JP4513535B2 - Method for producing tolterodine - Google Patents

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JP4513535B2 JP2004350942A JP2004350942A JP4513535B2 JP 4513535 B2 JP4513535 B2 JP 4513535B2 JP 2004350942 A JP2004350942 A JP 2004350942A JP 2004350942 A JP2004350942 A JP 2004350942A JP 4513535 B2 JP4513535 B2 JP 4513535B2
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本発明は、尿失禁治療薬として有用なトルテロジンの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing tolterodine useful as a therapeutic agent for urinary incontinence.

トルテロジンの製造方法としては下記スキーム1に示した方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。ケイ皮酸とp−クレゾールから得られたラクトンを開環、メチル化後、エステル基を還元し、トシル化、ジイソプロピルアミノ化を経て脱メチル化し、トルテロジンを得るというものである。
この方法は工程数も多く、経済的に製造するには問題があった。また、同様な方法(特許文献2参照)も知られているが、工程数が多くトルテロジンの経済的な製造方法としては問題が残されていた。
スキーム1
As a method for producing tolterodine, a method shown in the following scheme 1 is known (for example, see Patent Document 1). The lactone obtained from cinnamic acid and p-cresol is ring-opened and methylated, and then the ester group is reduced, and then demethylated through tosylation and diisopropylamination to obtain tolterodine.
This method has many steps and has a problem in economical production. Moreover, although the same method (refer patent document 2) is also known, the number of processes was large and the problem remained as an economical manufacturing method of tolterodine.
Scheme 1

Figure 0004513535
Figure 0004513535


Figure 0004513535

Figure 0004513535


一方、下記スキーム2に示す、ケイ皮酸とp−クレゾールから得られたラクトンをラクト−ルへと還元した後、ジイソプロピルアミン存在下還元する方法が知られている(特許文献3参照)。この方法は工程数が少なくてすむと言う利点はあるが、還元に10気圧の水素圧が必要であり、必ずしも工業的実施が容易な方法ではなかった。
スキーム2

On the other hand, a method of reducing lactone obtained from cinnamic acid and p-cresol to lactol shown in Scheme 2 below and then reducing in the presence of diisopropylamine is known (see Patent Document 3). Although this method has an advantage that the number of steps is small, a hydrogen pressure of 10 atm is necessary for the reduction, and the method is not always easy to implement industrially.
Scheme 2

Figure 0004513535
Figure 0004513535


国際公開第 98/29402号パンフレットWO 98/29402 pamphlet 国際公開第 89/06644号パンフレットInternational Publication No. 89/06644 Pamphlet 国際公開第 03/014060号パンフレットInternational Publication No. 03/014060 Pamphlet

本発明は、経済的に、短い工程で工業的にトルテロジンを製造する方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a method for industrially producing tolterodine in a short process.

本発明者らはトルテロジンの製造方法に関して、式(2)

Figure 0004513535
で表される化合物を塩基で処理した後、2−(ジイソプロピルアミノ)エチル化およびそれに続くRで示される基を脱離することにより、短工程でトルテロジンを製造しうることを見出し、本発明を完成した。

すなわち本発明は、
〔1〕式(2) The present inventors relate to a method for producing tolterodine according to the formula (2)
Figure 0004513535
It was found that tolterodine can be produced in a short process by treating the compound represented by formula (2) with a base, followed by 2- (diisopropylamino) ethylation and subsequent elimination of the group represented by R. completed.

That is, the present invention
[1] Formula (2)

Figure 0004513535
Figure 0004513535

(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示す。)で表される化合物を、n−BuLi、sec−BuLi、tert−BuLiおよびリチウムジイソプロピルアミドからなる群より選ばれる塩基で処理した後、式(3) (Wherein R represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms ) was treated with a base selected from the group consisting of n-BuLi, sec-BuLi, tert-BuLi and lithium diisopropylamide . After, formula (3)

Figure 0004513535
Figure 0004513535

(式中、Xはハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシまたはアリルスルホニルオキシを示す。)で表される化合物と反応させて、式(4) (Wherein X represents a halogen atom, alkylsulfonyloxy or allylsulfonyloxy), and the compound represented by the formula (4)

Figure 0004513535
Figure 0004513535

(式中、Rは上記と同義である。)で表される化合物とし、Rで示される基を、臭化水素酸または三臭化ホウ素を脱離剤として用いることにより脱離することを特徴とする式(1) (Wherein R is as defined above), and the group represented by R is eliminated by using hydrobromic acid or boron tribromide as a leaving agent. Formula (1)

