JP4517341B2 - Exposure apparatus, the nozzle member, and a device manufacturing method - Google Patents

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康文 西井
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株式会社ニコン
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Exposure apparatus for microlithography
    • G03F7/70216Systems for imaging mask onto workpiece
    • G03F7/70341Immersion

Description

本発明は、投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置、ノズル部材、及びデバイス製造方法に関するものである。 The present invention relates to an exposure apparatus that exposes a substrate via a projection optical system and a liquid, the nozzle member, and a device manufacturing method.

半導体デバイスや液晶表示デバイスは、マスク上に形成されたパターンを感光性の基板上に転写する、いわゆるフォトリソグラフィの手法により製造される。 Semiconductor devices and liquid crystal display devices, to transfer a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate, is manufactured by a so-called photolithography technique. このフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置は、マスクを支持するマスクステージと基板を支持する基板ステージとを有し、マスクステージ及び基板ステージを逐次移動しながらマスクのパターンを投影光学系を介して基板に転写するものである。 An exposure apparatus used in this photolithographic process, and a substrate stage that supports the mask stage and the substrate supporting the mask, the pattern of the mask through a projection optical system while moving the mask stage and the substrate stage sequentially it is transferred onto the substrate. 近年、デバイスパターンのより一層の高集積化に対応するために投影光学系の更なる高解像度化が望まれている。 Recently for higher resolution of the projection optical system in order to cope with higher integration of the device pattern it is desired. 投影光学系の解像度は、使用する露光波長が短いほど、また投影光学系の開口数が大きいほど高くなる。 Resolution of the projection optical system, as the exposure wavelength to be used is shorter, the higher the larger the numerical aperture of the projection optical system. そのため、露光装置で使用される露光波長は年々短波長化しており、投影光学系の開口数も増大している。 Therefore, the exposure wavelength used in exposure apparatuses has shortened year by year wavelength has increased numerical aperture of projection optical systems. そして、現在主流の露光波長はKrFエキシマレーザの248nmであるが、更に短波長のArFエキシマレーザの193nmも実用化されつつある。 The mainstream exposure wavelength currently is a 248nm from a KrF excimer laser, it is being put to practical use yet ArF excimer laser of short wavelength 193 nm. また、露光を行う際には、解像度と同様に焦点深度(DOF)も重要となる。 Further, when exposure is performed, similarly to the resolution depth of focus (DOF) is also important. 解像度R、及び焦点深度δはそれぞれ以下の式で表される。 The resolution R, and the depth of focus δ are represented by the following expressions.
R=k ・λ/NA … (1) R = k 1 · λ / NA ... (1)
δ=±k ・λ/NA … (2) δ = ± k 2 · λ / NA 2 ... (2)
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k 、k はプロセス係数である。 Here, lambda is the exposure wavelength, NA is the numerical aperture of the projection optical system, k 1, k 2 represent the process coefficients. (1)式、(2)式より、解像度Rを高めるために、露光波長λを短くして、開口数NAを大きくすると、焦点深度δが狭くなることが分かる。 (1) and (2), in order to enhance the resolution R, then shorten the exposure wavelength lambda, and the numerical aperture NA is increased, it can be seen that the depth of focus δ becomes narrower.

焦点深度δが狭くなり過ぎると、投影光学系の像面に対して基板表面を合致させることが困難となり、露光動作時のフォーカスマージンが不足するおそれがある。 If the depth of focus δ is too narrowed, it is difficult to match the substrate surface with respect to the image plane of the projection optical system, the focus margin during the exposure operation may be insufficient. そこで、実質的に露光波長を短くして、且つ焦点深度を広くする方法として、例えば下記特許文献1に開示されている液浸法が提案されている。 Therefore, by substantially shortening the exposure wavelength and a method of widening the depth of focus, for example, immersion method disclosed in Patent Document 1 it has been proposed. この液浸法は、投影光学系の像面側端面(下面)と基板表面との間を水や有機溶媒等の液体で満たして液浸領域を形成し、液体中での露光光の波長が空気中の1/n(nは液体の屈折率で通常1.2〜1.6程度)になることを利用して解像度を向上するとともに、焦点深度を約n倍に拡大するというものである。 This liquid immersion method forms an immersion area between the projection optical system image plane side end face of the (lower surface) and the substrate surface is filled with a liquid such as water or an organic solvent, the wavelength of the exposure light in the liquid with (n is usually about 1.2 to 1.6 in the refractive index of the liquid) 1 / n in the air thereby improving the resolution as well be a, is that the depth of focus is magnified about n times .
国際公開第99/49504号パンフレット International Publication No. WO 99/49504

ところで、液浸露光処理や液体を介した各種光学的計測処理を精度良く行うためには、液浸領域を形成するための液体供給動作及び液体回収動作を良好に行い、投影光学系の像面側端面と基板表面との間に液体を良好に保持することが重要である。 Meanwhile, in order to perform various optical measurement process via the liquid immersion exposure process and a liquid with high accuracy, good performs a liquid supply operation and the liquid recovery operation for forming the liquid immersion area, the image plane of the projection optical system it is important to satisfactorily retain the liquid between the side end surface and the substrate surface. 例えば、液浸領域を形成するための液体を投影光学系の像面側端面と基板表面との間に良好に保持できず、液体が流出すると、基板や基板ステージ周辺の部材及び機器に錆びや漏電等の不都合を引き起こす可能性がある。 For example, can not be satisfactorily held between the image surface side end surface and the substrate surface of the liquid for forming the liquid immersion area projection optical system, the liquid flows out, Ya rust members and equipment near the substrate and the substrate stage it may cause inconvenience electric leakage.

また、投影光学系の像面側端面と基板表面との間に液体を良好に保持できず、液体が流出すると、投影光学系の像面側端面と基板表面との間に気体部分が生成される可能性が高くなることが考えられる。 Furthermore, can not be satisfactorily retain the liquid between the projection optical system image plane side end face and the substrate surface, the liquid flows out, the gas portion is generated between the projection optical system image plane side end face and the substrate surface that likely it is considered to be high. 気体部分が生成されると、その気体部分によって、基板上にパターン像を形成するための露光光が基板上に到達しない、あるいは基板上にパターン像を形成するための露光光が基板上の所望の位置に到達しない、あるいは計測光が計測器に到達しない、あるいは計測光が所望の位置に到達しないなどの現象が生じ、露光精度及び計測精度の劣化を招く。 When gas portion is generated, by the gas portion, the desired exposure light for exposing light to form a pattern image to form a pattern image does not reach the substrate, or on a substrate on the substrate on the substrate It does not reach the position of, or the measuring light does not reach the instrument, or the measurement light phenomenon occurs, such do not reach the desired position, leading to deterioration of the exposure accuracy and measurement accuracy. また、液浸領域を形成するために液体を供給したとき、液浸領域の液体中に気泡等の気体部分が生成される可能性が高くなることも考えられる。 Further, when supplying the liquid to form the liquid immersion area, it is conceivable to possibly gas portion of the bubbles in the liquid immersion area is generated becomes high. その場合においても、上述の現象が生じ、露光精度及び計測精度の劣化を招く。 Also in this case, it occurs the above phenomenon, leading to deterioration of the exposure accuracy and measurement accuracy.

また、液浸領域を形成するために供給した液体に不純物が混入した場合においても、その不純物によって、上述の現象が生じ、露光精度及び計測精度の劣化を招く。 Further, in the case where impurities in the liquid which is supplied to form the liquid immersion area is mixed well, by the impurity, the above phenomenon occurs, leading to deterioration of the exposure accuracy and measurement accuracy.

また、例えば、液体を回収するときに振動が生じると、その振動により露光精度及び計測精度が劣化する可能性がある。 Further, for example, when vibration occurs when recovering the liquid, the exposure accuracy and the measurement accuracy due to vibration may deteriorate.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、液浸領域を形成するための液体供給動作及び液体回収動作を良好に行い、液浸領域を所望状態に形成して、高い露光精度及び計測精度を得ることができる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供することを目的とする。 The present invention was made in view of such circumstances, satisfactorily perform the liquid supply operation and the liquid recovery operation for forming the liquid immersion area, to form a liquid immersion area in a desired state, high exposure an exposure device capable of obtaining accuracy and the measurement accuracy, and aims to provide a device manufacturing method using the exposure apparatus.

上記の課題を解決するため、本発明は実施の形態に示す図1〜図14に対応付けした以下の構成を採用している。 To solve the above problems, the present invention adopts the following constructions corresponding to Figs. 1 to 14 as illustrated in embodiments. なお、括弧内の符号は本発明を理解し易く説明するために一実施例を表す図面の符号に対応付けてあるが、本発明を実施例に限定させるものではない。 The reference numerals in parentheses are are associated with the sign of the drawings which illustrate an embodiment for the purpose of better understanding the present invention and are not intended to limit the invention to the examples.

本発明の露光装置(EX)は、投影光学系(PL)と液体(LQ)とを介して基板(P)を露光する露光装置において、投影光学系(PL)の像面側近傍に設けられ、液体(LQ)が流れる開口(12、22、32、62)を有するノズル部材(70)を備え、ノズル部材(70)は、複数の部材(71、72、73)を積層することで形成された積層体を含み、複数の部材(71、72、73)のうち少なくとも1つの部材(72)は、複数の孔が形成された多孔体領域(74、75)を有することを特徴とする。 The exposure apparatus of the present invention (EX) is an exposure apparatus that exposes a substrate (P) via the projection optical system and (PL) and the liquid (LQ), provided on the image side near the projection optical system (PL) , the liquid (LQ) includes a nozzle member (70) having an opening (12,22,32,62) through which a nozzle member (70) is formed by laminating a plurality of members (71, 72, 73) been comprises a laminate, at least one member (72) out of the plurality of members (71, 72, 73), characterized by having a plurality of holes are formed porous body region (74, 75) .

本発明によれば、ノズル部材を複数の部材からなる積層体を含む構造とし、その積層体を構成する複数の部材のうち少なくとも1つの部材に多孔体領域を設けるようにしたので、多孔体領域を含むノズル部材の強度を維持し、設計の自由度を向上することができる。 According to the present invention, a structure including a stack of a nozzle member from a plurality of members. Thus provided porous regions on at least one member of the plurality of members constituting the laminate, the porous region maintaining the strength of the nozzle member including, it is possible to improve the degree of freedom in design. したがって、例えば開口を介して液体の供給及び回収を行うとき、液体の供給及び回収に伴う振動の発生や不純物の溶出を抑え、液体の供給及び回収を効率良く行うことができるようにノズル部材を形成することができる。 Thus, for example, when performing the supply and the recovery of the liquid through the aperture, reducing the dissolution of the vibration generation and impurities associated with the supply and recovery of the liquid, the nozzle member to be able to efficiently supply and recovery of the liquid it can be formed. したがって、液浸領域を所望状態に形成して、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 Therefore, by forming a liquid immersion area in a desired state, it is possible to obtain a high exposure accuracy and measurement accuracy.

本発明の露光装置(EX)は、投影光学系(PL)と液体(LQ)とを介して基板(P)を露光する露光装置において、投影光学系(PL)の像面側近傍に設けられ、液体(LQ)が流れる開口(12、22、32、62)を有するノズル部材(70)を備え、ノズル部材(70)を形成する材料は、液体(LQ)に対する親和性及び液体(LQ)への不純物の溶出量を考慮して決定されていることを特徴とする。 The exposure apparatus of the present invention (EX) is an exposure apparatus that exposes a substrate (P) via the projection optical system and (PL) and the liquid (LQ), provided on the image side near the projection optical system (PL) , liquid comprising a nozzle member (70) having a (LQ) flows opening (12,22,32,62), the material forming the nozzle member (70), the liquid affinity and liquid to (LQ) (LQ) characterized in that it is determined in consideration of the amount of elution of impurities into.

本発明によれば、ノズル部材を形成する材料を液体に対する親和性を考慮して決定することで、液浸領域を形成するための液体を、投影光学系の像面側端面を含むノズル部材の液体接触面と基板との間に良好に保持することができる。 According to the present invention, the material forming the nozzle member to determine in view of the affinity for the liquid, a liquid for forming the liquid immersion area, the nozzle member including an image surface side end surface of the projection optical system it can be satisfactorily retained between the liquid contact surface and the substrate. したがって、液体の流出に起因して、基板や基板ステージ周辺の部材及び機器に錆びや漏電等が生じたり、投影光学系の像面側端面と基板表面との間に気体部分が生成されるなどの不都合の発生を防止することができる。 Therefore, due to the outflow of the liquid, or caused rust or electric leakage or the like to the members and equipment near the substrate and the substrate stage, and the gas portion is generated between the projection optical system image plane side end face and the substrate surface it is possible to prevent the occurrence of inconvenience. また、ノズル部材を形成する材料を液体への不純物の溶出量を考慮して決定することで、液浸領域にノズル部材から不純物が溶出する不都合を防止することができる。 Further, the material forming the nozzle member by determining in consideration of the amount of elution of impurities into the liquid, it is possible to prevent a disadvantage that impurities are eluted from the nozzle member into the liquid immersion region. したがって、液浸領域を所望状態に形成して、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 Therefore, by forming a liquid immersion area in a desired state, it is possible to obtain a high exposure accuracy and measurement accuracy.

本発明の露光装置(EX)は、投影光学系(PL)と液体(LQ)とを介して基板(P)を露光する露光装置において、投影光学系(PL)の像面側近傍に設けられ、液体(LQ)が流れる開口(12、22、32、62)を有するノズル部材(70)を備え、ノズル部材(70)のうち液体(LQ)に接触する液体接触領域(SR)は親液性であり、液体接触領域(SR)以外の領域(HR)は撥液性であることを特徴とする。 The exposure apparatus of the present invention (EX) is an exposure apparatus that exposes a substrate (P) via the projection optical system and (PL) and the liquid (LQ), provided on the image side near the projection optical system (PL) , liquid comprising a nozzle member (70) having an opening (12,22,32,62) which (LQ) flows, liquid contact region in contact with the liquid (LQ) of the nozzle member (70) (SR) is lyophilic a gender, liquid contact region (SR) other than the region (HR) are characterized by a liquid-repellent.

本発明によれば、ノズル部材のうち液浸領域の液体に接触する液体接触領域を親液性とし、液体接触領域以外の領域を撥液性とすることで、投影光学系の像面側端面を含むノズル部材の液体接触面と基板との間に液浸領域を形成するための液体を良好に保持することができる。 According to the present invention, the liquid contact area in contact with the liquid of the liquid immersion area of ​​the nozzle member and lyophilic, the region other than the liquid contact area by a liquid-repellent, the image surface side end surface of the projection optical system it is possible to satisfactorily retain the liquid for forming the liquid immersion area between the liquid contact surface and the substrate of the nozzle member including. したがって、液浸領域を所望状態に形成して、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 Therefore, by forming a liquid immersion area in a desired state, it is possible to obtain a high exposure accuracy and measurement accuracy.

本発明の露光装置(EX)は、投影光学系(PL)と液体(LQ)とを介して基板(P)を露光する露光装置において、基板(P)と対向する所定面に、液体(LQ)を供給する供給口(12)及び液体(LQ)を回収する回収口(22、32)のうち少なくとも一方を設けられたノズル部材(70)を備え、所定面には気体を排出可能な排気口(62)が設けられ、所定面のうち排気口(62)の周囲の所定領域は、基板(P)よりも離れるように形成された凹部(68)となっていることを特徴とする。 The exposure apparatus of the present invention (EX) is an exposure apparatus that exposes a substrate (P) via the projection optical system and (PL) and the liquid (LQ), a predetermined surface facing the substrate (P), the liquid (LQ ) to the supply port (12) and provided with a liquid (nozzle member (70 provided at least one of the LQ) recovery port for recovering (22, 32)), capable of discharging exhaust gas to the predetermined plane mouth (62) is provided, a predetermined area around the exhaust opening (62) of the predetermined plane is characterized in that has a substrate (P) recess formed away than (68).

本発明によれば、ノズル部材の所定面に気体を排出可能な排気口を設け、その排気口の周囲の所定領域を基板よりも離れるように形成された凹部としたので、投影光学系の像面側に液体の供給を開始したとき、供給した液体中に仮に気泡(気体部分)が存在しても、その気体は液体との比重差により上方に移動して排気口より円滑且つ迅速に排出される。 According to the present invention, the drainable outlet gas provided at a predetermined surface of the nozzle member, since the recess formed away than the substrate a predetermined region around the exhaust port, the image of the projection optical system when starting the supply of the liquid to the surface side, if bubbles exist (gas portion) is, the gas is smoothly and quickly discharged from the exhaust port by moving upward by the difference in specific gravity between the liquid in the feed liquid It is. したがって、気体部分のない液浸領域を介して高精度な露光処理及び計測処理を行うことができる。 Therefore, it is possible to perform high-precision exposure process and measurement process through the free liquid immersion region gas portion.

本発明の露光装置(EX)は、投影光学系(PL)と液体(LQ)とを介して基板(P)を露光する露光装置において、液体(LQ)を供給可能な液体供給部(11)と、液体(LQ)を回収可能な液体回収部(21、31)と、基板(P)上に液体(LQ)を供給する供給口(12)及び液体(LQ)を回収する回収口(22、32)のうち少なくとも一方を有するノズル部材(70)と、液体供給部(11)及び液体回収部(21、31)のうち少なくとも一方とノズル部材(70)とを接続する流路(15、25、35)を有し、ノズル部材(70)を分離可能に保持するノズル保持機構(90)とを備えたことを特徴とする。 The exposure apparatus of the present invention (EX) is an exposure apparatus that exposes a substrate (P) via a projection optical system (PL) and the liquid (LQ), the liquid a liquid supply unit which can supply (LQ) (11) When liquid liquid recovery unit capable of recovering the (LQ) and (21, 31), the substrate (P) supply port for supplying the liquid (LQ) on (12) and the liquid (LQ) recovery port for recovering (22 a nozzle member (70) having at least one of 32), the liquid supply unit (11) and the flow path (15 for connecting the at least one nozzle member (70) of the liquid recovery section (21, 31), has 25, 35), characterized by comprising capable and a nozzle holding mechanism (90) for holding separate nozzle member (70).

本発明によれば、ノズル部材を分離可能に保持するノズル保持機構を設けたので、ノズル部材のメンテナンス作業性を向上することができる。 According to the present invention, is provided with the nozzle holding mechanism for holding the nozzle member to be separable, it is possible to improve the maintenance workability of the nozzle member. したがって、ノズル部材に不具合が生じたときにも適切な処置を迅速に施すことができるので、液浸領域を所望状態に形成して、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 Therefore, it is possible to take appropriate action quickly even when a problem occurs to the nozzle member, to form a liquid immersion area in a desired state, it is possible to obtain a high exposure accuracy and measurement accuracy.

本発明のデバイス製造方法は、上記記載の露光装置を用いることを特徴とする。 A device manufacturing method of the present invention is characterized by using the exposure device described above.
本発明によれば、液浸領域を良好に形成して高い露光精度及び計測精度を得ることができるので、所望の性能を有するデバイスを製造することができる。 According to the present invention, since in good form the liquid immersion area can be obtained with high exposure accuracy and measurement accuracy, it is possible to produce the device having the desired performance.

本発明によれば、液浸領域を形成するための液体供給動作及び液体回収動作を良好に行い、液浸領域を所望状態に形成して、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 According to the present invention, satisfactorily perform the liquid supply operation and the liquid recovery operation for forming the liquid immersion area, to form a liquid immersion area in a desired state, it is possible to obtain a high exposure accuracy and measurement accuracy.

以下、本発明の露光装置について図面を参照しながら説明する。 It will be described below with reference to the accompanying drawings exposure apparatus of the present invention. 図1は本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。 Figure 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an exposure apparatus of the present invention.

図1において、露光装置EXは、マスクMを支持するマスクステージMSTと、基板Pを支持する基板ステージPSTと、マスクステージMSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターン像を基板ステージPSTに支持されている基板Pに投影露光する投影光学系PLと、露光装置EX全体の動作を統括制御する制御装置CONTとを備えている。 1, the exposure apparatus EX includes a mask stage MST which supports a mask M, a substrate stage PST which supports a substrate P, an illumination optical system IL which illuminates the mask M supported by the mask stage MST with exposure light EL When the projection optical system PL which the pattern image of the mask M illuminated with the exposure light EL onto exposed on the substrate P that is supported by the substrate stage PST, and a control unit CONT which collectively controls the overall operation of the exposure apparatus EX It is provided. 制御装置CONTは、露光装置EXの各種測定手段(例えば、後述する干渉計42、44、フォーカス・レベリング検出系120)や駆動装置(例えば、後述するマスクステージ駆動装置MSTD、基板ステージ駆動装置PSTD)等に接続されており、それらとの間で測定結果や駆動指令の伝達が可能なように構成されている。 The control unit CONT, the exposure apparatus EX of the various measuring means (e.g., later-described interferometers 42 and 44, the focus leveling detection system 120) and the driving device (e.g., mask stage drive apparatus MSTD, which will be described later, the substrate stage drive apparatus PSTD) etc. are connected to the transmission of measurement results and drive command between them are configured to be. 露光装置EX全体は、電力会社から供給される商用電源(第1駆動源)100Aからの電力によって駆動されるようになっている。 Entire exposure apparatus EX is driven by power from a commercial power supply (first driving source) 100A supplied from a power company.

本実施形態の露光装置EXは、露光波長を実質的に短くして解像度を向上するとともに焦点深度を実質的に広くするために液浸法を適用した液浸露光装置であって、基板P上に液体LQを供給する液体供給機構10と、基板P上の液体LQを回収する第1液体回収機構20及び第2液体回収機構30とを備えている。 The exposure apparatus EX of the present embodiment, the exposure wavelength to a liquid immersion exposure apparatus that applies the liquid immersion method to substantially widen the depth of focus is improved substantially shortened by resolution, on the substrate P It includes a liquid supply mechanism 10 supplies the liquid LQ, and a first liquid recovery mechanism 20 and the second liquid recovery mechanism 30 which recovers the liquid LQ on the substrate P in. また、露光装置EXは、投影光学系PLの像面側の気体を排出する排気機構60を備えている。 The exposure apparatus EX comprises an exhaust system 60 for discharging the gas on the image plane side of the projection optical system PL. 排気機構60は、投影光学系Lの像面側の気体を排出するとともに、液浸領域AR2の液体LQ中の気泡(気体部分)を排出する。 Exhaust mechanism 60, as well as discharging gas on the image plane side of the projection optical system L, to discharge the air bubbles in the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 (gas portion). 露光装置EXは、少なくともマスクMのパターン像を基板P上に転写している間、液体供給機構10から供給した液体LQにより投影光学系PLの投影領域AR1を含む基板P上の一部に、投影領域AR1よりも大きく且つ基板Pよりも小さい液浸領域AR2を局所的に形成する。 The exposure apparatus EX, the part on the substrate P including the projection area AR1 between the projection optical system PL by the liquid LQ supplied from the liquid supply mechanism 10 that the transfer of the pattern image of at least the mask M onto the substrate P, the small liquid immersion area AR2 than larger and the substrate P than the projection area AR1 is locally formed. 具体的には、露光装置EXは、投影光学系PLの像面側端部の光学素子2と、その像面側に配置された基板P表面との間に液体LQを満たす局所液浸方式を採用し、この投影光学系PLと基板Pとの間の液体LQ及び投影光学系PLを介してマスクMを通過した露光光ELを基板Pに照射することによってマスクMのパターンを基板Pに投影露光する。 Specifically, the exposure apparatus EX, the optical element 2 of the image plane-side end portion of the projection optical system PL, a local liquid immersion method to meet the liquid LQ between the substrate P surface that is disposed on the image side adopted, projecting a pattern of the mask M by irradiating the exposure light EL passing through the mask M via the liquid LQ and the projection optical system PL between the projection optical system PL and the substrate P on the substrate P on the substrate P to exposure.

また、投影光学系PLの像面側近傍、具体的には投影光学系PLの像面側端部の光学素子2の近傍には、後に詳述するノズル部材70が配置されている。 Further, the image surface side near of the projection optical system PL, and in particular in the vicinity of the optical element 2 of the image plane-side end portion of the projection optical system PL, a nozzle member 70 to be described later is disposed. ノズル部材70は、基板P(基板ステージPST)の上方において光学素子2の周りを囲むように設けられた環状部材である。 The nozzle member 70 is an annular member provided so as to surround the optical element 2 above the substrate P (substrate stage PST). ノズル部材70はノズル保持機構90に分離可能に保持されている。 The nozzle member 70 is detachably held by the nozzle holding mechanism 90. 本実施形態において、ノズル部材70は、液体供給機構10、第1液体回収機構20、第2液体回収機構30、及び排気機構60それぞれの一部を構成している。 In this embodiment, the nozzle member 70, the liquid supply mechanism 10, the first liquid recovery mechanism 20, and the second liquid recovery mechanism 30, and a portion of the exhaust system 60 respectively constitute.

本実施形態では、露光装置EXとしてマスクMと基板Pとを走査方向における互いに異なる向き(逆方向)に同期移動しつつマスクMに形成されたパターンを基板Pに露光する走査型露光装置(所謂スキャニングステッパ)を使用する場合を例にして説明する。 In the present embodiment, the scanning type exposure apparatus that exposes the substrate P different orientations of the (reverse) formed on the mask M while synchronously moving the pattern from each other in the scanning direction of the mask M and the substrate P as the exposure apparatus EX (so-called It will be described as an example when using a scanning stepper). 以下の説明において、投影光学系PLの光軸AXと一致する方向をZ軸方向、Z軸方向に垂直な平面内でマスクMと基板Pとの同期移動方向(走査方向)をX軸方向、Z軸方向及びX軸方向に垂直な方向(非走査方向)をY軸方向とする。 In the following description, the optical axis AX as the Z-axis direction and a direction matching of the projection optical system PL, and the synchronous movement direction (scanning direction) of the X-axis direction between the mask M and the substrate P in the Z axis direction perpendicular to the plane, Z-axis and X-axis directions perpendicular to the direction (non-scanning direction) is the Y-axis direction. また、X軸、Y軸、及びZ軸まわりの回転(傾斜)方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。 Further, X-axis, Y-axis, and rotation about the Z-axis (inclination) directions, .theta.X, [theta] Y, and the θZ direction.

照明光学系ILは、マスクステージMSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明するものであり、露光用光源、露光用光源から射出された光束の照度を均一化するオプティカルインテグレータ、オプティカルインテグレータからの露光光ELを集光するコンデンサレンズ、リレーレンズ系、露光光ELによるマスクM上の照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等を有している。 The illumination optical system IL is for illuminating the mask M supported by the mask stage MST with exposure light EL, the exposure light source, an optical integrator for uniforming the illuminance of a light flux emitted from the exposure light source, an optical integrator a condenser lens which collects the exposure light EL from the relay lens system, and the illumination area on the mask M illuminated with the exposure light EL and a variable field diaphragm which sets a slit shape. マスクM上の所定の照明領域は照明光学系ILにより均一な照度分布の露光光ELで照明される。 The predetermined illumination area on the mask M is illuminated with the exposure light EL having a uniform illuminance distribution by the illumination optical system IL. 照明光学系ILから射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)や、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)及びF レーザ光(波長157nm)等の真空紫外光(VUV光)などが用いられる。 As the exposure light EL emitted from the illumination optical system IL, for example, for example, emission lines in the ultraviolet region emitted from a mercury lamp (g-rays, h-rays, i-rays) and KrF excimer laser beam (wavelength 248 nm) far ultraviolet light, such as ( DUV light) and, ArF excimer laser light (wavelength 193 nm) and F 2 laser beam (wavelength 157 nm) vacuum ultraviolet light (VUV light) and the like. 本実施形態においてはArFエキシマレーザ光が用いられる。 ArF excimer laser light is used in this embodiment.

本実施形態において、液体LQには純水が用いられる。 In the present embodiment, pure water is used as the liquid LQ. 純水はArFエキシマレーザ光のみならず、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)及びKrFエキシマレーザ光(波長248nm)等の遠紫外光(DUV光)も透過可能である。 Not only the ArF excimer laser light but, for example, emission lines in the ultraviolet region emitted from a mercury lamp (g-rays, h-rays, i-rays) and KrF excimer laser beam (wavelength 248 nm) deep ultraviolet light (DUV light beam) such as It can also be transparent.

