JP4551751B2 - 光学補償シート、それを用いた偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学補償シート、偏光板及び液晶表示装置に関し、より詳細には、液晶表示装置、特に垂直配向（ＶＡ）モード液晶表示装置、の視野角特性の向上に寄与する光学補償シート及び偏光板、ならびに視野角特性が改善された液晶表示装置に関する。また、本発明は良好な光学補償能を有する光学補償シートの製造方法にも関する。

ワードプロセッサやノートパソコン、パソコン用モニターなどのＯＡ機器、携帯端末、テレビなどに用いられる表示装置としては、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）がこれまで主に使用されてきた。近年、液晶表示装置が、薄型、軽量、且つ消費電力が小さいことからＣＲＴの代わりに広く使用されてきている。液晶表示装置は、液晶セルおよび偏光板を有する。偏光板は保護フィルムと偏光膜とからなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護フィルムにて積層して得られる。例えば、透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。一方、反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート、および偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶分子、それを封入するための二枚の基板および液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過型、反射型および半透過型のいずれにも適用でき、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような表示モードが提案されている。しかしながら、従来の液晶表示装置で表示し得る色やコントラストは、ＬＣＤを見る時の角度によって変化する。そのため、液晶表示装置の視野角特性は、ＣＲＴの性能を越えるまでには至っていない。

近年、この視野角特性を改良するＬＣＤの方式として、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、電圧を印加しない状態で液晶分子の長軸を基板に略垂直な方向に配向させ、これを薄膜トランジスタにより駆動する垂直配向ネマチック型液晶表示装置（以下、ＶＡモードという）が提案されている（特許文献１参照）。このＶＡモードは、正面から見た場合の表示特性がＴＮモードと同様に優れているのみならず、視野角補償用位相差板を適用することで広い視野角特性を発現する。ＶＡモードでは、フィルム面に垂直な方向に光学軸を有する負の一軸性位相差板（負のｃ−ｐｌａｔｅ）を用いることでより広い視野角特性を得ることができ、このＬＣＤに更に面内のレターデーション値が５０ｎｍである正の屈折率異方性を有する一軸配向性位相差板（正のａ−ｐｌａｔｅ）を用いることで、更により広い視野角特性を実現できることも知られている（非特許文献１参照）。

しかし、このように位相差板の枚数を増やすと生産コストが上昇してしまう。また、多数のフィルムを貼り合わせるために歩留まりの低下を引き起こしやすいだけでなく、貼合角度のずれによって表示品位の低下をも引き起こしやすい。さらに、複数のフィルムを用いるために厚さが増し、表示装置の薄形化に不利となる場合もある。

また、通常正のａ−ｐｌａｔｅには延伸フィルムが用いられるが、簡便な縦延伸フィルムを用いる場合、ａ−ｐｌａｔｅの遅相軸がフィルムの搬送（ＭＤ）方向となる。ところが、ＶＡモードの視野角補償では偏光板の吸収軸であるＭＤ方向に対してａ−ｐｌａｔｅの遅相軸を直交させなければならないため、ロール・トゥ・ロールでの貼合ができず、コストが著しく上昇する。これを解決する方法としてＭＤと直交する方向（ＴＤ方向）に延伸するいわゆる横延伸フィルムを用いることが挙げられるが、横延伸フィルムにはボウイングと呼ばれる遅相軸の歪みが発生しやすく、歩留まりが上がらないためにコストが上昇する。さらに、延伸フィルムの積層には粘着層を用いるため、温湿度変化により粘着層が収縮してフィルム間の剥離や反りといった不良が発生することもある。これらを改善する方法として、棒状液晶を塗布してａ−ｐｌａｔｅを作製する方法が知られている（特許文献２参照）。

さらに近年、ｃ−ｐｌａｔｅとａ−ｐｌａｔｅの組み合わせに変わって、二軸性位相差板を用いる方法が提案された（非特許文献２）。二軸性位相差板を用いることにより、コントラスト視野角だけでなく色味も改善できるようになるメリットがあるが、通常二軸性位相差板を作製するのに用いられる二軸延伸は、横延伸と同様にフィルムの全領域に渡って均一な軸制御が難しく、歩留まりが上がらないためにコストが上昇する。

そこで、特殊なコレステリック液晶に偏光照射する方法（特許文献３）や、特殊な円盤状液晶に偏光照射する方法（特許文献４）によって、延伸を用いることなく二軸性位相差板を作製する方法が提案された。この方法により延伸に起因する種々の問題が解決できる。
しかし、液晶を塗布することによって位相差板を製造する場合は、液晶を配向させるためにその直下に配向層を必要とするが、通常用いられるポリビニルアルコールやポリイミドのような配向層、あるいは側鎖に反応性基を有するような配向層でも、液晶層との密着が十分に得られず、偏光板への貼り合わせ等の製造適性や経時安定性等の観点から少なからず課題を有していた。

特開平２−１７６６２５号公報 特開２０００−３０４９３０号公報 国際公開ＷＯ０３／０５４１１１号公報 特開２００２−６１３８号公報 ＳＩＤ ９７ ＤＩＧＥＳＴ ８４５頁〜８４８頁 ＳＩＤ ２００３ ＤＩＧＥＳＴ １２０８頁〜１２１１頁

本発明の課題は、良好な光学補償能を有するとともに、光学異方性層と配向層との密着性に優れた塗布型光学補償シート、該光学補償シートを安定的に製造する方法、並びに該光学補償シートを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供することである。特に、ＶＡモードの液晶表示装置に使用するものを提供することである。

（１） 透明支持体と、該透明支持体上に、水が２０％以上の溶媒組成からなる溶液を塗布乾燥して形成した配向層と、該配向層の表面上に、少なくとも一つの重合性基を有する液晶性化合物の少なくとも一種及び少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償シートであって、光学異方性層の正面レターデーション（Ｒｅ）が０でなく、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償シートの法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償シートの法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しい光学補償シート。
（２） 前記液晶性化合物の少なくとも一種が、少なくとも一つの重合性基を有する棒状液晶性化合物であって、前記光学異方性層が該重合性基を重合反応させて形成された層である（１）の光学補償シート。
（３） 前記液晶性化合物の少なくとも一種が、少なくとも一つの重合性基を有するディスコティック液晶性化合物であって、前記光学異方性層が該重合性基を重合反応させて形成された層である（１）の光学補償シート。
（４） 前記液晶性化合物の少なくとも一種が、少なくとも一つの重合性基を有する棒状液晶性化合物であり、前記組成物がさらにカイラル剤を含み、且つ前記光学異方性層が該重合性基を重合反応させて形成した層である（１）の光学補償シート。
（５） 前記少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物が、下記の一般式（Ｉ）で表される化合物である（１）〜（４）のいずれかの光学補償シート。

（式中、Ｚは重合性基、Ｘ¹は連結基及びＱは親水基を表す）。

（６） 前記少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物が、下記の一般式（II）で表される化合物である（５）の光学補償シート。

（式中、Ｚは重合性基、Ｘ¹は連結基、及びＲ¹とＲ²はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を表す）。

