JP4494848B2 - 粒子線治療装置 - Google Patents
粒子線治療装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4494848B2 JP4494848B2 JP2004114001A JP2004114001A JP4494848B2 JP 4494848 B2 JP4494848 B2 JP 4494848B2 JP 2004114001 A JP2004114001 A JP 2004114001A JP 2004114001 A JP2004114001 A JP 2004114001A JP 4494848 B2 JP4494848 B2 JP 4494848B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- irradiation
- current value
- particle beam
- scanning
- scanning electromagnet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Description
異常判定装置を備えたことにより、照射中に走査電磁石の電流値又はビーム通過位置が異常でないか判定することができる。また例えば毎朝治療を開始する前に試験照射を行い、その照射中における走査電磁石の電流値及びビーム位置検出器により検出したビーム通過位置を、前日に記憶装置に記憶させた電流値及びビーム通過位置と比較するといったことが可能となる。これにより、粒子線治療装置に異常がないかどうか( すなわち治療装置の健全性)を毎日治療を開始する前に確認した上で、治療照射を行うことができる。
表示装置を備えたことにより、治療装置の異常判定を行う際におけるオペレータによる視認性を向上することができる。
表示装置が、比較対象である照射中における走査電磁石の電流値及びビーム位置検出器により検出したビーム通過位置と記憶装置に記憶された電流値及びビーム通過位置とを、グラフ化して表示することにより、治療装置の異常判定を行う際におけるオペレータによる視認性をさらに向上することができる
異常判定装置を備えたことにより、照射中に走査電磁石の電流値又はビーム通過位置が異常でないか判定することができる。また例えば毎朝治療を開始する前に試験照射を行い、その照射中における走査電磁石の電流値及びビーム位置検出器により検出したビーム通過位置を、前日に記憶装置に記憶させた電流値及びビーム通過位置と比較するといったことが可能となる。これにより、粒子線治療装置に異常がないかどうか( すなわち治療装置の健全性)を毎日治療を開始する前に確認した上で、治療照射を行うことができる。
表示装置を備えたことにより、治療装置の異常判定を行う際におけるオペレータによる視認性を向上することができる。
表示装置が、比較対象である照射中における走査電磁石の電流値及びビーム位置検出器により検出したビーム通過位置と記憶装置に記憶された電流値及びビーム通過位置との差分を、数値で表示することにより、治療装置の異常判定を行う際に、比較対象のデータの差分を正確な値で把握することができる。
本実施形態の粒子線治療装置は、図1に示すように、荷電粒子ビーム発生装置(粒子線発生装置)1と、荷電粒子ビーム発生装置1の下流側に接続されたビーム輸送系2とを有している。
x=Lx2×X’/Lx1・・・(1)
y=Ly2×Y’/Ly1・・・(2)
CPU41は、このようにして算出したビーム位置モニタ27上におけるスポット照射位置データ(以下、単にビーム位置データと記載する。)を照射制御装置38に出力する。照射制御装置38は、図2に示すように、上記CPU41から入力されたビーム位置データを、走査電磁石電流設定値演算装置(制御装置)54に出力する。走査電磁石電流設定値演算装置54は、この入力されたビーム位置データに基づき、記憶装置55に記憶されたビーム位置データと走査電磁石24,25の設定電流値(あるいはそれらの相関データ(例えば変換テーブル等)でもよい。詳細は後述。)を用いて走査電磁石24,25の電流値を設定し、走査電磁石電源制御装置45に出力する。走査電磁石電源制御装置45は、この入力された設定電流値にしたがって走査電磁石電源43,44を制御し、走査電磁石24,25への供給電流を制御する。これにより、照射装置15に入射されたイオンビームは走査電磁石24,25によって治療計画データに基づく所定の照射スポット位置方向に走査される。
すなわち、本実施の形態においては、走査電磁石24,25の設定電流値とビーム位置モニタ27で検出したビーム位置データとの変換テーブルを記憶装置55に記憶し、この記憶された変換テーブルを用い、治療計画データ中の照射スポットの写像位置データを変換したビーム位置データに応じて走査電磁石24,25の電流値を設定する。このようにすることで、例えば走査電磁石24,25に生じたヒステリシスにより電流が0であるにも拘らず磁場が残留し、その結果走査したイオンビームのビーム位置が想定した位置からずれたり、その他何らかの機器の経年変化によりビーム位置のずれが生じた場合であっても、記憶装置55にそのずれた状態での設定電流値及びビーム位置データの変換テーブルが記憶されるため、その変換テーブルを用いて治療計画データに基づくビーム位置データから電流値を設定することにより、治療計画データに基づく想定した位置へのスポット照射が可能となる。したがって、誤照射を防止することができ、正確に患部を照射することができる。
15 照射装置
24,25 走査電磁石(走査装置)
27 ビーム位置モニタ(ビーム位置検出器)
39 加速器・輸送系制御装置(ビーム停止装置)
41 CPU(演算装置)
43,44 走査電磁石電源(電源装置)
45 走査電磁石電源制御装置(電源制御装置)
54 走査電磁石電流設定値演算装置(制御装置)
55 記憶装置
58 異常判定装置
59 モニタ(表示装置)
