、ジブチルアミン等の2級アミン類、プロピルアミン、ブチルアミン等の1級アミン類、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類、あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が用いられる。   Specific examples of nitrogen-containing compounds include alkyl groups and aryl groups such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, and trimethylbenzylammonium hydroxide. Secondary ammoniums such as quaternary ammonium hydroxides, triethylamine, dimethylbenzylamine and triphenylamine, secondary amines such as diethylamine and dibutylamine, primary amines such as propylamine and butylamine, 2-methylimidazole, 2 -Imidazoles such as phenylimidazole and benzimidazole, or ammonia, tetramethylammonium borohydride, tetrabutylammonium borohydride Tetrabutylammonium tetraphenylborate, basic or basic salts such as tetraphenyl ammonium tetraphenylborate, or the like is used.

エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。   As the transesterification catalyst, zinc, tin, zirconium and lead salts are preferably used, and these can be used alone or in combination.

エステル交換触媒としては、具体的には、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、2−エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ(II)、塩化スズ(IV)、酢酸スズ(II)、酢酸スズ(IV)、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛(II)、酢酸鉛(IV)等が用いられる。   Specific examples of the transesterification catalyst include zinc acetate, zinc benzoate, zinc 2-ethylhexanoate, tin (II) chloride, tin (IV) chloride, tin (II) acetate, tin (IV) acetate, and dibutyltin. Dilaurate, dibutyltin oxide, dibutyltin dimethoxide, zirconium acetylacetonate, zirconium oxyacetate, zirconium tetrabutoxide, lead (II) acetate, lead (IV) acetate and the like are used.

これらの触媒は、ジヒドロキシ化合物の合計1モルに対して、10-9〜10-3モルの比率で用いられ、好ましくは10-7〜10-4モルの比率で用いられる。 These catalysts are used in a ratio of 10 −9 to 10 −3 mol, preferably 10 −7 to 10 −4 mol, relative to a total of 1 mol of the dihydroxy compound.

本発明にかかわる溶融重縮合法は、前記の原料、および触媒を用いて、加熱下に常圧または減圧下にエステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。反応は、一般には二段以上の多段行程で実施される。   The melt polycondensation method according to the present invention is a method in which melt polycondensation is carried out using the above-mentioned raw materials and catalyst while removing by-products by a transesterification reaction under normal pressure or reduced pressure. The reaction is generally carried out in a multistage process of two or more stages.

具体的には、第一段目の反応を120〜260℃、好ましくは180〜240℃の温度で0.1〜5時間、好ましくは0.5〜3時間反応させる。次いで反応系の減圧度を上げながら反応温度を高めてジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には1mmHg以下の減圧下、200〜350℃の温度で、1〜10時間重縮合反応を行う。このような反応は、連続式で行っても良くまたバッチ式で行ってもよい。上記の反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であってもスクリューを装備した押出機型であってもよく、また、これらを重合物の粘度を勘案して適宜組み合わせた反応装置を使用することが好適に実施される。   Specifically, the reaction at the first stage is allowed to react at a temperature of 120 to 260 ° C., preferably 180 to 240 ° C. for 0.1 to 5 hours, preferably 0.5 to 3 hours. Next, the reaction temperature is raised while raising the degree of decompression of the reaction system to carry out the reaction between the dihydroxy compound and the carbonic acid diester, and finally the polycondensation reaction is carried out at a temperature of 200 to 350 ° C. under a reduced pressure of 1 mmHg or less for 1 to 10 hours. I do. Such a reaction may be carried out continuously or batchwise. The reaction apparatus used for carrying out the above reaction is equipped with paddle blades, lattice blades, glasses blades, etc. even with vertical types equipped with vertical stirring blades, Max blend stirring blades, helical ribbon stirring blades, etc. It may be a horizontal type or an extruder type equipped with a screw, and it is preferable to use a reaction apparatus in which these are appropriately combined in consideration of the viscosity of the polymer.

