JP4536763B2 - 蒸気発生機能付き加熱装置 - Google Patents
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Description
この加熱装置では、加熱室内に供給された水蒸気を赤外線発生手段により過熱状態として調理を行うものであり、所定の範囲の波長の赤外線を用いることにより伝熱面積を小さくして、蒸気加熱器の小型化、低圧損化を図っている。
図1は蒸気発生機能付き加熱装置を左右に切断した断面図、図2は上面の天板をカットした断面図、図3は光の波長に対する水蒸気の光を吸収する割合を示すグラフ、図4は蒸気発生機能付き加熱装置を前後に切断した断面図、図5は赤外線発生手段であるランプヒータの側面図、図6はランプヒータの端部を示す斜視図、図7(A)は支持部材を示す正面図、(B)は支持部材の平面図、図8は加熱室を角皿で上下に区画した状態を示す断面図、図9は角皿の斜視図である。
加熱物である食品12を置く加熱室11の底面11aよりも下側から高周波を供給する高周波発生手段40を有しており、高周波発生手段40であるマグネトロン41を右側に設けた例である。マグネトロン41から発生した高周波を加熱室11内に導く導波管42と、電波を加熱室11へ発生させる回転アンテ43を設けている。
例えば、前述した各実施形態においては、赤外線発生手段20として3本のランプヒータ21を設けたが、ランプヒータ21の本数はこれに限るものではない。また、ランプヒーター21を単数として、ミラクロンヒータやカーボンヒータなどを組み合わせることも可能である。
また、蒸気発生手段50は加熱室11内で水を気化させて蒸気を発生させるタイプや加熱室11の外で気化させて加熱室11内に供給するタイプがあるが、いずれを採用してもよいものである。
11 加熱室
11b 天井面
11d 立壁
12 食品(被加熱物)
17 係止部
20 赤外線発生手段
25 反射板(凹凸)
30 角皿
31 連通孔
32 電波吸収発熱体
40 高周波発生部
50 蒸気発生手段
Claims (4)
- 被加熱物を収容する加熱室と、
前記加熱室の下部から前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気発生手段と、
前記加熱室上部に設けられ、いずれも、ピーク波長が、1.5μm以上1.7μm未満、2.0μm以上2.3μm未満、3.4μm以上4.5μm未満のいずれか1つであり、互いに異なる2種類の赤外線をそれぞれ発生する少なくとも2つの赤外線発生手段と、
前記赤外線発生手段の上方の前記加熱室の天井面に設けられ、前記赤外線発生手段の上側を頂点とするとともに、前記赤外線発生手段間を最下点とする山型形状を有する反射板とを備える蒸気発生機能付き加熱装置。 - 前記加熱室における互いに対向する立壁に設けられた係止部と、
前記係止部に支持されて前記加熱室を上下に区画するとともに被加熱物を載置可能な角皿とを備え、
前記加熱室を上下に連通する連通孔が前記角皿の周部に設けられている請求項1記載の蒸気発生機能付き加熱装置。 - 高周波を発生させる高周波発生部と、
前記加熱室における互いに対向する立壁に設けられた係止部と、
前記係止部に支持されて前記加熱室を上下に区画するとともに被加熱物を載置可能な角皿とを備え、
前記角皿の底面に電波吸収発熱体が設けられている請求項1記載の蒸気発生機能付き加
熱装置。 - 赤外線発生手段は、少なくとも3つであるとともに、中央側に位置する赤外線発生手段のピーク波長が、周囲に位置する赤外線発生手段のピーク波長より短い請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の蒸気発生機能付き加熱装置。
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