JP4572960B2 - Anisotropic conductive adhesive film for circuit connection, circuit terminal connection method and circuit terminal connection structure using the same - Google Patents

Anisotropic conductive adhesive film for circuit connection, circuit terminal connection method and circuit terminal connection structure using the same Download PDF

Info

Publication number
JP4572960B2
JP4572960B2 JP2008163711A JP2008163711A JP4572960B2 JP 4572960 B2 JP4572960 B2 JP 4572960B2 JP 2008163711 A JP2008163711 A JP 2008163711A JP 2008163711 A JP2008163711 A JP 2008163711A JP 4572960 B2 JP4572960 B2 JP 4572960B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
connection
circuit
adhesive film
terminal
connection terminal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008163711A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2008311667A (en
JP2008311667A5 (en
Inventor
潤 竹田津
伊津夫 渡辺
泰史 後藤
正規 藤井
綾 浅見
悟 大田
和也 佐藤
正己 湯佐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2008163711A priority Critical patent/JP4572960B2/en
Publication of JP2008311667A publication Critical patent/JP2008311667A/en
Publication of JP2008311667A5 publication Critical patent/JP2008311667A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4572960B2 publication Critical patent/JP4572960B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

本発明は、回路接続用異方導電性接着剤フィルム、それを用いた回路端子の接続方法及びその接続構造体に関し、特にCHIP ON GLASS実装(以下COG実装と称す)またはCHIP ON FILM(以下COF実装と称す)における回路端子の接続方法及び回路端子の接続構造体に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an anisotropic conductive adhesive film for circuit connection, a method of connecting a circuit terminal using the same, and a connection structure thereof, and in particular, CHIP ON GLASS mounting (hereinafter referred to as COG mounting) or CHIP ON FILM (hereinafter referred to as COF). The present invention relates to a circuit terminal connection method and a circuit terminal connection structure.

液晶表示用ガラスパネルへの液晶駆動用ICの実装は,液晶駆動用ICを直接ガラスパネル上に回路接続部材で接合するCOG実装方法や、液晶駆動用ICを、金属配線を有するフレキシブルテープに接合しガラスパネルと回路接続部材で接合するCOF実装方法が用いられる。液晶表示の高精細化に伴い、液晶駆動用ICの電極である金バンプは狭ピッチ化,狭面積化している。このため、接合材料中の導電粒子が隣接電極間に流出し、ショートを発生させるといった問題や、バンプ上に捕捉される接合材料中の導電粒子数が減少し、その結果回路間の接続抵抗が上昇し接続不良を起こすといった問題がある。そこで、これらの問題を解決するため、接合材料の少なくとも片面に絶縁性の接着層を形成することで、COG実装及びCOF実装における接合品質の低下を防ぐ方法(例えば、特許文献1)や、導電粒子の表面を電気的絶縁性の皮膜で被覆する方法(例えば、特許文献2)が提案されている。
特開平8−279371号公報 特許第2794009号公報
The liquid crystal driving IC is mounted on the glass panel for liquid crystal display by a COG mounting method in which the liquid crystal driving IC is directly bonded to the glass panel with a circuit connecting member, or the liquid crystal driving IC is bonded to a flexible tape having metal wiring. A COF mounting method in which the glass glass panel and the circuit connecting member are joined is used. Along with the high definition of the liquid crystal display, the gold bumps, which are electrodes of the liquid crystal driving IC, are becoming narrower in pitch and area. As a result, the conductive particles in the bonding material flow out between adjacent electrodes, causing a short circuit, and the number of conductive particles in the bonding material captured on the bumps is reduced. As a result, the connection resistance between the circuits is reduced. There is a problem of rising and causing poor connection. In order to solve these problems, an insulating adhesive layer is formed on at least one surface of the bonding material to prevent deterioration in bonding quality in COG mounting and COF mounting (for example, Patent Document 1), A method (for example, Patent Document 2) in which the surface of the particle is coated with an electrically insulating film has been proposed.
JP-A-8-279371 Japanese Patent No. 2779409

しかしながら、片面に絶縁性の接着層を形成する方法では、バンプ面積が3000μm未満となった場合、安定した接続抵抗値を得るために粒子の充填量を増やすと、隣接回路間でのショート発生率が上昇し、絶縁不良が発生するという問題があった。また、導電粒子の表面を電気的絶縁性の皮膜で被覆する方法では、接続抵抗値が上昇し、安定した電気抵抗が得られないという問題があった。本発明は、COG実装やCOF実装に対して低抵抗の電気接続が得られ、かつ隣接電極間でショート発生のない電気・電子用の回路接続用異方導電性接着剤フィルム、それを用いた回路端子の接続方法及び回路端子の接続構造体を提供するものである。 However, in the method of forming an insulating adhesive layer on one side, when the bump area is less than 3000 μm 2 , if the particle filling amount is increased in order to obtain a stable connection resistance value, a short circuit occurs between adjacent circuits. There was a problem that the rate increased and insulation failure occurred. Further, the method of coating the surface of the conductive particles with an electrically insulating film has a problem that the connection resistance value increases and a stable electric resistance cannot be obtained. The present invention provides an anisotropic conductive adhesive film for electrical / electronic circuit connection, which has low resistance electrical connection to COG mounting and COF mounting, and does not cause a short circuit between adjacent electrodes. A circuit terminal connection method and a circuit terminal connection structure are provided.

本発明の回路接続用異方導電性接着剤フィルムは、相対峙する回路電極間に介在され、相対向する回路電極を加熱加圧し、加圧方向の電極間を電気的に接続する接着剤組成物からなる接着剤層を有する接着剤フィルムであって、[1](1)加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤、(2)第1及び第2のラジカル重合性物質、(3)フィルム形成材、(4)表面が水溶性高分子を含有する有機高分子化合物で被覆された導電粒子を必須成分として含有する接着剤組成物からなる第1の接着剤層と、(1)硬化剤、(2)第1及び第2のラジカル重合性物質、(3)フィルム形成材を含有し、導電粒子を含有しない接着剤組成物kらなる第2の接着剤層とからなる2層構成を有する。そして、水及びジヨードメタンを用いて23℃で測定される、第1の接着剤層の表面における表面張力の極性成分(γsv,p)が、3.0〜4.0dyne/cmである。接着材組成物表面の表面張力の極性成分(γsv,p)が1未満では、接着剤の、電極と導電粒子との間からの排除性が悪く、良好な電気的接続が得られない場合があり、6を超えるとPET(ポリエチレンテレフタレート)等の塗工基材(セパレータ)から接着剤が剥離せず、生産性が低下してしまい好ましくない。本発明に用いる導電粒子は、表面が、金、銀、白金族の金属から選ばれる少なくとも一種で構成され、さらにその金属表面を有機高分子化合物で被覆されている。有機高分子化合物は水溶性であると被覆作業性が良好で好ましい。本発明の接着剤フィルムは、導電粒子を含有する層とその他の層とに分離した多層構成とすることができ、この時、導電粒子を含有する第1の接着層の厚みは、導電粒子の粒径の3倍未満であるのが好ましく,2倍未満がより好ましい。導電粒子を含有する第1の接着層の厚みが3倍以上の場合、導電粒子が隣接電極間に流出する量が多くなり、絶縁性が低下するので好ましくない。 The anisotropic conductive adhesive film for circuit connection of the present invention is an adhesive composition that is interposed between circuit electrodes facing each other, heats and presses opposite circuit electrodes, and electrically connects the electrodes in the pressing direction. an adhesive film having an adhesive layer made of an object, [1] (1) a curing agent that generates free radicals upon heating, (2) first and second radically polymerizable substance, (3) film formation A material, (4) a first adhesive layer comprising an adhesive composition containing, as an essential component, conductive particles whose surfaces are coated with an organic polymer compound containing a water-soluble polymer , (1) a curing agent, (2) The first and second radical polymerizable substances, and (3) a two-layer structure comprising a second adhesive layer made of an adhesive composition k containing a film forming material and not containing conductive particles. . Then, measured at 23 ° C. using water and diiodomethane, polar component surface tension at the surface of the first adhesive layer (γsv, p) is Ru 3.0~4.0dyne / cm der. If the polar component (γsv, p) of the surface tension of the adhesive composition surface is less than 1, the adhesive may be poorly excluded from between the electrode and the conductive particles, and good electrical connection may not be obtained. If it exceeds 6, the adhesive is not peeled off from the coated substrate (separator) such as PET (polyethylene terephthalate), and the productivity is lowered, which is not preferable. The conductive particles used in the present invention have a surface composed of at least one selected from gold, silver, and platinum group metals, and the metal surface is coated with an organic polymer compound. It is preferable that the organic polymer compound is water-soluble because the coating workability is good. The adhesive film of the present invention, conductive particles may be a multi-layer structure separated into a layer and other layers containing, this time, the thickness of the first adhesive layer containing the conductive particles, conductive particles The particle size is preferably less than 3 times, more preferably less than 2 times. If the thickness of the first adhesive layer containing the conductive particles is more than 3 times, the amount of the conductive particles flow out between adjacent electrodes increases, the insulating property is lowered undesirably.