マスクステージMSTは、マスクMを保持して移動可能であって、例えばマスクMを真空吸着(又は静電吸着)により固定している。 The mask stage MST is movable while holding the mask M, is fixed by vacuum suction (or electrostatic adsorption), for example, the mask M. マスクステージMSTは、リニアモータ等を含むマスクステージ駆動装置MSTDにより、投影光学系PLの光軸AXに垂直な平面内、すなわちXY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微少回転可能である。 The mask stage MST, by a mask stage-driving unit MSTD including a linear motor or the like, the optical axis AX perpendicular to the plane of the projection optical system PL, ie a slight rotatable in the two-dimensional movable and θZ directions in the XY plane. そして、マスクステージMSTは、X軸方向に指定された走査速度で移動可能となっており、マスクMの全面が少なくとも投影光学系PLの光軸AXを横切ることができるだけのX軸方向の移動ストロークを有している。 The mask stage MST is movable at a designated scanning speed in the X-axis direction, the movement stroke of the X-axis direction by the entire surface of the mask M can cross the optical axis AX of at least the projection optical system PL have.

マスクステージMST上には移動鏡41が設けられている。 Movable mirror 41 is provided on the mask stage MST. また、移動鏡41に対向する位置にはレーザ干渉計42が設けられている。 A laser interferometer 42 is provided at a position opposing the movable mirror 41. マスクステージMST上のマスクMの2次元方向の位置、及びθZ方向の回転角(場合によってはθX、θY方向の回転角も含む)はレーザ干渉計42によりリアルタイムで計測され、計測結果は制御装置CONTに出力される。 Dimensional position of the mask M on the mask stage MST, and θZ directions rotation angle (sometimes .theta.X, also including the rotational angle of the θY direction) are measured in real time by the laser interferometer 42, the measurement result is the control device is output to the CONT. 制御装置CONTは、レーザ干渉計42の計測結果に基づいてマスクステージ駆動装置MSTDを駆動することでマスクステージMSTに支持されているマスクMの位置を制御する。 The control unit CONT controls the position of the mask M supported on the mask stage MST by driving the mask stage drive apparatus MSTD based on the laser interferometer 42 of the measurement results.

投影光学系PLは、マスクMのパターンを所定の投影倍率βで基板Pに投影露光するものであって、基板P側の先端部に設けられた光学素子(レンズ)2を含む複数の光学素子で構成されており、これら光学素子2は鏡筒PKで支持されている。 Projection optical system PL is for projection exposing the substrate P with the pattern of the mask M at a predetermined projection magnification beta, the plurality of optical elements including an optical element (lens) 2 provided at the tip portion of the substrate P side in is configured, these optical elements 2 are supported by a lens barrel PK. 本実施形態において、投影光学系PLは、投影倍率βが例えば1/4、1/5、あるいは1/8の縮小系である。 In this embodiment, the projection optical system PL is the reduction system having the projection magnification β of, for example, 1 / 4,1 / 5, or 1/8. なお、投影光学系PLは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。 The projection optical system PL may be either a unity magnification system or an enlargement system.

本実施形態の投影光学系PLの先端部の光学素子2は鏡筒PKより露出しており、その光学素子2には液浸領域AR2の液体LQが接触する。 The optical element 2 at the end portion of the projection optical system PL of the present embodiment is exposed from the barrel PK, the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 makes contact on its optical element 2. 光学素子2は螢石で形成されている。 The optical element 2 is formed of fluorite. 螢石表面は水との親和性が高いので、光学素子2の液体接触面(端面)2Aのほぼ全面に液体LQを密着させることができる。 Since fluorite surface has a high affinity for water, it can be brought into close contact with the liquid LQ on substantially the entire surface of the liquid contact surface of the optical element 2 (end surface) 2A. すなわち、本実施形態においては光学素子2の液体接触面2Aとの親和性が高い液体(水)LQを供給するようにしているので、光学素子2の液体接触面2Aと液体LQとの密着性が高く、光学素子2と基板Pとの間の光路を液体LQで確実に満たすことができる。 That is, since in the present embodiment are adapted to supply a high affinity liquid (water) LQ of the liquid contact surface 2A of the optical element 2, adhesion between the liquid contact surface 2A and the liquid LQ of the optical element 2 high, it is possible to fill the optical path between the optical element 2 and the substrate P reliably by the liquid LQ. なお、光学素子2は、水との親和性が高い石英であってもよい。 The optical element 2, affinity for water may be a high quartz. また、光学素子2の液体接触面2Aに、MgF 、Al 、SiO 等を付着させる等の親水化(親液化)処理を施して、液体LQとの親和性をより高めるようにしてもよい。 Further, the liquid contact surface 2A of the optical element 2, hydrophilizing such depositing a MgF 2, Al 2 O 3, SiO 2 or the like is subjected to (lyophilic) treatment, so as to increase the affinity for the liquid LQ it may be. あるいは、本実施形態における液体LQは極性の大きい水であるため、親液化処理(親水化処理)としては、例えばアルコールなど極性の大きい分子構造の物質で薄膜を形成することで、この光学素子2の液体接触面2Aに親水性を付与することもできる。 Alternatively, since the liquid LQ in the present embodiment is a great water polarity, as the lyophilic treatment (hydrophilic treatment), by forming a thin film for example, with a substance of high polarity molecular structure such as alcohol, the optical element 2 it is also possible to impart hydrophilicity to the liquid contact surface 2A. すなわち、液体LQとして水を用いる場合にはOH基など極性の大きい分子構造を持ったものを前記液体接触面2Aに設ける処理が可能である。 That is, when water is used as the liquid LQ is possible processes to provide those with large molecular structures of the polar such as OH groups to the liquid contact surface 2A.

基板ステージPSTは、基板Pを基板ホルダPHを介して保持して移動可能であって、XY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微小回転可能である。 The substrate stage PST, the substrate P movable while holding via the substrate holder PH, is finely rotatable in the two-dimensional movable and θZ directions in the XY plane. 更に基板ステージPSTは、Z軸方向、θX方向、及びθY方向にも移動可能である。 Further, the substrate stage PST is also movable in the Z axis direction, the θX direction, and the θY direction. 基板Pは基板ホルダPHに例えば真空吸着等により保持されている。 The substrate P is held by, for example, vacuum suction or the like in the substrate holder PH. 基板ステージPSTは、制御装置CONTによって制御されるリニアモータ等の基板ステージ駆動装置PSTDにより駆動される。 The substrate stage PST is driven by a substrate stage-driving unit PSTD such as a linear motor controlled by the controller CONT.

基板ステージPST上には移動鏡43が設けられている。 Movable mirror 43 is provided on the substrate stage PST. また、移動鏡43に対向する位置にはレーザ干渉計44が設けられている。 Further, the laser interferometer 44 is provided at a position opposed to the movement mirror 43. 基板ステージPST上の基板Pの2次元方向の位置、及び回転角はレーザ干渉計44によりリアルタイムで計測され、計測結果は制御装置CONTに出力される。 Dimensional position of the substrate P on the substrate stages PST, and the angle of rotation are measured in real time by the laser interferometer 44, the measurement results are output to the control unit CONT. 制御装置CONTはレーザ干渉計44の計測結果に基づいてリニアモータ等を含む基板ステージ駆動装置PSTDを駆動することで基板ステージPSTに支持されている基板Pの位置決めを行う。 Controller CONT performs positioning of substrate P supported by the substrate stage PST by driving the substrate stage drive apparatus PSTD including a linear motor or the like based on the laser interferometer 44 of the measurement results.

基板ステージPST上には凹部50が設けられており、基板Pを保持するための基板ホルダPHは凹部50に配置されている。 The substrate stage PST has the recess 50 is provided, the substrate holder PH for holding the substrate P is disposed in the recess 50. そして、基板ステージPSTのうち凹部50以外の上面51は、基板ホルダPHに保持された基板Pの表面とほぼ同じ高さ(面一)になるような平坦面(平坦部)となっている。 The upper surface 51 other than the recess 50 of the substrate stage PST is substantially the same height as the surface of the substrate P held by the substrate holder PH flat surface such that the (flush) (flat portion). また本実施形態においては、移動鏡43の上面も、基板ステージPSTの上面51とほぼ面一に設けられている。 In the present embodiment, the upper surface of the movable mirror 43 is also provided substantially flush with the upper surface 51 of the substrate stage PST. 基板Pの周囲に基板P表面とほぼ面一の上面51を設けたので、基板Pのエッジ領域を液浸露光するときにおいても、基板Pのエッジ部の外側には段差部がほぼ無いので、投影光学系PLの像面側に液体LQを保持して液浸領域AR2を良好に形成することができる。 It is provided with the substantially flush upper surface 51 and the surface of the substrate P on the periphery of the substrate P, even when the immersion exposure of the edge area of ​​the substrate P, since almost no step portion outside of the edge portion of the substrate P, the liquid immersion area AR2 can be satisfactorily formed by retaining the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL. また、基板Pのエッジ部とその基板Pの周囲に設けられた平坦面(上面)51との間には0.1〜2mm程度の隙間があるが、液体LQの表面張力によりその隙間に液体LQが流れ込むことはほとんどなく、基板Pの周縁近傍を露光する場合にも、上面51により投影光学系PLの下に液体LQを保持することができる。 The liquid in the gap there is a gap of about 0.1 to 2 mm, the surface tension of the liquid LQ between the edge portion of the substrate P and the flat surface (upper surface) 51 provided around the substrate P seldom LQ flows, when exposing the vicinity of the circumferential edge of the substrate P also can hold liquid LQ under the projection optical system PL by the upper surface 51.

また、上面51を撥液性にすることにより、液浸露光中における基板P外側(上面51外側)への液体LQの流出を抑え、また液浸露光後においても液体LQを円滑に回収できて上面51に液体LQが残留する不都合を防止できる。 Further, by making the upper surface 51 liquid repellent, suppress the outflow of the liquid LQ to the substrate P outside (upper surface 51 outside) during liquid immersion exposure, also made smoothly recover the liquid LQ even after immersion exposure the liquid LQ can be prevented a disadvantage that remains in the upper surface 51. 上面51を撥液性にするためには、基板ステージPSTの上面51を、例えばポリ四フッ化エチレン(テフロン(登録商標))などの撥液性を有する材料によって形成することで、上面51を撥液性にすることができる。 The upper surface 51 to the liquid repellent property, the upper surface 51 of the substrate stages PST, for example polytetrafluoroethylene (Teflon (registered trademark)) by forming a material having liquid repellency such as the upper surface 51 it can be made lyophobic. あるいは、上面51に対して、例えば、ポリ四フッ化エチレン等のフッ素系樹脂材料、アクリル系樹脂材料、シリコン系樹脂材料等の撥液性材料を塗布、あるいは前記撥液性材料からなる薄膜を貼付する等の撥液化処理を行ってもよい。 Alternatively, the upper surface 51, for example, polyquaternary fluorine-based resin material polytetrafluoroethylene, etc., an acrylic resin material, applying a liquid-repellent material of the silicon-based resin material or the like, or a thin film made of the liquid-repellent material repellency treatment such as to be attached may be carried out. また、撥液性材料の塗布領域(撥液化処理領域)としては、上面51全域であってもよいし、撥液性を必要とする一部の領域のみであってもよい。 As the coating region of the liquid-repellent material (repellent treatment region), it may be a top 51 throughout or may be only a part of the areas requiring liquid repellency.

ここで、上記親液化処理及び撥液化処理を含む表面処理のための膜は、単層膜であってもよいし複数の層からなる膜であってもよい。 Here, film for surface treatment containing the lyophilic process and repellency treatment may be a single layer film or a film formed of a plurality of layers. 親液性にするための親液性材料又は撥液性にするための撥液性材料としては液体LQに対して非溶解性の材料が用いられる。 The liquid-repellent material to the lyophilic material or liquid repellency to the lyophilic insoluble material is used for the liquid LQ.

また、露光装置EXは、基板ステージPSTに支持されている基板Pの表面の位置情報を検出する後述するフォーカス・レベリング検出系(120)を備えている。 The exposure apparatus EX comprises a focus leveling detection system to be described later to detect the position information of the surface of the substrate P supported by the substrate stage PST (120). フォーカス・レベリング検出系の受光結果は制御装置CONTに出力される。 Receiving result of the focus leveling detection system are outputted to controller CONT. 制御装置CONTはフォーカス・レベリング検出系の検出結果に基づいて、基板P表面のZ軸方向の位置情報、及び基板PのθX及びθY方向の傾斜情報を検出することができる。 The control unit CONT can, based on the detection results of the focus leveling detection system, the position information in the Z axis direction of the surface of the substrate P, and detects the inclination information of the θX and θY directions of the substrate P. 基板ステージPSTは、基板Pのフォーカス位置及び傾斜角を制御して基板Pの表面をオートフォーカス方式、及びオートレベリング方式で投影光学系PLの像面に合わせ込むとともに、レーザ干渉計44の計測結果に基づいて、基板PのX軸方向及びY軸方向における位置決めを行う。 The substrate stage PST, autofocusing the surface of the substrate P by controlling the focus position and inclination angle of the substrate P, and with Komu fit the image plane of the projection optical system PL in the auto-leveling manner, the measurement results of the laser interferometer 44 based on, for positioning in the X axis direction and the Y-axis direction of the substrate P.

露光装置EXは、投影光学系PLを支持する鏡筒定盤5と、鏡筒定盤5及びマスクステージMSTを支持するメインコラム1とを備えている。 The exposure apparatus EX is provided with a lens barrel surface plate 5 which supports the projection optical system PL, and a main column 1 supporting the lens barrel surface plate 5 and the mask stage MST. メインコラム1は、床面上に設けられたベース9上に設置されている。 The main column 1 is installed on a base 9 provided on the floor surface. 基板ステージPSTはベース9上に支持されている。 The substrate stage PST is supported on the base 9. メインコラム1には、内側に向けて突出する上側段部7及び下側段部8が形成されている。 The main column 1, the upper step portion 7 and the lower step 8 protruding toward the inside is formed.

照明光学系ILは、メインコラム1の上部に固定された支持フレーム3により支持されている。 The illumination optical system IL is supported by a support frame 3 fixed to the top of the main column 1. メインコラム1の上側段部7には、防振装置46を介してマスク定盤4が支持されている。 The upper step portion 7 of the main column 1, the mask surface plate 4 is supported via a vibration isolating apparatus 46. マスクステージMST及びマスク定盤4の中央部にはマスクMのパターン像を通過させる開口部(開口部の側壁をMK1、MK2で表す)がそれぞれ形成されている。 Opening for passing the pattern image of the mask M in the central portion of the mask stage MST and the mask surface plate 4 (representing a side wall of the opening in MK1, MK2) are formed respectively. マスクステージMSTの下面には非接触軸受である気体軸受(エアベアリング)45が複数設けられている。 The lower surface of the mask stage MST air bearings 45 is provided with a plurality of non-contact bearings. マスクステージMSTはエアベアリング45によりマスク定盤4の上面(ガイド面)に対して非接触支持されており、マスクステージ駆動装置MSTDによりXY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微小回転可能である。 The mask stage MST mask plate are contactlessly supported relative to the fourth upper surface (guide surface), two-dimensional movable and θZ directions can microspheroidal in the XY plane by the mask stage drive apparatus MSTD by an air bearing 45 is there.

投影光学系PLを保持する鏡筒PKの外周にはフランジPFが設けられており、投影光学系PLはこのフランジPFを介して鏡筒定盤5に支持されている。 The outer circumference of the barrel PK which holds the projection optical system PL has a flange PF is provided, the projection optical system PL is supported by the barrel surface plate 5 via the flange PF. 鏡筒定盤5とメインコラム1の下側段部8との間にはエアマウントなどを含む防振装置47が配置されており、投影光学系PLを支持する鏡筒定盤5はメインコラム1の下側段部8に防振装置47を介して支持されている。 Between the lower step 8 of the barrel surface plate 5 and the main column 1 are arranged anti-vibration device 47 including an air mount, barrel surface plate 5 is a main column which supports the projection optical system PL It is supported via a vibration isolating apparatus 47 to the first lower step 8. この防振装置47によって、メインコラム1の振動が、投影光学系PLを支持する鏡筒定盤5に伝わらないように、鏡筒定盤5とメインコラム1とが振動的に分離されている。 This vibration isolating apparatus 47, the vibration of the main column 1, so not transmitted to the barrel surface plate 5 which supports the projection optical system PL, a lens barrel surface plate 5 and the main column 1 are vibrationally separated .

基板ステージPSTの下面には複数の非接触軸受である気体軸受(エアベアリング)48が設けられている。 The lower surface of the substrate stage PST air bearings 48 are provided a plurality of non-contact bearings. また、ベース9上には、エアマウント等を含む防振装置49を介して基板定盤6が支持されている。 Further, on the base 9, the substrate surface plate 6 is supported via the vibration isolating apparatus 49 including an air mount or the like. 基板ステージPSTはエアベアリング48により基板定盤6の上面(ガイド面)に対して非接触支持されており、基板ステージ駆動装置PSTDにより、XY平面内で2次元移動可能及びθZ方向に微小回転可能である。 The substrate stage PST is supported in a non-contact manner with respect to the upper surface of the substrate plate 6 (guide surface) by the air bearing 48, by a substrate stage drive apparatus PSTD, micro rotatable in a two-dimensional movable and θZ directions in the XY plane it is. この防振装置49によって、ベース9(床面)やメインコラム1の振動が、基板ステージPSTを非接触支持する基板定盤6に伝わらないように、基板定盤6とメインコラム1及びベース9(床面)とが振動的に分離されている。 This vibration isolating apparatus 49, the base 9 so that the vibration of the (floor) and the main column 1 are not transmitted to the substrate surface plate 6 in a non-contact support the substrate stages PST, the substrate surface plate 6 and the main column 1 and the base 9 (floor) and are vibrationally separated.

ノズル部材70はノズル保持機構90に分離可能に保持されており、ノズル保持機構90はメインコラム1の下側段部8に連結部材52を介して支持されている。 The nozzle member 70 is detachably held by the nozzle holding mechanism 90, the nozzle holding mechanism 90 is supported through the connecting member 52 to the lower step 8 of the main column 1. 連結部材52はメインコラム1の下側段部8に固定されており、その連結部材52にノズル保持機構90が固定されている。 Connecting member 52 is fixed to the lower step 8 of the main column 1, the nozzle holding mechanism 90 to the connecting member 52 is fixed.

そして、ノズル部材70をノズル保持機構90及び連結部材52を介して支持しているメインコラム1と、投影光学系PLの鏡筒PKをフランジPFを介して支持している鏡筒定盤5とは、防振装置47を介して振動的に分離されている。 Then, the main column 1 supporting the nozzle member 70 via the nozzle holding mechanism 90 and the connecting member 52, a barrel surface plate 5 which supports the barrel PK of the projection optical system PL via the flange PF It is vibrationally isolated via the vibration isolating apparatus 47. したがって、ノズル部材70で発生した振動が投影光学系PLに伝達されることは防止されている。 Therefore, the vibration generated by the nozzle member 70 is transmitted to the projection optical system PL is prevented. また、メインコラム1と、基板ステージPSTを支持している基板定盤6とは、防振装置49を介して振動的に分離している。 Further, the main column 1 and the substrate surface plate 6 which supports the substrate stages PST, are vibrationally isolated via the vibration isolating apparatus 49. したがって、ノズル部材70で発生した振動が、メインコラム1及びベース9を介して基板ステージPSTに伝達されることが防止されている。 Accordingly, vibration generated by the nozzle member 70 are prevented from being transmitted to the substrate stage PST via the main column 1 and the base 9. また、メインコラム1と、マスクステージMSTを支持しているマスク定盤4とは、防振装置46を介して振動的に分離されている。 Further, the main column 1, and the mask surface plate 4 which supports the mask stage MST, is vibrationally isolated via the vibration isolating apparatus 46. したがって、ノズル部材70で発生した振動がメインコラム1を介してマスクステージMSTに伝達されることが防止されている。 Accordingly, there is prevented that the vibration generated by the nozzle member 70 is transmitted to the mask stage MST via the main column 1.

液体供給機構10は、液体LQを投影光学系PLの像面側に供給するためのものであって、液体LQを送出可能な液体供給部11と、液体供給部11にその一端部を接続する供給管17とを備えている。 Liquid supply mechanism 10 is for supplying the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL, is connected to the liquid supply unit 11 capable of delivering the liquid LQ, the one end portion to the liquid supply section 11 and a supply pipe 17. 液体供給部11は、液体LQを収容するタンク、供給する液体LQの温度を調整する温調装置、液体LQ中の異物を除去するフィルタ装置、及び加圧ポンプ等を備えている。 Liquid supply unit 11 includes a tank for accommodating the liquid LQ, the temperature control apparatus for adjusting the temperature of the supplied liquid LQ, the filter apparatus for removing foreign matter in the liquid LQ, and a pressurizing pump. 基板P上に液浸領域AR2を形成する際、液体供給機構10は液体LQを基板P上に供給する。 When forming the liquid immersion area AR2 on the substrate P, the liquid supply mechanism 10 supplies the liquid LQ onto the substrate P.

第1液体回収機構20は、投影光学系PLの像面側の液体LQを回収するためのものであって、液体LQを回収可能な第1液体回収部21と、第1液体回収部21にその一端部を接続する回収管27とを備えている。 The first liquid recovery mechanism 20 is for recovering the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL, the first liquid recovery unit 21 capable of recovering the liquid LQ, the first liquid recovery section 21 and a recovery pipe 27 which connects one end thereof. 第1液体回収部21は例えば真空ポンプ等の真空系(吸引装置)、回収された液体LQと気体とを分離する気液分離器、及び回収した液体LQを収容するタンク等を備えている。 The first liquid recovery section 21 is, for example, a vacuum system such as a vacuum pump (suction device), a gas-liquid separator for separating the recovered liquid LQ and gas, and a tank or the like for accommodating the recovered liquid LQ. なお真空系として、露光装置EXに真空ポンプを設けずに、露光装置EXが配置される工場の真空系を用いるようにしてもよい。 Note as a vacuum system, without providing the vacuum pump in the exposure apparatus EX, it is also possible to use a vacuum system of a factory in which the exposure apparatus EX is arranged. 基板P上に液浸領域AR2を形成するために、第1液体回収機構20は液体供給機構10より供給された基板P上の液体LQを所定量回収する。 To form the liquid immersion area AR2 on the substrate P, the first liquid recovery mechanism 20 by a predetermined amount recovers the liquid LQ on the substrate P supplied from the liquid supply mechanism 10.

第2液体回収機構30は、投影光学系PLの像面側の液体LQを回収するためのものであって、液体LQを回収可能な第2液体回収部31と、第2液体回収部31にその一端部を接続する回収管37とを備えている。 The second liquid recovery mechanism 30 is for recovering the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL, the liquid LQ and the second liquid recovery unit 31 capable of recovering, in the second liquid recovery section 31 and a recovery pipe 37 which connects one end thereof. 第2液体回収部31は例えば真空ポンプ等の真空系(吸引装置)、回収された液体LQと気体とを分離する気液分離器、及び回収した液体LQを収容するタンク等を備えている。 The second liquid recovery section 31 is, for example, a vacuum system such as a vacuum pump (suction device), a gas-liquid separator for separating the recovered liquid LQ and gas, and a tank or the like for accommodating the recovered liquid LQ. なお真空系として、露光装置EXに真空ポンプを設けずに、露光装置EXが配置される工場の真空系を用いるようにしてもよい。 Note as a vacuum system, without providing the vacuum pump in the exposure apparatus EX, it is also possible to use a vacuum system of a factory in which the exposure apparatus EX is arranged.

また、第2液体回収機構30は、第1液体回収機構20を含む露光装置EX全体の駆動源である商用電源100Aとは別の無停電電源(第2駆動源)100Bを有している。 The second liquid recovery mechanism 30 has a different UPS (second driving source) 100B is a commercial power supply 100A, which is a driving source of the entire exposure apparatus EX including the first liquid recovery mechanism 20. 無停電電源100Bは、例えば商用電源100Aの停電時に、第2液体回収機構30の駆動部に対して電力(駆動力)を供給する。 UPS 100B, for example during a power failure of the commercial power supply 100A, supplies power (driving force) to the drive portion of the second liquid recovery mechanism 30.

排気機構60は、投影光学系PLの像面側の気体を排出するためのものであって、気体を吸引可能な排気部61と、排気部61にその一端部を接続する排気管67とを備えている。 Exhaust mechanism 60 is for discharging the gas on the image plane side of the projection optical system PL, an exhaust unit 61 which can suck the gas, and an exhaust pipe 67 which connects one end portion to the exhaust portion 61 It is provided. 排気部61は例えば真空ポンプ等の真空系(吸引装置)、回収された液体LQと気体とを分離する気液分離器、及び回収した液体LQを収容するタンク等を備えている。 Exhaust unit 61 is, for example, a vacuum system such as a vacuum pump (suction device), a gas-liquid separator for separating the recovered liquid LQ and gas, and a tank or the like for accommodating the recovered liquid LQ. なお真空系として、露光装置EXに真空ポンプを設けずに、露光装置EXが配置される工場の真空系を用いるようにしてもよい。 Note as a vacuum system, without providing the vacuum pump in the exposure apparatus EX, it is also possible to use a vacuum system of a factory in which the exposure apparatus EX is arranged. ここで、排気部61は真空系及び気液分離器を備えているため、投影光学系PLの像面側の液体LQを回収することもできる。 Here, the exhaust unit 61 due to the provision of a vacuum system, and a gas-liquid separator, it is also possible to recover the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL.

次に、図2〜図6を参照しながらノズル部材70について説明する。 Next, the nozzle member 70 will be described with reference to Figures 2-6. 図2はノズル部材70を下面70A側から見た平面図、図3は図2のA−A線断面矢視図、図4は図2のB−B線断面矢視図、図5は図2のC−C線断面矢視図である。 Figure 2 is a plan view of the nozzle member 70 from the bottom surface 70A side, Figure 3 is A-A line cross-sectional outline view of figure 2, Figure 4 is sectional view taken along line B-B arrow view of FIG. 2, FIG. 5 FIG. it is a sectional view taken along line C-C arrow view of two. また、図6はノズル保持機構90に対してノズル部材70が分離された状態を示す斜視図である。 Also, FIG. 6 is a perspective view showing a state where the nozzle member 70 is separated from the nozzle holding mechanism 90.

ノズル部材70は、投影光学系PLの先端部の光学素子2の近傍に配置されており、基板P(基板ステージPST)の上方において光学素子2の周りを囲むように設けられた環状部材である。 The nozzle member 70 is disposed in the vicinity of the optical element 2 at the tip portion of the projection optical system PL, is the annular member which is provided to surround the optical element 2 above the substrate P (substrate stage PST) . ノズル部材70は、液体供給機構10、第1液体回収機構20、第2液体回収機構30、及び排気機構60それぞれの一部を構成するものである。 Nozzle member 70, the liquid supply mechanism 10, the first liquid recovery mechanism 20, in which the second liquid recovery mechanism 30, and a portion of the exhaust system 60 respectively constitute. ノズル部材70は、その中央部に投影光学系PL(光学素子2)を配置可能な穴部70Hを有している。 The nozzle member 70 has a deployable hole 70H projection optical system PL (optical element 2) at the center thereof.

図2に示すように、基板Pに対向するノズル部材70の下面70Aには、Y軸方向を長手方向とする凹部78が形成されている。 As shown in FIG. 2, on the lower surface 70A of the nozzle member 70 opposed to the substrate P, the concave portion 78 of the Y-axis direction is the longitudinal direction are formed. 投影光学系PL(光学素子2)を配置可能な穴部70Hは凹部78の内側に形成されている。 Possible hole 70H disposed a projection optical system PL (optical element 2) is formed inside the recess 78. したがって、穴部70Hに配置された投影光学系PLの光学素子2の端面2Aは、凹部78の内側に配置される。 Therefore, the end face 2A of the optical element 2 of the projection optical system PL arranged in the hole 70H is disposed inside the recess 78. 本実施形態において、投影光学系PLの投影領域AR1はY軸方向(非走査方向)を長手方向とする矩形状に設定されている。 In this embodiment, the projection area AR1 of the projection optical system PL is set to a rectangular shape of the Y-axis direction (non-scanning direction) is the longitudinal direction.

凹部78の内側には、XY平面と略平行であり、基板ステージPSTに支持された基板Pと対向する面78Aが設けられている。 Inside the recess 78, an XY plane substantially parallel, and the substrate P supported by the surface facing 78A is provided on the substrate stage PST. 以下の説明においては、凹部78の内側に形成され、基板Pと対向する面78Aを適宜、「キャビティ面」と称する。 In the following description, it is formed inside the recess 78, as appropriate substrate P and the surface facing 78A, referred to as "cavity surface".