（７） Ｚが下記一般式（III）で表される基、又はオキシラン部分もしくはオキセタン部分を有する基である（５）又は（６）の光学補償シート。

（式中、Ｒ³は水素原子またはメチル基を、Ｌ¹は単結合または二価の連結基を表す）。

（８） Ｘ¹がアリーレンである（５）〜（７）のいずれかの光学補償シート。
（９） 前記配向層が、側鎖に重合性基を有するポリビニルアルコール誘導体、ポリ（メタ）アクリレート誘導体及び多糖類から選択される高分子からなる（１）〜（８）のいずれかの光学補償シート。
（１０） 透明支持体上に水が２０％以上の溶媒組成からなる溶液を塗布及び乾燥して配向層を形成する工程と、該配向層の表面に、少なくとも一つの重合性基を有する棒状液晶性化合物の少なくとも一種、カイラル剤及び少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物の少なくとも一種を含む液晶組成物を塗布して、前記棒状液晶性化合物の分子を５゜未満の平均傾斜角でコレステリック配向させる工程と、偏光を照射して、前記棒状液晶化合物の分子を重合させて光学異方性層を形成する工程とをこの順序で実施する（１）の光学補償シートの製造方法。
（１１） 透明支持体上に水が２０％以上の溶媒組成からなる溶液を塗布及び乾燥して配向層を形成する工程と、該配向層の表面に、少なくとも一つの重合性基を有するディスコティック液晶性化合物の少なくとも一種、カイラル剤及び少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物の少なくとも一種を含む液晶組成物を塗布して、前記ディスコティック液晶性化合物の分子を５゜未満の平均傾斜角で配向させる工程と、偏光を照射して、前記ディスコティック液晶化合物の分子を重合させて光学異方性層を形成する工程とをこの順序で実施する（１）の光学補償シートの製造方法。
（１２） （１）〜（９）のいずれかの光学補償シートの少なくとも一枚と、偏光子とを有する偏光板。
（１３） （１）〜（９）のいずれかの光学補償シート、又は（１２）の偏光板を有する液晶表示装置。
（１４） ＶＡモードである（１３）の液晶表示装置。

本発明では、重合性基を有する両親媒性化合物を光学異方性層に添加することにより、実用するにのに十分な支持体への密着性を付与し、その製造適性、経時安定性を向上させている。特に、偏光板加工時におけるケン化処理時のケン化浴への溶出や膜剥がれの起きないといった特徴によって、生産性に優れた光学補償シートの製造が可能となった。さらに、本発明の光学補償シートを利用することにより、従来の液晶表示素子と同じ構成で、液晶セルを光学的に補償することが可能になり、さらに、前記光学異方性層を有する本発明の液晶表示素子は、表示品位のみならず、視野角が著しく改善される。

発明の実施の形態

以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。

本明細書において、Ｒｅレターデーション値およびＲｔｈレターデーション値は、以下に基づき算出するものとする。Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）、遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨが算出する。この時、平均屈折率の仮定値および膜厚を入力することが必要である。ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨはＲｔｈ（λ）に加えてｎｘ、ｎｙ、ｎｚも算出する。平均屈折率は、セルロースアセテートでは１．４８を使用するが、セルロースアセテート以外の代表的な光学用途のポリマーフィルムの値としては、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）、等の値を用いることが出来る。その他の既存のポリマー材料の平均屈折率値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）やポリマーフィルムのカタログ値を使用することが出来る。また、平均屈折率が不明な材料の場合は、アッベ屈折計を用いて測定することができる。本明細書においてλは、特に記載がなければ、５４５±５ｎｍ又は５９０±５ｎｍを指す。

本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に等しい」とは、レターデーションが±１０％以内の差であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光ことをいう。

［光学補償シート］
図１は本発明の光学補償シートの一例の概略断面図である。本発明の光学補償シートは、透明支持体１１上に光学異方性層１２を有する。透明支持体１１と光学異方性層１２との間には、光学異方性層１２中の液晶性分子の配向を制御するための配向層１３が配置されている。配向層１３は、水が２０％以上の溶媒組成からなる溶液を塗布及び乾燥して形成した層である。光学異方性層１２は、重合性基を有する液晶性化合物及び重合性基を有する両親媒性化合物を含有する組成物から形成されているので、配向層１３と光学異方性層１２とは密着性が高く、水洗などの洗浄処理や、けん化処理等の化学処理時にも剥離等が生じ難く、取り扱い性が良好である。さらに、光学異方性層１２の光学特性は、正面レターデーション（Ｒｅ）が０でなく、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償シートの法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償シートの法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しく調整されているので、液晶セル、特にＶＡモードの液晶セルを正確に補償し得る。なお、Ｒｅが０でないとは、Ｒｅが５ｎｍ未満でないことを意味する。

［偏光板］
図２（ａ）〜（ｄ）は本発明の光学補償シートを有する偏光板の概略断面図である。偏光板は、一般的には、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行うことによって偏光膜２１を得、その両面に保護フィルム２２および２３を積層して作製することができる。本発明の光学補償シートは、光学異方性層を支持するポリマーフィルム等からなる支持体を有するので、この支持体を保護フィルム２２および２３の少なくとも一方にそのまま用いることができる。この際、光学異方性層１２は偏光層２１側に（即ち、光学異方性層１２が支持体１１より偏光層２１により近くに）配置されていても、偏光層２１と反対側に（即ち、光学異方性層１２が支持体１１より偏光層２１により遠くに）配置されていてもよいが、図２（ａ）に示した様に、光学異方性層１２は、偏光層２１と反対側にあることが好ましい。また、図２（ｂ）のように偏光層２１の一方の保護フィルム２２の外側に粘着剤等を介して貼合することも可能である。

図２（ｃ）及び（ｄ）は、図２（ａ）に示した構成の偏光板に、さらに他の機能性層２４を配置した偏光板の構成例である。図２（ｃ）は、本発明の光学補償シートと偏光層２１を挟んで反対側に配置された保護フィルム２３の上、他の機能性層２４を配置した構成例であり、図２（ｄ）は、本発明の光学補償シートの上に、他の機能性層２４を配置した構成例である。他の機能性層の例としては特に制限されず、λ／４層、反射防止層、ハードコート層等、種々の特性を付与する機能性層が挙げられる。これらの層は、λ／４板、反射防止フィルム、ハードコートフィルム等の一部材として、例えば粘着剤によって貼合してもよいし、図２（ｄ）の構成例では、本発明の光学補償シート（光学異方性層１２）上に、他の機能性層２４を形成してから、偏光層２１と貼り合わせて作製することもできる。また、本発明の光学補償シートと反対側の保護フィルム２３そのものを、λ／４板、反射防止フィルム、ハードコートフィルム等の他の機能性フィルムにすることもできる。

偏光膜と保護フィルムの積層による偏光板作製の際には、一対の保護フィルムと偏光膜の合計３枚のフィルムを、ロール・トゥ・ロールで貼り合わせることができる。このロール・トゥ・ロールは生産性の観点だけでなく、偏光板の寸法変化やカールの発生が起こりにくく、高い機械的安定性が付与できることから偏光板の製造プロセスとして好ましい方法である。

［液晶表示装置］
図３は、本発明の液晶表示装置の一例である。液晶表示装置は、上下の電極基板間にネマチック液晶を挟持してなる液晶セル３５、および液晶セルの両側に配置された一対の偏光板３６および３７を有しており、偏光板の少なくとも一方には図２に示した本発明の偏光板を用いている。本発明の偏光板を用いる際には、光学異方性層が偏光層と液晶セルの電極基板の間になるように配置する。ネマチック液晶分子は、電極基板上に施された配向層およびその表面のラビング処理あるいはリブ等の構造物を設けることによって、所定の配向状態になるように制御されている。

偏光板に挟持された液晶セルの下側には輝度向上フィルムや拡散フィルムのような調光フィルム３４を１枚以上有していても良い。さらに調光フィルムの下側には冷陰極管３１から出た光を正面に照射するための反射板３２と導光板３３を有している。この冷陰極管と導光板からなるバックライトユニットの代わりに、最近では冷陰極管を液晶セルの下に数本配列した直下型バックライトや、光源としてＬＥＤを用いたＬＥＤバックライト、あるいは有機ＥＬ、無機ＥＬ等を用いて面発光させるようなバックライトも用いられているが、本発明の光学フィルムはいずれもバックライトにおいても効果がある。