発明回路接続用異方導電性接着剤フィルムは、リン酸エステル構造を有する第2のラジカル重合性物質を含有する。また、本発明の回路接続用異方導電性接着剤フィルムは、フィルム形成材がフェノキシ樹脂を含有する。また、本発明は、[]フェノキシ樹脂が、分子内に多環芳香族化合物に起因する分子構造を有する上記[]に記載の回路接続用異方導電性接着剤フィルムである。また、本発明は、[]多環芳香族化合物に起因する分子構造が、フルオレン環である上記[]に記載の回路接続用異方導電性接着剤フィルムである。 Anisotropically conductive adhesive film for circuit connection of the invention, that the second radical-polymerizable substance having a phosphoric ester structure Yusuke free. In the anisotropic conductive adhesive film for circuit connection of the present invention, the film forming material contains a phenoxy resin . Moreover, this invention is an anisotropic conductive adhesive film for circuit connection as described in said [ 1 ] in which a [ 2 ] phenoxy resin has the molecular structure resulting from a polycyclic aromatic compound in a molecule | numerator. Moreover, this invention is an anisotropic conductive adhesive film for circuit connection as described in said [ 2 ] whose molecular structure resulting from a [ 3 ] polycyclic aromatic compound is a fluorene ring.

本発明は、[]第一の接続端子を有する第一の回路部材と、第二の接続端子を有する第二の回路部材とを、第一の接続端子と第二の接続端子を対向して配置し、前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子の間に上記[1]ないし上記[3]のいずれかに記載の回路接続用異方導電性接着剤フィルムを介在させ、加熱加圧して前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子を電気的に接続させる回路端子の接続方法である。また、本発明は、[]上記[]に記載の回路端子の接続方法により得られる回路接続構造体であって、回路端子に直流50V印加した際に隣接電極間の絶縁抵抗が10Ω以上である回路接続構造体である。また、本発明は、[]少なくとも一方の接続端子を有する回路部材が、ICチップである上記[]に記載の回路接続構造体である。また、本発明は、[]ICチップの接続端子と、第二の回路部材上との接続端子間の接続抵抗が、1Ω以下である上記[]または上記[]に記載の回路接続構造体である。また、本発明は、[]少なくとも一方の接続端子の表面が金、銀、錫、白金族の金属、インジユウム−錫酸化物(ITO)から選ばれる少なくとも一種で構成される上記[]ないし上記[]のいずれかに記載の回路接続構造体である。また、本発明は、[]少なくとも一方の回路部材表面が窒化シリコン、シリコーン化合物、ポリイミド樹脂から選ばれる少なくとも一種でコーティングまたは付着されている上記[]ないし上記[]のいずれかに記載の回路接続構造体である。 The present invention provides [ 4 ] a first circuit member having a first connection terminal and a second circuit member having a second connection terminal, the first connection terminal and the second connection terminal being opposed to each other. The anisotropic conductive adhesive film for circuit connection according to any one of the above [1] to [ 3] is interposed between the first connection terminal and the second connection terminal that are arranged opposite to each other. A method of connecting circuit terminals in which the first connection terminal and the second connection terminal which are arranged to face each other by heating and pressing are electrically connected. The present invention also provides a circuit connection structure obtained by the circuit terminal connection method described in [ 5 ] above [ 4 ], wherein the insulation resistance between adjacent electrodes is 10 9 when a DC voltage of 50 V is applied to the circuit terminal. The circuit connection structure is Ω or more. Moreover, this invention is a circuit connection structure as described in said [ 5 ] whose circuit member which has [ 6 ] at least one connection terminal is an IC chip. [ 7 ] The circuit connection according to [ 5 ] or [ 6 ], wherein the connection resistance between the connection terminal of the [ 7 ] IC chip and the connection terminal on the second circuit member is 1Ω or less. It is a structure. The present invention also provides [ 8 ] above [ 5 ] or [ 5 ], wherein the surface of at least one of the connection terminals is composed of at least one selected from gold, silver, tin, platinum group metals, and indium-tin oxide (ITO). The circuit connection structure according to any one of [ 7 ] above. Further, the present invention is claimed in any one of [9] At least one of the circuit member surface silicon nitride, a silicone compound, at least one coated or deposited by which the selected polyimide resin [5] to [8] above This is a circuit connection structure.

本発明によれば、COG実装やCOF実装において、バンプ間距離の狭い駆動用ICであっても、低抵抗かつ隣接電極間では絶縁性の高い電気接続が得られ、高信頼性の、電気・電子用接着剤フィルムの提供が可能となる。 According to the present invention, even in a driving IC with a short distance between bumps in COG mounting or COF mounting, an electrical connection with low resistance and high insulation can be obtained between adjacent electrodes. An electronic adhesive film can be provided.

日本接着学会誌(26巻、No.1(1990)p39〜48、井本稔)「表面張力を成分に分けることについて」によれば、数(1)、(2)で示すYoung−Dupre式がある。   According to the Journal of the Adhesion Society of Japan (Vol. 26, No. 1 (1990) p39-48, Satoshi Imoto) “About dividing surface tension into components”, the Young-Dupre equation represented by the numbers (1) and (2) is is there.

Figure 0004572960
Figure 0004572960

数(1)のγsvを数(2)に入れて整理すると数(3)が得られる。Fowkesに従えば、極性基を有する材料に対して数(4)があり、これを数(2)に代入すると数(5)が得られる。数(5)と数(3)より数(6)が得られる。ここで、例えば,水(HO)、ジメチルヨードメタン等の液体を2種類用意し、それぞれの表面張力γLVと分散成分(γLV,d)と極性成分(γLV,p)(数(7)、(8))を数(6)に代入し、数(9)と数(10)を得て、これの連立方程式を解き、固体(フィルム)の極性成分(γsv、p)を算出する。本発明では、この表面張力の極性成分(γsv,p)を、3.0〜4.0dyne/cmとする。上記したように、接着材組成物表面の表面張力の極性成分(γsv,p)が1未満では、接着剤の、電極と導電粒子との間からの排除性が悪く、良好な電気的接続が得られない場合があり、6を超えるとPET(ポリエチレンテレフタレート)等の塗工基材(セパレータ)から接着剤が剥離せず、生産性が低下してしまい好ましくない。 When γsv of number (1) is put into number (2) and rearranged, number (3) is obtained. According to Fowkes, there is a number (4) for a material having a polar group, and substituting this into the number (2) yields the number (5). The number (6) is obtained from the number (5) and the number (3). Here, for example, two kinds of liquids such as water (H 2 O) and dimethyliodomethane are prepared, and each surface tension γLV, dispersion component (γLV, d), and polar component (γLV, p) (number (7)) , (8)) is substituted into the number (6), the numbers (9) and (10) are obtained, the simultaneous equations are solved, and the polar component (γsv, p) of the solid (film) is calculated. In the present invention, the polar component (γsv, p) of the surface tension is set to 3.0 to 4.0 dyne / cm. As described above, when the polar component (γsv, p) of the surface tension of the adhesive composition surface is less than 1, the adhesive is poorly excluded from between the electrode and the conductive particles, and good electrical connection is obtained. If it exceeds 6, the adhesive does not peel off from the coated substrate (separator) such as PET (polyethylene terephthalate), and the productivity is lowered, which is not preferable.

