JP4556607B2 - Dielectric ceramic composition and electronic component - Google Patents

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JP4556607B2 JP2004297886A JP2004297886A JP4556607B2 JP 4556607 B2 JP4556607 B2 JP 4556607B2 JP 2004297886 A JP2004297886 A JP 2004297886A JP 2004297886 A JP2004297886 A JP 2004297886A JP 4556607 B2 JP4556607 B2 JP 4556607B2
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Description

本発明は、積層セラミックコンデンサなどの電子部品の誘電体層などとして用いられる誘電体磁器組成物と、該誘電体磁器組成物を誘電体層として用いる積層セラミックコンデンサなどの電子部品とに、関する。   The present invention relates to a dielectric ceramic composition used as a dielectric layer of an electronic component such as a multilayer ceramic capacitor, and an electronic component such as a multilayer ceramic capacitor using the dielectric ceramic composition as a dielectric layer.

電子部品としての積層セラミックコンデンサには、比誘電率が高い、絶縁抵抗IRの寿命が長い、DCバイアス特性が良好(比誘電率の経時変化が少ない)の他に、温度特性が良好であることも要求される。特に、用途によっては、広い温度範囲において温度特性が平坦であることが求められる。   Multilayer ceramic capacitors as electronic components have high dielectric constant, long life of insulation resistance IR, good DC bias characteristics (low relative dielectric constant change over time), and good temperature characteristics Is also required. In particular, depending on the application, the temperature characteristics are required to be flat in a wide temperature range.

近年、自動車のエンジンルーム内に搭載するエンジン電子制御ユニット(ECU)、クランク角センサ、アンチロックブレーキシステム(ABS)モジュールなどの各種電子装置に積層セラミックコンデンサが使用されるようになってきている。これらの電子装置は、エンジン制御、駆動制御及びブレーキ制御を安定して行うためのものなので、回路の温度安定性が良好であることが要求される。   In recent years, multilayer ceramic capacitors have been used in various electronic devices such as an engine electronic control unit (ECU), a crank angle sensor, and an antilock brake system (ABS) module mounted in an engine room of an automobile. Since these electronic devices are for performing engine control, drive control, and brake control stably, it is required that the circuit has good temperature stability.

これらの電子装置が使用される環境は、寒冷地の冬季には−20℃程度以下まで温度が下がり、また、エンジン始動後には、夏季では+130℃程度以上まで温度が上がることが予想される。最近では電子装置とその制御対象機器とをつなぐワイヤハーネスを削減する傾向にあり、電子装置が車外に設置されることもある。このため、電子装置にとっての環境はますます厳しくなっている。したがって、これらの電子装置に用いられるコンデンサは、広い温度範囲において温度特性が平坦である必要がある。具体的には、容量温度特性が、EIA規格のX7R特性(−55〜125℃、ΔC/C=±15%以内)を満足するだけでは足りず、EIA規格のX8R特性(−55〜150℃、ΔC/C=±15%以内)を満足する誘電体磁器組成物が必要とされる。   The environment in which these electronic devices are used is expected to decrease to about −20 ° C. or lower in winter in cold regions, and to increase to about + 130 ° C. or higher in summer after engine startup. Recently, there is a tendency to reduce the number of wire harnesses that connect an electronic device and its control target device, and the electronic device may be installed outside the vehicle. For this reason, the environment for electronic devices has become increasingly severe. Therefore, capacitors used in these electronic devices need to have flat temperature characteristics over a wide temperature range. Specifically, it is not sufficient for the capacity-temperature characteristic to satisfy the EIA standard X7R characteristic (−55 to 125 ° C., ΔC / C = within ± 15%), but the EIA standard X8R characteristic (−55 to 150 ° C.). , ΔC / C = within ± 15%) is required.

X8R特性を満足する誘電体磁器組成物として、いくつかの提案がある。   There are several proposals for dielectric ceramic compositions that satisfy the X8R characteristics.

特許文献1,2では、BaTiOを主成分とする誘電体磁器組成物においてX8R特性を満足させるために、BaTiO中のBaをBi,Pbなどで置換することにより、キュリー温度を高温側にシフトさせることが提案されている。また、特許文献3〜7では、BaTiO+CaZrO+ZnO+Nb系の組成を選択することによりX8R特性を満足させることも提案されている。しかしながら、特許文献1〜7の何れの技術においても、蒸発飛散しやすいPb,Bi,Znを使用するため、空気中等の酸化性雰囲気での焼成が前提となる。このため、コンデンサの内部電極に安価なNi等の卑金属を使用することができず、Pd,Au,Ag等の高価な貴金属を使用しなければならない。 In Patent Documents 1 and 2, in order to satisfy X8R characteristics in a dielectric ceramic composition containing BaTiO 3 as a main component, the Curie temperature is increased to a high temperature side by replacing Ba in BaTiO 3 with Bi, Pb or the like. It has been proposed to shift. Patent Documents 3 to 7 also propose that the X8R characteristic is satisfied by selecting a composition of BaTiO 3 + CaZrO 3 + ZnO + Nb 2 O 5 system. However, in any of the techniques of Patent Documents 1 to 7, since Pb, Bi, and Zn that easily evaporate and fly are used, firing in an oxidizing atmosphere such as in air is a prerequisite. For this reason, inexpensive base metals such as Ni cannot be used for the internal electrodes of the capacitor, and expensive noble metals such as Pd, Au, and Ag must be used.

これに対し、誘電率が高く、X8R特性を満足するとともに、還元性雰囲気中での焼成を可能にするものとして、本出願人は、既に以下に示す誘電体磁器組成物を提案している(特許文献8,9)。   On the other hand, the present applicant has already proposed the following dielectric ceramic composition as having a high dielectric constant, satisfying X8R characteristics, and enabling firing in a reducing atmosphere ( Patent Documents 8 and 9).

特許文献8に記載の誘電体磁器組成物は、
主成分であるBaTiOと、
MgO,CaO,BaO,SrO及びCrから選択される少なくとも1種を含む第1副成分と、
(Ba,Ca)SiO2+x (但し、x=0.8〜1.2)で表される第2副成分と、
,MoO及びWOから選択される少なくとも1種を含む第3副成分と、
R1の酸化物(但し、R1はSc,Er,Tm,Yb及びLuから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分と少なくとも有し、
主成分100モルに対する各副成分の比率が、
第1副成分:0.1〜3モル、
第2副成分:2〜10モル、
第3副成分:0.01〜0.5モル、
第4副成分:0.5〜7モル(但し、第4副成分のモル数は、R1単独での比率である)である。
The dielectric ceramic composition described in Patent Document 8 is
BaTiO 3 as the main component,
A first subcomponent comprising at least one selected from MgO, CaO, BaO, SrO and Cr 2 O 3 ;
A second subcomponent represented by (Ba, Ca) x SiO 2 + x (where x = 0.8 to 1.2);
A third subcomponent comprising at least one selected from V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 ;
And at least a fourth subcomponent including an oxide of R1 (wherein R1 is at least one selected from Sc, Er, Tm, Yb, and Lu);
The ratio of each subcomponent to 100 moles of the main component is
1st subcomponent: 0.1-3 mol,
Second subcomponent: 2 to 10 mol,
Third subcomponent: 0.01 to 0.5 mol,
Fourth subcomponent: 0.5 to 7 moles (provided that the number of moles of the fourth subcomponent is the ratio of R1 alone).

特許文献9に記載の誘電体磁器組成物は、
チタン酸バリウムを含む主成分と、
MgO,CaO,BaO,SrO及びCrから選択される少なくとも1種を含む第1副成分と、
酸化シリコンを主成分として含有する第2副成分と、
,MoO及びWOから選択される少なくとも1種を含む第3副成分と、
R1の酸化物(但し、R1はSc,Er,Tm,Yb及びLuから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分と、
CaZrOまたはCaO+ZrOを含む第5副成分と、
第7副成分としてのMnOとを有し、
主成分100モルに対する各成分の比率が、
第1副成分:酸化物換算で0.1〜3モル(金属元素換算では、Mg、Ca、Ba及びSrは0.1〜3モル、Crは0.2〜6モル)、
第2副成分:2〜10モル、
第3副成分:酸化物換算で0.01〜0.5モル(金属元素換算では、Vは0.02〜1モル、Mo及びWは0.01〜0.5モル)、
第4副成分:0.5〜7モル(但し、第4副成分のモル数は、R1単独での比率)、
第5副成分:0<第5副成分≦5モル、
第7副成分:酸化物換算で0.5モル以下(金属元素換算でも、Mnは0.5モル以下)、である。
The dielectric ceramic composition described in Patent Document 9 is
A main component comprising barium titanate;
A first subcomponent comprising at least one selected from MgO, CaO, BaO, SrO and Cr 2 O 3 ;
A second subcomponent containing silicon oxide as a main component;
A third subcomponent comprising at least one selected from V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 ;
A fourth subcomponent comprising an oxide of R1, wherein R1 is at least one selected from Sc, Er, Tm, Yb and Lu;
A fifth subcomponent comprising CaZrO 3 or CaO + ZrO 2 ;
MnO as a seventh subcomponent,
The ratio of each component to 100 moles of the main component is
First subcomponent: 0.1-3 mol in terms of oxide (in terms of metal element, Mg, Ca, Ba and Sr are 0.1-3 mol, Cr is 0.2-6 mol),
Second subcomponent: 2 to 10 mol,
Third subcomponent: 0.01 to 0.5 mol in terms of oxide (in terms of metal element, V is 0.02 to 1 mol, Mo and W are 0.01 to 0.5 mol),
Fourth subcomponent: 0.5 to 7 mol (provided that the number of moles of the fourth subcomponent is the ratio of R1 alone),
Fifth subcomponent: 0 <fifth subcomponent ≦ 5 mol,
Seventh subcomponent: 0.5 mol or less in terms of oxide (Mn is 0.5 mol or less in terms of metal element).

これらの特許文献8,9の何れの技術も、主成分100モルに対するMgOなどの第1副成分の比率が酸化物換算で0.1モル以上である。   In any of these techniques of Patent Documents 8 and 9, the ratio of the first subcomponent such as MgO to 100 mol of the main component is 0.1 mol or more in terms of oxide.

これに対し、MgOなどの第1副成分の比率を酸化物換算で0.1モル未満としつつ、X8R特性を満足する技術も、本出願人により提案されている(特許文献10)。   On the other hand, the present applicant has also proposed a technique that satisfies the X8R characteristics while setting the ratio of the first subcomponent such as MgO to less than 0.1 mol in terms of oxide (Patent Document 10).

特許文献10に記載の誘電体磁器組成物は、
チタン酸バリウムを含む主成分と、
AEの酸化物(但し、AEはMg、Ca、Ba及びSrから選択される少なくとも1種)を含む第1副成分と、
Rの酸化物(但し、RはY、Dy、Ho及びErから選択される少なくとも1種)を含む第2副成分とを有し、
前記主成分100モルに対する各副成分の比率が、
第1副成分:酸化物換算で0モル<第1副成分<0.1モル、
第2副成分:1モル<第2副成分<7モルである。
The dielectric ceramic composition described in Patent Document 10 is
A main component comprising barium titanate;
A first subcomponent comprising an oxide of AE (wherein AE is at least one selected from Mg, Ca, Ba and Sr);
A second subcomponent comprising an oxide of R (where R is at least one selected from Y, Dy, Ho and Er);
The ratio of each subcomponent to 100 moles of the main component is
First subcomponent: 0 mol in terms of oxide <first subcomponent <0.1 mol,
Second subcomponent: 1 mol <second subcomponent <7 mol.

本出願人による上記特許文献8〜10の技術によれば、確かに誘電率が高く、X8R特性を満足し、還元性雰囲気中での焼成は可能である。   According to the techniques of the above-mentioned Patent Documents 8 to 10 by the present applicant, the dielectric constant is certainly high, the X8R characteristics are satisfied, and firing in a reducing atmosphere is possible.

しかしながら、特に、上述した車載用途の積層セラミックコンデンサについては、X8R特性以上のさらなる高温についてまで温度特性を平坦化しておくことが望ましい。
特開平10−25157号公報 特開平9−40465号公報 特開平4−295048号公報 特開平4−292458号公報 特開平4−292459号公報 特開平5−109319公報 特開平6−243721号公報 特開2000−154057号公報 特開2001−192264号公報(特許3348081) 特開2002−255639号公報(特許3341003)
However, particularly for the above-described multilayer ceramic capacitor for in-vehicle use, it is desirable to flatten the temperature characteristics up to an even higher temperature that exceeds the X8R characteristics.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-25157 Japanese Patent Laid-Open No. 9-40465 JP-A-4-295048 JP-A-4-292458 Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 4-29259 JP-A-5-109319 JP-A-6-243721 JP 2000-154057 A JP 2001-192264 A (Patent 3348081) JP 2002-255639 A (Patent 334003)

本発明の目的は、比誘電率が高く、還元性雰囲気中での焼成が可能であるとともに、EIA規格のX8R特性(−55〜150℃、ΔC/C=±15%以内)以上のさらなる高温についてまで容量温度特性が平坦化され、しかも絶縁抵抗の劣化が抑制された誘電体磁器組成物を提供することである。また本発明は、このような誘電体磁器組成物を用い、小型・大容量化を実現でき、特に薄層小型化対応の積層セラミックコンデンサなどの電子部品を提供することも目的とする。   The object of the present invention is a high relative dielectric constant, which enables firing in a reducing atmosphere, and further higher temperatures that exceed the EIA standard X8R characteristics (−55 to 150 ° C., within ΔC / C = ± 15%). It is to provide a dielectric ceramic composition in which the capacitance-temperature characteristics are flattened and the deterioration of the insulation resistance is suppressed. Another object of the present invention is to provide an electronic component such as a multilayer ceramic capacitor that can be reduced in size and increased in capacity using such a dielectric porcelain composition, and is particularly suitable for thin layer size reduction.

本発明者らは、電子部品産業界からの将来の要求を見据え、EIA規格のX8R特性以上のさらなる高温についてまで容量温度特性を平坦化できる技術について検討した。その結果、従来のX8R特性を満足する組成に対して、第3副成分の比率(y3)を従来の比率と比較して増加させることで、150℃を超える高温側での容量変化率の急降下を抑制できることを見出した。
その一方で、単に第3副成分の比率を増加させると、150℃を超える高温側での絶縁抵抗の劣化が著しく使用に耐えないとの知見が得られた。そこで、上記第3副成分の比率を増加させつつ、第7副成分の比率(y7)を第3副成分の比率(y3)に応じて制御することにより、高温側での絶縁抵抗の劣化を抑制できることを見出したものである。
In anticipation of future demands from the electronic component industry, the present inventors have studied a technology that can flatten the capacity-temperature characteristics up to a higher temperature that is higher than the X8R characteristics of the EIA standard. As a result, for the composition satisfying the conventional X8R characteristics, the ratio of the third subcomponent (y3) is increased as compared with the conventional ratio, so that the rate of change in capacity on the high temperature side exceeding 150 ° C. rapidly decreases. It was found that can be suppressed.
On the other hand, it has been found that if the ratio of the third subcomponent is simply increased, the deterioration of the insulation resistance on the high temperature side exceeding 150 ° C. is remarkably unusable. Therefore, by increasing the ratio of the third subcomponent while controlling the ratio of the seventh subcomponent (y7) according to the ratio of the third subcomponent (y3), the deterioration of the insulation resistance on the high temperature side is reduced. It has been found that it can be suppressed.