本発明にかかわるポリカーボネート樹脂(A)は、重合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させる。一般的には、公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法が好適に実施される。これらの物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類、p−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類、p−トルエンスルホン酸ブチル、p−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類、亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸モノエチル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸モノブチル、亜リン酸ジブチル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類、リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸モノエチル、リン酸ジエチル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類、ジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類、フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類、トリフェニルホスフィン、ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン等のホスフィン類、ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類、ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、p−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物、ジメチル硫酸等のアルキル硫酸、塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。   In the polycarbonate resin (A) according to the present invention, the catalyst is removed or deactivated after the polymerization reaction in order to maintain thermal stability and hydrolysis stability. In general, a method of deactivating a catalyst by adding a known acidic substance is preferably performed. Specific examples of these substances include esters such as butyl benzoate, aromatic sulfonic acids such as p-toluenesulfonic acid, and aromatic sulfonic acids such as butyl p-toluenesulfonate and hexyl p-toluenesulfonate. Esters, phosphoric acids such as phosphorous acid, phosphoric acid, phosphonic acid, triphenyl phosphite, monophenyl phosphite, diphenyl phosphite, monoethyl phosphite, diethyl phosphite, monobutyl phosphite, Phosphorous esters such as dibutyl phosphate, dioctyl phosphite, monooctyl phosphite, triphenyl phosphate, diphenyl phosphate, monophenyl phosphate, monoethyl phosphate, diethyl phosphate, dibutyl phosphate, phosphoric acid Phosphate esters such as dioctyl and monooctyl phosphate, diphenylphosphonic acid, dioctylphosphonic acid, dibutyl Phosphonic acids such as sulfonic acid, phosphonic acid esters such as diethyl phenylphosphonate, phosphines such as triphenylphosphine and bis (diphenylphosphino) ethane, boric acids such as boric acid and phenylboric acid, tetrabutyl dodecylbenzenesulfonate Aromatic sulfonates such as phosphonium salts, organic halides such as stearic acid chloride, benzoyl chloride and p-toluenesulfonic acid chloride, alkyl sulfuric acids such as dimethyl sulfate, and organic halides such as benzyl chloride are preferably used.

触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を0.1〜1mmHgの圧力、200〜350℃の温度で脱揮除去する工程を設けても良く、このためには、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。   After deactivation of the catalyst, a step of devolatilizing and removing low-boiling compounds in the polymer at a pressure of 0.1 to 1 mmHg and a temperature of 200 to 350 ° C. may be provided. For this purpose, paddle blades, lattice blades, glasses A horizontal apparatus provided with a stirring blade having excellent surface renewability such as a blade or a thin film evaporator is preferably used.

次に、本発明に関わるポリカーボネート樹脂(B)の製造方法について述べる。ポリカーボネート樹脂(B)は、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(通称:ビスフェノールA)から誘導されるホモポリマーであるが、ビスフェノールA以外のビスフェノール類を物性の損なわれない範囲で少量共重合していても良い。ポリカーボネート樹脂(B)の製造方法の1つとして、ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを塩基性化合物触媒の存在下反応させる公知の溶融重縮合法が好適に用いられる。その製造方法は、重金属系のエステル交換触媒を用いない以外はポリカーボネート樹脂(A)の製造方法に準じるものである。   Next, a method for producing the polycarbonate resin (B) according to the present invention will be described. The polycarbonate resin (B) is a homopolymer derived from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (common name: bisphenol A), but a small amount of bisphenols other than bisphenol A is used as long as the physical properties are not impaired. It may be copolymerized. As one of the methods for producing the polycarbonate resin (B), a known melt polycondensation method in which a dihydroxy compound and a carbonic acid diester are reacted in the presence of a basic compound catalyst is preferably used. The production method conforms to the production method of the polycarbonate resin (A) except that a heavy metal transesterification catalyst is not used.

本発明に関わるポリカーボネート樹脂(B)のもう1つの好適な製造方法として、ジヒドロキシ化合物を、溶媒、末端停止剤および酸結合剤の存在下、ホスゲンと反応させる界面重合法がある。通常、酸結合剤の水溶液にジヒドロキシ化合物および末端停止剤を溶解し、有機溶媒の存在下に反応させる。   Another suitable method for producing the polycarbonate resin (B) according to the present invention is an interfacial polymerization method in which a dihydroxy compound is reacted with phosgene in the presence of a solvent, a terminal terminator and an acid binder. Usually, a dihydroxy compound and a terminal terminator are dissolved in an aqueous solution of an acid binder and reacted in the presence of an organic solvent.

酸結合剤としては、例えば、ピリジン、または水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物が好適に用いられる。また、溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼンおよびキシレンなどが好適に使用される。さらに、重合反応を促進するために、触媒としてトリエチルアミンのような第三級アミンあるいはテトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド等の第四級アンモニウム塩等が使用される。   As the acid binder, for example, pyridine, or an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is preferably used. As the solvent, for example, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene and xylene are preferably used. Furthermore, in order to accelerate the polymerization reaction, a tertiary amine such as triethylamine or a quaternary ammonium salt such as tetra-n-butylammonium bromide is used as a catalyst.

また、重合度の調節に用いられる末端停止剤としては、フェノール、p−tert−ブチルフェノール、p−クミルフェノール、長鎖アルキル置換フェノール等の一官能ヒドロキシ化合物が使用される。   Moreover, as a terminal terminator used for adjustment of a polymerization degree, monofunctional hydroxy compounds, such as a phenol, p-tert-butylphenol, p-cumylphenol, and a long-chain alkyl substituted phenol, are used.

さらに、所望に応じて、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイトナトリウム等の酸化防止剤を少量添加しても良い。   Furthermore, if desired, a small amount of an antioxidant such as sodium sulfite or hydrosulfite sodium may be added.