ノズル部材70の下面70Aのうち、凹部78の内側のキャビティ面78Aには、液体供給機構10の一部を構成する供給口12(12A、12B)が設けられている。 Of the lower surface 70A of the nozzle member 70, on the inner side of the cavity surface 78A of the recess 78, the supply ports 12 (12A, 12B) is provided which constitutes a part of the liquid supply mechanism 10. 供給口12(12A、12B)は、下面70A(キャビティ面78A)に形成された液体LQが流れる開口である。 Supply ports 12 (12A, 12B) is a bottom 70A (cavity surface 78A) which is formed in the liquid LQ flows opening. 本実施形態においては、供給口12(12A、12B)は2つ設けられており、投影光学系PLの光学素子2(投影領域AR1)を挟んでY軸方向両側のそれぞれに設けられている。 In the present embodiment, the supply ports 12 (12A, 12B) are provided two, are provided in each of the Y-axis direction both sides of the optical element 2 of the projection optical system PL (projection area AR1). また、本実施形態における供給口12A、12Bは略円形状に形成されている。 The supply port 12A in the present embodiment, 12B are formed in a substantially circular shape. なお供給口12A、12Bとしては円形状に限らず、楕円形状や矩形状など任意の形状に形成されていてもよい。 Incidentally supply ports 12A, not limited to a circular shape as 12B, may be formed in an arbitrary shape such as an oval shape or a rectangular shape. また、本実施形態においては、供給口12A、12Bは互いにほぼ同じ大きさを有しているが、互いに異なる大きさであってもよい。 In the present embodiment, the supply ports 12A, 12B is has substantially the same size as each other, or may be different sizes.

また、ノズル部材70の下面70Aのうちキャビティ面78Aには、排気機構60の一部を構成する排気口62(62A、62B)が設けられている。 In addition, the cavity surface 78A of the lower surface 70A of the nozzle member 70, exhaust ports 62 (62A, 62B) constituting a part of the exhaust system 60 is provided. 排気口62(62A、62B)は、下面70A(キャビティ面78A)に形成された気体又は液体LQが流れる開口である。 Exhaust ports 62 (62A, 62B) is a bottom 70A (cavity surface 78A) which is formed in a gas or liquid LQ flows opening. 本実施形態においては、排気口62(62A、62B)は2つ設けられており、投影光学系PLの光学素子2(投影領域AR1)を挟んでY軸方向両側のそれぞれに設けられている。 In this embodiment, the exhaust port 62 (62A, 62B) are provided two, are provided in each of the Y-axis direction both sides of the optical element 2 of the projection optical system PL (projection area AR1). また、本実施形態における排気口62A、62Bは略円形状に形成されている。 The exhaust port 62A in the present embodiment, 62B are formed in a substantially circular shape. なお供給口62A、62Bとしては円形状に限らず、楕円形状や矩形状など任意の形状に形成されていてもよい。 Incidentally supply ports 62A, not limited to a circular shape as 62B, may be formed in an arbitrary shape such as an oval shape or a rectangular shape. また、本実施形態においては、排気口62A、62Bは互いにほぼ同じ大きさを有しているが、互いに異なる大きさであってもよい。 In the present embodiment, an exhaust port 62A, 62B is has substantially the same size as each other, or may be different sizes.

また本実施形態においては、キャビティ面78Aにおいて供給口12Aと排気口62AとがX軸方向に関して並んで設けられ、供給口12Bと排気口62BとがX軸方向に関して並んで設けられている。 In the present embodiment, the supply port 12A and an exhaust port 62A in the cavity surface 78A is provided side by side in the X-axis direction, the supply port 12B and the outlet 62B are provided side by side in the X-axis direction. また、供給口12及び排気口62のそれぞれは、投影光学系PLの投影領域AR1近傍に設けられており、投影光学系PL(投影領域AR1)と排気口62との距離は、投影光学系PL(投影領域AR1)と供給口12との距離とほぼ等しいか、あるいは投影光学系PL(投影領域AR1)と供給口12との距離に対して短くなっている。 Further, each of the supply ports 12 and the exhaust port 62 is provided near the projection area AR1 of the projection optical system PL, the distance of the projection optical system PL (the projection area AR1) and the exhaust port 62, the projection optical system PL is shorter relative distance approximately equal to the distance between (the projection area AR1) and the supply port 12, or the projection optical system PL (projection area AR1) and the supply port 12.

ノズル部材70の下面70Aにおいて、投影光学系PL(光学素子2)の投影領域AR1を基準として凹部78の外側には第1液体回収機構20の一部を構成する第1回収口22が設けられている。 In the lower surface 70A of the nozzle member 70, on the outside of the concave portion 78 is first recovery port 22 which constitutes a part of the first liquid recovery mechanism 20 is provided relative to the projection area AR1 of the projection optical system PL (optical element 2) ing. また、ノズル部材70の下面70Aにおいて、第1回収口22の更に外側には第2液体回収機構30の一部を構成する第2回収口32が設けられている。 Further, the lower surface 70A of the nozzle member 70, the further outside the first recovery port 22 and the second recovery port 32 is provided that constitutes a part of the second liquid recovery mechanism 30.

第1回収口22は、ノズル部材70の下面70Aに形成された液体LQが流れる開口である。 The first recovery port 22 is a bottom 70A formed liquid LQ flows opening of the nozzle member 70. 第1回収口22は、基板Pに対向するノズル部材70の下面70Aにおいて投影光学系PLの投影領域AR1に対して液体供給機構10の供給口12A、12B及び排気機構60の排気口62A、62Bの外側に設けられており、投影領域AR1、供給口12A、12B、及び排気口62A、62Bを囲むように環状に形成されている。 The first recovery port 22, the supply port 12A of the liquid supply mechanism 10 with respect to the projection area AR1 of the projection optical system PL on the lower surface 70A of the nozzle member 70 opposed to the substrate P, 12B and an exhaust port 62A of the exhaust mechanism 60, 62B of which is provided outside the projection area AR1, the supply ports 12A, 12B, and an exhaust port 62A, is formed annularly to surround the 62B. したがって、排気口62A、62Bは、投影光学系PLの投影領域AR1に対して第1回収口22よりも近くに設けられた構成となっている。 Therefore, exhaust ports 62A, 62B has a structure provided closer than the first recovery port 22 with respect to the projection area AR1 of the projection optical system PL. 第1回収口22には複数の孔が形成された多孔体74が配置されている。 Porous body 74 is arranged in which a plurality of holes are formed in the first recovery port 22.

第2回収口32は、ノズル部材70の下面70Aに形成された液体LQが流れる開口である。 The second recovery port 32 is a bottom 70A formed liquid LQ flows opening of the nozzle member 70. 第2回収口32は、基板Pに対向するノズル部材70の下面70Aにおいて、第1回収口22の外側に設けられ、その第1回収口22を囲むように環状に形成されている。 The second recovery port 32, the lower surface 70A of the nozzle member 70 opposed to the substrate P, is provided outside the first recovery port 22 is formed in an annular shape to surround the first recovery port 22. 第2回収口32にも複数の孔が形成された多孔体75が配置されている。 Porous body 75 is arranged in which a plurality of holes are formed in the second recovery port 32.

供給口12A、12Bは、投影光学系PLの投影領域AR1と第1回収口22との間に設けられている。 Supply ports 12A, 12B is provided between the projection area AR1 of the projection optical system PL and the first recovery port 22. 液浸領域AR2を形成するための液体LQは、供給口12A、12Bを介して、投影光学系PLの投影領域AR1と第1回収口22との間で、基板Pの上方より供給されるようになっている。 Liquid LQ for forming the liquid immersion area AR2 is the supply port 12A, through 12B, between the projection area AR1 of the projection optical system PL and the first recovery port 22, as supplied from above the substrate P It has become. また、第1回収口22は、ノズル部材70の下面70Aのうち凹部78の外側の離れた領域に形成されている。 The first recovery port 22 is formed on the outside of the separate areas of the recess 78 of the lower surface 70A of the nozzle member 70. 凹部78と第1回収口22との間にはほぼ平坦な平坦領域77が設けられている。 Flat area 77 substantially flat is provided between the recess 78 and the first recovery port 22. 平坦領域77はXY平面と略平行であり、基板ステージPSTに支持された基板Pと対向する。 Flat area 77 is parallel to the XY plane and substantially faces the substrate P supported by the substrate stage PST. 以下の説明においては、凹部78の周りに設けられた平坦領域77を適宜、「ランド面」と称する。 In the following description, appropriately flat region 77 provided around the recess 78, referred to as "land surface".

ノズル部材70はノズル保持機構90に分離可能に保持されている。 The nozzle member 70 is detachably held by the nozzle holding mechanism 90. 図3及び図4に示すように、ノズル保持機構90はノズル部材70を分離可能に保持するノズルホルダ92を備えている。 As shown in FIGS. 3 and 4, the nozzle holding mechanism 90 includes a nozzle holder 92 which holds the nozzle member 70 detachably. ノズルホルダ92は、その中央部に投影光学系PLを配置可能な穴部92Hを有している。 The nozzle holder 92 has a deployable hole 92H of the projection optical system PL at its center. すなわち、ノズル保持機構90がノズル部材70を保持したとき、ノズルホルダ92の穴部92Hとノズル部材70の穴部70Hとが接続されるようになっており、投影光学系PL(光学素子2)は、前記穴部92H及び70Hの内側に配置される。 That is, when the nozzle holding mechanism 90 holds the nozzle member 70, and the hole 70H of the hole 92H and the nozzle member 70 of the nozzle holder 92 is adapted to be connected, the projection optical system PL (optical element 2) It is located inside of the hole 92H and 70H.

連結部材52を介してメインコラム1の下側段部8に支持されたノズル保持機構90(ノズルホルダ92)及びそのノズル保持機構90に保持されたノズル部材70は、投影光学系PL(光学素子2)とは離れている。 Coupling the nozzle holding mechanism 90 (nozzle holder 92) supported on the lower step 8 of the main column 1 via the member 52 and the nozzle member 70 which is held on a nozzle holding mechanism 90, the projection optical system PL (optical element It is away and 2). すなわち、ノズル部材70の穴部70Hの内側面70Tと投影光学系PLの光学素子2の側面2Tとの間には間隙が設けられており、ノズルホルダ92の穴部92Hの内側面92Tと投影光学系PLの鏡筒PKとの間にも間隙が設けられている。 That is, a gap is provided between the inner side surface 70T of the hole 70H of the nozzle member 70 and the side surface 2T of the optical element 2 of the projection optical system PL, and the projection and the inner surface 92T of the hole 92H of the nozzle holder 92 gap is also provided between the barrel PK of the optical system PL. これら間隙は、投影光学系PLとノズル部材70及びノズル保持機構90とを振動的に分離するために設けられたものである。 These gaps are those of the projection optical system PL and the nozzle member 70 and the nozzle holding mechanism 90 is provided for vibrationally isolated. これにより、ノズル部材70やノズル保持機構90で発生した振動が、投影光学系PL側に伝達することが防止されている。 Accordingly, vibration generated by the nozzle member 70 and the nozzle holding mechanism 90 is prevented from being transmitted to the projection optical system PL side. また、上述したように、メインコラム1(下側段部8)と鏡筒定盤5とは、防振装置47を介して振動的に分離している。 As described above, the main column 1 (lower step 8) and the barrel surface plate 5 are vibrationally separated via vibration isolating apparatus 47. したがって、ノズル部材70やノズル保持機構90で発生した振動がメインコラム1及び鏡筒定盤5を介して投影光学系PLに伝達されることは防止されている。 Therefore, the vibration generated by the nozzle member 70 and the nozzle holding mechanism 90 is transmitted to the projection optical system PL via the main column 1 and the barrel surface plate 5 is prevented.

また、間隙を形成するノズル部材70の内側面70T、及び光学素子2の側面2Tのそれぞれは撥液性となっている。 The inner side surface 70T of the nozzle member 70 to form a gap, and each of the side surface 2T of the optical element 2 has a liquid-repellent. 具体的には、内側面70T及び側面2Tのそれぞれは、撥液化処理を施されることによって撥液性を有している。 Specifically, each of the inner side surface 70T and the side surface 2T, has liquid repellency by being subjected to a lyophobic process. 撥液化処理としては、フッ素系樹脂材料、アクリル系樹脂材料、シリコン系樹脂材料等の撥液性材料を塗布、あるいは前記撥液性材料からなる薄膜を貼付する。 As the lyophobic process, stuck fluorine-based resin material, an acrylic resin material, applying a liquid-repellent material of the silicon-based resin material or the like, or a thin film made of the liquid-repellent material. また、表面処理のための膜は、単層膜であってもよいし複数の層からなる膜であってもよい。 Further, the film for surface treatment may be a single layer film or a film formed of a plurality of layers. ノズル部材70の内側面70T、及び光学素子2の側面2Tのそれぞれを撥液性にすることで、内側面70Tと側面2Tとで形成される間隙に液浸領域AR2の液体LQが浸入することが防止されている。 Inner side surface 70T of the nozzle member 70, and the respective side surface 2T of the optical element 2 by liquid-repellent, the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 from entering the gap formed by the inner side surface 70T and the side surface 2T There has been prevented.

図3及び図4に示すように、ノズルホルダ92の内部には、供給流路15、第1回収流路25、第2回収流路35、及び排気流路65が形成されている。 As shown in FIGS. 3 and 4, inside the nozzle holder 92, the supply passage 15, the first recovery flow passage 25, the second recovery flow passage 35 and an exhaust passage 65, it is formed. 供給流路15は液体供給機構10の一部を構成し、第1回収流路25は第1液体回収機構20の一部を構成し、第2回収流路35は第2液体回収機構30の一部を構成し、排気流路65は排気機構60の一部を構成している。 Supply passage 15 forms a part of the liquid supply mechanism 10, the first recovery flow path 25 constitutes a part of the first liquid recovery mechanism 20, the second recovery flow passage 35 of the second liquid recovery mechanism 30 constitutes a part, an exhaust passage 65 constitutes a part of the exhaust system 60. したがって、ノズル保持機構90(ノズルホルダ92)は、液体供給機構10、第1液体回収機構20、第2液体回収機構30、及び排気機構60それぞれの一部を構成している。 Thus, the nozzle holding mechanism 90 (nozzle holder 92), the liquid supply mechanism 10, the first liquid recovery mechanism 20, and the second liquid recovery mechanism 30, and a portion of the exhaust system 60 respectively constitute.

ノズルホルダ92の内部に形成された供給流路15の一端部は、継手16を介して供給管17の他端部に接続されており、供給流路15の他端部は、ノズル部材70の内部に形成された供給流路14の一端部に接続している。 One end of the supply channel 15 formed inside the nozzle holder 92, via a joint 16 is connected to the other end of the supply tube 17, the other end of the supply channel 15, the nozzle member 70 connected to one end of the supply channel 14 formed therein. ノズルホルダ92の供給流路15の一端部はノズルホルダ92の側面に設けられており、他端部はノズルホルダ92の下面に設けられている。 One end of the supply channel 15 of the nozzle holder 92 is provided on the side surface of the nozzle holder 92, the other end portion are provided on the lower surface of the nozzle holder 92. また、ノズル部材70の供給流路14の一端部はノズル部材70の上面に設けられている。 One end of the supply channel 14 of the nozzle member 70 is provided on the top surface of the nozzle member 70. 一方、供給流路14の他端部は、ノズル部材70の下面70A(キャビティ面78A)に形成された供給口12に接続されている。 On the other hand, the other end of the supply channel 14 is connected to the supply port 12 formed on the lower surface 70A of the nozzle member 70 (cavity surface 78A). ここで、ノズル部材70の内部に形成された供給流路14は、複数(2つ)の供給口12(12A、12B)のそれぞれにその他端部を接続可能なように途中から分岐している。 Here, supply passage 14 formed in the nozzle member 70 is branched from the midway to be connectable to the other end to each of the plurality supply ports 12 (12A, 12B) of (2) .

そして、ノズル部材70をノズルホルダ92で保持することで、ノズル部材70の供給流路14の一端部とノズルホルダ92の供給流路15の他端部とが接続される。 Then, by holding the nozzle member 70 in nozzle holder 92, and the other end of the supply channel 15 at one end and the nozzle holder 92 of the supply channel 14 of the nozzle member 70 is connected. ここで、ノズルホルダ92の内部に形成された供給流路15の一端部は、供給管17を介して液体LQを供給可能な液体供給部11に接続しており、供給流路15の他端部は、ノズル部材70の内部に形成された供給流路14を介して投影光学系PLの像面側に液体LQを供給可能な供給口12に接続している。 Here, one end portion of the supply channel 15 formed inside the nozzle holder 92 is connected to the liquid LQ to the liquid supply unit 11 capable of supplying via the supply pipe 17, the other end of the supply channel 15 part connects the liquid LQ to the supply port 12 can be supplied to the image plane side of the projection optical system PL via the supply channel 14 formed in the nozzle member 70. したがって、ノズルホルダ92の供給流路15は、液体供給部11とノズル部材70とを接続した構成となっている。 Thus, the supply passage 15 of the nozzle holder 92 has a configuration of connecting the liquid supply unit 11 and the nozzle member 70.

また、図4に示すように、ノズルホルダ92の供給流路15とノズル部材70の供給流路14との接続部には、液体LQの漏洩を阻止するシール部材130が設けられている。 Further, as shown in FIG. 4, the connection portion between the supply channel 14 of the supply channel 15 and the nozzle member 70 of the nozzle holder 92, the seal member 130 to prevent the liquid LQ leaks is provided. 本実施形態において、シール部材130はOリングによって構成されている。 In this embodiment, the seal member 130 is constituted by an O-ring. なお、液体LQの漏洩を阻止可能であれば、Oリングに限らず、シーリングテープなど任意のシール部材を用いることができる。 Note that blocking if the liquid LQ leaks, not limited to the O-ring, may be any sealing member such as a sealing tape. シール部材130を設けたことにより、供給流路14、15を流れる液体LQの前記接続部からの漏洩が防止されている。 By providing the sealing member 130, leakage from the connection portion of the liquid LQ flowing in the supply channel 14, 15 is prevented.

液体供給部11の液体供給動作は制御装置CONTにより制御される。 The liquid supply operation of the liquid supply unit 11 is controlled by the control unit CONT. 液浸領域AR2を形成するために、制御装置CONTは、液体供給機構10の液体供給部11より液体LQを送出する。 To form the liquid immersion region AR2, controller CONT delivers liquid LQ from the liquid supply portion 11 of the liquid supply mechanism 10. 液体供給部11より送出された液体LQは、供給管17を流れた後、ノズルホルダ92の内部流路である供給流路15に流入する。 Liquid LQ fed from the liquid supply unit 11, after flowing through supply pipe 17, flows into the supply channel 15 which is an internal passage of the nozzle holder 92. ノズルホルダ92の供給流路15を流れた液体LQはノズル部材70の内部に形成された供給流路14の一端部に流入する。 Liquid LQ flowing through the supply passage 15 of the nozzle holder 92 flows into one end of the supply channel 14 formed in the nozzle member 70. そして、供給流路14の一端部に流入した液体LQは途中で分岐した後、ノズル部材70の下面70A(キャビティ面78A)に形成された複数(2つ)の供給口12A、12Bより、投影光学系PLの像面側に配置された基板P上に供給される。 After the liquid LQ having flowed into one end of the supply channel 14 is branched on the way, the supply port 12A of the plurality which are formed on the lower surface 70A of the nozzle member 70 (cavity surface 78A) (2 two), from 12B, the projection It is supplied onto the substrate P arranged on the image plane side of the optical system PL. 液体供給機構10は、供給口12A、12Bのそれぞれより液体LQを同時に供給可能である。 The liquid supply mechanism 10, the supply port 12A, at the same time is capable of supplying the liquid LQ from each of 12B.

本実施形態においては、ノズル部材70に形成された供給流路14の供給口12近傍は鉛直方向(Z軸方向)に沿って形成されているとともに、供給口12はノズル部材70の下面70Aにおいて−Z方向を向くように(下向きに)設けられている。 In the present embodiment, the supply ports 12 near the supply channel 14 formed in the nozzle member 70 is formed along the vertical direction (Z axis direction), the supply port 12 in the lower surface 70A of the nozzle member 70 to face the -Z direction are (downward) provided. 液体供給機構10は、供給口12を介して、基板P表面に対して上方から鉛直下向き(−Z方向)に液体LQを供給する。 The liquid supply mechanism 10, through the supply port 12, supplies the liquid LQ to the vertically downward (-Z direction) from above the substrate P surface.

図7はノズル部材70に形成された供給口12近傍の拡大断面図である。 Figure 7 is an enlarged sectional view of the supply ports 12 near formed in the nozzle member 70. 図7に示すように、供給口12に接続された供給流路14のうち供給口12近傍は、供給口12に向かって漸次拡がる傾斜面13となっている。 As shown in FIG. 7, the supply ports 12 near one of the supply channel 14 connected to the supply port 12 has an inclined surface 13 that extends gradually toward the supply port 12. ノズル部材70の内部に形成され、供給口12に接続された供給流路14のうち供給口12近傍を、供給口(出口)12に向かって漸次拡がるように形成したので、基板P(基板ステージPST)上に供給される液体LQの基板Pに対する力が分散される。 Is formed in the nozzle member 70, the supply opening 12 near one of the supply port 12 is connected to the supply channel 14, since the formed so as to extend progressively toward the supply port (outlet) 12, the substrate P (substrate stage PST) force on the substrate P of the liquid LQ to be supplied is distributed on. したがって、供給した液体LQが基板Pや基板ステージPSTに及ぼす力を抑制することができる。 Therefore, it is possible to supply the liquid LQ suppresses the force exerted on the substrate P and the substrate stage PST. したがって、供給された液体LQにより基板Pや基板ステージPSTが変形を生じる等の不都合を防止することができ、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 Therefore, it is possible to the substrate P and the substrate stage PST by the supplied liquid LQ can be prevented inconveniences such deformation occurs, obtain high exposure accuracy and measurement accuracy.

なお、本実施形態においては、ラッパ状の供給口12は基板Pの上方より鉛直下向きに液体LQを供給しているが、基板P表面(XY平面)に対して傾斜方向から供給してもよい。 In the present embodiment, although trumpet-shaped supply port 12 supplies the liquid LQ to vertically downward from above the substrate P, it may be supplied from the inclined direction with respect to the surface of the substrate P (XY plane) . すなわち、供給口12をXY平面に対して傾斜するように形成してもよい。 That may be formed so as to tilt the supply ports 12 with respect to the XY plane.

また、供給管17の途中など、液体LQの供給流路の所定位置に、液体供給部11から送出され、供給口12A、12Bのそれぞれに対する単位時間あたりの液体供給量を制御するマスフローコントローラと呼ばれる流量制御器を設けることが可能である。 Also called such as the middle of the supply pipe 17, at a predetermined position of the supply channel of the liquid LQ, it is fed from the liquid supply section 11, a mass flow controller for controlling the liquid supply amount per unit time for each of the supply ports 12A, 12B it is possible to provide a flow controller. 制御装置CONTは、上記流量制御器を介して、供給口12A、12Bを介した液体供給量を制御することができる。 The control unit CONT, through the flow rate controller may control the liquid supply amount through the supply ports 12A, 12B. また、供給管17の途中など、液体LQの供給流路の所定位置に、この供給流路を開閉するバルブを設けることが可能である。 Also, like the middle of the supply pipe 17, at a predetermined position of the supply channel of the liquid LQ, it is possible to provide a valve which opens and closes the supply channel. 制御装置CONTは、上記バルブを使って、所定のタイミングで供給流路を閉じることで、供給口12A、12Bを介した液体供給を停止することができる。 The control apparatus CONT uses the valve, by closing the supply passage at a predetermined timing, it is possible to stop the liquid supply via the supply ports 12A, 12B.

ノズルホルダ92の内部に形成された第1回収流路25の一端部は、継手26を介して回収管27の他端部に接続されており、第1回収流路25の他端部は、ノズル部材70の内部に形成された第1回収流路であるマニホールド流路24の一端部に接続している。 One end of the first recovery flow passage 25 formed inside the nozzle holder 92 is connected to the other end of the recovery pipe 27 via a joint 26, the other end of the first recovery flow passage 25, connected to one end of the manifold channel 24, which is the first recovery flow passage formed in the nozzle member 70. ここで、ノズルホルダ92の第1回収流路25の一端部はノズルホルダ92の側面に設けられており、他端部はノズルホルダ92の下面に設けられている。 Here, one end of the first recovery flow passage 25 of the nozzle holder 92 is provided on the side surface of the nozzle holder 92, the other end portion are provided on the lower surface of the nozzle holder 92. また、ノズル部材70のマニホールド流路24の一端部はノズル部材70の上面に設けられている。 One end of the manifold channel 24 of the nozzle member 70 is provided on the top surface of the nozzle member 70. 一方、マニホールド流路24の他端部は、第1回収口22に対応するように平面視環状に形成され、その第1回収口22に接続する環状流路23の一部に接続している。 On the other hand, the other end of the manifold channel 24 is formed in plan view circular to correspond to the first recovery port 22 is connected to a part of the annular channel 23 which connects to the first recovery port 22 .

そして、ノズル部材70をノズルホルダ92で保持することで、ノズル部材70のマニホールド流路(第1回収流路)24の一端部とノズルホルダ92の第1回収流路25の他端部とが接続される。 Then, by holding the nozzle member 70 in nozzle holder 92, and the other end of the first recovery flow passage 25 of the one end and the nozzle holder 92 of the manifold channels (first recovery passage) 24 of the nozzle member 70 It is connected. ここで、ノズルホルダ92の内部に形成された第1回収流路25の一端部は、回収管27を介して液体LQを回収可能な第1液体回収部21に接続しており、第1回収流路25の他端部は、ノズル部材70の内部に形成された第1回収流路であるマニホールド流路24及び環状流路23を介して投影光学系PLの像面側の液体LQを回収可能な第1回収口22に接続している。 Here, one end of the first recovery flow passage 25 formed inside the nozzle holder 92 is connected to the liquid LQ to the first liquid recovery section 21 which is capable of recovering through the recovery pipe 27, the first recovery the other end of the passage 25, recovers the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL through the manifold channel 24 and the annular channel 23, which is the first recovery flow passage formed in the nozzle member 70 It is connected to the first recovery port 22 as possible. したがって、ノズルホルダ92の第1回収流路25は、第1液体回収部21とノズル部材70とを接続した構成となっている。 Therefore, the first recovery flow passage 25 of the nozzle holder 92 has a configuration that connects the first liquid recovery unit 21 and the nozzle member 70.

また、図3に示すように、ノズルホルダ92の第1回収流路25とノズル部材70のマニホールド流路24との接続部には、液体LQの漏洩を阻止するシール部材131が設けられている。 Further, as shown in FIG. 3, the connection portion between the manifold channel 24 of the first recovery flow passage 25 and the nozzle member 70 of the nozzle holder 92, the seal member 131 to prevent the liquid LQ leaks are provided . シール部材131は、シール部材130同様、Oリング等によって構成可能である。 Seal member 131 is similar to seal member 130 is configurable by an O-ring or the like. シール部材131を設けたことにより、第1回収流路24、25を流れる液体LQの前記接続部からの漏洩が防止されている。 By providing the sealing member 131, leakage from the connection portion of the liquid LQ flowing in the first recovery channel 24, 25 is prevented.

第1液体回収部21の液体回収動作は制御装置CONTに制御される。 The liquid recovery operation of the first liquid recovery section 21 is controlled by the control unit CONT. 制御装置CONTは、液体LQを回収するために、第1液体回収機構20の第1液体回収部21を駆動する。 The control unit CONT, in order to recover the liquid LQ, and drives the first liquid recovery portion 21 of the first liquid recovery mechanism 20. 真空系を有する第1液体回収部21の駆動により、基板P上の液体LQは、その基板Pの上方に設けられている第1回収口22を介して環状流路23に鉛直上向き(+Z方向)に流入する。 By driving the first liquid recovery section 21 having the vacuum system, the liquid LQ on the substrate P is vertically upward (+ Z direction into the annular flow path 23 via the first recovery port 22 provided above the substrate P flowing into). 環状流路23に+Z方向に流入した液体LQは、マニホールド流路24で集合された後、マニホールド流路24を流れる。 Liquid LQ that has flowed in the + Z direction into the annular flow path 23, after being assembled in the manifold channel 24, flows through the manifold channel 24. その後、ノズルホルダ92の第1回収流路25を流れ、回収管27を介して第1液体回収部21に吸引回収される。 Thereafter, flows through the first recovery flow passage 25 of the nozzle holder 92, it is sucked and recovered in the first liquid recovery section 21 via the recovery pipe 27.

