JP4571009B2 - Platinum paste - Google Patents

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本発明は、白金ペーストの改良に関するものである。   The present invention relates to an improvement of platinum paste.

白金は耐熱性や耐蝕性に優れることから、例えば、セラミックヒータの抵抗発熱体層、電子部品の回路形成用導体層、積層基板のビアホール充填用等、種々の用途において導体成分として用いられている(例えば特許文献1〜3等を参照)。例えば、平面型セラミックヒータを製造するに際しては、アルミナ(Al2O3)等から成る基板或いはこれを生成するためのグリーンシートの一面に所定の平面形状で白金ペーストを塗布し、焼成処理を施して抵抗発熱体層を形成する。 Since platinum is excellent in heat resistance and corrosion resistance, it is used as a conductor component in various applications such as a resistance heating element layer of a ceramic heater, a conductor layer for circuit formation of an electronic component, and via hole filling of a laminated substrate. (For example, refer to Patent Documents 1 to 3). For example, when manufacturing a planar ceramic heater, a platinum paste is applied in a predetermined planar shape on one surface of a substrate made of alumina (Al 2 O 3 ) or the like or a green sheet for producing the substrate, and subjected to a firing treatment. To form a resistance heating element layer.

上記のような白金ペーストは、例えば、白金粉末をエチルセルロース等の有機バインダと共に溶剤と混合して調製される。このとき、例えば、塗布しようとする基板を構成するセラミック材料の粉末やガラス粉末等が、接着力を高める等の目的で適宜添加される。   The platinum paste as described above is prepared, for example, by mixing platinum powder with a solvent together with an organic binder such as ethyl cellulose. At this time, for example, a ceramic material powder or glass powder constituting the substrate to be coated is appropriately added for the purpose of increasing the adhesive force.

ところで、白金ペーストから導体或いは抵抗発熱体層(以下、本願においてはこれらをまとめて「導体」という。)を形成するに際して、グリーンシートの焼成温度に合わせて例えば1500(℃)以上の高温で焼成処理が施される場合がある。このような高温で焼成すると、従来の白金ペーストでは白金の凝集や蒸発等が生じ、延いては導体中に欠陥が生じ或いはセラミック基板等から剥離する問題があった。   By the way, when forming a conductor or a resistance heating element layer (hereinafter, collectively referred to as “conductor” in this application) from platinum paste, it is fired at a high temperature of, for example, 1500 (° C.) or higher in accordance with the firing temperature of the green sheet. Processing may be performed. When fired at such a high temperature, the conventional platinum paste has problems such as aggregation or evaporation of platinum, and further defects in the conductor or separation from the ceramic substrate or the like.

これに対して、本願出願人等は、結晶子サイズが35〜60(nm)の範囲内の白金粉末をビヒクル中に分散させた白金ペーストを提案した(特許文献4を参照。)。この白金ペーストによれば、結晶子サイズが大きいことから焼結性が抑制されているので、高温で焼成しても白金の凝集や蒸発が生じ難い利点がある。従来の白金ペーストでは印刷に適したペースト性状が得られるように粉末の粒径が定められていたものの、結晶子サイズは全く考慮されておらず、結果的に、結晶子サイズが10(nm)程度と微細な焼結性の高い白金粉末が用いられていた。そのため、焼成温度が高くなると凝集や蒸発等の問題が生じるのである。   On the other hand, the applicant of the present application has proposed a platinum paste in which a platinum powder having a crystallite size in the range of 35 to 60 (nm) is dispersed in a vehicle (see Patent Document 4). According to this platinum paste, since the crystallite size is large, the sinterability is suppressed, so that there is an advantage that aggregation and evaporation of platinum hardly occur even when fired at a high temperature. In the conventional platinum paste, although the particle size of the powder was determined so as to obtain a paste property suitable for printing, the crystallite size was not considered at all, and as a result, the crystallite size was 10 (nm) A platinum powder of high degree and fine sinterability was used. Therefore, problems such as aggregation and evaporation occur when the firing temperature is increased.

なお、結晶子とは、多結晶粒子内において単結晶とみなせる単位をいうものであり、結晶子サイズt(nm)は、例えば、粉末X線回折で得られた回折曲線の強度ピークの半値幅から、下記のシェラー(Scherrer)の式により算出される。白金粉末等の金属粉末は一般に多結晶体であって、微細な多数の単結晶で構成されている。
t=0.9λ/(BcosθB)
[但し、λは使用管球のKα線の波長(nm)、Bは最強ピークの半値幅(ラジアン)、θBは最強ピークの回折角(ラジアン)]
特開2004−178942号公報 特開2004−265607号公報 特開平5−334911号公報 特開平7−094012号公報
The crystallite means a unit that can be regarded as a single crystal in the polycrystalline particle, and the crystallite size t (nm) is, for example, the half width of the intensity peak of a diffraction curve obtained by powder X-ray diffraction. From the following Scherrer equation. Metal powder such as platinum powder is generally polycrystalline and is composed of a large number of fine single crystals.
t = 0.9λ / (Bcosθ B )
[Where λ is the wavelength of the Kα ray of the tube used (nm), B is the half-width of the strongest peak (radian), θ B is the diffraction angle of the strongest peak (radian)]
JP 2004-178842 A JP 2004-265607 A JP-A-5-334911 JP-A-7-094012

しかしながら、上記特許文献4に記載された白金ペーストを用いて導体を形成しても、繰り返し高温に曝される条件で使用すると無視できない程度の膜質や導電性の変化が生じること、すなわち高温耐久性が不十分であることが判明した。例えば、ヒータ用途では使用時に自身の発熱によって高温に曝されるので、使用中に特性が変化することになる。また、導体の形成後に他の膜形成等の目的で焼成処理を施した場合にも膜質や導電性の変化が生じることも明らかとなった。上記特許文献4では形成直後の膜質のみを評価しており、形成後に高温に曝された場合の変化については何ら考慮されていなかったのである。   However, even when a conductor is formed using the platinum paste described in Patent Document 4, film quality and conductivity change that cannot be ignored when used under conditions of repeated high temperature exposure, that is, high temperature durability Was found to be inadequate. For example, in a heater application, since it is exposed to a high temperature due to its own heat generation during use, the characteristics change during use. It has also been clarified that changes in film quality and conductivity occur when a baking treatment is performed for the purpose of forming another film after the conductor is formed. In the above-mentioned Patent Document 4, only the film quality immediately after the formation is evaluated, and no change is considered when exposed to a high temperature after the formation.