さらに、図には示さないが、反射型液晶表示装置の態様では偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。

次に、本発明の光学補償シートの作製に用いられる材料、作製方法等について、詳細に説明する。
本発明の光学補償シートは、透明支持体、前記配向層及び前記光学異方性層を有し、前記光学異方性層が、液晶表示装置のコントラスト視野角の拡大し、液晶表示装置の画像着色を解消するのに寄与する。本発明の光学補償シートは、前記光学異方性層の支持体が偏光板の保護フィルムを兼ねることによって、または前記光学異方性層が偏光板の保護フィルムを兼ねることによって、液晶表示装置の構成部材を減少させることができる。すなわち、かかる態様にすることにより液晶表示装置の薄型化にも寄与する。

本発明では、液晶性化合物からなる光学異方性層を高分子ポリマーからなる光学的に一軸または二軸性の透明支持体上に形成することにより、液晶表示装置の光学特性を格段に向上させることができる。

［液晶化合物からなる光学異方性層］
本発明の光学補償シートは、少なくとも一つの重合性基を有する液晶性化合物の少なくとも一種、及び少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物の少なくとも一種を含有する組成物から形成された光学異方性層を有する。前記光学異方性層は、液晶セルを光学補償するのに寄与する。光学異方性層単独で充分な光学補償能を有する態様はもちろん、他の層（例えば支持体）との組み合わせで光学補償に必要とされる光学特性を満足する態様であってもよい。液晶性化合物にはその分子の形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上のディスコティック液晶化合物、又は棒状液晶化合物とディスコティック液晶化合物との混合物を用いてもよい。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物またはディスコティック液晶化合物を用いるのが好ましい。混合物を用いる場合、少なくとも一種が重合性基を有していればよい。光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。

棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の重合性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の重合性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（ＩＶ）で表される棒状液晶性化合物である。

一般式（ＩＶ）：Ｑ¹−Ｌ¹−Ａ¹−Ｌ³−Ｍ−Ｌ⁴−Ａ²−Ｌ²−Ｑ²
式中、Ｑ¹およびＱ²はそれぞれ独立に、重合性基であり、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³およびＬ⁴はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基を表すが、Ｌ³およびＬ⁴の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−であることが好ましい。Ａ¹およびＡ²はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサー基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。

以下に、上記一般式（ＩＶ）で表される重合性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ¹およびＱ²は、それぞれ独立に、重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。換言すれば、重合性基は付加重合反応または縮合重合反応が可能な重合性基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。

Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³およびＬ⁴で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ²−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ²−、−ＮＲ²−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ²−、−ＮＲ²−ＣＯ−Ｏ−、およびＮＲ²−ＣＯ−ＮＲ²−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ²は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。この場合、Ｌ³およびＬ⁴の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）であることが好ましい。前記式（ＩＶ）中、Ｑ¹−Ｌ¹およびＱ²−Ｌ²−は、ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）−ＣＯ−Ｏ−およびＣＨ₂＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。

Ａ¹およびＡ²は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサー基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサー基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子または硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサー基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。

Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（Ｖ）で表される基が好ましい。
一般式（Ｖ）：−（−Ｗ¹−Ｌ⁵）_n−Ｗ²−
式中、Ｗ¹およびＷ²は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基または二価のヘテロ環基を表し、Ｌ⁵は単結合または連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（IV）中、Ｌ¹〜Ｌ⁴で表される基の具体例、−ＣＨ₂−Ｏ−、および−Ｏ−ＣＨ₂−が挙げられる。ｎは１、２または３を表す。

Ｗ¹およびＷ²としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体およびシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ¹およびＷ²は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。

前記一般式（Ｖ）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。

以下に、前記一般式（ＩＶ）で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式（ＩＶ）で表される化合物は、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。

本発明に用いることができる円盤状液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載されている。円盤状液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。

円盤状液晶性化合物は、重合により固定可能な様に、重合性基を有するのが好ましい。例えば、円盤状液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられるが、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造が好ましい。即ち、重合性基を有する円盤状液晶性化合物は、下記一般式（ＶＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。
一般式（ＶＩ）： Ｄ（−Ｌ−Ｐ）_n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。

前記式（ＶＩ）中、円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）に関する内容をここに好ましく適用することができる。

重合性基を有する棒状液晶性化合物を用いる場合、二軸性を発現させるためにはコレステリック配向もしくは傾斜角が厚み方向に徐々に変化しながらねじれたハイブリッドコレステリック配向を、偏光照射によって歪ませることが必要である。偏光照射によって配向を歪ませる方法としては、二色性液晶性重合開始剤を用いる方法（国際公開ＷＯ０３／０５４１１１号公報）や分子内にシンナモイル基等の光配向性官能基を有する棒状液晶性化合物を用いる方法（特開２００２−６１３８号公報）が挙げられる。

重合性基を有する円盤状液晶性化合物を用いる場合、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよいが、フィルムの法線方向に対して対称性がある水平配向、垂直配向、ねじれ配向が好ましく、水平配向が最も好ましい。水平配向とは円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。

前記光学異方性層のＲｅは５〜２５０ｎｍであることが好ましく、５〜１００ｎｍであることがより好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。Ｒｔｈは透明支持体のＲｔｈとの合計で３０〜５００ｎｍであることが好ましく、４０〜４００ｎｍであることがより好ましく、１００〜３５０ｎｍであることが最も好ましい。

前記光学異方性層を２層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て円盤状液晶性化合物からなる層の積層体、全て棒状性液晶性化合物からなる層の積層体、円盤状液晶性化合物からなる層と棒状性液晶性化合物からなる層の積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の光学異方性層を積層してもよい。

［少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物］
前記光学異方性層を形成するために用いられる組成物は、少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物を少なくとも一種含有する。該両親媒性化合物は、例えば、前記光学異方性層形成用の塗布液を調製する際に、液晶性化合物とともに溶媒中に溶解され、配向層表面に塗布される。該両親媒性化合物が有する置換基が、配向層が有する官能基（例えば、配向層がポリビニルアルコール又はその誘導体を主成分とする場合は水酸基）と相互作用して、配向層界面に吸着される、または配向層に浸透すると、その後、例えば、紫外線等の照射によって、重合性基を有する両親媒性化合物と重合性基を有する液晶性化合物とを重合させて光学異方性層を形成する際に、配向層と光学異方性層との密着性をより高めることができる。従って、前記両親媒性化合物は、配向層を構成しているポリマーが有する官能基に対して親和性の置換基を有しているのが好ましい。

本発明に用いられる重合性基を有する両親媒性化合物の好ましい例は、下記一般式（Ｉ）で表される。

一般式（Ｉ）中、Ｘ¹は二価の連結基を表し、連結基としては、単結合、または、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリール基およびそれらの組み合わせから選ばれる二価の基が好ましく、置換もしくは無置換のアリーレン基がより好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｚは重合性基を表し、好ましくは下記一般式（III）で表される基またはオキシラン部分もしくはオキセタン部分を有する基である。

一般式（III）中、Ｒ³は水素原子またはメチル基であり、水素原子が好ましい。Ｌ¹は、単結合、または−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、およびそれらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であり、単結合、−ＣＯ−ＮＨ−又は−ＣＯＯ−が好ましく、単結合又は−ＣＯ−ＮＨ−がさらに好ましい。

一般式（II）中のＺとして、具体的には、アクリレート基、メタクリレート基、スチリル基、ビニルケトン基、ブタジエン基、ビニルエーテル基、オキシラン基、アジリジニル基、オキセタン基等が挙げられ、好ましくはアクリレート基、メタクリレート基、スチリル基、オキシラン基もしくはオキセタン基であり、最も好ましくはアクリレート基、メタクリレート基、スチリル基である。

