JP2005145833A - Method for producing syn-1,3-diol compound - Google Patents

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維奇 王
Tetsuya Ikemoto
哲哉 池本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method which can industrially advantageously produce a Syn-1,3-diol compound. <P>SOLUTION: A compound (III) (wherein X is -CH=CH- or the like; R is an inert group under reducing conditions; and R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are each a lower alkyl group or the like) is reacted with a mixture containing a borane compound (IIa) (wherein R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>are each a lower alkyl group or the like) or a borane compound (IIb) (wherein R<SP>5</SP>is a lower alkyl or the like) and sodium boron hydride in a mixed solvent containing a lower alcohol and tetrahydrofuran to obtain the Syn-1,3-diol compound (I) (wherein one of Y<SP>1</SP>and Y<SP>2</SP>is oxygen and the other is a hydroxy group: and --- is a double bond when Y<SP>1</SP>and Y<SP>2</SP>bonded are oxygens and is a single bond when Y<SP>1</SP>and Y<SP>2</SP>bonded are hydroxy groups; X, R, R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>are the same as defined above). <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、立体選択的な還元反応によるSyn−1,3−ジオール化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a Syn-1,3-diol compound by a stereoselective reduction reaction.

一般式(V):   Formula (V):

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、Xは−CHCH−、−CH=CH−(式中、2重結合はトランス異性体、シス異性体またはそれらの混合物を示す。)または−OCH−(式中、OがRに結合する。)を示し、Rは還元条件で不活性である基を有する芳香族基を示し、立体配置は相対的立体配置を意味する。)で表されるSyn−1,3−ジオール化合物(以下、化合物(V)ともいう。)は、例えば高脂血症治療薬であるフルバスタチン等として有用である。 (Wherein X represents —CH 2 CH 2 —, —CH═CH— (wherein the double bond represents a trans isomer, a cis isomer or a mixture thereof) or —OCH 2 — (wherein O binds to R.), R represents an aromatic group having a group that is inactive under reducing conditions, and the configuration means a relative configuration. Syn-1,3 -A diol compound (hereinafter also referred to as compound (V)) is useful, for example, as fluvastatin, which is a therapeutic drug for hyperlipidemia.

かかる化合物(V)の合成法としては、例えば、下記反応スキームに示される方法が報告されている(特許文献1参照)。   As a synthesis method of such a compound (V), for example, a method shown in the following reaction scheme has been reported (see Patent Document 1).

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、Xは−CHCH−または−CH=CH−であり;Rは反応条件に不活性なエステル基であり;Rは還元条件下で不活性である基を有する芳香族基であり、Rはアリルまたは炭素原子1〜4個を有する低級アルキルであり、Rは炭素原子2〜4個を有する第一または第二アルキルであり、そしてZおよびZの一つは酸素であり、他はヒドロキシである。) Wherein X is —CH 2 CH 2 — or —CH═CH—; R 1 is an ester group inert to the reaction conditions; R is an aromatic having a group inert to the reducing conditions R 4 is allyl or lower alkyl having 1 to 4 carbon atoms, R 3 is primary or secondary alkyl having 2 to 4 carbon atoms, and one of Z 1 and Z 2 One is oxygen and the other is hydroxy.)

この方法は、反応中間体として環状のボロネート化合物(2a)および/または(2b)を経由することにより、立体選択的にアルコールに還元するものであり、この種の反応の立体選択性は、最適条件でsyn/anti比が99:1であることが報告されている(非特許文献1参照)。   This method is a method in which a cyclic boronate compound (2a) and / or (2b) is used as a reaction intermediate to reduce stereoselectively to an alcohol. The stereoselectivity of this kind of reaction is optimal. It has been reported that the syn / anti ratio is 99: 1 under the conditions (see Non-Patent Document 1).

係る反応系に水が存在する場合、Rが加水分解されてカルボン酸体が生成し得る。カルボン酸体は、環状ボロネート化合物(2a)および(2b)の形成を阻害するので、一部にカルボン酸体が生成すると立体選択性が低くなる要因となる。したがって、反応系に水が出来るだけ混入しないように管理する必要がある。 When water is present in such a reaction system, R 1 can be hydrolyzed to produce a carboxylic acid form. Since the carboxylic acid form inhibits the formation of the cyclic boronate compounds (2a) and (2b), if the carboxylic acid form is partially generated, the stereoselectivity becomes a factor. Therefore, it is necessary to manage the reaction system so that water is not mixed as much as possible.

また、たとえ禁水条件で行ったとしても、一般式(1)で表される化合物のエステル基は、Zとの分子内エステル交換反応により、容易に対応するδ−ラクトン化合物に変換し得る。δ−ラクトン化合物は、もはや環状ボロネート化合物を形成し得ないので、一部にδ−ラクトン化合物が生成すると立体選択性を低くする要因となる。したがって、δ−ラクトン化合物が生成しないように反応条件を厳格に設定する必要がある。 Even if the reaction is carried out under water-free conditions, the ester group of the compound represented by the general formula (1) can be easily converted to the corresponding δ-lactone compound by intramolecular transesterification with Z 1. . Since the δ-lactone compound can no longer form a cyclic boronate compound, the formation of a δ-lactone compound in part causes a reduction in stereoselectivity. Accordingly, it is necessary to strictly set the reaction conditions so that the δ-lactone compound is not generated.

このように、上記のSyn−1,3−ジオール化合物の製造方法においては、分子内にエステル基が存在することによる様々な問題があり、工業的応用を制約する要因となりうる。   As described above, in the method for producing the Syn-1,3-diol compound, there are various problems due to the presence of an ester group in the molecule, which may be a factor that restricts industrial application.

一方、当該還元反応において、下記スキームに示すように、エステル基をアミド基にした態様が開示されている(特許文献2参照)。   On the other hand, in the reduction reaction, as shown in the following scheme, an embodiment in which an ester group is an amide group is disclosed (see Patent Document 2).

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、RまたはRは独立してC1―C10アルキル等を示し、R10はC1―C4アルキルを示す。)
しかし、特許文献2には該還元反応のsyn/anti比については開示されていない。仮に最適条件の99:1の立体選択性が得られたとしても、化合物(V)の用途である医薬品分野では、不純物の量は一般的に0.1%未満にする必要があるため、一般式(5)で表される化合物を化合物(V)の中間体とする場合、何らかの精製手段が必須である。しかしながら、一般式(5)で表される化合物は油状物であり、ジアステレオ純度を上げようとするとカラムクロマトグラフィーなどの非工業的手段が必要となる。
(In the formula, R 8 or R 9 independently represents C1-C10 alkyl or the like, and R 10 represents C1-C4 alkyl.)
However, Patent Document 2 does not disclose the syn / anti ratio of the reduction reaction. Even if the optimum stereoselectivity of 99: 1 is obtained, the amount of impurities generally needs to be less than 0.1% in the pharmaceutical field where the compound (V) is used. When the compound represented by the formula (5) is used as an intermediate of the compound (V), some purification means is essential. However, the compound represented by the general formula (5) is an oily substance, and non-industrial means such as column chromatography are required to increase the diastereopurity.

一般式(5)で表される化合物を結晶性の中間体に導いた後に、結晶化によりジアステレオ純度を上げることが考えられるが、一般式(5)で表される化合物の1,3−ジオール基は脱離を受けやすく化学的に不安定であるため、結晶性中間体に導く際に、1,3−ジオール基の保護、脱保護が必要となり(特許文献2参照)、工程数が増え、操作が煩雑になるなどの問題もあり、有利な方法とは言えない。
特許第2853227号公報 国際公開第94/20492号パンフレット 「オルガニックプロセスリサーチ&デバロップメント(Organic Process Research & Development)、米国、2001年、第5巻、p.519−527
It is conceivable to increase the diastereopurity by crystallization after introducing the compound represented by the general formula (5) to a crystalline intermediate. Since the diol group is susceptible to elimination and chemically unstable, it is necessary to protect and deprotect the 1,3-diol group when it is led to a crystalline intermediate (see Patent Document 2). There are also problems such as an increase and complicated operation, which is not an advantageous method.
Japanese Patent No. 2853227 International Publication No. 94/20492 Pamphlet "Organic Process Research & Development, USA, 2001, Vol. 5, pp. 519-527.

本発明が解決しようとする課題は、上記に挙げられた問題を解決し、Syn−1,3−ジオール化合物を工業的に有利に製造し得る方法を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a method capable of industrially advantageously producing a Syn-1,3-diol compound.