ノズルホルダ92の内部に形成された第2回収流路35の一端部は、継手36を介して回収管37の他端部に接続されており、第2回収流路35の他端部は、ノズル部材70の内部に形成された第2回収流路であるマニホールド流路34の一端部に接続している。 One end of the second recovery flow passage 35 formed inside the nozzle holder 92 is connected to the other end of the recovery pipe 37 via a joint 36, the other end of the second recovery flow passage 35, connected to one end of the manifold channel 34 is a second recovery flow passage formed in the nozzle member 70. ノズルホルダ92の第2回収流路35の一端部はノズルホルダ92の側面に設けられており、他端部はノズルホルダ92の下面に設けられている。 One end of the second recovery flow passage 35 of the nozzle holder 92 is provided on the side surface of the nozzle holder 92, the other end portion are provided on the lower surface of the nozzle holder 92. また、ノズル部材70のマニホールド流路34の一端部はノズル部材70の上面に設けられている。 One end of the manifold channel 34 of the nozzle member 70 is provided on the top surface of the nozzle member 70. 一方、マニホールド流路34の他端部は、第2回収口32に対応するように平面視環状に形成され、その第2回収口32に接続する環状流路33の一部に接続している。 On the other hand, the other end of the manifold channel 34 is formed in plan view circular to correspond to the second recovery port 32 is connected to a part of the annular flow path 33 connecting to the second recovery port 32 .

そして、ノズル部材70をノズルホルダ92で保持することで、ノズル部材70のマニホールド流路(第2回収流路)34の一端部とノズルホルダ92の第2回収流路35の他端部とが接続される。 Then, by holding the nozzle member 70 in the nozzle holder 92, the manifold passages of the nozzle member 70 and the other end of the second recovery flow passage 35 of the one end and the nozzle holder 92 (second recovery passage) 34 It is connected. ここで、ノズルホルダ92の内部に形成された第2回収流路35の一端部は、回収管37を介して液体LQを回収可能な第2液体回収部31に接続しており、第2回収流路35の他端部は、ノズル部材70の内部に形成された第2回収流路であるマニホールド流路34及び環状流路33を介して投影光学系PLの像面側の液体LQを回収可能な第2回収口32に接続している。 Here, one end of the second recovery flow passage 35 formed inside the nozzle holder 92 is connected to the liquid LQ to the second liquid recovery section 31 which is capable of recovering through the recovery pipe 37, the second collection the other end of the passage 35, recovers the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL through the manifold channel 34 and the annular channel 33 is a second recovery flow passage formed in the nozzle member 70 It is connected to the second recovery port 32 as possible. したがって、ノズルホルダ92の第2回収流路35は、第2液体回収部31とノズル部材70とを接続した構成となっている。 Accordingly, the second recovery flow passage 35 of the nozzle holder 92 has a configuration that connects the second liquid recovery unit 31 and the nozzle member 70.

また、図3に示すように、ノズルホルダ92の第2回収流路35とノズル部材70のマニホールド流路34との接続部には、液体LQの漏洩を阻止するシール部材132が設けられている。 Further, as shown in FIG. 3, the connection portion between the manifold channel 34 of the second recovery flow passage 35 and the nozzle member 70 of the nozzle holder 92, the seal member 132 to prevent the liquid LQ leaks are provided . シール部材132は、シール部材130、131同様、Oリング等によって構成可能である。 Seal member 132, similar to the sealing member 130 and 131 is configurable by an O-ring or the like. シール部材132を設けたことにより、第2回収流路34、35を流れる液体LQの前記接続部からの漏洩が防止されている。 By providing the sealing member 132, leakage from the connection portion of the liquid flowing through the second recovery flow passage 34, 35 LQ is prevented.

第2液体回収部31の液体回収動作は制御装置CONTに制御される。 The liquid recovery operation of the second liquid recovery section 31 is controlled by the control unit CONT. 制御装置CONTは、液体LQを回収するために、第2液体回収機構30の第2液体回収部31を駆動する。 The control unit CONT, in order to recover the liquid LQ, and drives the second liquid recovery section 31 of the second liquid recovery mechanism 30. 真空系を有する第2液体回収部31の駆動により、液体LQは、基板Pの上方に設けられている第2回収口32を介して環状流路33に鉛直上向き(+Z方向)に流入する。 By driving the second liquid recovery section 31 having the vacuum system, the liquid LQ flows vertically upward (+ Z direction) in the annular channel 33 via the second recovery port 32 provided above the substrate P. 環状流路33に+Z方向に流入した液体LQは、マニホールド流路34で集合された後、マニホールド流路34を流れる。 Liquid LQ that has flowed in the + Z direction into the annular flow path 33, after being assembled in the manifold channel 34, flows through the manifold channel 34. その後、ノズルホルダ92の第2回収流路35を流れ、第2回収管37を介して第2液体回収部31に吸引回収される。 Thereafter, flows through the second recovery flow passage 35 of the nozzle holder 92, it is sucked and recovered in the second liquid recovery section 31 via the second recovery pipe 37.

ここで、第2液体回収機構30は無停電電源100Bにより常時駆動している。 Here, the second liquid recovery mechanism 30 is always driven by the uninterruptible power supply 100B. 例えば、商用電源100Aが停電した場合、第2液体回収機構30の第2液体回収部31は、無停電電源100Bより供給される電力で駆動される。 For example, if the commercial power source 100A loses power, the second liquid recovery section 31 of the second liquid recovery mechanism 30 is driven by electric power supplied from the uninterruptible power supply 100B. この場合、第2液体回収部31を含む第2液体回収機構30の液体回収動作は、制御装置CONTに制御されず、例えば第2液体回収機構30に内蔵された別の制御装置からの指令信号に基づいて制御される。 In this case, the liquid recovery operation of the second liquid recovery mechanism 30 including the second liquid recovery section 31 is not controlled by the controller CONT, for example, a command signal from another control unit built in the second liquid recovery mechanism 30 It is controlled based on. あるいは、商用電源100Aの停電時においては、無停電電源100Bは、第2液体回収機構30に加えて制御装置CONTにも電力を供給するようにしてもよい。 Alternatively, at the time of power failure of the commercial power supply 100A, the uninterruptible power supply 100B can be supplied with electric power also to the controller CONT in addition to the second liquid recovery mechanism 30. この場合、その無停電電源100Bからの電力によって駆動される制御装置CONTが、第2液体回収機構30の液体回収動作を制御するようにしてもよい。 In this case, the control unit CONT driven by the power from the uninterruptible power 100B may be configured to control the liquid recovery operation of the second liquid recovery mechanism 30.

なお図を見やすくするために、図3においては、第1回収流路25の一端部(回収管27の他端部)と、第1回収流路25の他端部(マニホールド流路24の一端部)とは同一断面内に設けられているが、実際には、図6に示すようにずれて設けられている。 Note that for clarity of illustration, in FIG. 3, one end of the first recovery flow path 25 (the other end of the recovery tube 27), one end of the other end portion (the manifold channel 24 of the first recovery flow passage 25 Although a part) are provided in the same cross section, in fact, it is provided offset as shown in FIG. 同様に、図3においては、第2回収流路35の一端部(回収管37の他端部)と、第2回収流路35の他端部(マニホールド流路34の一端部)とは同一断面内に設けられているが、実際にはずれて設けられている。 Similarly, in FIG. 3, one end of the second recovery flow passage 35 (the other end of the recovery tube 37), the other end of the second recovery flow passage 35 (one end of the manifold channel 34) identical Although provided in the cross section, it is provided actually off.

なお、本実施形態においては第1回収口22は環状に形成されており、その第1回収口22に接続する回収流路23、24、25、回収管27、及び第1液体回収部21のそれぞれは1つずつ設けられた構成であるが、第1回収口22を複数に分割し、複数に分割された第1回収口22の数に応じて、回収流路や回収管、あるいは第1液体回収部21を設けるようにしてもよい。 The first recovery port 22 in the present embodiment is formed in an annular shape, the recovery flow path 23, 24, 25 to be connected to the first recovery port 22, recovery pipe 27, and the first liquid recovery section 21 Although each is a configuration provided one by one, the first recovery port 22 is divided into a plurality, depending on the number of the first recovery port 22 which is divided into a plurality, the recovery flow path and the recovery pipe, or the first the liquid recovery section 21 may be provided. なお、第1回収口22を複数に分割した場合であっても、それら複数の第1回収口22が、投影領域AR1、供給口12、及び排気口62を囲むように配置されていることが好ましい。 Incidentally, even when dividing the first recovery port 22 into a plurality, that the plurality of first recovery port 22 is arranged to surround the projection area AR1, the supply ports 12 and the exhaust port 62, preferable. 同様に、第2回収口32も複数に分割して配置されてもよい。 Similarly, the second recovery port 32 may also be arranged in a plurality.

ノズルホルダ92の内部に形成された排気流路65の一端部は、継手66を介して排気管67の他端部に接続されており、排気流路65の他端部は、ノズル部材70の内部に形成された排気流路64の一端部に接続している。 One end portion of the exhaust passage 65 formed inside the nozzle holder 92 is connected to the other end of the exhaust pipe 67 via a joint 66, the other end portion of the exhaust passage 65, the nozzle member 70 connected to one end of an exhaust passage 64 formed therein. ノズルホルダ92の排気流路65の一端部はノズルホルダ92の側面に設けられており、他端部はノズルホルダ92の下面に設けられている。 One end portion of the exhaust passage 65 of the nozzle holder 92 is provided on the side surface of the nozzle holder 92, the other end portion are provided on the lower surface of the nozzle holder 92. また、ノズル部材70の排気流路64の一端部はノズル部材70の上面に設けられている。 One end portion of the exhaust passage 64 of the nozzle member 70 is provided on the top surface of the nozzle member 70. 一方、ノズル部材70の排気流路64の他端部は、ノズル部材70の下面70A(キャビティ面78A)に形成された排気口62に接続されている。 On the other hand, the other end of the exhaust passage 64 of the nozzle member 70 is connected to the lower surface 70A outlet 62 formed in the (cavity surface 78A) of the nozzle member 70. ここで、ノズル部材70の内部に形成された排気流路64は、複数(2つ)の排気口62(62A、62B)のそれぞれにその他端部を接続可能なように途中から分岐している。 Here, the exhaust passage 64 formed in the nozzle member 70 is branched from the midway to be connectable to the other end to the respective exhaust ports 62 of the plurality of (two) (62A, 62B) .

そして、ノズル部材70をノズルホルダ92で保持することで、ノズル部材70の排気流路64の一端部とノズルホルダ92の排気流路65の他端部とが接続される。 Then, by holding the nozzle member 70 in nozzle holder 92, and the other end portion of the exhaust passage 65 at one end and the nozzle holder 92 of the exhaust passage 64 of the nozzle member 70 is connected. ここで、ノズルホルダ92の内部に形成された排気流路65の一端部は、排気管67を介して排気部61に接続しており、排気流路65の他端部は、ノズル部材70の内部に形成された排気流路64を介して投影光学系PLの像面側の気体を排出可能な排気口62に接続している。 Here, one end portion of the exhaust passage 65 formed inside the nozzle holder 92, through the exhaust pipe 67 is connected to an exhaust unit 61, the other end portion of the exhaust passage 65, the nozzle member 70 connecting the gas on the image plane side of the projection optical system PL to the exhaust port 62 can be discharged through the exhaust passage 64 formed therein. したがって、ノズルホルダ92の排気流路65は、排気部61とノズル部材70とを接続した構成となっている。 Therefore, the exhaust passage 65 of the nozzle holder 92 has a configuration of connecting the exhaust portion 61 and the nozzle member 70.

また、図4に示すように、ノズルホルダ92の排気流路65とノズル部材70の排気流路64との接続部には、気体あるいは液体LQの漏洩を阻止するシール部材133が設けられている。 Further, as shown in FIG. 4, the connection portion between the exhaust passage 64 of the exhaust passage 65 and the nozzle member 70 of the nozzle holder 92, the seal member 133 to prevent gas or liquid LQ leaks are provided . シール部材133は、シール部材130同様、Oリング等によって構成可能である。 Seal member 133, similar to the sealing member 130 is configurable by an O-ring or the like. シール部材133を設けたことにより、排気流路64、65を流れる気体あるいは液体LQの前記接続部からの漏洩が防止されている。 By providing the sealing member 133, leakage from the connection portion of the gas or the liquid LQ flowing in the exhaust passage 64, 65 is prevented.

排気部61の排気動作は制御装置CONTに制御される。 Exhaust operation of the exhaust part 61 is controlled by the control unit CONT. 制御装置CONTは、投影光学系PLの像面側の気体を排出するために、排気機構60の排気部61を駆動する。 The control unit CONT, in order to discharge the gas on the image plane side of the projection optical system PL, for driving the exhaust part 61 of the exhaust mechanism 60. 真空系を有する排気部61の駆動により、投影光学系PLの像面側の所定空間の気体は、排気口62を介して排気流路64に流入する。 By driving the exhaust unit 61 having a vacuum system, gas in the predetermined space on the image plane side of the projection optical system PL flows into the exhaust passage 64 via the exhaust port 62. 排気流路64に流入した液体LQは、ノズルホルダ92の排気流路65を流れた後、排気管67を介して排気部61に吸引回収される。 Liquid LQ that flows into the exhaust flow path 64, after flowing through the exhaust passage 65 of the nozzle holder 92, is sucked and recovered to the exhaust portion 61 through the exhaust pipe 67.

また、制御装置CONTは、真空系を有した排気部61を駆動し、投影光学系PLの像面側の光学素子2の近傍に配置されている排気口62A、62Bを介して、投影光学系PLの像面側の気体を排出(吸引)することで、その像面側の空間を負圧化することができる。 The control unit CONT drives the exhaust part 61 having a vacuum system, an exhaust port 62A, which is disposed in the vicinity of the optical element 2 of the image plane side of the projection optical system PL, via 62B, the projection optical system by the PL image plane side of the gas discharged (suction), it can be negative pressure space of the image plane side.

また、上述したように、排気部61は真空系及び気液分離器を備えているため、排気口62A、62Bを介して投影光学系PLの像面側の液体LQを回収することもできる。 Further, as described above, the exhaust unit 61, because this facilitates a vacuum system, and a gas-liquid separator, it is also possible to recover the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL outlet 62A, through 62B. したがって、排気機構60は、排気口62を介して、投影光学系PLの像面側の気体を排出可能であるとともに、液浸領域AR2の液体LQ中の気泡(気体部分)を液体LQとともに排出(回収、除去)可能である。 Thus, the exhaust system 60 via the exhaust port 62 discharging, along with the gas on the image plane side of the projection optical system PL can be discharged, bubbles in the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 (the gas portion) together with the liquid LQ (collection, removal) can be.

排気機構60を使って液浸領域AR2の液体LQ中の気泡を回収する場合、制御装置CONTは、排気機構60の排気部61を駆動する。 When using the exhaust mechanism 60 for recovering the gas bubbles in the liquid LQ of the liquid immersion area AR2, the controller CONT drives the exhaust part 61 of the exhaust mechanism 60. 真空系を有する排気部61の駆動により、投影光学系PLの像面側に形成された液浸領域AR2の液体LQの一部が排気口62を介して吸引回収される。 By driving the exhaust unit 61 having a vacuum system, a part of the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 formed on the image plane side of the projection optical system PL is sucked and recovered through the exhaust port 62. 液体LQ中に気泡が存在する場合、その気泡は液体LQとともに排気口62を介して吸引回収される。 If bubbles are present in the liquid LQ, the bubbles are sucked and recovered through the exhaust port 62 together with the liquid LQ.

図8はノズル部材70に形成された排気口62近傍を示す拡大断面図である。 Figure 8 is an enlarged sectional view showing the vicinity exhaust port 62 formed in the nozzle member 70. 図8に示すように、排気口62に接続された排気流路64のうち排気口62近傍は、排気口62に向かって漸次拡がる傾斜面63となっている。 As shown in FIG. 8, near the exhaust port 62 in the exhaust passage 64 connected to the exhaust port 62 is an inclined surface 63 that extends gradually toward the exhaust port 62. 更に、ノズル部材70の下面70Aのうち排気口62の周囲の所定領域AR3は、基板Pよりも離れるように形成された凹部68となっている。 Further, the predetermined region AR3 around the outlet 62 of the lower surface 70A of the nozzle member 70 has a recess 68 formed away than the substrate P. 凹部68の内側に排気口62が設けられていることにより、その排気口62は、凹部68周囲の下面70Aよりも基板Pに対して高い位置に設けられた構成となっている。 By being provided with the exhaust port 62 to the inside of the recess 68, the outlet 62 has a configuration that is provided at a higher position with respect to the substrate P than the recess 68 around the lower surface 70A. 更に、ノズル部材70の下面70Aにおいて、凹部68を設けられた領域AR3とその周囲の領域AR4との間には、基板P側に向かって漸次拡がる傾斜面69が形成されている。 Further, the lower surface 70A of the nozzle member 70, between the region provided with the recess 68 AR3 and the surrounding area AR4, inclined surface 69 which extends gradually toward the substrate P side. 換言すれば、凹部68の内側面が、基板P側に向かって漸次拡がるように形成されている。 In other words, the inner surface of the concave portion 68 is formed so as to extend progressively toward the substrate P side.

排気口62を凹部68の内側に形成し、周囲の下面70A(キャビティ面78A)よりも高い位置に設けたので、液浸領域AR2の液体LQ中に気泡(気体部分)が存在していても、その気泡は液体LQとの比重差により液体LQ中を上方に移動して排気口62より円滑且つ迅速に回収されるようになっている。 The exhaust port 62 is formed inside the recess 68, since there is provided at a position higher than the surrounding lower surface 70A (cavity surface 78A), be present bubble (gas portion) is in the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 , the bubbles are adapted to be recovered liquid LQ from the smoothly and rapidly exhaust port 62 moves upward by the difference in specific gravity between the liquid LQ. また、ノズル部材70に形成され、排気口62に接続された排気流路64のうち排気口62近傍を、排気口(出口)62に向かって漸次拡がるように形成するとともに、その排気口62の周囲に形成された凹部68の内側面も、基板P側に向かって漸次拡がるように傾斜させて形成したので、例えば光学素子2近傍にある気泡や下面70Aに付着した気泡は、傾斜面69や傾斜面63に沿って排気口62まで円滑に移動し、排気口62より円滑且つ迅速に回収される。 Further, formed in the nozzle member 70, the vicinity of the exhaust port 62 in the exhaust passage 64 connected to the exhaust port 62, thereby forming so as to extend progressively toward the outlet (outlets) 62, the exhaust port 62 inner surface of the concave portion 68 formed on the periphery also, since the formed inclined so so as to extend progressively toward the substrate P side, for example, air bubbles adhered to the air bubbles and the lower surface 70A in the optical element 2 near, Ya inclined surface 69 along the inclined surface 63 smoothly moves to the exhaust port 62 is smoothly and rapidly recovered from the exhaust port 62. 更に、本実施形態においては、傾斜面63と凹部68の上面68Aとの接続部や、上面68Aと傾斜面69との接続部に丸みを持たせ、角部が無い構成としたので、気泡が下面70A(キャビティ面78A)に沿って排気口62に移動するとき、その移動は円滑に行われる。 Further, in this embodiment, the connecting portion and the upper surface 68A of the inclined surface 63 and the recess 68, rounded to the connection portion of the upper surface 68A and the inclined surface 69, since the structure corners no bubbles when along the lower surface 70A (cavity surface 78A) moves to the exhaust port 62, its movement is smoothly performed.

また、上述したように、排気口62は投影光学系PL(光学素子2)の投影領域AR1の近傍に設けられているため、光学素子2に付着した気泡や、液浸領域AR2の液体LQ中のうち光学素子2近傍を浮遊している気泡は、排気口62を介して円滑且つ迅速に回収される。 As described above, the exhaust port 62 because it is provided in the vicinity of the projection area AR1 of the projection optical system PL (optical element 2), air bubbles and adhered to the optical element 2, the liquid LQ in the liquid immersion area AR2 bubbles are floating the optical element 2 near of is smoothly and rapidly recovered via the exhaust port 62. したがって、投影光学系PLの像面側の液体LQ中に気泡が存在する不都合を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent a disadvantage that there are bubbles in the image plane side of the liquid LQ of the projection optical system PL.

なお排気機構60に、液体供給機構10から供給された液体LQに更に液体LQを追加する機能、及び液体LQの一部を回収する機能を持たせておき、排気口62を介して液体LQの追加及び一部回収を行うことで、液体供給機構10から供給された液体LQの圧力を調整するようにしてもよい。 Note that the exhaust system 60, the ability to add more liquid LQ to the liquid LQ supplied from the liquid supply mechanism 10, and advance to have a function of recovering a part of the liquid LQ, the liquid LQ via the exhaust ports 62 by performing the addition and some recovery may be adjusting the pressure of the supplied liquid LQ from the liquid supply mechanism 10.

図5において、露光装置EXは、基板ステージPSTに保持されている基板P表面の面位置情報を検出するフォーカス・レベリング検出系120を備えている。 5, the exposure apparatus EX comprises a focus leveling detection system 120 that detects the surface position information about the surface of the substrate P that is held by the substrate stage PST. フォーカス・レベリング検出系120は、所謂斜入射方式のフォーカス・レベリング検出系であって、液浸領域AR2の液体LQを介して基板Pに斜め方向から検出光Laを投光する投光部121と、基板Pで反射した検出光Laの反射光を受光する受光部122とを備えている。 Focus leveling detection system 120, a focus leveling detection system Tokoroihasu incidence type, a light projecting portion 121 that projects the detecting light La from an oblique direction to the substrate P through the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 and a light receiving portion 122 for receiving the reflected light of the detection light La reflected by the substrate P. なお、フォーカス・レベリング検出系120の構成としては、例えば特開平8−37149号公報に開示されているものを用いることができる。 As the structure of the focus leveling detection system 120 can be used those disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-37149.

フォーカス・レベリング検出系120の投光部121は、投影光学系PLに対して+Y側に離れた位置に設けられ、受光部122は投影光学系PLに対して−Y側に離れた位置に設けられている。 Light projecting portion 121 of the focus leveling detection system 120 is provided away on the + Y side with respect to the projection optical system PL position, the light receiving portion 122 is provided at a distance on the -Y side with respect to the projection optical system PL It is. すなわち、投光部121及び受光部122は投影光学系PLの投影領域AR1を挟んでその両側にそれぞれ設けられている。 That is, the light projecting portion 121 and the light receiving portion 122 are provided on both sides of the projection area AR1 of the projection optical system PL.

ノズルホルダ92の下面のうち、穴部92H、70Hに配置された投影光学系PLを挟んで−Y側及び+Y側のそれぞれには、ノズル部材70の上面に対して離れるように形成された凹部92K、92Kがそれぞれ形成されている(図6参照)。 Of the lower surface of the nozzle holder 92, the hole 92H, recesses each of -Y side and + Y side across the projection optical system PL disposed 70H, which is formed away the upper surface of the nozzle member 70 92K, 92K are respectively formed (see FIG. 6). 同様に、ノズル部材70の上面のうち、投影光学系PLをを挟んで−Y側及び+Y側のそれぞれには、ノズルホルダ92の下面に対して離れるように形成された凹部70K、70Kがそれぞれ形成されている。 Similarly, the upper surface of the nozzle member 70, each of the -Y side and + Y side across the projection optical system PL, the recess is formed away the lower surface of the nozzle holder 92 70K, 70K, respectively It is formed. そして、ノズルホルダ92とノズル部材70との間であって投影光学系PLを挟んで−Y側及び+Y側のそれぞれには、凹部70K、92Kにより空間128、129が形成されている。 Then, each of the -Y side and + Y side at a by sandwiching the projection optical system PL between the nozzle holder 92 and nozzle member 70, recesses 70K, are formed spaces 128 and 129 by 92K.

ノズル部材70には、フォーカス・レベリング検出系120の一部を構成する第1光学部材123及び第2光学部材124が保持されている。 The nozzle member 70, the first optical member 123 and the second optical member 124 constituting a part of the focus leveling detection system 120 is held. 第1光学部材123は、フォーカス・レベリング検出系120の投光部121から射出された検出光Laを透過可能であり、第2光学部材124は、基板P上で反射した検出光Laを透過可能である。 The first optical member 123 is capable of transmitting the detection light La emitted from light projecting portion 121 of the focus leveling detection system 120, the second optical member 124 can transmit the detection light La reflected on the substrate P it is. 第1、第2光学部材123、124はプリズム部材により構成されている。 First and second optical members 123 and 124 is constituted by the prism member. ノズル部材70は、第1、第2光学部材123、124を配置可能な穴部123H、124Hを有しており、第1、第2光学部材123、124は、穴部123H、124Hに配置された状態で、ホルダ機構125、126によってノズル部材70に固定されている。 Nozzle member 70, first and second optical members 123, 124 a deployable hole 123H, has a 124H, first and second optical members 123 and 124 are disposed hole 123H, the 124H in state, it is fixed to the nozzle member 70 by the holder mechanism 125 and 126. また、本実施形態においては、ノズル部材70に固定された第1光学部材123は投影光学系PLに対して+Y側に設けられ、第2光学部材124は−Y側に設けられている。 In the present embodiment, the first optical member 123 fixed to the nozzle member 70 is provided on the + Y side with respect to the projection optical system PL, the second optical member 124 is provided on the -Y side.

また、ノズル部材70に保持された第1光学部材123の上部は、空間128に露出(突出)しており、第1光学部材123の下部は、ノズル部材70の下面70Aのキャビティ面78Aに形成された開口部123Kより露出している。 Further, the upper portion of the first optical member 123 held by the nozzle member 70 is exposed to the space 128 (protruding), the lower portion of the first optical member 123 is formed in the cavity surface 78A of the lower surface 70A of the nozzle member 70 It exposed than has been the opening 123K. 同様に、ノズル部材70に保持された第2光学部材124の上部は、空間129に露出(突出)しており、第2光学部材124の下部は、ノズル部材70の下面70Aのキャビティ面78Aに形成された開口部124Kより露出している。 Similarly, the upper portion of the second optical member 124 held by the nozzle member 70 is exposed to the space 129 (protruding), the lower portion of the second optical member 124, the cavity surface 78A of the lower surface 70A of the nozzle member 70 It is exposed from the formed opening 124K.

投光部121から射出された検出光Laは、空間128を通過した後、第1光学部材123の上部に入射する。 Detecting light La emitted from light projecting portion 121 passes through the space 128, is incident on the first optical member 123. 第1光学部材123の上部に入射した検出光Laは、第1光学部材123によって光路を折り曲げられ、開口部123Kを通過し、基板P上の液体LQを介して基板P表面に、投影光学系PLの光軸AXに対して所定の入射角で斜め方向から照射される。 Detecting light La incident on the first optical member 123, the optical path bent by the first optical member 123, passes through the opening 123K, the surface of the substrate P through the liquid LQ on the substrate P, the projection optical system It is irradiated from an oblique direction at a predetermined angle of incidence with respect to PL in the optical axis AX. 基板P上で反射した検出光Laの反射光は、開口部124Kを通過し、第2光学部材124に入射し、光路を折り曲げられ、第2光学部材124の上部より射出される。 The reflected light of the reflected detection light La on the substrate P passes through the opening 124K, incident on the second optical member 124, the optical path bent, and is emitted from the upper part of the second optical member 124. 第2光学部材124の上部より射出した検出光Laは、空間129を通過した後、受光部129に受光される。 Detecting light La emitted from the upper part of the second optical member 124, after passing through the space 129, is received by the light receiving portion 129. また、フォーカス・レベリング検出系120は、投光部121より基板P上に複数の検出光Laを照射することで、基板P上における例えばマトリクス状の複数の各点(各位置)での各フォーカス位置を求めることができ、求めた複数の各点でのフォーカス位置に基づいて、基板P表面のZ軸方向の位置情報、及び基板PのθX及びθY方向の傾斜情報を検出することができる。 The focus leveling detection system 120, by irradiating the plurality of detecting light La onto the substrate P from the light projecting portion 121, the focus, for example, a matrix of a plurality of points on the substrate P (the position) position can be determined, based on the focus position at a plurality of points obtained, position information in the Z axis direction of the surface of the substrate P, and it is possible to detect the inclination information of the θX and θY directions of the substrate P.