すなわち、本発明によれば、
チタン酸バリウムを含む主成分と、
MgO,CaO,BaO及びSrOから選択される少なくとも1種を含む第1副成分と、
酸化シリコンを主成分として含有する第2副成分と、
,MoO及びWOから選択される少なくとも1種を含む第3副成分と、
R1の酸化物(但し、R1はSc,Er,Tm,Yb及びLuから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分と、
CaZrOまたはCaO+ZrOを含む第5副成分と、
MnO及びCrの一方または双方を含む第7副成分とを、有する誘電体磁器組成物であって、
前記主成分100モルに対する前記第3副成分の比率(y3。但し、金属元素に換算した値)が、1〜6モル(但し、1モルを除く)であり、
前記第7副成分の比率(y7。但し、金属元素に換算した値)が、前記y3の0.25〜2.5倍である誘電体磁器組成物が提供される。
That is, according to the present invention,
A main component comprising barium titanate;
A first subcomponent comprising at least one selected from MgO, CaO, BaO and SrO;
A second subcomponent containing silicon oxide as a main component;
A third subcomponent comprising at least one selected from V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 ;
A fourth subcomponent comprising an oxide of R1, wherein R1 is at least one selected from Sc, Er, Tm, Yb and Lu;
A fifth subcomponent comprising CaZrO 3 or CaO + ZrO 2 ;
A dielectric ceramic composition having a seventh subcomponent containing one or both of MnO and Cr 2 O 3 ,
The ratio of the third subcomponent with respect to 100 mol of the main component (y3. However, the value converted to a metal element) is 1 to 6 mol (excluding 1 mol),
A dielectric ceramic composition is provided in which the ratio of the seventh subcomponent (y7, where the value is converted into a metal element) is 0.25 to 2.5 times y3.

好ましくは、前記主成分100モルに対する各副成分の比率(y1,y2,y4,y5)が、
第1副成分(y1):0.1〜3モル、
第2副成分(y2):2〜10モル、
第4副成分(y4):0.5〜7モル(但し、第4副成分のモル数は、R1単独での比率である)、
第5副成分(y5):5モル以下(但し、0モルを除く)である。
Preferably, the ratio of each subcomponent (y1, y2, y4, y5) to 100 moles of the main component is
First subcomponent (y1): 0.1 to 3 mol,
Second subcomponent (y2): 2 to 10 mol,
Fourth subcomponent (y4): 0.5 to 7 mol (provided that the number of moles of the fourth subcomponent is the ratio of R1 alone),
5th subcomponent (y5): 5 mol or less (however, 0 mol is excluded).

第3副成分は、V,MoO及びWOから選択される少なくとも1種を含むものであるが、好ましくはこれら3種の化合物から選択される少なくとも1種で構成されており、より好ましくは少なくともVを含める。第7副成分は、MnO及びCrの一方または双方を含むものであるが、好ましくはこれら2種の化合物の一方又は双方で構成されており、より好ましくは少なくともMnOを含める。 The third subcomponent includes at least one selected from V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 , and is preferably composed of at least one selected from these three compounds, and more preferably Includes at least V 2 O 5 . The seventh subcomponent contains one or both of MnO and Cr 2 O 3 , but is preferably composed of one or both of these two compounds, and more preferably contains at least MnO.

本発明によれば、
チタン酸バリウムを含む主成分と、
MgO,CaO,BaO及びSrOから選択される少なくとも1種を含む第1副成分と、
酸化シリコンを主成分として含有する第2副成分と、
,MoO及びWOから選択される少なくとも1種を含む第3副成分と、
R1の酸化物(但し、R1はSc,Er,Tm,Yb及びLuから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分と、
CaZrOまたはCaO+ZrOを含む第5副成分と、
MnO及びCrの一方または双方を含む第7副成分とを、有する誘電体磁器組成物であって、
前記主成分100モルに対する各副成分の比率(y1〜y5)が、
第1副成分(y1):0.1〜3モル、
第2副成分(y2):2〜10モル、
第3副成分(y3。但し、金属元素に換算した値):1〜6モル(但し、1モルを除く)、
第4副成分(y4):0.5〜7モル(但し、第4副成分のモル数は、R1単独での比率である)、
第5副成分(y5):5モル以下(但し、0モルを除く)であり、
第7副成分の比率(y7。但し、金属元素に換算した値)が、前記y3の0.25〜2.5倍である誘電体磁器組成物が提供される。
According to the present invention,
A main component comprising barium titanate;
A first subcomponent comprising at least one selected from MgO, CaO, BaO and SrO;
A second subcomponent containing silicon oxide as a main component;
A third subcomponent comprising at least one selected from V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 ;
A fourth subcomponent comprising an oxide of R1, wherein R1 is at least one selected from Sc, Er, Tm, Yb and Lu;
A fifth subcomponent comprising CaZrO 3 or CaO + ZrO 2 ;
A dielectric ceramic composition having a seventh subcomponent containing one or both of MnO and Cr 2 O 3 ,
The ratio (y1 to y5) of each subcomponent with respect to 100 moles of the main component is
First subcomponent (y1): 0.1 to 3 mol,
Second subcomponent (y2): 2 to 10 mol,
3rd subcomponent (y3. However, the value converted into the metal element): 1-6 mol (however, except 1 mol),
Fourth subcomponent (y4): 0.5 to 7 mol (provided that the number of moles of the fourth subcomponent is the ratio of R1 alone),
5th subcomponent (y5): 5 mol or less (however, excluding 0 mol),
A dielectric ceramic composition in which the ratio of the seventh subcomponent (y7, where converted to a metal element) is 0.25 to 2.5 times y3 is provided.

好ましくは、第6副成分として、R2の酸化物(但し、R2はY、Dy、Ho、Tb、Gd及びEuから選択される少なくとも一種)をさらに有し、前記第6副成分の比率(y6)が、前記主成分100モルに対し9モル以下(但し、0モルを除く。第6副成分のモル数は、R2単独での比率である)である。   Preferably, the sixth subcomponent further includes an oxide of R2 (wherein R2 is at least one selected from Y, Dy, Ho, Tb, Gd and Eu), and the ratio of the sixth subcomponent (y6 ) Is 9 mol or less (excluding 0 mol, the number of moles of the sixth subcomponent is the ratio of R2 alone) with respect to 100 mol of the main component.

好ましくは、第4副成分及び第6副成分の合計の比率(y4+y6)が、前記主成分100モルに対し13モル以下(但し、0モルを除く。第4副成分及び第6副成分のモル数は、R1及びR2単独での比率である)である。   Preferably, the total ratio (y4 + y6) of the fourth subcomponent and the sixth subcomponent is 13 mol or less (excluding 0 mol) with respect to 100 mol of the main component. The moles of the fourth subcomponent and the sixth subcomponent. The number is the ratio of R1 and R2 alone).

好ましくは、前記第2副成分が、SiO、MO(但し、Mは、Ba、Ca、Sr及びMgから選ばれる少なくとも1種の元素)、LiO及びBから選ばれる少なくとも1種で表される。第2副成分は、焼結助剤として機能すると考えられる。 Preferably, the second subcomponent is at least one selected from SiO 2 , MO (where M is at least one element selected from Ba, Ca, Sr and Mg), Li 2 O and B 2 O 3. Represented by seeds. The second subcomponent is considered to function as a sintering aid.

前記第5副成分において、CaとZrとのモル比は任意であるが、好ましくはCa/Zr=0.5〜1.5、より好ましくはCa/Zr=0.8〜1.5、特に好ましくはCa/Zr=0.9〜1.1である。   In the fifth subcomponent, the molar ratio of Ca and Zr is arbitrary, but preferably Ca / Zr = 0.5 to 1.5, more preferably Ca / Zr = 0.8 to 1.5, particularly Preferably, Ca / Zr = 0.9 to 1.1.

好ましくは、第8副成分として、Aの酸化物(但し、Aは、6配位時の有効イオン半径が0.065nm〜0.085nmの陽イオン元素群から選択される少なくとも1種)をさらに有する。
より好ましくは、前記第8副成分の比率(y8)が、前記主成分100モルに対し0〜4モル(但し、0モルと4モルを除く。A酸化物に換算した値)である。
なお、ここでのイオン半径は、文献「R.D.Shannon,Acta Crystallogr.,A32,751(1976)」に基づく値である。
Preferably, as the eighth subcomponent, an oxide of A (where A is at least one selected from the group of cationic elements having an effective ionic radius of 0.065 nm to 0.085 nm at the time of 6 coordination) Have.
More preferably, the ratio (y8) of the eighth subcomponent is 0 to 4 mol (excluding 0 mol and 4 mol, values converted to A oxide) with respect to 100 mol of the main component.
In addition, the ion radius here is a value based on literature "RD Shannon, Acta Crystallogr., A32, 751 (1976)".

好ましくは、前記第8副成分に含まれる酸化物の前記Aが、Al、Ga、Geの陽イオン元素群から選択される少なくとも1種である。   Preferably, the oxide A included in the eighth subcomponent is at least one selected from the group of cationic elements of Al, Ga, and Ge.

本発明に係る電子部品は、誘電体層を有する電子部品であれば、特に限定されず、たとえば誘電体層と共に内部電極層とが交互に積層してあるコンデンサ素子本体を有する積層セラミックコンデンサ素子である。本発明では、前記誘電体層が、上記いずれかの誘電体磁器組成物で構成してある。内部電極層に含まれる導電材としては、特に限定されないが、たとえばNiまたはNi合金である。   The electronic component according to the present invention is not particularly limited as long as it is an electronic component having a dielectric layer. For example, the electronic component is a multilayer ceramic capacitor element having a capacitor element body in which internal electrodes are alternately laminated together with dielectric layers. is there. In the present invention, the dielectric layer is composed of any one of the above dielectric ceramic compositions. The conductive material contained in the internal electrode layer is not particularly limited, but is Ni or Ni alloy, for example.

本発明では、まず、第3副成分(V,MoO及びWOから選択される少なくとも1種)の比率(y3。但し、金属元素に換算した値)を主成分100モルに対して1〜6モル(但し、1モルを除く)とする。これにより、150℃を超える高温側(たとえば175℃)での容量変化率の急降下が抑制される。次に、第7副成分(MnO及びCrの一方または双方)の比率(y7。但し、金属元素に換算した値)を、第3副成分の比率(y3)に応じて制御する。これにより、単に第3副成分の比率(y3)を増加させた場合に生じる、150℃を超える高温側での絶縁抵抗の劣化が抑制される。具体的には、たとえば175℃での絶縁抵抗10Ω以上を確保することができる。 In the present invention, first, the ratio of the third subcomponent (at least one selected from V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 ) (y3, where the value is converted to a metal element) is 100 mol of the main component. 1 to 6 mol (excluding 1 mol). As a result, a sudden drop in the capacity change rate on the high temperature side (for example, 175 ° C.) exceeding 150 ° C. is suppressed. Then, the ratio of the seventh subcomponent (one or both of MnO and Cr 2 O 3) (y7. However, the value in terms of metal element), and controls in accordance with the ratio of the third subcomponent (y3). Thereby, the deterioration of the insulation resistance on the high temperature side exceeding 150 ° C., which occurs when the ratio (y3) of the third subcomponent is simply increased, is suppressed. Specifically, for example, an insulation resistance of 10 6 Ω or more at 175 ° C. can be ensured.

このような作用により、本発明によれば、比誘電率が高く、還元性雰囲気中での焼成が可能であるとともに、EIA規格のX8R特性(−55〜150℃、ΔC/C=±15%以内)以上のさらなる高温についてまで容量温度特性が平坦化され、しかも絶縁抵抗の劣化が抑制された誘電体磁器組成物を提供することができる。また本発明によれば、このような誘電体磁器組成物を用い、小型・大容量化を実現でき、特に薄層小型化対応の積層セラミックコンデンサなどの電子部品を提供することもできる。   Due to such an action, according to the present invention, the dielectric constant is high, and firing in a reducing atmosphere is possible, and the X8R characteristic of EIA standard (−55 to 150 ° C., ΔC / C = ± 15%) The dielectric ceramic composition in which the capacity-temperature characteristics are flattened up to the above-described further high temperature and the deterioration of the insulation resistance is suppressed can be provided. Further, according to the present invention, by using such a dielectric ceramic composition, it is possible to realize a reduction in size and increase in capacity, and in particular, it is possible to provide an electronic component such as a multilayer ceramic capacitor corresponding to a reduction in size of a thin layer.

また、6配位時の有効イオン半径が所定範囲に入る陽イオン元素群(第8副成分)をさらに添加することにより、上述した目的とする温度特性に影響を与えることなく、室温から高温部までのIR温度依存性を改善することができる。   Further, by adding a cation element group (eighth subcomponent) whose effective ionic radius at the time of six coordination falls within a predetermined range, the temperature from the room temperature to the high temperature part can be obtained without affecting the target temperature characteristics described above. The IR temperature dependency up to can be improved.

”IR温度依存性”は、絶縁抵抗IRが温度変化に対してどのように変動するのかを見極める指標である。このIR温度依存性は、所定温度(たとえば175℃)でのIRが、基準温度(たとえば室温25℃)でのIRに対して変化する割合(変化率)を算出することで評価できる。複数の温度間でのIRの変化率が小さいほどIR温度依存性が良く、大きいほどIR温度依存性が悪いと判断できる。静電容量の温度特性がEIA規格のX8R以上のさらなる高温についてまで平坦化されていたとしても、IR温度依存性が悪いと、製品としての実際の使用が困難になることもある。   “IR temperature dependency” is an index for ascertaining how the insulation resistance IR fluctuates with respect to a temperature change. This IR temperature dependency can be evaluated by calculating a rate (change rate) at which IR at a predetermined temperature (for example, 175 ° C.) changes with respect to IR at a reference temperature (for example, room temperature 25 ° C.). It can be determined that the IR temperature dependency is better as the IR change rate between a plurality of temperatures is smaller, and the IR temperature dependency is worse as the IR change rate is larger. Even if the temperature characteristic of the capacitance is flattened to an even higher temperature equal to or higher than X8R of the EIA standard, if the IR temperature dependency is poor, actual use as a product may be difficult.

本発明では、複数の温度として室温(25℃)と高温部(175℃)を例示し、それぞれの温度での絶縁抵抗をIR25、IR175 としたときに、下記式1で示される”IR桁落ち”の大小を算出することで、IR温度依存性の善し悪しを評価している。
log(IR175 /IR25) …式1
In the present invention, room temperature (25 ° C.) and high temperature part (175 ° C.) are exemplified as a plurality of temperatures, and the insulation resistance at each temperature is IR 25 and IR 175. By calculating the magnitude of “digit loss”, the IR temperature dependency is evaluated for good or bad.
log (IR 175 / IR 25 ) ... Equation 1

すなわち、特定の元素群で構成される第8副成分を添加することで、目的とする温度特性に影響を与えることなく、室温(25℃)から高温部(175℃)のIR温度依存性が小さい。具体的には、上記式1で示されるIR桁落ちを−3.5以上とすることができる。   That is, by adding the eighth subcomponent composed of a specific element group, the IR temperature dependence from room temperature (25 ° C.) to the high temperature part (175 ° C.) can be achieved without affecting the target temperature characteristics. small. Specifically, the IR digit loss represented by the above formula 1 can be set to −3.5 or more.