反応は、通常0〜150℃、好ましくは5〜40℃の範囲で行われる。反応時間は反応温度によって左右されるが、通常0.5分〜10時間、好ましくは1分〜2時間である。また、反応中は反応系のpHを10以上に保持することが好ましい。   The reaction is usually carried out in the range of 0 to 150 ° C, preferably 5 to 40 ° C. While the reaction time depends on the reaction temperature, it is generally 0.5 min-10 hr, preferably 1 min-2 hr. Moreover, it is preferable to maintain the pH of the reaction system at 10 or more during the reaction.

本発明に関わるブレンド樹脂組成物の製造方法は、それぞれ別個に製造した固体状のポリカーボネート樹脂(A)と(B)を混合し、混練機により混練して製造しても良いし、また、溶融状態の(A)の樹脂に固体の(B)を添加し、あるいは溶融状態の(B)の樹脂に固体の(A)を添加して混練機により混練して製造しても良い。あるいは、溶融状態の(A)と(B)の樹脂を混合して混練機により混練して製造しても良い。混練は、連続式で行ってもバッチ式で行っても良い。混練機としては、押出機、ラボプラストミル、ニーダー等が用いられるが、連続的に混練を行うなら押出機が、バッチ式で混練を行うならラボプラストミルあるいはニーダーが好適に使用される。なお、溶融重縮合法によって製造したポリカーボネート樹脂を用いる場合には、混練時のエステル交換反応を避ける見地から、触媒失活後に混練を行うことが望ましい。しかし、触媒失活剤とブレンド相手の樹脂とを同時に練り込んでもブレンド後に触媒失活剤を練り込んでも構わない。ただし、この場合には、エステル交換反応によるランダム化によって耐薬品性が損なわれない範囲に止める必要がある。   The method for producing a blend resin composition according to the present invention may be produced by mixing solid polycarbonate resins (A) and (B) produced separately and kneading them with a kneader, or melting them. The solid (B) may be added to the resin (A) in the state, or the solid (A) may be added to the resin (B) in the melt and kneaded with a kneader. Alternatively, the molten resins (A) and (B) may be mixed and kneaded with a kneader. The kneading may be performed continuously or batchwise. As the kneading machine, an extruder, a lab plast mill, a kneader or the like is used, and an extruder is preferably used for continuous kneading, and a lab plast mill or kneader is preferably used for batch kneading. In addition, when using the polycarbonate resin manufactured by the melt polycondensation method, it is desirable to perform kneading | mixing after a catalyst deactivation from the viewpoint of avoiding the transesterification reaction at the time of kneading | mixing. However, the catalyst deactivator and the resin to be blended may be kneaded at the same time, or the catalyst deactivator may be kneaded after blending. However, in this case, it is necessary to keep it within a range where chemical resistance is not impaired by randomization by transesterification.

また、本発明に関わるブレンド樹脂組成物のもう1つの製造方法として、ポリカーボネート樹脂(A)および(B)を溶媒に溶解させ、鋳型に注ぎ込んだ後溶媒を蒸発させる方法もある。溶媒としては例えばメチレンクロライド、クロロホルム、テトラヒドロフラン、トルエン等が使用される。この方法を用いる場合には、同時に添加剤を溶解添加することが可能であるため便利である。   As another method for producing the blend resin composition according to the present invention, there is a method in which the polycarbonate resins (A) and (B) are dissolved in a solvent, poured into a mold, and then the solvent is evaporated. As the solvent, for example, methylene chloride, chloroform, tetrahydrofuran, toluene and the like are used. When this method is used, it is convenient because the additive can be dissolved and added at the same time.

さらに本発明に関わるブレンド樹脂組成物には、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、帯電防止剤あるいは抗菌剤等を添加することが好適に実施される。これらの添加剤はブレンド混練を行う前にポリカーボネート樹脂(A)および(B)の各々もしくはどちらかの樹脂に事前に添加しておいても良いし、ブレンド混練前に練り込んでもブレンド混練時に同時に添加して練り込んでもブレンド後に練り込んでも良い。   Furthermore, it is preferable to add an antioxidant, a release agent, an ultraviolet absorber, a fluidity modifier, an antistatic agent, an antibacterial agent, or the like to the blend resin composition according to the present invention. These additives may be added in advance to the polycarbonate resins (A) and (B) or either of them before blend kneading, or they may be kneaded before blend kneading or simultaneously with blend kneading. It may be added and kneaded or kneaded after blending.