本発明者等は、白金ペーストから形成する導体の高温耐久性を高めるために研究を重ねた結果、白金粉末の結晶子サイズが導体形成時の膜質だけでなく高温耐久性にも大きな影響を及ぼすことを見出した。また、上記特許文献4では結晶子サイズを大きくするための処理上の制限から60(nm)を上限としているが、十分な高温耐久性を得るためには、それよりも更に大きい結晶子サイズの白金粉末を用いる必要があることを見出した。   As a result of repeated research to increase the high temperature durability of the conductor formed from the platinum paste, the present inventors have found that the crystallite size of the platinum powder greatly affects not only the film quality during conductor formation but also the high temperature durability. I found out. In Patent Document 4, the upper limit is set to 60 (nm) due to processing limitations for increasing the crystallite size, but in order to obtain sufficient high-temperature durability, a crystallite size larger than that is required. It has been found that it is necessary to use platinum powder.

本発明は、以上の知見に基づいて為されたものであり、その目的は、加熱による膜質や導電性の変化が生じ難い導体を形成し得る白金ペーストを提供することにある。   The present invention has been made on the basis of the above knowledge, and an object thereof is to provide a platinum paste capable of forming a conductor that hardly changes in film quality and conductivity due to heating.

斯かる目的を達成するため、本発明の白金ペーストの要旨とするところは、結晶子サイズが70乃至100(nm)の範囲内であり、且つ0.1乃至10(μm)の範囲内の平均粒径を有する白金粉末が所定のビヒクル中に分散され、セラミックヒータの抵抗発熱体を形成するために用いられるものであることにある。
In order to achieve such an object, the gist of the platinum paste of the present invention is that the crystallite size is within the range of 70 to 100 (nm) and the average within the range of 0.1 to 10 (μm). A platinum powder having a particle size is dispersed in a predetermined vehicle and used to form a resistance heating element of a ceramic heater .

このようにすれば、白金粉末の結晶子サイズが70(nm)以上と十分に大きくされていることから、白金粒子相互の焼結性適度に十分に抑制されるので、高温に曝されても凝集が生じ難くなる。また、結晶子サイズが100(nm)以下に留められていることから、導体がその形成面に確実に固着される程度の十分な焼結性を有するので、十分な導電性が得られる。したがって、加熱による膜質変化や導電性の変化が生じ難い導体を形成することができる。また、前記白金粉末は、0.1乃至10(μm)の範囲内の平均粒径を有するものであることから、適度な焼結性および耐熱性を有する白金ペーストが得られる。白金粉末の焼結性は結晶子サイズだけでなく平均粒径にも影響されるので、適度な焼結性および耐熱性を有する白金ペーストが得られる。0.1(μm)未満では焼結性が高くなって焼成温度を低くする必要が生じ、10(μm)を超えると焼結性が低くなるので焼結性が不足し、十分な導電性を有する膜の形成が困難になる。また、前記白金ペーストは、セラミックヒータの抵抗発熱体を形成するために用いられるものであることから、膜質変化や導電性或いは抵抗値の変化が生じ難い抵抗発熱層が得られる。
In this case, since the crystallite size of the platinum powder is sufficiently large to be 70 (nm) or more, the sinterability of the platinum particles is sufficiently suppressed, so even if it is exposed to high temperatures. Aggregation hardly occurs. Further, since the crystallite size is kept at 100 (nm) or less, the conductor has sufficient sinterability to ensure that the conductor is firmly fixed to the formation surface, so that sufficient conductivity can be obtained. Therefore, it is possible to form a conductor that hardly changes in film quality or conductivity due to heating. In addition, since the platinum powder has an average particle size in the range of 0.1 to 10 (μm), a platinum paste having appropriate sinterability and heat resistance can be obtained. Since the sinterability of the platinum powder is affected not only by the crystallite size but also by the average particle diameter, a platinum paste having appropriate sinterability and heat resistance can be obtained. If it is less than 0.1 (μm), the sinterability becomes high and it is necessary to lower the firing temperature. If it exceeds 10 (μm), the sinterability becomes low, so the sinterability is insufficient and sufficient conductivity is obtained. It becomes difficult to form a film having the same. Further, since the platinum paste is used for forming a resistance heating element of a ceramic heater, a resistance heating layer in which film quality change, change in conductivity or resistance value hardly occurs can be obtained.

なお、結晶子サイズを大きくするためには、白金粉末に熱処理を施し、粒子内部で結晶成長させる必要があるが、熱処理温度は、得ようとする結晶子サイズが大きいほど高くなる。そのため、100(nm)を超える結晶サイズが得られるような熱処理温度では、耐熱性が高くなり過ぎて焼結不足になる。また、このような熱処理温度では粒子が溶融して形状が不安定で粒径のばらつきも大きくなるため、分散不良が生じる。これらの結果、緻密な焼結体が得られなくなるので、十分な導電性が得られなくなる問題もある。   In order to increase the crystallite size, it is necessary to subject the platinum powder to heat treatment and grow crystals inside the particles, but the heat treatment temperature increases as the crystallite size to be obtained increases. Therefore, at a heat treatment temperature at which a crystal size exceeding 100 (nm) is obtained, the heat resistance becomes too high and the sintering becomes insufficient. Further, at such a heat treatment temperature, the particles melt, the shape is unstable, and the dispersion of the particle size becomes large, resulting in poor dispersion. As a result, since a dense sintered body cannot be obtained, there is a problem that sufficient conductivity cannot be obtained.