Claims (5)
- 荷電粒子ビームを発生させる粒子線発生装置と、
前記荷電粒子ビームを走査する走査電磁石を有し、前記粒子線発生装置から発生された前記荷電粒子ビームを照射する照射装置と、
前記走査電磁石と照射対象との間に設けられ、前記荷電粒子ビームの通過位置を検出するビーム位置検出器と、
前記走査電磁石に供給する電流値と前記ビーム位置検出器により検出したビーム通過位置との変換テーブルを記憶する記憶装置と、
前記記憶装置に記憶された変換テーブルを用い、治療計画情報に基づくビーム通過位置に応じて前記走査電磁石に供給する電流値を設定する制御装置と、
前記荷電粒子ビームの照射中における前記走査電磁石の電流値及び前記ビーム位置検出器により検出したビーム通過位置を、前記記憶装置に記憶された電流値及びビーム通過位置と比較し、所定の大きさ以上の誤差がある場合に異常と判定する異常判定装置と、
前記異常判定装置により比較される、照射中における前記走査電磁石の電流値及び前記ビーム位置検出器により検出したビーム通過位置と前記記憶装置に記憶された電流値及びビーム通過位置とを、それぞれ表示する表示装置を備え、
前記表示装置は、比較対象である照射中における前記走査電磁石の電流値及び前記ビーム位置検出器により検出したビーム通過位置と前記記憶装置に記憶された電流値及びビーム通過位置とを、グラフ化して表示することを特徴とする粒子線治療装置。 - 荷電粒子ビームを発生させる粒子線発生装置と、
前記荷電粒子ビームを走査する走査電磁石を有し、前記粒子線発生装置から発生された前記荷電粒子ビームを照射する照射装置と、
前記走査電磁石と照射対象との間に設けられ、前記荷電粒子ビームの通過位置を検出するビーム位置検出器と、
前記走査電磁石に供給する電流値と前記ビーム位置検出器により検出したビーム通過位置との変換テーブルを記憶する記憶装置と、
前記記憶装置に記憶された変換テーブルを用い、治療計画情報に基づくビーム通過位置に応じて前記走査電磁石に供給する電流値を設定する制御装置と、
前記荷電粒子ビームの照射中における前記走査電磁石の電流値及び前記ビーム位置検出器により検出したビーム通過位置を、前記記憶装置に記憶された電流値及びビーム通過位置と比較し、所定の大きさ以上の誤差がある場合に異常と判定する異常判定装置と、
前記異常判定装置により比較される、照射中における前記走査電磁石の電流値及び前記ビーム位置検出器により検出したビーム通過位置と前記記憶装置に記憶された電流値及びビーム通過位置とを、それぞれ表示する表示装置を備え、
前記表示装置は、比較対象である照射中における前記走査電磁石の電流値及び前記ビーム位置検出器により検出したビーム通過位置と前記記憶装置に記憶された電流値及びビーム通過位置との差分を、数値で表示することを特徴とする粒子線治療装置。 - 前記治療計画情報に含まれる患部位置情報を前記ビーム位置検出器で検出可能なビーム通過位置情報に変換する演算装置をさらに備え、前記制御装置は前記演算装置で変換されたビーム通過位置情報に応じて前記走査電磁石に供給する電流値を設定することを特徴とする請求項1又は2記載の粒子線治療装置。
- 前記走査電磁石に電流を供給する電源装置、及び前記電源装置を制御する電源制御装置をさらに備え、前記制御装置は前記電源制御装置を介して前記走査電磁石に供給する電流値を設定することを特徴とする請求項3記載の粒子線治療装置。
- 前記荷電粒子ビームの照射中に前記異常判定装置が異常と判定した場合に、前記粒子線発生装置からの前記荷電粒子ビームの発生を停止させるビーム停止装置を備えたことを特徴とする請求項1又は2記載の粒子線治療装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004114001A JP4494848B2 (ja) | 2004-04-08 | 2004-04-08 | 粒子線治療装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004114001A JP4494848B2 (ja) | 2004-04-08 | 2004-04-08 | 粒子線治療装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005296162A JP2005296162A (ja) | 2005-10-27 |
JP4494848B2 true JP4494848B2 (ja) | 2010-06-30 |
Family
ID=35328438
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004114001A Expired - Fee Related JP4494848B2 (ja) | 2004-04-08 | 2004-04-08 | 粒子線治療装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4494848B2 (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4646069B2 (ja) * | 2005-11-14 | 2011-03-09 | 株式会社日立製作所 | 粒子線照射システム |
JP4378396B2 (ja) | 2007-06-22 | 2009-12-02 | 株式会社日立製作所 | 粒子線照射システム |
DE102007054919B4 (de) * | 2007-08-24 | 2009-07-30 | Gsi Helmholtzzentrum Für Schwerionenforschung Gmbh | Schnelle Regelung der Reichweite von hochenergetischen Ionenstrahlen für Präzisionsbestrahlungen von bewegten Zielvolumina |