また、本発明に関わるブレンド樹脂組成物に用いられるポリカーボネート樹脂(A)の好ましいポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)は、20,000〜300,000であり、より好ましくは35,000〜150,000である。Mwが20,000より小さいと、保護フィルムが脆くなるため好ましくない。Mwが300,000より大きいと、溶融粘度が高くなるため製造後の樹脂の取り出しが困難になり、また溶融粘度が高くなるため押し出し成形が困難になるなどの問題が生じるため好ましくない。   Moreover, the preferable polystyrene conversion weight average molecular weight (Mw) of the polycarbonate resin (A) used for the blend resin composition concerning this invention is 20,000-300,000, More preferably, 35,000-150,000. It is. When Mw is smaller than 20,000, the protective film becomes brittle, which is not preferable. If Mw is larger than 300,000, the melt viscosity becomes high, so that it becomes difficult to take out the resin after production, and the melt viscosity becomes high, which causes problems such as difficulty in extrusion molding.

本発明に関わるブレンド樹脂組成物に用いられるポリカーボネート樹脂(B)の好ましいポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)は、15,000〜250,000であり、より好ましくは20,000〜110,000である。Mwが15,000より小さいと、保護フィルムが脆くなるため好ましくない。Mwが250,000より大きいと、溶融粘度が高くなりブレンドの条件が厳しくなるため好ましくなく、また溶融粘度が高くなるため押し出し成形が困難になるなどの問題が生じるため好ましくない。   The polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) of the polycarbonate resin (B) used in the blend resin composition according to the present invention is 15,000 to 250,000, more preferably 20,000 to 110,000. . If Mw is less than 15,000, the protective film becomes brittle, which is not preferable. When Mw is larger than 250,000, the melt viscosity becomes high and the blending conditions become severe, which is not preferable, and since the melt viscosity becomes high, problems such as difficulty in extrusion molding occur.

本発明に関わるブレンド樹脂組成物に用いられるポリカーボネート樹脂(A)と(B)とのポリスチレン換算重量平均分子量差△Mwは、0〜120,000であることが好ましく、より好ましくは0〜80,000である。△Mwが120,000を越えると、(A)と(B)の粘度差が著しく大きくなるため相溶性が悪くなってブレンド樹脂組成物の透明性が低下し、光ディスクの透明保護フィルムに使用できなくなるので好ましくない。   The polystyrene-converted weight average molecular weight difference ΔMw between the polycarbonate resins (A) and (B) used in the blend resin composition according to the present invention is preferably 0 to 120,000, more preferably 0 to 80, 000. When Mw exceeds 120,000, the difference in viscosity between (A) and (B) becomes remarkably large, so that the compatibility is deteriorated and the transparency of the blended resin composition is lowered, so that it can be used as a transparent protective film for optical disks. Since it disappears, it is not preferable.

本発明に関わるブレンド樹脂組成物に用いられるポリカーボネート樹脂(A)はランダム、ブロックおよび交互共重合構造を含むものである。   The polycarbonate resin (A) used in the blend resin composition according to the present invention contains random, block and alternating copolymer structures.

本発明に関わるブレンド樹脂組成物の好ましいガラス転移温度(Tg)は90〜180℃であり、より好ましくは100〜165℃である。Tgが90℃より低いと、保護フィルムの耐熱性が低くなり光ディスクの使用温度範囲が狭くなるため好ましくない。また、180℃を越えると例えば押し出しフィルム化の成形条件が厳しくなるため好ましくない。   The glass transition temperature (Tg) of the blend resin composition according to the present invention is preferably 90 to 180 ° C, more preferably 100 to 165 ° C. When Tg is lower than 90 ° C., the heat resistance of the protective film is lowered, and the operating temperature range of the optical disk becomes narrow, which is not preferable. On the other hand, if it exceeds 180 ° C., for example, the molding conditions for forming an extruded film become severe, which is not preferable.

本発明のポリカーボネート系フィルムは、該ポリカーボネート樹脂組成物を流延法あるいは溶融押し出し法により容易に成形することができるが、溶媒を用いない点で溶融押し出し法が好適に実施される。溶融押出法は、押出機とTダイと鏡面磨きした複数のロールと巻き取り装置とを備えた公知のフィルム成形機を用いることが可能である。押出機あるいはTダイの温度は樹脂の溶融粘度に応じて適宜選択されるが、樹脂のTg+40℃〜200℃以内であることが好ましい。Tg+40℃未満であると充分な流動性を示さず、Tg+200℃より高いと樹脂の解重合や熱分解が起こりやすくなるため好ましくない。ロール温度は、厚みむらやはがれ不良が起きないような温度に適宜設定され、樹脂のTg±80℃以内に設定するのが好ましい。また、保護フィルムへの応力を極力小さくしリターデーション値を極力小さくするため、延伸が殆どかからず、かつフィルムがたるまないような巻き取り速度に設定するのが好ましい。   The polycarbonate film of the present invention can be easily formed by casting or melt extrusion of the polycarbonate resin composition, but the melt extrusion method is preferably carried out in that no solvent is used. In the melt extrusion method, a known film forming machine including an extruder, a T die, a plurality of mirror-polished rolls, and a winding device can be used. The temperature of the extruder or T die is appropriately selected according to the melt viscosity of the resin, but is preferably within the range of Tg + 40 ° C. to 200 ° C. of the resin. If it is less than Tg + 40 ° C., sufficient fluidity is not exhibited, and if it is higher than Tg + 200 ° C., depolymerization or thermal decomposition of the resin tends to occur. The roll temperature is suitably set to a temperature that does not cause uneven thickness or peeling, and is preferably set within Tg ± 80 ° C. of the resin. Also, in order to minimize the stress on the protective film and minimize the retardation value, it is preferable to set the winding speed so that the film is hardly stretched and the film does not sag.