本発明者らは、エステル基より化学的に安定なアミド基に着目し、Rが芳香族基である場合も高立体選択的な還元が行い得ることを見出した。さらに得られるSyn−1,3−ジオール化合物をそのまま再結晶することにより、容易に医薬品として充分な純度を達成し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は以下に示すとおりである。   The present inventors paid attention to an amide group that is chemically more stable than an ester group, and found that highly stereoselective reduction can be performed even when R is an aromatic group. Furthermore, by recrystallizing the obtained Syn-1,3-diol compound as it is, it was found that sufficient purity as a pharmaceutical product can be easily achieved, and the present invention has been completed. That is, the present invention is as follows.

(1)以下の第一工程および第二工程を含むことを特徴とする、一般式(I): (1) General formula (I) characterized by including the following first and second steps:

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、Xは−CH=CH−(式中、2重結合はトランス異性体、シス異性体またはそれらの混合物を示す。)、−CHCH−または−OCH−(式中、OがRに結合する。)を示し、Rは還元条件で不活性である基を有する芳香族基を示し、RおよびRは同一または異なって、それぞれ独立して、低級アルキル基を示すか、またはRとRが隣接する窒素原子と一緒になって、窒素原子以外に一つの酸素を含んでいてもよい非芳香族複素環を形成してもよい。立体配置は相対的立体配置を意味する。)で表される化合物(以下、化合物(I)ともいう。)の製造方法;
第一工程:一般式(IIa):(RB−OR(式中、Rは低級アルキル基を示し、Rは低級アルキル基またはアリル基を示す。)で表されるボラン化合物(以下、ボラン化合物(IIa)ともいう。)または一般式(IIb):(RB(式中、Rは低級アルキル基を示す。)で表されるボラン化合物(以下、ボラン化合物(IIb)ともいう。)と、水素化ホウ素ナトリウムとの、低級アルコールおよびテトラヒドロフランを含有する混合溶媒中における混合物を得;
第二工程:一般式(III):
(Wherein X represents —CH═CH— (wherein the double bond represents a trans isomer, a cis isomer or a mixture thereof), —CH 2 CH 2 — or —OCH 2 — (wherein O is bonded to R.), R represents an aromatic group having a group that is inactive under reducing conditions, R 1 and R 2 are the same or different and each independently represents a lower alkyl group Or R 1 and R 2 together with the adjacent nitrogen atom may form a non-aromatic heterocyclic ring that may contain one oxygen in addition to the nitrogen atom. A process for producing a compound represented by formula (hereinafter also referred to as compound (I));
First step: Borane represented by the general formula (IIa): (R 3 ) 2 B—OR 4 (wherein R 3 represents a lower alkyl group and R 4 represents a lower alkyl group or an allyl group). A borane compound (hereinafter referred to as borane) represented by a compound (hereinafter also referred to as a borane compound (IIa)) or a general formula (IIb): (R 5 ) 3 B (wherein R 5 represents a lower alkyl group). A mixture of compound (IIb)) and sodium borohydride in a mixed solvent containing a lower alcohol and tetrahydrofuran;
Second step: General formula (III):

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、YおよびYは、一方は酸素原子を示し、他方は水酸基を示す。‐‐‐は結合するYまたはYが酸素原子のときは二重結合を示し、水酸基の時は単結合を示す。他の各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(III)ともいう。)を第一工程で得られた混合物と反応させ、化合物(I)を得る。
(2)上記(1)記載の方法で得られる化合物(I)を加水分解する、一般式(V):
(Wherein, Y 1 and Y 2, one is an oxygen atom and the other represents a hydroxyl group. --- is when Y 1 or Y 2 is bonded to an oxygen atom indicates a double bond, when the hydroxyl group Represents a single bond, and the other symbols have the same meanings as described above.) A compound (I) is reacted with the mixture obtained in the first step to give compound (I )
(2) Hydrolyzing the compound (I) obtained by the method described in the above (1), the general formula (V):

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、各記号および立体配置は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(V)ともいう。)またはその塩、および/または一般式(VI): (Wherein each symbol and configuration are as defined above) (hereinafter also referred to as compound (V)) or a salt thereof, and / or general formula (VI):

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、各記号および立体配置は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VI)ともいう。)の製造方法。
(3)化合物(III)が、一般式(IIIa):
(Wherein each symbol and steric configuration are as defined above), a method for producing a compound (hereinafter also referred to as compound (VI)).
(3) Compound (III) is represented by the general formula (IIIa):

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(IIIa)ともいう。)である、上記(1)または(2)記載の製造方法。
(4)一般式(VII):
(Wherein each symbol has the same meaning as described above), the production method according to (1) or (2) above, which is a compound represented by the following (hereinafter also referred to as compound (IIIa)).
(4) General formula (VII):

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(VII)ともいう。)を水素化ナトリウムおよびアルキルリチウムと反応させ、対応するジアニオンとした後、一般式(VIII):R−X−CHO(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下。化合物(VIII)ともいう。)と反応させて得られる化合物(IIIa)を使用する、上記(3)記載の製造方法。
(5)R−X−が、以下の式
(Wherein each symbol has the same meaning as above) (hereinafter also referred to as compound (VII)) is reacted with sodium hydride and alkyllithium to give the corresponding dianion, then the general formula (VIII): Compound (IIIa) obtained by reacting with a compound represented by R—X—CHO (wherein each symbol is as defined above) (hereinafter also referred to as Compound (VIII)). The manufacturing method according to (3) above, which is used.
(5) R—X— represents the following formula

Figure 2005145833
Figure 2005145833

で表される基(以下、それぞれ置換基(IXa)、(IXb)、(IXc)および(IXd)ともいう。)から選ばれる、上記(1)〜(4)のいずれかに記載の製造方法。
(6)化合物(IIIa)。
(7)R−X−が、置換基(IXa)である、上記(6)記載の化合物。
(8)一般式(Ia):
(Hereinafter, also referred to as substituents (IXa), (IXb), (IXc), and (IXd)), respectively, the production method according to any one of (1) to (4) above .
(6) Compound (IIIa).
(7) The compound according to (6) above, wherein R—X— is the substituent (IXa).
(8) General formula (Ia):

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物(以下、化合物(Ia)ともいう。)。 (Wherein each symbol is as defined above) (hereinafter also referred to as compound (Ia)).

本発明の製造方法によれば、還元反応において、立体選択性を低下させる要因となり得るエステル基の加水分解やラクトン化の懸念がほどんどないため、厳格な禁水条件や工程管理をせずとも、高立体選択的還元反応を安定して行うことができる。また、得られる化合物(I)の結晶性が良いので、そのまま再結晶での精製が可能であり、Syn−1,3−ジオール基の保護、脱保護を介して結晶性中間体に導くことなしに、わずか一回の再結晶で医薬品の中間体として充分な純度を達成することができるので、工業的に有利である。   According to the production method of the present invention, there is little concern about hydrolysis or lactonization of ester groups that can cause a reduction in stereoselectivity in the reduction reaction. Thus, a highly stereoselective reduction reaction can be performed stably. In addition, since the resulting compound (I) has good crystallinity, it can be purified by recrystallization as it is, without leading to a crystalline intermediate through protection and deprotection of the Syn-1,3-diol group. In addition, it is industrially advantageous because sufficient purity can be achieved as a pharmaceutical intermediate with only one recrystallization.

本発明における記号の定義を説明する。
、RおよびRで示される「低級アルキル基」とは、炭素数1〜6の直鎖または分枝鎖状のアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、イソペンチル、sec−ペンチル、tert−ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル等が挙げられ、好ましくはメチル、エチル等である。
The definition of symbols in the present invention will be described.
The “lower alkyl group” represented by R 1 , R 2 and R 5 is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, Examples thereof include isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isopentyl, sec-pentyl, tert-pentyl, neopentyl, hexyl, isohexyl and the like, preferably methyl, ethyl and the like.

およびRが隣接する窒素原子と一緒になって形成してもよい「窒素原子以外に一つの酸素原子を含んでいてもよい非芳香族複素環」としては、例えば、ピロリジン、ピペリジン、ホモピペリジン、モルホリン等が挙げられる。 Examples of the “non-aromatic heterocyclic ring which may contain one oxygen atom in addition to the nitrogen atom” that R 1 and R 2 may form together with the adjacent nitrogen atom include pyrrolidine, piperidine, Examples include homopiperidine and morpholine.