本発明で使用するフィルム形成材としては、フェノキシ樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、キシレン樹脂、ポリウレタン樹脂等が拳げられる。フィルム形成材は、液状物を固形化し、構成組成物をフィルム形状とした場合に、そのフィルムの取り扱いが容易で、容易に裂けたり、割れたり、ベたついたりしない機械特性等を付与するものであり、通常の状態でフィルムとしての取り扱いができるものである。フィルム形成材の中でも接着性、相溶性、耐熱性、機械強度に優れることからフェノキシ樹脂が好ましい。フェノキシ樹脂は2官能フェノール類とエピハロヒドリンを高分子量まで反応させるか、又は2官能エポキシ樹脂と2官能フェノール類を重付加させることにより得られる樹脂である。具体的には、2官能フェノール類1モルとエピハロヒドリン0.985〜1.015とをアルカリ金属水酸化物の存在下で非反応性溶媒中で40〜120℃の温度で反応させることにより得ることができる。また、樹脂の機械的特性や熱的特性の点からは、特に2官能性エポキシ樹脂と2官能性フェノール類の配合等量比をエポキシ基/フェノール水酸基=1/0.9〜1/1.1としアルカリ金属化合物、有機リン系化合物、環状アミン系化合物等の触媒の存在下で沸点が120℃以上のアミド系、エーテル系、ケトン系、ラクトン系、アルコール系等の有機溶剤中で反応固形分が50重量部以下で50〜200℃に加熱して重付加反応させて得たものが好ましい。2官能エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂などがある。2官能フェノール類は2個のフェノール性水酸基を持つもので、例えば、ハイドロキノン類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS等のビスフェノール類などが挙げられる。フェノキシ樹脂はラジカル重合性の官能基により変性されていてもよい。本発明で使用するフェノキシ樹脂は、その分子内に多環芳香族化合物に起因する分子構造を有することが好ましい。例えばナフタレン、ビフェニル、アセナフテン、フルオレン、ジベンゾフラン、アントラセン、フェナンスレン等のジヒドロキシ化合物であり、特に好ましくは9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンである。このフェノキシ樹脂もラジカル重合性の官能基により変性されていてもよく、フェノキシ樹脂は、単独で用いても、2種類以上を混合して用いてもよい。   Examples of the film forming material used in the present invention include phenoxy resin, polyvinyl formal resin, polystyrene resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, polyamide resin, xylene resin, polyurethane resin and the like. A film-forming material is a material that solidifies a liquid material and forms a constituent composition into a film shape, so that the film is easy to handle and imparts mechanical properties that are not easily torn, cracked, or sticky. It can be handled as a film in a normal state. Among the film forming materials, a phenoxy resin is preferable because it is excellent in adhesiveness, compatibility, heat resistance, and mechanical strength. The phenoxy resin is a resin obtained by reacting a bifunctional phenol and epihalohydrin to a high molecular weight or by polyaddition of a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol. Specifically, it is obtained by reacting 1 mol of a bifunctional phenol and epihalohydrin 0.985 to 1.015 in a non-reactive solvent at a temperature of 40 to 120 ° C. in the presence of an alkali metal hydroxide. Can do. Further, from the viewpoint of the mechanical properties and thermal properties of the resin, the blending equivalence ratio of the bifunctional epoxy resin and the bifunctional phenols is particularly determined as epoxy group / phenol hydroxyl group = 1 / 0.9 to 1/1. 1 in the presence of a catalyst such as an alkali metal compound, organic phosphorus compound, cyclic amine compound, etc. in an amide, ether, ketone, lactone, alcohol or other organic solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher. What is obtained by heating to 50 to 200 ° C. and subjecting it to a polyaddition reaction with a content of 50 parts by weight or less is preferred. Examples of the bifunctional epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, and bisphenol S type epoxy resin. Bifunctional phenols have two phenolic hydroxyl groups, and examples include hydroquinones, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, and bisphenol S. The phenoxy resin may be modified with a radical polymerizable functional group. The phenoxy resin used in the present invention preferably has a molecular structure resulting from a polycyclic aromatic compound in the molecule. Examples thereof include dihydroxy compounds such as naphthalene, biphenyl, acenaphthene, fluorene, dibenzofuran, anthracene and phenanthrene, and 9,9'-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene is particularly preferable. This phenoxy resin may also be modified with a radical polymerizable functional group, and the phenoxy resin may be used alone or in combination of two or more.

本発明で使用する加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤としては、過酸化化合物、アゾ系化合物などの加熱により分解して遊離ラジカルを発生するものであり、目的とする接続温度、接続時間、ポットライフ等により適宜選定されるが、高反応性とポットライフの点から、半減期10時間の温度が40℃以上、かつ、半減期1分の温度が180℃以下の有機過酸化物が好ましく、半減期10時間の温度が60℃以上、かつ、半減期1分の温度が170℃以下の有機過酸化物がより好ましい。接続時間を10秒以下とした場合、硬化剤の配合量は十分な反応率を得るためにラジカル重合性物質とフィルム形成材の合計100重量部に対して、0.1〜30重量部とするのが好ましく1〜20重量部がより好ましい。硬化剤の配合量が0.1重量部未満では、十分な反応率を得ることができず良好な接着強度や小さな接続抵抗が得られにくくなる傾向にある。配合量が30重量部を超えると、接着剤組成物の流動性が低下したり、接続抵抗が上昇したり、接着剤組成物のポットライフが短くなる傾向にある。   Curing agents that generate free radicals upon heating used in the present invention are those that decompose upon heating of peroxide compounds, azo compounds, etc. to generate free radicals, and the intended connection temperature, connection time, pot Although it is appropriately selected depending on the life and the like, from the viewpoint of high reactivity and pot life, an organic peroxide having a half life of 10 hours at a temperature of 40 ° C. or more and a half life of 1 minute at a temperature of 180 ° C. or less is preferable, An organic peroxide having a half-life of 10 hours at a temperature of 60 ° C. or more and a half-life of 1 minute at a temperature of 170 ° C. or less is more preferable. When the connection time is 10 seconds or less, the blending amount of the curing agent is 0.1 to 30 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the radical polymerizable substance and the film forming material in order to obtain a sufficient reaction rate. 1 to 20 parts by weight is more preferable. When the blending amount of the curing agent is less than 0.1 parts by weight, a sufficient reaction rate cannot be obtained, and good adhesive strength and small connection resistance tend to be difficult to obtain. When the blending amount exceeds 30 parts by weight, the fluidity of the adhesive composition is lowered, the connection resistance is increased, or the pot life of the adhesive composition tends to be shortened.

硬化剤は、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドなどから選定できる。また、回路部材の接続端子の腐食を押さえるために、硬化剤中に含有される塩素イオンや有機酸は5000ppm以下であることが好ましく、さらに、加熱分解後に発生する有機酸が少ないものがより好ましい。具体的には、パーオキシエステル、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドから選定され、高反応性が得られるパーオキシエステルから選定されることがより好ましい。上記硬化剤は、適宜混合して用いることができる。   The curing agent can be selected from diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxyester, peroxyketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide, silyl peroxide, and the like. Further, in order to suppress corrosion of the connection terminals of the circuit member, the chlorine ions and organic acids contained in the curing agent are preferably 5000 ppm or less, and more preferably less organic acids generated after the thermal decomposition. . Specifically, it is more preferably selected from peroxyesters, dialkyl peroxides, hydroperoxides, silyl peroxides, and peroxyesters that provide high reactivity. The said hardening | curing agent can be mixed suitably and used.

パーオキシエステルとしては、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノデート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノネート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシアセテート等が挙げられる。   Peroxyesters include cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxynoedecanoate, and t-hexyl. Peroxyneodecanodate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2- Ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate Nate, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, -Hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanonate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluoyl par Oxy) hexane, t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, t-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, t-butyl peroxyacetate and the like.

ジアルキルパーオキサイドとしては、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド等が挙げられる。   Dialkyl peroxides include α, α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, and t-butyl. Cumyl peroxide and the like.

ハイドロパーオキサイドとしては、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。   Examples of the hydroperoxide include diisopropylbenzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide.

ジアシルパーオキサイドとしては、イソブチルパーオキサイド、2,4―ジクロロベンゾイルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシニックパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエン、ベンゾイルパーオキサイド等が挙げられる。   Diacyl peroxides include isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl Examples include peroxytoluene and benzoyl peroxide.

パーオキシジカーボネートとしては、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシメトキシパーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート等が挙げられる。   As peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethoxymethoxyperoxydicarbonate, di ( 2-ethylhexylperoxy) dicarbonate, dimethoxybutylperoxydicarbonate, di (3-methyl-3methoxybutylperoxy) dicarbonate and the like.

パーオキシケタールとしては、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1―(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)デカン等が挙げられる。   Peroxyketals include 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t- Butyl peroxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (t-butylperoxy) decane and the like.

