JP4548031B2 - 結晶製造方法および結晶製造装置 - Google Patents
結晶製造方法および結晶製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4548031B2 JP4548031B2 JP2004223197A JP2004223197A JP4548031B2 JP 4548031 B2 JP4548031 B2 JP 4548031B2 JP 2004223197 A JP2004223197 A JP 2004223197A JP 2004223197 A JP2004223197 A JP 2004223197A JP 4548031 B2 JP4548031 B2 JP 4548031B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystal
- raw material
- material solution
- seed
- axis direction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
他方、TGS(Triglycine Sulfate)系結晶の晶癖について研究がなされている(例えば、非特許文献2,3,4参照。)。
しかし、TGSにL−α−アラニンを不純物としてドープしたLATGSやDLATGS結晶の場合、結晶が種結晶に対してどの領域で成長したかにより、a軸方向,c軸方向を面方向とし且つb軸方向を厚さ方向とした平板形状の結晶でも、特性が異なる。これについては、非特許文献2に記載されている(但し、非特許文献2でDLATGSと称する結晶はD−α−アラニンおよびL−α−アラニンをドーパントとしたTGS系結晶であり、本願におけるキュリー温度を上昇させるために水素を重水素に置換したDLATGSとは異なる)。
L−α−アラニンをドープする目的は安定した分極状態を得ることであり、それはL−α−アラニンにより結晶内部に発生する内部バイアスに拠る。このことについては非特許文献2および非特許文献4に記載されている。そして、内部バイアスが大きくなるような成長領域は限られた領域であり、(0,−1,0)軸に垂直な面に成長した領域で特に大きな内部バイアスが得られる。
すなわち、育成する結晶の内部バイアスをより大きくする(ドーパントを入れる効果を効率良く導き出す)ためには、(0,−1,0)軸に垂直な面を種結晶として、その上の領域に結晶成長させることが肝要である。よって、このような結晶を効率良く得るためには、(0,−1,0)軸に垂直な面の面積を大きくすることが求められる。
そこで、本発明の目的は、特定方向に大きく成長した結晶を製造することが出来る結晶製造方法および結晶製造装置を提供することにある。
本願発明者が鋭意研究したところ、原料溶液中に種結晶を入れると、最初は特定の結晶軸方向の成長速度が高く、他の結晶軸方向の成長速度は低いが、晶癖が現れた後は、その晶癖を維持するような各結晶軸方向の成長速度になることが判った。さらに、最初の原料溶液と組成が異なる原料溶液中へ成長中種結晶を移すと、再び特定の結晶軸方向の成長速度が高く、他の結晶軸方向の成長速度は低くなり、やがて晶癖が現れた後は、その晶癖を維持するような各結晶軸方向の成長速度になることが判った。
そこで、上記第1の観点による結晶製造方法では、同一原料溶液中で種結晶を育成し続けるのではなく、第1原料溶液中で種結晶をある程度育成すると、組成が異なる第2原料溶液中へ成長中種結晶を移して育成する。これにより、特定の結晶軸方向の成長速度が高く、他の結晶軸方向の成長速度は低い状態を維持して結晶を育成できるから、特定方向に大きく成長した結晶を効率良く製造することが出来る。
なお、第2原料溶液中で成長中種結晶をある程度育成すると、さらに組成が異なる第3原料溶液中へ成長中種結晶を移して育成する、というように同種操作を繰り返しても良い。また、第2原料溶液中で成長中種結晶をある程度育成すると、元の第1原料溶液中へ成長中種結晶を戻して育成する、というように同種操作を繰り返しても良い。
本願発明者が鋭意研究したところ、原料溶液中に種結晶を入れると、最初は特定の結晶軸方向の成長速度が高く、他の結晶軸方向の成長速度は低いが、晶癖が現れた後は、その晶癖を維持するような各結晶軸方向の成長速度になることが判った。さらに、最初の原料溶液と結晶成分またはドーパントの濃度が異なる原料溶液中へ成長中種結晶を移すと、再び特定の結晶軸方向の成長速度が高く、他の結晶軸方向の成長速度は低くなり、やがて晶癖が現れた後は、その晶癖を維持するような各結晶軸方向の成長速度になることが判った。
そこで、上記第2の観点による結晶製造方法では、同一原料溶液中で種結晶を育成し続けるのではなく、第1原料溶液中で種結晶をある程度育成すると、結晶成分又はドーパントの濃度が異なる第2原料溶液中へ成長中種結晶を移して育成する。これにより、特定の結晶軸方向の成長速度が高く、他の結晶軸方向の成長速度は低い状態を維持して結晶を育成できるから、特定方向に大きく成長した結晶を効率良く製造することが出来る。
本願発明者が鋭意研究したところ、原料溶液中に種結晶を入れると、最初は特定の結晶軸方向の成長速度が高く、他の結晶軸方向の成長速度は低いが、晶癖が現れた後は、その晶癖を維持するような各結晶軸方向の成長速度になることが判った。さらに、最初の原料溶液と結晶成分またはドーパントの濃度が異なる原料溶液中へ成長中種結晶を移すと、再び特定の結晶軸方向の成長速度が高く、他の結晶軸方向の成長速度は低くなり、やがて晶癖が現れた後は、その晶癖を維持するような各結晶軸方向の成長速度になることが判った。
そこで、上記第3の観点による結晶製造方法では、同一原料溶液中で種結晶を育成し続けるのではなく、第1原料溶液中でTGS系種結晶をある程度育成すると、結晶成分又はドーパントの濃度が異なる第2原料溶液中へ成長中種結晶を移して育成する。これにより、a軸方向,c軸軸方向の成長速度が高く、b軸方向の成長速度は低い状態を維持して結晶を育成できるから、a軸方向,c軸軸方向に大きく成長したTGS系結晶を効率良く製造することが出来る。すなわち、焦電素子として利用するのに好適なTGS系結晶を効率良く製造することが出来る。
なお、第2原料溶液中で成長中種結晶をある程度育成すると、さらに組成が異なる第3原料溶液中へ成長中種結晶を移して育成する、というように同種操作を繰り返しても良い。また、第2原料溶液中で成長中種結晶をある程度育成すると、元の第1原料溶液中へ成長中種結晶を戻して育成する、というように同種操作を繰り返しても良い。
なお、ドーパントを加えることにより、分極方向を制御することが出来る。
上記第4の観点による結晶製造方法では、同一原料溶液中で種結晶を育成し続けるのではなく、ドーパントとしてL−α−アラニンを含む第1原料溶液中でTGS系種結晶をある程度育成すると、L−α−アラニンを含まないか又はその濃度が異なる第2原料溶液中へ成長中種結晶を移して育成する。これにより、a軸方向,c軸軸方向の成長速度が高く、b軸方向の成長速度は低い状態を維持して結晶を育成できるから、a軸方向,c軸軸方向に大きく成長したTGS系結晶を効率良く製造することが出来る。すなわち、焦電素子として利用するのに好適なTGS系結晶を効率良く製造することが出来る。
上記第5の観点による結晶製造装置では、上記構成の結晶製造方法を好適に実施できる。
この結晶製造装置100は、第1原料溶液1sを貯留する半円筒形状の第1槽1vと、第1原料溶液1vと組成が異なる第2原料溶液2sを貯留する半円筒形状の第2槽2vと、第1槽1v内を攪拌する第1攪拌機1rと、第2槽2v内を攪拌する第2攪拌機2rと、第1種結晶C1を保持する第1保持具1hと、第2種結晶C2を保持する第2保持具2hと、第1保持具1hを上下移動させる第1リフト1fと、第2保持具2hを上下移動させる第2リフト2fと、第1原料溶液1sおよび第2原料溶液2sの温度を制御するための温調槽4、温調槽4の上部の温度を下げないためのヒータ3と、第1槽1vおよび第2槽2vを合わせた円筒形状の中心軸を回転軸として水平面内で回転しうると共に第1リフト1fおよび第2リフト2fを支持するターンテーブル5と、ターンテーブル5を回転可能に支持する支持台6とを具備して構成される。
ステップS1では、下端が原料溶液に浸からない位置まで第1保治具1hおよび第2保治具2hを引き上げた状態にして、ターンテーブル5を外す。
例えば、第1種結晶C1および第2種結晶は、ある程度の面積の(0−10)面を持ったDLATGS系結晶である。具体例を挙げると、a軸方向の長さ10mm×c軸方向の長さ10mm×b軸方向の厚さ0.8mmの平板形状にしたDLATGS系結晶である。これらを粘着テープで貼り付ける。
例えば、第1原料溶液1sは、モル比がグリシン:硫酸=3:1であるようにTGS系結晶成分を含むと共にドーパントとしてL−α−アラニンを5mol%含む水溶液である。また、第2原料溶液2sは、モル比がグリシン:硫酸=3:1であるようにTGS系結晶成分を含むと共にドーパントとしてL−α−アラニンを30mol%含む水溶液である。
例えば、温度は40℃である。
例えば、温度を下げる速度は0.03℃/day〜0.3℃/dayである。
ステップS7では、成長中の種結晶C1,C2のいずれかに晶癖が現れるまでステップS6を継続し、晶癖が現れたらステップS8へ進む。
例えば、ステップS2で例示した平板形状のTGS系種結晶の場合、成長中結晶の平板が広がる方向の成長速度を監視し、その成長速度が鈍ってきたら、晶癖が現れたと判定し、ステップS8へ進む。
なお、ヒータ3は、第1保治具1hおよび第2保治具2hを引き上げた時に、温度差で、成長中の種結晶C1,C2が割れないようにするために、温調槽4の上部を暖めている。第1保治具1hおよび第2保治具2hを引き上げた時に温度差で成長中の種結晶C1,C2が割れないように温度管理できるならば、ヒータ3を省略してもよい。
ステップS10では、成長中の種結晶C1,C2のいずれかに晶癖が現れるまでステップS9を継続し、晶癖が現れたらステップS11へ進む。
1v 第1槽
1h 第1保治具
2s 第2原料溶液
2v 第2槽
2h 第2保治具
3 ヒータ
4 温調槽
5 ターンテーブル
6 支持台
C1 第1種結晶
C2 第2種結晶
100 結晶製造装置
Claims (4)
- 硫酸三グリシン(TGS)系結晶成分およびドーパントを含む第1原料溶液にTGS系結晶の種結晶を入れて結晶成長させ、次に第1原料溶液とドーパントの濃度が異なる第2原料溶液に成長中種結晶を移してさらに結晶成長させることを特徴とする結晶製造方法。
- 請求項1に記載の結晶製造方法において、前記ドーパントが、L−α−アラニンであることを特徴とする結晶製造方法。
- 硫酸三グリシン(TGS)系結晶成分およびドーパントを含む第1原料溶液を貯留する第1槽と、前記第1原料溶液とドーパントの濃度が異なる第2原料溶液を貯留する第2槽と、前記第1原料溶液中に種結晶を入れて保持する種結晶保持手段と、成長中種結晶を前記第1原料溶液中から前記第2原料溶液中へ移す原料溶液変更手段と、前記原料溶液の温度を制御する温度制御手段とを具備することを特徴とする結晶製造装置。
- 請求項3に記載の結晶製造装置において、前記ドーパントが、L−α−アラニンであることを特徴とする結晶製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004223197A JP4548031B2 (ja) | 2004-07-30 | 2004-07-30 | 結晶製造方法および結晶製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004223197A JP4548031B2 (ja) | 2004-07-30 | 2004-07-30 | 結晶製造方法および結晶製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006036614A JP2006036614A (ja) | 2006-02-09 |
JP4548031B2 true JP4548031B2 (ja) | 2010-09-22 |
Family
ID=35901999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004223197A Active JP4548031B2 (ja) | 2004-07-30 | 2004-07-30 | 結晶製造方法および結晶製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4548031B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2691554A1 (en) * | 2010-02-01 | 2011-08-01 | Michael Krautter | Crystal growing device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6051695A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-23 | Hitachi Cable Ltd | 液相エピタキシャル結晶成長方法とその装置 |
JPH09283811A (ja) * | 1996-04-08 | 1997-10-31 | Shimadzu Corp | 焦電センサの製造方法及び焦電センサの製造装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS503879B1 (ja) * | 1968-02-21 | 1975-02-12 |
-
2004
- 2004-07-30 JP JP2004223197A patent/JP4548031B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6051695A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-23 | Hitachi Cable Ltd | 液相エピタキシャル結晶成長方法とその装置 |
JPH09283811A (ja) * | 1996-04-08 | 1997-10-31 | Shimadzu Corp | 焦電センサの製造方法及び焦電センサの製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006036614A (ja) | 2006-02-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Dang et al. | Recent progress in the synthesis of hybrid halide perovskite single crystals | |
EP2484815A1 (en) | Sic single crystal and method for producing same | |
JP2006117520A (ja) | 酸化イリジウムナノチューブおよびその形成方法 | |
JP2010099829A (ja) | 圧電物質のナノチューブの製造方法及び圧電物質のナノチューブ | |
CN109825873B (zh) | 一种单晶铁酸铋薄膜的制备方法 | |
CN106558475A (zh) | 晶圆级单层二硫化钼膜及其制备方法 | |
CN111908417B (zh) | 一种钙钛矿单晶纳米环及其制备方法与应用 | |
Zhao et al. | Nucleation and growth of ZnO nanorods on the ZnO-coated seed surface by solution chemical method | |
CN110128134B (zh) | 一种以掺铌钛酸锶为基底的钛酸铅薄膜的制备方法 | |
JP6097989B2 (ja) | 酸化ガリウム単結晶、及び、酸化ガリウム単結晶基板 | |
JP4548031B2 (ja) | 結晶製造方法および結晶製造装置 | |
CN112750919B (zh) | 一种钙钛矿纳米线的异质结及其制备方法 | |
JP5416041B2 (ja) | 単結晶基板および単結晶基板の製造方法 | |
CN103864460A (zh) | 一种有序氧化钨纳米线阵列结构的制备方法 | |
US20160010221A1 (en) | Lithium niobite compositions, syntheses, devices, and structures | |
KR101830524B1 (ko) | 대면적 2차원 금속-칼코겐화합물 단결정 및 이의 제조방법 | |
KR101787083B1 (ko) | 페로브스카이트 나노구조체의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 페로브스카이트 나노구조체 | |
CN113186590B (zh) | 一种厘米级三氧化钼单晶的制备方法 | |
CN112625679B (zh) | 一种全无机卤素钙钛矿纳米线的异质结及其制备方法 | |
JP2011190138A (ja) | 電気磁気効果単結晶の製造方法 | |
JP5419116B2 (ja) | バルク結晶の成長方法 | |
GB2482915A (en) | Growing Silicon by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition | |
CN115125616B (zh) | 蒸气辅助变温生长厚度可控的钙钛矿单晶薄膜制备方法 | |
JPH11268995A (ja) | 炭化珪素単結晶の製造方法 | |
CN110036143A (zh) | 单晶硅制造方法以及单晶硅晶片 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060911 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080605 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090804 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091001 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100615 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100628 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4548031 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130716 Year of fee payment: 3 |