で示される「低級アルキル基」とは、上記低級アルキル基と同じものが挙げられ、好ましくはメチル、エチルである。 Examples of the “lower alkyl group” represented by R 3 include the same as the above lower alkyl group, preferably methyl and ethyl.

で示される「低級アルキル基」とは、上記低級アルキル基と同じものが挙げられ、好ましくはメチル、エチルである。 Examples of the “lower alkyl group” represented by R 4 include the same as the above lower alkyl group, preferably methyl and ethyl.

Rで示される「還元条件で不活性である基を有する芳香族基」は特に制限されないが、好ましくは、以下の一般式(A)、(B)、(C)または(D)で表される基(以下、それぞれ置換基(A)、(B)、(C)および(D)ともいう。)である。   The “aromatic group having a group which is inactive under reducing conditions” represented by R is not particularly limited, but is preferably represented by the following general formula (A), (B), (C) or (D). (Hereinafter also referred to as substituents (A), (B), (C) and (D), respectively).

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、R1aは低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)低級シクロアルキル基(例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等)等を示し、R2a、R3aおよびR4aは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)等を示し、R5aおよびR6aは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)等を示す。) (Wherein R 1a represents a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), a lower cycloalkyl group (eg, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.) and the like, and R 2a , R 3a and R 4a are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), and the like. , R 5a and R 6a are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), etc. Is shown.)

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、R1bは低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)低級シクロアルキル基(例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等)等を示し、R2b、R3bおよびR4bは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)等を示し、R5bは、低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)等を示し、R6bは、低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)等を示す。) (Wherein R 1b represents a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), a lower cycloalkyl group (for example, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), etc., and R 2b , R 3b and R 4b are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), and the like. , R 5b represents a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified) and the like, and R 6b is a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified). Is shown.)

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、R1cは低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)低級シクロアルキル基(例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等)等を示し、R2c、R3cおよびR4cは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)等を示し、R5cおよびR6cは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)等を示す。) (Wherein R 1c represents a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), a lower cycloalkyl group (for example, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.) etc., and R 2c , R 3c and R 4c are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), and the like. , R 5c and R 6c are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), etc. Is shown.)

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、R1dは低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)低級シクロアルキル基(例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等)等を示し、R2d、R3dおよびR4dは同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)等を示し、R5dおよびR6dは同一または異なって、水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基、−CONHR7d等を示す。ここで、フェニル基が有してもよい置換基としては、低級アルキル基(上記の低級アルキル基と同じものが例示される。)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)等が挙げられ、R7dとしては、置換基を有していてもよいフェニル(前記置換基を有していてもよいフェニルと同義である。)等が挙げられる。) (Wherein R 1d represents a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), a lower cycloalkyl group (eg, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), etc., and R 2d , R 3d and R 4d are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), and the like. , R 5d and R 6d are the same or different and each represents a hydrogen atom, a phenyl group which may have a substituent, —CONHR 7d, etc. Here, the substituent which the phenyl group may have is as follows: A lower alkyl group (the same as the above lower alkyl group is exemplified), a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) and the like. As the R 7d, (synonymous with even a phenyl optionally having the substituent.) Phenyl which may have a substituent, and the like.)

化合物(I)、化合物(V)および化合物(VI)の立体配置は、相対的立体配置を意味し、当該相対的立体配置を有するジアステレオマーのラセミ体、およびその光学活性体が含まれる。   The configuration of Compound (I), Compound (V) and Compound (VI) means a relative configuration, and includes diastereomeric racemates having the relative configuration and optically active forms thereof.

化合物(V)の塩としては、カルボン酸塩、例えば、アルカリ金属塩(例、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等)、アルカリ土類金属塩(例、カルシウム塩、マグネシウム塩)、有機塩基塩(例、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩等)等が挙げられる。   Examples of the salt of the compound (V) include carboxylates such as alkali metal salts (eg, sodium salt, potassium salt, lithium salt), alkaline earth metal salts (eg, calcium salt, magnesium salt), organic base salts. (E.g., trimethylamine salt, triethylamine salt, pyridine salt, etc.).

本発明の好ましい態様について、以下に説明する。   A preferred embodiment of the present invention will be described below.

およびRは低級アルキル基が好ましく、メチルまたはエチルがより好ましい。 R 1 and R 2 are preferably lower alkyl groups, more preferably methyl or ethyl.

Xは、−CHCH−または−CH=CH−が好ましい。この場合において−CH=CH−の幾何異性はトランス異性体が好ましい。 X is preferably —CH 2 CH 2 — or —CH═CH—. In this case, the geometric isomerism of —CH═CH— is preferably a trans isomer.

Rは、置換基(A)、(B)、(C)または(D)が好ましく、置換基(A)がより好ましい。   R is preferably a substituent (A), (B), (C) or (D), more preferably a substituent (A).

さらに、R−X−としては、置換基(IXa)、(IXb)、(IXc)または(IXd)が好ましく、置換基(IXa)がより好ましい。   Furthermore, as R—X—, the substituent (IXa), (IXb), (IXc) or (IXd) is preferable, and the substituent (IXa) is more preferable.

およびYは、Yが水酸基であり、Yが酸素原子であるのが好ましい。 Y 1 and Y 2 are preferably such that Y 1 is a hydroxyl group and Y 2 is an oxygen atom.

ボラン化合物としては、ボラン化合物(IIa)が好ましく、Rがメチル、エチルであり、かつRがメチル、エチルであるもの、具体的にはジエチルメトキシボラン、ジメチルメトキシボラン等が好ましい。 As the borane compound, borane compound (IIa) is preferable, and those in which R 3 is methyl or ethyl and R 4 is methyl or ethyl, specifically, diethylmethoxyborane, dimethylmethoxyborane or the like is preferable.

本発明は、以下のスキームに表される。   The present invention is represented in the following scheme.

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、各記号、‐‐‐および立体配置は前記と同義を示す。)
すなわち本発明は、ボラン化合物(IIa)またはボラン化合物(IIb)と、水素化ホウ素ナトリウムとの、低級アルコールおよびテトラヒドロフランを含有する混合溶媒中における混合物を得る第一工程;化合物(III)を第一工程で得られた混合物と反応させ、化合物(I)を得る第二工程を含む、化合物(I)の製造方法であり、更には第三工程として、第二工程で得られる化合物(I)を加水分解することによる、化合物(V)またはその塩および/または化合物(VI)の製造方法である。
(In the formula, each symbol, --- and configuration are as defined above.)
That is, the present invention provides a first step of obtaining a mixture of borane compound (IIa) or borane compound (IIb) and sodium borohydride in a mixed solvent containing a lower alcohol and tetrahydrofuran; It is a method for producing compound (I), comprising a second step of reacting with the mixture obtained in the step to obtain compound (I), and further, as a third step, compound (I) obtained in the second step This is a method for producing compound (V) or a salt thereof and / or compound (VI) by hydrolysis.

本発明の方法では、上記スキームに示すように、反応中間体として上記一般式(IVa)〜(IVc)で表される環状のボロネート化合物(以下、環状ボロネート化合物等ともいう。)を介することにより、立体選択的にSyn異性体を得ることができると考えられる。
原料である化合物(III)にはエステル基が存在しないため、第二工程において、環状ボロネート化合物等の形成を阻害する要因である、エステル基の加水分解やラクトン化の懸念がほとんどないので、厳格な禁水条件や工程管理をせずとも、安定した選択率(syn:anti=97:3以上)でSyn異性体を得ることができ、さらに得られるSyn異性体は結晶性が良いためにそのまま再結晶などによりジアステレオ純度を容易に上げることができるので、工業的に有利である。以下、各工程について説明する。
In the method of the present invention, as shown in the above scheme, the reaction intermediate is a cyclic boronate compound represented by the above general formulas (IVa) to (IVc) (hereinafter also referred to as a cyclic boronate compound). It is considered that the Syn isomer can be obtained stereoselectively.
Since there is no ester group in the raw material compound (III), there is almost no concern about hydrolysis or lactonization of the ester group, which is a factor inhibiting the formation of cyclic boronate compounds, etc. in the second step. The syn isomer can be obtained with a stable selectivity (syn: anti = 97: 3 or more) without any water-restricted conditions and process control, and the resulting syn isomer has a good crystallinity, so that Since diastereopurity can be easily increased by recrystallization or the like, it is industrially advantageous. Hereinafter, each step will be described.

