JP4499773B2 - 液晶表示素子 - Google Patents

Description

本発明は、実効的開口率を低下させることなく広視野角を達成する垂直配向分割モードの液晶表示素子に関する。

今日、実用化されている液晶表示素子において、汎用的に使用されている液晶表示モードは、ＴＮ（Twisted Nematic）モードである。しかしながら、ＴＮモードは、視野角が狭く、斜め方向から画面を観察すると階調反転が生じて表示品質が著しく低下する。応答速度も中間調領域で遅く、動画を表示した場合に画像の輪郭が不鮮明になる。このようなＴＮモードの問題点は、位相補償を行っても十分に解決することができない。

そこで、近年、ＴＮモードに代わる、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＯＣＢ（Optical Compensated Birefringence）モード、垂直配向分割（Multi Vertical Alignment：ＭＶＡ）モード等の種々の液晶表示モードが開発されており、なかでも、垂直配向分割モードは、広視野角技術として注目されている。

垂直配向分割モードにおいて、液晶の配向分割の方法には、電極スリットを使う方法（非特許文献１）、基板表面に突起を設ける方法（特許文献１）等が提案されている。また、垂直配向モードの液晶表示素子の透過率及び階調間の色シフトを改善するために、カイラル剤を添加し、電圧をかけた状態でツイストさせる方法が提案されている（特許文献２、特許文献３、非特許文献２及び非特許文献３等）。
SID97DIGEST p461,1997 特許第２９４７３５０号 特開平１１−３５２４９０号公報 特表平１０−５０６４７９号公報 SID91DIGEST p762-765,1991 SID92DIGEST p33-35,1992

しかしながら、垂直配向分割モードの液晶表示素子においても、なお、視野角を十分に広げることはできず、また、視野角を広げるために透過率が犠牲にされるという問題があった。特に、配向制御のために基板表面に設ける突起物や電極スリットは、実効的な開口部にならず、透過率を低下させる原因となっていた。

そこで、本発明は、垂直配向分割モードの液晶表示素子において、実効的開口率を低下させることなく、広視野角を実現することを目的とする。

本発明者らは、垂直配向モードの液晶表示素子において、広視野角を実現するためには、電圧印加時に液晶が或る点を核としてあらゆる方向に配向するように、画素電極に対向する対向基板に、突起物又は配向阻害処理面等からなる配向の核を設けることが有効であること、さらに、この場合の実効的開口率を低下させないためには、対向基板にしめる核の面積（即ち、核として突起物を形成する場合には突起物の底面積、また、核として配向阻害処理面を形成する場合には、その表面積）を１画素に対して特定の割合以下にすることが必要であることを見出した。

即ち、本発明は、画素電極が形成されている駆動基板と、それに対向する対向電極が形成されている対向基板と、駆動基板と対向基板の間に挟まれた液晶を含む垂直配向モードの液晶表示素子であって、画素電極が矩形状であり、画素電極の短辺方向と平行に切れ込みが形成され、切れ込みと画素電極の辺により区分された画素電極の矩形状の各領域に対応して、対向基板の対向電極に、１画素の面積の５％以下の面積の点状の孔が設けられて成り、電圧印加時に、孔を中心にして液晶があらゆる方向に放射状に配向される。

また、この液晶表示素子は、画素電極が形成されている駆動基板と、対向電極が形成されている対向基板とを対向させ、駆動基板と対向基板との間に液晶を挟んで垂直配向モードの液晶表示素子を製造する液晶表示素子の製造方法であって、画素電極を矩形状とし、画素電極の短辺方向と平行に切れ込みを形成し、切れ込みと画素電極の辺により区分された画素電極の矩形状の各領域に対応して、対向基板の対向電極に、１画素の面積の５％以下の面積の点状の孔を設けることで製造される。

