JP4557309B2 - クリーニング部材又はシート、及びこれらを用いたクリーニング方法 - Google Patents
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Description
これらの問題を解決するため、粘着性の物質を固着した基板を搬送することにより基板処理装置内の付着した異物をクリーニング除去する方法が提案されている(例えば特許文献1)。
さらに、通常粘着剤はガラス転移温度が150℃未満であるため、150℃以上かかる装置、例えばオゾンアッシャー、レジストコーター、酸化拡散炉、常圧CVD(Chemical Vapor Deposition )装置、減圧CVD装置、プラズマCVD装置などにおいては、耐熱性に劣り使用できない場合があるという問題があった。
本発明は、このような事情に照らし、特に基板処理装置内の温度が150℃以上ある装置内にも確実に搬送できると共に、該装置内に付着している異物を簡便かつ確実に除去できるクリーニング部材又はシートを提供することを目的としている。
該耐熱性樹脂は、上記の耐熱性を有する限り特に限定されないが、例えば、フェニル−T、ポリキノキサリン、ポリベンゾイレンベンズイミダゾールなどのラダーポリマーや、ポリフェニレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンズイミダゾール、ポリカルボジイミドなどの芳香族ポリマーなどが挙げられる。
特に、カルボジイミドは、400℃以上の高温にさらしても揮発性ガスや分解モノマーを生成しないという点で該クリーニング層として好適である。その中でも特に特願平10−305201号記載の下式(1)
またクリーニング層の厚さは特に限定されず、通常5〜100μm程度で適宜選択することができる。
また、導電性の付与や弾性率の調整、特に高弾性率化などを図るために、例えばアルミナ、シリカ、マグネシア、窒化ケイ素などのセラミック、その他カーボンなどからなる種々の無機粉末を必要に応じて1種又は2種以上配合してもよい。
かかる搬送部材としては、特に限定されないが、半導体ウエハ、ガラス基板、LCD、PDPなどのフラットパネルディスプレイ用基板、その他コンパクトディスク、MRヘッドなどの基板などが挙げられる。
また、かかる搬送部材に設ける場合のクリーニングシートのシート状支持体としては、ある程度の耐熱性があれば特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリカルボジイミドなどのプラスチックフィルムなどが挙げられ、特に耐熱性の点からポリイミドフィルムが好ましい。またその厚みは特に限定されず、通常10〜100μm程度で適宜選択することができる。
例えば、乾燥温度は20〜350℃、好ましくは50〜250℃、最も好ましくは70〜200℃である。乾燥温度が20℃より低いと、樹脂中に溶剤が残存し、クリーニング性能が乏しくなる場合がある。乾燥温度が350℃より高いと、耐熱性樹脂材の熱硬化が進む場合があり、樹脂の収縮や劣化が生じる場合があり好ましくない。
本発明においては、上記クリーニング部材又はシートを装置内に搬送して、被洗浄部位に接触させてクリーニングすること(請求項4)ができる。
攪拌装置、滴下漏斗、還流冷却器を取付けた500mlの四つ口フラスコに、1、4−ビス(4−アミノフェニルイソプロピリデン)ベンゼン(17g、49.35mmol)、トリエチルアミン(9.99g、98.70mmol)、テトラヒドロフラン146.24gを仕込んだ。フラスコを氷浴で冷却し、滴下漏斗にフェニルクロロホルメート(15.45g、98.70mmol)を入れ、1分かけて滴下した。その後室温で120分間攪拌した。
カーバメートの生成をIRで確認した後、トリメチルクロロシラン(10.72g、98.70mmol)、トリエチルアミン(9.99g、98.70mmol)、カルボジイミド化触媒(3−メチル−1−フェニル−2−ホスホレン−1−オキシド)(472.2mg、2.47mmol)を仕込み、60℃で1時間、続いて67℃で7時間攪拌してイソシアネート化及び重合を行った。