本発明のポリカーボネート系フィルムの厚さは、20μm〜200μmであることが好ましく、より好ましくは40μm〜150μmである。フィルムの厚さが20μmより薄いと、透明保護層の強度が不充分になるため好ましくない。また、200μmより厚いと、加工時のハンドリングが悪くなる上、光ディスクの透明保護層が厚くなると信号の書き込みエラーおよび読み取りエラーが起こりやすくなるため好ましくない。また、押出しフィルムの厚みむらは、±10%以内であることが好ましい。   The thickness of the polycarbonate film of the present invention is preferably 20 μm to 200 μm, more preferably 40 μm to 150 μm. If the thickness of the film is less than 20 μm, the strength of the transparent protective layer becomes insufficient, which is not preferable. On the other hand, when the thickness is greater than 200 μm, handling during processing is deteriorated, and when the transparent protective layer of the optical disk is thick, signal writing errors and reading errors are liable to occur. Further, the thickness unevenness of the extruded film is preferably within ± 10%.

本発明のポリカーボネート系フィルムのリターデーション値は、−20nm〜20nmであることが好ましい。より好ましくは−15nm〜15nmである。リターデーション値が−20nm〜20nmの範囲外であると、光ディスクの書き込みエラーおよび読み取りエラーが起こりやすくなるため好ましくない。また、フィルム内部でのリターデーション値のバラツキは±5nm以内であることが望ましい。   The retardation value of the polycarbonate film of the present invention is preferably -20 nm to 20 nm. More preferably, it is −15 nm to 15 nm. When the retardation value is outside the range of −20 nm to 20 nm, it is not preferable because writing errors and reading errors of the optical disk are likely to occur. Moreover, it is desirable that the variation of the retardation value inside the film is within ± 5 nm.

本発明のポリカーボネート系フィルムは、光線が透過するので、ダスト量は、従来のCDやDVDに用いられるビスフェノールAからなるポリカーボネート樹脂と同様に高度に精製された低ダスト品であることが望ましい。具体的には、直径50μm以上のダストが実質的に検出されず、直径0.5μm〜50μmのダストが3×104以下であることが望ましい。また、製品の耐久性、耐候性あるいは耐加水分解性の面から、無機および有機残存塩素が2ppm以下、残存水酸基が1000ppm以下、残存窒素が5ppm以下、残存モノマーが100ppm以下等の基準を可能な限り満たしていることが好ましい。 Since the polycarbonate film of the present invention transmits light, it is desirable that the amount of dust is a highly purified low dust product, similar to the polycarbonate resin made of bisphenol A used in conventional CDs and DVDs. Specifically, it is desirable that dust having a diameter of 50 μm or more is not substantially detected, and dust having a diameter of 0.5 μm to 50 μm is 3 × 10 4 or less. In addition, from the viewpoint of product durability, weather resistance, or hydrolysis resistance, it is possible to make criteria such as 2 ppm or less of residual inorganic and organic chlorine, 1000 ppm or less of residual hydroxyl group, 5 ppm or less of residual nitrogen, and 100 ppm or less of residual monomer. It is preferable to satisfy as much as possible.

本発明のポリカーボネート系フィルムは、青色レーザーの波長域390nm〜420nmでの光線透過率は高い程良く、好ましくは70%以上、より好ましくは85%以上である。   The polycarbonate film of the present invention has a higher light transmittance in the wavelength range of 390 nm to 420 nm of the blue laser, preferably 70% or more, more preferably 85% or more.

本発明のポリカーボネート系フィルムを情報信号部を付与した基板上に貼り合わせることによって光ディスクが形成される。貼り合わせには、透明度が高く、経時的に着色しにくく、耐熱性に優れた接着剤を用いるのが好ましく、具体的にはアクリル系、エポキシ系あるいはウレタン系の接着剤が好適に使用される。   An optical disk is formed by laminating the polycarbonate film of the present invention on a substrate provided with an information signal portion. For the bonding, it is preferable to use an adhesive that is highly transparent, hardly colored over time, and excellent in heat resistance, and specifically, an acrylic, epoxy, or urethane adhesive is preferably used. .

以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。なお、実施例中の測定値は以下の方法あるいは装置を用いて測定した。   EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the measured value in an Example was measured using the following method or apparatus.