シリルパーオキサイドとしては、t−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジメチルシリルパーオキサイド、t−ブチルトリビニルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジビニルシリルパーオキサイド、トリス(t−ブチル)ビニルシリルパーオキサイド、t−ブチルトリアリルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジアリルシリルパーオキサイド、トリス(t−ブチル)アリルシリルパーオキサイド等が挙げられる。これらの加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤は、単独又は混合して使用することができ、分解促進剤、抑制剤等を混合して用いてもよい。また、これらの硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系の高分子物質等で被覆してマイクロカプセル化したものは、可使時間が延長されるために好ましい。   Examples of silyl peroxides include t-butyltrimethylsilyl peroxide, bis (t-butyl) dimethylsilyl peroxide, t-butyltrivinylsilyl peroxide, bis (t-butyl) divinylsilyl peroxide, and tris (t-butyl). Examples thereof include vinylsilyl peroxide, t-butyltriallylsilyl peroxide, bis (t-butyl) diallylsilyl peroxide, and tris (t-butyl) allylsilyl peroxide. These curing agents that generate free radicals upon heating can be used alone or in combination, and a decomposition accelerator, an inhibitor, and the like may be used in combination. In addition, those encapsulating these curing agents with polyurethane-based or polyester-based polymeric substances and the like and microencapsulated are preferable because the pot life is extended.

本発明で使用するラジカル重合性物質としては、ラジカルにより重合する官能基を有する物質であり、アクリレート、メタクリレート、マレイミド化合物等が挙げられる。ラジカル重合性物質はモノマー、オリゴマーいずれの状態で用いることが可能であり、モノマーとオリゴマーを併用することも可能である。アクリレート(メタクリレート)の具体例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、イソブチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、2−ヒドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(アクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパン、ジシクロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリレート、トリス(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、ウレタンアクリレート等が挙げられる。これらは単独又は併用して用いることができ、必要によってはハドロキノン、メチルエーテルハイドロキノン類などの重合禁止剤を適宜用いてもよい。また、ジシクロペンテニル基及び/又はトリシクロデカニル基および/またはトリアジン環を有する場合は、耐熱性が向上するので好ましい。   The radically polymerizable substance used in the present invention is a substance having a functional group that is polymerized by radicals, and examples thereof include acrylates, methacrylates, and maleimide compounds. The radical polymerizable substance can be used in either a monomer or oligomer state, and the monomer and oligomer can be used in combination. Specific examples of the acrylate (methacrylate) include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, 2-hydroxy-1,3. -Diacryloxypropane, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl acrylate, tricyclodecanyl Examples include acrylate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, urethane acrylate, and the like. These can be used alone or in combination. If necessary, a polymerization inhibitor such as hydroquinone or methyl ether hydroquinone may be used as appropriate. Moreover, when it has a dicyclopentenyl group and / or a tricyclodecanyl group and / or a triazine ring, since heat resistance improves, it is preferable.

マレイミド化合物としては、分子中にマレイミド基を少なくとも2個以上含有するもので、例えば、1−メチル−2,4−ビスマレイミドベンゼン、N,N’−m−フェニレンビスマレイミド、N,N’−p−フェニレンビスマレイミド、N,N’−m−トルイレンビスマレイミド、N,N’−4,4−ビフェニレンビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチル−ビフェニレン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジメチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−(3,3’−ジエチルジフェニルメタン)ビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルプロパンビスマレイミド、N,N’−3,3’−ジフェニルスルホンビスマレイミド、N,N’−4,4−ジフェニルエーテルビスマレイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−s−ブチル−4,8−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)プロパン、1,1−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)デカン、4,4’−シクロヘキシリデン−ビス(1−(4−マレイミドフェノキシ)−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン等が挙げられる。これらは単独でもまた組み合わせても使用できる。また、上記のラジカル重合性物質に式1で示されるリン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質を併用すると金属等の無機物表面での接着強度が向上するので好ましい。リン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質は、無水リン酸と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの反応物として得られる。具体的には、モノ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッドフォスフェート、ジ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッドフォスフェート等がある。これらは単独でもまた組み合わせても使用できる。   The maleimide compound contains at least two maleimide groups in the molecule. For example, 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, N, N′-m-phenylenebismaleimide, N, N′— p-phenylene bismaleimide, N, N′-m-toluylene bismaleimide, N, N′-4,4-biphenylene bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3′-dimethyl-biphenylene) Bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3′-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′-4,4- (3,3′-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N′- 4,4-diphenylmethane bismaleimide, N, N′-4,4-diphenylpropane bismaleimide, N, N′-3,3′-diphenylsulfone bismaleimide N, N′-4,4-diphenyl ether bismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-butyl-4,8- (4 -Maleimidophenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) decane, 4,4'-cyclohexylidene-bis (1- (4-maleimidophenoxy) -2-cyclohexylbenzene 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, etc. These can be used alone or in combination, and the above radical polymerizable substance is represented by Formula 1. It is preferable to use a radically polymerizable substance having a phosphate ester structure in combination because the adhesive strength on the surface of an inorganic substance such as a metal is improved. A radical polymerizable substance having an acid ester structure is obtained as a reaction product of phosphoric anhydride and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, specifically, mono (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate, di ( 2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate, etc. These can be used alone or in combination.

Figure 0004572960
Figure 0004572960

リン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質の配合量は、フィルム形成材とラジカル重合性物質の合計100重量部に対し、0.01〜50重量部用いるのが好ましく、0.5〜5重量部がより好ましい。0.01重量部未満では、金属等の無機物表面との接着強度の向上が得られにくく、50重量部を超えると期待される硬化特性が得られなくなる。本発明の接着剤組成物には、アリル(メタ)アクリレートが添加できる。その配合量は、フィルム形成材とラジカル重合性物質の合計100重量部に対し、0.1〜10重量部用いるのが好ましく、0.5〜5重量部がより好ましい。0.1重量部未満であると接着強度の劣るようになり、10重量部を超えるとラジカル重合反応性が低いために反応不足が生じ、良好な接着強度が得られにくくなる。   The blending amount of the radical polymerizable substance having a phosphate ester structure is preferably 0.01 to 50 parts by weight, and 0.5 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total of the film-forming material and the radical polymerizable substance. Is more preferable. If it is less than 0.01 part by weight, it is difficult to improve the adhesion strength with the surface of an inorganic material such as a metal, and if it exceeds 50 parts by weight, the expected curing characteristics cannot be obtained. Allyl (meth) acrylate can be added to the adhesive composition of the present invention. The blending amount is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of the film forming material and the radical polymerizable substance. If the amount is less than 0.1 parts by weight, the adhesive strength becomes inferior. If the amount exceeds 10 parts by weight, the radical polymerization reactivity is low, resulting in insufficient reaction, making it difficult to obtain good adhesive strength.

本発明の回路接続用異方導電性接着剤フィルムの接着剤組成物には、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルまたはアクリロニトリルのうち少なくとも一つをモノマー成分とした重合体又は共重合体を使用することができ、グリシジルエーテル基を含有するグリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートを含む共重合体系アクリルゴムを併用した場合、応力緩和に優れるので好ましい。これらアクリルゴムの分子量(重量平均)は接着剤の凝集力を高める点から20万以上が好ましい。 The adhesive composition for the anisotropic conductive adhesive film for circuit connection of the present invention comprises a polymer or copolymer containing at least one of acrylic acid, acrylic ester, methacrylic ester or acrylonitrile as a monomer component. It is preferable to use a copolymer acrylic rubber containing glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate containing a glycidyl ether group because it is excellent in stress relaxation. The molecular weight (weight average) of these acrylic rubbers is preferably 200,000 or more from the viewpoint of increasing the cohesive strength of the adhesive.

本発明の回路接続用異方導電性接着剤フィルムの接着剤組成物には、さらに、充填剤、軟化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤、カップリング剤及びフェノール樹脂やメラミン樹脂、イソシアネート類等を含有することもできる。充填剤を含有した場合、接続信頼性等の向上が得られるので好ましい。充填剤の最大径が導電粒子の粒径未満であれば使用でき、5〜60体積部(接着剤樹脂成分100体積部に対して)の範囲が好ましい。60体積部を超えると信頼性向上の効果が飽和することがあり、5体積部未満では添加の効果が少ない。カップリング剤としてはケチミン、ビニル基、アクリル基、アミノ基、エポキシ基及びイソシアネート基含有物が、接着性の向上の点から好ましい。具体的には、アミノ基を有するシランカップリング剤として、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。ケチミンを有するシランカップリング剤として、上記のアミノ基を有するシランカップリング剤に、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン化合物を反応させて得られたものが挙げられる。 The adhesive composition for the anisotropic conductive adhesive film for circuit connection of the present invention further includes a filler, a softener, an accelerator, an anti-aging agent, a colorant, a flame retardant, a thixotropic agent, and a coupling. An agent, a phenol resin, a melamine resin, isocyanates and the like can also be contained. The inclusion of a filler is preferable because improvement in connection reliability and the like can be obtained. If the maximum diameter of a filler is less than the particle size of an electroconductive particle, it can be used, and the range of 5-60 volume parts (with respect to 100 volume parts of adhesive resin components) is preferable. If it exceeds 60 parts by volume, the effect of improving the reliability may be saturated, and if it is less than 5 parts by volume, the effect of addition is small. As the coupling agent, ketimine, vinyl group, acrylic group, amino group, epoxy group and isocyanate group-containing material are preferable from the viewpoint of improving adhesiveness. Specifically, as the silane coupling agent having an amino group, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane. Examples include ethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of the silane coupling agent having ketimine include those obtained by reacting the above silane coupling agent having an amino group with a ketone compound such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