Figure 0004513535
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で表されるトルテロジンまたはその塩の製造方法
〔2〕塩基がn−BuLiまたはsec−BuLiである〔〕に記載の方法、
〕式(3)で表される化合物のXが、塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシまたはベンゼンスルホニルオキシである〔1〕に記載の方法、
〕式(3)で表される化合物のXが、塩素原子である〔〕に記載の方法に関する。
A process for producing tolterodine or a salt thereof represented by :
[2 ] The method according to [ 1 ], wherein the base is n-BuLi or sec-BuLi,
X of the compound represented by [3] (3) A method according to chlorine atom, bromine atom, methanesulfonyloxy, toluenesulfonyloxy or benzenesulfonyloxy [1],
[ 4 ] The method according to [ 3 ], wherein X of the compound represented by the formula (3) is a chlorine atom.

本発明により、トルテロジンまたはその塩を、経済的に、短い工程で工業的に製造することができる。
According to the present invention, tolterodine or a salt thereof can be industrially produced in a short process economically.

以下、本発明を詳細に説明する
式(2)で表される化合物は特許文献 1記載の方法を参考に下記スキームに従って製造することができるが、特に限定されない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail .
The compound represented by the formula (2) can be produced according to the following scheme with reference to the method described in Patent Document 1, but is not particularly limited.

Figure 0004513535
Figure 0004513535

Rで示される基としては、炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル基、炭素数3〜18のトリアルキルシリル基または2−テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert‐ブチル、sec‐ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシルなどが挙げられ、メチルが反応性、経済性の観点より好ましい。
置換基を有していてもよいベンジル基としては、ベンジル基、4−メトキシベンジル基、4−ニトロベンジル基などが挙げられ、ベンジル基が反応性、経済性の観点より好ましい。
Examples of the group represented by R include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an optionally substituted benzyl group, a trialkylsilyl group having 3 to 18 carbon atoms, or a 2-tetrahydropyranyl group. .
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, sec-butyl, pentyl, isopentyl, neopentyl, hexyl, isohexyl, and the like. It is preferable from the viewpoint of economy.
Examples of the benzyl group that may have a substituent include a benzyl group, a 4-methoxybenzyl group, and a 4-nitrobenzyl group, and the benzyl group is preferable from the viewpoints of reactivity and economy.

炭素数3〜18のトリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、ジt−ブチルメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基などが挙げられる。
式(2)から式(4)を製造する反応に使用する塩基としては、n−BuLi, sec−BuLi, tert−BuLiまたはリチウムジイソプロピルアミド等のリチウム化合物が挙げられ、n−BuLiまたはsec−BuLiが安全性、経済性の観点より好ましい。
塩基の使用量は式(2)の化合物1モルに対して、通常1〜2モル量、好ましくは1.2〜1.8モル量である。塩基の使用量が1モルより少ないと原料が未反応のまま残り、収率が低下する虞がある。塩基の使用量が2モル量より多いと、未反応の塩基が反応液内に残り、生成物と反応して不純物を生じるなど、加えた塩基に見合う収率向上がなく、経済的でない。
Examples of the trialkylsilyl group having 3 to 18 carbon atoms include trimethylsilyl group, di-t-butylmethylsilyl group, and t-butyldimethylsilyl group.
Examples of the base used in the reaction for producing formula (4) from formula (2) include lithium compounds such as n-BuLi, sec-BuLi, tert-BuLi or lithium diisopropylamide, and n-BuLi or sec-BuLi. Is preferable from the viewpoint of safety and economy.
The amount of the base to be used is generally 1-2 mol, preferably 1.2-1.8 mol, per 1 mol of the compound of formula (2). If the amount of the base used is less than 1 mol, the raw material remains unreacted and the yield may be reduced. When the amount of the base used is more than 2 moles, the unreacted base remains in the reaction solution, reacting with the product to produce impurities, and there is no improvement in yield corresponding to the added base, which is not economical.

式(3)のXとしては、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等が挙げられ、ハロゲン原子としては塩素原子または臭素原子などが挙げられ、価格、反応性の観点より塩素原子が好ましい。
式(3)の化合物の使用量は式(2)の化合物1モルに対して、通常1〜2モル量、好ましくは1.2〜1.8モル量である。式(3)の化合物の使用量が1モルより少ないと原料が未反応のまま残り、収率が低下する虞がある。式(3)の化合物の使用量が2モル量より多いと、未反応の式(3)の化合物が反応液内に残るだけで、加えた量に見合う収率向上がなく、経済的でない。
X in the formula (3) includes a halogen atom, methanesulfonyloxy, toluenesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy and the like, and examples of the halogen atom include a chlorine atom or a bromine atom. From the viewpoint of price and reactivity, chlorine Atoms are preferred.
The amount of the compound of formula (3) to be used is generally 1-2 mol, preferably 1.2-1.8 mol, per 1 mol of the compound of formula (2). If the amount of the compound of the formula (3) used is less than 1 mol, the raw material remains unreacted and the yield may be lowered. When the amount of the compound of the formula (3) used is more than 2 mol, only the unreacted compound of the formula (3) remains in the reaction solution, and the yield is not improved corresponding to the added amount, which is not economical.