本発明によれば、垂直配向分割モードの液晶表示素子において、実効的開口率を低下させることなく、広視野角を実現することができる。

以下、図面を参照しつつ、アクティブマトリクス駆動する液晶表示素子について本発明を詳細に説明するが、本発明は、画素電極がストライプ状のパッシブマトリクス駆動する液晶表示素子にも適用することができる。また、各図中、同一符号は、同一又は同等の構成要素を表している。

図１は、アクティブマトリクス駆動する本発明の液晶表示素子１００の一態様の模式的平面図（同図ａ）及び断面図（同図ｂ）である。

この液晶表示素子１００は、駆動基板２として、ＩＴＯからなる画素電極１が形成されているＴＦＴ基板を有している。また、ＩＴＯからなる対向電極３が形成されている対向基板４と駆動基板２とが対向し、これらの基板２、４、間に液晶５が挟まれている。画素電極１と対向電極３上には垂直配向膜が塗布されており、液晶５としては、無電界時に駆動基板２あるいは対向基板４に対してほぼ垂直に配向し、電圧を印加することにより斜めに傾き、所定電圧以上を印加することによりほぼ水平に配向するものが使用される。また、駆動基板２と対向基板４の外側にはそれぞれ偏光板が設けられ（図示せず、それらは図１の右肩の矢印に示したように、クロスニコルに配置されている。

対向基板４の中心部には、液晶５をあらゆる方向に配向させるための核として、突起物６が形成されている。突起物６の大きさは、開口率の低下を防止するため、突起物６の対向基板４にしめる面積、即ち、突起物６の底面積が１画素の面積の５％以下となるようにする。特に、突起物６をプロキシ露光法等を用いて形成する場合には、その底面積を５０μｍ²〜２２５μｍ²とすることが好ましい。また、突起物６をステッパー露光法を用いて形成する場合には、底面積を２５μｍ²以下としてもよい。

突起物の高さについては、特に制限はない。液晶表示素子では、一般に基板間のギャップを保持するため、球状のスペーサーが基板上に散布され、あるいはまた、柱状の樹脂が基板上に形成されるが、突起物６の高さを基板間のギャップと等しくすることにより、突起物６にスペーサーとしての機能を担わせ、スペーサーの散布工程や柱状スペーサーの形成工程を省略することができる。また、スペーサーの散布密度のばらつきによるギャップ不良も防止することができる。

この突起物６は、後述するように、無電界時に液晶５を傾かせ、また電圧印加時には電気力線の歪みにより斜め電界を作り出し、突起物６を中心にして液晶５があらゆる方向に配向するように配向を制御する。このため、突起物６の形成材料としては、電圧印加時の配向制御を効果的に行えるように、液晶５よりも低い誘電率のものから形成することが好ましく、誘電率５以下とすることがより好ましい。突起物６の好ましい形成材料の具体例としては、例えば、アクリル系、ノボラック系、ポリスチレン系の感光性樹脂等をあげることができる。

突起物６の形状について、図１の突起物６は頂部が丸みを有する四角錐状であるが、本発明においては、これに限られず、任意の錐体、半球を伏せた形状、柱状等とすることができる。後述するように、突起物６によって斜め電界を形成し、液晶分子を傾かせる点からは、駆動基板２あるいは対向基板４に対して垂直方向に切った断面が三角形又は蒲鉾型となるものが好ましく、断面が三角形のものも蒲鉾型のものも同様の効果をもたらす。突起物６の形成の容易性の点からは、蒲鉾型が好ましい。なお、突起物６をライン状に形成することは、コントラストの低下や透過率の低下が生じるので好ましくない。

蒲鉾型の突起物６を形成する方法としては、例えば、ポジ型の感光性樹脂を対向基板４上に塗布し、露光、現像し、パターニングした後、１００℃〜２００℃の樹脂がすぐには硬化しない温度で保持して予備焼成し、その後本焼成する。予備焼成の時間と温度を調整することにより、所望の形状が得られる。あるいは、図２に示したように、パターニング用のマスクとして、ハーフトーン部１２を有するマスク１１ａを使用してパターン６’を形成し（同図ａ）、その後さらに焼成して蒲鉾型の突起物６を形成するか（同図ｂ）、又は、図３に示したように、パターニング用のマスクとして、細かいスリット部１３を有するマスク１１ｂを使用してパターン６’’を形成し、その後さらに焼成して蒲鉾型の突起物６を形成する（同図ｂ）。このようなマスク１１ａ、１１ｂを使用することにより、より細かい形状制御をすることが可能となる。