本発明に係る電子部品としては、特に限定されないが、積層セラミックコンデンサ、圧電素子、チップインダクタ、チップバリスタ、チップサーミスタ、チップ抵抗、その他の表面実装(SMD)チップ型電子部品などが例示される。   The electronic component according to the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a multilayer ceramic capacitor, a piezoelectric element, a chip inductor, a chip varistor, a chip thermistor, a chip resistor, and other surface mount (SMD) chip type electronic components.

以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図、図2は本発明の実施例に相当する試料45と比較例に相当する試料1の容量温度特性を示すグラフ、である。
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a graph showing capacitance-temperature characteristics of a sample 45 corresponding to an example of the present invention and a sample 1 corresponding to a comparative example.

本実施形態では、電子部品として図1に示される積層セラミックコンデンサ1を例示し、その構造及び製造方法を説明する。   In this embodiment, the multilayer ceramic capacitor 1 shown in FIG. 1 is illustrated as an electronic component, and the structure and manufacturing method thereof will be described.

積層セラミックコンデンサ
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る電子部品としての積層セラミックコンデンサ1は、誘電体層2と内部電極層3とが交互に積層されたコンデンサ素子本体10を有する。コンデンサ素子本体10の両端部には、素子本体10の内部で交互に配置された内部電極層3と各々導通する一対の外部電極4が形成してある。内部電極層3は、各端面がコンデンサ素子本体10の対向する2端部の表面に交互に露出するように積層してある。一対の外部電極4は、コンデンサ素子本体10の両端部に形成され、交互に配置された内部電極層3の露出端面に接続されて、コンデンサ回路を構成する。
Multilayer Ceramic Capacitor As shown in FIG. 1, a multilayer ceramic capacitor 1 as an electronic component according to an embodiment of the present invention has a capacitor element body 10 in which dielectric layers 2 and internal electrode layers 3 are alternately stacked. . At both ends of the capacitor element body 10, a pair of external electrodes 4 are formed which are electrically connected to the internal electrode layers 3 arranged alternately in the element body 10. The internal electrode layers 3 are laminated so that the end faces are alternately exposed on the surfaces of the two opposite ends of the capacitor element body 10. The pair of external electrodes 4 are formed at both ends of the capacitor element body 10 and are connected to the exposed end surfaces of the alternately arranged internal electrode layers 3 to constitute a capacitor circuit.

コンデンサ素子本体10の外形や寸法には特に制限はなく、用途に応じて適宜設定することができ、通常、外形はほぼ直方体形状とし、寸法は通常、縦(0.4〜5.6mm)×横(0.2〜5.0mm)×高さ(0.2〜1.9mm)程度とすることができる。   The outer shape and dimensions of the capacitor element body 10 are not particularly limited and can be appropriately set according to the application. Usually, the outer shape is substantially a rectangular parallelepiped shape, and the dimensions are usually vertical (0.4 to 5.6 mm) × It can be about horizontal (0.2-5.0 mm) × height (0.2-1.9 mm).

誘電体層
誘電体層2は、本発明に係る誘電体磁器組成物を含有する。
本発明の誘電体磁器組成物は、
チタン酸バリウム(好ましくは、組成式BaTiO2+m で表され、mが0.995≦m≦1.010であり、BaとTiとの比が0.995≦Ba/Ti≦1.010である)を含む主成分と、
MgO,CaO,BaO及びSrOから選択される少なくとも1種を含む第1副成分と、
酸化シリコンを主成分として含有する第2副成分と、
,MoO及びWOから選択される少なくとも1種を含む第3副成分と、
R1の酸化物(但し、R1はSc,Er,Tm,Yb及びLuから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分と、
CaZrOまたはCaO+ZrOを含む第5副成分と、
MnO及びCrの一方または双方を含む第7副成分とを、有する。
The dielectric layer dielectric layer 2 contains the dielectric ceramic composition according to the present invention.
The dielectric ceramic composition of the present invention comprises:
Barium titanate (preferably represented by the composition formula Ba m TiO 2 + m , m is 0.995 ≦ m ≦ 1.010, and the ratio of Ba to Ti is 0.995 ≦ Ba / Ti ≦ 1.010 A main component containing
A first subcomponent comprising at least one selected from MgO, CaO, BaO and SrO;
A second subcomponent containing silicon oxide as a main component;
A third subcomponent comprising at least one selected from V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 ;
A fourth subcomponent comprising an oxide of R1, wherein R1 is at least one selected from Sc, Er, Tm, Yb and Lu;
A fifth subcomponent comprising CaZrO 3 or CaO + ZrO 2 ;
And a seventh subcomponent including one or both of MnO and Cr 2 O 3 .

本発明では、第1に、X8R特性を満足する誘電体組成に対して、第3副成分の比率(y3。但し、金属元素に換算した値)を、前記主成分100モルに対して1〜6モル(但し、1モルを除く)、好ましくは1.5〜4モルにする点に特徴がある。   In the present invention, first, the ratio of the third subcomponent (y3, where converted to a metal element) is 1 to 100 mol of the main component with respect to the dielectric composition satisfying the X8R characteristic. It is characterized by 6 mol (excluding 1 mol), preferably 1.5-4 mol.

なお、第3副成分の比率(y3)の換算は、V,MoO及びWOなどの”酸化物”のモル比ではなく、”金属元素、すなわちV、Mo及びWに換算したとき”のモル比である。すなわち、例えば第3副成分としてVの酸化物を用いた場合、第3副成分の比率(y3)が2モルであるということは、Vの比率が2モルであることを意味し、これを酸化物(V)に換算した場合の比率は1モルとなることを意味する。また、第3副成分としてMoの酸化物を用いた場合、第3副成分の比率(y3)が2モルであることは、Moの比率が2モルであり、これを酸化物(MoO)に換算した場合の比率も2モルとなる。Wについては、Moの場合に準じる。 The ratio of the third subcomponent (y3) was converted not to the molar ratio of “oxide” such as V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 but to “metal elements, ie, V, Mo and W”. Is the molar ratio of “when”. That is, for example, when V oxide is used as the third subcomponent, the ratio of the third subcomponent (y3) of 2 mol means that the ratio of V is 2 mol. The ratio in terms of oxide (V 2 O 5 ) means 1 mole. Moreover, when the oxide of Mo is used as the third subcomponent, the ratio of the third subcomponent (y3) is 2 mol. This means that the ratio of Mo is 2 mol and this is the oxide (MoO 3 ). The ratio when converted to 2 is also 2 mol. About W, it follows the case of Mo.

第3副成分(V,MoO及びWO)は、キュリー温度以上での容量温度特性を平坦化する効果、特に高温側での容量変化率の急降下を抑制する効果と、IR寿命を向上させる効果とを示す。第3副成分の比率(y3)が金属元素換算で1モル以下だと、高温側(150℃超)の容量変化率が悪化する。一方、第3副成分の比率(y3)が多すぎると、後述する第7副成分による調整によっても絶縁抵抗(IR)の劣化抑制を実現することが困難となる。 The third subcomponent (V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 ) has an effect of flattening the capacity-temperature characteristics above the Curie temperature, particularly an effect of suppressing a sudden drop in the capacity change rate on the high temperature side, and an IR lifetime. It shows the effect of improving. When the ratio of the third subcomponent (y3) is 1 mol or less in terms of metal element, the capacity change rate on the high temperature side (above 150 ° C.) deteriorates. On the other hand, when the ratio (y3) of the third subcomponent is too large, it becomes difficult to suppress the deterioration of the insulation resistance (IR) even by adjustment with the seventh subcomponent described later.

第3副成分は、V,MoO及びWOから選択される少なくとも1種を含むものであるが、好ましくはこれら3種の化合物から選択される少なくとも1種で構成し、より好ましくは少なくともVを含める。2種以上を組み合わせて用いる場合、特に好ましい組み合わせはV+MoO、V+WO、V+MoO+WOである。 The third subcomponent contains at least one selected from V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 , but preferably comprises at least one selected from these three compounds, more preferably at least V 2 O 5 is included. When using 2 or more types in combination, particularly preferred combinations are V 2 O 5 + MoO 3 , V 2 O 5 + WO 3 , V 2 O 5 + MoO 3 + WO 3 .

なお、第3副成分を複数の酸化物で構成するケースでは、合計比率が上述した範囲となるようにすればよい。すなわち、第3副成分中における各酸化物の構成比率は任意である。   In the case where the third subcomponent is composed of a plurality of oxides, the total ratio may be in the range described above. That is, the constituent ratio of each oxide in the third subcomponent is arbitrary.

本発明では、第2に、第7副成分の比率(y7。但し、金属元素に換算した値)を、前記第3副成分の比率(y3。但し、金属元素に換算した値)の0.25〜2.5倍、好ましくは0.5〜1.5倍の範囲に制御する点に特徴がある。前記y3は、上述したように金属元素に換算した値で1〜6モル(但し、1モルを除く)の範囲に制御されるので、ここでのy7は、主成分100モルに対して、0.25〜15モルの範囲で決定される。   In the present invention, secondly, the ratio of the seventh subcomponent (y7, where the value is converted into a metal element) is set to 0. 0 of the ratio of the third subcomponent (y3, where the value is converted into a metal element). It is characterized in that it is controlled in the range of 25 to 2.5 times, preferably 0.5 to 1.5 times. Since y3 is controlled in the range of 1 to 6 mol (excluding 1 mol) in terms of a metal element as described above, y7 here is 0 with respect to 100 mol of the main component. Determined in the range of 25 to 15 moles.

なお、第7副成分の比率(y7)の換算は、上記第3副成分の比率(y3)と同様であり、MnO及びCrなどの”酸化物”のモル比ではなく、”金属元素、すなわちMn及びCrに換算したとき”のモル比である。すなわち、例えば第7副成分としてMnの酸化物を用いた場合、第7副成分の比率(y7)がy3の0.25〜2.5倍した結果、1.5モルであるということは、Mnの比率が1.5モルであることを意味し、これを酸化物(MnO)に換算した場合の比率も1.5モルとなる。また、第7副成分としてCrの酸化物を用いた場合、第7副成分の比率(y7)が1.5モルであることは、Crの比率が1.5モルであり、これを酸化物(Cr)に換算した場合の比率は0.75モルとなる。 Note that the conversion of the ratio of the seventh subcomponent (y7) is the same as the ratio of the third subcomponent (y3), not the molar ratio of “oxide” such as MnO and Cr 2 O 3 but “metal”. It is the molar ratio of “when converted to elements, ie, Mn and Cr”. That is, for example, when an oxide of Mn is used as the seventh subcomponent, the ratio (y7) of the seventh subcomponent is 1.5 mol as a result of 0.25 to 2.5 times y3. It means that the ratio of Mn is 1.5 mol, and the ratio when converted to oxide (MnO) is also 1.5 mol. Further, when the oxide of Cr is used as the seventh subcomponent, the ratio of the seventh subcomponent (y7) is 1.5 mol. The ratio of Cr is 1.5 mol. The ratio when converted to (Cr 2 O 3 ) is 0.75 mol.

第7副成分(MnO及び/又はCr)は、焼結を促進する効果と、IRを高くする効果、特に高温側でのIR劣化を抑制する効果と、IR寿命を向上させる効果とを示す。第7副成分の比率(y7)がy3の0.25倍未満だと、高温側(150℃超)の絶縁抵抗(IR)の劣化抑制を実現することができない。一方、第7副成分の比率(y7)がy3の2.5倍を超えると、高温側(150℃超)の容量温度特性に悪影響を与える。 The seventh subcomponent (MnO and / or Cr 2 O 3 ) has an effect of promoting sintering, an effect of increasing IR, particularly an effect of suppressing IR deterioration on the high temperature side, and an effect of improving IR life. Indicates. If the ratio of the seventh subcomponent (y7) is less than 0.25 times y3, it is not possible to suppress deterioration of the insulation resistance (IR) on the high temperature side (above 150 ° C.). On the other hand, when the ratio of the seventh subcomponent (y7) exceeds 2.5 times y3, the capacity-temperature characteristic on the high temperature side (above 150 ° C.) is adversely affected.

第7副成分は、MnO及びCrの一方または双方を含むものであるが、好ましくはこれら2種の化合物の一方又は双方で構成し、より好ましくは少なくともMnOを含める。 The seventh subcomponent contains one or both of MnO and Cr 2 O 3 , but preferably comprises one or both of these two compounds, and more preferably contains at least MnO.

なお、第7副成分を複数の酸化物で構成するケースでは、合計比率が上述した範囲となるようにすればよい。すなわち、第7副成分中における各酸化物の構成比率は任意である。   In addition, what is necessary is just to make it a total ratio become the range mentioned above in the case where a 7th subcomponent is comprised with a some oxide. That is, the constituent ratio of each oxide in the seventh subcomponent is arbitrary.

つまり本発明では、第3副成分の比率(y3。但し、金属元素に換算した値)を、主成分100モルに対して1〜6モル(但し、1モルを除く)の範囲にしつつ、第7副成分の比率(y7。但し、金属元素に換算した値)と、第3副成分の比率(y3。但し、金属元素に換算した値)との比(y7/y3)が、0.25〜2.5の範囲となるように、前記y7の比率を決定することが特徴である。   In other words, in the present invention, the ratio of the third subcomponent (y3, where the value converted to the metal element) is in the range of 1 to 6 mol (excluding 1 mol) with respect to 100 mol of the main component, The ratio (y7 / y3) of the ratio of the seven subcomponents (y7, where converted into metal elements) and the ratio of the third subcomponent (y3, where converted into metal elements) is 0.25. The ratio of y7 is determined so as to be in a range of ˜2.5.

その他、主成分100モルに対する上記各副成分の比率(y1,y2,y4,y5)は、
第1副成分(y1):0.1〜3モル、
第2副成分(y2):2〜10モル、
第4副成分(y4):0.5〜7モル(但し、第4副成分のモル数は、R1単独での比率である)、
第5副成分(y5):5モル以下(但し、0モルを除く)であり、
好ましくは、
y1:0.5〜2.5モル、
y2:2〜5モル、
y4:0.5〜5モル、
y5:0.5〜3モルである。
In addition, the ratio (y1, y2, y4, y5) of each of the subcomponents with respect to 100 moles of the main component is
First subcomponent (y1): 0.1 to 3 mol,
Second subcomponent (y2): 2 to 10 mol,
Fourth subcomponent (y4): 0.5 to 7 mol (provided that the number of moles of the fourth subcomponent is the ratio of R1 alone),
5th subcomponent (y5): 5 mol or less (however, excluding 0 mol),
Preferably,
y1: 0.5-2.5 mol,
y2: 2 to 5 mol,
y4: 0.5-5 mol,
y5: 0.5-3 mol.