一般式（Ｉ）中、Ｑは親水基を表す。ここで、親水基とは静電相互作用や水素結合などによって水分子と弱い結合を形成し、水に対して親和性を示す原子団である。親水基としては、配向層に吸着して結合することができる基であることが好ましく、特に配向層がヒドロキシル基を有する場合(例えば、ポリビニルアルコール又はその誘導体を主成分とする場合)は、ヒドロキシル基と結合できる基が好ましい。具体的には、−ＳｉＸ（Ｘはハロゲンまたはアルコキシ）、アルデヒド、エステル、カルボキシル、イソシアネート、エポキシ、オキセタン、ボロン酸又はボロン酸エステルなどの基が好適である。

前記一般式（Ｉ）で表される化合物の中で、下記一般式（II）で表される化合物がより好ましい。

一般式（II）中、Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を表す。また、Ｒ¹とＲ²は結合して環を形成してもよい。また、一般式（II）中のＸ¹およびＺは、それぞれ一般式（Ｉ）中のＸ¹およびＺと同義である。

アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−アダマンチル基、２−ノルボルニル基等の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基が挙げられる。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−シクロペンテニル基、１−シクロヘキセニル基等の直鎖状、分枝状、または環状のアルケニル基が挙げられる。

アルキニル基の具体例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、１−オクチニル基等が挙げられる。

アリール基に含まれる芳香環は炭素のみからなっていても、ヘテロ環を含んでいてもよく、また一方のもしくは双方の縮合環であってもよい。即ち、本明細書において「アリール基」にはヘテロアリール基も含まれる。具体例としては、ベンゼン環、２個以上、好ましくは２〜４個、のベンゼン環の縮合環、ベンゼン環と不飽和五員環との縮合環等が挙げられる。具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、ピレニル基等が挙げられる。
ヘテロアリール基は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含むヘテロアリール基であり、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環上の水素原子を１個除し、ヘテロアリール基としたものを挙げることができる。窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環の具体例としては、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、カルバゾール、ベンゾフラン、ジベンゾフラン、チアナフテン、ジベンゾチオフェン、インダゾールベンズイミダゾール、アントラニル、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、プリン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、キノリン、アクリジン、イソキノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキザリン、ナフチリジン、フェナントロリン、プテリジン等が挙げられる。

これらのアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基は、任意の置換基によって１個以上置換されていてもよい。置換基としては水素を除く１価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）₃）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏａｒｙｌ）₃）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）₃）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。また、これらの置換基は、可能であるならば置換基同士、または置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよい。

一般式（II）中のＲ¹およびＲ²として好ましくは水素原子である。

以下に一般式（Ｉ）で表される好ましい重合性基を有する両親媒性化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

前記光学異方性層は、前記液晶性化合物、前記両親媒性化合物、および所望により下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、配向層の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。

［液晶性化合物の配向状態の固定化］
配向させた液晶性化合物の分子を、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０重量％であることが好ましく、０．５〜５重量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜１０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ₂であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。

［偏光照射による光配向］
本発明の光学異方性層は、偏光照射により面内のレターデーションを発生させることができる。この偏光照射は、上記配向固定化における光重合プロセスと同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行っても良いし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射を行っても良い。大きなレターデーションを得るためには偏光照射のみ、もしくは先に偏光照射することが好ましい。偏光照射は、酸素濃度３％以下、より好ましくは０．５％以下、の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。偏光照射には紫外線偏光照射が好ましく、特に３６５±１０ｎｍにピークを持つ偏光照射が好ましく、３６５±５ｎｍにピークを持つ偏光照射がさらに好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜１０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ²であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ²であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、重合性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。
なお、偏光照射による光配向によって発生した面内のレターデーションを示す光学異方性層は、特に、ＶＡモードの液晶表示装置を光学補償するのに優れている。

［水平配向剤］
前記光学異方性層を形成する液晶性化合物は、下記一般式（VII）〜（IX）で表される化合物の少なくとも一種を併用することで、実質的に水平配向させることができる。尚、本発明で「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。

本発明において、前記一般式（VII）〜（IX）にて表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の量の０．０１〜２０重量％が好ましく、０．０１〜１０重量％がより好ましく、０．０２〜１重量％が特に好ましい。なお、前記一般式（VII）〜（IX）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。

以下、下記一般式（VII）〜（IX）について、順に説明する。

式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³は単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ¹〜Ｒ³で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基またはフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲ^a−（Ｒ^aは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲ^a−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ₂−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。

式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³で表される置換基の好ましい範囲として挙げてものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。

式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸及びＲ⁹でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（Ｉ）におけるＲ¹、Ｒ²及びＲ³で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。

［配向層］
本発明において、前記配向層は、水が２０％以上の溶媒組成からなる溶液を塗布乾燥して形成する。配向層は一般に、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理のような手段で設けることができる。ラビング処理はポリマー層の表面を紙や布で一定方向に数回こすることにより実施する。本発明の配向層上には液晶組成化合物からなる溶液を塗布乾燥し、光学異方層を付与するが、その溶媒によってラビングした配向層表面が溶解されることのない。
配向層は、透明支持体上に設けられ、その上に塗布等で設けられる液晶性化合物の配向方向を規定する機能を有し、そしてその配向は、光学補償シートから傾いた光軸を与える。本発明において、配向層は、ラビング処理等の配向処理が施されたポリマー層であり、そのポリマーはビニル、オキシラン、アジリジニルまたはアリールを有する基を持っている。ポリマーはポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが好ましい。ポリビニルアルコールにおいて、少なくともその一個のヒドロキシル基が、ビニル部分、オキシラン部分またはアジリジニル部分を有する基で置換されている。上記部分は、一般に、ポリビニルアルコールのポリマー鎖（炭素原子）と、エーテル結合（−Ｏ−）、ウレタン結合（−ＯＣＯＮＨ−）、アセタール結合（（−Ｏ−）₂ＣＨ−）またはエステル結合（−ＯＣＯ−）を介して結合している。ウレタン結合、アセタール結合またはエステル結合が好ましい。ビニル、オキシラン、アジリジニルまたはアリールは、上記結合を介して間接的にポリビニルアルコールに結合していることが好ましく、即ち、上記部分を有する基が、結合基と共にポリビニルアルコールに結合していることが好ましい。

ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールに導入されるべき基を有する化合物を、ポリビニルアルコールと反応させることにより、本発明の特定の基を有するポリビニルアルコールを得ることができる。ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールは、一般に鹸化度７０〜１００％のものである。重合度としては、１００〜３０００の範囲のものが好ましい。鹸化度は、８０〜１００％の範囲が好ましく、特に鹸化度８５〜９５％が好ましい。また重合度としては、１００〜３０００の範囲が好ましい。本発明に好ましく用いられるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールの例について、特開平９−１５２５０９号公報に記載されている。

［透明支持体］
光学異方性層の透明支持体としては、光透過率が８０％以上であるポリマーフィルムを用いることが好ましい。透明支持体の厚みは１０〜５００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがより好ましく、３５〜１１０μｍが最も好ましい。

本発明の透明支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、使用目的に応じて適宜定められる。当該樹脂のガラス移転温度は、好ましくは７０℃以上、より好ましくは７５℃〜２００℃、特に好ましくは８０℃〜１８０℃の範囲である。この範囲の樹脂を採用すると、耐熱性と成形加工性とが高度にバランスされ好適である。

透明支持体のＲｅは−２００〜１００ｎｍの範囲に、そして、Ｒｔｈは−１００〜１００ｎｍの範囲に調節することが好ましい。Ｒｅは−５０〜３０ｎｍがなお好ましく、−３０〜２０ｎｍが最も好ましい。セルロースエステルフィルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０〜０．０２の範囲にあることが好ましい。また、セルロースエステルフィルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０〜０．０４の範囲にあることが好ましい。本明細書において負のＲｅとは透明支持体面内遅相軸がＴＤ方向にあることを指し、負のＲｔｈとは厚み方向の屈折率が面内平均屈折率よりも大きいことを指す。