IRスペクトルによりカルボジイミド化(式1の構造)を確認し、生成したトリエチルアミン塩酸塩を濾過により除去し、ワニスを得た。
上記ワニスをガラス板上にキャスティングし、90℃にて30分間、さらに250℃で30分間乾燥してかとう性を有するフィルムを得た。得られたフィルムの熱的特性を評価したところ、ガラス転移温度は、220.8℃であった。
得られたクリーニングウエハを、装置内の温度が200℃に加温されているオゾンアッシャー内をクリーニング搬送させたところ、問題なくウエハを搬送でき、搬送前に8インチウエハ内で0.2μm以上で25000個あった異物が、搬送後に5000個まで減少しており、クリーニング効果が確認できた。
2、4−トリレンジイソシアネート/2、6−トリレンジイソシアネート混合物(混合割合90:10)5g(28.7mmol)を、テトラヒドロフラン20g中でカルボジイミド化触媒(3−メチル−1−フェニル−2−ホスホレン−1−オキシド)43mg(0.22mmol)とともに60℃で15時間攪拌し、ポリカルボジイミド溶液を得た。
該ポリマー溶液をガラス板上にキャスティングし、90℃で30分間乾燥してフィルムを作製した。得られたフィルムの熱的特性を評価したところ、Tgは53℃であった。
上記ワニスを実施例1と同様、8インチシリコンウエハ上にスピンコートにより塗工し、90×30minで乾燥して、クリーニング層の厚みが40μmであるクリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハを作製した。
得られたクリーニングウエハを、実施例1と同様、200℃に加温されたオゾンアッシャー内に搬送させたところ、ウエハステージに固着し、搬送できなくなった。
アクリル酸−2−エチルヘキシル75部、アクリル酸メチル20部、及びアクリル酸5部からなるモノマ―混合液から得たアクリル系ポリマー(重量平均分子量70万)100部に対して、ポリエチレングリコ―ルジメタクリレ―ト50部、ウレタンアクリレ―ト50部、ベンジルジメチルケタール3部、及びジフエニルメタンジイソシアネ―ト3部を均一に混合し、紫外線硬化型の粘着剤溶液とした。
一方、上記粘着剤からベンジルジメチルケタールを除いた以外は、上記と同様にして通常の粘着剤溶液を得た。支持体として幅250mm、厚み25μmのポリエステル製フィルムの片面に、上記通常の粘着剤溶液を、乾燥後の厚みが40μmになるように塗布して、通常の粘着剤層を設け、その表面に厚み38μmのポリエステル製剥離フィルムを貼った。一方、支持体フィルムの他面に前記の紫外線硬化型粘着剤溶液を乾燥後の厚みが10μmになるように塗布してクリーニング層としての粘着剤層を設け、その表面に同様の剥離フィルムを貼った。
このシートに中心波長365nmの紫外線を積算光量1000mJ/cm2 照射して、クリーニングシートを得た。このクリーニングシートの通常の粘着剤層側の剥離フィルムを剥がし、8inchのシリコンウエハの裏面(ミラー面)にハンドローラで貼り付け、クリーニング機能付き搬送用クリーニングウエハを作製した。
得られたクリーニングウエハのクリーニング層側の剥離フィルムを剥がし、実施例1と同様、200℃に加温されたオゾンアッシャー内に搬送させたところ、ウエハステージに固着し、搬送できなくなった。
Claims (4)
- 被洗浄装置内に搬送されて装置内に付着する異物を除去するためのクリーニング部材又はシートであって、支持体に、ガラス転移温度が150℃以上、200℃未満の耐熱性樹脂からなるクリーニング層が設けられてなるクリーニング部材又はシート。
- 支持体が、被洗浄装置内に搬送される搬送部材であることを特徴とする請求項1記載のクリーニング部材。
- 被洗浄装置内に搬送されて装置内に付着する異物を除去するためのクリーニング部材であって、シート状支持体に、ガラス転移温度が150℃以上、200℃未満の耐熱性樹脂からなるクリーニング層が設けられてなるクリーニングシートが、被洗浄装置内に搬送される搬送部材に設けられてなるクリーニング部材。
- 請求項1〜3いずれか記載のクリーニング部材又はシートを、被洗浄装置内に搬送することを特徴とするクリーニング方法。
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