溶媒としてはエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシメタン、ジオキサン、t−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテルからなる群から選ばれる1種、もしくは2種以上のエーテル溶媒、あるいはこれらの溶媒とトルエン、キシレン、ヘプタン、ヘキサンなどの炭化水素溶媒の混合溶媒が使用できる。
溶媒の使用量は、式(2)の化合物1モルに対して、通常0.5〜10L、好ましくは、0.5〜7Lである。溶媒の使用量が式(2)の化合物1モルに対して、0.5L以下の場合は攪拌が十分できなく虞があり、10L以上の場合は反応が遅くなる虞があり、好ましくない。
As the solvent, ether, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, diethoxymethane, dioxane, t-butyl methyl ether, cyclopentyl methyl ether, one or more ether solvents selected from the group consisting of these solvents, or these solvents and toluene, xylene , A mixed solvent of hydrocarbon solvents such as heptane and hexane can be used.
The usage-amount of a solvent is 0.5-10L normally with respect to 1 mol of compounds of Formula (2), Preferably, it is 0.5-7L. When the amount of the solvent used is 0.5 L or less with respect to 1 mol of the compound of the formula (2), stirring may not be sufficient, and when it is 10 L or more, the reaction may be slow, which is not preferable.

反応温度は、通常−100〜20℃、好ましくは−80〜10℃である。反応温度が−100℃以下であると工業的に実施が難しくなるのに加え、反応速度が遅くなるので好ましくなく、20℃を超えると副生物が生成する虞があるため好ましくない。
反応時間としては、反応温度にもよるが通常塩基引き抜きに2〜10時間、式(3)の化合物との反応に1〜5時間である。
反応後、反応液に水を加え、有機層を分液後濃縮することで生成物を単離することができる。
The reaction temperature is generally −100 to 20 ° C., preferably −80 to 10 ° C. If the reaction temperature is −100 ° C. or lower, it is not preferable because it is difficult to implement industrially and the reaction rate is slow, and if it exceeds 20 ° C., by-products may be generated.
Although depending on the reaction temperature, the reaction time is usually 2 to 10 hours for base extraction and 1 to 5 hours for the reaction with the compound of formula (3).
After the reaction, the product can be isolated by adding water to the reaction solution and separating and concentrating the organic layer.

Rで示される基の脱離法としては、一般的な方法を用いることにより実施することができる。たとえば、Rで示される基が炭素数1〜6のアルキル基の場合は、グリーン、ウッツ著 ”有機合成における保護基”第三版(ワイリーインターナショナル)「Green, Wuts“Protective Groups in Organic Synthesis. Third Edition”(Wiley International)」249ページから257ページ、265ページから266ページに記載されている方法により実施できる。 The method for eliminating the group represented by R can be carried out by using a general method. For example, when the group represented by R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Green, Wuts “Protective Groups in Organic Synthesis. Edition ”(Wiley International)” can be carried out by the method described on pages 249 to 257 and pages 265 to 266.

Rで示される基がテトラヒドロピラニルの場合は同書261ページ記載の方法で実施でき、シリル基の場合は同書273から276ページの方法で実施できる。
Rで示される基が置換されてもよいベンジル基の場合は、同書266ページから271ページに記載されている方法により実施できる。
反応後の処理方法としては、例えば、反応液を水にあける、もしくは塩酸水で抽出するなどして得た水溶液をアルカリ性とした後、有機溶媒で抽出、濃縮することにより生成物を単離できる。
When the group represented by R is tetrahydropyranyl, it can be carried out by the method described on page 261 of the same book, and when it is a silyl group, it can be carried out by the method of pages 273 to 276 of the same book.
When the group represented by R is a benzyl group which may be substituted, it can be carried out by the method described on pages 266 to 271 of the same document.
As the treatment method after the reaction, for example, the aqueous solution obtained by placing the reaction solution in water or extracting with aqueous hydrochloric acid is made alkaline, and then the product can be isolated by extracting and concentrating with an organic solvent. .