次に、図１の液晶表示素子１００の作用について説明する。この液晶表示素子１００においては、無電界時には液晶５が駆動基板２あるいは対向基板４に対してほぼ垂直に配向しているが、電圧を印加すると、図１（ｂ）に点線で示した等電位線で表されるように、駆動基板２の隣り合う画素電極１間の間隙ｗが電極スリットとして作用し、横電界が形成される。この横電界は突起物６の近傍で斜め電界となる。そのため、液晶分子は、電圧印加時に図１（ａ）に矢印で示したように、突起物６を核として放射状に倒れ、あらゆる方向に分割して配向する。したがって、この液晶表示素子１００によれば視野角特性を広げることが可能となる。

これに対し、対向基板４に配向の核となる突起物６が設けられていない場合、液晶分子は、電圧の印加により形成される横電界によって倒れようとするが、この場合、配向の中心となる核が形成されていないため、液晶は転傾点とよばれる点を中心として配向することとなる。しかしながら、転傾点は、基板の凹凸、隣の画素の電位等の条件によって不安定に動くので、十分に配向制御をすることができない。このため、このような液晶表示素子は表示品位が低く、観察するとざらつき感がする。

なお、本発明において、液晶が或る点を核にしてあらゆる方向に配向するとは、必ずしも均等に全方向に分割して配向する意味ではなく、分割方向に偏りがあってもよい。例えば、図１（ａ）の液晶表示素子では、０時、３時、６時、９時の４方向に向いている液晶５の比率が多くなるが、配向方向の明確な境界は、核となっている突起物６の近傍にのみ存在し、その周囲では、液晶が連続的に配向している。本発明においては、このような配向状態も、突起物６を核として、液晶５があらゆる状態に配向している状態に含む。

また、この液晶表示素子１００によれば、隣り合う画素電極１の間の間隙ｗは、電圧を印加した白表示時に光が透過しないが、この部分は、通常データライン、ゲートライン等が配置されており、開口部ではない。また、突起物６もその底面積が１画素の面積の５％以下に形成されている。したがって、この液晶表示素子１００によれば、開口率のロスがほとんど生じない。

本発明の液晶表示素子は、図１の態様の他に種々の態様をとることができる。例えば、電圧印加時に液晶をあらゆる方向に配向させるための核として、突起物６に代えて、対向基板４に、配向を乱す配向阻害処理面を形成してもよい。配向阻害処理面の形成方法としては、例えば、対向基板４の核とする部分にのみ、垂直配向膜を塗布することなく、水平配向膜を塗布するなどの配向膜の塗り分けを行う。また、核とする部分の対向基板４にＵＶ光を当ててその部分の配向が乱れるようにしてもよく、偏光をあてて核の周囲と異なる所定の配向方向が得られるようにしてもよい。

また、核とする部位の下地部分に微細な凹凸を形成してもよい。より具体的には、例えば、垂直配向膜の塗布前に光レジスト工程により核とする部分にのみイオンビーム等をあて、表面を荒らすか、あるいは、光レジスト工程を用いて、核とする部分にのみ異なる膜質のＩＴＯ透明電極を形成する。

核として、対向基板４に配向阻害処理面を形成する場合にも、開口率のロスを防止するため、対向基板４にしめる配向阻害処理面の面積を１画素の面積の５％以下とし、好ましくは０．１％〜１％とする。