本発明の回路接続用異方導電性接着剤フィルムの第1の接着剤層における接着剤組成物は、有機高分子化合物で被覆された導電粒子を必須として用い、接続時に相対向する回路電極を導電粒子を介して電気的に接続することにより安定した接続が得られる。有機高分子化合物で被覆する前の導電粒子としては、Au、Ag、Ni、Cu、はんだ等の金属粒子やカーボン等であり、十分なポットライフを得るためには、表層はNi、Cu等の遷移金属類ではなくAu、Ag、白金属の貴金属類が好ましくAuがより好ましい。また、Ni等の遷移金属類の表面をAu等の貴金属類で被覆したものでもよい。また、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等に前記した導通層を被覆等により形成し最外層を貴金属類とした場合や熱溶融金属粒子の場合、加熱加圧により変形性を有するので電極の高さばらつきを吸収し、接続時に電極との接触面積が増加して信頼性が向上するので好ましい。貴金属類の被覆層の厚みは良好な抵抗を得るためには、100オングストローム以上が好ましい。しかし、Ni等の遷移金属の上に貴金属類の層をもうける場合では、貴金属類層の欠損や導電粒子の混合分散時に生じる貴金属類層の欠損等により生じる酸化還元作用で遊離ラジカルが発生し保存性低下を引き起こすため、300オングストローム以上が好ましい。そして、厚くなるとそれらの効果が飽和してくるので最大1μmにするのが望ましいが制限するものではない。これらの導電粒子の表面を有機高分子化合物で被覆する。有機高分子化合物は水溶性であると被覆作業性が良好で好ましい。水溶性高分子として、アルギン酸、ペクチン酸、カルボキシメチルセルロース、寒天、カードラン及びプルラン等の多糖類;ポリアスパラギン酸、ポリグルタミン酸、ポリリシン、ポリリンゴ酸、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸アンモニウム塩、ポリメタクリル酸ナトリウム塩、ポリアミド酸、ポリマレイン酸、ポリイタコン酸、ポリフマル酸、ポリ(p−スチレンカルボン酸)、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸アンモニウム塩、ポリアクリル酸ナトリウム塩、ポリアミド酸、ポリアミド酸アンモニウム塩、ポリアミド酸ナトリウム塩及びポリグリオキシル酸等のポリカルボン酸、ポリカルボン酸エステル及びその塩;ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン及びポリアクロレイン等のビニル系モノマー等が挙げられるこれらは単一の化合物を用いてもよく、二以上の化合物を併用してもよい。被覆の厚みは、1μm以下が好ましく、この被覆を排除して導電粒子が接続端子と接続端子を電気的に接続するので、加熱、加圧時には接続端子と接触する部分の被覆が排除されることが必要である。導電性粒子は、接着剤樹脂成分100体積部に対して0.1〜30体積部の範囲で用途により使い分ける。過剰な導電性粒子による隣接回路の短絡等を防止するためには0.1〜10体積部とするのがより好ましい。 The adhesive composition in the first adhesive layer of the anisotropic conductive adhesive film for circuit connection of the present invention essentially uses conductive particles coated with an organic polymer compound, and circuit electrodes facing each other at the time of connection are used. A stable connection can be obtained by electrical connection through conductive particles. The conductive particles before coating with the organic polymer compound are metal particles such as Au, Ag, Ni, Cu, and solder, carbon, and the like, and in order to obtain a sufficient pot life, the surface layer is made of Ni, Cu, or the like. Au, Ag, and white metal noble metals are preferred, and Au is more preferred, rather than transition metals. Further, the surface of a transition metal such as Ni may be coated with a noble metal such as Au. In addition, when the conductive layer is formed on a non-conductive glass, ceramic, plastic, etc. by coating or the like and the outermost layer is made of noble metals, or in the case of hot-melt metal particles, it is deformable by heating and pressurization. It is preferable because it absorbs the height variation and increases the contact area with the electrode at the time of connection to improve the reliability. The thickness of the noble metal coating layer is preferably 100 angstroms or more in order to obtain good resistance. However, when a noble metal layer is formed on a transition metal such as Ni, free radicals are generated and preserved due to redox action caused by the loss of the noble metal layer or the loss of the noble metal layer generated when the conductive particles are mixed and dispersed. In order to cause deterioration of the properties, 300 angstroms or more is preferable. When the thickness is increased, these effects are saturated, so that the maximum thickness is preferably 1 μm, but is not limited. The surface of these conductive particles is coated with an organic polymer compound. It is preferable that the organic polymer compound is water-soluble because the coating workability is good. As water-soluble polymers, polysaccharides such as alginic acid, pectic acid, carboxymethylcellulose, agar, curdlan and pullulan; polyaspartic acid, polyglutamic acid, polylysine, polymalic acid, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid ammonium salt, polymethacrylic acid Sodium salt, polyamic acid, polymaleic acid, polyitaconic acid, polyfumaric acid, poly (p-styrene carboxylic acid), polyacrylic acid, polyacrylamide, polymethyl acrylate, ethyl polyacrylate, ammonium polyacrylate, polyacrylic acid Polycarboxylic acids such as sodium salt, polyamic acid, polyamic acid ammonium salt, polyamic acid sodium salt and polyglyoxylic acid, polycarboxylic acid esters and salts thereof; polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrole These vinyl-based monomers such as emissions and polyacrolein the like may be used a single compound may be used in combination of two or more compounds. The thickness of the coating is preferably 1 μm or less. Since the conductive particles electrically connect the connection terminal and the connection terminal by excluding this coating, the coating of the portion that contacts the connection terminal during heating and pressurization is excluded. is required. The conductive particles are properly used in the range of 0.1 to 30 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the adhesive resin component. In order to prevent a short circuit of an adjacent circuit due to excessive conductive particles, the amount is more preferably 0.1 to 10 parts by volume.