Rで示される基が炭素数1〜6のアルキル基の場合、脱離剤としては臭化水素酸、三臭化ホウ素などが挙げられ、臭化水素酸が価格、取扱いの観点より好ましい。
臭化水素酸の使用量は、式(4)の化合物1モルに対して、通常2〜10モル量、好ましくは3〜7モル量である。臭化水素酸の使用量が2モルより少ないと原料が未反応のまま残り、収率が低下する虞がある。臭化水素酸の使用量が10モル量より多くても、使用した臭化水素酸に見合う収率向上がなく、経済的でない。
When the group represented by R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, examples of the leaving agent include hydrobromic acid and boron tribromide, and hydrobromic acid is preferable from the viewpoint of price and handling.
The usage-amount of hydrobromic acid is 2-10 mol amount normally with respect to 1 mol of compounds of Formula (4), Preferably it is 3-7 mol amount. If the amount of hydrobromic acid used is less than 2 mol, the raw material remains unreacted and the yield may be reduced. Even if the amount of hydrobromic acid used is more than 10 moles, the yield is not improved corresponding to the hydrobromic acid used, which is not economical.

溶媒としては、酢酸などが挙げられるが、必ずしも溶媒の使用は必要ではなく、臭化水素酸を溶媒として使用することもできる。
酢酸を溶媒として使用する場合、式(4)の化合物1モルに対して、通常200mL〜1L 、好ましくは200mL〜500mLであるが、酢酸の使用量は反応の結果にほとんど影響を与えない。
Examples of the solvent include acetic acid and the like, but it is not always necessary to use a solvent, and hydrobromic acid can also be used as a solvent.
When acetic acid is used as a solvent, the amount is usually 200 mL to 1 L, preferably 200 mL to 500 mL, relative to 1 mol of the compound of formula (4), but the amount of acetic acid used hardly affects the reaction results.

反応温度としては、通常20〜150℃、好ましくは50〜120℃で行われる。
反応後の処理方法としては、例えば、反応液を水にあけ、アルカリ性とした後、有機溶媒で抽出、濃縮することにより生成物を単離できる。

Rで示される基がシリル基の場合は、フッ化水素酸、フッ化カリウム、フッ化テトラブチルアンモニウムなどのフッ化物、塩酸、臭化水素酸などの鉱酸が挙げられ、塩酸が経済性、試剤の安全性の観点より好ましい。
フッ化物、酸の使用量としては、式(4)の化合物1モルに対して、通常0.01モル〜2モルである。
The reaction temperature is generally 20 to 150 ° C, preferably 50 to 120 ° C.
As a treatment method after the reaction, for example, the reaction solution is poured into water to make it alkaline, and then the product can be isolated by extraction and concentration with an organic solvent.

When the group represented by R is a silyl group, fluorides such as hydrofluoric acid, potassium fluoride and tetrabutylammonium fluoride, mineral acids such as hydrochloric acid and hydrobromic acid, and hydrochloric acid is economical. This is preferable from the viewpoint of the safety of the reagent.
The amount of fluoride and acid used is usually 0.01 mol to 2 mol with respect to 1 mol of the compound of formula (4).

Rで示される基が2‐テトラヒドロピラニル基の場合は、鉱酸が使用され、鉱酸としては、塩酸などが挙げられる。鉱酸の使用量としては、式(4)の化合物1モルに対して、通常0.001モル〜1モルである。
反応後の処理方法としては、例えば、反応液を水にあける、もしくは塩酸水で抽出するなどして得た水溶液をアルカリ性とした後、有機溶媒で抽出、濃縮することにより生成物を単離できる。
When the group represented by R is a 2-tetrahydropyranyl group, a mineral acid is used, and examples of the mineral acid include hydrochloric acid and the like. The use amount of the mineral acid is usually 0.001 mol to 1 mol with respect to 1 mol of the compound of the formula (4).
As the treatment method after the reaction, for example, the aqueous solution obtained by placing the reaction solution in water or extracting with aqueous hydrochloric acid is made alkaline, and then the product can be isolated by extracting and concentrating with an organic solvent. .

Rで示される基が、置換されてもよいベンジル基の場合は、Rで示される基が炭素数1〜6のアルキル基の場合と同様な方法、もしくはパラジウム等の還元触媒存在下で還元する方法が挙げられる。還元触媒としてはパラジウム炭素、水酸化パラジウム炭素、塩化パラジウム、パラジウム黒などがあげられ、パラジウム炭素が経済性、試剤の安全性の観点より好ましい。

トルテロジンは例えば、光学活性の酸による光学分割などの方法により光学活性トルテロジンとすることができる。
When the group represented by R is an optionally substituted benzyl group, reduction is performed in the same manner as when the group represented by R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or in the presence of a reduction catalyst such as palladium. A method is mentioned. Examples of the reduction catalyst include palladium carbon, palladium hydroxide carbon, palladium chloride, palladium black, and the like. Palladium carbon is preferable from the viewpoint of economy and safety of the reagent.