[物性の測定方法]
1)ポリスチレン換算重量平均分子量(Mw):GPCを用い、クロロホルムを展開溶媒として、既知の分子量(分子量分布=1)の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、GPCのリテンションタイムから算出した。
2)ガラス転移温度(Tg):示差熱走査熱量分析計(DSC)により測定した。
3)レターデーション値:エリプソメーター(溝尻光学所製ELP−200ADT)を用い、測定波長632.8nmで測定した。
[Measurement method of physical properties]
1) Polystyrene-converted weight average molecular weight (Mw): A calibration curve was prepared using standard polystyrene having a known molecular weight (molecular weight distribution = 1) using GPC and chloroform as a developing solvent. Based on this calibration curve, it was calculated from the retention time of GPC.
2) Glass transition temperature (Tg): measured by a differential thermal scanning calorimeter (DSC).
3) Retardation value: Measured at a measurement wavelength of 632.8 nm using an ellipsometer (ELP-200ADT manufactured by Mizoji Optics).

実施例1
9,9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)フルオレン10.11kg(23.05モル)、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノール4.524kg(23.05モル)、ジフェニルカーボネート10.22kg(47.71モル)、および炭酸水素ナトリウム0.01981g(2.358×10-4モル)を攪拌機および留出装置付きの50リットル反応器に入れ、窒素雰囲気760Torrの下1時間かけて215℃に加熱し撹拌した。
その後、15分かけて減圧度を150Torrに調整し、215℃、150Torrの条件下で20分間保持しエステル交換反応を行った。さらに37.5℃/hrの速度で240℃まで昇温し、240℃、150Torrで10分間保持した。その後、10分かけて120Torrに調整し、240℃、120Torrで70分間保持した。その後、10分かけて100Torrに調整し、240℃、100Torrで10分間保持した。更に40分かけて1Torr以下とし、240℃、1Torr以下の条件下で20分間撹拌下重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み加圧にし、生成したポリカーボネート樹脂をペレタイズしながら抜き出した。得られたポリカーボネート樹脂のMw=92,800、Tg=131℃であった。このポリカーボネート樹脂10.0kgを100℃で24時間真空乾燥し、亜リン酸ジエチルを樹脂中の炭酸水素ナトリウムの10倍モル、グリセリンモノステアレートを樹脂に対して300ppmを添加して押出機により260℃で混練してペレタイズしペレットを得た。このペレットのMw=92,100であった。
該ポリカーボネート樹脂1.5kgとビスフェノールAからなるポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ユーピロンS−3000)4.5kgとを260℃に設定した押出機中で混練しペレタイズしてペレットを得た。得られた樹脂組成物は透明であり、Tg=144℃と1つの変曲点しか観察されず相溶していることが確認された。該樹脂組成物をシリンダー220℃、ダイ温度220℃の下に押出しフィルム成形し、幅26cm、膜厚150μm±5μmの押し出しフィルムを得た。該フィルムのリターデーション値を表1に示す。
Example 1
9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene 10.11 kg (23.05 mol), tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decandimethanol 4.524 kg (23.05) Mol), 10.22 kg (47.71 mol) of diphenyl carbonate, and 0.01981 g (2.358 × 10 −4 mol) of sodium bicarbonate were put into a 50 liter reactor equipped with a stirrer and a distiller, and a nitrogen atmosphere of 760 Torr. The mixture was heated to 215 ° C. over 1 hour and stirred.
Thereafter, the degree of vacuum was adjusted to 150 Torr over 15 minutes, and the transesterification reaction was carried out by maintaining for 20 minutes under the conditions of 215 ° C. and 150 Torr. Further, the temperature was raised to 240 ° C. at a rate of 37.5 ° C./hr, and maintained at 240 ° C. and 150 Torr for 10 minutes. Thereafter, the pressure was adjusted to 120 Torr over 10 minutes and maintained at 240 ° C. and 120 Torr for 70 minutes. Thereafter, the pressure was adjusted to 100 Torr over 10 minutes and held at 240 ° C. and 100 Torr for 10 minutes. The polymerization reaction was further carried out with stirring for 20 minutes under the conditions of 240 ° C. and 1 Torr or less at 40 ° C. over 1 Torr. After completion of the reaction, nitrogen was blown into the reactor to increase the pressure, and the produced polycarbonate resin was extracted while being pelletized. Mw = 92,800 of the obtained polycarbonate resin and Tg = 131 ° C. 10.0 kg of this polycarbonate resin was vacuum-dried at 100 ° C. for 24 hours, diethyl phosphite was added 10 times mol of sodium bicarbonate in the resin, and 300 ppm of glycerin monostearate was added to the resin, and 260 times by an extruder. The mixture was kneaded at 0 ° C. and pelletized to obtain pellets. The Mw of this pellet was 92,100.
The polycarbonate resin 1.5 kg and bisphenol A polycarbonate resin (Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd., trade name: Iupilon S-3000) 4.5 kg were kneaded and pelletized in an extruder set at 260 ° C. Pellets were obtained. The obtained resin composition was transparent, and it was confirmed that Tg = 144 ° C. and only one inflection point was observed and they were compatible. The resin composition was extruded and molded under a cylinder of 220 ° C. and a die temperature of 220 ° C. to obtain an extruded film having a width of 26 cm and a film thickness of 150 μm ± 5 μm. The retardation value of the film is shown in Table 1.