1.第一工程
第一工程は、例えば、低級アルコールおよびテトラヒドロフランを含有する混合溶媒中にボラン化合物(IIa)またはボラン化合物(IIb)(以下、併せてボラン化合物等ともいう。)および水素化ホウ素ナトリウムを同時または順次添加する;低級アルコールおよびテトラヒドロフランを含有する混合溶媒中に予め仕込んだボラン化合物等に水素化ホウ素ナトリウムを添加する;あるいは低級アルコールおよびテトラヒドロフランを含有する混合溶媒中に予め仕込んだ水素化ホウ素ナトリウムにボラン化合物等を添加することにより行われる。
1. First Step The first step includes, for example, borane compound (IIa) or borane compound (IIb) (hereinafter also referred to as a borane compound) and sodium borohydride in a mixed solvent containing a lower alcohol and tetrahydrofuran. Add simultaneously or sequentially; add sodium borohydride to a borane compound or the like previously charged in a mixed solvent containing a lower alcohol and tetrahydrofuran; or borohydride previously charged in a mixed solvent containing a lower alcohol and tetrahydrofuran It is carried out by adding a borane compound or the like to sodium.

ボラン化合物等の使用量は、第二工程で使用する化合物(III)に対し、通常0.5〜2当量、好ましくは0.8〜1.5当量である。   The amount of the borane compound used is usually 0.5 to 2 equivalents, preferably 0.8 to 1.5 equivalents, relative to compound (III) used in the second step.

水素化ホウ素ナトリウムの使用量は、ボラン化合物等に対し、通常1〜10当量、好ましくは1.2〜6当量である。   The usage-amount of sodium borohydride is 1-10 equivalent normally with respect to a borane compound etc., Preferably it is 1.2-6 equivalent.

第一工程で使用される低級アルコールとは、炭素数1〜4個の直鎖または分枝鎖状のアルコールであり、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等が挙げられ、好ましくはメタノールが挙げられる。   The lower alcohol used in the first step is a linear or branched alcohol having 1 to 4 carbon atoms, and examples thereof include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, and preferably methanol.

混合溶媒中、低級アルコールとテトラヒドロフランの混合比は、通常1:2〜1:6(v/v)、好ましくは1:3〜1:5(v/v)である。   In the mixed solvent, the mixing ratio of lower alcohol and tetrahydrofuran is usually 1: 2 to 1: 6 (v / v), preferably 1: 3 to 1: 5 (v / v).

混合溶媒の使用量は、ボラン化合物等に対し、通常5〜100倍重量、好ましくは10〜50倍重量である。   The amount of the mixed solvent used is usually 5 to 100 times, preferably 10 to 50 times the weight of the borane compound and the like.

第一工程は、通常−100〜30℃、好ましくは−90〜−60℃の温度範囲で行われる。反応時間は、通常10分〜120分、好ましくは15分〜60分である。   The first step is usually performed in a temperature range of −100 to 30 ° C., preferably −90 to −60 ° C. The reaction time is usually 10 minutes to 120 minutes, preferably 15 minutes to 60 minutes.

2.第二工程
第二工程は、例えば、第一工程で得られた混合物に化合物(III)の溶液を添加(好ましくは滴下)するか;または化合物(III)の溶液に第一工程で得られた混合物を添加(好ましくは滴下)することにより行うことができる。
2. Second Step The second step is, for example, adding (preferably dropwise) the compound (III) solution to the mixture obtained in the first step; or obtaining the compound (III) solution in the first step It can be carried out by adding (preferably dropping) the mixture.

化合物(III)の溶液は、低級アルコール、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、メチルtert−ブチルエーテル等、あるいはその混合溶媒の溶液が挙げられるが、好ましくは第一工程で用いた低級アルコールとテトラヒドロフランの混合溶媒であり、好ましい混合比も第一工程と同じである。   Examples of the solution of compound (III) include lower alcohol, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, methyl tert-butyl ether and the like, or a mixed solvent thereof. Preferably, the lower alcohol and tetrahydrofuran used in the first step are mixed. It is a solvent, and a preferable mixing ratio is the same as that in the first step.

当該溶媒の使用量は、化合物(III)に対し、通常3〜100倍重量、好ましくは5〜20倍重量である。   The amount of the solvent to be used is generally 3 to 100 times weight, preferably 5 to 20 times weight, with respect to compound (III).

第二工程は、通常−100〜−40℃、好ましくは−90〜−70℃の温度範囲で行われる。同温度範囲を維持するため、第一工程で得られた混合物および化合物(III)の溶液を当該温度範囲に維持し、10分〜12時間かけて滴下するのが好ましい。
添加終了後、通常1時間〜8時間、好ましくは1.5時間〜4時間さらに反応させる。
The second step is usually performed in a temperature range of −100 to −40 ° C., preferably −90 to −70 ° C. In order to maintain the same temperature range, the solution of the mixture and compound (III) obtained in the first step is preferably maintained in the temperature range and dropped over 10 minutes to 12 hours.
After the addition is completed, the reaction is usually further performed for 1 hour to 8 hours, preferably 1.5 hours to 4 hours.

第二工程の反応終了後、反応混合物には環状ボロネート化合物等が含まれていると考えられるが、通常の後処理により、環状ボロネート化合物等を開環して、化合物(I)に導くことができる。例えば、反応混合物に炭酸ナトリウム水溶液および/または有機溶媒(例えば、n−ヘプタン、n−へキサン等)を加えることにより反応を止め、酢酸エチル、トルエン、メチルイソブチルケトン等で抽出後、水洗、乾燥、濃縮等により、化合物(I)の粗成物を単離することができる。さらに再結晶またはシリカゲルクロマトグラフィー等で精製することができる。   After completion of the reaction in the second step, it is considered that the reaction mixture contains a cyclic boronate compound or the like, but the cyclic boronate compound or the like can be opened by ordinary post-treatment to lead to compound (I). it can. For example, the reaction is stopped by adding an aqueous sodium carbonate solution and / or an organic solvent (for example, n-heptane, n-hexane, etc.) to the reaction mixture, extracted with ethyl acetate, toluene, methyl isobutyl ketone, etc., washed with water and dried The crude product of compound (I) can be isolated by concentration, etc. Furthermore, it can be purified by recrystallization or silica gel chromatography.

第二工程で得られる化合物(I)のうちR−X−が置換基(IXa)のもの、すなわち化合物(Ia)は新規化合物であり、高脂血症治療薬であるフルバスタチンの合成中間体として有用である。   In the compound (I) obtained in the second step, R—X— is a substituent (IXa), that is, the compound (Ia) is a novel compound, and a synthetic intermediate of fluvastatin, which is a therapeutic drug for hyperlipidemia Useful as.

3.第三工程
第三工程は、化合物(I)を通常の加水分解条件、例えば、水性溶媒中、酸または塩基と反応させることにより行うことができるが、酸性条件では、化合物(I)の水酸基がβ脱離等の副反応を起こす虞があるため、塩基と反応させるのが好ましい。
3. Third Step The third step can be performed by reacting compound (I) with an ordinary hydrolysis condition, for example, an acid or a base in an aqueous solvent. Under acidic conditions, the hydroxyl group of compound (I) is Since side reactions such as β elimination may occur, it is preferable to react with a base.

水性溶媒としては、水と低級アルコール(例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等)との混合溶媒が好ましく、水とメタノールまたは水とエタノールとの混合溶媒がより好ましい。溶媒の使用量としては、化合物(I)に対して5〜100倍重量であり、好ましくは10〜50倍重量である。   As the aqueous solvent, a mixed solvent of water and a lower alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc.) is preferable, and a mixed solvent of water and methanol or water and ethanol is more preferable. As the usage-amount of a solvent, it is 5-100 times weight with respect to compound (I), Preferably it is 10-50 times weight.

加水分解に用いる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられ、水酸化ナトリウムが好ましい。当該塩基は水溶液として用いるのが好ましく、塩基の使用量としては、化合物(I)に対して1〜10当量であり、好ましくは1.5〜5当量である。   Examples of the base used for the hydrolysis include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like, and sodium hydroxide is preferable. The base is preferably used as an aqueous solution, and the amount of the base used is 1 to 10 equivalents, preferably 1.5 to 5 equivalents, relative to compound (I).

加水分解に用いる酸としては、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸等が挙げられ、塩酸が好ましい。酸の使用量としては、化合物(I)に対して0.001〜0.5当量であり、好ましくは0.01〜0.1当量である。   Examples of the acid used for the hydrolysis include hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid and the like, and hydrochloric acid is preferable. The amount of the acid used is 0.001 to 0.5 equivalent, preferably 0.01 to 0.1 equivalent, relative to compound (I).