また、通常、カラー液晶表示素子の画素は、ＲＧＢの３色に分かれているため、個々のＲＧＢの画素は、正方形ではなく、細長い長方形である場合が多いが、そのような場合に、より対称性のよい視野角を得るため、又は、画素の長辺方向にも十分に配向制御を行うため、液晶の分割配向が上下又は左右対称に近づくように、理想的には円になるように、画素電極１又は対向電極３にスリット、切れ込み又は孔を形成してもよい。例えば、図４（ａ）〜（ｉ）に示すように、画素電極１の１画素内に、液晶の分割配向を上下又は左右対称に近づけるスリット７や切れ込み８を形成し、対向電極３に突起物６を形成する。また、これらの図において、画素電極１に形成されているスリット７や切れ込み８を、対向電極に設けてもよく、あるいはこれらの図において、突起物６に代えて孔を形成してもよい。なお、液晶の配向の核となる部分は、画素電極１に設けることもでき、例えば図４（ｊ）に示すように、画素電極１にスリット７と孔９を形成してもよい。

スリット７、切れ込み８又は孔９の形成方法としては、例えば、光レジスト工程によりＩＴＯをパターニングする。特に、画素電極１にスリット７を入れる場合、画素電極１自身が本来的にＩＴＯのパターニングにより形成されるため、プロセスの増加無くスリット７を形成することができる。

本発明においては、液晶５にカイラル剤を添加することができる。カイラル剤の添加により電圧印加時の配向を安定化させることができる。

また、クロスニコルに配置されている偏光板で挟まれている液晶表示素子においては、液晶がツイストしていない場合に、液晶の配向方向と偏光板の吸収軸又は透過軸がなす角度に透過率が大きく依存し、液晶の配向方向が偏光板の吸収軸又は透過軸と一致するとほとんど光は透過せず、黒状態となる。このため、図１の液晶表示素子１００において、白表示をさせる電圧印加時に水平に傾いた液晶のうち、配向方向が偏光板の吸収軸又は透過軸と一致したものは光を透過せず、それ故透過率が低下する。このような透過率の低下の問題に対しても、カイラル剤の添加は有効である。カイラル剤を液晶に添加することにより、液晶自身がツイストするので、クロスニコル下で黒状態となる配向方向はなく、液晶の配向方向と、偏光板の吸収軸又は透過軸との透過率角度依存性を低下させることができる。さらに、カイラルピッチを調整し、電圧印加時に液晶がツイスト配向するようにすると、高い透過率を得ることができる。

また、液晶をツイスト配向させる場合に、電圧印加時（白表示時）の見かけのツイスト角が約９０度のときに透過率が最大になる。一方、通常、白表示時の印加電圧は、３．５〜６Ｖであり、液晶の閾値はおよそ２Ｖである。これらのことから、透過率を最大にする液晶のカイラルピッチＬとセルギャップｄとの関係としては、２．５＜Ｌ／ｄ＜５．５ とすることが好ましい。また、この条件を充足させる場合に、液晶の５８９ｎｍにおける屈折率異方性Δｎとセルギャップｄの積Δｎｄは、４００ｎｍ〜７００ｎｍとすることが好ましい。

さらに、液晶表示素子の応答速度は、セルギャップｄに大きく依存するため、上述の条件においてΔｎはできるだけ大きいものが好ましく、より具体的には、良好な動画駆動を達成する点から、液晶の５８９ｎｍにおける屈折率異方性Δｎを０．１１５以上とすることが好ましい。

また、カラー液晶表示素子では、各画素に色分解フィルターが形成されている。液晶表示素子の透過率は、見かけの液晶層の屈折率異方性をΔｎ_ｅｆｆ、セルギャップをｄ、波長をλとした場合に、Δｎ_ｅｆｆ×ｄ／λに大きく依存する。これは、透過率が光の波長に大きく依存することを意味しており、ある波長に最適のΔｎ_ｅｆｆ×ｄを設定すると、他の波長では最適値がずれてしまうため、ディスプレイに色付きが観察される。この色付きは、特に、斜め方向から観察した場合に生じる。このような透過率のλ依存性は、ＴＮモードでは比較的少ないが、本発明で使用する垂直配向モードでは、電圧印加時に液晶分子の配向方向があらゆる方向に向くために液晶をツイストさせた場合においても複屈折モードが混ざってしまい波長依存性が大きくなる。このような特性を改善するためには、各画素の色の主波長λにあわせて最適なセルギャップｄを設定することが好ましい。