JP5155127B2 (ja) * | 2008-12-10 | 2013-02-27 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線照射システム及び照射ノズル装置 |
US8217364B2 (en) | 2009-06-09 | 2012-07-10 | Mitsubishi Electric Corporation | Particle beam irradiation apparatus |
US8212223B2 (en) | 2009-06-09 | 2012-07-03 | Mitsubishi Electric Corporation | Particle beam irradiation apparatus |
JP4499185B1 (ja) * | 2009-08-27 | 2010-07-07 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 |
US8405042B2 (en) * | 2010-01-28 | 2013-03-26 | Mitsubishi Electric Corporation | Particle beam therapy system |
JP5583436B2 (ja) * | 2010-03-15 | 2014-09-03 | 住友重機械工業株式会社 | ラインスキャニング装置 |
JP4560142B1 (ja) | 2010-03-31 | 2010-10-13 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 |
CN104707267B (zh) * | 2010-03-31 | 2018-04-27 | 三菱电机株式会社 | 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 |
JP5574803B2 (ja) * | 2010-04-27 | 2014-08-20 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射装置 |
JP5546340B2 (ja) * | 2010-05-12 | 2014-07-09 | 三菱電機株式会社 | 偏向電磁石調整装置、粒子線照射装置、粒子線治療装置及び偏向電磁石調整方法 |
JP5390476B2 (ja) * | 2010-06-10 | 2014-01-15 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療装置 |
JP5421870B2 (ja) * | 2010-07-23 | 2014-02-19 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 |
JP5508553B2 (ja) * | 2011-02-17 | 2014-06-04 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療装置 |
JP5676741B2 (ja) * | 2011-03-07 | 2015-02-25 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射装置及び粒子線治療装置 |
JP5142164B2 (ja) * | 2011-06-30 | 2013-02-13 | 株式会社Quan Japan | 中性子線発生装置及び中性子線発生方法 |
JP5762555B2 (ja) * | 2011-11-08 | 2015-08-12 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療システムおよびそのビーム位置補正方法 |
JP5868249B2 (ja) | 2012-04-10 | 2016-02-24 | 株式会社日立製作所 | 粒子線治療システム |
CN104582791B (zh) | 2012-08-21 | 2017-03-01 | 三菱电机株式会社 | 扫描电磁铁用控制装置及粒子射线治疗装置 |
JP5932064B2 (ja) * | 2013-01-22 | 2016-06-08 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射装置、およびそれを備えた粒子線治療装置 |
JP6869479B2 (ja) * | 2015-11-02 | 2021-05-12 | 東芝エネルギーシステムズ株式会社 | 粒子線ビーム照射装置及び粒子線ビーム表示プログラム |
WO2017221360A1 (ja) * | 2016-06-23 | 2017-12-28 | 三菱電機株式会社 | 粒子線治療装置 |
JP7233179B2 (ja) * | 2018-07-19 | 2023-03-06 | 住友重機械工業株式会社 | 荷電粒子線治療装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11142596A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-05-28 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム出射装置 |
JP2001104498A (ja) * | 1998-08-04 | 2001-04-17 | Ges Fuer Schwerionenforschung Mbh | 放射線照射機器の制御装置および方法 |
JP2002151300A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-24 | Hitachi Ltd | チューン表示装置及びそれを有する円形加速器システム |