また、好適には、前記結晶子サイズは、70〜90(nm)の範囲内である。   Preferably, the crystallite size is in the range of 70 to 90 (nm).

また、前記白金ペーストを構成する白金粉末は、前記のような特性を満足する限りにおいて任意の種々の方法で製造したものを用い得るが、例えば、白金粉末と、長周期表の3族乃至15族の何れかの金属元素の酸化物の少なくとも一種の粉末から成る混合剤とを混合する混合工程と、その混合工程で得られた混合粉末に所定温度の熱処理を施す熱処理工程と、その熱処理が施された混合粉末を酸またはアルカリで処理することにより前記混合剤を溶解する溶解工程と、前記混合剤が溶解された混合粉末に洗浄処理を施すことによりその混合剤を除去する除去工程とを、含む工程によって製造される。   Moreover, as long as the platinum powder which comprises the said platinum paste satisfies the above characteristics, what was manufactured by arbitrary various methods can be used, For example, platinum powder and 3rd group thru | or 15 of a long periodic table A mixing step of mixing a mixture composed of at least one powder of an oxide of a metal element of any of the group, a heat treatment step of subjecting the mixed powder obtained in the mixing step to a heat treatment at a predetermined temperature, and the heat treatment A dissolving step of dissolving the mixed agent by treating the applied mixed powder with an acid or an alkali, and a removing step of removing the mixed agent by subjecting the mixed powder in which the mixed agent is dissolved to a washing treatment , Manufactured by a process including.

上記の3族乃至15族の金属元素としては、Zn、Sn、Y、Nd、Sc、Sm、W、Mn、Nb等が挙げられる。溶解工程で用いられる酸またはアルカリは、混合剤の種類に応じて適宜のものが用いられるが、例えば、ZnO、SnO等の両性酸化物は塩酸、硝酸、硫酸、アンモニア水、水酸化ナトリウム等、酸およびアルカリの何れでもよい。また、Y2O3、Nd2O3、Sc2O3、Sm2O3等の希土類酸化物には、塩酸、硝酸、硫酸等の酸が用いられる。また、WO3には水酸化ナトリウム等のアルカリが用いられる。また、Nb2O5には、アンモニア水や水酸化ナトリウム等のアルカリが用いられる。また、前記所定温度は、例えば、700〜1500(℃)の範囲内、好適には1000〜1500(℃)の範囲内、一層好適には、1300〜1400(℃)の範囲内の温度である。 Examples of the Group 3 to Group 15 metal element include Zn, Sn, Y, Nd, Sc, Sm, W, Mn, and Nb. As the acid or alkali used in the dissolution step, an appropriate one is used according to the kind of the mixing agent. For example, amphoteric oxides such as ZnO and SnO are hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, aqueous ammonia, sodium hydroxide, and the like. Either acid or alkali may be used. For rare earth oxides such as Y 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Sc 2 O 3 and Sm 2 O 3 , acids such as hydrochloric acid, nitric acid and sulfuric acid are used. For WO 3 , an alkali such as sodium hydroxide is used. Nb 2 O 5 is alkali such as ammonia water or sodium hydroxide. The predetermined temperature is, for example, a temperature within a range of 700 to 1500 (° C.), preferably within a range of 1000 to 1500 (° C.), and more preferably within a range of 1300 to 1400 (° C.). .

また、好適には、前記白金ペーストは、前述したような方法で製造された所定の結晶子サイズを有する白金粉末をビヒクル中に分散させることによって製造される。分散処理には例えば三本ロールミル等が好適に用いられる。ビヒクルは、例えばエチルセルロースやアクリル樹脂等の有機バインダーをターピネオールやブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール等の溶剤に溶解して製造される。また、白金粉末の他に、無機結合剤、ガラスフリット、フィラー等の種々の副成分(例えばセラミック粉末やガラス粉末等)を添加しても良い。添加量は例えば白金粉末100(wt%)に対して1〜10(wt%)程度の範囲内である。セラミック粉末等の添加量がこれよりも少ないと、グリーンシートに塗布した場合にその熱膨張率との相違を十分に緩和できず、多いと、白金粉末の焼結が阻害されるため十分な導電性が得られなくなる。添加量は、一層好適には3〜5(wt%)の範囲内である。なお、上記のセラミック粉末は、白金ペーストを塗布しようとするセラミック材料の構成材料またはその主構成成分が好ましい。   Preferably, the platinum paste is produced by dispersing platinum powder having a predetermined crystallite size produced by the method as described above in a vehicle. For example, a three-roll mill is preferably used for the dispersion treatment. The vehicle is produced by, for example, dissolving an organic binder such as ethyl cellulose or acrylic resin in a solvent such as terpineol, butyl carbitol acetate, or butyl carbitol. In addition to the platinum powder, various subcomponents (for example, ceramic powder and glass powder) such as an inorganic binder, glass frit, and filler may be added. The amount of addition is, for example, in the range of about 1 to 10 (wt%) with respect to platinum powder 100 (wt%). If the amount of ceramic powder added is less than this, the difference in coefficient of thermal expansion when applied to a green sheet cannot be sufficiently mitigated. Sex cannot be obtained. The addition amount is more preferably in the range of 3 to 5 (wt%). The ceramic powder is preferably a constituent material of a ceramic material to which a platinum paste is applied or a main constituent component thereof.

また、白金ペースト中に含まれる白金粉末の量は、用途に応じて適宜定められるものであるが、例えば、30〜95(wt%)の範囲内、一層好適には、35〜85(wt%)の範囲内、更に好適には、45〜85(wt%)の範囲内である。これらの下限値は例えば要求される導電性が得られるように定められ、上限値は適当な印刷性や塗布性が得られる流動性を有するように定められる。   Further, the amount of platinum powder contained in the platinum paste is appropriately determined according to the application, for example, in the range of 30-95 (wt%), more preferably 35-85 (wt%) ), And more preferably within the range of 45 to 85 (wt%). These lower limit values are determined, for example, so as to obtain the required conductivity, and the upper limit values are determined so as to have a fluidity capable of obtaining appropriate printability and applicability.

以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の実施例において図は適宜簡略化或いは変形されており、各部の寸法比および形状等は必ずしも正確に描かれていない。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following embodiments, the drawings are appropriately simplified or modified, and the dimensional ratios, shapes, and the like of the respective parts are not necessarily drawn accurately.

図1は、本発明の一実施例の白金ペーストの製造方法およびこれを用いたヒータの抵抗発熱体層の形成方法を説明するための工程図である。図1において、工程R1〜R7は、白金粉末の製造工程を示しており、工程P1〜P4は白金ペーストおよび抵抗発熱体の製造工程を示している。白金粉末の製造工程の混合工程R1においては、例えば湿式還元法で製造した白金粉末と、混合剤である3〜15族の金属元素の酸化物粉末とを混合する。ここで用いられる白金粉末は、特に限定されないが、例えば、0.2〜0.8(μm)程度の平均粒径を有するものであるが、結晶子サイズは例えば10(nm)程度である。また、上記混合剤としては、例えば、Y2O3、Nd2O3、ZnO等の一種または混合物から成る粉末を用い得る。これら混合剤粉末の平均粒径は、例えば0.1〜10(μm)程度の範囲内である。また、混合割合は、例えば白金粉末1体積部に対して混合剤粉末を15〜60体積部の範囲内、例えば30体積部である。 FIG. 1 is a process diagram for explaining a method of manufacturing a platinum paste according to an embodiment of the present invention and a method of forming a resistance heating element layer of a heater using the same. In FIG. 1, steps R1 to R7 show a manufacturing process of platinum powder, and steps P1 to P4 show a manufacturing process of a platinum paste and a resistance heating element. In the mixing step R1 of the platinum powder manufacturing process, for example, a platinum powder manufactured by a wet reduction method and an oxide powder of a group 3-15 metal element as a mixture are mixed. The platinum powder used here is not particularly limited. For example, the platinum powder has an average particle size of about 0.2 to 0.8 (μm), but the crystallite size is about 10 (nm), for example. Further, as the mixing agent, for example, may use a powder consisting of Y 2 O 3, Nd 2 O 3, one or a mixture of such ZnO. The average particle diameter of these mixed powders is, for example, in the range of about 0.1 to 10 (μm). The mixing ratio is, for example, 15 to 60 parts by volume of the mixture powder with respect to 1 part by volume of platinum powder, for example, 30 parts by volume.

また、上記混合工程R1は、適宜の混合機或いは攪拌機等を用いて実施できるが、例えば、ポットミル式の湿式混合や三本ロールミル等が好適である。湿式混合の場合の分散媒としては水や適宜の溶剤を用いることができ、混合を促進するためのメディアとして例えばジルコニアビーズを用いることが好ましい。また、三本ロールミルで混合する場合には、有機ビヒクルを白金粉末および混合剤の混合粉末に添加する。   Moreover, although the said mixing process R1 can be implemented using a suitable mixer or a stirrer etc., a pot mill type wet mixing, a three roll mill, etc. are suitable, for example. Water or an appropriate solvent can be used as a dispersion medium in the case of wet mixing, and it is preferable to use, for example, zirconia beads as a medium for promoting mixing. Moreover, when mixing with a three roll mill, an organic vehicle is added to the mixed powder of platinum powder and a mixing agent.

次いで、乾燥・ほぐし工程R2においては、湿式混合の場合には、例えば110(℃)×12時間程度の乾燥処理を施し、更に、乾燥後の固形物をほぐす。なお、この工程は、三本ロールミルで混合した場合には無用である。   Next, in the drying and loosening step R2, in the case of wet mixing, for example, a drying treatment of about 110 (° C.) × 12 hours is performed, and further, the solid matter after drying is loosened. In addition, this process is unnecessary when it mixes with a three roll mill.

次いで、熱処理工程R3においては、例えば、700〜1500(℃)の範囲内で、所望とする白金の結晶子サイズに応じた所定の温度で、例えば、1時間程度の熱処理を施す。これにより、白金粉末粒子が結晶成長させられ、結晶子サイズが例えば30〜100(nm)程度、例えば80(nm)程度まで大きくなる。なお、熱処理温度は、一層好適には1000〜1500(℃)の範囲内であり、更に好適には、1300〜1400(℃)の範囲内である。   Next, in the heat treatment step R3, for example, heat treatment is performed within a range of 700 to 1500 (° C.) at a predetermined temperature corresponding to a desired platinum crystallite size, for example, for about one hour. Thereby, the platinum powder particles are crystal-grown, and the crystallite size is increased to, for example, about 30 to 100 (nm), for example, about 80 (nm). The heat treatment temperature is more preferably in the range of 1000 to 1500 (° C.), and more preferably in the range of 1300 to 1400 (° C.).

次いで、溶解工程R4においては、混合した混合剤を溶解する酸またはアルカリを用いて、熱処理を施した混合粉末を処理する。例えば、前記のようなY2O3、Nd2O3、ZnO等が用いられた場合には、3倍希釈HNO3等が用いられ、溶解が促進されるように50〜80(℃)程度に加温して12時間程度の攪拌を続ける。 Next, in the dissolving step R4, the heat-treated mixed powder is processed using an acid or alkali that dissolves the mixed admixture. For example, when Y 2 O 3 , Nd 2 O 3 , ZnO or the like as described above is used, 3-fold diluted HNO 3 is used, and about 50 to 80 (° C.) so that dissolution is promoted. And stir for about 12 hours.

次いで、水洗浄工程R5においては、溶解工程R4を経た混合粉末を純水で洗浄する。これにより、溶解した混合剤および溶解に用いた酸等が除去されるが、一回の処理で十分に除去できない場合には、必要に応じ、溶解工程P5および洗浄工程P6を複数回、例えば4〜5回繰り返す。但し、残留物が白金粉末の特性に悪影響を与えない場合には、1〜2回程度の溶解および洗浄でも差し支えない。   Next, in the water washing step R5, the mixed powder that has undergone the dissolution step R4 is washed with pure water. As a result, the dissolved mixture and the acid used for the dissolution are removed. However, if it cannot be sufficiently removed by a single treatment, the dissolution step P5 and the washing step P6 are performed a plurality of times, for example, 4 Repeat ~ 5 times. However, if the residue does not adversely affect the properties of the platinum powder, it may be dissolved and washed about once or twice.

次いで、乾燥工程R6においては、洗浄すなわち混合剤の除去を終えた白金粉末に例えば100(℃)で12時間程度の乾燥処理を施す。そして、ふるい工程R7において、適当な目開きの篩を用いて凝集している白金粉末をほぐすことにより、高分散性、高結晶性の白金粉末が得られる。得られた白金粉末は、比重が高く、吸着ガスが無いことから、膜形成時に歪みが生じず、緻密な焼成膜(すなわち抵抗発熱体層)が得られる。また、粒子相互のネッキングが無く高分散性であることから、一層緻密な焼成膜が得られる。また、前記のような混合剤が混合されていることからネッキングが生じないため、高温で熱処理することが可能である。そのため、結晶子サイズを十分に大きくすることができ、すなわち、高結晶性の粉末が得られる。また、前記工程R1〜R7で説明したようにアルカリ金属やアルカリ土類金属を何ら用いないことから、抵抗発熱体層を形成したセラミック基板の使用時等においてマイグレーションが生じないので、信頼性の高い電子部品が得られる利点がある。   Next, in the drying step R6, the platinum powder that has been washed, that is, removed of the mixture, is subjected to a drying process at, for example, 100 (° C.) for about 12 hours. In the sieving step R7, a platinum powder having high dispersibility and high crystallinity is obtained by loosening the agglomerated platinum powder using a sieve having an appropriate opening. Since the obtained platinum powder has a high specific gravity and no adsorbed gas, no distortion occurs during film formation, and a dense fired film (that is, a resistance heating element layer) is obtained. Further, since the particles do not neck each other and are highly dispersible, a denser fired film can be obtained. In addition, since necking does not occur because the above-mentioned mixture is mixed, heat treatment can be performed at a high temperature. Therefore, the crystallite size can be made sufficiently large, that is, a highly crystalline powder can be obtained. In addition, since no alkali metal or alkaline earth metal is used as described in the steps R1 to R7, no migration occurs when using a ceramic substrate on which a resistance heating element layer is formed. There is an advantage that an electronic component can be obtained.

次いで、ペーストおよび抵抗発熱体層の製造工程を説明する。先ず、混合工程P1では、上記の白金粉末、セラミック粉末、およびビヒクルを混合する。このセラミック粉末は、白金ペーストを塗布しようとするセラミックスと同種の材料、例えばアルミナ等から成る粉末であって、例えば0.2〜1.0(μm)程度の平均粒径を備えたものが用いられる。また、ビヒクルは、例えばエチルセルロースやアクリル等の有機バインダーとターピネオール等の有機溶剤とから成るものである。有機バインダーと有機溶剤との割合は、例えば10〜30:90〜70程度とする。また、白金粉末:セラミック粉末:ビヒクルの割合は、例えば、60〜90:3〜10:7〜37程度である。   Next, the manufacturing process of the paste and the resistance heating element layer will be described. First, in the mixing step P1, the above platinum powder, ceramic powder, and vehicle are mixed. This ceramic powder is a powder made of the same kind of material as the ceramic to which the platinum paste is applied, such as alumina, and has an average particle diameter of about 0.2 to 1.0 (μm), for example. The vehicle is composed of an organic binder such as ethyl cellulose and acrylic and an organic solvent such as terpineol. The ratio of the organic binder and the organic solvent is, for example, about 10 to 30:90 to 70. The ratio of platinum powder: ceramic powder: vehicle is, for example, about 60 to 90: 3 to 10: 7 to 37.

次いで、分散工程P2では、上記の混合物を例えば三本ロールミル等で処理することにより、白金粉末およびセラミック粉末をビヒクル中に分散させる。これにより、結晶子サイズが80(nm)の白金粉末を含む白金ペーストが得られる。すなわち、工程R1乃至工程P2が、本実施例の白金ペーストを得るための製造工程の一例である。   Next, in the dispersion step P2, the platinum powder and the ceramic powder are dispersed in the vehicle by treating the mixture with, for example, a three-roll mill. Thereby, a platinum paste containing platinum powder having a crystallite size of 80 (nm) is obtained. That is, process R1 thru | or process P2 is an example of the manufacturing process for obtaining the platinum paste of a present Example.

次いで、印刷工程P3では、例えばスクリーン印刷法を用いて、例えばアルミナ基板等に上記の白金ペーストを所定パターンで塗布する。印刷形状は、例えば図2に示される通りである。塗布厚みは、例えば、乾燥厚みが10(μm)程度になるように定められる。   Next, in the printing process P3, for example, the above-described platinum paste is applied in a predetermined pattern to, for example, an alumina substrate using a screen printing method. The printed shape is as shown in FIG. 2, for example. The coating thickness is determined such that the dry thickness is about 10 (μm), for example.

次いで、乾燥処理を施した後、焼成工程P4では、例えば1500(℃)で1時間程度保持して焼成処理を施す。これにより、ペースト中の有機成分が焼失させられて白金を主成分とする抵抗発熱体層が形成される。焼成後の膜厚は例えば5(μm)程度である。   Next, after performing the drying process, in the firing step P4, for example, the firing process is performed by holding at 1500 (° C.) for about one hour. As a result, the organic component in the paste is burned away, and a resistance heating element layer mainly composed of platinum is formed. The film thickness after firing is, for example, about 5 (μm).

このようにして得られた抵抗発熱体層は、前述したように結晶サイズが80(nm)と極めて大きい白金粉末から形成されたものであることから、高い耐熱性を有する。すなわち、抵抗発熱体層の形成後に他の膜形成等の目的で焼成処理を施し、或いは、繰り返し使用して高温に曝しても、抵抗値変化率が著しく小さく、その変化は無視できる程度に留まる。   The resistance heating element layer thus obtained has a high heat resistance because it is formed of platinum powder having a crystal size of 80 (nm) as extremely large as described above. In other words, even when the resistance heating element layer is formed and subjected to baking treatment for the purpose of forming another film or repeatedly used and exposed to a high temperature, the resistance value change rate is remarkably small, and the change remains negligible. .

図3は、前記工程R1〜R7に従って製造した種々の結晶子サイズの白金粉末を用いて抵抗発熱体層を形成し、加熱処理を繰り返したときの抵抗値変化率を測定して耐久性を評価した結果をまとめたものである。この評価試験は、製造時における繰り返し加熱および高温使用時の変化を加速試験によって評価したものである。各回の加熱処理条件は1500(℃)×1時間とし、1回毎に抵抗発熱体層の両端間の抵抗値を測定して、形成直後の抵抗値に対する比を百分率で表して抵抗値変化率とした。各サンプルの製造条件は、結晶子サイズの異なる白金粉末を用いた他は、白金粉末の平均粒径や焼成後の膜厚等を含めて、全て同一とした。   FIG. 3 shows a resistance heating element layer formed using platinum powders of various crystallite sizes manufactured according to the steps R1 to R7, and the durability is evaluated by measuring the resistance value change rate when the heat treatment is repeated. The results are summarized. In this evaluation test, repeated heating during production and changes during high temperature use are evaluated by an acceleration test. The heat treatment condition of each time is 1500 (° C.) × 1 hour, the resistance value between both ends of the resistance heating element layer is measured every time, and the ratio to the resistance value immediately after formation is expressed in percentage, and the resistance value change rate It was. The production conditions for each sample were all the same, including the average particle diameter of the platinum powder, the film thickness after firing, etc., except that platinum powder having a different crystallite size was used.

なお、各結晶子サイズの白金粉末の製造条件の相違点は、以下の通りである。記載していない他の条件は、前述したものと全て同一とした。
10(nm):湿式還元法で製造した0.8(μm)粒子
30(nm):0.8(μm)粒子を300(℃)×10分間の熱処理
50(nm):0.8(μm)粒子を500(℃)×10分間の熱処理
60(nm):0.8(μm)粒子を600(℃)×10分間の熱処理
80(nm):0.2(μm)粒子に混合剤を混合して1300(℃)×1時間の熱処理
100(nm):0.2(μm)粒子に混合剤を混合して1500(℃)×10時間の熱処理
In addition, the difference in the manufacturing conditions of platinum powder of each crystallite size is as follows. All other conditions not described were the same as described above.
10 (nm): 0.8 (μm) particles produced by wet reduction method
30 (nm): Heat treatment of 0.8 (μm) particles for 300 (° C) x 10 minutes
50 (nm): Heat treatment of 0.8 (μm) particles for 500 (° C) x 10 minutes
60 (nm): Heat treatment of 0.8 (μm) particles for 600 (° C) x 10 minutes
80 (nm): 0.2 (μm) particles mixed with a mixture and heat treated for 1300 (° C) x 1 hour
100 (nm): Heat treatment of 1500 (° C) x 10 hours by mixing a mixture with 0.2 (μm) particles

上記の評価結果に示されるように、結晶子サイズが10(nm)の場合には、僅か2回の加熱処理で抵抗値の明らかな変化が認められ、4回以上で著しく抵抗値が上昇し、7回の加熱処理で60(%)を超え、13回目で断線した。また、30(nm)の場合にも、4回の加熱処理から抵抗値が著しく上昇し、9回の加熱処理で40(%)もの上昇が認められ、18回目で断線した。また、50(nm)の場合では、12〜15回の加熱処理で急激に抵抗値が上昇し、19回の加熱処理で断線した。したがって、結晶子サイズが10(nm)〜50(nm)の範囲では、繰返しの加熱処理による抵抗値変化が大きく、そのような製造条件や用途には適さないことが明らかである。すなわち、ヒータ等の抵抗発熱体層を形成するための白金ペーストとして不適当であることが判る。   As shown in the above evaluation results, when the crystallite size is 10 (nm), the resistance value is clearly changed by only two heat treatments, and the resistance value is remarkably increased by four times or more. , It exceeded 60 (%) after 7 heat treatments and was disconnected at 13th time. In the case of 30 (nm), the resistance value increased remarkably after 4 heat treatments, and as much as 40 (%) was observed after 9 heat treatments. Further, in the case of 50 (nm), the resistance value suddenly increased after 12 to 15 heat treatments and was disconnected after 19 heat treatments. Therefore, it is clear that when the crystallite size is in the range of 10 (nm) to 50 (nm), the resistance value change due to repeated heat treatment is large and is not suitable for such manufacturing conditions and applications. That is, it can be seen that it is not suitable as a platinum paste for forming a resistance heating element layer such as a heater.

これらに対して、結晶子サイズが60(nm)および80(nm)の場合には、10回の加熱処理を施しても抵抗値の上昇は僅か20(%)程度に留まり、20回程度の繰返しの加熱に対しても断線することなく、高い耐久性を有することが確かめられた。   On the other hand, when the crystallite size is 60 (nm) and 80 (nm), the increase in the resistance value is only about 20 (%) even if the heat treatment is performed 10 times, and about 20 times. It was confirmed to have high durability without being disconnected even by repeated heating.

図4〜図13は、上記各サンプルの加熱処理後の抵抗発熱体層の外観を示す写真である。これらの写真において、白色の部分がアルミナ製基板、黒色の部分が抵抗発熱体層であり、図2に示すパターンの左端部に対応している。   4 to 13 are photographs showing the appearance of the resistance heating element layer after the heat treatment of each sample. In these photographs, the white portion is an alumina substrate, and the black portion is a resistance heating element layer, which corresponds to the left end portion of the pattern shown in FIG.

図4、図5は、結晶子サイズが10(nm)の白金粉末を用いて、加熱処理をそれぞれ10回、15回繰り返した後の外観を表している。黒色を呈する抵抗発熱体層内に多数存在する白点は、加熱によって白金が凝集および蒸発(或いは揮散)してアルミナ基板が露出させられたピンホールであり、繰り返し加熱によって抵抗発熱体層の導通方向の断面積が小さくなることが判る。また、15回の加熱処理を施した図5では、凝集および蒸発が更に進行した結果、パターンの一部が断たれている(すなわち断線が生じている)。なお、焼成直後すなわち加熱処理回数が0回の場合の外観は特に示さないが、パターン内にピンホールは全く形成されていない。   FIG. 4 and FIG. 5 show the appearance after repeating the heat treatment 10 times and 15 times using platinum powder having a crystallite size of 10 (nm), respectively. Many white spots in the resistance heating element layer exhibiting black are pinholes in which the alumina substrate is exposed by aggregation and evaporation (or volatilization) of platinum by heating, and conduction of the resistance heating element layer by repeated heating It can be seen that the sectional area in the direction is small. Further, in FIG. 5 in which the heat treatment is performed 15 times, as a result of further progress of aggregation and evaporation, a part of the pattern is cut off (that is, disconnection occurs). Note that the appearance is not particularly shown immediately after firing, that is, when the number of heat treatments is 0, but no pinholes are formed in the pattern.

図6、図7は、結晶子サイズが30(nm)で加熱処理をそれぞれ10回、15回繰り返した後の外観を表している。30(nm)の結晶サイズでも、繰り返し加熱処理後の白金の凝集延いてはピンホールが顕著に認められ、抵抗発熱体層の導通断面積が著しく小さくなることが判る。また、加熱処理回数が多くなると、ライン形状が悪くなると共に、線幅も細くなることが判る。   FIG. 6 and FIG. 7 show the appearance after repeating the heat treatment 10 times and 15 times, respectively, with a crystallite size of 30 (nm). It can be seen that even with a crystal size of 30 (nm), pinholes are prominently observed in the aggregation of platinum after repeated heat treatment, and the conduction cross-sectional area of the resistance heating element layer is significantly reduced. It can also be seen that as the number of heat treatments increases, the line shape becomes worse and the line width becomes thinner.

また、図8、図9は、結晶子サイズが50(nm)で加熱処理をそれぞれ10回、15回繰り返した後の外観を表している。50(nm)の結晶子サイズでも、繰り返し加熱処理によって多数のピンホールが発生することが判る。15回の加熱処理後には、抵抗発熱体層の幅寸法が小さくなっている。これら10(nm)、30(nm)、および50(nm)における変化は、前記図3に示される抵抗値変化と良く対応している。   8 and 9 show the appearance after the heat treatment is repeated 10 times and 15 times with a crystallite size of 50 (nm), respectively. It can be seen that even with a crystallite size of 50 nm, numerous pinholes are generated by repeated heat treatment. After 15 heat treatments, the width of the resistance heating element layer is reduced. These changes at 10 (nm), 30 (nm), and 50 (nm) correspond well with the resistance value changes shown in FIG.

一方、図10、図11は、60(nm)で加熱処理をそれぞれ10回、15回繰り返したものである。ピンホールの発生は認められるが、50(nm)以下のものに比較すると、その量が明らかに少なくなっていることが判る。   On the other hand, in FIGS. 10 and 11, the heat treatment is repeated 10 times and 15 times at 60 (nm), respectively. Although pinholes are observed, it can be seen that the amount of pinholes is clearly smaller than that of 50 nm or less.

また、図12、図13は、80(nm)で加熱処理をそれぞれ10回、15回繰り返したものである。この結晶子サイズでは、60(nm)のものと比較しても、ピンホールの発生が著しく少なくなっていることが明らかである。これらに示されるようにピンホールの発生が少ないことは、前記の図3に示されるように抵抗値変化が少ないことと良く対応している。すなわち、60(nm)以上の結晶子サイズの白金粉末を用いることにより、高温耐久性が高められることが明らかである。   12 and 13 show the heat treatment repeated at 80 (nm) 10 times and 15 times, respectively. With this crystallite size, it is clear that the occurrence of pinholes is remarkably reduced even when compared with that of 60 (nm). As shown in these figures, the small occurrence of pinholes corresponds well with the small change in resistance value as shown in FIG. That is, it is clear that high temperature durability can be improved by using a platinum powder having a crystallite size of 60 (nm) or more.

また、100(nm)では、焼結不足で焼成膜の緻密性がやや悪くなる。したがって、導電性がやや低くなるが、繰り返し熱処理を施すことで、徐々に焼成膜が緻密になる。図3において、抵抗値変化が初期段階では減少傾向にある(すなわち抵抗値が低くなる)ことからも、1回目の焼成処理では導電性がやや低いことが判る。   At 100 (nm), the density of the fired film becomes slightly worse due to insufficient sintering. Accordingly, although the conductivity is slightly lowered, the fired film becomes gradually dense by repeatedly performing the heat treatment. In FIG. 3, it can be seen that the electrical conductivity is slightly low in the first baking process because the change in the resistance value tends to decrease in the initial stage (that is, the resistance value becomes low).

また、白金粉末の粒度分布をレーザー回折式粒度分布測定装置((株)堀場製作所製 LA-500)で測定したところ、結晶子サイズが100(nm)のものでは、d90が2.71(μm)、d50が1.63(μm)、d10が0.85(μm)程度であった。結晶子サイズが80(nm)のものでは、同装置で測定すると、d90が1.03(μm)、d50が0.54(μm)、d10が0.29(μm)程度であるから、これに対して、100(nm)の場合の粒径が大きく且つ分布が広くなることが判る。この程度まで粒径が大きく且つ分布が広い粉末でペーストを調製すると、ペーストの充填率が低下して導電性が低くなる傾向があるため、結晶子サイズは100(nm)程度が上限であり、これ以下に留めることが望ましい。   Further, when the particle size distribution of the platinum powder was measured with a laser diffraction particle size distribution measuring device (LA-500 manufactured by Horiba Ltd.), d90 was 2.71 (μm) when the crystallite size was 100 (nm), d50 was about 1.63 (μm) and d10 was about 0.85 (μm). When the crystallite size is 80 (nm), d90 is about 1.03 (μm), d50 is about 0.54 (μm), and d10 is about 0.29 (μm) when measured with the same apparatus. In the case of nm), the particle size is large and the distribution is wide. When preparing a paste with a powder having a large particle size and a wide distribution to this extent, the paste filling rate tends to decrease and the conductivity tends to be low, so the upper limit is about 100 (nm) for the crystallite size, It is desirable to keep below this.

要するに、本実施例の白金ペーストは、白金粉末の結晶子サイズが60〜100(nm)の範囲内と十分に大きくされていることから、焼結性が抑えられているので、高温に曝されても凝集が生じ難くなり、延いては加熱による膜質変化や導電性或いは抵抗値の変化が生じ難い抵抗発熱体層を形成することができる。   In short, the platinum paste of this example is sufficiently exposed to a high temperature because the crystallite size of the platinum powder is sufficiently large in the range of 60 to 100 (nm), so that the sinterability is suppressed. However, aggregation hardly occurs, and as a result, it is possible to form a resistance heating element layer in which film quality change, conductivity, or resistance value change due to heating hardly occurs.

また、本実施例によれば、0.1〜10(μm)の範囲内の平均粒径を有する白金粉末が用いられることから、適度な焼結性および耐熱性を有する白金ペーストが得られる。   In addition, according to this example, platinum powder having an average particle diameter in the range of 0.1 to 10 (μm) is used, so that a platinum paste having appropriate sinterability and heat resistance can be obtained.

以上、本発明を図面を参照して詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施でき、その主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得るものである。   As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail with reference to drawings, this invention can be implemented also in another aspect, A various change can be added in the range which does not deviate from the main point.

本発明の一実施例の白金ペーストを用いた抵抗発熱体層の形成方法を説明するための工程図である。It is process drawing for demonstrating the formation method of the resistance heating element layer using the platinum paste of one Example of this invention. セラミックヒータの抵抗体パターンの一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the resistor pattern of a ceramic heater. 白金粉末の結晶子サイズ毎の繰り返し加熱回数と抵抗値変化率との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the frequency | count of repeated heating for every crystallite size of platinum powder, and resistance value change rate. 結晶子サイズが10(nm)の白金粉末を用いた抵抗発熱体層の10回の繰り返し加熱後の状態の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the state after 10 times heating of the resistance heating element layer using the platinum powder whose crystallite size is 10 (nm). 図4の抵抗発熱体層の15回の繰り返し加熱後の状態を示す図である。It is a figure which shows the state after 15 times heating of the resistance heating element layer of FIG. 結晶子サイズが30(nm)の白金粉末を用いた抵抗発熱体層の10回の繰り返し加熱後の状態の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the state after 10 times heating of the resistance heating element layer using the platinum powder whose crystallite size is 30 (nm). 図6の抵抗発熱体層の15回の繰り返し加熱後の状態を示す図である。It is a figure which shows the state after 15 times repeated heating of the resistance heating element layer of FIG. 結晶子サイズが50(nm)の白金粉末を用いた抵抗発熱体層の10回の繰り返し加熱後の状態の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the state after 10 times repeated heating of the resistance heating element layer using the platinum powder whose crystallite size is 50 (nm). 図8の抵抗発熱体層の15回の繰り返し加熱後の状態を示す図である。It is a figure which shows the state after 15 times repeated heating of the resistance heating element layer of FIG. 結晶子サイズが60(nm)の白金粉末を用いた抵抗発熱体層の10回の繰り返し加熱後の状態の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the state after 10 times heating of the resistance heating element layer using the platinum powder whose crystallite size is 60 (nm). 図10の抵抗発熱体層の15回の繰り返し加熱後の状態を示す図である。It is a figure which shows the state after 15 times repeated heating of the resistance heating element layer of FIG. 結晶子サイズが80(nm)の白金粉末を用いた抵抗発熱体層の10回の繰り返し加熱後の状態の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the state after 10 times repeated heating of the resistance heating element layer using the platinum powder whose crystallite size is 80 (nm). 図12の抵抗発熱体層の15回の繰り返し加熱後の状態を示す図である。It is a figure which shows the state after the 15 times repeated heating of the resistance heating element layer of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10:抵抗発熱体層 10: Resistance heating element layer

Claims (1)

結晶子サイズが70乃至100(nm)の範囲内であり、且つ0.1乃至10(μm)の範囲内の平均粒径を有する白金粉末が所定のビヒクル中に分散され、セラミックヒータの抵抗発熱体を形成するために用いられることを特徴とする白金ペースト。 Platinum powder having a crystallite size in the range of 70 to 100 (nm) and an average particle size in the range of 0.1 to 10 (μm) is dispersed in a predetermined vehicle, and the resistance heating of the ceramic heater A platinum paste used to form a body .
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