実施例2
実施例1において合成されたポリカーボネート樹脂を3kg、ビスフェノールAからなるポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ユーピロンS−3000)を3kg用いた以外は実施例1と同様な操作を行い、Tg=139℃の透明ブレンドペレットから幅26cm、膜厚150μm±5μの押出しフィルムを得た。該フィルムのリターデーション値を表1に示す。
Example 2
The same operation as in Example 1 was performed except that 3 kg of the polycarbonate resin synthesized in Example 1 and 3 kg of polycarbonate resin composed of bisphenol A (Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd., trade name: Iupilon S-3000) were used. Then, an extruded film having a width of 26 cm and a film thickness of 150 μm ± 5 μm was obtained from the transparent blend pellet of Tg = 139 ° C. The retardation values of the film are shown in Table 1.

実施例3
実施例1において合成されたポリカーボネート樹脂を4.2kg及びビスフェノールAからなるポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ユーピロンS−3000)を1.8kg用いた以外は実施例1と同様な操作を行い、Tg=136℃の透明ブレンドペレットから幅26cm、膜厚150μ±5μ押し出しフィルムを得た。該フィルムのリターデーション値を表1に示す。
Example 3
Example 1 except that 4.2 kg of the polycarbonate resin synthesized in Example 1 and 1.8 kg of polycarbonate resin made of bisphenol A (Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd., trade name: Iupilon S-3000) were used. The same operation was performed to obtain an extruded film having a width of 26 cm and a film thickness of 150 μ ± 5 μm from a transparent blend pellet having a Tg of 136 ° C. The retardation values of the film are shown in Table 1.

実施例4
実施例1において、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノールの代わりにシクロヘキサン−1,4−ジメタノール3.324kg(23.05モル)を用い、また、45分かけて減圧度を150Torrに調整した以外は実施例1と同様の操作を行った。得られたペレットはMw=90,000、Tg=120℃であった。実施例1と同様の添加剤を添加後のペレットのMw=89,400であった。該ポリカーボネート樹脂ペレット3kgとビスフェノールAからなるポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ユーピロンS−3000)3kgとを260℃に設定した押出機中で混練し、ペレタイズしてペレットを得た。得られた樹脂組成物は透明であり、Tg=132℃と1つの変曲点しか観察されず相溶していることが確認された。該樹脂組成物をシリンダー210℃、ダイ温度210℃の下に押出しフィルム成形し、幅26cm、膜厚150μm±5μmの押し出しフィルムを得た。該フィルムのリターデーション値を表1に示す。
Example 4
In Example 1, 3.324 kg (23.05 mol) of cyclohexane-1,4-dimethanol was used in place of tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane dimethanol, and over 45 minutes. The same operation as in Example 1 was performed except that the degree of vacuum was adjusted to 150 Torr. The obtained pellets had Mw = 90,000 and Tg = 120 ° C. Mw of the pellet after adding the same additive as in Example 1 was 89,400. 3 kg of the polycarbonate resin pellets and 3 kg of polycarbonate resin made of bisphenol A (trade name: Iupilon S-3000, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd.) are kneaded in an extruder set at 260 ° C., pelletized by pelletizing. Obtained. The obtained resin composition was transparent, and it was confirmed that Tg = 132 ° C. and only one inflection point was observed and they were compatible. The resin composition was extruded and molded under a cylinder of 210 ° C. and a die temperature of 210 ° C. to obtain an extruded film having a width of 26 cm and a film thickness of 150 μm ± 5 μm. The retardation values of the film are shown in Table 1.

比較例1
実施例1のポリカーボネート樹脂組成物の代わりに、ビスフェノールAからなるポリカーボネート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ユーピロンS−3000)を用いて押出し成形し、幅26cm、膜厚150μm±5μmの押し出しフィルムを得た。該フィルムのリターデーション値を表1に示す。
Comparative Example 1
Instead of the polycarbonate resin composition of Example 1, it was extruded using a polycarbonate resin made of bisphenol A (Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd., trade name: Iupilon S-3000), width 26 cm, film thickness 150 μm ± An extruded film of 5 μm was obtained. The retardation values of the film are shown in Table 1.