透明支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステルおよびポリスルホンが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン（ＪＳＲ製）、ゼオノア（日本ゼオン製）など）を用いてもよい。

特に偏光板の保護フィルムとして用いる場合にはセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。セルロースの低級脂肪酸エステルのなかでは、セルロースアセテートであることが最も好ましい。セルロースエステルのアシル基置換度は、２．５０〜３．００であることが好ましく、２．７５〜２．９５であることがさらに好ましく、２．８０〜２．９０であることが最も好ましい。

セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｍ／Ｍｎ（Ｍｍは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。Ｍｍ／Ｍｎの値は、１．０〜５．０であることが好ましく、１．３〜３．０であることがさらに好ましく、１．４〜２．０であることが最も好ましい。

セルロースエステルでは、セルロースの２位、３位および６位のヒドロキシル基が均等に置換されるのでなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明において、セルロースエステルの６位置換度は、２位および３位と同程度またはそれ以上であることが好ましい。２位、３位および６位の置換度の合計に対する６位置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましい。６位置換度の割合は、３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。セルロースの６位は、アセチル以外に炭素数３以上のアシル基（例、プロピオニル、ブチリル、バレロイル、ベンゾイル、アクリロイル）で置換されていてもよい。各位の置換度は、ＮＭＲによって測定することができる。６位置換度が高いセルロースエステルは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、および段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３を参照して合成することができる。

セルロースエステルフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、ビフェニルジフェニルホスフェート、およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５重量％であることが好ましく、１〜２０重量％であることがさらに好ましく、３〜１５重量％であることが最も好ましい。

セルロースエステルフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１重量％であることが好ましく、０．０１〜０．２重量％であることがさらに好ましい。添加量が０．０１重量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１重量％を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。さらに、ライトパイピング防止に、極少量の染料を添加してもよい。透過率の観点からは、波長４２０ｎｍの光の透過率が５０％以上となるように、種類および量を調整することが好ましい。染料の添加量としては、０．０１ｐｐｍ〜１ｐｐｍであることが好ましい。

セルロースエステルフィルムには、Ｒｅレターデーション値やＲｔｈレターデーション値を制御するため、レターデーション制御剤を添加することができる。レターデーション制御剤は、セルロースエステル１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することが最も好ましい。二種類以上のレターデーション制御剤を併用してもよい。レターデーション制御剤については国際公開ＷＯ０１／８８５７４号、国際公開ＷＯ００／２６１９号の各パンフレット、特開２０００−１１１９１４号、同２０００−２７５４３４号の各公報に記載がある。

セルロースエステルフィルムは、セルロースエステルおよび他の成分を含む溶液をドープとして用いて、ソルベントキャスト法により製造することができる。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０重量％となるように濃度を調整することが好ましい。固形分量は１８〜３５重量％であることがさらに好ましい。ドープを２層以上流延することもできる。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許第６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。

ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。そして、得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０℃で逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させる方法（特公平５−１７８４４号公報記載）を採用できる。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。複数のセルロースエステル溶液を流延する場合、支持体の進行方向に間隔をおいて設けた複数の流延口からセルロースエステルを含む溶液をそれぞれ流延させて、それらを積層させながらフィルムを作製してもよい（特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および同１１−１９８２８５号の各公報記載）。２つの流延口からセルロースエステル溶液を流延することによりフィルムを作製することもできる（特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、同６１−９４７２４５号、同６１−１０４８１３号、同６１−１５８４１３号および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載）。高粘度セルロースエステル溶液の流れを低粘度のセルロースエステル溶液で包み込み、高粘度および低粘度のセルロースエステル溶液を同時に押出すセルロースエステルフィルムの流延方法（特開昭５６−１６２６１７号公報記載）を採用してもよい。

セルロースエステルフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％の範囲にあることが好ましい。テンター延伸が好ましい。遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度および離脱タイミングの差をできる限り小さくすることが好ましい。延伸処理については国際公開ＷＯ０１／８８５７４号パンフレットの３７頁８行〜３８頁８行目に記載がある。

セルロースエステルフィルムは、表面処理を施すことができる。表面処理には、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理および紫外線照射処理が挙げられる。フィルムの平面性を保持する観点から、表面処理においてセルロースエステルフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。

セルロースエステルフィルムの厚さは、製膜により作製する場合は、リップ流量とラインスピード、または延伸もしくは圧縮により、調整することができる。使用する主素材により透湿性が異なるので、厚み調整により、偏光板の保護フィルムとしての好ましい透湿性の範囲にすることが可能である。また、前記セルロースエステルフィルムの自由体積は、製膜により作製する場合は、乾燥温度と時間により調整することができる。この場合もまた、使用する主素材により透湿性が異なるので、自由体積調整により保護フィルムとして好ましい透湿性の範囲にすることが可能である。セルロースエステルフィルムの親疎水性は、添加剤により調整することができる。自由体積中に親水的添加剤を添加することで透湿性は高くなり、逆に疎水性添加剤を添加することで透湿性を低くすることができる。この様に種々の方法により、セルロースエステルフィルムの透湿性を調整することで、偏光板の保護フィルムとして好ましい透湿性の範囲とすることができ、光学異方性層の支持体を偏光板の保護フィルムと兼ねることができて、光学補償能を有する偏光板を安価に高い生産性で製造することができる。

［偏光板］
本発明の液晶表示装置に用いる偏光板は、偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の保護フィルムとからなる。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜が挙げられる。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。保護フィルムの種類は特に限定されず、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル等を用いることができる。透明保護フィルムは、通常、ロール形態で供給され、長尺の偏光膜に対して、長手方向が一致するようにして連続して貼り合わされることが好ましい。ここで、保護フィルムの配向軸（遅相軸）はいずれの方向であってもよい。また、保護フィルムの遅相軸（配向軸）と偏光膜の吸収軸（延伸軸）の角度も特に限定はなく、偏光板の目的に応じて適宜設定できる。

偏光膜と保護フィルムは水系接着剤で貼り合わせてもよい。水系接着剤中の接着剤溶剤は、保護フィルム中を拡散することで乾燥される。保護フィルムの透湿性が高ければ、高いほど乾燥は早くなり生産性は向上するが、高くなりすぎると、液晶表示装置の使用環境（高湿下）により、水分が偏光膜中に入ることで偏光能が低下する。光学補償シートの透湿性は、ポリマーフィルム（および重合性液晶化合物）の厚み、自由体積、もしくは親疎水性などにより決定される。偏光板の保護フィルムの透湿性は、１００〜１０００（ｇ／ｍ²）／２４ｈｒｓの範囲にあることが好ましく、３００〜７００（ｇ／ｍ²）／２４ｈｒｓの範囲にあることが更に好ましい。

本発明では、薄型化等を目的に、偏光膜の保護フィルムのうち一方が、光学異方性層の支持体を兼ねていてもよいし、また光学異方性層そのものであってもよい。光学異方性層と偏光膜は、光学軸のズレ防止やゴミなどの異物の侵入防止などの点から、固着処理されていることが好ましい。その固着積層には例えば透明接着層を介した接着方式などの適宜な方式を適用することができる。その接着剤等の種類について特に限定はなく、構成部材の光学特性の変化防止などの点から、接着処理時の硬化や乾燥の際に高温のプロセスを要しないものが好ましく、長時間の硬化処理や乾燥時間を要しないものが望ましい。このような観点から、親水性ポリマー系接着剤や粘着層が好ましく用いられる。