制御装置CONTは、フォーカス・レベリング検出系120の検出結果に基づいて、基板ステージ駆動装置PSTDを介して基板ステージPSTを駆動することにより、基板ステージPSTに基板ホルダPHを介して保持されている基板PのZ軸方向における位置(フォーカス位置)、及びθX、θY方向における位置を制御する。 The control unit CONT based on the detection results of the focus leveling detection system 120, by driving the substrate stage PST via the substrate stage drive apparatus PSTD, which is held via the substrate holder PH on the substrate stage PST substrate position in the Z axis direction P (focus position), and .theta.X, to control the position in the θY direction. すなわち、基板ステージPSTは、フォーカス・レベリング検出系120の検出結果に基づく制御装置CONTからの指令に基づいて動作し、基板Pのフォーカス位置(Z位置)及び傾斜角を制御して、基板Pの表面(被露光面)をオートフォーカス方式、及びオートレベリング方式で投影光学系PL及び液体LQを介して形成される像面に対して最適な状態に合わせ込む。 That is, the substrate stage PST is operated on the basis of the instruction from the control unit CONT based on the detection results of the focus leveling detection system 120, the focus position of the substrate P (Z position) and by controlling the tilt angle, of the substrate P surface Komu combined (exposed surface) autofocusing, and the optimum state with respect to the image plane formed via the projection optical system PL and the liquid LQ in the auto-leveling manner.

なお、本実施形態においては、フォーカス・レベリング検出系120の検出光Laは、YZ平面に略平行に照射されるが、XZ平面に略平行に照射されてもよい。 In the present embodiment, the detection light La of the focus leveling detection system 120 is being substantially parallel to irradiate the YZ plane may be substantially parallel to irradiate the XZ plane. その場合において、投光部121及び受光部122を投影領域AR1を挟んで±X側のそれぞれに設けるとともに、第1光学部材123及び第2光学部材124を投影領域AR1を挟んで±X側のそれぞれに設けるようにしてもよい。 In that case, is provided on each of the ± X side light projecting portion 121 and the light receiving section 122 across the projection area AR1, the ± X side of the first optical member 123 and the second optical member 124 sandwich the projection area AR1 it may be provided, respectively.

上述したように、第1光学部材123及び第2光学部材124はフォーカス・レベリング検出系120の光学系の一部を構成しているとともに、ノズル部材70の一部を構成している。 As described above, the first optical member 123 and the second optical member 124 constitutes a part of the optical system of the focus leveling detection system 120, and forms a part of the nozzle member 70. 換言すれば、本実施形態においては、ノズル部材70の一部がフォーカス・レベリング検出系120の一部を兼ねている。 In other words, in the present embodiment, a portion of the nozzle member 70 also serves as a part of the focus leveling detection system 120.

そして、ノズル部材70の下面70Aに凹部78を設けたことにより、フォーカス・レベリング検出系120は検出光Laを所定の入射角で基板P上の所望領域に円滑に照射することができる。 Then, by providing the concave portion 78 on the lower surface 70A of the nozzle member 70, the focus leveling detection system 120 can be smoothly radiated to a desired region on the substrate P with detection light La at a predetermined incident angle. ノズル部材70の下面70Aに凹部78を設けない構成の場合、つまりノズル部材70の下面70Aと光学素子2の下面(液体接触面)2Aとが面一の場合、フォーカス・レベリング検出系120の検出光Laを所定の入射角で基板Pの所望領域(具体的には、例えば基板P上の投影領域AR1)に照射しようとすると、検出光Laの光路上に例えばノズル部材70が配置されて検出光Laの照射が妨げられたり、あるいは検出光Laの光路を確保するために入射角や投影光学系PLの光学素子2の下面(液体接触面)2Aと基板P表面との距離(ワーキングディスタンス)を変更しなければならないなどの不都合が生じる。 For configuration without the concave portion 78 provided on the lower surface 70A of the nozzle member 70, i.e. the lower surface 70A and the lower surface (liquid contact surface) of the optical element 2 of the nozzle member 70 when 2A and is flush, the detection of the focus leveling detection system 120 desired region of the substrate P light La at a predetermined incident angle (specifically, for example, the projection area AR1 on the substrate P) If you try to irradiate the detection light La of the detection optical path, for example, is arranged a nozzle member 70 distance between the light La or irradiation is hindered, or the detection light underside (liquid contact surface) of the optical element 2 of the incidence angle and the projection optical system PL in order to secure the optical path of La 2A and the surface of the substrate P (working distance) caused inconvenience, such as must be changed. しかしながら、ノズル部材70の下面70Aのうち、フォーカス・レベリング検出系120の一部を構成するノズル部材70の下面70Aに凹部78を設けたことにより、投影光学系PLの光学素子2の下面(液体接触面)2Aと基板P表面との距離(ワーキングディスタンス)を所望の値に保ちつつ、フォーカス・レベリング検出系120の検出光Laの光路を確保して基板P上の所望領域に検出光Laを照射することができる。 However, of the lower surface 70A of the nozzle member 70, by providing the concave portion 78 on the lower surface 70A of the nozzle member 70 constituting a part of the focus leveling detection system 120, the lower surface of the optical element 2 of the projection optical system PL (liquid while keeping the distance between the contact surface) 2A and the substrate P surface (working distance) to a desired value, the detecting light beam La in a desired region on the substrate P by securing the optical path of the detecting light beam La of the focus leveling detection system 120 it can be irradiated.

図6に示すように、ノズル保持機構90(ノズルホルダ92)とノズル部材70とは分離可能である。 As shown in FIG. 6, the nozzle holding mechanism 90 (the nozzle holder 92) and the nozzle member 70 can be separated. メインコラム1に固定されたノズル保持機構90に対してノズル部材70を分離可能に設けたので、ノズル部材70をメンテナンスしたり、あるいはノズル部材70を新しいものと交換するときの作業性を向上することができる。 Is provided with the nozzle member 70 to be separated from the nozzle holding mechanism 90 which is fixed to the main column 1, to improve the workability when the nozzle member 70 to be replaced with a new maintenance or alternatively the nozzle member 70, be able to. そして、ノズル部材70に不具合が生じたときにも適切な処置を迅速に施すことができる。 And, it is quickly applied that appropriate action even when a problem occurs to the nozzle member 70. すなわち、ノズル部材70に直接配管17、27、37、67等を取り付けた構成では、ノズル部材70をメンテナンスしたり交換するとき、その配管(継手)とノズル部材70とを分離する作業が必要となり煩雑である。 That is, in the configuration attached directly pipes 17,27,37,67, etc. on the nozzle member 70, when replacing or maintenance of the nozzle member 70, requires a work to separate the piping (joint) and a nozzle member 70 it is complicated. ところが、配管をノズル保持機構90(ノズルホルダ92)に接続し、ノズルホルダ92に対してノズル部材70を容易に取り付け・外し可能としたので、煩雑な作業は不要となる。 However, a pipe connected to the nozzle holding mechanism 90 (nozzle holder 92), since the easily insert or remove the nozzle member 70 relative to the nozzle holder 92, complicated work is not required.

また、上述したように、ノズルホルダ92とノズル部材70とを所定の位置関係で接続することで、ノズルホルダ92に形成された内部流路15、25、35、65と、ノズル部材70に形成された内部流路14、24、34、64とのそれぞれを容易に接続することができる。 Further, as described above, by connecting the nozzle holder 92 and the nozzle member 70 in a predetermined positional relation, the inner passage 15,25,35,65 formed in the nozzle holder 92, formed in the nozzle member 70 each internal channel 14,24,34,64, which is can be easily connected. ここで、露光装置EXは、ノズルホルダ92とノズル部材70とを位置決めする位置決め機構91を備えている。 Here, the exposure apparatus EX is provided with a positioning mechanism 91 for positioning the nozzle holder 92 and the nozzle member 70. ノズルホルダ92とノズル部材70とを接続するときは、位置決め機構91を使って、ノズルホルダ92に対してノズル部材70を所定の位置関係で接続する。 When connecting the nozzle holder 92 and the nozzle member 70, with the positioning mechanism 91, to connect the nozzle member 70 in a predetermined positional relationship relative to the nozzle holder 92.

本実施形態においては、位置決め機構91は、図2や図6に示すように、ノズルホルダ92の下面に固定され、ノズルホルダ92とノズル部材70とを接続したときにノズル部材70の側面に当接可能な複数(3つ)の位置決め部材91A〜91Cを備えている。 In the present embodiment, the positioning mechanism 91, as shown in FIGS. 2 and 6, fixed to the lower surface of the nozzle holder 92, against the side surface of the nozzle member 70 when connected to the nozzle holder 92 and nozzle member 70 and a positioning member 91A~91C tangent possible plurality of (three). 本実施形態においては、位置決め部材91Aはノズル部材70の−Y側の側面に当接し、位置決め部材91B、91Cのそれぞれはノズル部材70の+X側の側面に当接するように設けられている。 In the present embodiment, the positioning member 91A contacts the side surface on the -Y side of the nozzle member 70, the positioning member 91B, each 91C is provided so as to contact the side surface of the + X side of the nozzle member 70.

ノズルホルダ92とノズル部材70とを位置決めする位置決め機構91を設けたので、ノズルホルダ92に形成された内部流路15、25、35、65と、ノズル部材70に形成された内部流路14、24、34、64とのそれぞれを良好に接続することができる。 Is provided with the positioning mechanism 91 for positioning the nozzle holder 92 and nozzle member 70, the internal passage 15,25,35,65 formed in the nozzle holder 92, an internal flow passage 14 formed in the nozzle member 70, each of 24,34,64 can be properly connected. また、上述したように、本実施形態においてはノズル部材70はフォーカス・レベリング検出系120の一部を構成する第1、第2光学部材123、124が固定されているため、その第1、第2光学部材123、124を設けられたノズル部材70の位置がずれると、フォーカス・レベリング検出系120の検出精度が劣化する可能性がある。 As described above, since the nozzle member 70 in the present embodiment in which the first constituting a part of the focus leveling detection system 120, the second optical member 123, 124 is fixed, the first, second When the position of the second optical members 123 and 124 a nozzle member 70 arranged to deviate, the detection accuracy of the focus leveling detection system 120 may deteriorate. ところが、メインコラム1に固定されているノズルホルダ92(ノズル保持機構90)に対してノズル部材70を位置決めする位置決め機構91によって、ノズル部材70をノズルホルダ92(ひいてはメインコラム1)に対して所定の位置関係で設置することができるので、そのノズル部材70に設けられた第1、第2光学部材123、124の位置も所望状態にすることができる。 However, given by a positioning mechanism 91 for positioning the nozzle member 70 with respect to the nozzle holder 92 is fixed to the main column 1 (the nozzle holding mechanism 90), the nozzle member 70 with respect to the nozzle holder 92 (and thus the main column 1) it is possible to install in a positional relationship of the can first provided in the nozzle member 70, the position of the second optical member 123, 124 to the desired state. したがって、フォーカス・レベリング検出系120の検出精度が劣化する不都合を防止できる。 Therefore, it is possible to prevent the disadvantage that the detection accuracy of the focus leveling detection system 120 is deteriorated.

また、位置決め機構91を設けたことにより、ノズル部材70をノズルホルダ92から外した後、そのノズルホルダ92に再び取り付けた場合などにおいても、供給口12や回収口22、32の位置の変動を防止することができる。 Further, by providing the positioning mechanism 91, after removing the nozzle member 70 from the nozzle holder 92, even in a case where reattached to the nozzle holder 92, a variation of the position of the supply port 12 and the recovery port 22, 32 it is possible to prevent. したがって、ノズル部材70をメンテナンス後にノズルホルダ92に取り付けたときや新たなものと交換したとき、供給口12による液体供給位置や回収口22、32による液体回収位置の変動を防止することができ、常に同じ液体供給位置条件及び液体回収位置条件で液体LQの供給及び回収を行うことができる。 Therefore, when exchanged with or a new one when attached to the nozzle holder 92 after maintenance the nozzle member 70, it is possible to prevent variation of the liquid recovery position by the liquid supply position and the recovery port 22, 32 by the supply port 12, always it is possible to supply and recovery of the liquid LQ at the same liquid supply position condition and the liquid recovery position condition.

なお、本実施形態においては、ノズル部材70は、メインコラム1に固定されたノズル保持機構90に保持されるようになっているが、所定の連結機構を介して、ノズル部材70をメインコラム1(下側段部8)に直接的に取り付ける構成であってもよい。 In the present embodiment, the nozzle member 70, but is adapted to be held by the nozzle holding mechanism 90 which is fixed to the main column 1, via a predetermined connecting mechanism, the main column 1 the nozzle member 70 it may be directly attached configuration (lower step 8). その場合においても、連結機構を、メインコラム1に対してノズル部材70を容易に分離可能な構成とすることが好ましい。 Also in this case, the coupling mechanism, it is preferable that the nozzle member 70 readily separates configurable to the main column 1.

ところで、本実施形態におけるノズル部材70は、図3〜図5に示したように、複数の部材71〜73を積層することで形成された積層体である。 Meanwhile, the nozzle member 70 in the present embodiment, as shown in FIGS. 3 to 5, a laminate formed by laminating a plurality of members 71-73. 本実施形態においては、ノズル部材70は第1〜第3部材71〜73の3つの板状部材によって構成されている。 In the present embodiment, the nozzle member 70 is constituted by three plate-like members of the first to third members 71 to 73. なお、ノズル部材70を形成する板状部材の数は任意である。 The number of the plate-like member forming the nozzle member 70 is arbitrary. 第1〜第3部材71〜73のそれぞれには、適宜孔や溝が形成されており、それら孔や溝どうしを接続するように第1〜第3部材71〜73を積層することで、各流路や開口が形成される。 Each of the first to third members 71 to 73 are appropriately holes or grooves formed by laminating the first to third members 71 to 73 to connect them holes or grooves with each other, each passage or opening is formed.

本実施形態において、第1部材71には、供給流路14、排気流路64、環状流路23、33等が形成され、第3部材73には、開口12、22、32、62が形成されている。 In this embodiment, the first member 71, the supply passage 14, the exhaust passage 64, like the annular channel 23, 33 is formed, the third member 73, openings 12,22,32,62 is formed It is. 第2部材72は、第1部材71と第3部材73との間に挟まれた状態で配置され、更に多孔体74、75と一体に形成されている。 The second member 72 is disposed in a state sandwiched between the first member 71 and third member 73, it is formed further integrated with the porous body 74, 75. つまり、第2部材72を第1部材71と第3部材73との間に挟み込んだ際に、第1部材71に形成された環状流路23、33と、第3部材73に形成された第1、第2回収口22、23との間に位置する領域に複数の孔部が設けられ、多孔体領域(以下、多孔体領域74、75と称する)が形成されている。 That is, when the sandwiched second member 72 between the first member 71 and third member 73, the annular channel 23 and 33 formed in the first member 71, formed in the third member 73 1, a plurality of holes in the region located between the second recovery port 22 is provided, the porous body region (hereinafter referred to as porous region 74, 75) are formed.

本実施形態においては、ノズル部材70を構成する第1〜第3部材71〜73のそれぞれは、ステンレス鋼(SUS316)によって形成されている。 In this embodiment, each of the first to third members 71 to 73 constituting the nozzle member 70, are made of stainless steel (SUS316). したがって、多孔体領域74、75もステンレス鋼(SUS316)によって形成されている。 Therefore, the porous body regions 74, 75 are also formed of stainless steel (SUS316).

第3部材73の下面(すなわちノズル部材70の下面70A)のうち投影領域AR1に対して第1回収口22の外側には環状の壁部141が形成されている。 The outer side of the first recovery port 22 with respect to the projection area AR1 of the lower surface of the third member 73 (i.e. the lower surface 70A of the nozzle member 70) is formed with an annular wall portion 141. 壁部141は基板P側に突出する凸部である。 Wall 141 is a protrusion protruding to the substrate P side. 本実施形態において、壁部141の下面と基板Pとの距離は、ランド面77と基板Pとの距離とほぼ同じである。 In the present embodiment, the distance between the lower surface and the substrate P of the wall portion 141 is substantially the same as the distance between the land surface 77 and the substrate P. 壁部141は、その内側の領域の少なくとも一部に液体LQを保持可能である。 Wall 141 is capable of holding the liquid LQ at least a portion of its inner region. 更に、第3部材73の下面(ノズル部材70の下面70A)において、投影領域AR1に対して壁部141の外側には第2壁部142及び第3壁部143が形成されている。 Further, the lower surface of the third member 73 (the lower surface 70A of the nozzle member 70) and the outer wall portion 141 is formed a second wall portion 142 and the third wall portion 143 with respect to the projection area AR1. 第2回収口32は、第2壁部142及び第3壁部143の間に形成された溝部の内側に設けられている。 The second recovery port 32 is provided inside of the formed groove between the second wall portion 142 and the third wall portion 143. これら第2、第3壁部142、143によって、ノズル部材70の下面70Aの外側(基板Pの外側)への液体LQの流出を更に確実に防止することができる。 These second, the third wall portion 142 and 143, the outflow of the liquid LQ to the outside of the lower surface 70A of the nozzle member 70 (the outside of the substrate P) can be prevented more securely.

図9は第1回収口22近傍の拡大断面図である。 Figure 9 is an enlarged sectional view of the vicinity first recovery port 22. なお以下の説明では第1回収口22及びこの第1回収口22に接続する第1回収流路23の途中に設けられた多孔体領域74について説明するが、第2回収口32及びこの第2回収口32に接続する第2回収流路33の途中に設けられた多孔体領域75も同等の構成を有するためその説明を簡略もしくは省略する。 Note in the following description will be described porous region 74 provided in the middle of the first recovery channel 23 connected to the first recovery port 22 and the first recovery port 22, but the second recovery port 32 and the second porous region 75 provided in the middle of the second recovery flow passage 33 connected to the recovery port 32 is also simplified or omitted because they have the same configuration.

多孔体領域74を有する第2部材72は、第1部材71と第3部材73との間に挟まれるように設けられている。 The second member 72 having a porous region 74 is provided so as to be sandwiched between the first member 71 and third member 73. 第2部材72を第1部材71と第3部材73とで所定の位置関係で挟むことで、多孔体領域74は、第1回収口22に接続する第1回収流路23の第1回収口22近傍に配置される。 By the second member 72 and the first member 71 interposed in a predetermined positional relationship between the third member 73, porous body region 74, the first recovery port of the first recovery channel 23 connected to the first recovery port 22 22 is disposed in the vicinity. 第1回収口22近傍に配置された多孔体領域74は、基板Pとノズル部材70との間に満たされた液体LQに接触する位置に設けられている。 Porous region 74 disposed near the first recovery port 22 is provided at a position in contact with the liquid LQ filled in the space between the substrate P and the nozzle member 70. 第1回収口22と第1回収流路23の途中に設けられた多孔体領域74との距離haは、少なくとも、液体LQの表面張力、及び第1回収流路23のうち少なくとも第1回収口22と多孔体領域74との間の液体LQとの親和性を考慮して設定されている。 The first recovery port 22 a distance ha between the porous region 74 provided in the middle of the first recovery flow path 23, at least, the liquid LQ of the surface tension, and at least a first recovery port of the first recovery flow passage 23 It is set in consideration of the 22 and affinity for the liquid LQ between the porous body region 74. 換言すれば、多孔体領域74に液浸領域AR2の液体LQが接触するように、第3部材73の厚みが設定されており、第3部材73の厚みは、液体LQの表面張力や第3部材73の液体LQとの親和性を考慮して、液体LQ表面が多孔体領域74に接触する厚みに設定されている。 In other words, as the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 makes contact with the porous body region 74 are set thickness of the third member 73, the thickness of the third member 73, the liquid LQ of the surface tension or the third taking into consideration the affinity for the liquid LQ of the member 73, the liquid LQ surface is set to a thickness that is in contact with the porous body region 74.

そして、第1回収流路23のうち多孔体領域74の下側の流路断面積(すなわち第3部材73によって形成されている流路(回収口)の断面積)と、上側の流路断面積(すなわち第1部材71によって形成されている流路の断面積)とはほぼ同じ値になるように設けられている。 Then, the lower side of the flow path cross-sectional area of ​​the porous region 74 of the first recovery flow passage 23 (i.e. the cross-sectional area of ​​the flow path (recovery port) formed by the third member 73), the upper flow path cross-sectional It is provided to be substantially equal to the area (i.e. the cross-sectional area of ​​the flow path formed by the first member 71).

次に、図10を参照しながらノズル部材70を製造する方法について説明する。 Next, a method of manufacturing a nozzle member 70 with reference to FIG. 図10(a)は、第1〜第3部材71〜73を有するノズル部材70を製造する方法を説明するための模式図である。 10 (a) is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a nozzle member 70 having a first through third members 71 to 73. 図10(a)に示すように、ノズル部材70は、多孔体領域74を有する第2部材72を、第1部材71と第3部材73とで挟み、それら部材71〜73を圧接することで形成されている。 As shown in FIG. 10 (a), the nozzle member 70, a second member 72 having a porous region 74, by a first member 71 sandwiched between the third member 73, to press them members 71-73 It is formed. 本実施形態においては、第1〜第3部材71〜73のそれぞれは、同じ材料(SUS316)で形成されているため、圧接を円滑に行うことができる。 In the present embodiment, each of the first to third members 71 to 73, because it is formed of the same material (SUS316), it is possible to perform the pressure smoothly.

そして、第1〜第3部材71〜73どうしを圧接することにより、接着剤等を用いることなく、これら第1〜第3部材71〜73どうしを接合することができる。 Then, by pressing was how the first to third members 71 to 73, without using an adhesive or the like, can be bonded to how these first to third members 71 to 73. したがって、液体LQ中に不純物が混入する不都合を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent a disadvantage that impurities are mixed into the liquid LQ.

例えば図10(b)に示すように、ノズル部材70を形成するための母材70'に、回収流路(環状流路)23に接続する段部70Dを設け、その段部70Dに多孔体領域74を接着剤等を用いて接合する構成が考えられる。 For example, as shown in FIG. 10 (b), the base material 70 'for forming the nozzle member 70 is provided with a step portion 70D which connects the recovery passageway (annular channel) 23, a porous body in the stepped portion 70D arrangement for joining area 74 with an adhesive or the like. その場合、液浸領域AR2を形成するための液体LQ中に、接着剤に起因する不純物が混入する不都合が生じる可能性がある。 In that case, the liquid LQ for forming the liquid immersion area AR2, there is a possibility that disadvantages impurities resulting from the adhesive is mixed results. 液体LQ中に不純物が混入すると、液体LQを介した露光処理や計測処理を良好に行うことができなくなる。 When impurities are mixed into the liquid LQ, it becomes impossible to perform the exposure process and measurement process through the liquid LQ satisfactorily. また、段部70Dを設けたことにより、回収流路23のうち多孔体領域74の下側の流路断面積に対して、上側の流路断面積が小さくならざるを得ず、多孔体領域74の上側の回収流路23が狭くなり、圧力損失を招いて液体LQを円滑に回収できなくなる可能性がある。 Further, by providing the stepped portion 70D, to the lower side of the flow path cross-sectional area of ​​the porous region 74 of the recovery path 23, the upper flow path cross-sectional area inevitably small, porous region upper recovery flow path 23 of the 74 becomes narrow, it may become impossible smoothly recover the liquid LQ inviting pressure loss. 特に本実施形態においては、液体回収機構20は圧力損失を可能な限り抑制することが好ましい。 Particularly, in the present embodiment, the liquid recovery mechanism 20 is preferably suppressed as much as possible the pressure loss.

また、多孔体領域74の孔の大きさは可能な限り小さいほうが望ましい。 The size of the pores of the porous body region 74 is as small it is desirable as possible. 上記多孔体(多孔体領域)74は、ステンレス鋼(SUS316)からなる基材(板部材)に孔あけ加工を施すことで形成されるが、加工精度上、小さい孔をあけるためには基材の厚みは薄いほうが好ましい。 The porous body (porous region) 74, a substrate made of stainless steel (SUS316) are formed by applying punching processing to a (plate member), on the machining accuracy, in order to open the small hole substrate the thickness of the thin it is preferable. 一方で、基材の厚みが薄く、その基材より形成された第2部材72の強度が十分でないと、その第2部材72(多孔体領域74)を上記段部70Dに取り付け難くなり、作業性が低下する。 On the other hand, a small thickness of the base material, the strength of the second member 72 formed from the base material is not sufficient, it and the second member 72 (the porous body region 74) hardly attached to the stepped portion 70D, working sex is reduced.

ところが、本実施形態においては、第1〜第3部材71〜73どうしを接着剤を用いることなく圧接することで、液体LQ中に不純物が混入する不都合を防止することができる。 However, in the present embodiment, by pressing without using an adhesive was how the first to third members 71 to 73, it is possible to prevent a disadvantage that impurities are mixed into the liquid LQ. また、第2部材72を第1部材71と第3部材73とで挟んで圧接する構成であるので、第2部材72の厚みが薄く、強度が十分でなくても、作業性の低下を招くことなくノズル部材70を円滑に形成することができる。 Further, since the second member 72 is configured for pressing by being sandwiched between the first member 71 and third member 73, a small thickness of the second member 72, the strength is not sufficient, leading to reduction in workability it can smoothly form a nozzle member 70 without. また、第2部材72を第1部材71と第3部材73とで挟んで圧接する構成であるので、図10(b)に示したような多孔体領域74を取り付けるための段部70Dを設ける必要がない。 Further, since the second member 72 is configured for pressing by being sandwiched between the first member 71 and the third member 73 is provided with a stepped portion 70D for attaching a porous region 74 as shown in FIG. 10 (b) there is no need. したがって、回収流路23のうち多孔体領域74の下側の流路断面積と、上側の流路断面積とをほぼ同じ値にすることができ、大きな圧力損失を招くことなく液体LQを円滑に回収できる。 Thus, a lower flow passage cross-sectional area of ​​the porous region 74 of the recovery flow passage 23, can be the upper flow path cross-sectional area substantially the same value, the liquid LQ without causing a large pressure loss smooth It can be recovered to.

このように、液体LQが流れる回収口22、32あるいはその回収口22、32に接続する回収流路(環状流路)23、33に多孔体領域74、75を設ける場合、ノズル部材70を複数の部材71〜73からなる積層体とし、その積層体を構成する複数の部材71〜73のうち少なくとも1つの部材72に多孔体領域74、75を設けるようにしたので、多孔体領域74、75を含むノズル部材70(第2部材72)の強度を維持しつつ設計の自由度を向上することができる。 Thus, in the case of providing the porous body region 74, 75 the recovery passageway (annular flow path) 23, 33 connected to the recovery port 22, 32 or the recovery port 22, 32 the liquid LQ flows, a plurality of nozzle members 70 and a stack of members 71 to 73, since the provided porous body regions 74, 75 to at least one of the members 72 of the plurality of members 71 to 73 constituting the laminated body, a porous body region 74, 75 it is possible to improve the degree of freedom in design while maintaining the strength of the nozzle member 70 (second member 72) comprising a. そして、ノズル部材70を上述したような構成とすることで、回収口22、32を介して液体LQの回収を行うとき、液体LQの回収に伴う振動の発生や不純物の溶出を抑え、液体LQの回収を効率良く行うことができるようにノズル部材70を形成することができる。 Then, by the structure described above the nozzle member 70, when performing the recovery of the liquid LQ via the recovery ports 22, 32, suppressing the elution of the vibration generation and impurities associated with the recovery of the liquid LQ, the liquid LQ it is possible to form the nozzle member 70 so as to be able to recovery efficiency. したがって、液浸領域AR2を所望状態に形成して、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 Therefore, to form the liquid immersion area AR2 in the desired state, it is possible to obtain a high exposure accuracy and measurement accuracy.

なお本実施形態においては、多孔体領域74(75)は第1回収流路(環状流路)23(第2回収流路(環状流路)33)の途中に設けられているが、多孔体を供給流路14の途中に設けてもよい。 In the present embodiment, the porous body region 74 (75) is provided in the middle of the first recovery line (annular channel) 23 (the second recovery flow passage (annular flow path) 33), the porous body the may be provided in the middle of the supply channel 14.