Tolterodine can be converted into optically active tolterodine by a method such as optical resolution with an optically active acid.

次に参考例および実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら参考例、実施例になんら限定されるものではない。

参考例
2−ベンジル−4−メチルアニソール
WO 89/06644 実施例4 l)を参考に実施した。
4−メチルアニソール(200g, 1.64mole)、ベンジルアルコール(40.0g, 0.37mole)、p−トルエンスルホン酸一水和物(8.0g, 0.042 mole)の混合物を、反応で生じる水を除去しながら160〜175℃で2時間撹拌した。過剰の4−メチルアニソールを減圧下留去(内温132℃/25mmHg(3.3kPa))後、残渣をトルエン(50mL)に溶解し、有機層を水(20mL)、10%苛性ソーダ水(20mL)ついで水(20mL)で洗浄した。有機層を濃縮後、残渣を減圧蒸留し、沸点120〜138℃/0.7mmHg(0.09kPa)で留出する成分を主留として得た(52.75g, 67.2%)。
NMRの分析により2−ベンジル−4−メチルアニソールと3−ベンジル−4−メチルアニソールの2.7:1の混合物であった。
2−ベンジル−4−メチルアニソール 1H NMR (400MHz, CDCl3);δ=2.23 (3H, s), 3.77 (3H, s), 3.93 (2H, s), 6.76 (1H, d, J=8 Hz), 6.87 (1H, d, J=1.6 Hz), 6.98 (1H, dd, J=8, 1.6 Hz), 7.10−7.30 (5H, m).
3−ベンジル−4−メチルアニソール 1H NMR (400MHz, CDCl3);δ=2.17 (3H, s), 3.74 (3H, s), 3.93 (2H, s), 6.62−7.45 (8H, m)
Next, the present invention will be specifically described with reference examples and examples. However, the present invention is not limited to these reference examples and examples.

Reference example
2-Benzyl-4-methylanisole
WO 89/06644 Example 4 was carried out with reference to l).
A mixture of 4-methylanisole (200 g, 1.64 mole), benzyl alcohol (40.0 g, 0.37 mole) and p-toluenesulfonic acid monohydrate (8.0 g, 0.042 mole) was added while removing water generated in the reaction. Stir at ~ 175 ° C for 2 hours. Excess 4-methylanisole was distilled off under reduced pressure (internal temperature 132 ° C / 25mmHg (3.3kPa)), the residue was dissolved in toluene (50mL), the organic layer was water (20mL), 10% caustic soda water (20mL) It was then washed with water (20 mL). After concentrating the organic layer, the residue was distilled under reduced pressure, and a component distilled at a boiling point of 120 to 138 ° C./0.7 mmHg (0.09 kPa) was obtained as a main fraction (52.75 g, 67.2%).
NMR analysis showed a 2.7: 1 mixture of 2-benzyl-4-methylanisole and 3-benzyl-4-methylanisole.
2-Benzyl-4-methylanisole 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ); δ = 2.23 (3H, s), 3.77 (3H, s), 3.93 (2H, s), 6.76 (1H, d, J = 8 Hz), 6.87 (1H, d, J = 1.6 Hz), 6.98 (1H, dd, J = 8, 1.6 Hz), 7.10-7.30 (5H, m).
3-Benzyl-4-methylanisole 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ); δ = 2.17 (3H, s), 3.74 (3H, s), 3.93 (2H, s), 6.62-7.45 (8H, m)