比較例2
実施例1において、9,9−ビス(4−(2−ヒロドキシエトキシ)フェニル)フルオレン5.057kg(11.53モル)、ビスフェノールA7.892kg(34.57モル)、ジフェニールカーボネート10.47kg(48.87モル)、および炭酸水素ナトリウム0.01981g(2.358×10-4モル)を反応器に入れ、更に、240℃、1Torr以下の条件で40分間攪拌下重合反応を行った以外は実施例1と同様な操作を行った。得られたペレットはMw=64,800、Tg=154℃であった。実施例1と同様の添加剤を添加後のペレットのMw=63,500であった。該ポリカーボネート樹脂をシリンダー温度240℃の下に押出しフィルム成形し、幅26cm、膜厚150μm±5μmの押出しフィルムを得た。該フィルムのリターデーション値を表1に示す。
Comparative Example 2
In Example 1, 5.057 kg (11.53 mol) of 9,9-bis (4- (2-hydroxyethoxy) phenyl) fluorene, 7.892 kg (34.57 mol) of bisphenol A, diphenyl carbonate 10. 47 kg (48.87 mol) and 0.01981 g (2.358 × 10 −4 mol) of sodium hydrogen carbonate were placed in the reactor, and the polymerization reaction was further carried out under stirring at 240 ° C. and 1 Torr or less for 40 minutes. Except that, the same operation as in Example 1 was performed. The obtained pellets had Mw = 64,800 and Tg = 154 ° C. Mw of the pellet after adding the same additive as in Example 1 was 63,500. The polycarbonate resin was extruded and molded at a cylinder temperature of 240 ° C. to obtain an extruded film having a width of 26 cm and a film thickness of 150 μm ± 5 μm. The retardation values of the film are shown in Table 1.

Claims (6)

基板上に形成された情報信号部を有する光線が透過することのない基板の上層に形成された光透過性の保護層に使用されるものであって、一般式(1)で表されるジヒドロキシ化合物95〜5モル%と、一般式(2)で表されるジヒドロキシ化合物5〜95モル%とを炭酸ジエステル等によりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂(A)と、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを炭酸ジエステルもしくはホスゲンによりカーボネート結合させてなるポリカーボネート樹脂(B)とを、(100×(A))/((A)+(B))=1〜99重量%となるような比率でブレンドして得られるポリカーボネート樹脂組成物からなることを特徴とする光ディスクの透明保護層用フィルム。
(式中、R1、R2は水素原子またはメチル基である。)
(式中、Xは、炭素数1〜10のアルキレン基または炭素数4〜20のシクロアルキレン基である。)
A dihydroxy compound represented by the general formula (1) is used for a light-transmitting protective layer formed on an upper layer of a substrate that does not transmit light having an information signal portion formed on the substrate. A polycarbonate resin (A) obtained by carbonate bonding of 95 to 5 mol% of a compound and 5 to 95 mol% of a dihydroxy compound represented by the general formula (2) with a carbonic acid diester or the like, and 2,2-bis (4- (100 × (A)) / ((A) + (B)) = 1 to 99% by weight of a polycarbonate resin (B) obtained by carbonate bonding of hydroxyphenyl) propane with carbonic acid diester or phosgene A film for a transparent protective layer of an optical disk, comprising a polycarbonate resin composition obtained by blending at a ratio.
(In the formula, R 1 and R 2 are a hydrogen atom or a methyl group.)
(In the formula, X is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or a cycloalkylene group having 4 to 20 carbon atoms.)
一般式(2)で表される化合物がトリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノール、シクロヘキサン−1,4−ジメタノールあるいはペンタシクロペンタデカンジメタノールから選択される少なくとも1種からなることを特徴とする請求項1記載の光ディスクの透明保護層用フィルム。 The compound represented by the general formula (2) is at least one selected from tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane dimethanol, cyclohexane-1,4-dimethanol or pentacyclopentadecane dimethanol. The transparent protective layer film for an optical disk according to claim 1, wherein 一般式(1)中、R1が水素原子である請求項1又は2記載の光ディスクの透明保護層用フィルム。 The film for transparent protective layers of an optical disk according to claim 1 or 2, wherein R 1 in formula (1) is a hydrogen atom. 一般式(1)中、R1およびR2が水素原子である請求項1又は2記載の光ディスクの透明保護層用フィルム。 The film for transparent protective layer of an optical disk according to claim 1, wherein R 1 and R 2 in formula (1) are hydrogen atoms. 溶融押出法により形成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか記載の光ディスクの透明保護層用フィルムの製造方法。 The method for producing a film for a transparent protective layer of an optical disk according to any one of claims 1 to 4, wherein the film is formed by a melt extrusion method. 厚さが20μm〜200μm、リターデーション値が−20nm〜20nmであることを特徴とする請求項1〜のいずれか記載の光ディスクの透明保護層用フィルム。 The film for a transparent protective layer of an optical disk according to any one of claims 1 to 4 , wherein the film has a thickness of 20 µm to 200 µm and a retardation value of -20 nm to 20 nm.
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