上述したように、多孔体領域74、75を含むノズル部材70はステンレス鋼、具体的にはSUS316(Cr18%+Ni12%+Mo2%)により構成されている。 As described above, the nozzle member 70 comprising a porous body region 74 and 75 of stainless steel, in particular is made of SUS316 (Cr18% + Ni12% + Mo2%). ノズル部材70のうち液浸領域AR2の液体LQに接触する液体接触面は、投影光学系PL(光学素子2)の液体接触面同様、液体LQに対する親和性が高い(親液性である)ことが望ましい。 The liquid contact surface that contacts the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 of the nozzle member 70, similar to the liquid contact surface of the projection optical system PL (optical element 2), (a lyophilic property) high affinity for the liquid LQ that It is desirable 投影光学系PL(光学素子2)の液体接触面及びノズル部材70の液体接触面を親液性にすることにより、投影光学系PL(光学素子2)の液体接触面及びノズル部材70の液体接触面と基板P(基板ステージPST)との間に液体LQを良好に保持して液浸領域AR2を形成することができる。 By the liquid contact surface and the liquid contact surface of the nozzle member 70 of the projection optical system PL (optical element 2) lyophilic, the liquid contact of the liquid contact surface and the nozzle member 70 of the projection optical system PL (optical element 2) it is possible to form the liquid immersion area AR2 in good hold the liquid LQ between the surface and the substrate P (substrate stage PST). また、回収口22、32に配置される多孔体領域74、75を親液性にすることにより、液浸領域AR2の液体LQを良好に回収することができる。 Further, the porous body regions 74 and 75 are disposed in the recovery port 22, 32 by the lyophilic, it is possible to satisfactorily recover the liquid LQ of the liquid immersion area AR2. ステンレス鋼(SUS316)は親液性を有しているため、ノズル部材70及び多孔体領域74、75を形成する材料として好ましい。 Since the stainless steel (SUS316) has a lyophilic property, the preferred materials for forming the nozzle member 70 and the porous body regions 74, 75.

また、ステンレス鋼(SUS316)は液体LQへの不純物の溶出量が少なく、耐食性に優れている。 Further, stainless steel (SUS316) is less elution of impurities into the liquid LQ, is excellent in corrosion resistance. また、ステンレス鋼(SUS316)は高い剛性を有しているため、そのステンレス鋼によって形成されたノズル部材70の共振周波数を高くすることができる。 Further, stainless steel (SUS316) is because it has a high rigidity, it is possible to increase the resonance frequency of the nozzle member 70 formed by the stainless steel. 一般に、発生する力によって励起する振動成分の周波数が高いほど露光精度への影響が少ないと考えられる。 In general, the frequency of the vibration component to be excited by a force generated is considered to influence on the higher exposure accuracy is small. したがって、ノズル部材70を剛性の高いステンレス鋼(SUS316)で形成し、ノズル部材70の共振周波数を高くすることが望ましい。 Therefore, to form the nozzle member 70 with high rigidity stainless steel (SUS316), it is desirable to increase the resonance frequency of the nozzle member 70. また、ステンレス鋼(SUS316)は、高い強度を有しているため、上述したように、多孔体領域74、75を含む第2部材72の厚みが薄くても、その多孔体領域74、75や第2部材72が変形や破損する不都合を防止することができる。 Further, stainless steel (SUS316), since it has a high strength, as described above, even if a small thickness of the second member 72 including the porous body regions 74, 75, Ya the porous region 74, 75 it can be the second member 72 to prevent a disadvantage that deformation or breakage.

このように、ノズル部材70を形成する材料を液体LQに対する親和性を考慮して決定することで、液浸領域AR2を形成するための液体LQを、投影光学系PLの像面側端面2Aを含むノズル部材70の液体接触面と基板Pとの間に良好に保持することができる。 Thus, the material forming the nozzle member 70 that determined in consideration of affinity for the liquid LQ, the liquid LQ for forming the liquid immersion area AR2, the image surface side end face 2A of the projection optical system PL it can be satisfactorily retained between the liquid contact surface and the substrate P of the nozzle member 70 including. したがって、液体LQの流出に起因して、基板Pや基板ステージPST周辺の部材及び機器に錆びや漏電等が生じたり、投影光学系PLの像面側端面2Aと基板P表面との間に気体部分が生成されるなどの不都合の発生を防止することができる。 Therefore, due to the outflow of the liquid LQ, a gas between the substrate P and the substrate stage PST peripheral members and or cause rust or electric leakage in the device, the image surface side end face 2A and the surface of the substrate P of the projection optical system PL it is possible to prevent the occurrence of inconvenience such portion is generated. また、ノズル部材70を形成する材料を液体LQへの不純物の溶出量を考慮して決定することで、液体LQ中にノズル部材70から不純物が溶出する不都合を防止することができる。 Further, the material forming the nozzle member 70 that determined in consideration of the amount of elution of impurities into the liquid LQ, it is possible to prevent a disadvantage that impurities are eluted from the nozzle member 70 in the liquid LQ. したがって、液浸領域AR2を所望状態に形成して、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 Therefore, to form the liquid immersion area AR2 in the desired state, it is possible to obtain a high exposure accuracy and measurement accuracy.

また、ノズル部材70に、液体LQへの不純物の溶出を抑えるための処理を施すことが好ましい。 Further, the nozzle member 70, is preferably subjected to processing for suppressing the elution of impurities into the liquid LQ. そのような処理としては、ノズル部材70に酸化クロムを付着する処理が挙げられ、例えば神鋼パンテック社の「GOLDEP」処理あるいは「GOLDEP WHITE」処理が挙げられる。 Such process, a process of attaching the chromium oxide on the nozzle member 70 can be mentioned, for example, by Shinko Pantec Co. "GOLDEP" process or "GOLDEP WHITE" treatment. このような表面処理を施すことにより、ノズル部材70や多孔体領域74、75から液体LQに不純物が溶出する不都合を更に抑制することができる。 By performing such surface treatment, a disadvantage that impurities from the nozzle member 70 and the porous body regions 74, 75 to the liquid LQ are eluted may be further suppressed. また、前記酸化クロムを付着する処理は、多孔体領域74、75、ノズル部材70の下面70A、ノズル部材70に形成された内部流路14、23、24、33、35、64など、液体LQに接触する領域に施すことができる。 Further, the processing of attaching chromium oxide, porous regions 74 and 75, the lower surface 70A of the nozzle member 70, and internal passages 14,23,24,33,35,64 formed in the nozzle member 70, the liquid LQ it can be applied to the area in contact with.

また、ノズル部材70や多孔体領域74、75に限らず、ノズルホルダ92をステンレス鋼(SUS316)で形成し、そのノズルホルダ92のうち少なくとも液体に接触する領域(例えばノズルホルダ92の内部流路15、25、35、65)に対して上記処理を施してもよい。 Further, not only the nozzle member 70 and the porous body regions 74, 75 to form a nozzle holder 92 of stainless steel (SUS316), internal channel region (e.g., the nozzle holder 92 in contact with at least the liquid of the nozzle holder 92 may be subjected to the processing for 15,25,35,65). あるいは供給管17や回収管23、37、排気管67等、液体LQに接触する部材をステンレス鋼で形成するとともに、上記処理を施すことももちろん可能である。 Alternatively the supply pipe 17 and recovery pipe 23, 37, etc. exhaust pipe 67, to form a member in contact with the liquid LQ of stainless steel, it is also possible to perform the above process.

なお、液体LQへの不純物の溶出を抑えるためにノズル部材70に施す処理としては、フッ素系樹脂を付着する処理も挙げられる。 Incidentally, as the processing performed on the nozzle member 70 in order to suppress the elution of impurities into the liquid LQ it can also include a process of adhering a fluorine-based resin. フッ素系樹脂のうち、特にPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)やPFA(テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体)を用いることが好ましい。 Among fluorine-based resin, it is particularly preferable to use a PTFE (polytetrafluoroethylene) and PFA (tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer). もちろん、このフッ素系樹脂を、ノズルホルダ92や、供給管17、回収管23、37、排気管67などに付着させてもよい。 Of course, the fluorine-based resin, and the nozzle holder 92, the supply pipe 17, recovery pipes 23, 37, may be attached such as the exhaust pipe 67.

また、本実施形態においては、図11に示すように、ノズル部材70のうち液浸領域AR2の液体LQに接触する液体接触領域SRは親液性であり、液体接触領域SR以外の領域HRは撥液性である。 In the present embodiment, as shown in FIG. 11, the liquid contact area SR in contact with the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 of the nozzle member 70 are lyophilic, the region HR except liquid contact region SR it is a liquid-repellent. 具体的には、親液性を有する親液領域SRは、投影光学系PL(光学素子2)の端面2A、ノズル部材70の下面70Aのうち、第1回収口22を含む領域及び第1回収口22よりも内側のキャビティ面78Aを含む領域、第2回収口32を含む領域である。 Specifically, the lyophilic region SR having lyophilic property, the end face 2A of the projection optical system PL (optical element 2), of the lower surface 70A of the nozzle member 70, the region and the first recovery includes a first recovery port 22 region including the inside of the cavity surface 78A than the mouth 22, a region including the second recovery port 32. また、上述したように、第1回収口22及び第2回収口32のそれぞれに設けられた多孔体領域74、75も親液性である。 As described above, the porous body regions 74 and 75 respectively provided in the first recovery port 22 and the second recovery port 32 is also lyophilic. 一方、撥液性を有する撥液領域HRは、第1回収口22の外側の領域であって第1回収口22を含む親液領域SRと第2回収口32を含む親液領域SRとの間の領域、第2回収口32の外側の領域、ノズル部材70の側面である。 On the other hand, the liquid repellent area HR with liquid repellency, the lyophilic region SR including the lyophilic areas SR and the second recovery port 32 including the first recovery port 22 a region outside the first recovery port 22 the region between the outer region of the second recovery port 32, a side of the nozzle member 70. なお本実施形態においては、第1回収口22の内側のランド面77は親液性であるが、撥液性であってもよい。 Note in the present embodiment, the inner land surface 77 of the first recovery port 22 is lyophilic, it may be a liquid repellent.

親液領域SRの液体LQとの接触角は50°以下であることが望ましく、本実施形態においては約5°となっている。 Contact angle between the liquid LQ of the lyophilic region SR is preferably not more than 50 °, is approximately 5 ° in this embodiment. また、撥液領域HRの液体LQとの接触角は60°以上であることが望ましい。 Further, the contact angle between the liquid LQ of the liquid repellent area HR is desirably 60 ° or more.

本実施形態においては、親液領域SRは親液化処理を施されて親液性を有している。 In the present embodiment, the lyophilic region SR has a lyophilic property is subjected to lyophilic treatment. 親液化処理としては、MgF 、Al 、SiO 等を付着させる処理が挙げられる。 The lyophilic process, a process of adhering a MgF 2, Al 2 O 3, SiO 2 and the like. あるいは、本実施形態における液体LQは極性の大きい水であるため、親液化処理(親水化処理)としては、例えばアルコールなど極性の大きい分子構造の物質で薄膜を形成することで、領域SRに親水性を付与することもできる。 Alternatively, since the liquid LQ in the present embodiment is a great water polarity, as the lyophilic treatment (hydrophilic treatment), by forming a thin film for example, with a substance of high polarity molecular structure such as alcohol, hydrophilic in the region SR It can also be provided to sex. すなわち、液体LQとして水を用いる場合にはOH基など極性の大きい分子構造を持ったものを前記領域SRに設ける処理が可能である。 That is, when water is used as the liquid LQ is possible processes to provide those with large molecular structures of the polar such as OH groups in the region SR.

また本実施形態においては、撥液領域HRは撥液化処理を施されて撥液性を有している。 In this embodiment also, the liquid repellent area HR is subjected to liquid-repelling treatment has liquid repellency. 撥液化処理としては、例えば、ポリ四フッ化エチレン等のフッ素系樹脂材料、アクリル系樹脂材料、シリコン系樹脂材料等の撥液性材料を塗布、あるいは前記撥液性材料からなる薄膜を貼付する等の処理が挙げられる。 As the lyophobic process, for example, be affixed polyquaternary fluororesin material polytetrafluoroethylene, etc., an acrylic resin material, applying a liquid-repellent material of the silicon-based resin material or the like, or a thin film made of the liquid-repellent material processing of and the like. あるいは、撥液化処理を施さずに、例えばノズル部材70の一部をポリ四フッ化エチレンやアクリル系樹脂などの撥液性を有する材料によって形成することで、撥液性にすることもできる。 Alternatively, without performing the lyophobic process, for example, a portion of the nozzle member 70 by forming a material having liquid repellency such as polytetrafluoroethylene and acrylic resins may be liquid-repellent.

また、上記親液化処理及び撥液化処理を含む表面処理のための膜は、単層膜であってもよいし複数の層からなる膜であってもよい。 Further, the film for the surface treatment including the lyophilic process and repellency treatment may be a single layer film or a film formed of a plurality of layers. 親液性にするための親液性材料又は撥液性にするための撥液性材料としては液体LQに対して非溶解性の材料が用いられる。 The liquid-repellent material to the lyophilic material or liquid repellency to the lyophilic insoluble material is used for the liquid LQ.

このように、ノズル部材70のうち液浸領域AR2の液体LQに接触する液体接触領域SRを親液性とし、液体接触領域SR以外の領域を撥液性とすることで、投影光学系PLの像面側端面2Aを含むノズル部材70の液体接触面と基板Pとの間に液浸領域AR2を形成するための液体LQを良好に保持することができる。 Thus, the liquid contact area SR in contact with the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 of the nozzle member 70 is lyophilic, the region other than the liquid contact area SR by liquid repellent, the projection optical system PL the liquid LQ for forming the liquid immersion area AR2 between the liquid contact surface and the substrate P of the nozzle member 70 including the image surface side end face 2A can be maintained satisfactorily. したがって、液浸領域AR2を所望状態に形成して、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 Therefore, to form the liquid immersion area AR2 in the desired state, it is possible to obtain a high exposure accuracy and measurement accuracy.

次に、上述した構成を有する露光装置EXを用いてマスクMのパターン像を基板Pに露光する方法について図12に示す模式図を参照しながら説明する。 Next, the pattern image of the mask M will be described with reference to the schematic diagram shown in FIG. 12 for the method for exposing the substrate P by using the exposure apparatus EX constructed as described above.

マスクMがマスクステージMSTにロードされるとともに、基板Pが基板ステージPSTにロードされた後、基板Pの走査露光処理を行うに際し、制御装置CONTは液体供給機構10を駆動し、基板P上に対する液体供給動作を開始する。 The mask M is loaded on the mask stage MST, after the substrate P is loaded on the substrate stages PST, when performing the scanning exposure process for the substrate P, controller CONT drives the liquid supply mechanism 10, with respect to the upper substrate P to start the liquid supply operation. 液浸領域AR2を形成するために液体供給機構10の液体供給部11から供給された液体LQは、図12(a)に示すように、供給口12より投影光学系PLの像面側に供給される。 Liquid LQ supplied from the liquid supply unit 11 of the liquid supply mechanism 10 in order to form the liquid immersion area AR2, as shown in FIG. 12 (a), supplied to the image plane side of the projection optical system PL from the supply ports 12 It is.

なお、基板Pの露光を行う前であって、投影光学系PLの像面側に液浸領域AR2を形成するときの液体供給動作は、投影光学系PLと基板Pとを対向した状態で行ってもよいし、投影光学系PLと基板ステージPST上の所定領域(例えば上面51)とを対向した状態で行ってもよい。 Incidentally, even before performing the exposure for the substrate P, the liquid supply operation for forming the liquid immersion area AR2 on the image plane side of the projection optical system PL, performed while facing the projection optical system PL and the substrate P it may be, and may be performed in the opposite state a predetermined region on the projection optical system PL and the substrate stage PST (for example, top surface 51). また、基板Pの露光を行う前に投影光学系PLの像面側に液浸領域AR2を形成するときは、基板ステージPSTを停止した状態で行ってもよいし、微動させた状態で行ってもよい。 Further, when forming the liquid immersion area AR2 on the image plane side of the projection optical system PL before performing the exposure for the substrate P may be performed in a state of stopping the substrate stages PST, performed in a state in which finely it may be.

制御装置CONTは、液浸領域AR2を形成するために液体供給機構10を使って液体LQの供給を開始するときに、第1液体回収機構20の第1液体回収部21を駆動するとともに、排気機構60の排気部61を駆動する。 The control unit CONT, when using the liquid supply mechanism 10 in order to form the liquid immersion area AR2 to start the supply of the liquid LQ, drives the first liquid recovery portion 21 of the first liquid recovery mechanism 20, the exhaust driving the exhaust part 61 of the mechanism 60. 真空系を有する排気部61が駆動されることにより、投影光学系PLの像面側の光学素子2近傍に設けられている排気口62から、投影光学系PLの像面側近傍の空間の気体が排出され(排気され)、その空間が負圧化される。 By the exhaust unit 61 having the vacuum system is driven, the exhaust port 62 provided in the optical element 2 near the image plane side of the projection optical system PL, the gas space of the image surface side near the projection optical system PL There (exhausted) is exhausted, the space is a negative pressure. このように、制御装置CONTは、排気機構60の排気部61を駆動し、投影光学系PLの投影領域AR1の近傍に配置された排気口62を介して、投影光学系PLの像面側の気体の排出を行いながら、液浸領域AR2を形成するための液体供給機構10による液体供給を開始する。 Thus, the control unit CONT drives the exhaust part 61 of the exhaust mechanism 60, through the exhaust port 62 disposed in the vicinity of the projection area AR1 of the projection optical system PL, the image plane side of the projection optical system PL while the discharge of gas, starting the liquid supply by the liquid supply mechanism 10 for forming the liquid immersion area AR2.

本実施形態においては、投影光学系PLの像面側にはノズル部材70の凹部78が形成されているため、液浸領域AR2を形成するために液体LQを供給した際、供給した液体LQが凹部78に入り込まず、液浸領域AR2の液体LQ中に気泡などの気体部分が生成されたり、液体LQ中に気体が混入する可能性が高くなる。 In the present embodiment, since the image plane side of the projection optical system PL are formed recesses 78 of the nozzle member 70, when the supply of the liquid LQ for forming the liquid immersion area AR2, the liquid LQ is that supplied not enter the recess 78, or are generated gas portion of the bubbles in the liquid LQ of the liquid immersion area AR2, possibility of gas contamination is high in the liquid LQ. ところが、本実施形態においては、投影光学系PLの投影領域AR1の近傍に配置された排気口62を介して投影光学系PLの像面側の気体の排出を行いながら、液体供給機構10による液体LQの供給を開始しているので、凹部78に液体LQを円滑に配置することができる。 However, in the present embodiment, while the discharge of the gas on the image plane side of the projection optical system PL via the air outlet 62 arranged in the vicinity of the projection area AR1 of the projection optical system PL, the liquid by the liquid supply mechanism 10 since the start of the supply of LQ, it is possible to smoothly arrange the liquid LQ into the recess 78. つまり、排気口62より排気することで排気口62近傍が負圧化されるので、供給した液体LQをその負圧化された負圧化領域(空間)に円滑に配置することができる。 That is, since the vicinity of the exhaust port 62 by the exhaust from the exhaust port 62 is negative pressure, it is possible to smoothly place the supplied liquid LQ to the negative pressure is negative pressure regions (spaces). したがって、投影光学系PLの像面側に形成される液浸領域AR2に気体部分が生成されたり、液浸領域AR2を形成するための液体LQ中に気泡が混入する不都合を防止することができ、凹部78の内側に配置された投影光学系PLの光学素子2の液体接触面2Aを液体LQで良好に覆うことができる。 Therefore, it is possible to prevent a disadvantage that or the gas portion is generated in the liquid immersion area AR2 formed on the image plane side of the projection optical system PL, bubbles in the liquid LQ for forming the liquid immersion area AR2 mixed can be satisfactorily cover the liquid contact surface 2A of the optical element 2 of the inside arranged projection optical system PL of the recess 78 in the liquid LQ. したがって、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 Therefore, it is possible to obtain high exposure accuracy and measurement accuracy. また、液体LQ中に気泡などの気体部分が存在しても、排気口62よりその気泡(気体部分)を吸引して除去することができるので、液体LQ中に気泡が混入(存在)する不都合を防止することができる。 Moreover, even if there is a gas portion of the bubbles in the liquid LQ, it can be removed by suction and the air bubbles from the exhaust port 62 (gas portion), inconvenience that the bubbles are mixed (present) in the liquid LQ it is possible to prevent.

また、凹部78のキャビティ面78Aに設けられた排気口62から排気を行いつつ、凹部78のキャビティ面78Aに設けられた供給口12から液体LQを供給することにより、凹部78(露光光ELの光路)を液体LQで迅速に満たすことができる。 Further, while performing the exhaust from the exhaust port 62 provided in the cavity surface 78A of the recess 78, from the supply port 12 provided in the cavity surface 78A of the recess 78 by feeding the liquid LQ, the recess 78 (the exposure light EL the optical path) can be filled rapidly with the liquid LQ. したがって、スループットを向上することができる。 Accordingly, throughput can be improved.

また、本実施形態においては、ノズル部材70の下面70A(キャビティ面78A)において、気体を排出可能な排気口62の周囲の所定領域AR3は基板Pよりも離れるように形成された凹部68となっているので、投影光学系PLの像面側に液体LQの供給を開始したとき、供給した液体LQ中に仮に気泡(気体部分)が存在しても、その気体は液体LQとの比重差により上方に移動して排気口62より円滑且つ迅速に排出される。 In the present embodiment, the lower surface 70A of the nozzle member 70 (cavity surface 78A), a predetermined area AR3 of the ambient gas a drainable outlet 62 is a recess 68 formed away than the substrate P since it is, when starting the supply of the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL, even if there bubble (gas portion) is in the liquid LQ, which is supplied, the gas specific gravity difference between the liquid LQ It is smoothly and quickly discharged from the exhaust port 62 moves upward.

液体供給機構10の供給口12を介した液体LQの供給と、第1液体回収機構20の第1回収口22を介した液体LQの回収とを並行して行うことにより、やがて、図12(b)に示すように、投影光学系PLと基板Pとの間に、投影領域AR1を含むように、基板Pよりも小さく且つ投影領域AR1よりも大きい液浸領域AR2が局所的に形成される。 The supply of the liquid LQ via the supply ports 12 of the liquid supply mechanism 10, by performing in parallel with the recovery of the liquid LQ via the first recovery port 22 of the first liquid recovery mechanism 20, eventually, 12 ( as shown in b), a space between the projection optical system PL and the substrate P, the liquid immersion area AR2 is locally formed larger than the small and the projection area AR1 than the way, the substrate P including the projection area AR1 . 液体LQの液浸領域AR2は、投影領域AR1を含むように実質的に環状の第1回収口22で囲まれた領域内であって且つ基板P上の一部に局所的に形成される。 The liquid LQ of the liquid immersion area AR2 is locally formed on a part on a the enclosed by the first recovery port 22 of the substantially annular so as to include the projection area AR1 region and the substrate P. なお、液浸領域AR2は少なくとも投影領域AR1を覆っていればよく、必ずしも第1回収口22で囲まれた領域全体が液浸領域にならなくてもよい。 Incidentally, it is sufficient to cover at least the projection area AR1 liquid immersion area AR2 is not necessarily the entire enclosed area in the first recovery port 22 may not be the liquid immersion area.

液浸領域AR2を形成した後、図12(c)に示すように、制御装置CONTは、投影光学系PLと基板Pとを対向した状態で、基板Pに露光光ELを照射し、マスクMのパターン像を投影光学系PLと液体LQとを介して基板P上に露光する。 After forming the liquid immersion area AR2, as shown in FIG. 12 (c), the control unit CONT, while facing the projection optical system PL and the substrate P, is irradiated with the exposure light EL onto the substrate P, the mask M exposing the substrate P with the pattern image via the liquid LQ projection optical system PL. 基板Pを露光するときは、制御装置CONTは、液体供給機構10による液体LQの供給と並行して、第1液体回収機構20による液体LQの回収を行いつつ、基板Pを支持する基板ステージPSTをX軸方向(走査方向)に移動しながら、マスクMのパターン像を投影光学系PLと基板Pとの間の液体LQ及び投影光学系PLを介して基板P上に投影露光する。 When exposing the substrate P, controller CONT, in parallel with the supply of the liquid LQ by the liquid supply mechanism 10, while performing recovery of the liquid LQ by the first liquid recovery mechanism 20, the substrate stage PST which supports a substrate P the while moving in the X axis direction (scanning direction), a pattern image of the mask M via the liquid LQ and the projection optical system PL between the projection optical system PL and the substrate P to the projection exposure onto the substrate P. このとき制御装置CONTは、液体供給機構10の単位時間あたりの液体供給量を調整しつつ、供給口12A、12Bを介して、液体LQを供給する。 At this time, the control unit CONT, while adjusting the liquid supply amount per unit time of the liquid supply mechanism 10, through the supply port 12A, 12B, and supplies the liquid LQ. また、基板Pを露光中においては、制御装置CONTは、フォーカス・レベリング検出系120を使って、液体LQを介して基板P表面の位置情報を検出し、その検出結果に基づいて、投影光学系PLによる像面と基板P表面とを合致させるように、例えば基板ステージPSTを駆動しつつ、露光を行う。 Further, during the exposure of the substrate P, the control apparatus CONT uses the focus leveling detection system 120 detects the position information of the substrate P surface via the liquid LQ, based on the detection result, the projection optical system PL so as to coincide with the image plane and the surface of the substrate P by, for example, while driving the substrate stages PST, to perform exposure.

本実施形態においては、液体供給機構10の供給流路14のうち供給口12近傍は、供給口12に向かって漸次拡がる傾斜面13となっており、基板P(基板ステージPST)上に供給される液体LQの基板Pに対する力が分散される。 In the present embodiment, the supply ports 12 near one of the supply channel 14 of the liquid supply mechanism 10 is an inclined surface 13 that extends gradually toward the supply port 12, is supplied onto the substrate P (substrate stage PST) force on the substrate P of the liquid LQ is dispersed that. したがって、供給した液体LQが基板Pや基板ステージPSTに及ぼす力を抑制することができる。 Therefore, it is possible to supply the liquid LQ suppresses the force exerted on the substrate P and the substrate stage PST. 液体LQが及ぼす力によって基板Pが変形すると、基板P上に投影されるパターン像が劣化したり、フォーカス・レベリング検出系120の計測精度が劣化するなどの不都合が生じる。 When the substrate P by the force the liquid LQ on is deformed, or pattern image deterioration projected onto the substrate P, the measurement accuracy of the focus leveling detection system 120 is an inconvenience such as degradation occurs. また、基板Pのエッジ領域を液浸露光するときに、液体LQの力により基板Pのエッジ領域が押されると、基板Pのエッジ領域と基板ステージPSTの上面51との高さ位置がずれ、投影光学系PLの像面側に液体LQを良好に保持することが困難となり、液体LQが漏出する可能性も高くなる。 Further, when the liquid immersion exposure of the edge area of ​​the substrate P, the edge area of ​​the substrate P by the force of the liquid LQ is pressed, it shifts the height position of the upper surface 51 of the edge region and the substrate stage PST of the substrate P, satisfactorily it is difficult to retain the liquid LQ on the image plane side of the projection optical system PL, the liquid LQ is also more likely to leak. ところが、本実施形態においては、液体LQが基板Pに及ぼす力が抑制されているので、供給された液体LQにより基板Pが変形を生じたり、液体LQが漏出する等の不都合を防止することができ、高い露光精度及び計測精度を得ることができる。 However, in the present embodiment, since the force the liquid LQ on the substrate P is suppressed, or cause the substrate P is deformed by the supplied liquid LQ, it is possible to prevent inconveniences such that the liquid LQ leaks can, it is possible to obtain a high exposure accuracy and measurement accuracy.

基板Pを露光中においても、制御装置CONTは、排気機構60の排気口62を介した液浸領域AR2の液体LQの一部の回収を継続する。 Even during exposure of the substrate P, the control unit CONT continues the recovery of part of the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 via the exhaust ports 62 of the exhaust mechanism 60. こうすることにより、基板Pの露光中に、何らかの原因で仮に液浸領域AR2の液体LQ中に気泡が混入したり、気体部分が生成されても、その気泡(気体部分)を、排気口62を介して回収、除去することができる。 By doing so, the during the exposure of the substrate P, or air bubbles mixed in the liquid LQ in if the liquid immersion area AR2 for some reason, even if the gas portion is generated, the bubble (gas portion), an exhaust port 62 It recovered through can be removed. 特に、排気口62は、第1回収口22よりも投影光学系PLの光学素子2の近傍に配置されているので、投影光学系PLの光学素子2近傍に存在する気泡などを素早く回収することができる。 In particular, the exhaust port 62, because it is arranged in the vicinity of the optical element 2 of the projection optical system PL than the first recovery port 22, to quickly recover the air bubbles present in the optical element 2 near the projection optical system PL can.

なお、基板Pの露光中においては、排気機構60による排気口62を介した液浸領域AR2の液体LQの一部の回収を停止してもよい。 Incidentally, during the exposure of the substrate P, and the recovery of part of the liquid LQ in the liquid immersion area AR2 may be stopped through the exhaust port 62 by the exhaust mechanism 60.

基板Pの液浸露光が終了した後、制御装置CONTは、第1液体回収機構20の第1回収口22、第2液体回収機構30の第2回収口23、及び排気機構60の排気口62を介して、基板P上や基板ステージPST上に残留した液体LQを回収する。 After the immersion exposure of the substrate P is completed, the control unit CONT, the first recovery port 22 of the first liquid recovery mechanism 20, the exhaust port 62 of the second recovery ports 23 and the exhaust mechanism 60, the second liquid recovery mechanism 30 through, to recover the liquid LQ remaining on the substrate P and the substrate stage PST. そして、基板P上の液体LQの回収動作を終了した後、露光処理を終えた基板Pは基板ステージPSTよりアンロードされる。 Then, after completion of the recovery operation of the liquid LQ on the substrate P, the substrate P having been subjected to the exposure process is unloaded from the substrate stage PST.

また、基板P上の液浸領域AR2の液体LQを第1液体回収機構20の第1回収口22を介して回収しきれなかった場合、その回収しきれなかった液体LQは第1回収口22の外側に流出するが、図12(d)に示すように、第2液体回収機構30の第2回収口32を介して回収されるので、液体LQの流出を防止することができる。 Also, if that has not recovered the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 on the substrate P via the first recovery port 22 of the first liquid recovery mechanism 20, the recovered not liquid LQ completely the first recovery port 22 of it flows out to the outside, as shown in FIG. 12 (d), since the recovered via the second recovery port 32 of the second liquid recovery mechanism 30, it is possible to prevent the outflow of the liquid LQ. また、第1液体回収機構20に何らかの異常が生じて液体回収動作不能となった場合や、液体供給機構10に何らかの異常が生じて誤作動し、大量に液体LQが供給されてしまって第1液体回収機構20だけでは液体LQを回収しきれない場合でも、第2液体回収機構30で液体LQを回収することができ、液体LQの流出を防止することができる。 Further, and when it becomes that some abnormality is disabled liquid recovery operation occurring in the first liquid recovery mechanism 20, and some abnormality occurs in malfunctioning in the liquid supply mechanism 10, got in large quantities supplied liquid LQ first even if only the liquid recovery mechanism 20 which can not be recovered the liquid LQ, the second liquid recovery mechanism 30 can recover the liquid LQ, it is possible to prevent the outflow of the liquid LQ. したがって、流出した液体LQに起因する機械部品等の錆びや駆動系の漏電の発生、あるいは流出した液体LQの気化による基板Pの置かれている環境変動を防止することができ、露光精度及び計測精度の劣化を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent environmental variation that is placed with the substrate P by the mechanical generation of components such as rust and the drive system leak, or spilled vaporization of the liquid LQ due to the outflow liquid LQ, the exposure accuracy and the measurement it is possible to prevent the accuracy of the deterioration. この場合、第2液体回収機構30にマスフローコントローラ等を設けておき、第2液体回収機構30で液体LQが回収されたときに、液体供給機構10からの液体供給を止めるようにしてもよい。 In this case, it may be provided a mass flow controller or the like to the second liquid recovery mechanism 30, when the liquid LQ is recovered by the second liquid recovery mechanism 30, it is possible to stop supply of the liquid from the liquid supply mechanism 10.

また、第2液体回収機構30は無停電電源100Bを有しており、第1液体回収機構20を含む露光装置EX全体の駆動源である商用電源100Aが停電などの異常を生じても、第2液体回収機構30に対する電力の供給は無停電電源100Bに切り替わるので、第2液体回収機構30で液体LQを良好に回収することができる。 The second liquid recovery mechanism 30 has an uninterruptible power 100B, even if the commercial power source 100A, which is a driving source of the entire exposure apparatus EX including the first liquid recovery mechanism 20 is caused to abnormality such as a power failure, the since the power supply to the second liquid recovery mechanism 30 is switched to the uninterruptible power 100B, may be in the second liquid recovery mechanism 30 to satisfactorily recover the liquid LQ. したがって、液体LQの流出を防止することができ、また、基板P上に残留した液体LQを放置せずに第2液体回収機構30で回収できるので、基板Pを支持する基板ステージPST周辺の機械部品の錆びや故障、あるいは基板Pの置かれている環境変動等といった不都合の発生を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent the outflow of the liquid LQ, Since it recovered by the second liquid recovery mechanism 30 without leaving the liquid LQ remaining on the substrate P, near the substrate stage PST which supports a substrate P machine parts of rust or malfunction, or the occurrence of problems such environmental changes or the like which is placed the substrate P can be prevented.

例えば商用電源100Aが停電したとき、無停電電源100Bは、第2液体回収機構230を構成する例えば真空系の電力駆動部、気液分離器の電力駆動部等に対してそれぞれ電力を供給する。 For example, when the commercial power supply 100A has a power failure, the uninterruptible power supply 100B, for example the power drive of the vacuum system constructing the second liquid recovery mechanism 230 supplies power respectively to the power drive unit, etc. of the gas-liquid separator. 具体的には、商用電源100Aが停電したとき、無停電電源100Bは、第2液体回収機構30に対する電力供給を、例えば内蔵バッテリに切り替えて無瞬断給電する。 Specifically, when the commercial power supply 100A has a power failure, the uninterruptible power supply 100B is a power supply to the second liquid recovery mechanism 30, for example, switch to the internal battery to uninterruptible power supply. その後、無停電電源100Bは、長時間の停電に備えて、内蔵発電機を起動し、第2液体回収機構30に対する電力供給をバッテリから発電機に切り替える。 Thereafter, the uninterruptible power supply 100B is provided to extended outages, to start the internal generator is switched to the generator supplying power to the second liquid recovery mechanism 30 from the battery. こうすることにより、商用電源100Aが停電しても、第2液体回収機構30に対する電力供給が継続され、第2液体回収機構30による液体回収動作を維持することができる。 By doing so, even if power failure commercial power 100A, the power supply is continued to the second liquid recovery mechanism 30, it is possible to maintain the liquid recovery operation by the second liquid recovery mechanism 30. なお、無停電電源100Bとしては上述した形態に限られず、公知の無停電電源を採用することができる。 As the UPS 100B is not limited to the embodiments described above, it may be a known UPS. また、本実施形態では、商用電源100Aが停電したときのバックアップ電源として無停電電源装置を例にして説明したが、もちろん、バックアップ電源としてバックアップ用バッテリを用い、商用電源100Aの停電時に、そのバッテリに切り替えるようにしてもよい。 Further, in the present embodiment, the commercial power supply 100A has been described as an example an uninterruptible power supply as a backup power source when the power failure, of course, using a backup battery as a backup power source, in case of power failure of the commercial power supply 100A, the battery it may be switched to.

なお、商用電源100Aが停電したとき、無停電電源100Bは、基板Pを保持する基板ホルダPHの吸着機構に電力を供給するようにしてもよい。 Incidentally, when the commercial power supply 100A has a power failure, the uninterruptible power supply 100B may be adapted to supply power to the suction mechanism of the substrate holder PH which holds the substrate P. こうすることにより、商用電源100Aが停電した場合であっても基板ホルダPHによる基板Pの吸着保持を維持することができるので、停電によって基板ステージPSTに対する基板Pの位置ずれが生じない。 By doing so, it is possible to maintain the suction holding of the substrate P by also the substrate holder PH in a case where the commercial power supply 100A has a power failure, does not occur positional deviation of the substrate P with respect to the substrate stage PST by the power outage. したがって、停電復帰後において露光動作を再開する場合の露光処理再開動作を円滑に行うことができる。 Therefore, it is possible to perform exposure processing resumes operation when resuming the exposure operation after the power recovery smoothly.

また、商用電源100Aの停電時に、無停電電源100Bは、露光装置EXを構成する各機構(装置)のうち、第2液体回収機構30以外の機構に電力(駆動力)を供給するようにしてもよい。 Also, during a power failure of the commercial power supply 100A, the uninterruptible power supply 100B among the respective mechanisms constituting the exposure apparatus EX (device), so as to supply power (driving force) to the mechanisms other than the second liquid recovery mechanism 30 it may be. 例えば商用電源100Aの停電時に、第2液体回収機構30に加えて、第1液体回収機構10に対しても電力を供給することで、液体LQの流出を更に確実に防止することができる。 For example during a power failure of the commercial power source 100A, in addition to the second liquid recovery mechanism 30, that also supply power to the first liquid recovery mechanism 10, it is possible to further reliably prevent the outflow of the liquid LQ.

なお、液体供給機構10の供給管17にノーマルクローズ方式のバルブを設けておき、商用電源100Aが停電したとき、そのノーマルクローズ方式のバルブが供給管17の流路を機械的に遮断するようにしてもよい。 Incidentally, the supply pipe 17 of the liquid supply mechanism 10 may be provided a valve normally closed type, when the commercial power supply 100A has a power failure, as the valve of the normally closed type is mechanically shut off the flow channel of the supply pipe 17 it may be. こうすることにより、商用電源100Aの停電後において、液体供給機構10から基板P上に液体LQが漏出する不都合がなくなる。 By doing this, after a power failure of the commercial power source 100A, there is no disadvantage that the liquid LQ leaks from the liquid supply mechanism 10 onto the substrate P.

なお、上述した実施形態において、基板Pを露光する前の液体供給時(図12(a)、(b)の状態)における単位時間あたりの液体供給量と、基板Pを露光中の液体供給時(図12(c)の状態)における単位時間あたりの液体供給量とを互いに異なる値に設定してもよい。 Incidentally, in the embodiment described above, when the liquid supply prior to the exposure of the substrate P and the liquid supply amount per unit time in (FIG. 12 (a), the state of (b)), when the liquid supply in the exposure of the substrate P may be set to different values ​​and a liquid supply amount per unit time in (the state of FIG. 12 (c)). 例えば、基板Pを露光する前の単位時間あたりの液体供給量を2リットル/分程度とし、基板Pを露光中の単位時間あたりの液体供給量を0.5リットル/分程度とするといったように、基板Pを露光する前の液体供給量を、基板Pを露光中の液体供給量よりも多くしてもよい。 For example, the liquid supply amount per unit time before exposing the substrate P was 2 liters / minute extent, the liquid supply amount per unit time during exposure of the substrate P so such that 0.5 liters / min extent the amount of liquid supplied before exposing the substrate P, may be more than the liquid supply amount during the exposure of the substrate P. 基板Pを露光する前の液体供給量を多くすることで、例えば光学素子2の液体接触面2Aやノズル部材70の下面70A、あるいは基板P表面に気泡が付着していても、その気泡を液体の流れの勢いで除去することができる。 By increasing the liquid feed amount before exposing the substrate P, for example, the lower surface 70A of the liquid contact surface 2A and the nozzle member 70 of the optical element 2, or even if air bubbles adhere to the surface of the substrate P, the liquid that bubbles it can be removed by the flow momentum. そして、気泡(気体部分)を除去した後、基板Pを露光するときは最適な液体供給量で液浸領域AR2を形成することができる。 Then, after removing the bubbles (gas portions), when exposing the substrate P can form a liquid immersion area AR2 at the optimum liquid supply amount.

同様に、基板Pを露光する前の排気口62を介した吸引力(単位時間あたりの液体吸引量)と、基板Pを露光中の排気口62を介した吸引力とを互いに異なる値に設定してもよい。 Similarly, set to different values ​​and a suction force through the outlet 62 of the suction force through the exhaust port 62 (the liquid suction amount per unit time), the substrate P during the exposure before exposing the substrate P it may be. 例えば、基板Pを露光する前の排気口62を介した吸引力を、基板Pを露光中の吸引力よりも強くすることで、光学素子2やノズル部材70の液体接触面に付着している気泡、基板P表面に付着している気泡、あるいは液浸領域AR2の液体中を浮遊している気泡(気体部分)を確実に吸引回収、除去することができる。 For example, the suction force through the outlet 62 before exposing the substrate P, by stronger than the suction force during exposure of the substrate P, is attached to the liquid contact surface of the optical element 2 and the nozzle member 70 bubbles, the bubbles adhering to the surface of the substrate P or floats in the liquid immersion area AR2 in which the bubble (gas portion) reliably sucked and recovered, can be removed. そして、基板Pを露光するときは、最適な吸引力で排気口62を介した吸引動作を行うことにより、吸引動作に伴う振動の発生を抑えた状態で、排気口62より液体LQ及び液体LQ中の気泡を回収、除去することができる。 Then, when the substrate P is exposed, the optimum by performing the suction operation through the exhaust port 62 by the suction force, while suppressing the occurrence of vibration due to suction operation, the liquid LQ and the liquid LQ from the exhaust port 62 the bubbles in the collection, can be removed.

なお、上述したように、排気機構60に、液体供給機構10から供給された液体LQに更に液体LQを追加する機能、及び液体LQの一部を回収する機能を持たせておき、排気口62を介して液体LQの追加及び一部回収を行うことで、液体供給機構10から供給された液体LQの圧力を調整することができる。 As described above, the exhaust mechanism 60, functions to further add the liquid LQ to the liquid LQ supplied from the liquid supply mechanism 10, and advance to have a function of recovering a part of the liquid LQ, the exhaust port 62 the by performing additional liquid LQ and some recovery, it is possible to adjust the pressure of the supplied liquid LQ from the liquid supply mechanism 10 through. この場合、例えばノズル部材70の下面70Aの一部など、液浸領域AR2の液体LQに接触する部分に圧力センサを設けておき、基板Pを液浸露光中、液浸領域AR2の液体LQの圧力を圧力センサで常時モニタしておく。 In this case, for example, part of the lower surface 70A of the nozzle member 70, may be provided a pressure sensor in a portion in contact with the liquid LQ of the liquid immersion area AR2, immersion exposure of the substrate P, the liquid immersion area AR2 of the liquid LQ keep constantly monitored by the pressure sensor the pressure. そして、制御装置CONTは、基板Pの液浸露光中に、圧力センサの検出結果に基づいて、液体供給機構10から基板P上に供給された液体LQの圧力を排気機構60を使って調整するようにしてもよい。 Then, the control unit CONT, in the immersion exposure of the substrate P, based on the detection result of the pressure sensor, to adjust the pressure of the liquid supplied onto the substrate P LQ from the liquid supply mechanism 10 by using the exhaust mechanism 60 it may be so. これにより、液体LQが基板Pに及ぼす力が低減される。 Thus, the force the liquid LQ on the substrate P can be reduced.

なお、上述した実施形態においては、液体LQの液浸領域AR2を基板P上に形成する場合について説明したが、基板ステージPST上に、例えば特開平4−65603号公報に開示されているような基板アライメント系によって計測される基準マーク、及び特開平7−176468号公報に開示されているようなマスクアライメント系によって計測される基準マークを備えた基準部材を配置し、その基準部材上に液体LQの液浸領域AR2を形成する構成が考えられる。 Incidentally, as in the embodiment described above, the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 has been described a case where formed on the substrate P, and the substrate stages PST, for example, is disclosed in JP-A-4-65603 reference mark measured by the substrate alignment system, and to place the reference member having a reference mark measured by the mask alignment system as disclosed in JP-a-7-176468, JP-liquid LQ on the reference member on configured to form the liquid immersion area AR2 can be considered. そして、その基準部材上の液浸領域AR2の液体LQを介して各種計測処理を行う構成が考えられる。 The configuration can be considered to perform various measurement process through the liquid LQ of the liquid immersion area AR2 on the reference member. そのような場合においても、本実施形態に係る露光装置EXによれば、基準部材に及ぼす力を抑制した状態で精度良く計測処理を行うことができる。 Even in such a case, according to the exposure apparatus EX of the present embodiment, it is possible to accurately perform the measurement processing while suppressing the force exerted on the reference member. 同様に、基板ステージPST上に、光学センサとして、例えば特開昭57−117238号公報に開示されているような照度ムラセンサ、特開2002−14005号公報に開示されているような空間像計測センサ、特開平11−16816号公報に開示されているような照射量センサ(照度センサ)を設ける構成が考えられ、それら光学センサ上に液体LQの液浸領域AR2を形成し、その液体LQを介して各種計測処理を行う構成が考えられる。 Similarly, on the substrate stages PST, as an optical sensor, for example, uneven illuminance sensor as disclosed in JP-57-117238, JP-spatial image-measuring sensor as disclosed in JP-A-2002-14005 , be provided with a radiation amount sensor (illuminance sensor) as disclosed in JP-a-11-16816 is considered, the liquid LQ of the immersion area AR2 formed on their optical sensor, via the liquid LQ configuration for performing various measurement processes Te are considered. その場合においても、本実施形態に係る露光装置EXによれば、光学センサに及ぼす力を抑制した状態で精度良く計測処理を行うことができる。 Also in this case, according to the exposure apparatus EX of the present embodiment, it is possible to accurately perform the measurement processing while suppressing the force exerted on the optical sensor.

図13は、本発明のノズル保持機構90の別の実施形態を示す図である。 Figure 13 is a diagram showing another embodiment of a nozzle holding mechanism 90 of the present invention. 図13に示す実施形態の特徴的な部分は、ノズル部材70を保持するノズル保持機構90のノズルホルダ92は、鏡筒定盤5にフレーム52'を介して支持されている点にある。 The feature of the embodiment shown in FIG. 13, the nozzle holder 92 of the nozzle holding mechanism 90 for holding the nozzle member 70 is that which is supported via the frame 52 'to the lens barrel base plate 5. 図13に示すフレーム52'はその上部に鍔部52Tを有しており、鍔部52Tは鏡筒定盤5上に設置されている。 Frame 52 shown in FIG. 13 'has a flange portion 52T thereon, the flange portion 52T is installed on the barrel surface plate 5. 投影光学系PLの鏡筒PKのフランジ部PFは、支持部材52Kを介してフレーム52'の鍔部52T上にキネマティック支持されている。 Flange PF of the barrel PK of the projection optical system PL is kinematically supported on the flange portion 52T of the frame 52 'via the supporting member 52K. そして、フレーム52'の下部にノズル保持機構90のノズルホルダ92が固定されている。 Then, the nozzle holder 92 of the nozzle holding mechanism 90 is fixed to the lower frame 52 '. このように、ノズル部材70を保持するノズル保持機構90は、投影光学系PLを支持するための鏡筒定盤5に支持された構成であってもよい。 Thus, the nozzle holding mechanism 90 for holding the nozzle member 70 may be supported configurations in the barrel surface plate 5 for supporting the projection optical system PL.

上述したように、本実施形態における液体LQは純水により構成されている。 As described above, the liquid LQ in the present embodiment is constituted by pure water. 純水は、半導体製造工場等で容易に大量に入手できるとともに、基板P上のフォトレジストや光学素子(レンズ)等に対する悪影響がない利点がある。 Pure water can be obtained in large quantities at a semiconductor manufacturing plant or the like, that it has no adverse effects on the photoresist and the optical element (lens) and the like on the substrate P. また、純水は環境に対する悪影響がないとともに、不純物の含有量が極めて低いため、基板Pの表面、及び投影光学系PLの先端面に設けられている光学素子の表面を洗浄する作用も期待できる。 Further, pure water has no adverse effects on the environment and contains very few impurities, the action of cleaning the surface of the optical element provided at the end face of the surface, and the projection optical system PL of the substrate P can be expected . なお工場等から供給される純水の純度が低い場合には、露光装置が超純水製造器を持つようにしてもよい。 When the purity of pure water supplied from the factory or the like is low, the exposure apparatus may be provided with an ultrapure water-producing unit.

そして、波長が193nm程度の露光光ELに対する純水(水)の屈折率nはほぼ1.44と言われており、露光光ELの光源としてArFエキシマレーザ光(波長193nm)を用いた場合、基板P上では1/n、すなわち約134nmに短波長化されて高い解像度が得られる。 Then, when the wavelength is using pure water refractive index of the (water) n is said to substantially 1.44, ArF excimer laser light as the light source of the exposure light EL (wavelength 193 nm) for the exposure light EL of about 193 nm, is on the substrate P 1 / n, i.e. high resolution is shortened wavelength can be obtained about 134 nm. 更に、焦点深度は空気中に比べて約n倍、すなわち約1.44倍に拡大されるため、空気中で使用する場合と同程度の焦点深度が確保できればよい場合には、投影光学系PLの開口数をより増加させることができ、この点でも解像度が向上する。 Furthermore, approximately n times the depth of focus than in the air, namely to be enlarged to about 1.44 times, when the depth of focus approximately the same as that when used in air may be secured, the projection optical system PL numerical aperture can be further increased, and also the resolution is improved in this respect.

なお、上述したように液浸法を用いた場合には、投影光学系の開口数NAが0.9〜1.3になることもある。 In the case of using the liquid immersion method as described above, the numerical aperture NA of the projection optical system is 0.9 to 1.3. このように投影光学系の開口数NAが大きくなる場合には、従来から露光光として用いられているランダム偏光光では偏光効果によって結像性能が悪化することもあるので、偏光照明を用いるのが望ましい。 Since the when the numerical aperture NA of the projection optical system becomes large, a random polarized light conventionally used as the exposure light sometimes the image formation performance is deteriorated due to the polarization effect, to use a polarized illumination desirable. その場合、マスク(レチクル)のライン・アンド・スペースパターンのラインパターンの長手方向に合わせた直線偏光照明を行い、マスク(レチクル)のパターンからは、S偏光成分(TE偏光成分)、すなわちラインパターンの長手方向に沿った偏光方向成分の回折光が多く射出されるようにするとよい。 In that case, it is appropriate that the linear polarized illumination, which is adjusted to the longitudinal direction of the line pattern of the line-and-space pattern of the mask (reticle), from the pattern of the mask (reticle), S-polarized light component (TE-polarized component), i.e. the line pattern may be as diffracted light of the polarization direction component along the longitudinal direction is many injection of. 投影光学系PLと基板P表面に塗布されたレジストとの間が液体で満たされている場合、投影光学系PLと基板P表面に塗布されたレジストとの間が空気(気体)で満たされている場合に比べて、コントラストの向上に寄与するS偏光成分(TE偏光成分)の回折光のレジスト表面での透過率が高くなる。 If between coated on the projection optical system PL and the substrate P surface resist it is filled with a liquid, between the resist coated on the projection optical system PL and the substrate P surface is filled with air (gas) as compared with the case where there, the transmittance at the resist surface of the diffracted light that contributes S-polarized light component to improve the contrast (TE-polarized component) becomes high. そのため、投影光学系の開口数NAが1.0を越えるような場合でも高い結像性能を得ることができる。 Therefore, the numerical aperture NA of the projection optical system can be obtained high imaging performance even if exceeding 1.0. また、位相シフトマスクや特開平6−188169号公報に開示されているようなラインパターンの長手方向に合わせた斜入射照明法(特にダイボール照明法)等を適宜組み合わせると更に効果的である。 Moreover, it is further effective when combined oblique incidence illumination method, which is adjusted to the longitudinal direction of the line pattern as disclosed in JP-phase shift masks and JP 6-188169 (particularly the dipole illumination method) or the like as appropriate. 特に、直線偏光照明法とダイボール照明法との組み合わせは、ライン・アンド・スペースパターンの周期方向が所定の一方向に限られている場合や、所定の一方向に沿ってホールパターンが密集している場合に有効である。 In particular, the combination of the linearly polarized light illumination method and the dipole illumination method, and if the periodic direction of the line-and-space pattern is limited to a predetermined direction, and densely hole patterns along a predetermined direction it is effective when you are. 例えば、透過率6%のハーフトーン型の位相シフトマスク(ハーフピッチ45nm程度のパターン)を、直線偏光照明法とダイボール照明法とを併用して照明する場合、照明系の瞳面においてダイボールを形成する二光束の外接円で規定される照明σを0.95、その瞳面における各光束の半径を0.125σ、投影光学系PLの開口数をNA=1.2とすると、ランダム偏光光を用いるよりも、焦点深度(DOF)を150nm程度増加させることができる。 For example, when illuminating a transmittance of 6% halftone phase shift mask (pattern half pitch of about 45 nm), a combination of the linear polarized illumination method and the the dipole illumination method, forming the dipole at the pupil plane of the illumination system to two-beam 0.95 illumination σ defined by a circumscribed circle of, 0.125Shiguma the radius of each light flux at the pupil plane, and the numerical aperture of the projection optical system PL is NA = 1.2, the random polarized light than used, it is possible to the the depth of focus (DOF) is increased about 150 nm.

また、例えばArFエキシマレーザを露光光とし、1/4程度の縮小倍率の投影光学系PLを使って、微細なライン・アンド・スペースパターン(例えば25〜50nm程度のライン・アンド・スペース)を基板P上に露光するような場合、マスクMの構造(例えばパターンの微細度やクロムの厚み)によっては、Wave guide効果によりマスクMが偏光板として作用し、コントラストを低下させるP偏光成分(TM偏光成分)の回折光よりS偏光成分(TE偏光成分)の回折光が多くマスクMから射出されるようになる。 Further, for example, ArF excimer laser as the exposure light, 1/4 about using the projection optical system PL having a reduction magnification, the substrate fine line-and-space pattern (e.g. 25~50nm line-and-space of about) If such is exposed on P, depending on the structure of the mask M (for example, the pattern fineness and the thickness of chromium), the mask M acts as a polarizing plate due to the Wave guide effect, P-polarized light component lowering the contrast (TM-polarized light and the diffracted light of the S polarized light component from the diffracted light component) (TE-polarized component) is radiated from the mask M. この場合、上述の直線偏光照明を用いることが望ましいが、ランダム偏光光でマスクMを照明しても、投影光学系PLの開口数NAが0.9〜1.3のように大きい場合でも高い解像性能を得ることができる。 In this case, it is preferable to use the linear polarized illumination as described above, even when the mask M is illuminated with random polarized light, high even when the numerical aperture NA of the projection optical system PL is large, for example 0.9 to 1.3 it is possible to obtain a resolution performance.

また、マスクM上の極微細なライン・アンド・スペースパターンを基板P上に露光するような場合、Wire Grid効果によりP偏光成分(TM偏光成分)がS偏光成分(TE偏光成分)よりも大きくなる可能性もあるが、例えばArFエキシマレーザを露光光とし、1/4程度の縮小倍率の投影光学系PLを使って、25nmより大きいライン・アンド・スペースパターンを基板P上に露光するような場合には、S偏光成分(TE偏光成分)の回折光がP偏光成分(TM偏光成分)の回折光よりも多くマスクMから射出されるので、投影光学系PLの開口数NAが0.9〜1.3のように大きい場合でも高い解像性能を得ることができる。 Further, when an extremely fine line-and-space pattern on the mask M such that the exposure on the substrate P, greater than P-polarized light components by Wire Grid effect (TM-polarized light component). The S-polarized light component (TE-polarized component) Although some potentially, for example, an ArF excimer laser as the exposure light, such as by using the projection optical system PL having a reduction magnification of about 1/4, to expose the 25nm line-and-space pattern larger than the substrate P in this case, since the diffracted light of the S-polarized component (TE-polarized component) is radiated from the mask M than the diffracted light of the P polarized light component (TM-polarized light component), the numerical aperture NA of the projection optical system PL is 0.9 it is possible to obtain the high resolution performance even when such large for 1.3.