本発明は、接着剤組成物をフィルムに成形し、接着剤組成物を2層以上に分割し、加熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤を含有する層と導電粒子を含有する層に分割した場合、ポットライフの向上が得られる。本発明の回路接続用異方導電性接着剤フィルムは、ICチップとチップ搭載基板との接着や電気回路相互の接着用のフィルム状接着剤として使用することもできる。すなわち、第一の接続端子を有する第一の回路部材と、第二の接続端子を有する第二の回路部材とを第一の接続端子と第二の接続端子を対向して配置し、前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子の間に本発明の回路接続用異方導電性接着剤フィルム(フィルム状接着剤)を介在させ、加熱加圧して前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子を電気的に接続させることができる。このような回路部材としては半導体チップ、抵抗体チップ、コンデンサチップ等のチップ部品、プリント基板等の基板等が用いられる。これらの回路部材には接続端子が通常は多数(場合によっては単数でもよい)設けられており、前記回路部材の少なくとも1組をそれらの回路部材に設けられた接続端子の少なくとも一部を対向配置し、対向配置した接続端子間に本発明の回路接続用異方導電性接着剤フィルムを介在させ、加熱加圧して対向配置した接続端子同士を電気的に接続して回路接続体とする。回路部材の少なくとも1組を加熱加圧することにより、対向配置した接続端子同士は、接着剤組成物中の導電粒子を介して電気的に接続することができる。本発明の接着剤フィルムは、COG実装やCOF実装における、フレキシブルテープやガラス基板とICチップとの接着用のフィルム状接着剤として使用することができる。第一の接続端子を有する第一の回路部材と、第二の接続端子を有する第二の回路部材とを第一の接続端子と第二の接続端子を対向して配置し、前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子の間に本発明の回路接続用異方導電性接着剤フィルム(フィルム状接着剤)を介在させ、加熱、加圧して前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子を電気的に接続させることができる。本発明の回路端子の接続方法は、ラジカル重合による硬化性を有する接着剤組成物を接続端子の表面が、金、銀、錫、白金族の金属、インジュウム−錫酸化物(ITO)から選ばれる少なくとも一種から構成される接続端子(電極回路)に形成した後、もう一方の接続端子(回路電極)を位置合わせし加熱、加圧して接続することができる。 In the present invention , when the adhesive composition is formed into a film, the adhesive composition is divided into two or more layers, and divided into a layer containing a curing agent that generates free radicals upon heating and a layer containing conductive particles. , Pot life can be improved. The anisotropic conductive adhesive film for circuit connection of the present invention can also be used as a film adhesive for adhesion between an IC chip and a chip mounting substrate or between electric circuits. That is, the first circuit member having the first connection terminal and the second circuit member having the second connection terminal are arranged so that the first connection terminal and the second connection terminal are opposed to each other, and the opposing An anisotropic conductive adhesive film for circuit connection of the present invention (film adhesive) is interposed between the first connecting terminal and the second connecting terminal, and the first and second facing terminals are arranged by heating and pressing. The connection terminal and the second connection terminal can be electrically connected. As such a circuit member, a chip component such as a semiconductor chip, a resistor chip or a capacitor chip, a substrate such as a printed circuit board, or the like is used. These circuit members are usually provided with a large number of connection terminals (or a single connection terminal in some cases), and at least one set of the circuit members is arranged so that at least a part of the connection terminals provided on the circuit members are opposed to each other. Then, the anisotropic conductive adhesive film for circuit connection of the present invention is interposed between the connection terminals arranged opposite to each other, and the connection terminals arranged opposite to each other by heating and pressing are electrically connected to form a circuit connection body. By heating and pressurizing at least one set of circuit members, the connection terminals arranged to face each other can be electrically connected via the conductive particles in the adhesive composition. The adhesive film of the present invention can be used as a film-like adhesive for bonding a flexible tape or glass substrate to an IC chip in COG mounting or COF mounting. The first circuit member having the first connection terminal and the second circuit member having the second connection terminal are arranged so that the first connection terminal and the second connection terminal are opposed to each other, and the opposite arrangement is made. An anisotropic conductive adhesive film for circuit connection of the present invention (film adhesive) is interposed between the first connection terminal and the second connection terminal, and heated and pressurized to place the first connection facing each other. The terminal and the second connection terminal can be electrically connected. In the circuit terminal connection method of the present invention, the surface of the connection terminal is selected from gold, silver, tin, a platinum group metal, and indium-tin oxide (ITO). After forming at least one kind of connection terminal (electrode circuit), the other connection terminal (circuit electrode) can be aligned, heated and pressurized to be connected.

本発明においては、接続端子を支持する基板がポリイミド樹脂等の有機絶縁物質、ガラスから選ばれる少なくとも一種からなる回路部材及び表面が窒化シリコン、シリコーン化合物、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂から選ばれる少なくとも一種でコーティングもしくは付着した回路部材に対して特に良好な接着強度が得られる電気・電子用の回路接続用異方導電性接着剤フィルムの提供が可能となる。 In the present invention, the substrate supporting the connection terminal is an organic insulating material such as polyimide resin, at least one circuit member selected from glass, and the surface is at least one selected from silicon nitride, silicone compound, polyimide resin, and silicone resin. It is possible to provide an anisotropic conductive adhesive film for circuit connection for electric and electronic use that can obtain particularly good adhesion strength to a coated or adhered circuit member.

(実施例1)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂と9,9’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンからガラス転移温度が80℃のフェノキシ樹脂を合成した。この樹脂50gを重量比でトルエン/酢酸エチル=50/50の混合溶剤に溶解して、固形分40重量%の溶液とした。固形重量比でフェノキシ樹脂60g、ジシクロペンテニルジアルコールジアクリレート39g、リン酸エステル型アクリレート1g、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート5gとなるように配合し、表面を有機高分子化合物(ポリビニルアルコールを使用)で0.01〜0.2μmとなるように被覆した導電粒子(ポリスチレンを核とする粒子の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を設け、このニッケル層の外側に、厚み0.04μmの金層を設け、平均粒径5μmの導電粒子を使用)を5体積%配合分散させ、厚み80μmの片面を表面処理したPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃、10分の熱風乾燥により、接着剤層の厚みが10μmのフィルム状接着剤組成物を得た。また、固形重量比でフェノキシ樹脂60g、ジシクロペンテニルジアルコールジアクリレート39g、リン酸エステル型アクリレート1g、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート5gとなるように配合し、厚み80μmの片面を表面処理したPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃、10分の熱風乾燥により、接着剤層の厚みが10μmのフィルム状接着剤組成物を得た。これらの接着剤組成物をラミネーターを用い貼り合わせ、二層構成の接着剤フィルムを得た。
Example 1
A phenoxy resin having a glass transition temperature of 80 ° C. was synthesized from bisphenol A type epoxy resin and 9,9′-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene. 50 g of this resin was dissolved in a mixed solvent of toluene / ethyl acetate = 50/50 by weight to obtain a solution having a solid content of 40% by weight. The solid weight ratio is 60 g of phenoxy resin, 39 g of dicyclopentenyl dialcohol diacrylate, 1 g of phosphate ester acrylate, 5 g of t-hexylperoxy-2-ethylhexanate, and the surface is an organic polymer compound. Conductive particles coated with 0.01 to 0.2 μm (using polyvinyl alcohol) (on the surface of particles having polystyrene as a core, a 0.2 μm thick nickel layer is provided on the outside of the nickel layer, Using a coating device, a PET (polyethylene terephthalate) film whose surface is treated by dispersing 5% by volume of a gold layer with a thickness of 0.04μm and using conductive particles with an average particle diameter of 5μm is mixed and dispersed by 5% by volume. Then, by drying with hot air at 70 ° C. for 10 minutes, a film adhesive composition having an adhesive layer thickness of 10 μm was obtained. Moreover, it mix | blends so that it may become 60g of phenoxy resin by solid weight ratio, 39g of dicyclopentenyl dialcohol diacrylate, 1g of phosphate ester type acrylates, and 5g of t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, and the single side | surface of thickness 80 micrometers Was applied to a PET (polyethylene terephthalate) film surface-treated with a coating apparatus, and dried with hot air at 70 ° C. for 10 minutes to obtain a film adhesive composition having an adhesive layer thickness of 10 μm. These adhesive compositions were bonded using a laminator to obtain an adhesive film having a two-layer structure.

(実施例2)
固形重量比でフェノキシ樹脂50g、ジシクロペンテニルジアルコールジアクリレート49gとなるように配合した他は実施例1と同様にして接着剤フィルムを得た。
(Example 2)
An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that 50 g of phenoxy resin and 49 g of dicyclopentenyl dialcohol diacrylate were mixed at a solid weight ratio.

(比較例1)
導電粒子に、表面を有機高分子化合物で被覆しない導電粒子を用いた他は実施例1と同様にして接着剤フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that conductive particles whose surfaces were not coated with an organic polymer compound were used.

(比較例2)
固形重量比でフェノキシ樹脂40g、マイクロカプセル型潜在性硬化剤を含有する液状エポキシ樹脂(エポキシ当量185)60gとなるように配合した他は実施例1と同様にして接着剤フィルムを得た。
(Comparative Example 2)
An adhesive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that 40 g of phenoxy resin and 60 g of a liquid epoxy resin (epoxy equivalent 185) containing a microcapsule-type latent curing agent were blended in a solid weight ratio.

(回路の接続)
バンプ面積50μm×50μm、ピッチ100μm、高さ20μmの金バンプを配置したICチップと厚み1.1mmのガラス上にインジユウム−錫酸化物(ITO)を蒸着により形成したITO基板(表面抵抗<20Ω/□)とを、上記接着剤組成物を用い、石英ガラスと加圧ヘッドで挟み、200℃、100MPa(金バンプ面積換算)で10秒間加熱加圧して接続した。このとき、フィルム状接着剤組成物はあらかじめITO基板上に、接着剤組成物の導電粒子がある接着面を70℃、0.5MPaで5秒間加熱加圧して貼り付け,その後、PETフィルムを剥離してICチップと接続した。
(Circuit connection)
An ITO substrate (surface resistance <20Ω / □) was sandwiched between quartz glass and a pressure head using the above adhesive composition, and connected by heating and pressing at 200 ° C. and 100 MPa (in terms of gold bump area) for 10 seconds. At this time, the film-like adhesive composition is applied on the ITO substrate in advance by heating and pressurizing the adhesive surface with the conductive particles of the adhesive composition at 70 ° C. and 0.5 MPa for 5 seconds, and then the PET film is peeled off. And connected to the IC chip.