実施例1
N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの製造
アルゴン雰囲気下、THF(300ml)に2−ベンジル−4−メチルアニソールと3−ベンジル−4−メチルアニソールの混合物(2.7:1、10.0g、47.1 mmol)を溶解し、−78℃まで冷却した。
この溶液に13% n−ブチルリチウム(34.8g、 70.7 mmol)を滴下後0℃まで昇温して6時間攪拌した。再度−78℃まで冷却し、2−(ジイソプロピルアミノ)エチルクロリド(11.6g, 70.9 mmol)を滴下し、室温まで昇温して2時間攪拌した。水(20ml)を滴下後、有機層にトルエン(100ml)を加え10%塩酸(200ml)で2度抽出した。水層を合わせて苛性ソーダ(31g)を加え、トルエンで2度(300ml、200ml)抽出した。有機層を合わせて5%食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮(14.65g)した。得られた濃縮物にキシレン(120ml)を入れて濃縮する操作を3度繰り返し、残渣12.5gを得た。
NMRの分析の結果、N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンとN,N−ジイソプロピル−3−(5−メトキシ−2−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの約10:1の混合物だった。(N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの収率は2−ベンジル−4−メチルアニソールから98.5%であった。
(N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミン 1H NMR (400MHz, CDCl3);δ=0.93 (d, J=1.2Hz, 6H), 0.92 (d, J=1.2Hz, 6H), 2.09−2,15 (m, 2H), 2.25 (s, 3H) 2.32−2.35 (m, 2H), 2.94−3.00 (m, 2H), 3.73 (s, 3H), 4.34 (t, J=7.6Hz, 1H), 6.70 (d, J=12Hz, 1H), 6.92 (d, J=8Hz, 1H), 7.05 (br, 1H), 7.10−7.18 (m, 2H) ,7.21−7.28 (m, 3H)
Example 1
Preparation of N, N-diisopropyl-3- (2-methoxy-5-methylphenyl) -3-phenylpropanamine Under argon atmosphere, THF (300 ml) was mixed with 2-benzyl-4-methylanisole and 3-benzyl-4- A mixture of methylanisole (2.7: 1, 10.0 g, 47.1 mmol) was dissolved and cooled to −78 ° C.
To this solution, 13% n-butyllithium (34.8 g, 70.7 mmol) was added dropwise, and then the mixture was warmed to 0 ° C. and stirred for 6 hours. The mixture was again cooled to −78 ° C., 2- (diisopropylamino) ethyl chloride (11.6 g, 70.9 mmol) was added dropwise, and the mixture was warmed to room temperature and stirred for 2 hours. After dropwise addition of water (20 ml), toluene (100 ml) was added to the organic layer and extracted twice with 10% hydrochloric acid (200 ml). The aqueous layers were combined, caustic soda (31 g) was added, and the mixture was extracted twice with toluene (300 ml, 200 ml). The organic layers were combined, washed with 5% brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated (14.65 g). The operation of adding xylene (120 ml) to the obtained concentrate and concentrating was repeated three times to obtain 12.5 g of a residue.
As a result of NMR analysis, N, N-diisopropyl-3- (2-methoxy-5-methylphenyl) -3-phenylpropanamine and N, N-diisopropyl-3- (5-methoxy-2-methylphenyl)- It was an approximately 10: 1 mixture of 3-phenylpropanamine. The yield of (N, N-diisopropyl-3- (2-methoxy-5-methylphenyl) -3-phenylpropanamine was 98.5% from 2-benzyl-4-methylanisole.
(N, N-diisopropyl-3- (2-methoxy-5-methylphenyl) -3-phenylpropanamine 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ); δ = 0.93 (d, J = 1.2 Hz, 6H), 0.92 (d, J = 1.2Hz, 6H), 2.09-2, 15 (m, 2H), 2.25 (s, 3H) 2.32-2.35 (m, 2H), 2.94-3.00 (m, 2H), 3.73 (s, 3H), 4.34 (t, J = 7.6Hz, 1H), 6.70 (d, J = 12Hz, 1H), 6.92 (d, J = 8Hz, 1H), 7.05 (br, 1H), 7.10-7.18 (m, 2H), 7.21-7.28 (m, 3H)