更に、マスク(レチクル)のラインパターンの長手方向に合わせた直線偏光照明(S偏光照明)だけでなく、特開平6−53120号公報に開示されているように、光軸を中心とした円の接線(周)方向に直線偏光する偏光照明法と斜入射照明法との組み合わせも効果的である。 Further, the line pattern of the mask (reticle) aligned in the longitudinal direction linearly polarized light illumination (S polarized light illumination) as well, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-53120, of a circle centering on the optical axis the combination of a tangent (circumference) polarized illumination method that linearly polarizes in a direction oblique incidence illumination method is also effective. 特に、マスク(レチクル)のパターンが所定の一方向に延びるラインパターンだけでなく、複数の異なる方向に延びるラインパターンが混在(周期方向が異なるライン・アンド・スペースパターンが混在)する場合には、同じく特開平6−53120号公報に開示されているように、光軸を中心とした円の接線方向に直線偏光する偏光照明法と輪帯照明法とを併用することによって、投影光学系の開口数NAが大きい場合でも高い結像性能を得ることができる。 In particular, when the pattern of a mask (reticle) is not only the line pattern extending in one predetermined direction, line patterns extending in a plurality of different directions in a mixed (periodic direction is different line-and-space pattern mixed) is as also disclosed in Japanese Patent Laid-open No. 6-53120, in the tangential direction of a circle centering on the optical axis by a combination of a polarization illumination method and the zonal illumination method that linearly polarized, the opening of the projection optical system it is possible to obtain high imaging performance even when the number NA is large. 例えば、透過率6%のハーフトーン型の位相シフトマスク(ハーフピッチ63nm程度のパターン)を、光軸を中心とした円の接線方向に直線偏光する偏光照明法と輪帯照明法(輪帯比3/4)とを併用して照明する場合、照明σを0.95、投影光学系PLの開口数をNA=1.00とすると、ランダム偏光光を用いるよりも、焦点深度(DOF)を250nm程度増加させることができ、ハーフピッチ55nm程度のパターンで投影光学系の開口数NA=1.2では、焦点深度を100nm程度増加させることができる。 For example, the transmittance of 6% halftone phase shift mask (pattern half pitch of about 63 nm), polarized illumination method that linearly polarizes light in a direction tangential to a circle centered on the optical axis and the zonal illumination method (zonal ratio 3/4) is illuminated and in combination of the illumination sigma 0.95, and the numerical aperture of the projection optical system PL is NA = 1.00, than using random polarized light, depth of focus (DOF) can be increased by about 250 nm, the numerical aperture NA = 1.2 of the projection optical system by a half pitch 55nm approximately pattern, the depth of focus can be increased by about 100 nm.

本実施形態では、投影光学系PLの先端に光学素子2が取り付けられており、このレンズにより投影光学系PLの光学特性、例えば収差(球面収差、コマ収差等)の調整を行うことができる。 In the present embodiment, the optical element 2 is attached to the end portion of the projection optical system PL, the optical characteristics of the projection optical system PL by the lens can be performed, for example, aberration (spherical aberration, coma aberration, etc.) to adjust the. なお、投影光学系PLの先端に取り付ける光学素子としては、投影光学系PLの光学特性の調整に用いる光学プレートであってもよい。 The optical element to be attached to the tip of the projection optical system PL, and may be an optical plate used to adjust the optical characteristics of the projection optical system PL. あるいは露光光ELを透過可能な平行平面板であってもよい。 Alternatively the exposure light EL may be a plane parallel plate that can transmit.

なお、液体LQの流れによって生じる投影光学系PLの先端の光学素子と基板Pとの間の圧力が大きい場合には、その光学素子を交換可能とするのではなく、その圧力によって光学素子が動かないように堅固に固定してもよい。 Incidentally, if the pressure between the substrate P and the optical element at the tip of the projection optical system PL caused by the flow of the liquid LQ is large, instead of the replaceable its optical element, the optical element is moved by the pressure it may be firmly fixed so as not.

なお、本実施形態では、投影光学系PLと基板P表面との間は液体LQで満たされている構成であるが、例えば基板Pの表面に平行平面板からなるカバーガラスを取り付けた状態で液体LQを満たす構成であってもよい。 In the present embodiment, the liquid state is between is a configuration which is filled with the liquid LQ, for example, fitted with a cover glass comprising a plane parallel plate to the surface of the substrate P and the projection optical system PL and the substrate P surface it may be configured to satisfy the LQ.

なお、本実施形態の液体LQは水であるが、水以外の液体であってもよい、例えば、露光光ELの光源がF レーザである場合、このF レーザ光は水を透過しないので、液体LQとしてはF レーザ光を透過可能な例えば、過フッ化ポリエーテル(PFPE)やフッ素系オイル等のフッ素系流体であってもよい。 Although the liquid LQ of this embodiment is water, a liquid other than water may be, for example, when the light source of exposure light EL is an F 2 laser, the F 2 laser beam is not transmitted through water , as the liquid LQ that can transmit the F 2 laser light may include, for example, fluorine-based fluid such as perfluoropolyether (PFPE) or fluorine based oil. この場合、液体LQと接触する部分には、例えばフッ素を含む極性の小さい分子構造の物質で薄膜を形成することで親液化処理する。 In this case, the portion in contact with the liquid LQ, lyophilic treatment by forming a thin film, for example having a molecular structure with small polarity including fluorine material. また、液体LQとしては、その他にも、露光光ELに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系PLや基板P表面に塗布されているフォトレジストに対して安定なもの(例えばセダー油)を用いることも可能である。 Further, as the liquid LQ, Besides, if there is transparent to the exposure light EL high as possible refractive index, stable ones (e.g. cedar the photo resist coated on the projection optical system PL and the substrate P surface oil) can also be used. この場合も表面処理は用いる液体LQの極性に応じて行われる。 In this case, the surface treatment is performed depending on the polarity of the liquid LQ to be used.

なお、上記各実施形態の基板Pとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版(合成石英、シリコンウエハ)等が適用される。 Furthermore, the substrate P in each of the above embodiments, not only a semiconductor wafer for fabricating semiconductor devices but glass substrates for display devices, the original plate of a mask or reticle used in a ceramic wafer or an exposure apparatus, for a thin film magnetic head (synthetic quartz, silicon wafer) used by an exposure apparatus.

露光装置EXとしては、マスクMと基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニングステッパ)の他に、マスクMと基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを一括露光し、基板Pを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。 As for the exposure apparatus EX, in the other scanning exposure apparatus by a step-and-scan method by synchronously moving the mask M and the substrate P to scan expose the pattern of the mask M (scanning stepper), and the mask M and the substrate P the pattern of the mask M collectively exposed, can also be applied to a projection exposure apparatus by a step-and-repeat system for moving sequentially steps the substrate P (stepper) while stationary.

また、露光装置EXとしては、第1パターンと基板Pとをほぼ静止した状態で第1パターンの縮小像を投影光学系(例えば1/8縮小倍率で反射素子を含まない屈折型投影光学系)を用いて基板P上に一括露光する方式の露光装置にも適用できる。 Further, As for the exposure apparatus EX, in the first pattern and the first pattern projection optical system a reduced image of the substrate P in a state where substantially stationary (e.g., 1/8 refractive type projection optical system including no catoptric element with a reduction magnification) It can also be applied to an exposure apparatus of a system that full-field exposure of the substrate P using. この場合、更にその後に、第2パターンと基板Pとをほぼ静止した状態で第2パターンの縮小像をその投影光学系を用いて、第1パターンと部分的に重ねて基板P上に一括露光するスティッチ方式の一括露光装置にも適用できる。 In this case, further subsequently, a reduced image of the second pattern in a state where the second pattern and the substrate P are substantially stationary with the projection optical system, the one-shot exposure in the first pattern partially superposes the substrate P It can also be applied to a stitching type full-field exposure apparatus that. また、スティッチ方式の露光装置としては、基板P上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Pを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。 Also, the stitching type exposure apparatus, and transferring at least two patterns are partially overlaid and the substrate P, it is also applicable to an exposure apparatus of step-and-stitch type and the substrate P is successively moved.

また、本発明は、特開平10−163099号公報、特開平10−214783号公報、特表2000−505958号公報などに開示されているツインステージ型の露光装置にも適用できる。 Further, the present invention, JP-A 10-163099, JP-A No. 10-214783, JP-can also be applied to a twin stage type exposure apparatus are disclosed in, JP-T-2000-505958.

また、上述の実施形態においては、投影光学系PLと基板Pとの間に局所的に液体を満たす露光装置を採用しているが、本発明は、特開平6−124873号公報に開示されているような露光対象の基板を保持したステージを液槽の中で移動させる液浸露光装置にも適用可能である。 In the embodiment described above adopts the exposure apparatus in which the liquid is locally filled between the projection optical system PL and the substrate P, the present invention is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-124873 even a stage holding a substrate subject to exposure, such as being in an immersion exposure apparatus that moves in the liquid tank is applicable.

露光装置EXの種類としては、基板Pに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD)あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。 The type of the exposure apparatus EX, the present invention is not limited to semiconductor device fabrication exposure apparatuses that expose a semiconductor element pattern onto a substrate P, an exposure apparatus and a liquid crystal display device for manufacturing or for display manufacturing, thin film magnetic heads, imaging devices (CCD ) or it can be widely applied to an exposure apparatus for manufacturing such as a reticle or mask.

本実施形態の露光装置EXは、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。 The exposure apparatus EX of the present embodiment is manufactured by assembling various subsystems, including each constituent element recited in the claims of the present application so that the predetermined mechanical accuracy, the optical accuracy, manufactured by assembling It is. これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。 To ensure these respective precisions, performed before and after the assembling include the adjustment for achieving the optical accuracy for various optical systems, an adjustment to achieve mechanical accuracy for various mechanical systems, the various electrical systems adjustment for achieving the electrical accuracy is performed. 各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。 The steps of assembling the various subsystems into the exposure apparatus includes various subsystems, the mechanical interconnection, electrical circuit wiring connections, and the piping connection of the air pressure circuit. この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。 Before the process of assembling the exposure apparatus from the various subsystems, there are also the processes of assembling each individual subsystem. 各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。 After completion of the assembling the various subsystems into the exposure apparatus, overall adjustment is performed and various kinds of accuracy as the entire exposure apparatus are secured. なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。 The manufacturing of the exposure apparatus is preferably performed in a clean room in which temperature and cleanliness are controlled.

半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図14に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ201、この設計ステップに基づいたマスク(レチクル)を製作するステップ202、デバイスの基材である基板を製造するステップ203、前述した実施形態の露光装置EXによりマスクのパターンを基板に露光する露光処理ステップ204、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む)205、検査ステップ206等を経て製造される。 Microdevices such as semiconductor devices are manufactured, as shown in FIG. 14, a step 201 that performs microdevice function and performance design, a step 202 of manufacturing a mask (reticle) based on this design step, a base material for the device substrate a step 203 of producing the exposure process step 204 of exposing a pattern of a mask onto a substrate by the exposure apparatus EX of the embodiment described above, a device assembly step (dicing, bonding, including packaging step) 205, an inspection step 206, etc. It is produced through.

本発明の露光装置の一実施形態を示す概略構成図である。 It is a schematic diagram showing an embodiment of an exposure apparatus of the present invention. ノズル部材を下面側から見た平面図である。 It is a plan view of the nozzle member from the lower surface side. 図2のA−A線断面矢視図である。 It is an A-A line cross-sectional outline view of Fig. 図2のB−B線断面矢視図である。 A B-B line cross-sectional outline view of figure 2. 図2のC−C線断面矢視図である。 It is a sectional view taken along line C-C arrow view of FIG. ノズル保持機構とノズル部材とが分離された状態を示す斜視図である。 A nozzle holding mechanism and the nozzle member is a perspective view showing a state of being separated. 供給口近傍を示す拡大断面図である。 It is an enlarged sectional view showing a supply opening neighborhood. 排気口近傍を示す拡大断面図である。 Is an enlarged sectional view showing an exhaust opening neighborhood. 回収口近傍を示す拡大断面図である。 It is an enlarged sectional view showing a recovery port vicinity. ノズル部材を製造する方法を説明するための模式図である。 It is a schematic diagram for explaining a method of manufacturing a nozzle member. ノズル部材の親液領域及び撥液領域を説明するための図である。 It is a diagram for explaining a lyophilic region and a liquid-repellent area of ​​the nozzle member. 本発明の露光装置の動作の一例を示す模式図である。 It is a schematic diagram showing an example of the operation of the exposure apparatus of the present invention. 本発明の露光装置の別の実施形態を示す概略構成図である。 It is a schematic diagram showing another embodiment of the exposure apparatus of the present invention. 半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。 Is a flow chart showing an example of a manufacturing process of semiconductor devices.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1…メインコラム(支持部材)、5…鏡筒定盤(支持部材)、8…下側段部、10…液体供給機構、12(12A、12B)…供給口(開口)、14…供給流路、15…供給流路、20…第1液体回収機構、22…第1回収口(開口)、23、24…第1回収流路、25…第1回収流路、30…第2液体回収機構、32…第2回収口(開口)、33、34…第2回収流路、35…第2回収流路、60…排気機構、62…排気口(開口)、64…排気流路、65…排気流路、68…凹部、70…ノズル部材、71…第1部材、72…第2部材、73…第3部材、74…多孔体(多孔体領域)、75…多孔体(多孔体領域)、90…ノズル保持機構、91(91A〜91C)…位置決め機構、92…ノズルホルダ、120…フォーカス・レベリン 1 ... main column (support member), 5 ... barrel base (supporting member), 8 ... lower step, 10 ... liquid supply mechanism, 12 (12A, 12B) ... supply port (opening), 14 ... feed stream road, 15 ... supply channel, 20 ... first liquid recovery mechanism, 22 ... first recovery port (opening) 23, 24 ... first recovery line, 25 ... first recovery line, 30 ... second liquid recovery mechanism, 32 ... second recovery port (opening), 33 ... second recovery flow passage, 35 ... second recovery flow passage, 60 ... exhaust system, 62 ... exhaust port (opening), 64 ... exhaust passage, 65 ... exhaust passage, 68 ... recess, 70 ... nozzle member, 71 ... first member, 72: second member, 73 ... third member, 74 ... porous body (porous region), 75 ... porous body (porous body region ), 90 ... nozzle holding mechanism, 91 (91 a - 91 c) ... positioning mechanism, 92 ... nozzle holder, 120 ... focus leveling 検出系(面位置検出系)、123…第1光学部材、124…第2光学部材、130〜133…シール部材、AR1…投影領域、AR2…液浸領域、EL…露光光、EX…露光装置、P…基板、PL…投影光学系、LQ…液体、HR…撥液領域、SR…親液領域 Detection system (surface position detecting system), 123 ... first optical member, 124 ... second optical member, 130-133 ... sealing member, AR1 ... projection area, AR2 ... immersion area, EL ... exposure light, EX ... exposure apparatus , P ... substrate, PL ... projection optical system, LQ ... liquid, HR ... liquid repellent area, SR ... lyophilic areas

Claims (39)

  1. 投影光学系と基板上に形成される液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置において、 An exposure apparatus for exposing a substrate through a liquid immersion area formed on the projection optical system and the substrate,
    前記投影光学系の像面側近傍に設けられ、前記液体が流れる開口を有するノズル部材を備え、 Provided on the image side near the projection optical system, comprising a nozzle member having an opening which the liquid flows,
    前記ノズル部材は、複数の部材を積層することで形成された積層体を含み、 The nozzle member includes a laminate formed by laminating a plurality of members,
    前記複数の部材のうち少なくとも1つの部材は、複数の孔が形成された多孔体領域を有し、 It said at least one member of the plurality of members may have a porous region having a plurality of holes are formed,
    前記開口は、前記基板が対向する前記ノズル部材の下面に設けられ、前記液体を回収する回収口を含み、 It said opening is provided on the lower surface of the nozzle member in which the substrate is opposed includes a recovery port for recovering the liquid,
    前記ノズル部材の下面は、前記投影光学系の投影領域に対して前記回収口の外側に撥液性の撥液領域を含むことを特徴とする露光装置。 Lower surface of the nozzle member, an exposure apparatus which comprises a liquid-repellent area of the liquid repellent on the outside of the recovery port with respect to the projection area of the projection optical system.
  2. 前記ノズル部材の内部には前記開口に接続する流路が形成され、 The inside of the nozzle member flow channel that connects to the opening is formed,
    前記多孔体領域は、前記流路上の少なくとも一部に配置されることを特徴とする請求項1記載の露光装置。 The porous body region, the exposure apparatus according to claim 1, characterized in that it is disposed on at least a portion of said flow path.
  3. 前記多孔体領域を有する部材は、他の部材によって挟まれていることを特徴とする請求項1又は2記載の露光装置。 It said member having a porous region, the exposure apparatus according to claim 1 or 2, wherein the sandwiched by another member.
  4. 前記多孔体領域を有する部材と他の部材とは圧接されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載の露光装置。 The porous body region members and another exposure apparatus according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it is pressed against the member having a.
  5. 前記多孔体領域は、前記基板と前記ノズル部材との間に満たされた液体に接触する位置に設けられていることを特徴とする請求項1〜 のいずれか一項記載の露光装置。 The porous body region claim 1 exposure apparatus according to any one claim 4, characterized in that provided in the filled position in contact with the liquid between the nozzle member and the substrate.
  6. 前記ノズル部材のうち前記液浸領域の液体に接触する液体接触面及び前記多孔体領域は親液性であることを特徴とする請求項1〜 のいずれか一項記載の露光装置。 Exposure apparatus according to any one of claims 1 to 5 liquid contact surface and the porous body region in contact with the liquid in the liquid immersion area, which is a lyophilic of the nozzle member.
  7. 前記ノズル部材及び前記多孔体領域を形成する材料はステンレス鋼を含むことを特徴とする請求項1〜 のいずれか一項記載の露光装置。 Wherein the nozzle member and the material for forming the porous body region exposure apparatus according to any one of claims 1-6, characterized in that it comprises a stainless steel.
  8. 投影光学系と基板上に形成される液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置において、 An exposure apparatus for exposing a substrate through a liquid immersion area formed on the projection optical system and the substrate,
    前記投影光学系の像面側近傍に設けられ、前記液体が流れる開口を有するノズル部材を備え、 Provided on the image side near the projection optical system, comprising a nozzle member having an opening which the liquid flows,
    前記開口は、前記基板が対向する前記ノズル部材の下面に設けられ、前記液体を回収する回収口を含み、 It said opening is provided on the lower surface of the nozzle member in which the substrate is opposed includes a recovery port for recovering the liquid,
    前記ノズル部材のうち前記液浸領域の液体に接触する液体接触領域は親液性であり、 Liquid contact region in contact with the liquid in the liquid immersion area of the nozzle member is lyophilic,
    前記液体接触領域以外の領域は撥液性の撥液領域を含み、該撥液領域は、前記ノズル部材の下面の前記回収口の外側の領域を含むことを特徴とする露光装置。 Region other than the liquid contact region comprises a liquid-repellent area of the liquid-repellent, repellent liquid region, an exposure apparatus which comprises an outer region of the recovery port of the lower surface of the nozzle member.
  9. 前記親液性の液体接触領域は、前記ノズル部材の下面の、前記投影光学系の投影領域に対して前記回収口の内側の領域を含む請求項8記載の露光装置。 Liquid contact area of the lyophilic property, the lower surface of the nozzle member, an exposure apparatus as recited in claim 8, including the inner region of the recovery port with respect to the projection area of the projection optical system.
  10. 前記親液性の液体接触領域の前記液体との接触角は、50°以下である請求項8又は9記載の露光装置。 The contact angle between the lyophilic of the liquid in the liquid contact area, the exposure apparatus according to claim 8 or 9, wherein 50 ° or less.
  11. 前記撥液領域は、前記ノズル部材の側面を含むことを特徴とする請求項8〜10のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid repellent area, the exposure apparatus according to any one of claims 8 to 10, characterized in that it comprises a side surface of the nozzle member.
  12. 前記ノズル部材の下面の前記回収口の外側に第2回収口を備え、 A second recovery port outside the recovery port of the lower surface of the nozzle member,
    前記下面のうち前記回収口を含む第1領域及び前記第2回収口を含む第2領域は親液性であり、 The second region including the first region and the second recovery port including the recovery port of the lower surface is lyophilic,
    前記撥液領域は、前記第1領域と前記第2領域との間の領域を含むことを特徴とする請求項11のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid repellent area, the exposure apparatus according to any one of claims 8-11, characterized in that it comprises a region between the first region and the second region.
  13. 前記撥液領域は、前記液体との接触角が60°以上である請求項1〜12のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid repellent area, the exposure apparatus according to any one of claims 1 to 12 in contact angle with the liquid is 60 ° or more.
  14. 前記撥液領域は、フッ素系樹脂材料で形成されている請求項1〜13のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid repellent area, the exposure apparatus according to any one of claims 1 to 13, which is formed by the fluorine-based resin material.
  15. 前記撥液領域は、アクリル系樹脂材料で形成されている請求項1〜13のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid repellent area, the exposure apparatus according to any one of claims 1 to 13, which is formed of an acrylic resin material.
  16. 前記撥液領域は、シリコン系樹脂材料で形成されている請求項1〜13のいずれか一項記載の露光装置。 The liquid repellent area, the exposure apparatus according to any one of claims 1 to 13, which is formed of a silicon-based resin material.
  17. 前記ノズル部材は、前記下面に、液体を供給する供給口が設けられ、 The nozzle member is in said lower surface, the supply port is provided for supplying liquid,
    前記ノズル部材の下面において、前記回収口は、前記投影光学系の投影領域に対して前記供給口の外側に設けられていることを特徴とする請求項1〜16のいずれか一項記載の露光装置。 The lower surface of the nozzle member, the recovery port, exposure of any one of claims 1 to 16, characterized in that provided outside the supply port with respect to the projection area of the projection optical system apparatus.
  18. 前記ノズル部材は、前記投影光学系の先端部の光学素子を囲むように配置され、 The nozzle member is arranged to surround the optical element of the tip portion of the projection optical system,
    前記回収口は、前記投影光学系の投影領域を囲むように前記ノズル部材の下面に環状に配置されている請求項1〜17のいずれか一項記載の露光装置。 The recovery port, the projection optical system exposure apparatus according to any one of claims 1 to 17, which is disposed annularly on a lower surface of the nozzle member so as to surround the projection area of the.
  19. 前記ノズル部材の下面には前記気体を排出可能な排気口が設けられていることを特徴とする請求項1〜18のいずれか一項記載の露光装置。 Exposure apparatus according to any one of claims 1 to 18, characterized in that drainable outlet is provided the gas to the lower surface of the nozzle member.
  20. 前記排気口は、前記投影光学系の投影領域に対して前記回収口よりも近くに設けられていることを特徴とする請求項19記載の露光装置。 The exhaust port An exposure apparatus according to claim 19, wherein the provided closer than the recovery port with respect to the projection area of the projection optical system.
  21. 前記液体を供給する液体供給機構を備え、 Comprising a liquid supply mechanism for supplying the liquid,
    前記液体供給機構による液体供給は、前記排気口を介した気体の排出を行いながら開始されることを特徴とする請求項19又は20記載の露光装置。 The liquid supply by the liquid supply mechanism, the exposure apparatus according to claim 19 or 20, wherein the initiated while discharging the gas through the exhaust port.
  22. 前記回収口を介して液体を回収可能な液体回収部と、 A liquid recovery unit capable of recovering the liquid through the recovery port,
    前記液体回収部と前記ノズル部材とを接続する流路を有し、前記ノズル部材を分離可能に保持するノズル保持機構とを備えたことを特徴とする請求項1〜21のいずれか一項記載の露光装置。 Has a flow passage for connecting the nozzle member and the liquid recovery unit, according to any one of claims 1 to 21, characterized in that a nozzle holding mechanism for detachably holding said nozzle member of the exposure apparatus.
  23. 前記ノズル部材を前記ノズル保持機構で保持することで、前記ノズル保持機構の前記流路と前記ノズル部材の内部流路とが接続され、 Wherein the nozzle member by holding in the nozzle holding mechanism, and the internal passage of the nozzle member and the flow path of the nozzle holding mechanism are connected,
    前記接続部には、液体の漏洩を阻止するシール部材が設けられていることを特徴とする請求項22記載の露光装置。 Wherein the connecting portion, an exposure apparatus according to claim 22, wherein a seal member for preventing liquid leakage is provided.
  24. 前記ノズル保持機構と前記ノズル部材とを位置決めする位置決め機構を有することを特徴とする請求項22又は23記載の露光装置。 The exposure apparatus according to claim 22 or 23, wherein further comprising a positioning mechanism for positioning the said nozzle member and the nozzle holding mechanism.
  25. 前記ノズル保持機構は、前記投影光学系を支持する支持部材に支持されていることを特徴とする請求項2224のいずれか一項記載の露光装置。 The nozzle holding mechanism, an exposure apparatus according to any one of claims 22-24, characterized in that it is supported by a supporting member for supporting the projection optical system.
  26. 請求項1〜請求項25のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。 Device manufacturing method comprising using the exposure apparatus according to any one of claims 1 to claim 25.
  27. 投影光学系と基板上に形成される液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置に備えられるノズル部材であって、 A nozzle member provided in an exposure apparatus for exposing a substrate through a liquid immersion area formed on the projection optical system and the substrate,
    前記基板が対向する下面と、 And a lower surface wherein the substrate is opposed,
    前記下面に設けられ、前記液体が流れる開口と、を有し、 Provided on the lower surface, it has a an opening which the liquid flows,
    前記開口が、前記液体を回収するための回収口を含み、 Said opening comprises a recovery port for recovering the liquid,
    前記下面が、前記投影光学系の投影領域に対して前記回収口の外側に配置される撥液性の撥液領域を含むノズル部材。 Said lower surface, a nozzle member including a liquid-repellent area of the liquid-repellent disposed outside of the recovery port with respect to the projection area of the projection optical system.
  28. 前記回収口は環状であって、前記投影光学系の投影領域を囲むように配置される請求項27記載のノズル部材。 The recovery port is an annular nozzle member according to claim 27, wherein arranged to surround the projection area of the projection optical system.
  29. 前記下面に設けられ、液体を供給するための供給口を有する請求項27又は28記載のノズル部材。 Wherein provided on the lower surface, Claim 27 or 28 nozzle member according with a supply port for supplying the liquid.
  30. 前記回収口に接続された内部流路と、 An internal channel connected to the recovery port,
    前記内部流路上の少なくとも一部に配置された多孔体領域とを有する請求項27〜29のいずれか一項記載のノズル部材。 The nozzle member of any one of claims 27 to 29 having at least a part arranged a porous body area of the internal flow path.
  31. 前記投影光学系の投影領域に対して前記回収口の外側に配置される、撥液性の側面を有する請求項27〜30のいずれか一項記載のノズル部材。 Said projection optical system is disposed outside of the recovery port with respect to the projection area of the nozzle member of any one of claims 27 to 30 having a side surface of the liquid repellency.
  32. 前記投影光学系の先端部の光学素子の側面と間隙を介して対向する内側面を有し、 Has an inner surface that face each other with a side surface and gaps of the optical element at the tip portion of the projection optical system,
    前記内側面が撥液性である請求項27〜31のいずれか一項記載のノズル部材。 The nozzle member of any one of claims 27 to 31 wherein the inner surface is liquid repellent.
  33. 前記回収口は、前記液体を気体とともに回収する請求項27〜32のいずれか一項記載のノズル部材。 The recovery port, the nozzle member of any one of claims 27 to 32 for the liquid to recover together with the gas.
  34. 前記撥液領域は、前記液体との接触角が60°以上である請求項27〜33のいずれか一項記載のノズル部材。 The liquid repellent area, the nozzle member of any one of claims 27 to 33 contact angle with the liquid is 60 ° or more.
  35. 前記撥液領域は、フッ素系樹脂材料で形成されている請求項27〜34のいずれか一項記載のノズル部材。 The liquid repellent area, the nozzle member of any one of claims 27 to 34, which is formed by the fluorine-based resin material.
  36. 前記撥液領域は、アクリル系樹脂材料で形成されている請求項27〜34のいずれか一項記載のノズル部材。 The liquid repellent area, the nozzle member of any one of claims 27 to 34, which is formed of an acrylic resin material.
  37. 前記撥液領域は、シリコン系樹脂材料で形成されている請求項27〜34のいずれか一項記載のノズル部材。 The liquid repellent area, the nozzle member of any one of claims 27 to 34, which is formed of a silicon-based resin material.
  38. 投影光学系と基板上に形成される液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置であって、請求項27〜37のいずれか一項記載のノズル部材を備えた露光装置。 An exposure apparatus for exposing a substrate through a liquid immersion area formed on the projection optical system and the substrate, the exposure apparatus equipped with a nozzle member of any one of claims 27 to 37.
  39. 請求項38記載の露光装置で基板を露光することを含むデバイス製造方法。 Device manufacturing method comprising exposing a substrate with an exposure apparatus according to claim 38.
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