なお、第4副成分の上記比率は、R1酸化物のモル比ではなく、R1単独のモル比である。すなわち、例えば第4副成分としてYbの酸化物を用いた場合、第4副成分の比率が1モルであることは、Ybの比率が1モルなのではなく、Ybの比率が1モルであることを意味する。 Note that the ratio of the fourth subcomponent is not the molar ratio of the R1 oxide but the molar ratio of R1 alone. That is, for example, when an oxide of Yb is used as the fourth subcomponent, the ratio of the fourth subcomponent is 1 mol. The ratio of Yb 2 O 3 is not 1 mol but the ratio of Yb is 1 mol. It means that.

本明細書では、主成分及び各副成分を構成する各酸化物を化学量論組成で表しているが、各酸化物の酸化状態は、化学量論組成から外れるものであってもよい。但し、各副成分の上記比率は、各副成分を構成する酸化物に含有される金属量から上記化学量論組成の酸化物に換算して求める。   In this specification, each oxide constituting the main component and each subcomponent is represented by a stoichiometric composition, but the oxidation state of each oxide may be out of the stoichiometric composition. However, the said ratio of each subcomponent is calculated | required by converting into the oxide of the said stoichiometric composition from the metal amount contained in the oxide which comprises each subcomponent.

上記第1〜5副成分を含有させることで、高い誘電率を維持しながら、X8R特性を満足させることができる。第1,2,4,5副成分の好ましい比率及び理由は以下の通りである。   By containing the first to fifth subcomponents, the X8R characteristic can be satisfied while maintaining a high dielectric constant. Preferred ratios and reasons for the first, second, fourth and fifth subcomponents are as follows.

第1副成分(MgO,CaO,BaO及びSrO)は、容量温度特性を平坦化させる効果を示す。第1副成分の比率(y1)が少なすぎると、容量温度変化率が大きくなってしまう。一方、y1が多すぎると、焼結性が悪化する。なお、第1副成分中における各酸化物の構成比率は任意である。   The first subcomponent (MgO, CaO, BaO, and SrO) exhibits an effect of flattening the capacity-temperature characteristic. If the ratio (y1) of the first subcomponent is too small, the capacity-temperature change rate becomes large. On the other hand, when there is too much y1, sinterability will deteriorate. The composition ratio of each oxide in the first subcomponent is arbitrary.

第2副成分(酸化シリコンを主成分として含有する)は、主として焼結助剤として作用するが、薄層化した際の初期絶縁抵抗の不良率を改善する効果を有する。第2副成分の比率(y2)が少なすぎると、容量温度特性が悪くなり、また、IR(絶縁抵抗)が低下する。一方、y2が多すぎると、IR寿命が不十分となるほか、誘電率の急激な低下が生じてしまう。   The second subcomponent (containing silicon oxide as a main component) mainly acts as a sintering aid, but has an effect of improving the defective rate of the initial insulation resistance when thinned. When the ratio (y2) of the second subcomponent is too small, the capacity-temperature characteristic is deteriorated and IR (insulation resistance) is lowered. On the other hand, if the amount of y2 is too large, the IR lifetime becomes insufficient, and a rapid decrease in dielectric constant occurs.

好ましくは、第2副成分が、SiO、MO(但し、Mは、Ba、Ca、Sr及びMgから選ばれる少なくとも1種の元素)、LiO及びBから選ばれる少なくとも1種で表される。 Preferably, the second subcomponent is SiO 2 , MO (where M is at least one element selected from Ba, Ca, Sr and Mg), at least one selected from Li 2 O and B 2 O 3. It is represented by

より好ましくは、前記第2副成分が、(Ba,Ca)SiO2+x (但し、x=0.7〜1.2)で表される。第2副成分のより好ましい態様としての[(Ba,Ca)SiO2+x ]中のBaO及びCaOは第1副成分にも含まれるが、複合酸化物である(Ba,Ca)SiO2+x は融点が低いため主成分に対する反応性が良好なので、本発明ではBaO及び/またはCaOを上記複合酸化物としても添加することが好ましい。第2副成分のより好ましい態様としての(Ba,Ca)SiO2+x におけるxは、好ましくは0.7〜1.2であり、より好ましくは0.8〜1.1である。xが小さすぎると、すなわちSiOが多すぎると、主成分のBaTiOと反応して誘電体特性を悪化させてしまう。一方、xが大きすぎると、融点が高くなって焼結性を悪化させるため、好ましくない。なお、BaとCaとの比率は任意であり、一方だけを含有するものであってもよい。 More preferably, the second subcomponent is represented by (Ba, Ca) x SiO 2 + x (where x = 0.7 to 1.2). BaO and CaO in [(Ba, Ca) x SiO 2 + x ] as a more preferred embodiment of the second subcomponent are also included in the first subcomponent, but (Ba, Ca) x SiO 2 + x which is a composite oxide is Since the melting point is low and the reactivity with respect to the main component is good, in the present invention, it is preferable to add BaO and / or CaO as the composite oxide. X in (Ba, Ca) x SiO 2 + x as a more preferred embodiment of the second subcomponent is preferably 0.7 to 1.2, more preferably 0.8 to 1.1. If x is too small, that is, if SiO 2 is too much, it reacts with the main component BaTiO 3 to deteriorate the dielectric properties. On the other hand, if x is too large, the melting point becomes high and the sinterability is deteriorated, which is not preferable. In addition, the ratio of Ba and Ca is arbitrary and may contain only one side.

第4副成分(R1酸化物)は、キュリー温度を高温側へシフトさせる効果と、容量温度特性を平坦化する効果とを示す。第4副成分の比率(y4)が少なすぎると、このような効果が不十分となり、容量温度特性が悪くなってしまう。一方、y2が多すぎると、焼結性が悪化する傾向にある。第4副成分のうちでは、特性改善効果が高く、しかも安価であることから、Yb酸化物が好ましい。   The fourth subcomponent (R1 oxide) exhibits the effect of shifting the Curie temperature to the high temperature side and the effect of flattening the capacity-temperature characteristics. If the ratio of the fourth subcomponent (y4) is too small, such an effect is insufficient and the capacity-temperature characteristics are deteriorated. On the other hand, when y2 is too large, the sinterability tends to deteriorate. Among the fourth subcomponents, Yb oxide is preferable because it has a high characteristic improvement effect and is inexpensive.

第5副成分(CaZrO)は、キュリー温度を高温側へシフトさせる効果と、容量温度特性を平坦化する効果とを示す。また、CR積、直流絶縁破壊強度を改善する効果がある。但し、第5副成分の比率(y5)が多すぎると、IR加速寿命が著しく悪化し、容量温度特性(X8R特性)が悪くなってしまう。CaZrOの添加形態は特に限定されず、CaOなどのCaから構成される酸化物、CaCOなどの炭酸塩、有機化合物、CaZrOなどを挙げることができる。CaとZrの比率は特に限定されず、主成分であるBaTiOに固溶させない程度に決定すればよいが、Zrに対するCaのモル比(Ca/Zr)が、好ましくは0.5〜1.5、より好ましくは0.8〜1.5、さらに好ましくは0.9〜1.1である。 The fifth subcomponent (CaZrO 3 ) exhibits the effect of shifting the Curie temperature to the high temperature side and the effect of flattening the capacity-temperature characteristics. In addition, the CR product and the DC breakdown strength are improved. However, if the ratio of the fifth subcomponent (y5) is too large, the IR accelerated life is remarkably deteriorated and the capacity-temperature characteristic (X8R characteristic) is deteriorated. The addition form of CaZrO 3 is not particularly limited, and examples thereof include oxides composed of Ca such as CaO, carbonates such as CaCO 3 , organic compounds, and CaZrO 3 . The ratio of Ca and Zr is not particularly limited and may be determined so as not to be dissolved in the main component BaTiO 3 , but the molar ratio of Ca to Zr (Ca / Zr) is preferably 0.5 to 1. 5, More preferably, it is 0.8-1.5, More preferably, it is 0.9-1.1.

本発明の誘電体磁器組成物には、必要に応じ、第6副成分として、R2酸化物(但し、R2はY、Dy、Ho、Tb、Gd及びEuから選択される少なくとも一種)が含有され、前記第6副成分の比率(y6)が、前記主成分100モルに対し、好ましくは9モル以下(但し、0モルを除く。第6副成分のモル数は、R2単独での比率である)、より好ましくは0.5〜9モルであることが好ましい。この第6副成分(R2酸化物)は、IR及びIR寿命を改善する効果を示し、容量温度特性への悪影響も少ない。但し、R2酸化物の比率(y6)が多すぎると、焼結性が悪化する傾向にある。第6副成分のうちでは、特性改善効果が高く、しかも安価であることから、Y酸化物が好ましい。   The dielectric ceramic composition of the present invention contains an R2 oxide (wherein R2 is at least one selected from Y, Dy, Ho, Tb, Gd and Eu) as a sixth subcomponent, if necessary. The ratio of the sixth subcomponent (y6) is preferably 9 mol or less (excluding 0 mol) with respect to 100 mol of the main component. The number of moles of the sixth subcomponent is the ratio of R2 alone. ), More preferably 0.5 to 9 mol. This sixth subcomponent (R2 oxide) exhibits the effect of improving IR and IR lifetime, and has little adverse effect on the capacity-temperature characteristics. However, if the ratio (y6) of the R2 oxide is too large, the sinterability tends to deteriorate. Of the sixth subcomponents, Y oxide is preferred because of its high effect of improving characteristics and low cost.

第4副成分及び第6副成分の合計の比率(y4+y6)は、前記主成分100モルに対し、好ましくは13モル以下(但し、0モルを除く。第4副成分及び第6副成分のモル数は、R1及びR2単独での比率である)、さらに好ましくは10モル以下である。焼結性を良好に保つためである。   The total ratio of the fourth subcomponent and the sixth subcomponent (y4 + y6) is preferably 13 mol or less (excluding 0 mol) with respect to 100 mol of the main component. The moles of the fourth subcomponent and the sixth subcomponent. The number is the ratio of R1 and R2 alone), more preferably 10 moles or less. This is for maintaining good sinterability.

本発明の誘電体磁器組成物には、第8副成分として、Aの酸化物(但し、Aは、6配位時の有効イオン半径が0.065nm〜0.085nmの陽イオン元素群から選択される少なくとも1種)をさらに有することが好ましい。   In the dielectric ceramic composition of the present invention, as an eighth subcomponent, an oxide of A (where A is selected from a group of cationic elements having an effective ion radius of 0.065 nm to 0.085 nm at the time of six coordination. It is preferable to further have at least one kind.

第8副成分は、容量温度特性にあまり影響を与えず、IR温度依存性を改善する効果を有する。   The eighth subcomponent does not significantly affect the capacity-temperature characteristics and has the effect of improving the IR temperature dependency.

前記第8副成分の陽イオン元素群には、I(0.067nm)、Ge(0.067nm)、Al(0.0675nm)、Cu(0.068nm)、Fe(0.069nm)、Ni(0.070nm)、Au(0.071nm)、As(0.072nm)、Ga(0.076nm)、At(0.076nm)、Os(0.077nm)、Nb(0.078nm)、Ta(0.078nm)、Co(0.079nm)、Rh(0.080nm)、Ir(0.082nm)、Ru(0.082nm)、Sn(0.083nm)が含まれるが、P(0.052nm)、K(0.152nm)は含まれない。なお、括弧内の数字は6配位時の有効イオン半径を示す。以下同様である。   The eighth sub-component cationic element group includes I (0.067 nm), Ge (0.067 nm), Al (0.0675 nm), Cu (0.068 nm), Fe (0.069 nm), Ni ( 0.070 nm), Au (0.071 nm), As (0.072 nm), Ga (0.076 nm), At (0.076 nm), Os (0.077 nm), Nb (0.078 nm), Ta (0 0.078 nm), Co (0.079 nm), Rh (0.080 nm), Ir (0.082 nm), Ru (0.082 nm), Sn (0.083 nm), P (0.052 nm), K (0.152 nm) is not included. In addition, the number in parenthesis shows the effective ion radius at the time of 6 coordination. The same applies hereinafter.

前記陽イオン元素群の中でも6配位時の有効イオン半径が0.067〜0.076nmの元素を用いることが好ましい。このような好ましい元素群には、I、Ge、Al、Cu、Fe、Ni、Au、As、Ga、Atが含まれ、より好ましくはAl、Ga、Geの陽イオン元素群から選択される少なくとも1種を用い、さらに好ましくは少なくともAlを用いる。2種以上を組み合わせて用いる場合、特に好ましい組み合わせはAl+Ga、Al+Geである。   Among the cation element group, it is preferable to use an element having an effective ion radius of 0.067 to 0.076 nm at the time of six coordination. Such preferred element groups include I, Ge, Al, Cu, Fe, Ni, Au, As, Ga, At, and more preferably at least selected from the cationic element group of Al, Ga, Ge. One type is used, more preferably at least Al. When two or more types are used in combination, particularly preferred combinations are Al + Ga and Al + Ge.

第8副成分の比率(y8)は、前記主成分100モルに対して、A酸化物に換算した値で、好ましくは0〜4モル(但し、0モルと4モルを除く)、より好ましくは0〜3.5モル(但し、0モルを除く)、さらに好ましくは0.5〜3.5モル、特に好ましくは1〜1.5モルである。第8副成分を少量でも添加することで、IR温度依存性を改善する効果が発揮される。一方、第8副成分の比率(y8)が多すぎると容量温度特性が悪化する傾向にある。   The ratio (y8) of the eighth subcomponent is a value converted to A oxide with respect to 100 mol of the main component, preferably 0 to 4 mol (excluding 0 mol and 4 mol), more preferably It is 0-3.5 mol (however, except 0 mol), More preferably, it is 0.5-3.5 mol, Most preferably, it is 1-1.5 mol. By adding even a small amount of the eighth subcomponent, the effect of improving IR temperature dependency is exhibited. On the other hand, if the ratio (y8) of the eighth subcomponent is too large, the capacity-temperature characteristic tends to deteriorate.

第8副成分の上記比率は、A単独のモル比ではなく、A酸化物のモル比である。すなわち、例えば第8副成分としてAlの酸化物を用いた場合、第8副成分の比率が1モルであることは、Alの比率が1モルなのではなく、Alの比率が1モルであることを意味する。 The ratio of the eighth subcomponent is not the molar ratio of A alone but the molar ratio of A oxide. That is, for example, when an Al oxide is used as the eighth subcomponent, the ratio of the eighth subcomponent is 1 mol. The ratio of Al 2 O 3 is not 1 mol but the ratio of Al 2 O 3 is 1 mol. It means that.

なお、第8副成分として2種以上の複数の元素(酸化物)を用いる場合には、合計含有量が前記主成分100モルに対して、上記範囲となるようにすればよい。すなわち第8副成分中における各酸化物の構成比率は任意である。   In addition, when using 2 or more types of several elements (oxide) as an 8th subcomponent, what is necessary is just to make it a total content be the said range with respect to 100 mol of said main components. That is, the constituent ratio of each oxide in the eighth subcomponent is arbitrary.