JP2003282300A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-03 | Hitachi Ltd | 粒子線治療システム |
-
2004
- 2004-04-08 JP JP2004114001A patent/JP4494848B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11142596A (ja) * | 1997-08-28 | 1999-05-28 | Hitachi Ltd | 荷電粒子ビーム出射装置 |
JP2001104498A (ja) * | 1998-08-04 | 2001-04-17 | Ges Fuer Schwerionenforschung Mbh | 放射線照射機器の制御装置および方法 |
JP2002151300A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-05-24 | Hitachi Ltd | チューン表示装置及びそれを有する円形加速器システム |
JP2003282300A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-03 | Hitachi Ltd | 粒子線治療システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005296162A (ja) | 2005-10-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4494848B2 (ja) | 粒子線治療装置 | |
JP3681744B2 (ja) | 治療計画装置 | |
JP3806723B2 (ja) | 粒子線照射システム | |
JP5508553B2 (ja) | 粒子線治療装置 | |
US7141810B2 (en) | Particle beam irradiation system | |
JP4540853B2 (ja) | イオンビーム治療システムにおけるビーム誘導点検方法 | |
JP4206414B2 (ja) | 荷電粒子ビーム出射装置及び荷電粒子ビーム出射方法 | |
US6614038B1 (en) | Method for monitoring the irradiation control unit of an ion-beam therapy system | |
US20060022152A1 (en) | Particle beam therapy system and control system for particle beam therapy | |
JP4726869B2 (ja) | 荷電粒子ビーム照射システム及びその制御方法 | |
US20090321656A1 (en) | Verifying the energy of a particle beam | |
JP4864787B2 (ja) | 粒子線照射システムおよびその制御方法 | |
WO2013140856A1 (ja) | 荷電粒子照射システムおよび照射計画装置 | |
JP2008054973A (ja) | スキャニング方式の粒子線照射装置 | |
JP5058932B2 (ja) | 粒子線治療システム及び粒子線治療システムにおける荷電粒子ビームのエネルギー確認方法 | |
JP5393564B2 (ja) | 荷電粒子ビーム輸送装置及び粒子線治療システム | |
JP5788100B2 (ja) | 走査電磁石用制御装置および粒子線治療装置 | |
JP7065800B2 (ja) | 粒子線治療システム、粒子線照射方法及びコンピュータプログラム | |
JPH11169469A (ja) | 荷電粒子ビーム照射方法および荷電粒子ビーム照射装置 | |
JP2011005096A (ja) | 粒子線照射制御装置 | |
JP5925233B2 (ja) | 患者呼吸評価装置 | |
JP6358948B2 (ja) | 粒子線照射装置および粒子線照射装置の制御方法 | |
WO2019163291A1 (ja) | 粒子線照射システムおよび照射計画装置 | |
JP2020010887A (ja) | 荷電粒子線治療装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060814 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090305 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090526 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090717 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091201 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100208 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100309 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100406 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100408 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4494848 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140416 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |