JP4545538B2 - 放射線撮像パネルを構成する光導電層および放射線撮像パネル - Google Patents
放射線撮像パネルを構成する光導電層および放射線撮像パネル Download PDFInfo
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iI3が記載されている。BiI3は、環境負荷が小さいという利点を有しているが、塗布法で形成した場合、発生電荷の捕集効果が低く、電気ノイズが大きくなるため、画像の粒状性が悪くなるという問題がある。また、特許文献2に記載されているZnOもまた環境負荷は小さいという利点を有しているが、放射線吸収効率が劣るため感度が低いという問題がある。
以下に本発明の放射線撮像パネルを構成する光導電層の実施例を示す。
オルトバナジン酸ナトリウム(Na3V04:高純度化学研究所製)を10%硝酸溶液に溶かして0.1Mのオルトパナジン酸ナトリウム溶液(以下、V-1溶液という)を調製した。一方、Bi(N0)3・5H20(高純度化学研究所製)を10%硝酸溶液で溶解し、0.1Mのビスマス硝酸溶液(以下、B-1溶夜という)を調整し、このB-1溶液0.12dm3に、0.1MのV-1溶液0.1dm3を添加し、28%アンモニア水溶液でpH3.5に調整後、一時間攪拌した。その後、遠心分離をして、上澄みを捨てる操作を三回繰り返し、平均粒子径約6μmの正方晶のBiV04粒子を得た。得られたBiV04粒子をX線解析装置(RINT-ULTIMA+:理学電気製)で確認したところ、正方晶BiV04粒子の単相になっていた。得られたBiV04粒子とポリエステルバインダ(バイロン300:東洋紡)を重量比9:1の割合でメチルエチルケトン溶媒で混合分散させ、これをドクターブレード法でAl基板に塗布し、乾燥して約200μm厚の塗布膜(光導電層)を得た。
0.1MのB-1溶液0.1dm3に、O.1MのV-1溶液0.1dm3を添加し、28%アンモニア水溶液でpH1に調整後、8時間攪拌した。その後、遠心分離をして、上澄みを捨てる操作を三回繰り返し、平均粒子径2μmの斜方晶のBiV04粒子を得た。得られたBiV04粒子をXRD装置で確認したところ、斜方晶BiV04粒子の単相になっていた。得られたBiV04粒子とポリエステルバインダ(バイロン300:東洋紡)を重量比9:1の割合でメチルエチルケトン溶媒で混合分散させ、これをドクターブレード法でAl基板に塗布し、乾燥して約200μm厚の塗布膜(光導電層)を得た。
酸化ビスマス粉体(高純度化学研究所製)と五酸化バナジウム粉未(高純度化学研究所製)とをモル比1:1になるように配合し、酸化ジルコニウムボールを用いて、エタノール中でボールミル混合を行った。その後、回収、乾燥し、マッフル炉にて750℃で8時間焼成して、三酸化ビスマスと五酸化バナジウムの固相反応により、平均粒子径5μmの斜方晶のBiV04粒子を得た。得られたBiV04粒子をXRD装置で確認したところ、斜方晶BiV04粒子の単相になっていた。BiV04粒子を乳鉢で解砕後、150μm以下のメッシュを通し、酸化ジルコニウムボールを用いて、エタノール中でボールミル粉砕、分散を行い、回収乾燥しBiV04粒子を得た。得られたBiV04粒子とポリエステルバインダ(バイロン300:東洋紡)を重量比9:1の割合でメチルエチルケトン溶媒で混合分散させ、これをドクターブレード法でAl基板に塗布し、乾燥して約200μm厚の塗布膜(光導電層)を得た。
五酸化バナジウムを五酸化タンタル(高純度化学研究所製)とし、マッフル炉の焼成条件を1200℃で24時間とした以外は実施例3と同様にして平均粒子径6μmの三斜晶のBiTa04粒子を得た。得られたBiTa04粒子をXRD装置で確認したところ、三斜晶のBiTa04粒子の単相になっていた。BiTa04粒子を乳鉢で解砕後、150μm以下のメッシュを通し、酸化ジルコニウムボールを用いて、エタノール中でボールミル粉砕、分散を行い、回収乾燥し、固相法によりBiTa04粒子を得、実施例3と同様にして、BiTa04粒子からなる塗布膜(光導電層)を得た。
五酸化バナジウムを五酸化二オブ(高純度化学研究所製)とした以外は、実施例3と同様にして平均粒子径5μmの三斜晶のBiNb04粒子を得た。得られたBiNb04粒子をXRD装置で確認したところ、三斜晶のBiNb04粒子の単相になっていた。BiNb04粒子を乳鉢で解砕後、150μm以下のメッシュを通し、酸化ジルコニウムボールを用いて、エタノール中でボールミル粉砕、分散を行い、回収乾燥し、固相法によりBiNb04粒子を得、実施例3と同様にして、BiNb04粒子からなる塗布膜(光導電層)を得た。
実施例3で得られたBiV04粒子のエタノール分散液に0.4重量%のポリビニルブチラール(PVB)を分散剤として添加した。その後、バインダーとして0.7重量%のPVBを追加し、可塑剤として0.8重量%のフタル酸ジオクチルを加えて、更にボールミルを継続し、シート成形用のスラリーを調製した。回収したスラリー分散液は、真空脱泡処理と濃縮処理により、脱泡と粘度調整を行った。処理を行ったスラリー液は、コーターを用いて、離型剤付きのフィルムベース上に焼成後の膜厚が約200μmとなるように塗布してシート状に成形した。室温にて24時間放置して乾燥し、フィルムベースより剥離し、グリーンシート膜を作製した。酸化アルミニウム焼結セッター上に作製したグリーンシート膜を載置し、焼結温度800℃で焼結を行った。この焼結したBiV04を導電性ペーストドータイト(藤倉化成製)を用いてAl基板に接合して光導電層を得た。
実施例6において、実施例3で得られたBiV04粒子のエタノール分散液を実施例4で得られたBiTa04粒子のエタノール分散液に変えた以外は実施例6と同様にして、BiTa04粒子の焼結を行い、焼結したBiTa04を導電性ペーストドータイト(藤倉化成製)を用いてAl基板に接合して光導電層を得た。
実施例6において、実施例3で得られたBiV04粒子のエタノール分散液を実施例5で得られたBiNb04粒子のエタノール分散液に変えた以外は実施例6と同様にして、BiNb04粒子の焼結を行い、焼結したBiNb04を導電性ペーストドータイト(藤倉化成製)を用いてAl基板に接合して光導電層を得た。
0.1MのB-1溶液0.1dm3とKI(和光純薬製)を水に溶かした0.3MのK-1水溶液0.1dm3とを同時に、よく攪拌されたKIの0.001M水溶液0.1dm3に5分間で添加して、黒色沈澱を得た。還心分離し、上澄みを捨てる洗浄操作を3回繰り返し、回収乾燥して、平均粒子径約0.7μmのBiI3粒子を得た。得られたBiI3粒子をXRD装置で確認したところ、BiI3粒子の単相になっていた。得られたBiI3粒子とポリエステルバインダ(バイロン300:東洋紡)を重量比9:1の割合でメチルエチルケトン溶媒で混合分散させ、これをドクターブレード法でAl基板に塗布し、乾燥して約200μm厚の塗布膜(光導電層)を得た。
2 記録用放射線導電層
3 電荷輸送層
4 記録用光導電層
5 導電層
10 放射線撮像パネル
70 電流検出手段
Claims (4)
- 放射線画像情報を静電潜像として記録する放射線撮像パネルを構成する光導電層であって、該光導電層がBiMO4(ただし、MはV,Nb,Ta中の少なくとも1種である。)からなることを特徴とする光導電層。
- 前記光導電層が塗布により設けられたものであることを特徴とする請求項1記載の光導電層。
- 前記光導電層が焼結膜であることを特徴とする請求項1記載の光導電層。
- 放射線画像情報を静電潜像として記録する、請求項1、2または3記載のBiMO4からなる光導電層を備えたことを特徴とする放射線撮像パネル。
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