なお、Sr,Zr及びSnの少なくとも1種が、ペロブスカイト構造を構成する主成分中のBaまたはTiを置換している場合、キュリー温度が低温側にシフトするため、125℃以上での容量温度特性が悪くなる。このため、これらの元素を含むBaTiO[例えば(Ba,Sr)TiO]を主成分として用いないことが好ましい。但し、不純物として含有されるレベル(誘電体磁器組成物全体の0.1モル%程度以下)であれば、特に問題はない。 In addition, when at least one of Sr, Zr, and Sn substitutes Ba or Ti in the main component constituting the perovskite structure, the Curie temperature shifts to a low temperature side, so that the capacity-temperature characteristics at 125 ° C. or higher Becomes worse. For this reason, it is preferable not to use BaTiO 3 [for example, (Ba, Sr) TiO 3 ] containing these elements as a main component. However, there is no particular problem as long as the level is contained as an impurity (about 0.1 mol% or less of the entire dielectric ceramic composition).

本発明の誘電体磁器組成物の平均結晶粒径は、特に限定されず、誘電体層の厚さなどに応じて例えば0.1〜3μmの範囲から適宜決定すればよい。   The average crystal grain size of the dielectric ceramic composition of the present invention is not particularly limited, and may be appropriately determined from a range of, for example, 0.1 to 3 μm according to the thickness of the dielectric layer.

容量温度特性は、誘電体層が薄いほど悪化し、また、平均結晶粒径を小さくするほど悪化する傾向にある。このため、本発明の誘電体磁器組成物は、平均結晶粒径を小さくする必要がある場合に、具体的には、平均結晶粒径が0.1〜0.5μmである場合に特に有効である。また、平均結晶粒径を小さくすれば、IR寿命が長くなり、また、直流電界下での容量の経時変化が少なくなるため、この点からも平均結晶粒径は上記のように小さいことが好ましい。   Capacitance-temperature characteristics tend to deteriorate as the dielectric layer is thinner, and worsen as the average crystal grain size is reduced. Therefore, the dielectric ceramic composition of the present invention is particularly effective when the average crystal grain size needs to be reduced, specifically when the average crystal grain size is 0.1 to 0.5 μm. is there. In addition, if the average crystal grain size is reduced, the IR lifetime becomes longer, and the change with time of the capacity under a direct current electric field is reduced. From this point, the average crystal grain size is preferably small as described above. .

本発明の誘電体磁器組成物のキュリー温度(強誘電体から常誘電体への相転移温度)は、組成を選択することにより変更することができるが、X8R特性以上の高温側の温度特性を改善するためには、好ましくは120℃以上、より好ましくは123℃以上とする。なお、キュリー温度は、DSC(示差走査熱量測定)などによって測定できる。   The Curie temperature (phase transition temperature from ferroelectric to paraelectric) of the dielectric ceramic composition of the present invention can be changed by selecting the composition, but the temperature characteristics on the high temperature side that are higher than the X8R characteristics can be obtained. In order to improve, it is preferably 120 ° C. or higher, more preferably 123 ° C. or higher. The Curie temperature can be measured by DSC (differential scanning calorimetry) or the like.

本発明の誘電体磁器組成物から構成される誘電体層の厚さは、一層あたり、通常40μm以下、特に30μm以下である。厚さの下限は、通常、2μm程度である。   The thickness of the dielectric layer composed of the dielectric ceramic composition of the present invention is usually 40 μm or less, particularly 30 μm or less per layer. The lower limit of the thickness is usually about 2 μm.

本発明の誘電体磁器組成物は、このような薄層化した誘電体層を有する積層セラミックコンデンサの容量温度特性(特に150℃を超える高温側)の改善に有効である。なお、誘電体層の積層数は、通常2〜300程度とする。   The dielectric ceramic composition of the present invention is effective in improving the capacitance-temperature characteristics (particularly on the high temperature side exceeding 150 ° C.) of the multilayer ceramic capacitor having such a thinned dielectric layer. The number of dielectric layers stacked is usually about 2 to 300.

本発明の誘電体磁器組成物を用いた積層セラミックコンデンサは、80℃以上、特に125〜175℃の高温環境下で使用される機器用電子部品として用いて好適である。そして、このような温度範囲において、容量の温度特性がEIA規格のR特性を満足し、さらに、X8R特性も満足することはもとより、150℃を超える高温領域(たとえば175℃)においても、静電容量の温度変化率が±15%以内を満足することが可能である。また、EIAJ規格のB特性[−25〜85℃で容量変化率±10%以内(基準温度20℃)]、EIA規格のX7R特性(−55〜125℃、ΔC=±15%以内)も同時に満足することが可能である。   The multilayer ceramic capacitor using the dielectric ceramic composition of the present invention is suitable for use as an electronic device for equipment used in a high temperature environment of 80 ° C. or more, particularly 125 to 175 ° C. In such a temperature range, the capacitance temperature characteristic satisfies the EIA standard R characteristic and further satisfies the X8R characteristic, and also in a high temperature region exceeding 150 ° C. (for example, 175 ° C.). It is possible to satisfy the temperature change rate of the capacity within ± 15%. EIAJ standard B characteristics [capacity change rate within ± 10% at −25 to 85 ° C. (reference temperature 20 ° C.)] and EIA standard X7R characteristics (−55 to 125 ° C., ΔC = within ± 15%) at the same time It is possible to be satisfied.

積層セラミックコンデンサでは、誘電体層に、通常、0.02V/μm以上、特に0.2V/μm以上、さらには0.5V/μm以上、一般に5V/μm程度以下の交流電界と、これに重畳して5V/μm以下の直流電界とが加えられるが、このような電界が加わっても、容量の温度特性は安定している。   In a multilayer ceramic capacitor, an AC electric field of 0.02 V / μm or more, particularly 0.2 V / μm or more, more preferably 0.5 V / μm or more, and generally about 5 V / μm or less is superimposed on the dielectric layer. Then, a DC electric field of 5 V / μm or less is applied, but even if such an electric field is applied, the temperature characteristics of the capacitance are stable.

内部電極層
内部電極層3に含有される導電材は特に限定されないが、誘電体層2の構成材料が耐還元性を有するため、卑金属を用いることができる。導電材として用いる卑金属としては、NiまたはNi合金が好ましい。Ni合金としては、Mn,Cr,Co及びAlから選択される1種以上の元素とNiとの合金が好ましく、合金中のNi含有量は95重量%以上であることが好ましい。
Although the conductive material contained in the internal electrode layer 3 is not particularly limited, a base metal can be used because the constituent material of the dielectric layer 2 has reduction resistance. As the base metal used as the conductive material, Ni or Ni alloy is preferable. The Ni alloy is preferably an alloy of Ni and one or more elements selected from Mn, Cr, Co, and Al, and the Ni content in the alloy is preferably 95% by weight or more.

なお、NiまたはNi合金中には、P等の各種微量成分が0.1重量%程度以下含まれていてもよい。   In addition, in Ni or Ni alloy, various trace components, such as P, may be contained about 0.1 wt% or less.

内部電極層の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、0.5〜5μm、特に0.5〜2.5μm程度であることが好ましい。   The thickness of the internal electrode layer may be appropriately determined according to the application, etc., but it is usually preferably about 0.5 to 5 μm, particularly preferably about 0.5 to 2.5 μm.

外部電極
外部電極4に含有される導電材は特に限定されないが、本発明では安価なNi,Cuや、これらの合金を用いることができる。
The conductive material contained in the external electrode external electrode 4 is not particularly limited, but in the present invention, inexpensive Ni, Cu, and alloys thereof can be used.

外部電極の厚さは用途等に応じて適宜決定されればよいが、通常、10〜50μm程度であることが好ましい。   The thickness of the external electrode may be appropriately determined according to the use, etc., but is usually preferably about 10 to 50 μm.

積層セラミックコンデンサの製造方法
本発明の誘電体磁器組成物を用いた積層セラミックコンデンサは、従来の積層セラミックコンデンサと同様に、ペーストを用いた通常の印刷法やシート法によりグリーンチップを作製し、これを焼成した後、外部電極を印刷または転写して焼成することにより製造される。以下、製造方法について具体的に説明する。
Manufacturing Method of Multilayer Ceramic Capacitor A multilayer ceramic capacitor using the dielectric ceramic composition of the present invention is a green chip produced by a normal printing method or sheet method using a paste, as in the case of a conventional multilayer ceramic capacitor. After firing, the external electrode is printed or transferred and fired. Hereinafter, the manufacturing method will be specifically described.

まず、誘電体層用ペーストに含まれる誘電体磁器組成物粉末を準備し、これを塗料化して、誘電体層用ペーストを調整する。   First, the dielectric ceramic composition powder contained in the dielectric layer paste is prepared, and this is made into a paint to prepare the dielectric layer paste.

誘電体層用ペーストは、誘電体磁器組成物粉末と有機ビヒクルとを混練した有機系の塗料であってもよく、水系の塗料であってもよい。   The dielectric layer paste may be an organic paint obtained by kneading a dielectric ceramic composition powder and an organic vehicle, or may be a water-based paint.

誘電体磁器組成物粉末としては、上記した酸化物やその混合物、複合酸化物を用いることができるが、その他、焼成により上記した酸化物や複合酸化物となる各種化合物、例えば、炭酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩、水酸化物、有機金属化合物等から適宜選択し、混合して用いることもできる。誘電体磁器組成物粉末中の各化合物の含有量は、焼成後に上記した誘電体磁器組成物の組成となるように決定すればよい。   As the dielectric ceramic composition powder, the above-described oxides, mixtures thereof, and composite oxides can be used. In addition, various compounds that become the above-described oxides and composite oxides by firing, such as carbonates and An acid salt, a nitrate, a hydroxide, an organometallic compound, or the like can be appropriately selected and mixed for use. What is necessary is just to determine content of each compound in a dielectric ceramic composition powder so that it may become a composition of the above-mentioned dielectric ceramic composition after baking.

塗料化する前の状態で、誘電体磁器組成物粉末の粒径は、通常、平均粒径0.1〜3μm程度である。   The particle size of the dielectric ceramic composition powder is usually about 0.1 to 3 [mu] m in average before the coating.

有機ビヒクルとは、バインダを有機溶剤中に溶解したものである。有機ビヒクルに用いるバインダは特に限定されず、エチルセルロース、ポリビニルブチラール等の通常の各種バインダから適宜選択すればよい。また、用いる有機溶剤も特に限定されず、印刷法やシート法など、利用する方法に応じて、テルピネオール、ブチルカルビトール、アセトン、トルエン等の各種有機溶剤から適宜選択すればよい。   An organic vehicle is obtained by dissolving a binder in an organic solvent. The binder used for the organic vehicle is not particularly limited, and may be appropriately selected from usual various binders such as ethyl cellulose and polyvinyl butyral. Further, the organic solvent to be used is not particularly limited, and may be appropriately selected from various organic solvents such as terpineol, butyl carbitol, acetone, toluene, and the like, depending on a method to be used such as a printing method or a sheet method.

また、誘電体層用ペーストを水系の塗料とする場合には、水溶性のバインダや分散剤などを水に溶解させた水系ビヒクルと、誘電体原料とを混練すればよい。水系ビヒクルに用いる水溶性バインダは特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール、セルロース、水溶性アクリル樹脂などを用いればよい。   Further, when the dielectric layer paste is used as a water-based paint, a water-based vehicle in which a water-soluble binder or a dispersant is dissolved in water and a dielectric material may be kneaded. The water-soluble binder used for the water-based vehicle is not particularly limited, and for example, polyvinyl alcohol, cellulose, water-soluble acrylic resin, or the like may be used.

内部電極層用ペーストは、上記した各種誘電性金属や合金からなる導電材、あるいは焼成後に上記した導電材となる各種酸化物、有機金属化合物、レジネート等と、上記した有機ビヒクルとを混練して調製する。   The internal electrode layer paste is obtained by kneading the above-mentioned organic vehicle with various conductive metals composed of various dielectric metals and alloys, or various oxides, organometallic compounds, resinates, etc. that become the above-mentioned conductive materials after firing. Prepare.

外部電極用ペーストは、上記した内部電極層用ペーストと同様にして調製すればよい。   The external electrode paste may be prepared in the same manner as the internal electrode layer paste described above.

上記した各ペースト中の有機ビヒクルの含有量に特に制限はなく、通常の含有量、例えば、バインダは1〜5重量%程度、溶剤は10〜50重量%程度とすればよい。また、各ペースト中には、必要に応じて各種分散剤、可塑剤、誘電体、絶縁体等から選択される添加物が含有されていてもよい。これらの総含有量は、10重量%以下とすることが好ましい。   There is no restriction | limiting in particular in content of the organic vehicle in each above-mentioned paste, For example, what is necessary is just about 1-5 weight% of binders, for example, about 10-50 weight% of binders. Each paste may contain additives selected from various dispersants, plasticizers, dielectrics, insulators, and the like as necessary. The total content of these is preferably 10% by weight or less.

印刷法を用いる場合、誘電体層用ペースト及び内部電極層用ペーストを、PET等の基板上に積層印刷し、所定形状に切断した後、基板から剥離してグリーンチップとする。   When the printing method is used, the dielectric layer paste and the internal electrode layer paste are laminated and printed on a substrate such as PET, cut into a predetermined shape, and then peeled from the substrate to obtain a green chip.

また、シート法を用いる場合、誘電体層用ペーストを用いてグリーンシートを形成し、この上に内部電極層用ペーストを印刷した後、これらを積層してグリーンチップとする。   When the sheet method is used, a dielectric layer paste is used to form a green sheet, the internal electrode layer paste is printed thereon, and these are stacked to form a green chip.

焼成前に、グリーンチップに脱バインダ処理を施す。脱バインダ処理は、内部電極層ペースト中の導電材の種類に応じて適宜決定されればよいが、導電材としてNiやNi合金等の卑金属を用いる場合、脱バインダ雰囲気中の酸素分圧を10−45 〜10Paとすることが好ましい。酸素分圧が前記範囲未満であると、脱バインダ効果が低下する。また酸素分圧が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にある。 Before firing, the green chip is subjected to binder removal processing. The binder removal treatment may be appropriately determined according to the type of the conductive material in the internal electrode layer paste. However, when a base metal such as Ni or Ni alloy is used as the conductive material, the oxygen partial pressure in the binder removal atmosphere is 10 It is preferable to be −45 to 10 5 Pa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, the binder removal effect is lowered. If the oxygen partial pressure exceeds the above range, the internal electrode layer tends to oxidize.

また、それ以外の脱バインダ条件としては、昇温速度を好ましくは5〜300℃/時間、より好ましくは10〜100℃/時間、保持温度を好ましくは180〜400℃、より好ましくは200〜350℃、温度保持時間を好ましくは0.5〜24時間、より好ましくは2〜20時間とする。また、焼成雰囲気は、空気もしくは還元性雰囲気とすることが好ましく、還元性雰囲気における雰囲気ガスとしては、たとえばNとHとの混合ガスを加湿して用いることが好ましい。 As other binder removal conditions, the temperature rising rate is preferably 5 to 300 ° C./hour, more preferably 10 to 100 ° C./hour, and the holding temperature is preferably 180 to 400 ° C., more preferably 200 to 350. The temperature holding time is preferably 0.5 to 24 hours, more preferably 2 to 20 hours. The firing atmosphere is preferably air or a reducing atmosphere, and as an atmosphere gas in the reducing atmosphere, for example, a mixed gas of N 2 and H 2 is preferably used after being humidified.