各画素の色の主波長λにあわせてセルギャップｄを異ならせる手法には、種々の方法が提案されているが、カラーフィルタの各色の厚さを変える方法が、工程数の増加もなく好ましい。

また、本発明の液晶表示素子は、垂直配向モードであるため、２軸又は１軸性位相差板を用いて補償すると、より広い視野角を得ることが可能となる。位相差板としては、位相差板の面内方向の屈折率Ｎ_ｘ、Ｎ_ｙ、厚み方向の屈折率Ｎ_ｚ、厚みｄ_ｆｉｌｍ、液晶の屈折率異方性Δｎ、セルギャップｄ_ＬＣの関係が、

を満たすものが、実使用上広視野角を得る点から好ましい。

本発明において、液晶表示素子の駆動方式としては、特に限定されるものではないが、図１に示したようにアクティブマトリックス駆動とすることが好ましい。アクティブマトリックス駆動では、隣り合う画素電極１の相互の間隙を、配向制御をするための電極スリットとして積極的に利用することができ、横電界を形成するために駆動基板２に新たに電極スリットを形成することが不要となる。また、必要に応じて画素電極１に電極スリットを形成する場合においても、パッシブマトリックス駆動のようなストライプ電極が形成されている場合よりもスリット形成パターンの自由度が高くなる。さらに、パッシブマトリックス駆動をする場合、対向基板４の対向電極３はストライプパターンに形成されるが、アクティブマトリクス駆動をする場合には、対向基板４の対向電極３は通常パターニングされていないため、所定の配向制御を阻害する斜め電界等が発生することもない。

液晶表示素子をアクティブマトリックス駆動する素子とする場合に、１画素のピッチは、配向制御力が十分に作用する長さとすることが好ましい。この点から、１画素のピッチは７０μｍ以下とすることが好ましい。

図５は、本発明の液晶表示素子を、アクティブマトリックス駆動する液晶パネルとして構成した場合の一例の断面図である。この液晶パネルは、駆動基板としてＴＦＴ基板２’を使用し、対向基板としてカラーフィルタ基板４’を使用し、これらの間に液晶５を挟んだ構造を有している。

カラーフィルタ基板４’は、ガラス基板１４上にストライプ状に形成された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ１５を有し、その上に対向電極３としてＩＴＯ透明電極を有している。また、対向電極３の液晶側表面には、ＴＦＴ基板２’の画素電極１に対応して突起物６が形成されており、その上に垂直配向膜１６が形成されている。

一方、ＴＦＴ基板２’は、ガラス基板１７上にＴＦＴ素子（図示せず）や信号線１８などの配線が形成され、その上に平坦化膜１９、画素電極１、垂直配向膜１６が順次形成された構造を有している。

また、この液晶パネルの光の入射側（ＴＦＴ基板２’側）と光の出射側（カラーフィルタ基板４’側）のそれぞれの外側には、位相差板２０ａ、２０ｂ、クロスニコルに配置された偏光板２１ａ、２１ｂが設けられている。

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。

実施例１
図５の液晶パネルを次ぎのようにして製造した。

ガラス基板１４上に、１．２μｍ厚の、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルタ１５がストライプ状に形成され、その上に１００ｎｍ厚のＩＴＯ透明電極が形成されているカラーフィルタ基板４’に、ポジ型感光性樹脂を塗布し、露光、現像することにより、底面が１辺７μｍの矩形のパターンを形成し、より好ましい形状とするために、１２０〜１８０℃で５分間ベークし、さらに２００℃以上で本焼成を行った。これにより、高さ１．５μｍの断面蒲鉾型の突起物６を得た。この突起物６の誘電率は３であった。突起物６の形成面に、ポリイミド系垂直配向膜を印刷し、１８０℃で１時間焼成した。こうして得られた垂直配向膜１６の膜厚は５０〜１００ｎｍであった。この垂直配向膜１６にはラビング処理を施さなかった。