偏光膜の片面又は両面に、上記の保護フィルムに準じた耐水性等の各種目的の保護フィルム、表面反射の防止等を目的とした反射防止層又は／及び防眩処理層などの適宜な機能層を形成した偏光板を用いてもよい。前記反射防止層は、例えばフッ素系ポリマーのコート層や多層金属蒸着膜等の光干渉性の膜などとして適宜に形成することができる。また防眩処理層も例えば微粒子含有の樹脂塗工層やエンボス加工、サンドブラスト加工やエッチング加工等の適宜な方式で表面に微細凹凸構造を付与するなどにより表面反射光が拡散する適宜な方式で形成することができる。

なお前記の微粒子には、例えば平均粒径が０．５〜２０μｍのシリカや酸化カルシウム、アルミナやチタニア、ジルコニアや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機系微粒子や、ポリメチルメタクリレートやポリウレタの如き適宜なポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子などの適宜なものを一種又は二種以上用いうる。また上記した接着層ないし粘着層は、斯かる微粒子を含有して光拡散性を示すものであってもよい。

本発明に関連する保護フィルム、偏光膜および透明支持体からなる偏光板の光学的性質及び耐久性（短期、長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）と同等以上の性能を有することが好ましい。具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度√｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝ ≧ ０．９９９５（ただし、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、温度６０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間および８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率の変化率が絶対値に基づいて３％以下、更には１％以下、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１％以下、更には０．１％以下であることが好ましい。

本発明で用いられる液晶表示装置の表示モードは特に限定されないが、ＶＡモードが好適に用いられる。なお、本発明で用いられる液晶表示装置は、上記表示モードだけでなくＳＴＮモード、ＴＮモード、ＯＣＢモードに適用した態様も有効である。

［ＶＡモード液晶セル］
本発明において、液晶セルはＶｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄモード（ＶＡモード）であるのが好ましい。ＶＡモードの液晶セルは、対向面がラビング処理された上下基板の間に誘電異方性が負の液晶性分子を封入してなる。例えば、Δｎ＝０．０８１３、およびΔε＝−４．６程度の液晶分子を用い、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角が約８９°の液晶セルを作製することができる。この時、液晶層の厚さｄは３．５μｍ程度にすることができる。液晶層の厚さｄ（ｎｍ）と、屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。最大の明るさを得るためには、液晶層の厚さｄは２〜５μｍ（２０００〜５０００ｎｍ）の範囲であるのが好ましく、Δｎは、０．０６０〜０．０８５の範囲である。

液晶セル３５の上下基板の内側には透明電極が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層中の液晶分子は基板面に対して概略垂直に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態はほとんど変化しない。液晶セルの上側偏光板３７の吸収軸と下側偏光板３６の吸収軸とは概略直交しているので、光は偏光板を通過しない。すなわち、ＶＡモードの液晶表示装置では、非駆動状態において理想的な黒表示を実現することができる。これに対し、駆動状態では液晶分子は基板面に平行な方向に傾斜し、液晶パネルを通過する光は傾斜した液晶分子により偏光状態を変化させ、偏光板を通過する。

ここまでは上下基板間に電界が印加されるため、電界方向に垂直に液晶分子が応答するような、誘電率異方性が負の液晶材料を使用した例を示したが、電極を一方の基板に配置し、電界が基板面に平行の横方向に印加される場合は、液晶材料は正の誘電率異方性を有するものを使用することもできる。

ＶＡモードの特徴は、高速応答であること及びコントラストが高いことである。しかし、コントラストは、正面では高いが斜め方向では低下するという課題がある。黒表示時に液晶性分子は基板面に垂直に配向しているため、正面から観察すると液晶分子の複屈折はほとんどないので透過率が低く、高コントラストが得られる。しかし、斜めから観察した場合は液晶性分子に複屈折が生じる。さらに上下の偏光板吸収軸の交差角は、正面では９０°の直交であるが、斜めから見た場合は９０°より大きくなる。この２つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じやすくなり、コントラストが低下する傾向にある。本発明では、これを解決するために、光学異方性層を所定の光学特性を有する透明支持体上に少なくとも一層設けた。

ＶＡモードでは、白表示時には液晶性分子が傾斜しているが、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶性分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。これを解決するためには、液晶セルをマルチドメインにするのが好ましい。マルチドメインとは、一つの画素中に、配向状態の異なる複数の領域を形成した構造をいう。例えば、マルチドメイン方式のＶＡモードの液晶セルでは、一つの画素中に、電界印加時の液晶性分子の傾斜角が互いに異なる複数の領域が存在する。マルチドメイン方式のＶＡモード液晶セルでは、電界印加による液晶性分子の傾斜角を画素ごとに平均化することができ、そのことによって、視角特性を平均化することができる。一画素内で配向を分割するには、電極にスリットを設けたり、突起を設けたり、電界方向を変えたり、電界密度に偏りを持たせたりすることで達成できる。全方向に均等な視野角を得るにはこの分割数を多くすればよいが、白表示時の透過率が減少してしまうため、４分割が好適である。

ＶＡモードの液晶表示装置では、Ｔｗｉｓｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃモード（ＴＮモード）の液晶表示装置で一般的に使われているカイラル材の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。配向分割の領域境界では、液晶分子が応答しづらい。そのためノーマリーブラック表示では黒表示が維持されるため、輝度低下が問題となる。液晶材料にカイラル剤を添加することは、境界領域を小さくするのに寄与する。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。

（透明支持体Ｓ−１の作製）
市販のセルロースアセテートフィルムであるフジタックＴＤ８０ＵＦ（富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝５０ｎｍ）を透明支持体Ｓ−１として用いた。

（透明支持体Ｓ−２の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
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セルロースアセテート溶液組成（％） 内層 外層
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酢化度６０．９％のセルロースアセテート ２０．８９ １９．７８
トリフェニルホスフェート（可塑剤） １．６３ １．５４
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ０．８１５ ０．７７０
メチレンクロライド（第１溶媒） ６１．２２ ６２．１２
メタノール（第２溶媒） １４．８３ １５．０３
１−ブタノール（第３溶媒） ０．３１３ ０．３２０
シリカ（粒径２０ｎｍ） ０．００ ０．１６０
レターデーション上昇剤Ｓ−２−１ ０．３０２ ０．２８０
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得られた内層用ドープおよび外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、さらに、残留溶剤量が１０質量％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥して作製した残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を透明支持体Ｓ−２として用いた。得られたフィルムの光学特性はＲｅ＝８ｎｍ、Ｒｔｈ＝８２ｎｍであった。

（透明支持体Ｓ−３の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
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セルロースアシレート溶液組成（％）
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セルロースアシレート（アセテート基１．２、ブチリル基１．３の置換度）
２４．０
混合溶媒（下表 ７５．０
レターデーション上昇剤Ｓ−３−１ ０．７０
２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン（ＵＶ剤ａ） ０．１２
２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール（ＵＶ剤ｂ） ０．０５
２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール（ＵＶ剤ｃ） ０．０２
シリカ（９７２、日本アエロジル（株）製） ０．０６
クエン酸エチルエステル（モノエステルとジエステルが１：１混合） ０．０５
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──────────────────────────────────――
混合溶媒組成（％）
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酢酸メチル ８０．０
アセトン ５．０
メタノール ７．０
エタノール ５．０
ブタノール ３．０
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この後、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）でろ過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にて濾過した。上述のドープを３５℃に加温し、ギーサーを通して、−１５℃に設定した直径３ｍの鏡面ステンレスのドラムに流延した。使用したギーサーは、特開平１１−３１４２３３号公報に記載の形態に類似するものを用いた。なお流延スピードは１００ｍ／分でその流延幅は２５０ｃｍとした。残留溶剤が２００質量％で剥ぎ取った後、１３０℃で乾燥し、残留溶剤が１質量％以下となったところで巻き取ってセルロースアシレートフィルムを作製した。得られたフィルムは両端を３ｃｍトリミングした後、両端から２〜１０ｍｍの部分に高さ１００μｍのナーリングを付与し、３０００ｍロール状に巻き取った。このフィルムをさらに二軸延伸したものを透明支持体Ｓ−３（Ｒｅ＝１０ｎｍ、Ｒｔｈ＝４０ｎｍ）として用いた。