グリーンチップ焼成時の雰囲気は、内部電極層用ペースト中の導電材の種類に応じて適宜決定されればよいが、導電材としてNiやNi合金等の卑金属を用いる場合、焼成雰囲気中の酸素分圧は、10−7〜10−3Paとすることが好ましい。酸素分圧が前記範囲未満であると、内部電極層の導電材が異常焼結を起こし、途切れてしまうことがある。また、酸素分圧が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化する傾向にある。 The atmosphere at the time of green chip firing may be appropriately determined according to the type of conductive material in the internal electrode layer paste, but when a base metal such as Ni or Ni alloy is used as the conductive material, the oxygen content in the firing atmosphere The pressure is preferably 10 −7 to 10 −3 Pa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, the conductive material of the internal electrode layer may be abnormally sintered and may be interrupted. Further, when the oxygen partial pressure exceeds the above range, the internal electrode layer tends to be oxidized.

また、焼成時の保持温度は、好ましくは1100〜1400℃、より好ましくは1200〜1380℃、さらに好ましくは1260〜1360℃である。保持温度が前記範囲未満であると緻密化が不十分となり、前記範囲を超えると、内部電極層の異常焼結による電極の途切れや、内部電極層構成材料の拡散による容量温度特性の悪化、誘電体磁器組成物の還元が生じやすくなる。   Moreover, the holding temperature at the time of baking becomes like this. Preferably it is 1100-1400 degreeC, More preferably, it is 1200-1380 degreeC, More preferably, it is 1260-1360 degreeC. If the holding temperature is lower than the above range, the densification becomes insufficient. If the holding temperature is higher than the above range, the electrode temperature is interrupted due to abnormal sintering of the internal electrode layer, the capacity temperature characteristic deteriorates due to diffusion of the constituent material of the internal electrode layer, and the dielectric Reduction of the body porcelain composition is likely to occur.

これ以外の焼成条件としては、昇温速度を好ましくは50〜500℃/時間、より好ましくは200〜300℃/時間、温度保持時間を好ましくは0.5〜8時間、より好ましくは1〜3時間、冷却速度を好ましくは50〜500℃/時間、より好ましくは200〜300℃/時間とする。また、焼成雰囲気は還元性雰囲気とすることが好ましく、雰囲気ガスとしてはたとえば、NとHとの混合ガスを加湿して用いることが好ましい。 As other firing conditions, the rate of temperature rise is preferably 50 to 500 ° C./hour, more preferably 200 to 300 ° C./hour, and the temperature holding time is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 1 to 3 hours. The time and cooling rate are preferably 50 to 500 ° C./hour, more preferably 200 to 300 ° C./hour. Further, the firing atmosphere is preferably a reducing atmosphere, and as the atmosphere gas, for example, a mixed gas of N 2 and H 2 is preferably used by humidification.

還元性雰囲気中で焼成した場合、コンデンサ素子本体にはアニールを施すことが好ましい。アニールは、誘電体層を再酸化するための処理であり、これによりIR寿命を著しく長くすることができるので、信頼性が向上する。   When firing in a reducing atmosphere, it is preferable to anneal the capacitor element body. Annealing is a process for re-oxidizing the dielectric layer, and this can significantly increase the IR lifetime, thereby improving the reliability.

アニール雰囲気中の酸素分圧は、0.1Pa以上、特に0.1〜10Paとすることが好ましい。酸素分圧が前記範囲未満であると誘電体層の再酸化が困難であり、前記範囲を超えると内部電極層が酸化する傾向にある。   The oxygen partial pressure in the annealing atmosphere is preferably 0.1 Pa or more, particularly 0.1 to 10 Pa. When the oxygen partial pressure is less than the above range, it is difficult to reoxidize the dielectric layer, and when it exceeds the above range, the internal electrode layer tends to be oxidized.

アニールの際の保持温度は、1100℃以下、特に500〜1100℃とすることが好ましい。保持温度が前記範囲未満であると誘電体層の酸化が不十分となるので、IRが低く、また、IR寿命が短くなりやすい。一方、保持温度が前記範囲を超えると、内部電極層が酸化して容量が低下するだけでなく、内部電極層が誘電体素地と反応してしまい、容量温度特性の悪化、IRの低下、IR寿命の低下が生じやすくなる。なお、アニールは昇温過程及び降温過程だけから構成してもよい。すなわち、温度保持時間を零としてもよい。この場合、保持温度は最高温度と同義である。   The holding temperature at the time of annealing is preferably 1100 ° C. or less, particularly 500 to 1100 ° C. When the holding temperature is lower than the above range, the dielectric layer is not sufficiently oxidized, so that the IR is low and the IR life tends to be short. On the other hand, if the holding temperature exceeds the above range, not only the internal electrode layer is oxidized and the capacity is lowered, but the internal electrode layer reacts with the dielectric substrate, the capacity temperature characteristic is deteriorated, the IR is lowered, the IR Life is likely to decrease. In addition, you may comprise annealing only from a temperature rising process and a temperature falling process. That is, the temperature holding time may be zero. In this case, the holding temperature is synonymous with the maximum temperature.

これ以外のアニール条件としては、温度保持時間を好ましくは0〜20時間、より好ましくは2〜10時間、冷却速度を好ましくは50〜500℃/時間、より好ましくは100〜300℃/時間とする。また、アニールの雰囲気ガスとしては、たとえば、加湿したNガス等を用いることが好ましい。 As other annealing conditions, the temperature holding time is preferably 0 to 20 hours, more preferably 2 to 10 hours, and the cooling rate is preferably 50 to 500 ° C./hour, more preferably 100 to 300 ° C./hour. . Further, as the annealing atmosphere gas, for example, humidified N 2 gas or the like is preferably used.

上記した脱バインダ処理、焼成及びアニールにおいて、Nガスや混合ガス等を加湿するには、例えばウェッター等を使用すればよい。この場合、水温は5〜75℃程度が好ましい。 In the above-described binder removal processing, firing and annealing, for example, a wetter or the like may be used to wet the N 2 gas, mixed gas, or the like. In this case, the water temperature is preferably about 5 to 75 ° C.

脱バインダ処理、焼成及びアニールは、連続して行なっても、独立に行なってもよい。これらを連続して行なう場合、脱バインダ処理後、冷却せずに雰囲気を変更し、続いて焼成の際の保持温度まで昇温して焼成を行ない、次いで冷却し、アニールの保持温度に達したときに雰囲気を変更してアニールを行なうことが好ましい。一方、これらを独立して行なう場合、焼成に際しては、脱バインダ処理時の保持温度までNガスあるいは加湿したNガス雰囲気下で昇温した後、雰囲気を変更してさらに昇温を続けることが好ましく、アニール時の保持温度まで冷却した後は、再びNガスあるいは加湿したNガス雰囲気に変更して冷却を続けることが好ましい。また、アニールに際しては、Nガス雰囲気下で保持温度まで昇温した後、雰囲気を変更してもよく、アニールの全過程を加湿したNガス雰囲気としてもよい。 The binder removal treatment, firing and annealing may be performed continuously or independently. When these are performed continuously, after removing the binder, the atmosphere is changed without cooling, and then the temperature is raised to the holding temperature at the time of baking to perform baking, and then cooled to reach the annealing holding temperature. Sometimes it is preferable to perform annealing by changing the atmosphere. On the other hand, when performing these independently, at the time of firing, after raising the temperature under N 2 gas atmosphere with N 2 gas or wet to the holding temperature of the binder removal processing, further continuing the heating to change the atmosphere Preferably, after cooling to the holding temperature at the time of annealing, it is preferable to change to the N 2 gas or humidified N 2 gas atmosphere again and continue cooling. In annealing, the temperature may be changed to a holding temperature in an N 2 gas atmosphere, and then the atmosphere may be changed, or the entire annealing process may be a humidified N 2 gas atmosphere.

上記のようにして得られたコンデンサ素子本体に、例えばバレル研磨やサンドブラストなどにより端面研磨を施し、外部電極用ペーストを印刷または転写して焼成し、外部電極4を形成する。外部電極用ペーストの焼成条件は、例えば、加湿したNとHとの混合ガス中で600〜800℃にて10分間〜1時間程度とすることが好ましい。そして、必要に応じ、外部電極4表面に、めっき等により被覆層を形成する。 The capacitor element body obtained as described above is subjected to end surface polishing, for example, by barrel polishing or sand blasting, and the external electrode paste is printed or transferred and baked to form the external electrode 4. The firing conditions of the external electrode paste are preferably, for example, about 10 minutes to 1 hour at 600 to 800 ° C. in a humidified mixed gas of N 2 and H 2 . Then, if necessary, a coating layer is formed on the surface of the external electrode 4 by plating or the like.

このようにして製造された本発明の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。   The multilayer ceramic capacitor of the present invention thus manufactured is mounted on a printed circuit board by soldering or the like and used for various electronic devices.

以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明はこうした実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々なる態様で実施し得ることは勿論である。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to such embodiment at all, Of course, in the range which does not deviate from the summary of this invention, it can implement in various aspects. .

たとえば、上述した実施形態では、本発明に係る電子部品として積層セラミックコンデンサを例示したが、本発明に係る電子部品としては、積層セラミックコンデンサに限定されず、上記組成の誘電体磁器組成物で構成してある誘電体層を有するものであれば何でも良い。   For example, in the above-described embodiment, the multilayer ceramic capacitor is exemplified as the electronic component according to the present invention. However, the electronic component according to the present invention is not limited to the multilayer ceramic capacitor, and is composed of a dielectric ceramic composition having the above composition. Any material having a dielectric layer can be used.

次に、本発明の実施の形態をより具体化した実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説明する。但し、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples that further embody the embodiment of the present invention. However, the present invention is not limited to only these examples.

実施例1
まず、誘電体材料を作製するための出発原料として、それぞれ平均粒径0.1〜1μmの主成分原料(BaTiO)、第1〜第7副成分原料を用意した。
Example 1
First, as starting materials for producing a dielectric material, a main component material (BaTiO 3 ) and first to seventh subcomponent materials having an average particle diameter of 0.1 to 1 μm were prepared.

MgOとMnOの原料には炭酸塩(第1副成分:MgCO、第7副成分:MnCO)を用い、他の原料には酸化物(第2副成分:(Ba0.6 Ca0.4 )SiO、第3副成分:V、第4副成分:Yb、第5副成分:CaZrO、第6副成分:Y)を用いた。なお、第2副成分である(Ba0.6 Ca0.4 )SiOは、BaCO,CaCO及びSiOをボールミルにより16時間湿式混合し、乾燥後、1150℃で空気中で焼成し、さらに、ボールミルにより100時間湿式粉砕することにより製造した。また、第5副成分であるCaZrOは、CaCO及びZrOをボールミルにより16時間湿式混合し、乾燥後、1150℃で空気中で焼成し、さらに、ボールミルにより24時間湿式粉砕することにより製造した。 Carbonates (first subcomponent: MgCO 3 , seventh subcomponent: MnCO 3 ) are used as raw materials for MgO and MnO, and oxides (second subcomponent: (Ba 0.6 Ca 0. 4 ) SiO 3 , third subcomponent: V 2 O 5 , fourth subcomponent: Yb 2 O 3 , fifth subcomponent: CaZrO 3 , sixth subcomponent: Y 2 O 3 ) were used. In addition, (Ba 0.6 Ca 0.4 ) SiO 3 as the second subcomponent is wet mixed with BaCO 3 , CaCO 3 and SiO 2 for 16 hours by a ball mill, dried, and fired at 1150 ° C. in the air. Furthermore, it was manufactured by wet grinding with a ball mill for 100 hours. Further, CaZrO 3 as the fifth subcomponent is manufactured by wet mixing CaCO 3 and ZrO 3 with a ball mill for 16 hours, drying, firing in air at 1150 ° C., and further wet pulverizing with a ball mill for 24 hours. did.

なお、主成分であるBaTiOは、BaCO及びTiOをそれぞれ秤量し、ボールミルを用いて約16時間湿式混合し、これを乾燥したのち、1100℃の温度で空気中にて焼成したものをボールミルにより約16時間湿式粉砕して作製したものを用いても同様の特性が得られた。また、主成分であるBaTiOは、水熱合成粉、蓚酸塩法などによって作製されたものを用いても同様の特性が得られた。 In addition, BaTiO 3 as a main component is obtained by weighing BaCO 3 and TiO 2 respectively, wet-mixing them for about 16 hours using a ball mill, drying them, and then firing them in air at a temperature of 1100 ° C. Similar characteristics were obtained even when a ball mill was used for approximately 16 hours of wet pulverization. Further, the same characteristics were obtained even when BaTiO 3 as the main component was produced by hydrothermal synthesis powder, oxalate method or the like.

これらの原料を、焼成後の組成が、主成分であるBaTiO100モルに対して、表1に示すものとなるように配合して、ボールミルにより16時湿式混合し、乾燥させて誘電体材料とした。 These raw materials are blended so that the composition after firing is as shown in Table 1 with respect to 100 moles of BaTiO 3 as a main component, wet mixed by a ball mill for 16 hours, and dried to obtain a dielectric material. It was.

次いで、得られた乾燥後の誘電体原料100重量部と、アクリル樹脂4.8重量部と、酢酸エチル100重量部と、ミネラルスピリット6重量部と、トルエン4重量部とをボールミルで混合してペースト化し、誘電体層用ペーストを得た。   Next, 100 parts by weight of the obtained dielectric material after drying, 4.8 parts by weight of acrylic resin, 100 parts by weight of ethyl acetate, 6 parts by weight of mineral spirit, and 4 parts by weight of toluene were mixed with a ball mill. A dielectric layer paste was obtained by pasting.

次いで、平均粒径0.2〜0.8μmのNi粒子100重量部と、有機ビヒクル(エチルセルロース8重量部をブチルカルビトール92重量部に溶解したもの)40重量部と、ブチルカルビトール10重量部とを3本ロールにより混練してペースト化し、内部電極層用ペーストを得た。   Next, 100 parts by weight of Ni particles having an average particle size of 0.2 to 0.8 μm, 40 parts by weight of an organic vehicle (8 parts by weight of ethyl cellulose dissolved in 92 parts by weight of butyl carbitol), and 10 parts by weight of butyl carbitol Were kneaded with three rolls to obtain a paste, and an internal electrode layer paste was obtained.

次いで、平均粒径0.5μmのCu粒子100重量部と、有機ビヒクル(エチルセルロース樹脂8重量部をブチルカルビトール92重量部に溶解したもの)35重量部及びブチルカルビトール7重量部とを混練してペースト化し、外部電極用ペーストを得た。   Next, 100 parts by weight of Cu particles having an average particle size of 0.5 μm, 35 parts by weight of an organic vehicle (8 parts by weight of ethyl cellulose resin dissolved in 92 parts by weight of butyl carbitol) and 7 parts by weight of butyl carbitol were kneaded. To obtain a paste for an external electrode.