一方、ガラス基板１７上にＴＦＴ素子や信号線１８等の配線が形成されており、その上に３μｍ厚の平坦化膜１９が形成され、さらに画素電極１として１００ｎｍ厚のＩＴＯ電極が形成されているＴＦＴ基板２’を用意した。この画素電極１の大きさは、横４０μｍ、縦１２０μｍであり、隣り合う画素電極との間隙ｗ_１、ｗ_２、ｗ_３、ｗ_４（図１参照）はいずれも７μｍとした。画素電極１上にはカラーフィルタ基板４’と同様に垂直配向膜１６を形成した。次いで、コモン塗布を行い、アクリル系スペーサ（粒径３．５μｍ）を散布した。

上述のカラーフィルタ基板４’にシール剤を塗布し、カラーフィルタ基板４’とＴＦＴ基板２’を重ね合わせ、１３．３Ｐａ（０．１ｔｏｒｒ）、１２０℃で２時間ベークし、その後、真空中で液晶５をパネル内に注入した。この液晶５としては、Δε＝−４、Δｎ＝０．１２、カイラルピッチ１３μｍの材料を使用した。

次に、ＴＦＴ基板２’とカラーフィルタ基板４’の外側に位相差板２０ａ、２０ｂ、及びクロスニコルに配置された偏光板２１ａ、２１ｂを順次貼り付けた。この場合、位相差板２０ａ、２０ｂとしては、厚み方向（ｚ軸）にのみ位相差をもつ、（Ｎ_ｘ−Ｎ_ｚ）ｄ＝３００ｎｍ（但し、Ｎ_ｘ：面内方向の屈折率、Ｎ_ｚ：厚み方向の屈折率、ｄ：位相差板の厚み）のものを使用した。

また、偏光板２１ａ、２１ｂとしては、ｚ軸方向に位相差を有し、位相差板２０ａ、２０ｂと同様の効果を有するトリアセテートフィルムを使用した。

こうして得られた液晶パネルを１Ｈ反転駆動した。その結果、全方位において大きなコントラストの低下や、反転のない良好な視野角特性を示した。

実施例２
実施例１において、ＴＦＴ基板２’側の画素電極１と、カラーフィルタ基板４’側の突起物６の配置とパターンを図４（ａ）に示すものとし、液晶パネルを作製した。この場合、カラーフィルタ基板４’側のスリット７の幅Ｌ_１は７μｍとした。

得られた液晶パネルを実施例１と同様に駆動評価したところ、全方位において大きなコントラストの低下や反転等がない、良好な視野角特性が得られ、さらに、実施例１に比して方位角方向に対称性の高い視野角特性が得られた。また、画質は、グレイラスター表示時のざらつき感が実施例１に比して少なかった。

実施例３
実施例２において、突起物６を底面が１辺１０μｍの矩形で高さを４．５μｍとし、アクリル系スペーサーを使用せずに液晶パネルを作製した。

得られた液晶パネルを実施例１と同様に駆動評価したところ、実施例２と同様な視野角特性が得られた。また、画質は、実施例２に比してざらつき感が少なかった。

実施例４
実施例１において、ＴＦＴ基板２’側の画素電極１と、カラーフィルタ基板４’側の突起物６の配置とパターンを図４（ｃ）に示すものとし、液晶パネルを作製した。この場合、ＴＦＴ基板２’側のスリット７の幅Ｌ_１は７μｍとした。また突起物６の底面のサイズは、Ｌ_２＝５μｍ、Ｌ_３＝１０μｍ、Ｌ_４＝５μｍ、Ｌ_５＝１０μｍとした。