第三工程は、通常0〜100℃、好ましくは20〜80℃の温度範囲で行われる。反応時間は、通常30分〜8時間、好ましくは1時間〜3時間である。   The third step is usually performed in a temperature range of 0 to 100 ° C, preferably 20 to 80 ° C. The reaction time is usually 30 minutes to 8 hours, preferably 1 hour to 3 hours.

加水分解を塩基を用いて行った場合、化合物(V)の当該塩基との塩を含む反応混合物が得られる。当該反応混合物は、濃縮乾固するか、あるいは極性溶媒(例えば、n−ブタノール、テトラヒドロフラン等)で抽出、水洗、濃縮して、化合物(V)と当該塩基との塩を単離することができ、さらに晶析等により精製することができる。
また、当該反応混合物を酸(塩酸、硫酸等)でpH0〜4に中和後、酢酸エチル等で抽出、水洗、濃縮することにより、化合物(V)のフリー体および/または化合物(VI)を単離することができる。
When hydrolysis is performed using a base, a reaction mixture containing a salt of compound (V) with the base is obtained. The reaction mixture can be concentrated to dryness or extracted with a polar solvent (eg, n-butanol, tetrahydrofuran, etc.), washed with water, and concentrated to isolate the salt of compound (V) and the base. Further, it can be purified by crystallization or the like.
Further, the reaction mixture is neutralized with an acid (hydrochloric acid, sulfuric acid, etc.) to pH 0-4, extracted with ethyl acetate, washed with water, and concentrated to give a free form of compound (V) and / or compound (VI). It can be isolated.

加水分解を酸を用いて行った場合、化合物(V)のフリー体および/または化合物(VI)を含む反応混合物が得られる。当該反応混合物は、常法、例えば酢酸エチル等で抽出、水洗、濃縮することにより、化合物(V)のフリー体および/または化合物(VI)を単離することができる。当該反応混合物を塩基(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等)で処理することにより、化合物(V)と当該塩基との塩を得ることができる。   When hydrolysis is performed using an acid, a free mixture of compound (V) and / or a reaction mixture containing compound (VI) is obtained. The reaction mixture can be isolated by a conventional method, for example, extraction with ethyl acetate or the like, washing with water, and concentration to isolate the free form of compound (V) and / or compound (VI). By treating the reaction mixture with a base (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, etc.), a salt of compound (V) and the base can be obtained.

本発明に使用されるボラン化合物(IIa)は、公知化合物であり、例えばAnn., p.352(1975)、Tetrahedron Letters, 28, p.155(1987)、Chemistry Letters, p.1923-1926(1987)等に記載の方法により得ることができ、また、市販品を用いてもよい。また、ボラン化合物(IIb)は、公知化合物であり、市販品を用いることができる。   The borane compound (IIa) used in the present invention is a known compound such as Ann., P.352 (1975), Tetrahedron Letters, 28, p.155 (1987), Chemistry Letters, p.1923-1926 ( 1987) or the like, or a commercially available product may be used. The borane compound (IIb) is a known compound, and a commercially available product can be used.

本発明の原料である化合物(III)、例えば化合物(IIIa)は新規化合物であり、高脂血症治療薬であるフルバスタチン等の合成中間体として有用である。   Compound (III) which is a raw material of the present invention, for example, compound (IIIa), is a novel compound and is useful as a synthetic intermediate for fluvastatin, which is a therapeutic drug for hyperlipidemia.

化合物(IIIa)は、米国特許第4739073号明細書に記載の方法に準じて製造することができる。すなわち下記スキームに示すように、溶媒中において、化合物(VII)を水素化ナトリウムおよびアルキルリチウムと反応させて一般式(VIIa)で表されるジアニオン(以下、ジアニオン(VIIa)ともいう。)とした後、化合物(VIII)と反応させることにより製造される。   Compound (IIIa) can be produced according to the method described in US Pat. No. 4,773,073. That is, as shown in the following scheme, compound (VII) was reacted with sodium hydride and alkyllithium in a solvent to obtain a dianion represented by general formula (VIIa) (hereinafter also referred to as dianion (VIIa)). Thereafter, it is produced by reacting with compound (VIII).

Figure 2005145833
Figure 2005145833

(式中、各記号は前記と同義を示す。)
以下、化合物(IIIa)の製造方法を説明する。
(In the formula, each symbol is as defined above.)
Hereinafter, the manufacturing method of compound (IIIa) is demonstrated.

使用される溶媒としては、当該反応を阻害しないものであればよく、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、メチルtert−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジグリム、メチルシクロペンチルエーテル等またはこれらの混合溶媒が挙げられ、好ましくはテトラヒドロフラン、メチルtert−ブチルエーテルである。   Any solvent may be used as long as it does not inhibit the reaction. Examples thereof include tetrahydrofuran, diethyl ether, methyl tert-butyl ether, 1,2-dimethoxyethane, diglyme, methylcyclopentyl ether, and a mixed solvent thereof. Preferred are tetrahydrofuran and methyl tert-butyl ether.

まず、溶媒中に仕込んだ水素化ナトリウムに化合物(VII)の溶液を滴下して、活性メチレンがアニオン化されたモノアニオンを得た後、アルキルリチウムを滴下してジアニオン(VIIa)を生成させるのが好ましい。   First, a solution of compound (VII) is dropped into sodium hydride charged in a solvent to obtain a monoanion in which active methylene is anionized, and then alkyllithium is dropped to produce dianion (VIIa). Is preferred.

化合物(VII)の使用量は、化合物(VIII)に対し、通常0.8〜1.5当量であり、好ましくは1〜1.3当量である。   The amount of compound (VII) to be used is generally 0.8 to 1.5 equivalents, preferably 1 to 1.3 equivalents, relative to compound (VIII).

水素化ナトリウムの使用量は、化合物(VII)に対し、通常1〜1.5当量であり、好ましくは1.05〜1.3当量である。   The amount of sodium hydride to be used is generally 1 to 1.5 equivalents, preferably 1.05 to 1.3 equivalents, relative to compound (VII).

アルキルリチウムとしては、例えばn−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、n−ヘキシルリチウム等が挙げられ、好ましくはn−ブチルリチウムである。アルキルリチウムの使用量は、化合物(VII)に対し、通常0.8〜1.5当量であり、好ましくは0.9〜1.2当量である。   Examples of the alkyl lithium include n-butyl lithium, sec-butyl lithium, n-hexyl lithium and the like, and preferably n-butyl lithium. The amount of alkyl lithium used is usually 0.8 to 1.5 equivalents, preferably 0.9 to 1.2 equivalents, relative to compound (VII).

ジアニオン(VIIa)を生成させる反応は、通常−40〜50℃、好ましくは−20〜30℃の温度範囲で行われる。反応時間は、水素化ナトリウムと反応させるのに通常10分〜3時間、好ましくは20分〜90分であり、アルキルリチウムとの反応時間は通常30分〜5時間、好ましくは1時間〜3時間である。   The reaction for generating dianion (VIIa) is usually performed at a temperature range of -40 to 50 ° C, preferably -20 to 30 ° C. The reaction time is usually 10 minutes to 3 hours for reacting with sodium hydride, preferably 20 minutes to 90 minutes, and the reaction time with alkyllithium is usually 30 minutes to 5 hours, preferably 1 hour to 3 hours. It is.

かくして得られたジアニオン(VIIa)を含む混合物に、化合物(VIII)の溶液を添加(好ましくは滴下)することにより、化合物(IIIa)を製造することができる。   Compound (IIIa) can be produced by adding (preferably dropwise) a solution of compound (VIII) to the mixture containing dianion (VIIa) thus obtained.

ジアニオン(VIIa)と化合物(VIII)との反応は、通常−40〜50℃、好ましくは−20〜30℃の温度範囲で行われる。反応時間は、通常30分〜24時間、好ましくは3時間〜12時間である。   The reaction between the dianion (VIIa) and the compound (VIII) is usually performed at a temperature range of -40 to 50 ° C, preferably -20 to 30 ° C. The reaction time is usually 30 minutes to 24 hours, preferably 3 hours to 12 hours.

得られた化合物(IIIa)は、常法により単離精製することができる。例えば、反応混合物を酸性水溶液(例えば、酢酸水溶液、塩化アンモニウム水溶液、希塩酸水溶液等)に注いでクエンチし、酢酸エチル等で抽出、水洗、濃縮することにより単離することができる。更に、再結晶、シリカゲルクロマトゲラフィー等で精製することができる。   The obtained compound (IIIa) can be isolated and purified by a conventional method. For example, the reaction mixture can be quenched by pouring into an acidic aqueous solution (for example, acetic acid aqueous solution, ammonium chloride aqueous solution, dilute hydrochloric acid aqueous solution, etc.), extraction with ethyl acetate or the like, washing with water, and concentration. Furthermore, it can be purified by recrystallization, silica gel chromatography, or the like.

化合物(III)として光学活性体を用いた場合には、化合物(I)、化合物(V)または化合物(VI)の光学活性体が得られるので好ましい。化合物(III)の光学活性体は、例えば、特開2003−277324号公報、特開平3−58967等に記載の方法またはその改変法に準じて合成することができる。   When an optically active substance is used as compound (III), an optically active substance of compound (I), compound (V) or compound (VI) is obtained, which is preferable. The optically active form of compound (III) can be synthesized, for example, according to the method described in JP-A-2003-277324, JP-A-3-58967, or a modified method thereof.

化合物(IIIa)の原料である化合物(VII)は公知化合物であり、公知の方法により製造することができる。
例えば、RNH(式中、各記号は前記と同義である。)で表されるアミンとアセト酢酸エステルまたはジケテンとの反応により、製造することができる(米国特許第4129596号明細書参照)
Compound (VII) which is a raw material of compound (IIIa) is a known compound and can be produced by a known method.
For example, it can be produced by reacting an amine represented by R 1 R 2 NH (wherein each symbol has the same meaning as described above) with acetoacetate or diketene (US Pat. No. 4,129,596). reference)

化合物(VIII)は公知化合物であり、公知の方法により製造することができる。例えば、R−X−が置換基(IXa)である化合物(VIII)は特許文献1、R−X−が置換基(IXb)である化合物(VIII)は特許第2648897号公報、R−X−が置換基(IXc)である化合物(VIII)は特許第3130342号公報、R−X−が置換基(IXd)である化合物(VIII)は特許第2019432号公報に記載の方法によりそれぞれ製造することができる。   Compound (VIII) is a known compound and can be produced by a known method. For example, compound (VIII) in which R—X— is a substituent (IXa) is Patent Document 1, and compound (VIII) in which R—X— is a substituent (IXb) is Japanese Patent No. 2664897, R—X—. Compound (VIII) in which is a substituent (IXc) is produced by the method described in Japanese Patent No. 3130342, and Compound (VIII) in which R—X— is a substituent (IXd) is produced by the method described in Japanese Patent No. 2010432, respectively. Can do.

以下、本発明について、実施例を挙げてさらに具体的に説明する。本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited by these.

実施例1
7−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]−5−ヒドロキシ−3−オキソ−へプト−6E−エン酸 ジメチルアミドの合成
水素化ナトリウム(60% in 流動パラフィン、420mg、10.5mmol)のTHF(10ml)の混合溶液に、アセト酢酸 ジメチルアミド(1.16g,9.0mmol)のTHF(2.5ml)溶液を約−5℃で約30分かけて滴下後、室温で30分間熟成した。得られたスラリーを0〜5℃に冷却し、n−ブチルリチウム(1.6M in ヘキサン、5.63ml、9.0mmol)を滴下後、50分間攪拌した。3−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]−プロパナール(2.31g、7.5mmol)のTHF(6.5ml)溶液を−5〜0℃で、35分間かけて滴下し、反応終了まで攪拌した。反応液を酢酸(1.5ml)−水(25ml)液に流入後、分液した。水層を酢酸エチル(50ml)で再抽出し、有機層を合わせた。有機層は食塩水(20ml×2回)で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、濃縮して、褐色の油状の粗生成物を得た。さらに、それをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘプタン:アセトン=3:1)で精製し、微黄色固体の表題化合物を2.11g得た。収率64.5%
Example 1
7- [3- (4-Fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] -5-hydroxy-3-oxo-hept-6E-enoic acid Synthesis of dimethylamide Sodium hydride (60% In a liquid solution of liquid paraffin, 420 mg, 10.5 mmol) in THF (10 ml), a solution of acetoacetic acid dimethylamide (1.16 g, 9.0 mmol) in THF (2.5 ml) at about −5 ° C. for about 30 minutes. After dropping, the mixture was aged at room temperature for 30 minutes. The obtained slurry was cooled to 0 to 5 ° C., and n-butyllithium (1.6 M in hexane, 5.63 ml, 9.0 mmol) was added dropwise, followed by stirring for 50 minutes. A solution of 3- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] -propanal (2.31 g, 7.5 mmol) in THF (6.5 ml) was added at −5 to 0 ° C. Then, it was added dropwise over 35 minutes and stirred until the end of the reaction. The reaction solution was poured into an acetic acid (1.5 ml) -water (25 ml) solution and then separated. The aqueous layer was re-extracted with ethyl acetate (50 ml) and the organic layers were combined. The organic layer was washed with brine (20 ml × 2 times), dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered and concentrated to give a brown oily crude product. Furthermore, it was purified by silica gel column chromatography (n-heptane: acetone = 3: 1) to obtain 2.11 g of the title compound as a slightly yellow solid. Yield 64.5%

1H-NMR (400MHz, in CDCl3) δ in ppm : 1.65(6H, d, J=7Hz), 2.37(0.1H, m), 2.66(0.9H, dd, J=15, 4Hz), 2.68(0.9H, dd, J=15, 3Hz), 2.98(3H, s), 3.00(3H, s), 3.51(1H, d, J=4Hz), 3.52, 3.54(each 0.9H, d, J=15Hz), 4.80(0.1H, broad s), 5.12(0.1H, s), 4.72(1H, m), 4.84(1H, m), 5.68 (1H, dd, J=16, 6Hz), 6.73(1H, dd, J=16, 2Hz), 7.05-7.13(3H, m), 7.18(1H, m), 7.40(2H, m), 7.52(2H, m).
LC-MS m/z: 436.8 (M+H)+, 419.1(M-H2O+H)+. (測定装置: LCQ advantage.)
M.p. 142.7-143.1℃(測定装置: Mettler FP62)
1 H-NMR (400MHz, in CDCl 3 ) δ in ppm: 1.65 (6H, d, J = 7Hz), 2.37 (0.1H, m), 2.66 (0.9H, dd, J = 15, 4Hz), 2.68 ( 0.9H, dd, J = 15, 3Hz), 2.98 (3H, s), 3.00 (3H, s), 3.51 (1H, d, J = 4Hz), 3.52, 3.54 (each 0.9H, d, J = 15Hz ), 4.80 (0.1H, broad s), 5.12 (0.1H, s), 4.72 (1H, m), 4.84 (1H, m), 5.68 (1H, dd, J = 16, 6Hz), 6.73 (1H, dd, J = 16, 2Hz), 7.05-7.13 (3H, m), 7.18 (1H, m), 7.40 (2H, m), 7.52 (2H, m).
LC-MS m / z: 436.8 (M + H) + , 419.1 (MH 2 O + H) + . (Measuring device: LCQ advantage.)
Mp 142.7-143.1 ℃ (Measuring device: Mettler FP62)

実施例2
7−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]−3,5−syn−ジヒドロキシヘプト−6E−エン酸 ジメチルアミドの合成
4:1(v/v)のTHF−メタノール混合溶媒(5ml)を−78℃に冷却した後、水素化ホウ素ナトリウム(189mg,5mmol)とジエチルメトキシボラン(103mg,1mmol)を加え、20分間攪拌した。次に−78℃に冷却した実施例1で得られた7−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]−5−ヒドロキシ−3−オキソ−ヘプト−6E−エン酸 ジメチルアミド(436mg,1mmol)のTHF−メタノール(4:1,3ml)溶液を35分かけて滴下、その後、反応液を2時間半攪拌した。反応液に5%重曹水(0.5ml)とn−ヘプタン(1ml)を加え、室温まで攪拌した。酢酸エチル(15ml)と水(5ml)を添加、攪拌、分液した。得られた酢酸エチル層を食塩水(5ml×2回)で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過、濃縮して、油状物の粗製品を0.45g得た。
Example 2
Synthesis of 7- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] -3,5-syn-dihydroxyhept-6E-enoic acid dimethylamide 4: 1 (v / v ) In THF-methanol mixed solvent (5 ml) was cooled to −78 ° C., sodium borohydride (189 mg, 5 mmol) and diethylmethoxyborane (103 mg, 1 mmol) were added, and the mixture was stirred for 20 minutes. Next, 7- [3- (4-fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] -5-hydroxy-3-oxo-hept-obtained in Example 1 cooled to −78 ° C. A solution of 6E-enoic acid dimethylamide (436 mg, 1 mmol) in THF-methanol (4: 1, 3 ml) was added dropwise over 35 minutes, and then the reaction solution was stirred for 2.5 hours. To the reaction solution were added 5% aqueous sodium hydrogen carbonate (0.5 ml) and n-heptane (1 ml), and the mixture was stirred to room temperature. Ethyl acetate (15 ml) and water (5 ml) were added, stirred and separated. The obtained ethyl acetate layer was washed with brine (5 ml × 2 times), dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered and concentrated to obtain 0.45 g of a crude oily product.

HPLC測定(カラム:Symmetry C18,39mm×150mm, 35℃、移動層:70%(v/v)MeOH−HO、1ml/min、UV:254nm、保持時間:syn異性体:9.0分、anti異性体:9.7分)を行ったところ、1,3−ジオールのsyn/anti比は98:2であった。得られた粗製品を酢酸エチル(3ml)−n−ヘプタン(6ml)の混合溶媒から晶析させ、白色固体の表題化合物を346mg得た。その1,3−ジオールのsyn/anti比は上記と同様のHPLC条件で測定したところ99.9:0.1であった。収率79.4% HPLC measurement (column: Symmetry C18, 39 mm × 150 mm, 35 ° C., moving bed: 70% (v / v) MeOH—H 2 O, 1 ml / min, UV: 254 nm, retention time: syn isomer: 9.0 min. , Anti isomer: 9.7 min), the syn / anti ratio of 1,3-diol was 98: 2. The obtained crude product was crystallized from a mixed solvent of ethyl acetate (3 ml) -n-heptane (6 ml) to obtain 346 mg of the title compound as a white solid. The 1,3-diol syn / anti ratio was 99.9: 0.1 as measured under the same HPLC conditions as above. Yield 79.4%

M.p. 136.4-136.6℃(測定装置: Mettler FP62)。
1H-NMR (400MHz, in CDCl3) δ in ppm:1.42-1.61(2H, m), 1.66(6H, dd, J=7, 2Hz), 2.35(1H, dd, J=16, 9Hz), 2.43(1H, dd, J=16, 3Hz), 2.97(3H, s), 3.00(3H, s), 4.25(1H, m), 4.51(1H, m), 4.87(1H, m), 5.70(1H, dd, J=16, 5Hz), 6.71(1H, dd, J=16, 2Hz), 7.05-7.11(3H, m), 7.18(1H, m), 7.41(2H, m), 7.53(2H, m).
Mp 136.4-136.6 ° C (measuring device: Mettler FP62).
1 H-NMR (400 MHz, in CDCl 3 ) δ in ppm: 1.42-1.61 (2H, m), 1.66 (6H, dd, J = 7, 2 Hz), 2.35 (1H, dd, J = 16, 9 Hz), 2.43 (1H, dd, J = 16, 3Hz), 2.97 (3H, s), 3.00 (3H, s), 4.25 (1H, m), 4.51 (1H, m), 4.87 (1H, m), 5.70 ( 1H, dd, J = 16, 5Hz), 6.71 (1H, dd, J = 16, 2Hz), 7.05-7.11 (3H, m), 7.18 (1H, m), 7.41 (2H, m), 7.53 (2H , m).

13C-NMR (125MHz, in CDCl3) δ in ppm: 21.8, 35.2, 37.1, 39.5, 42.3, 47.7, 68.9, 72.2, 111.6, 115.0(d, J=22Hz), 117.8, 119.2, 119.4, 121.5, 128.3, 131.9, 132.0, 134.0, 134.8, 139.1, 161.2(d, J=240Hz), 172.0.
LC-MS m/z: 438.9 (M+H)+, 420.9(M-H2O+H)+, 403.1(M-2H2O+H)+
13 C-NMR (125 MHz, in CDCl 3 ) δ in ppm: 21.8, 35.2, 37.1, 39.5, 42.3, 47.7, 68.9, 72.2, 111.6, 115.0 (d, J = 22Hz), 117.8, 119.2, 119.4, 121.5, 128.3, 131.9, 132.0, 134.0, 134.8, 139.1, 161.2 (d, J = 240Hz), 172.0.
LC-MS m / z: 438.9 (M + H) + , 420.9 (MH 2 O + H) + , 403.1 (M-2H 2 O + H) + .

実施例3
7−[3−(4‐フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]−3,5−syn−ジヒドロキシ−ヘプト−6E−エン酸 ナトリウム塩の合成
実施例2で得られた7−[3−(4−フルオロフェニル)−1−イソプロピル−1H−インドール−2−イル]−3,5−syn−ジヒドロキシ−ヘプト−6E−エン酸 ジメチルアミド(95.4mg,0.218mmol)をメタノール(3ml)と混合後、1Mの水酸化ナトリウム水溶液(0.87ml,0.87mmol)を加え、約10時間加熱、微還流した。冷却後、反応液を減圧濃縮、n−ブタノール(5ml)−水(4ml)を加え、攪拌、分液した。水層をn−ブタノール(4ml)で再抽出し、有機層を合わせた。イオン交換水(2ml×3回)洗浄、減圧濃縮して、表題化合物を94mg得た。見かけ収率99.7%。
Example 3
Synthesis of 7- [3- (4-Fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] -3,5-syn-dihydroxy-hept-6E-enoic acid sodium salt obtained in Example 2 7- [3- (4-Fluorophenyl) -1-isopropyl-1H-indol-2-yl] -3,5-syn-dihydroxy-hept-6E-enoic acid dimethylamide (95.4 mg, 0.218 mmol) Was mixed with methanol (3 ml), 1 M aqueous sodium hydroxide solution (0.87 ml, 0.87 mmol) was added, and the mixture was heated to reflux for about 10 hours. After cooling, the reaction solution was concentrated under reduced pressure, n-butanol (5 ml) -water (4 ml) was added, and the mixture was stirred and separated. The aqueous layer was re-extracted with n-butanol (4 ml) and the organic layers were combined. Ion exchange water (2 ml × 3 times) was washed and concentrated under reduced pressure to give 94 mg of the title compound. Apparent yield 99.7%.

HPLC測定(カラム:Symmetry C18, 39mm×150mm, 43℃、移動層:65%(v/v)のメタノール−0.1%(v/v)トリフルオロ酢酸水、1ml/min、UV254nm、保持時間:syn異性体:10.9分、anti異性体:12.6分)を測定することにより、その1,3‐ジオールのsyn/anti比は99.6:0.4であった。   HPLC measurement (column: Symmetry C18, 39 mm × 150 mm, 43 ° C., moving bed: 65% (v / v) methanol-0.1% (v / v) trifluoroacetic acid water, 1 ml / min, UV254 nm, retention time : Syn isomer: 10.9 minutes, anti isomer: 12.6 minutes), the syn / anti ratio of the 1,3-diol was 99.6: 0.4.

1H-NMR (400MHz, in CD3OD) δ in ppm: 1.48-1.53 (1H, m), 1.64(6H, d, J=7Hz), 1.64-1.69(1H, m), 2.26(1H, dd, J=15, 7Hz), 2.34(1H, dd, J=15, 5Hz), 3.96(1H, m), 4.37(1H, m), 4.92(1H, m), 5.72(1H, dd, J=16, 6Hz), 6.68(1H, d, J=16Hz), 6.99(1H, m), 7.10-7.16(3H, m), 7.39-7.43(3H, m), 7.56(1H, d, J=8Hz). 1 H-NMR (400MHz, in CD 3 OD) δ in ppm: 1.48-1.53 (1H, m), 1.64 (6H, d, J = 7Hz), 1.64-1.69 (1H, m), 2.26 (1H, dd , J = 15, 7Hz), 2.34 (1H, dd, J = 15, 5Hz), 3.96 (1H, m), 4.37 (1H, m), 4.92 (1H, m), 5.72 (1H, dd, J = 16, 6Hz), 6.68 (1H, d, J = 16Hz), 6.99 (1H, m), 7.10-7.16 (3H, m), 7.39-7.43 (3H, m), 7.56 (1H, d, J = 8Hz ).