（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
配向層用塗布液組成（％）
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変性ポリビニルアルコールＡＬ−１−１ ４．０１
水 ７２．８９
メタノール ２２．８３
グルタルアルデヒド（架橋剤） ０．２０
クエン酸 ０．００８
クエン酸モノエチルエステル ０．０２９
クエン酸ジエチルエステル ０．０２７
クエン酸トリエチルエステル ０．００６
──────────────────────────────────――

（光学異方層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方層用塗布液ＬＣ−１として用いた。
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光学異方層用塗布液組成（％）
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棒状液晶（ＬＣ−１−１） ６．６７
棒状液晶（ＬＣ−１−２） ２．６０
カイラル剤（ＬＣ−１−３） ２１．０７
カイラル剤（ＬＣ−１−４） １．６７
連鎖移動剤（ＬＣ−１−５） ０．６７
光重合開始剤（ＬＣ−１−６） ０．６７
メチルエチルケトン ６６．６５
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ＬＣ−１−１：
Ａｎｇｅｗ． Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．誌、第１８３巻、４５頁（１９９０年）に記載の方法に準じて合成した。
ＬＣ−１−２：
ＥＰ１１７４４１１Ｂ１号に記載の方法により合成した４−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸と、４−プロピルシクロヘキシルフェノール（関東化学製）を縮合して合成した。
ＬＣ−１−３：
ＥＰ１１７４４１１Ｂ１号に記載の方法により合成した４−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸と、ＷＯ／２００１０４０１５４Ａ１号に記載の方法により合成した４−ヒドロキシ−４‘−（２−メチルブチル）ビフェニルを縮合して合成した。
ＬＣ−１−４：
ＥＰ１３８９１９９Ａ１に記載の方法により合成した。
ＬＣ−１−５：
ヒドロキシプロピルアクリレート（アルドリッチ社製）をメシル化した後、４−プロピルシクロヘキシルフェノール（関東化学製）と反応させ、次に硫化水素を付加して合成した。
ＬＣ−１−６：
４−プロピルシクロヘキシルフェノール（関東化学製）をトリフレート化した後、フェニルボロン酸による鈴木カップリング反応でビフェニル体とした。更に、イソ酪酸クロライドと塩化アルミでビフェニルの４’位をアシル化した後、カルボニルのα位の炭素を臭素によってブロム化、次いでアルカリにより水酸基とすることで合成した。

（光学異方層用塗布液ＬＣ−２の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方層用塗布液ＬＣ−２として用いた。
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光学異方層用塗布液組成（％）
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ディスコティック液晶（ＬＣ−２−１） １９．２
添加剤（ＬＣ−２−２） ０．２
光重合開始剤（ＬＣ−２−３） ０．６
メチルエチルケトン ８０．０
──────────────────────────────────――

（セルロースエステルフィルムの片面ケン化処理）
セルロースエステルフィルムを温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて１４ｍｌ／ｍ²で塗布した。そして、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーター（（株）ノリタケカンパニー製）の下に１０秒滞留させた後に、同じバーコーターを用いて純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後、７０℃の乾燥ゾーンに２秒滞留させて乾燥した。

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アルカリ溶液組成（％）
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水酸化カリウム ４．７
水 １４．７
イソプロパノール ６４．８
プロピレングリコール １４．８
界面活性剤（ＳＦ−１） １．０
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［実施例１］
透明支持体Ｓ−１の片面を前述の片面ケン化処理法を使ってケン化処理した後、その上に配向層用塗布液ＡＬ−１を＃１４のワイヤーバーコーターで塗布し、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥して厚さ１．０μｍの配向層を形成した。続いて、形成した配向層を透明支持体の遅相軸方向に対して連続的にラビング処理した後、両親媒性化合物（Ｉ−１）０．３％を光学異方層用塗布液ＬＣ−１に添加して調製した混合液晶組成物を、ラビング処理面に＃３のワイヤーバーコーターで塗布し、６０℃１分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する光学異方層を形成した。さらに熟成後直ちに光学異方層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、ＰＯＬＵＶ−１を用いて偏光板の透過軸が透明支持体の進相軸方向となるようにして偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２００ｍＪ／ｃｍ²）し、実施例１の光学補償シートを作製した。光学異方層は固定化後、昇温しても液晶相を示さなかった。光学異方性層の厚みは１．３μｍであった。得られた光学補償シートに対し、下記の評価を行った。

（密着）
クロスカット法により、剥がれの有無を目視で観察し、下記の３段階評価を行った。
〇：剥がれが殆ど認められなかったもの
△：１０％以上剥がれが認められたもの
×：５０％剥がれが認められたもの

（位相差測定）
ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）により、５８９ｎｍにおける正面レターデーションＲｅおよび遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションＲｅ（４０）、Ｒｅ（−４０）を測定した。

［実施例２］
両親媒性化合物（Ｉ−１）を両親媒性化合物（Ｉ−６）に代えた以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製した。
［実施例３］
透明支持体Ｓ−１の片面を前述の片面ケン化処理法を使ってケン化処理した後、その上に配向層用塗布液ＡＬ−１を＃１４のワイヤーバーコーターで塗布し、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥して厚さ１．０μｍの配向層を形成した。続いて、形成した配向層を透明支持体の遅相軸方向に対して連続的にラビング処理した後、両親媒性化合物（Ｉ−１）０．３％を光学異方層用塗布液ＬＣ−２に添加して調製した混合液晶組成物を、ラビング処理面に＃３のワイヤーバーコーターで塗布し、１２５℃１分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する光学異方層を形成した。さらに熟成後直ちに光学異方層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、ＰＯＬＵＶ−１を用いて偏光板の透過軸が透明支持体の進相軸方向となるようにして偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２００ｍＪ／ｃｍ²）し、実施例１の光学補償シートを作製した。光学異方層は固定化後、昇温しても液晶相を示さなかった。光学異方性層の厚みは１．３μｍであった。得られた光学補償シートに対し、下記の評価を行った。
［実施例４］
支持体Ｓ−１を支持体Ｓ−２に代えた以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製した。

［比較例１］
透明支持体Ｓ−１の片面を前述の片面ケン化処理法を使ってケン化処理した後、その上に配向層用塗布液ＡＬ−１を＃１４のワイヤーバーコーターで塗布し、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥して厚さ１．０μｍの配向層を形成した。続いて、形成した配向層を透明支持体の遅相軸方向に対して連続的にラビング処理した後、その上に光学異方層塗布液ＬＣ−１を＃３のワイヤーバーコーターで塗布し、６０℃１分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する光学異方層を形成した。さらに熟成後、直ちに光学異方層に対して、酸素濃度０．３％以下の窒素雰囲気下において、ＰＯＬＵＶ−１を用いて偏光板の透過軸が透明支持体の進相軸方向となるようにして偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２００ｍＪ／ｃｍ²）し、実施例１の光学補償シートを作製した。光学異方層は固定化後、昇温しても液晶相を示さなかった。光学異方性層の厚みは１．３μｍであった。得られた光学補償シートに対し、実施例１と同様に評価を行った。
［比較例２］
光学異方層用塗布液ＬＣ−１を光学異方層用塗布液ＬＣ−２に代えた以外は比較例１と同様にして光学補償シートを作製した。