実施例2
N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの製造
アルゴン雰囲気下、THF(50ml)に2−ベンジル−4−メチルアニソールと3−ベンジル−4−メチルアニソールの混合物(2.7:1、10.0g、47.1 mmol)を溶解し、−78℃まで冷却した。
この溶液に13.9% n−ブチルリチウム(32.46g、 70.5 mmol)を滴下後0℃まで昇温して4時間攪拌した。再度−78℃まで冷却し、2−(ジイソプロピルアミノ)エチルクロリド(11.6g, 70.7mmol)を滴下し、0℃まで昇温して2時間攪拌した。水(20ml)を滴下後、10%塩酸で2度(25mL、15mL)抽出した。水層を合一し苛性ソーダ(4.9g)を加え、トルエンで2度(30ml、20ml)抽出した。有機層を合わせて5%食塩水(15mL)で2回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた反応混合物の濃縮物にキシレン(100ml)を入れて濃縮する操作を3度繰り返し、残渣を13.7g得た。
NMRの分析の結果、N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンとN,N−ジイソプロピル−3−(5−メトキシ−2−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの約10:1の混合物だった。(N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの収率は2−ベンジル−4−メチルアニソールから100%であった。
Example 2
Preparation of N, N-diisopropyl-3- (2-methoxy-5-methylphenyl) -3-phenylpropanamine In THF (50 ml) under argon atmosphere, 2-benzyl-4-methylanisole and 3-benzyl-4- A mixture of methylanisole (2.7: 1, 10.0 g, 47.1 mmol) was dissolved and cooled to −78 ° C.
To this solution, 13.9% n-butyllithium (32.46 g, 70.5 mmol) was added dropwise, and then the mixture was heated to 0 ° C. and stirred for 4 hours. The mixture was cooled again to −78 ° C., 2- (diisopropylamino) ethyl chloride (11.6 g, 70.7 mmol) was added dropwise, the temperature was raised to 0 ° C., and the mixture was stirred for 2 hours. Water (20 ml) was added dropwise, followed by extraction twice with 10% hydrochloric acid (25 mL, 15 mL). The aqueous layers were combined, caustic soda (4.9 g) was added, and extracted twice with toluene (30 ml, 20 ml). The organic layers were combined, washed twice with 5% brine (15 mL), dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated. The operation of adding xylene (100 ml) to the concentrate of the obtained reaction mixture and concentrating was repeated three times to obtain 13.7 g of a residue.
As a result of NMR analysis, N, N-diisopropyl-3- (2-methoxy-5-methylphenyl) -3-phenylpropanamine and N, N-diisopropyl-3- (5-methoxy-2-methylphenyl)- It was an approximately 10: 1 mixture of 3-phenylpropanamine. The yield of (N, N-diisopropyl-3- (2-methoxy-5-methylphenyl) -3-phenylpropanamine was 100% from 2-benzyl-4-methylanisole.

実施例3
トルテロジンの製造
酢酸(15mL)にN,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンとN,N−ジイソプロピル−3−(5−メトキシ−2−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの約10:1の混合物(11.0g、32.4mmole)を加えて溶解し、47%HBr水溶液(25mL)を加え、3時間加熱還流した(バス温120℃)。反応溶液を室温に冷却し、溶媒を留去後、残渣に水(120mL)とトルエン(110mL)を加え、苛性ソーダ(2.2g)と炭酸ナトリウム(26g)でpH11にした。水層を分液して除去し、有機層を食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、ラセミトルテロジン9.04g得た(収率85.7%)。
NMRの分析の結果、トルテロジンとN,N−ジイソプロピル−3−(5−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの約10:1の混合物だった。
トルテロジン 1H NMR (400MHz, CDCl3);δ=1.06 (d, J=6.8Hz, 6H), 1.11 (d, J=6.8Hz, 6H), 2.11 (s, 3H) 2.03−2.15 (m, 1H), 2.24−2.42 (m, 1H), 2.69−2.73 (m, 1H), 3.17−3.25 (m, 2H), 4.48 (dd, J=3.6, 11.6Hz, 1H), 6.54 (br, 1H), 6.77 (dd, J=2, 7.6Hz, 1H), 7.13−7.27 (m, 1H), 7.29−7.35 (m, 4H)
Example 3
Preparation of tolterodine Acetic acid (15 mL) was mixed with N, N-diisopropyl-3- (2-methoxy-5-methylphenyl) -3-phenylpropanamine and N, N-diisopropyl-3- (5-methoxy-2-methylphenyl) ) -3-Phenylpropanamine about 10: 1 mixture (11.0 g, 32.4 mmole) was added and dissolved, 47% HBr aqueous solution (25 mL) was added, and the mixture was heated to reflux (bath temperature 120 ° C.) for 3 hours. The reaction solution was cooled to room temperature, the solvent was distilled off, water (120 mL) and toluene (110 mL) were added to the residue, and the pH was adjusted to 11 with caustic soda (2.2 g) and sodium carbonate (26 g). The aqueous layer was separated and removed, and the organic layer was washed with brine and dried over magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 9.04 g of racemic tolterodine (yield 85.7%).
As a result of NMR analysis, a mixture of tolterodine and N, N-diisopropyl-3- (5-hydroxy-2-methylphenyl) -3-phenylpropanamine was about 10: 1.
Tolterodine 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ); δ = 1.06 (d, J = 6.8 Hz, 6H), 1.11 (d, J = 6.8 Hz, 6H), 2.11 (s, 3H) 2.03-2.15 (m, 1H ), 2.24−2.42 (m, 1H), 2.69−2.73 (m, 1H), 3.17−3.25 (m, 2H), 4.48 (dd, J = 3.6, 11.6Hz, 1H), 6.54 (br, 1H), 6.77 (dd, J = 2, 7.6Hz, 1H), 7.13-7.27 (m, 1H), 7.29-7.35 (m, 4H)