次いで、上記誘電体層用ペーストを用いてPETフィルム上に、厚さ4.5μmのグリーンシートを形成し、この上に内部電極層用ペーストを印刷したのち、PETフィルムからグリーンシートを剥離した。次いで、これらのグリーンシートと保護用グリーンシート(内部電極層用ペーストを印刷しないもの)とを積層、圧着して、グリーンチップを得た。内部電極を有するシートの積層数は4層とした。   Next, a 4.5 μm-thick green sheet was formed on the PET film using the dielectric layer paste, and the internal electrode layer paste was printed thereon, and then the green sheet was peeled from the PET film. Next, these green sheets and protective green sheets (not printed with internal electrode layer paste) were laminated and pressure-bonded to obtain green chips. The number of sheets having internal electrodes was four.

次いで、グリーンチップを所定サイズに切断し、脱バインダ処理、焼成及びアニールを行って、積層セラミック焼成体を得た。   Next, the green chip was cut into a predetermined size and subjected to binder removal processing, firing and annealing to obtain a multilayer ceramic fired body.

脱バインダ処理は、昇温速度:30℃/時間、保持温度:260℃、保持時間:8時間、空気雰囲気の条件で行った。   The binder removal treatment was performed under the conditions of a temperature rising rate: 30 ° C./hour, a holding temperature: 260 ° C., a holding time: 8 hours, and an air atmosphere.

焼成は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1240℃、保持時間:2時間、冷却速度:200℃/時間、加湿したN+H混合ガス雰囲気(酸素分圧は10−6Pa)の条件で行った。 Firing is performed at a heating rate of 200 ° C./hour, a holding temperature of 1240 ° C., a holding time of 2 hours, a cooling rate of 200 ° C./hour, a humidified N 2 + H 2 mixed gas atmosphere (oxygen partial pressure is 10 −6 Pa). ).

アニールは、保持温度:1000℃、温度保持時間:2時間、冷却速度:200℃/時間、加湿したNガス雰囲気(酸素分圧は10−2Pa)の条件で行った。なお、焼成及びアニールの際の雰囲気ガスの加湿には、水温を30℃としたウェッターを用いた。 The annealing was performed under the conditions of a holding temperature: 1000 ° C., a temperature holding time: 2 hours, a cooling rate: 200 ° C./hour, and a humidified N 2 gas atmosphere (oxygen partial pressure is 10 −2 Pa). Note that a wetter with a water temperature of 30 ° C. was used for humidifying the atmospheric gas during firing and annealing.

次いで、積層セラミック焼成体の端面をサンドブラストにて研磨したのち、外部電極用ペーストを端面に転写し、加湿したN+H雰囲気中において、800℃にて10分間焼成して外部電極を形成し、図1に示される構成の積層セラミックコンデンサのサンプルを得た。 Next, after polishing the end face of the multilayer ceramic fired body by sand blasting, the external electrode paste is transferred to the end face and fired at 800 ° C. for 10 minutes in a humidified N 2 + H 2 atmosphere to form the external electrode. A sample of the multilayer ceramic capacitor having the configuration shown in FIG. 1 was obtained.

このようにして得られた各サンプルのサイズは、縦3.2mm×横1.6mm×高さ0.6mmであり、内部電極層に挟まれた誘電体層の数は4、その厚さは3.5μmであり、内部電極層の厚さは1.2μmであった。   The size of each sample thus obtained is 3.2 mm long × 1.6 mm wide × 0.6 mm high, the number of dielectric layers sandwiched between the internal electrode layers is 4, and the thickness is The thickness was 3.5 μm, and the thickness of the internal electrode layer was 1.2 μm.

得られたコンデンササンプルに対して、容量温度特性(Tc)、絶縁抵抗(IR)、及び比誘電率(ε)を評価した。   The obtained capacitor sample was evaluated for capacitance-temperature characteristics (Tc), insulation resistance (IR), and relative dielectric constant (ε).

容量温度特性(Tc)は、得られたサンプルに対し、−55℃〜+175℃の温度範囲で静電容量を測定した。静電容量の測定にはデジタルLCRメータ(YHP製4274A)を用い、周波数1kHz、入力信号レベル1Vrmsの条件下で測定した。そして、これらの温度範囲で最も容量温度特性が悪くなる175℃での静電容量の温度変化率(△C/C。単位は%)を算出し、これがΔC/C=±15%以内を満足するかどうかを調べた。なお、高温側が150℃と少し低下したX8R特性(−55〜150℃、ΔC/C=±15%以内)について、これを満足するものを◎、満足しないものを×とした。   For the capacity-temperature characteristic (Tc), the capacitance was measured in the temperature range of −55 ° C. to + 175 ° C. for the obtained sample. The capacitance was measured using a digital LCR meter (YHP 4274A) under the conditions of a frequency of 1 kHz and an input signal level of 1 Vrms. Then, the temperature change rate (ΔC / C. Unit:%) of the capacitance at 175 ° C. at which the capacity-temperature characteristic is the worst in these temperature ranges is calculated, and this satisfies ΔC / C = within ± 15%. Investigate whether to do. In addition, regarding the X8R characteristics (−55 to 150 ° C., ΔC / C = within ± 15%) which slightly decreased on the high temperature side to 150 ° C., those satisfying this were evaluated as ◎, and those not satisfying were evaluated as ×.

また、本発明の実施例に相当する代表的な試料45(表5参照)と比較例に相当する代表的な試料1とにつき、−55℃〜+175℃の温度範囲における容量変化率ΔC/Cを測定して、図2にグラフ化した。図2には25℃における静電容量を基準とした変化率を表している。図2からも明らかなように、本発明の実施例に相当する試料45では、150℃はもとよりこれを超える高温側(175℃)においても良好な容量温度特性を示していることが理解できる。これに対し、比較例に相当する試料1については、X8Rの高温側(150℃)までは良好な容量温度特性を示しているが、それより高温側になると容量変化率が急降下して、ΔC/C=±15%以内を満足しなくなることが理解できる。   Further, the capacity change rate ΔC / C in the temperature range of −55 ° C. to + 175 ° C. for the representative sample 45 (see Table 5) corresponding to the example of the present invention and the representative sample 1 corresponding to the comparative example. Was measured and plotted in FIG. FIG. 2 shows the rate of change based on the capacitance at 25 ° C. As is apparent from FIG. 2, it can be understood that the sample 45 corresponding to the example of the present invention shows a good capacity-temperature characteristic not only at 150 ° C. but also at a higher temperature side (175 ° C.). On the other hand, Sample 1 corresponding to the comparative example shows a good capacity-temperature characteristic up to the high temperature side (150 ° C.) of X8R. It can be understood that / C = ± 15% or less is not satisfied.

絶縁抵抗(IR)は、温度可変IR測定器を用い、得られたサンプルの175℃における絶縁抵抗IR175 を、測定電圧:20V、電圧印加時間:60sの条件で測定した。評価基準は、IR=10Ω以上を良好とした。 The insulation resistance (IR) was measured by using a temperature variable IR measuring instrument, and the insulation resistance IR 175 of the obtained sample at 175 ° C. was measured under the conditions of a measurement voltage: 20 V and a voltage application time: 60 s. The evaluation criterion was IR = 10 6 Ω or higher.

比誘電率(ε)は、得られたコンデンササンプルに対し、基準温度25℃において、デジタルLCRメータ(YHP社製4274A)にて、周波数1kHz,入力信号レベル(測定電圧)1.0Vrmsの条件下で測定された静電容量から算出した(単位なし)。評価基準は、ε=1000以上を良好とした。   The relative dielectric constant (ε) is obtained under the conditions of a frequency of 1 kHz and an input signal level (measurement voltage) of 1.0 Vrms with a digital LCR meter (YHP 4274A) at a reference temperature of 25 ° C. with respect to the obtained capacitor sample. It was calculated from the capacitance measured in (No unit). The evaluation standard was ε = 1000 or more.

なお、得られたコンデンササンプルに対して、誘電損失(tanδ)、直流電界下でのIR寿命、直流絶縁破壊強度、DCバイアス特性(誘電率の直流電圧印加依存性)、TCバイアスも併せて評価した。   For the obtained capacitor sample, dielectric loss (tan δ), IR lifetime under DC electric field, DC dielectric breakdown strength, DC bias characteristics (dependence of DC permittivity on dielectric constant), and TC bias are also evaluated. did.

誘電損失(tanδ)は、コンデンサのサンプルに対し、基準温度25℃において、デジタルLCRメータ(YHP社製4274A)にて、周波数1kHz,入力信号レベル(測定電圧)1.0Vrmsの条件下で測定した。その結果、いずれのサンプルも10%以下と良好な結果が得られた。   Dielectric loss (tan δ) was measured with a digital LCR meter (YHP 4274A) at a reference temperature of 25 ° C. and a frequency of 1 kHz and an input signal level (measurement voltage) of 1.0 Vrms with respect to a capacitor sample. . As a result, good results were obtained for all samples of 10% or less.

直流電界下でのIR寿命は、コンデンサのサンプルに対し、200℃にて10V/μmの電界下で加速試験を行い、絶縁抵抗が1MΩ以下になるまでの時間を寿命時間として算出した。その結果、いずれのサンプルも10時間以上と良好な結果が得られた。   The IR life under a direct current electric field was calculated by performing an acceleration test on a capacitor sample at 200 ° C. under an electric field of 10 V / μm, and calculating the time until the insulation resistance was 1 MΩ or less as the life time. As a result, good results were obtained for all samples of 10 hours or more.

直流絶縁破壊強度は、コンデンササンプルに対し、直流電圧を100V/sec.の昇温速度で印加し、100mAの漏洩電流を検知した時の電圧(直流破壊電圧VB、単位はV/μm)を測定し、その平均値を算出した。その結果、いずれのサンプルも100V/μm以上と良好な結果が得られた。   The DC breakdown strength is 100 V / sec. The voltage (DC breakdown voltage VB, unit is V / μm) when a leakage current of 100 mA was detected was measured and the average value was calculated. As a result, good results were obtained for all samples of 100 V / μm or more.

DCバイアス特性は、コンデンサのサンプルに対し、一定温度(25℃)において、各サンプルに徐々に直流電圧をかけていった場合の静電容量の変化(△C/C)を測定し、プロットした結果、いずれのサンプルでも、高い電圧をかけても静電容量が減少しにくく、安定したDCバイアス特性を有することが確認された。   The DC bias characteristics were plotted by measuring the change in capacitance (ΔC / C) when a DC voltage was gradually applied to each sample at a constant temperature (25 ° C.) with respect to the capacitor sample. As a result, it was confirmed that any sample had a stable DC bias characteristic because the capacitance was not easily reduced even when a high voltage was applied.

TCバイアスは、得られたサンプルを、デジタルLCRメータ(YHP製4274A)にて、1kHz,1Vrms,7.0V/μmのバイアス電圧(直流電圧)で−55℃から150℃まで温度を変化させて測定し、25℃のバイアス電圧無印加中の測定値からの静電容量の変化率を算出して評価した。なお、静電容量の測定にはLCRメーターを用い、周波数1kHz、入力信号レベル1Vrmsの条件下で測定した。その結果、いずれのサンプルも−40%と良好な結果が得られた。   The TC bias is obtained by changing the temperature of the obtained sample from −55 ° C. to 150 ° C. with a bias voltage (DC voltage) of 1 kHz, 1 Vrms, 7.0 V / μm using a digital LCR meter (YHP 4274A). Measurement was performed, and the rate of change in capacitance was calculated and evaluated from a measured value during application of no bias voltage at 25 ° C. The capacitance was measured using an LCR meter under conditions of a frequency of 1 kHz and an input signal level of 1 Vrms. As a result, all the samples were as good as -40%.

Figure 0004556607
Figure 0004556607

表1に示すように、第3副成分の比率(y3)が少なすぎると(1モル)、X8R特性を満足するが、175℃での温度特性が悪化している。第3副成分の比率(y3)が多すぎると(6.2モル)、絶縁抵抗IRが低くなりすぎて静電容量の温度変化率を測定することができなかった。   As shown in Table 1, when the ratio (y3) of the third subcomponent is too small (1 mol), the X8R characteristic is satisfied, but the temperature characteristic at 175 ° C. is deteriorated. When the ratio (y3) of the third subcomponent was too large (6.2 mol), the insulation resistance IR was too low to measure the rate of change in capacitance with temperature.

これに対し、第3副成分の比率(y3)が適正範囲にあることで、X8R特性を満足するとともに、175℃での温度特性が良好であり、しかもMn/Vの値も適正であることから、適正なIRを確保できることが確認できた。   On the other hand, when the ratio of the third subcomponent (y3) is in an appropriate range, the X8R characteristic is satisfied, the temperature characteristic at 175 ° C. is good, and the value of Mn / V is also appropriate. Thus, it was confirmed that an appropriate IR could be secured.

実施例2
第3副成分の種類及び含有量を、表2〜4のように変化させた以外は、実施例1と同様にコンデンササンプルを作製し、同様の評価をした。
Example 2
A capacitor sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the type and content of the third subcomponent were changed as shown in Tables 2 to 4, and the same evaluation was performed.

Figure 0004556607
Figure 0004556607

Figure 0004556607
Figure 0004556607

表2,3に示すように、第3副成分をMoO、WOに変えても、表1のVと同様の効果が得られることが確認できる。 As shown in Tables 2 and 3 , it can be confirmed that the same effect as V 2 O 5 in Table 1 can be obtained even if the third subcomponent is changed to MoO 3 and WO 3 .

Figure 0004556607
Figure 0004556607

表4に示すように、第3副成分をVとMoOの複合形式に変えても、V単独で添加した場合(表1参照)と同様の効果が得られることが確認できる。 As shown in Table 4, even if the third subcomponent is changed to a composite form of V 2 O 5 and MoO 3 , the same effect as that obtained when V 2 O 5 is added alone (see Table 1) can be obtained. I can confirm.

実施例3
第7副成分の種類及び含有量を、表5〜7のように変化させた以外は、実施例1と同様にコンデンササンプルを作製し、同様の評価をした。
Example 3
A capacitor sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the type and content of the seventh subcomponent were changed as shown in Tables 5 to 7, and the same evaluation was performed.

Figure 0004556607
Figure 0004556607

表5に示すように、第3副成分の比率(y3)が適正範囲にあっても、MnとVの比(Mn/V)が少なすぎたり(0.225)、多すぎる(2.917)と、絶縁抵抗IRが低くなりすぎて静電容量の温度変化率を測定することができなかった。   As shown in Table 5, even if the ratio of the third subcomponent (y3) is in the proper range, the ratio of Mn to V (Mn / V) is too small (0.225) or too large (2.917). ) And the insulation resistance IR became too low to measure the temperature change rate of the capacitance.

これに対し、MnとVの比(Mn/V)が適正範囲にあることで、適正なIRを確保できるとともに、y3の値も適正であることから、X8R特性を満足するとともに、175℃での温度特性が良好であることが確認できた。   On the other hand, since the ratio of Mn to V (Mn / V) is in an appropriate range, it is possible to secure an appropriate IR and the value of y3 is also appropriate, satisfying the X8R characteristic and at 175 ° C. It was confirmed that the temperature characteristics of were good.