13C-NMR (125MHz, in CD3OD) δ in ppm: 21.9, 44.7, 45.1, 68.4, 71.7, 112.6, 115.4, 115.9, 116.1, 119.8, 119.9, 120.4, 122.5, 129.5, 133.0, 133.1, 134.8, 136.4, 140.7, 162.6(d, J=249Hz), 180.3.
LC-MS m/z: 410.4 (M-Na)-.
13 C-NMR (125 MHz, in CD 3 OD) δ in ppm: 21.9, 44.7, 45.1, 68.4, 71.7, 112.6, 115.4, 115.9, 116.1, 119.8, 119.9, 120.4, 122.5, 129.5, 133.0, 133.1, 134.8, 136.4, 140.7, 162.6 (d, J = 249Hz), 180.3.
LC-MS m / z: 410.4 (M-Na) - .

Claims (8)

以下の第一工程および第二工程を含むことを特徴とする、一般式(I):
Figure 2005145833

(式中、Xは−CH=CH−(式中、2重結合はトランス異性体、シス異性体またはそれらの混合物を示す。)、−CHCH−または−OCH−(式中、OがRに結合する。)を示し、Rは還元条件で不活性である基を有する芳香族基を示し、RおよびRは同一または異なって、それぞれ独立して、低級アルキル基を示すか、またはRとRが隣接する窒素原子と一緒になって、窒素原子以外に一つの酸素を含んでいてもよい非芳香族複素環を形成してもよい。立体配置は相対的立体配置を意味する。)で表される化合物の製造方法;
第一工程:一般式(IIa):(RB−OR(式中、Rは低級アルキル基を示し、Rは低級アルキル基またはアリル基を示す。)で表されるボラン化合物または一般式(IIb):(RB(式中、Rは低級アルキル基を示す。)で表されるボラン化合物と、水素化ホウ素ナトリウムとの、低級アルコールおよびテトラヒドロフランを含有する混合溶媒中における混合物を得;
第二工程:一般式(III):
Figure 2005145833

(式中、YおよびYは、一方は酸素原子を示し、他方は水酸基を示す。‐‐‐は結合するYまたはYが酸素原子のときは二重結合を示し、水酸基の時は単結合を示す。他の各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を第一工程で得られた混合物と反応させ、上記一般式(I)で表される化合物を得る。
General formula (I) characterized in that it comprises the following first and second steps:
Figure 2005145833

(Wherein X represents —CH═CH— (wherein the double bond represents a trans isomer, a cis isomer or a mixture thereof), —CH 2 CH 2 — or —OCH 2 — (wherein O is bonded to R.), R represents an aromatic group having a group that is inactive under reducing conditions, R 1 and R 2 are the same or different and each independently represents a lower alkyl group Or R 1 and R 2 together with the adjacent nitrogen atom may form a non-aromatic heterocyclic ring that may contain one oxygen in addition to the nitrogen atom. A process for producing a compound represented by:
First step: Borane represented by the general formula (IIa): (R 3 ) 2 B—OR 4 (wherein R 3 represents a lower alkyl group and R 4 represents a lower alkyl group or an allyl group). Contains a lower alcohol and tetrahydrofuran of a compound or a general formula (IIb): (R 5 ) 3 B (wherein R 5 represents a lower alkyl group) and sodium borohydride Obtaining a mixture in a mixed solvent;
Second step: General formula (III):
Figure 2005145833

(Wherein, Y 1 and Y 2, one is an oxygen atom and the other represents a hydroxyl group. --- is when Y 1 or Y 2 is bonded to an oxygen atom indicates a double bond, when the hydroxyl group Represents a single bond, and the other symbols are as defined above.) The compound represented by the above general formula (I) is obtained by reacting the compound represented by the first step with the mixture obtained in the first step.
請求項1記載の方法で得られる一般式(I):
Figure 2005145833

(式中、Xは−CH=CH−(式中、2重結合はトランス異性体、シス異性体またはそれらの混合物を示す。)、−CHCH−または−OCH−(式中、OがRに結合する。)を示し、Rは還元条件で不活性である基を有する芳香族基を示し、RおよびRは同一または異なって、それぞれ独立して、低級アルキル基を示すか、またはRとRが隣接する窒素原子と一緒になって、窒素原子以外に一つの酸素を含んでいてもよい非芳香族複素環を形成してもよい。立体配置は相対的立体配置を意味する。)で表される化合物を加水分解する、一般式(V):
Figure 2005145833

(式中、各記号および立体配置は前記と同義を示す。)で表される化合物またはその塩、および/または一般式(VI):
Figure 2005145833

(式中、各記号および立体配置は前記と同義を示す。)で表される化合物の製造方法。
General formula (I) obtainable by the method according to claim 1:
Figure 2005145833

(Wherein X represents —CH═CH— (wherein the double bond represents a trans isomer, a cis isomer or a mixture thereof), —CH 2 CH 2 — or —OCH 2 — (wherein O is bonded to R.), R represents an aromatic group having a group that is inactive under reducing conditions, R 1 and R 2 are the same or different and each independently represents a lower alkyl group Or R 1 and R 2 together with the adjacent nitrogen atom may form a non-aromatic heterocyclic ring that may contain one oxygen in addition to the nitrogen atom. The compound represented by formula (V) is hydrolyzed:
Figure 2005145833

(Wherein each symbol and configuration are as defined above) or a salt thereof, and / or general formula (VI):
Figure 2005145833

(Wherein each symbol and steric configuration are as defined above).
一般式(III)で表される化合物が、一般式(IIIa):
Figure 2005145833

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物である、請求項1または2記載の製造方法。
The compound represented by the general formula (III) is represented by the general formula (IIIa):
Figure 2005145833

The method according to claim 1 or 2, wherein each symbol is as defined above.
一般式(VII):
Figure 2005145833

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を水素化ナトリウムおよびアルキルリチウムと反応させ、対応するジアニオンとした後、一般式(VIII):R−X−CHO(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物と反応させて得られる一般式(IIIa):
Figure 2005145833

(式中、各記号は前記と同義を示す。)で表される化合物を使用する、請求項3記載の製造方法。
General formula (VII):
Figure 2005145833

(In the formula, each symbol is as defined above.) The compound represented by the formula (VIII): R—X—CHO (formula) is reacted with sodium hydride and alkyllithium to give the corresponding dianion. Wherein each symbol has the same meaning as described above.) General formula (IIIa) obtained by reacting with the compound represented by:
Figure 2005145833

The manufacturing method of Claim 3 using the compound represented by (In formula, each symbol shows the same meaning as the above.).
R−X−が、以下の式
Figure 2005145833

で表される基から選ばれる、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
R—X— represents the following formula
Figure 2005145833

The manufacturing method in any one of Claims 1-4 chosen from group represented by these.
一般式(IIIa):
Figure 2005145833

(式中、Xは−CH=CH−(式中、2重結合はトランス異性体、シス異性体またはそれらの混合物を示す。)、−CHCH−または−OCH−(式中、OがRに結合する。)を示し、Rは還元条件で不活性である基を有する芳香族基を示し、RおよびRは同一または異なって、それぞれ独立して、低級アルキル基を示すか、またはRとRが隣接する窒素原子と一緒になって、窒素原子以外に一つの酸素を含んでいてもよい非芳香族複素環を形成してもよい。)で表される化合物。
General formula (IIIa):
Figure 2005145833

(Wherein X represents —CH═CH— (wherein the double bond represents a trans isomer, a cis isomer or a mixture thereof), —CH 2 CH 2 — or —OCH 2 — (wherein O is bonded to R.), R represents an aromatic group having a group that is inactive under reducing conditions, R 1 and R 2 are the same or different and each independently represents a lower alkyl group Or R 1 and R 2 together with the adjacent nitrogen atom may form a non-aromatic heterocyclic ring which may contain one oxygen other than the nitrogen atom). .
R−X−が、式(IXa):
Figure 2005145833

で表される基である、請求項6記載の化合物。
R—X— represents the formula (IXa):
Figure 2005145833

The compound of Claim 6 which is group represented by these.
一般式(Ia):
Figure 2005145833

(式中、RおよびRは同一または異なって、それぞれ独立して、低級アルキル基を示すか、またはRとRが隣接する窒素原子と一緒になって、窒素原子以外に一つの酸素を含んでいてもよい非芳香族複素環を形成してもよい。立体配置は相対的立体配置を意味する。)で表される化合物。
Formula (Ia):
Figure 2005145833

(Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each independently represents a lower alkyl group, or R 1 and R 2 together with the adjacent nitrogen atom, A non-aromatic heterocyclic ring which may contain oxygen. The configuration means a relative configuration.)
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