実施例4
光学活性トルテロジン酒石酸塩
エタノール(10mL)にトルテロジンとN,N−ジイソプロピル−3−(5−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの約10:1の混合物(4.0g、11.3mmole)を溶解した溶液を40℃に加温し、L−酒石酸(2.55g、17.0mmole)のエタノール(20mL)溶液を滴下した。この溶液を1時間加熱還流した後0℃に冷却し、析出した結晶をろ過、エタノール(3mL)で洗浄し、表題化合物2.33gを得た。トルテロジンから光学活性トルテロジン酒石酸塩の収率は43.9%だった。
1H NMR (400MHz, DMSO−d6); δ=1.02−1.07 (m, 12H), 2.16 (s, 3H) 2.25−2.26 (m, 2H), 2.66 (br, 2H), 3.37−3.43 (m, 2H), 4.00 (s, 2H), 4.48 (t, J=8Hz, 1H), 6.65 (d, J=8.4Hz, 1H), 6.79 (d, J=8.4Hz, 1H), 6.99 (s, 1H), 7.13−7.16 (m, 1H), 7.24−7.31 (m, 4H)
7.24−7.31 (m, 4H)
Example 4
Approximately 10: 1 mixture of optically active tolterodine tartrate ethanol (10 mL) and tolterodine and N, N-diisopropyl-3- (5-hydroxy-2-methylphenyl) -3-phenylpropanamine (4.0 g, 11.3 mmole) The solution in which was dissolved was heated to 40 ° C., and a solution of L-tartaric acid (2.55 g, 17.0 mmole) in ethanol (20 mL) was added dropwise. The solution was heated to reflux for 1 hour and then cooled to 0 ° C., and the precipitated crystals were filtered and washed with ethanol (3 mL) to give 2.33 g of the title compound. The yield of optically active tolterodine tartrate from tolterodine was 43.9%.
1 H NMR (400 MHz, DMSO-d 6 ); δ = 1.02-1.07 (m, 12H), 2.16 (s, 3H) 2.25-2.26 (m, 2H), 2.66 (br, 2H), 3.37-3.43 (m , 2H), 4.00 (s, 2H), 4.48 (t, J = 8Hz, 1H), 6.65 (d, J = 8.4Hz, 1H), 6.79 (d, J = 8.4Hz, 1H), 6.99 (s, 1H), 7.13-7.16 (m, 1H), 7.24-7.31 (m, 4H)
7.24-7.31 (m, 4H)

Claims (4)

式(2)
Figure 0004513535
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示す。)で表される化合物を、n−BuLi、sec−BuLi、tert−BuLiおよびリチウムジイソプロピルアミドからなる群より選ばれる塩基で処理した後、式(3)
Figure 0004513535
(式中、Xはハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシまたはアリルスルホニルオキシを示す。)で表される化合物と反応させて、式(4)
Figure 0004513535
(式中、Rは上記と同義である。)で表される化合物とし、Rで示される基を、臭化水素酸または三臭化ホウ素を脱離剤として用いることにより脱離することを特徴とする式(1)
Figure 0004513535
で表されるトルテロジンまたはその塩の製造方法。
Formula (2)
Figure 0004513535
(Wherein R represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms ) was treated with a base selected from the group consisting of n-BuLi, sec-BuLi, tert-BuLi and lithium diisopropylamide . After, formula (3)
Figure 0004513535
(Wherein X represents a halogen atom, alkylsulfonyloxy or allylsulfonyloxy) and the compound represented by the formula (4)
Figure 0004513535
(Wherein R is as defined above), and the group represented by R is eliminated by using hydrobromic acid or boron tribromide as a leaving agent. Formula (1)
Figure 0004513535
A method for producing tolterodine or a salt thereof represented by:
塩基がn−BuLiまたはsec−BuLiである請求項に記載の方法。 The method according to claim 1 , wherein the base is n-BuLi or sec-BuLi. 式(3)で表される化合物のXが、塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシまたはベンゼンスルホニルオキシである請求項1に記載の方法。 X of the compound represented by the formula (3) is a chlorine atom, a bromine atom, methanesulfonyloxy, The method according to claim 1 is toluenesulfonyloxy or benzenesulfonyloxy. 式(3)で表される化合物のXが、塩素原子である請求項に記載の方法。 The method according to claim 1 , wherein X of the compound represented by formula (3) is a chlorine atom.
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