Figure 0004556607
Figure 0004556607

表6に示すように、第7副成分をCrに変えても、表5のMnCOと同様の効果が得られることが確認できる。 As shown in Table 6, it can be confirmed that even if the seventh subcomponent is changed to Cr 2 O 3 , the same effect as MnCO 3 in Table 5 can be obtained.

Figure 0004556607
Figure 0004556607

表7に示すように、第7副成分をMnCOとCrの複合形式に変えても、MnCO単独で添加した場合(表5参照)と同様の効果が得られることが確認できる。 As shown in Table 7, it can be confirmed that even if the seventh subcomponent is changed to a composite form of MnCO 3 and Cr 2 O 3 , the same effect as that obtained when MnCO 3 is added alone (see Table 5) can be obtained. .

実施例4
実施例1の試料4(表1参照)に対して、さらに、第8副成分としてのAlを、表8の割合(但し、主成分100モルに対するモル数)で添加した以外は、実施例1と同様にコンデンササンプルを作製した。
Example 4
To sample 4 of Example 1 (see Table 1), except that Al 2 O 3 as the eighth subcomponent was further added in the ratio of Table 8 (however, the number of moles relative to 100 moles of the main component), A capacitor sample was produced in the same manner as in Example 1.

得られたコンデンササンプルに対して、実施例1の容量温度特性(Tc)とともに、IR温度依存性(桁落ち)を評価した。結果を表8に示す。   The obtained capacitor sample was evaluated for IR temperature dependency (digit loss) together with the capacitance temperature characteristic (Tc) of Example 1. The results are shown in Table 8.

IR温度依存性(桁落ち)は、得られたサンプルの175℃における絶縁抵抗IR175 と、25℃における絶縁抵抗IR25とを測定し、下記式1で示される桁落ちを算出して評価した。評価基準は、−3.5以上を良好とした。
log(IR175 /IR25) …式1
The IR temperature dependency (digit loss) was evaluated by measuring the insulation resistance IR 175 at 175 ° C. and the insulation resistance IR 25 at 25 ° C. of the obtained sample, and calculating the digit loss represented by the following formula 1. . The evaluation criteria were good at -3.5 or more.
log (IR 175 / IR 25 ) ... Equation 1

なお、各温度での絶縁抵抗の測定には、温度可変IR測定器を用い、測定電圧7.0V/μm、電圧印加時間60sで測定した。   The insulation resistance at each temperature was measured using a temperature variable IR measuring instrument at a measurement voltage of 7.0 V / μm and a voltage application time of 60 s.

Figure 0004556607
Figure 0004556607

表8に示すように、第8副成分を添加しても、175℃での静電容量の温度変化率の悪化が見られず、しかも第8副成分を添加することで、IRの桁落ちが−3.5以上となり、IR温度依存性が改善されることが確認できた。
なお、第8副成分をGe、Gaに変えても、Alと同様の効果が得られた。さらに、AlとGeの複合形式に変えても、Al単独で添加した場合と同様の効果が得られた。
As shown in Table 8, even when the 8th subcomponent was added, the temperature change rate of the capacitance at 175 ° C. was not deteriorated, and addition of the 8th subcomponent resulted in an IR loss. It became -3.5 or more, and it has confirmed that IR temperature dependency was improved.
Even changing the eighth subcomponent Ge 2 O 2, Ga 2 O 3, the same effect as the Al 2 O 3 was obtained. Furthermore, changing the composite form of Al 2 O 3 and Ge 2 O 2, the same effect as when added with Al 2 O 3 alone was obtained.

図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a multilayer ceramic capacitor according to an embodiment of the present invention. 図2は本発明の実施例に相当する試料45と比較例に相当する試料1の容量温度特性を示すグラフ、である。FIG. 2 is a graph showing capacity-temperature characteristics of the sample 45 corresponding to the example of the present invention and the sample 1 corresponding to the comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

1… 積層セラミックコンデンサ
10… コンデンサ素子本体
2… 誘電体層
3… 内部電極層
4… 外部電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer ceramic capacitor 10 ... Capacitor element main body 2 ... Dielectric layer 3 ... Internal electrode layer 4 ... External electrode

Claims (12)

チタン酸バリウムを含む主成分と、
MgO,CaO,BaO及びSrOから選択される少なくとも1種を含む第1副成分と、
酸化シリコンを主成分として含有する第2副成分と、
,MoO及びWOから選択される少なくとも1種を含む第3副成分と、
R1の酸化物(但し、R1はSc,Er,Tm,Yb及びLuから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分と、
CaZrOまたはCaO+ZrOを含む第5副成分と、
MnO及びCrの一方または双方を含む第7副成分とを、有する誘電体磁器組成物であって、
前記主成分100モルに対する前記第3副成分の比率(y3。但し、金属元素に換算した値)が1〜6モル(但し、1モルを除く)であり、
前記第7副成分の比率(y7。但し、金属元素に換算した値)が、前記y3の0.25〜2.5倍である誘電体磁器組成物。
A main component comprising barium titanate;
A first subcomponent comprising at least one selected from MgO, CaO, BaO and SrO;
A second subcomponent containing silicon oxide as a main component;
A third subcomponent comprising at least one selected from V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 ;
A fourth subcomponent comprising an oxide of R1, wherein R1 is at least one selected from Sc, Er, Tm, Yb and Lu;
A fifth subcomponent comprising CaZrO 3 or CaO + ZrO 2 ;
A dielectric ceramic composition having a seventh subcomponent containing one or both of MnO and Cr 2 O 3 ,
The ratio of the third subcomponent with respect to 100 mol of the main component (y3, where the value converted to a metal element) is 1 to 6 mol (excluding 1 mol),
A dielectric ceramic composition in which a ratio of the seventh subcomponent (y7, where a value converted to a metal element) is 0.25 to 2.5 times y3.
前記主成分100モルに対する各副成分の比率(y1,y2,y4,y5)が、
第1副成分(y1):0.1〜3モル、
第2副成分(y2):2〜10モル、
第4副成分(y4):0.5〜7モル(但し、第4副成分のモル数は、R1単独での比率である)、
第5副成分(y5):5モル以下(但し、0モルを除く)である請求項1に記載の誘電体磁器組成物。
The ratio (y1, y2, y4, y5) of each subcomponent with respect to 100 moles of the main component is
First subcomponent (y1): 0.1 to 3 mol,
Second subcomponent (y2): 2 to 10 mol,
Fourth subcomponent (y4): 0.5 to 7 mol (provided that the number of moles of the fourth subcomponent is the ratio of R1 alone),
5. The dielectric ceramic composition according to claim 1, wherein the fifth subcomponent (y5) is 5 mol or less (excluding 0 mol).
前記第3副成分が少なくともVを含み、前記第7副成分が少なくともMnOを含む、請求項1または2に記載の誘電体磁器組成物。 3. The dielectric ceramic composition according to claim 1, wherein the third subcomponent includes at least V 2 O 5 , and the seventh subcomponent includes at least MnO. チタン酸バリウムを含む主成分と、
MgO,CaO,BaO及びSrOから選択される少なくとも1種を含む第1副成分と、
酸化シリコンを主成分として含有する第2副成分と、
,MoO及びWOから選択される少なくとも1種を含む第3副成分と、
R1の酸化物(但し、R1はSc,Er,Tm,Yb及びLuから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分と、
CaZrOまたはCaO+ZrOを含む第5副成分と、
MnO及びCrの一方または双方を含む第7副成分とを、有する誘電体磁器組成物であって、
前記主成分100モルに対する各副成分の比率(y1〜y5)が、
第1副成分(y1):0.1〜3モル、
第2副成分(y2):2〜10モル、
第3副成分(y3。但し、金属元素に換算した値):1〜6モル(但し、1モルを除く)、
第4副成分(y4):0.5〜7モル(但し、第4副成分のモル数は、R1単独での比率である)、
第5副成分(y5):5モル以下(但し、0モルを除く)であり、
前記第7副成分の比率(y7。但し、金属元素に換算した値)が、前記y3の0.25〜2.5倍である誘電体磁器組成物。
A main component comprising barium titanate;
A first subcomponent comprising at least one selected from MgO, CaO, BaO and SrO;
A second subcomponent containing silicon oxide as a main component;
A third subcomponent comprising at least one selected from V 2 O 5 , MoO 3 and WO 3 ;
A fourth subcomponent comprising an oxide of R1, wherein R1 is at least one selected from Sc, Er, Tm, Yb and Lu;
A fifth subcomponent comprising CaZrO 3 or CaO + ZrO 2 ;
A dielectric ceramic composition having a seventh subcomponent containing one or both of MnO and Cr 2 O 3 ,
The ratio (y1 to y5) of each subcomponent with respect to 100 moles of the main component is
First subcomponent (y1): 0.1 to 3 mol,
Second subcomponent (y2): 2 to 10 mol,
3rd subcomponent (y3. However, the value converted into the metal element): 1-6 mol (however, except 1 mol),
Fourth subcomponent (y4): 0.5 to 7 mol (provided that the number of moles of the fourth subcomponent is the ratio of R1 alone),
5th subcomponent (y5): 5 mol or less (however, excluding 0 mol),
A dielectric ceramic composition in which a ratio of the seventh subcomponent (y7, where a value converted to a metal element) is 0.25 to 2.5 times y3.
第6副成分として、R2の酸化物(但し、R2はY、Dy、Ho、Tb、Gd及びEuから選択される少なくとも一種)をさらに有し、
前記第6副成分の比率(y6)が、前記主成分100モルに対し9モル以下(但し、0モルを除く。第6副成分のモル数は、R2単独での比率である)である請求項1〜4のいずれかに記載の誘電体磁器組成物。
As a sixth subcomponent, it further comprises an oxide of R2 (wherein R2 is at least one selected from Y, Dy, Ho, Tb, Gd and Eu),
The ratio (y6) of the sixth subcomponent is 9 mol or less (excluding 0 mol, where the number of moles of the sixth subcomponent is the ratio of R2 alone) with respect to 100 mol of the main component. Item 5. The dielectric ceramic composition according to any one of Items 1 to 4.
第4副成分及び第6副成分の合計の比率が、前記主成分100モルに対し13モル以下(但し、0モルを除く。第4副成分及び第6副成分のモル数は、R1及びR2単独での比率である)である請求項5に記載の誘電体磁器組成物。 The total ratio of the fourth subcomponent and the sixth subcomponent is 13 mol or less (excluding 0 mol) with respect to 100 mol of the main component. However, the number of moles of the fourth subcomponent and the sixth subcomponent is R1 and R2. 6. The dielectric ceramic composition according to claim 5, wherein the dielectric ceramic composition is a single ratio. 前記第2副成分が、SiO、MO(但し、Mは、Ba、Ca、Sr及びMgから選ばれる少なくとも1種の元素)、LiO及びBから選ばれる少なくとも1種で表されることを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の誘電体磁器組成物。 The second subcomponent is represented by SiO 2 , MO (where M is at least one element selected from Ba, Ca, Sr and Mg), at least one selected from Li 2 O and B 2 O 3. The dielectric ceramic composition according to any one of claims 1 to 6, wherein 第8副成分として、Aの酸化物(但し、Aは、6配位時の有効イオン半径が0.065nm〜0.085nmの陽イオン元素群から選択される少なくとも1種)を、さらに有する請求項1〜7のいずれかに記載の誘電体磁器組成物。 As an eighth subcomponent, an oxide of A (provided that A is at least one selected from the group of cationic elements having an effective ionic radius of 0.065 nm to 0.085 nm at the time of 6 coordination) Item 8. The dielectric ceramic composition according to any one of Items 1 to 7. 前記第8副成分の比率(y8)が、前記主成分100モルに対し0〜4モル(但し、0モルと4モルを除く。A酸化物に換算した値)である請求項8に記載の誘電体磁器組成物。 The ratio (y8) of the eighth subcomponent is 0 to 4 mol (excluding 0 mol and 4 mol, a value converted to oxide A) with respect to 100 mol of the main component. Dielectric ceramic composition. 誘電体磁器組成物で構成してある誘電体層を有する電子部品であって、
前記誘電体磁器組成物が、請求項1〜9のいずれかの誘電体磁器組成物で構成されていることを特徴とする電子部品。
An electronic component having a dielectric layer composed of a dielectric ceramic composition,
An electronic component, wherein the dielectric ceramic composition comprises the dielectric ceramic composition according to claim 1.
誘電体磁器組成物で構成してある誘電体層と、内部電極層とが交互に積層してあるコンデンサ素子本体を有する積層セラミックコンデンサであって、
前記誘電体磁器組成物が、請求項1〜9のいずれかの誘電体磁器組成物で構成されていることを特徴とする積層セラミックコンデンサ。
A multilayer ceramic capacitor having a capacitor element body in which dielectric layers composed of dielectric ceramic compositions and internal electrode layers are alternately laminated,
A multilayer ceramic capacitor, wherein the dielectric ceramic composition comprises the dielectric ceramic composition according to any one of claims 1 to 9.
前記内部電極層は、ニッケルまたはニッケル合金を主成分とする請求項11に記載の積層セラミックコンデンサ。
The multilayer ceramic capacitor according to claim 11, wherein the internal electrode layer is mainly composed of nickel or a nickel alloy.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5471093B2 (en) * 2009-07-08 2014-04-16 株式会社村田製作所 Method for producing dielectric ceramic composition
JP2013173626A (en) * 2012-02-23 2013-09-05 Tdk Corp Dielectric porcelain composition and ceramic electronic part
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000311828A (en) * 1999-02-26 2000-11-07 Tdk Corp Manufacture of dielectric ceramic composition and manufacture of dielectric layer containing electronic component
JP2001089231A (en) * 1999-07-21 2001-04-03 Tdk Corp Dielectric porcelain composition and electronic parts
JP2001220225A (en) * 1999-12-01 2001-08-14 Tdk Corp Method for producing dielectric ceramic composition
JP2002080275A (en) * 2000-06-20 2002-03-19 Tdk Corp Dielectric ceramic and electronic component
JP2002255639A (en) * 2000-12-25 2002-09-11 Tdk Corp Dielectric ceramic composition and electronic component
JP2004035388A (en) * 2002-07-05 2004-02-05 Samsung Electro Mech Co Ltd Reduction-resistant low-temperature fired dielectric ceramic composition, multilayer ceramic capacitor using it, and its manufacturing method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000311828A (en) * 1999-02-26 2000-11-07 Tdk Corp Manufacture of dielectric ceramic composition and manufacture of dielectric layer containing electronic component
JP2001089231A (en) * 1999-07-21 2001-04-03 Tdk Corp Dielectric porcelain composition and electronic parts
JP2001220225A (en) * 1999-12-01 2001-08-14 Tdk Corp Method for producing dielectric ceramic composition
JP2002080275A (en) * 2000-06-20 2002-03-19 Tdk Corp Dielectric ceramic and electronic component
JP2002255639A (en) * 2000-12-25 2002-09-11 Tdk Corp Dielectric ceramic composition and electronic component
JP2004035388A (en) * 2002-07-05 2004-02-05 Samsung Electro Mech Co Ltd Reduction-resistant low-temperature fired dielectric ceramic composition, multilayer ceramic capacitor using it, and its manufacturing method

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