得られた液晶パネルを実施例１と同様に駆動評価したところ、実施例２と同様な視野角特性と画質が得られた。

実施例５
実施例２において、突起物６に代えて、１辺７μｍの矩形の孔をＩＴＯ電極に開け、液晶パネルを作製した。

得られた液晶パネルを実施例１と同様に駆動評価したところ、実施例２よりは画質が劣っていたが、良好な視野角特性が得られた。

実施例６
実施例２において、カラーフィルタ１５の厚みをＲ＝１．０μｍ、Ｇ＝１．２μｍ、Ｂ＝１．５μｍとし、散布するアクリル系スペーサーの粒径を４μｍとし、液晶パネルを作製した。この場合、各色のカラーフィルタは、各色の膜厚で実施例２と同じ色になるように光学濃度を変えた。

得られた液晶パネルは、実施例２よりも白表示時に明るく、視野角方向において、色付きが少なかった。

本発明の一態様の液晶表示素子の平面図（同図ａ）及び断面図（同図ｂ）である。 蒲鉾型の突起物の形成方法の説明図である。 蒲鉾型の突起物の形成方法の説明図である。 突起物と、スリット、切り込み又は孔との位置関係を示す平面図である。 液晶パネルの断面図である。

符号の説明

１…画素電極、２…駆動基板、２’…ＴＦＴ基板、３…対向電極、４…対向基板、４’…カラーフィルタ基板、５…液晶、６…突起物、６’、６’’…突起物を形成するためのパターニングした感光性樹脂、７…スリット、８…切れ込み、９…孔、１１ａ、１１ｂ…マスク、１００…液晶表示素子

Claims (11)

1. 画素電極が形成されている駆動基板と、それに対向する対向電極が形成されている対向基板と、前記駆動基板と前記対向基板の間に挟まれた液晶を含む垂直配向モードの液晶表示素子であって、
   前記画素電極が矩形状であり、
   前記画素電極の短辺方向と平行に切れ込みが形成され、
   前記切れ込みと前記画素電極の辺により区分された画素電極の矩形状の各領域に対応して、前記対向基板の前記対向電極に、１画素の面積の５％以下の面積の点状の孔が設けられて成り、
   電圧印加時に、前記孔を中心にして前記液晶があらゆる方向に放射状に配向される
   液晶表示素子。
2. 前記駆動基板上の、隣接する前記画素電極の間に対応する位置に信号線が形成されて、前記画素電極間の開口が遮光される請求項１記載の液晶表示素子。
3. 前記対向電極は、前記信号線に対応する位置において連続して形成される請求項２記載の液晶表示素子。
4. 前記画素電極が、平坦化膜上に形成される請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示素子。
5. 前記対向電極にカラーフィルタが形成され、
   前記カラーフィルタの膜厚が、各色毎に調整される請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示素子。
6. 前記孔の底面積が５０μｍ^２〜２２５μｍ^２である請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示素子。
7. 前記液晶にカイラル剤が添加されている請求項１〜６のいずれかに記載の液晶表示素子。
8. 前記液晶のカイラルピッチＬとセルギャップｄが、
   ２．５＜Ｌ／ｄ＜５．５
   である請求項７記載の液晶表示素子。
9. アクティブマトリクス駆動である請求項１〜８のいずれかに記載の液晶表示素子。
10. 画素ピッチが７０μｍ以下である請求項９記載の液晶表示素子。
11. 前記駆動基板又は前記対向基板の外側において、前記駆動基板又は前記対向基板と偏光板との間に、視野角を補償する位相差板が備えられ、該位相差板の面内方向の屈折率Ｎｘ、Ｎ_ｙ、厚み方向の屈折率Ｎ_ｚ、厚みｄ_ｆｉｌｍ、液晶の屈折率異方性Δｎ、セルギャップｄ_ＬＣが、
    をみたす請求項１〜１０のいずれかに記載の液晶表示素子。