(表面張力の極性成分(γsv,p)の測定)
5mm×5mmの回路接続用樹脂組成物からなる回路接続用異方導電性接着剤フィルムの表面に、水及びジヨードメタンを滴下し(23℃)、接触角を測定することで接着剤フィルムにおける表面張力の極性成分の植を求めた。
(Measurement of polar component of surface tension (γsv, p))
Water and diiodomethane are dropped onto the surface of an anisotropic conductive adhesive film for circuit connection comprising a 5 mm × 5 mm circuit connection resin composition (23 ° C.), and the contact angle is measured to measure the surface tension in the adhesive film . The plant of polar components was sought.

(接触抵抗の測定)
回路の接続後上記接続部の電気抵抗値を、初期と、−40℃/30minと100/30minの温度サイクル槽中に500サイクル保持した後に2端子測定法を用いマルチメータで測定した。
(Measurement of contact resistance)
After the circuit was connected, the electrical resistance value of the connecting part was measured with a multimeter using a two-terminal measurement method after maintaining 500 cycles in the temperature cycle bath at −40 ° C./30 min and 100/30 min.

(隣接電極間の絶縁抵抗測定)
回路の接続後上記接続部に、直流(DC)50Vの電圧を1分間印加し、印加後の絶縁抵抗を、2端子測定法を用いマルチメータで測定した。それらの結果を纏めて表1に示した。
(Measurement of insulation resistance between adjacent electrodes)
After connection of the circuit, a direct current (DC) voltage of 50 V was applied to the connection part for 1 minute, and the insulation resistance after application was measured with a multimeter using a two-terminal measurement method. The results are summarized in Table 1.

Figure 0004572960
Figure 0004572960

表1に示したように、本発明の実施例1、2で示す接着剤フィルム表面の表面張力の極性成分(γsv,p)が、3.0〜4.0dyne/cmであり、導電粒子の表面が有機高分子化合物で被覆された導電粒子を含有する接着剤組成物を用いることで、COG接続の接続直後の接続抵抗や温度サイクル後の接続抵抗が小さく良好となる。また、隣接電極間の絶縁抵抗が高く、良好な接続性を示す。これに対し比較例1のように、接着剤フィルム表面の表面張力の極性成分(γsv,p)が、3.0〜4.0dyne/cmであっても、導電粒子の表面が有機高分子化合物で被覆されていない導電粒子を含有した接着剤組成物を用いると、接続抵抗は小さく良好であるが、隣接電極間の絶縁抵抗があまりにも小さくなり良好な接続性を示さなくなる。また、比較例2のように、接着剤フィルム表面の表面張力の極性成分(γsv,p)が、3.0〜4.0dyne/cmの範囲外であり、導電粒子の表面が有機高分子化合物で被覆された導電粒子を含有する接着剤組成物を用いると、隣接電極間の絶縁抵抗は高く良好であるが、温度サイクル後の接続抵抗が非常に高くなり良好な接続性を示さなくなる。導電粒子の表面を有機高分子化合物で被覆することにより、接着剤の面方向(厚み方向に直角)で隣接する導電粒子間での接触による導通を絶縁し絶縁抵抗を高くし、また、接着剤組成物の表面張力の極性成分を適正な範囲とすることにより、加熱加圧時に接着剤の厚みが徐々に薄くなり電気的に接続する電極と電極の間に存在する導電粒子の間隔から、さらに導電粒子が圧力により変形していく過程の中で電極と導電粒子の隙間から接着剤が排除される際の排除性が良好である結果、接続抵抗が小さく良好な接続性を示すものと思われる。これに対し、排除性が悪いと比較例2のように、接続直後は電極間の接触が保たれ小さな接続抵抗であるが、温度サイクルにより、接着剤中に加わる応力により接着剤が緩和される際の変形につられて導電粒子が微小に動き接触が保てなくなったためと推定される。 As shown in Table 1, the polar component (γsv, p) of the surface tension of the adhesive film surface shown in Examples 1 and 2 of the present invention is 3.0 to 4.0 dyne / cm, By using an adhesive composition containing conductive particles whose surfaces are coated with an organic polymer compound, the connection resistance immediately after the connection of the COG connection and the connection resistance after the temperature cycle are small and good. Moreover, the insulation resistance between adjacent electrodes is high and shows favorable connectivity. On the other hand, as in Comparative Example 1, even when the polar component (γsv, p) of the surface tension of the adhesive film surface is 3.0 to 4.0 dyne / cm, the surface of the conductive particles is an organic polymer compound. When an adhesive composition containing conductive particles not coated with is used, the connection resistance is small and good, but the insulation resistance between adjacent electrodes is too small to show good connectivity. Further, as in Comparative Example 2, the polar component (γsv, p) of the surface tension of the adhesive film surface is outside the range of 3.0 to 4.0 dyne / cm, and the surface of the conductive particles is an organic polymer compound. When the adhesive composition containing the conductive particles coated with is used, the insulation resistance between adjacent electrodes is high and good, but the connection resistance after temperature cycling becomes very high and does not show good connectivity. By covering the surface of the conductive particles with an organic polymer compound, the conduction due to contact between adjacent conductive particles in the surface direction of the adhesive (perpendicular to the thickness direction) is insulated and the insulation resistance is increased. By setting the polar component of the surface tension of the composition within an appropriate range, the thickness of the adhesive gradually decreases during heating and pressurization, and the distance between the conductive particles existing between the electrodes to be electrically connected is further increased. As a result of good exclusion when the adhesive is removed from the gap between the electrode and the conductive particles in the process where the conductive particles are deformed by pressure, it seems that the connection resistance is small and good connectivity is exhibited. . On the other hand, if the rejection is poor, the contact between the electrodes is maintained immediately after connection as in Comparative Example 2, and the connection resistance is small, but the adhesive is relaxed by the stress applied to the adhesive due to the temperature cycle. It is presumed that the conductive particles moved slightly due to the deformation at the time, and the contact could not be maintained.

Claims (13)