実施例１〜４、ならびに比較例１及び２の密着評価結果を表１に、実施例１〜４、ならびに比較例１及び２の光学異方性層の位相差測定結果を表２に示す。

（光学補償シート付偏光板の作製）
本発明の実施例１〜３、および比較例１の光学補償シートと、市販のフジタックＴＤ８０ＵＦ（富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ＝３ｎｍ、Ｒｔｈ＝５０ｎｍ）を、１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。続いて室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。これを再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。この後、水洗、中和処理を行い、この二枚のケン化済フィルムを、偏光板の保護膜として偏光膜の両面にポリビニルアルコール系接着剤を用いてロール・トゥ・ロールで貼り付け、一体型偏光板を作製した。本発明の実施例はいずれも生産性に優れ、光学異方層は良好な面状を示していた。比較例のものは密着性が不十分であるだけでなく、配向層塗布前の片面ケン化処理による生産性低下を引き起こすと共に、偏光板加工時のケン化浴を汚染するなどの問題を引き起こした。

［実施例６］
（ＶＡ−ＬＣＤ液晶表示装置の作製）
市販のＶＡ−ＬＣＤ（ＳｙｎｃＭａｓｔｅｒ １７３Ｐ、サムスン電子社製）の上下側偏光板を剥がし、上側には通常の偏光板を、下側には実施例１で作製した本発明の光学補償シート付偏光板を、光学異方性層が液晶セル基板ガラス面になるように粘着剤で貼合して本発明の液晶表示装置を作製した。作製した液晶表示装置の断面概略図を、各層の光学的軸の角度関係とともに図４に示す。図４中、４１は偏光層、４２は透明支持体、４３は配向層、４４は光学異方層（４１〜４４で本発明の光学補償シートが構成される）、４５は偏光板保護フィルム、４６は液晶セル用ガラス基板、４７は液晶セル及び４８は粘着剤層である。また、偏光層４１中の矢印は吸収軸の向きを、光学異方性層４４やその支持体４４及び保護フィルム４５中の矢印は遅相軸の向きを示し、丸印は矢印が紙面に対する法線方向であることを示す。

（ＶＡ−ＬＣＤ液晶表示装置の評価）
作製した液晶表示装置の視野角特性を視野角測定装置（ＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）で測定した。さらに特に斜め４５度方向について目視でも評価した。実施例６のＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔによるコントラスト特性を図５に、目視評価結果を表３に示す。

本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 本発明の偏光板の例の概略断面図である。 本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。 実施例６で作製した液晶表示装置の層構成を層中の光学的軸の方向とともに示した概略断面図である。 実施例６で作製した液晶表示装置のコントラスト特性を示す図である。

符号の説明

１１ 透明支持体
１２ 液晶性化合物からなる光学異方性層
１３ 配向層
２１ 偏光層
２２、２３ 保護フィルム
２４ λ／４板、反射防止膜等の機能性層
３１ 冷陰極管
３２ 反射シート
３３ 導光板
３４ 輝度向上フィルム、拡散フィルム等の調光フィルム
３５ 液晶セル
３６ 下側偏光板
３７ 上側偏光板
４１ 偏光層
４２ 透明支持体
４３ 配向層
４４ 光学異方層
４５ 偏光板保護フィルム
４６ 液晶セル用ガラス基板
４７ 液晶セル
４８ 粘着剤
５１ 一軸延伸光学補償シート

Claims (14)

1. 透明支持体と、該透明支持体上に、水が２０％以上の溶媒組成からなる溶液を塗布乾燥して形成したポリビニルアルコール又はその誘導体を主成分とする配向層と、該配向層の表面上に、少なくとも一つの重合性基を有する液晶性化合物及び少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物をそれぞれ少なくとも一種含有する組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償シートであって、光学異方性層の正面レターデーション（Ｒｅ）が０でなく、面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償シートの法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として光学補償シートの法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値が実質的に等しく、
   前記少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物が、下記の一般式（Ｉ）で表される化合物である光学補償シート。
   

   

   （式中、Ｚは重合性基、Ｘ¹は連結基、及びＱは配向層に吸着して配向層のヒドロキシ基と結合する親水性基を表す）。
2. 前記一般式（Ｉ）中のＱが、−ＳｉＸ（Ｘはハロゲンまたはアルコキシ）、アルデヒド、エステル、カルボキシル、イソシアネート、エポキシ、オキセタン、ボロン酸又はボロン酸エステルである請求項１に記載の光学補償シート。
3. 前記液晶性化合物の少なくとも一種が、少なくとも一つの重合性基を有する棒状液晶性化合物であって、前記光学異方性層が該重合性基を重合反応させて形成された層である請求項１又は２に記載の光学補償シート。
4. 前記液晶性化合物の少なくとも一種が、少なくとも一つの重合性基を有するディスコティック液晶性化合物であって、前記光学異方性層が該重合性基を重合反応させて形成された層である請求項１又は２に記載の光学補償シート。
5. 前記液晶性化合物の少なくとも一種が、少なくとも一つの重合性基を有する棒状液晶性化合物であり、前記組成物がさらにカイラル剤を含み、且つ前記光学異方性層が該重合性基を重合反応させて形成した層である請求項１又は２に記載の光学補償シート。
6. 前記少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物が、下記の一般式（II）で表される化合物である請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
   

   

   （式中、Ｚは重合性基、Ｘ¹は連結基、及びＲ¹とＲ²はそれぞれ独立に、水素原子、又は置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を表す）。
7. Ｚが下記一般式（III）で表される基、又はオキシラン部分もしくはオキセタン部分を有する基である請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
   

   

   （式中、Ｒ³は水素原子またはメチル基を、Ｌ¹は単結合または二価の連結基を表す）。
8. Ｘ¹がアリーレンである請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シート。
9. 前記配向層が、側鎖に重合性基を有するポリビニルアルコール誘導体、ポリ（メタ）アクリレート誘導体及び多糖類から選択される高分子からなる請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学補償シート。
10. 透明支持体上に水が２０％以上の溶媒組成からなる溶液を塗布及び乾燥してポリビニルアルコール又はその誘導体を主成分とする配向層を形成する工程と、該配向層の表面に、少なくとも一つの重合性基を有する棒状液晶性化合物、カイラル剤及び請求項１中の式（Ｉ）で表される少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物をそれぞれ少なくとも一種含有する液晶組成物を塗布して、前記棒状液晶性化合物の分子を５゜未満の平均傾斜角でコレステリック配向させる工程と、偏光を照射して、前記棒状液晶化合物の分子を重合させて光学異方性層を形成する工程とをこの順序で実施する請求項１に記載の光学補償シートの製造方法。
11. 透明支持体上に水が２０％以上の溶媒組成からなる溶液を塗布及び乾燥してポリビニルアルコール又はその誘導体を主成分とする配向層を形成する工程と、該配向層の表面に、少なくとも一つの重合性基を有するディスコティック液晶性化合物、カイラル剤及び請求項１中の式（Ｉ）で表される少なくとも一つの重合性基を有する両親媒性化合物をそれぞれ少なくとも一種含有する液晶組成物を塗布して、前記ディスコティック液晶性化合物の分子を５゜未満の平均傾斜角で配向させる工程と、偏光を照射して、前記ディスコティック液晶化合物の分子を重合させて光学異方性層を形成する工程とをこの順序で実施する請求項１に記載の光学補償シートの製造方法。
12. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シートの少なくとも一枚と、偏光子とを有する偏光板。
13. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シート、又は請求項１２に記載の偏光板を有する液晶表示装置。
14. ＶＡモードである請求項１３に記載の液晶表示装置。

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