熱により遊離ラジカルを発生する硬化剤、ジシクロペンテニル基、トリシクロデカニル基及びトリアジン環から選ばれる少なくとも一つを有するアクリレート又はメタクリレートを含有する第1のラジカル重合性物質、リン酸エステル構造を有する第2のラジカル重合性物質、フェノキシ樹脂を含有するフィルム形成材、及び表面が水溶性高分子を含有する有機高分子化合物で被覆された導電粒子を必須成分として含有する接着剤組成物からなる第1の接着剤層、並びに
前記硬化剤、前記第1のラジカル重合性物質、前記第2のラジカル重合性物質、及び前記フィルム形成材を含有し、前記導電粒子を含有しない接着剤組成物からなる第2の接着剤層、からなる二層構成を有し、
水及びジヨードメタンを用いて23℃で測定される、前記第1の接着剤層の表面における表面張力の極性成分(γsv,p)が3.0〜4.0dyne/cmである回路接続用異方導電性接着剤フィルム。
Curing agent that generates free radicals by applying heat, a dicyclopentenyl group, the first radical-polymerizable substances containing an acrylate or methacrylate having at least one selected from a tricyclodecanyl group and a triazine ring, phosphoric acid ester structure An adhesive composition containing, as an essential component , a second radical-polymerizable substance having a phenoxy resin, a film-forming material containing a phenoxy resin , and conductive particles whose surfaces are coated with an organic polymer compound containing a water-soluble polymer A first adhesive layer comprising:
A second adhesive layer comprising an adhesive composition containing the curing agent, the first radical polymerizable substance, the second radical polymerizable substance, and the film forming material, and not containing the conductive particles; Having a two-layer structure consisting of
Anisotropy for circuit connection , wherein the polar component (γsv, p) of surface tension on the surface of the first adhesive layer is 3.0 to 4.0 dyne / cm, measured at 23 ° C. using water and diiodomethane Conductive adhesive film.
前記第2のラジカル重合性物質は式(1)で示されるものである、請求項1に記載の回路接続用異方導電性接着剤フィルム。The anisotropic conductive adhesive film for circuit connection according to claim 1, wherein the second radical polymerizable substance is represented by the formula (1).
Figure 0004572960
Figure 0004572960
フェノキシ樹脂が、分子内に多環芳香族化合物に起因する分子構造を有する請求項1又は2に記載の回路接続用異方導電性接着剤フィルムThe anisotropic conductive adhesive film for circuit connection according to claim 1 or 2 , wherein the phenoxy resin has a molecular structure derived from a polycyclic aromatic compound in the molecule. 多環芳香族化合物に起因する分子構造が、フルオレン環である請求項に記載の回路接続用異方導電性接着剤フィルムThe anisotropic conductive adhesive film for circuit connection according to claim 3 , wherein the molecular structure resulting from the polycyclic aromatic compound is a fluorene ring. 前記水溶性高分子が、ポリカルボン酸、ポリカルボン酸エステル、ポリカルボン酸エステルの塩、及びビニル系モノマーから選ばれる少なくとも一種を含む、請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続用異方導電性接着剤フィルムThe circuit connection according to any one of claims 1 to 4 , wherein the water-soluble polymer includes at least one selected from polycarboxylic acid, polycarboxylic acid ester, salt of polycarboxylic acid ester, and vinyl monomer. Anisotropic conductive adhesive film . COG実装用、COF実装用、又は駆動用IC接続用である、請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続用異方導電性接着剤フィルムThe anisotropic conductive adhesive film for circuit connection according to any one of claims 1 to 5 , which is for COG mounting, for COF mounting, or for driving IC connection. バンプ面積3000μm未満の回路接続用である請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続用異方導電性接着剤フィルムThe anisotropic conductive adhesive film for circuit connection according to any one of claims 1 to 5 , which is for circuit connection having a bump area of less than 3000 µm 2 . 第一の接続端子を有する第一の回路部材と、第二の接続端子を有する第二の回路部材とを、第一の接続端子と第二の接続端子を対向して配置し、前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子の間に請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続用異方導電性接着剤フィルムを介在させ、加熱加圧して前記対向配置した第一の接続端子と第二の接続端子を電気的に接続させる回路端子の接続方法。 A first circuit member having a first connection terminal and a second circuit member having a second connection terminal are disposed so that the first connection terminal and the second connection terminal are opposed to each other, and the opposed arrangement is performed. The anisotropic conductive adhesive film for circuit connection according to any one of claims 1 to 7 is interposed between the first connection terminal and the second connection terminal, and the opposing connection is performed by heating and pressing. A circuit terminal connection method for electrically connecting a first connection terminal and a second connection terminal. 請求項に記載の回路端子の接続方法により得られる回路接続構造体であって、回路端子に直流50V印加した際に隣接電極間の絶縁抵抗が10Ω以上である回路接続構造体。 A circuit connection structure obtained by the circuit terminal connection method according to claim 8 , wherein an insulation resistance between adjacent electrodes is 10 9 Ω or more when a direct current of 50 V is applied to the circuit terminal. 少なくとも一方の接続端子を有する回路部材が、ICチップである請求項に記載の回路接続構造体。 The circuit connection structure according to claim 9 , wherein the circuit member having at least one connection terminal is an IC chip. ICチップの接続端子と、第二の回路部材上との接続端子間の接続抵抗が、1Ω以下である請求項9又は10に記載の回路接続構造体。 The circuit connection structure according to claim 9 or 10 , wherein a connection resistance between the connection terminal of the IC chip and the connection terminal on the second circuit member is 1Ω or less. 少なくとも一方の接続端子の表面が金、銀、錫、白金族の金属、インジユウム−錫酸化物(ITO)から選ばれる少なくとも一種で構成される請求項9〜11のいずれか一項に記載の回路接続構造体。 The circuit according to any one of claims 9 to 11 , wherein the surface of at least one of the connection terminals is composed of at least one selected from gold, silver, tin, a platinum group metal, and indium-tin oxide (ITO). Connection structure. 少なくとも一方の回路部材表面が窒化シリコン、シリコーン化合物、ポリイミド樹脂から選ばれる少なくとも一種でコーティングまたは付着されている請求項9〜12のいずれか一項に記載の回路接続構造体。 The circuit connection structure according to any one of claims 9 to 12 , wherein the surface of at least one circuit member is coated or adhered with at least one selected from silicon nitride, a silicone compound, and a polyimide resin.
JP2008163711A 2008-06-23 2008-06-23 Anisotropic conductive adhesive film for circuit connection, circuit terminal connection method and circuit terminal connection structure using the same Expired - Fee Related JP4572960B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008163711A JP4572960B2 (en) 2008-06-23 2008-06-23 Anisotropic conductive adhesive film for circuit connection, circuit terminal connection method and circuit terminal connection structure using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008163711A JP4572960B2 (en) 2008-06-23 2008-06-23 Anisotropic conductive adhesive film for circuit connection, circuit terminal connection method and circuit terminal connection structure using the same

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002052931A Division JP2003257247A (en) 2002-02-28 2002-02-28 Anisotropy conductive adhesive composite for circuit connection, connection method using the same, and connection structure

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2008311667A JP2008311667A (en) 2008-12-25
JP2008311667A5 JP2008311667A5 (en) 2010-01-14
JP4572960B2 true JP4572960B2 (en) 2010-11-04

Family

ID=40238927

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008163711A Expired - Fee Related JP4572960B2 (en) 2008-06-23 2008-06-23 Anisotropic conductive adhesive film for circuit connection, circuit terminal connection method and circuit terminal connection structure using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4572960B2 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000067647A (en) * 1998-08-25 2000-03-03 Sekisui Chem Co Ltd Insulating coating conductive fine particle, anisotropic conductive adhesive and conductive connecting structure
JP2000129157A (en) * 1998-10-21 2000-05-09 Sekisui Chem Co Ltd Insulation coated electroconductive microparticle, anisotropic electroconductive adhesive and electroconductive connecting structure
JP2001323224A (en) * 2000-05-17 2001-11-22 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, method for connecting circuit terminal using the same and connection structure of the circuit terminal
JP2002052333A (en) * 2000-08-09 2002-02-19 Sekisui Chem Co Ltd Coating method for fine particle, coated fine particle, anisotropic conductive adhesive, anisotropic conductive bonding film, and conductive connection structure

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000067647A (en) * 1998-08-25 2000-03-03 Sekisui Chem Co Ltd Insulating coating conductive fine particle, anisotropic conductive adhesive and conductive connecting structure
JP2000129157A (en) * 1998-10-21 2000-05-09 Sekisui Chem Co Ltd Insulation coated electroconductive microparticle, anisotropic electroconductive adhesive and electroconductive connecting structure
JP2001323224A (en) * 2000-05-17 2001-11-22 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, method for connecting circuit terminal using the same and connection structure of the circuit terminal
JP2002052333A (en) * 2000-08-09 2002-02-19 Sekisui Chem Co Ltd Coating method for fine particle, coated fine particle, anisotropic conductive adhesive, anisotropic conductive bonding film, and conductive connection structure

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008311667A (en) 2008-12-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5067355B2 (en) Circuit connection material and circuit member connection structure
JP4499329B2 (en) Adhesive, wiring terminal connection method and wiring structure
JP4862944B2 (en) Circuit connection material
JP2010034045A (en) Circuit connection material, and circuit connection structure
JP4747396B2 (en) Adhesive composition, circuit terminal connection method using the same, and circuit terminal connection structure
JP4935907B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure
JP2007224228A (en) Circuit-connecting material, connection structure of circuit terminal, and method for connecting circuit terminal
JP4165065B2 (en) Adhesive, method for producing adhesive, and method for producing circuit connection structure using the same
JP2019065062A (en) Conductive adhesive film
JP4794702B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure, and circuit terminal connection method
JP4380328B2 (en) Circuit connection material, film-like circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
JP2003257247A (en) Anisotropy conductive adhesive composite for circuit connection, connection method using the same, and connection structure
JP4265140B2 (en) Anisotropic conductive adhesive composition, circuit terminal connection method and connection structure using the same
JP4888482B2 (en) Anisotropic conductive adhesive composition, circuit terminal connection method and connection structure using the same
JP4696360B2 (en) Adhesive composition, circuit terminal connection method using the same, and circuit terminal connection structure
JP4794703B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure, and circuit terminal connection method
JP4654599B2 (en) Anisotropic conductive adhesive film, method for producing the same, and circuit connection structure using the same
JP4794704B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure, and circuit terminal connection method
JP4572960B2 (en) Anisotropic conductive adhesive film for circuit connection, circuit terminal connection method and circuit terminal connection structure using the same
JP2004217781A (en) Anisotropically conductive adhesive composition for circuit connection, method for connecting circuit terminals by using the same, and connected structure of circuit terminals
JP4386145B2 (en) Circuit connection material, film-like circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
KR100934802B1 (en) Modified polyurethane resin, adhesive composition using the same, circuit member connection method and circuit member connection structure
JP4386148B2 (en) Circuit connection material, film-like circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
JP2002201456A (en) Adhesive composition, connecting method of circuit terminal using the same, and connected structure of circuit terminal
JP5365666B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure and connection method

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091124

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100601

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100621

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100720

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100802

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees