JP4494370B2 - 製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法及び成膜装置 - Google Patents
製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法及び成膜装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4494370B2 JP4494370B2 JP2006149663A JP2006149663A JP4494370B2 JP 4494370 B2 JP4494370 B2 JP 4494370B2 JP 2006149663 A JP2006149663 A JP 2006149663A JP 2006149663 A JP2006149663 A JP 2006149663A JP 4494370 B2 JP4494370 B2 JP 4494370B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- product
- film forming
- forming material
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
先ず、第1の発明は、円軌跡上を製品の表面を外側にして製品を公転回転させ、該円軌跡より外方位置に成膜材料を置いて、該成膜材料から成膜粒子を円軌跡に向けて飛散させ、製品が公転回転により成膜材料が置かれた位置を通過する際に該飛散した成膜粒子を製品の表面に付着させて、製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法であって、表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品に対して、前記成膜材料が置かれた位置を通過する製品の公転速度を径方向の高さに応じて変化させて製品の表面に形成される被膜の厚さを制御することを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法である。
第2の発明は、第1の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法において、スパッタリングにより前記成膜材料から前記成膜粒子を飛散させることを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法である。
第3の発明は、円軌跡上を製品の表面を外側にして製品を公転回転させ、該円軌跡より外方位置に成膜材料を置いて、該成膜材料から成膜粒子を円軌跡に向けて飛散させ、製品が公転回転により成膜材料が置かれた位置を通過する際に該飛散した成膜粒子を製品の表面に付着させて、製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置であって、表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品に対して、前記成膜材料が置かれた対応位置を通過する製品の公転速度を径方向の高さに応じて変化させる公転速度可変機構を備えたことを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置である。
第4の発明は、第3の発明の表面に金属被膜を形成する成膜装置において、スパッタリングにより前記成膜材料から前記成膜粒子を飛散させることを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置である。
第5の発明は、円軌跡上を製品の表面を外側にして製品を公転回転させ、該円軌跡より外方位置に成膜材料を置いて、該成膜材料から成膜粒子を円軌跡に向けて飛散させ、製品が公転回転により成膜材料が置かれた位置を通過する際に該飛散した成膜粒子を製品の表面に付着させて、製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法であって、表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品に対して、該製品の前記成膜材料に対する角度を変化させて製品の表面に形成される被膜の厚さを制御することを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法である。
第6の発明は、第5の発明製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法において、該製品の前記成膜材料に対する角度を変化させた状態に応じて該製品が前記成膜材料が置かれた位置を通過する時間を変化させて製品の表面に形成される被膜の厚さを制御することを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法である。
第7の発明は、第5または第6の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法において、スパッタリングにより前記成膜材料から前記成膜粒子を飛散させることを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法である。
第8の発明は、円軌跡上を製品の表面を外側にして製品を公転回転させ、該円軌跡より外方位置に成膜材料を置いて、該成膜材料から成膜粒子を円軌跡に向けて飛散させ、製品が公転回転により成膜材料が置かれた位置を通過する際に該飛散した成膜粒子を製品の表面に付着させて、製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置であって、表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品に対して、該製品の前記成膜材料に対する角度を変化させる角度変化手段を備えていることを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置である。
第9の発明は、第8の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置において、前記製品の円軌跡上での径方向の高さ位置を変化させる角度変化手段の変化に応じて製品の公転速度を変化させる公転速度制御機構を備えていることを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置である。
第10の発明は、第8または第9の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置において、前記製品の円軌跡上での径方向の高さ位置を変化させる角度変化手段の変化に応じて製品の公転回数を変化させる公転回数制御機構を備えていることを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置である。
第11の発明は、第8から第10の発明のいずれかの製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置において、スパッタリングにより前記成膜材料から前記成膜粒子を飛散させることを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置である。
第3の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置は、表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品に対して、成膜材料が置かれた対応位置を通過する製品の公転速度を径方向の高さに応じて変化させる公転速度可変機構を備えているため、第1の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法が実施可能である。また、第4の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置は、スパッタリングにより前記成膜材料から前記成膜粒子を飛散させるため、第2の発明の第1の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法が実施可能である。
第8の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置は、表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品に対して、該製品の前記成膜材料に対する角度を変化させる角度変化手段を備えている。したがって、第8の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置によれば、第5の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法が実施可能である。第9の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置は、さらに、角度変化手段の変化に応じて製品の公転速度を変化させる公転速度制御機構を備えている。したがって、角度変化手段の変化に応じて製品の公転速度を変化させることにより、製品の成膜材料に対する角度を変化させた状態に応じて製品が成膜材料の置かれた位置を通過する時間を変化させることができる。第9の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置によれば、第6の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法が実施可能である。第10の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置は、角度変化手段の変化に応じて製品の公転回数を変化させる公転回数制御機構を備えている。したがって、角度変化手段の変化に応じて製品の公転回数を変化させることにより、製品の成膜材料に対する角度を変化させた状態に応じて製品が成膜材料の置かれた位置を通過する時間を変化させることができる。第10の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置によれば、第6の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法が実施可能である。また、第11の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置は、スパッタリングにより成膜材料から成膜粒子を飛散させるため、第7の発明の製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法が実施可能である。
先ず、図8を参照して本発明の基本的概念を説明する。製品40は、表面40a、すなわち被膜を形成する面を外側にして円軌跡上を公転回転する。成膜材料12は、被膜の原料となる金属からなり、製品40の公転回転する円軌跡より外方位置に配置している。成膜材料12から成膜粒子14が飛散し、図8において実線で示すように、製品40が公転回転により成膜材料12が置かれた位置を通過する際に成膜粒子14が製品の表面40a付着して金属被膜が形成される。
以下、表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品10に対して本発明を適応した実施態様を具体的に説明する。
第1の実施態様は、成膜材料12が置かれた位置を通過する製品10の公転速度を径方向の高さに応じて変化させて製品10の表面に形成される被膜の厚さを制御することを特徴とする。第1の実施態様においては、表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品10に対して、成膜材料12が置かれた対応位置を通過する製品10の公転速度を径方向の高さに応じて変化させる公転速度可変機構を備えた成膜装置を用いることができる。
このように、製品10の径方向の高さが相対的に高く被膜が厚くなりやすい高さ位置が成膜材料12の置かれた位置を通過するときは公転速度を速くすることにより処理時間を短くする。それとは逆に、製品10の径方向の高さが相対的に低く被膜が薄くなりやすい高さ位置が成膜材料12の置かれた位置を通過するときは公転速度を遅くすることにより処理時間を長くする。それにより窪み面10a、突起面10b、および傾斜面10cの各面に膜厚の均一な被膜を形成することができる。
第2の実施態様は、製品10の成膜材料12に対する角度を変化させ、製品10の成膜材料12に対する角度を変化させた状態に応じて製品10が成膜材料12の置かれた位置を通過する時間を変化させて製品10の表面に形成される被膜の厚さを制御することを特徴とする。
図5(A)は、図4に示す角度範囲Aが成膜材料12に対向するように製品10の角度を円軌跡上で変化させた状態(以下、角度状態Aと記載する。)である。角度状態Aでは、窪み面10aに対して最も成膜粒子が付着しやすい状態となっている。図5(B)は、図4に示す角度範囲Bが成膜材料12に対向するように製品10の角度を円軌跡上で変化させた状態(以下、角度状態Bと記載する。)である。角度状態Bでは、突起面10bに対して最も成膜粒子が付着しやすい状態となっている。また、図5(C)は、図4に示す角度範囲Cが成膜材料12に対向するように製品10の角度を円軌跡上で変化させた状態(以下、角度状態Cと記載する。)である。角度状態Cでは、傾斜面10cに対して最も成膜粒子が付着しやすい状態となっている。
このように、製品10の成膜材料12に対する角度を変化させることによって、径方向の高さが異なる、窪み面10a、突起面10b、および傾斜面10cの各面に効率よく被膜を形成することができる。
製品10が成膜材料12の置かれた位置を通過する時間(通過時間)は、製品10が被膜形成処理を受ける時間(処理時間)と言い換えることもできる。通過時間を変化させるには、具体的には、公転速度が一定の場合、公転回数を変化させればよい。すなわち、公転回数を多くするほど通過時間は長くなり、公転回数を少なくするほど通過時間は短くなる。
10a 窪み面
10b 突起面
10c 傾斜面
12 成膜材料
14 成膜粒子
Claims (3)
- 円軌跡上を製品の表面を外側にして製品を公転回転させ、該円軌跡より外方位置に成膜材料を置いて、該成膜材料から成膜粒子を円軌跡に向けて飛散させ、製品が公転回転により成膜材料が置かれた位置を通過する際に該飛散した成膜粒子を製品の表面に付着させて、製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法であって、
表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品に対して、該製品の前記成膜材料に対する角度を変化させ、該製品の前記成膜材料に対する角度を変化させた状態に応じて該製品が前記成膜材料が置かれた位置を通過する時間を変化させて製品の表面に形成される被膜の厚さを制御することを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法。 - 円軌跡上を製品の表面を外側にして製品を公転回転させ、該円軌跡より外方位置に成膜材料を置いて、該成膜材料から成膜粒子を円軌跡に向けて飛散させ、製品が公転回転により成膜材料が置かれた位置を通過する際に該飛散した成膜粒子を製品の表面に付着させて、製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置であって、
表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品に対して、該製品の前記成膜材料に対する角度を変化させる角度変化手段を備えており、
前記製品の円軌跡上での径方向の高さ位置を変化させる角度変化手段の変化に応じて製品の公転速度を変化させる公転速度制御機構を備えていることを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置。 - 円軌跡上を製品の表面を外側にして製品を公転回転させ、該円軌跡より外方位置に成膜材料を置いて、該成膜材料から成膜粒子を円軌跡に向けて飛散させ、製品が公転回転により成膜材料が置かれた位置を通過する際に該飛散した成膜粒子を製品の表面に付着させて、製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置であって、
表面形状が円軌跡の円弧方向に径方向の高さが異なる製品に対して、該製品の前記成膜材料に対する角度を変化させる角度変化手段を備えており、
前記製品の円軌跡上での径方向の高さ位置を変化させる角度変化手段の変化に応じて製品の公転回数を変化させる公転回数制御機構を備えていることを特徴とする製品の表面に金属被膜を形成する成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006149663A JP4494370B2 (ja) | 2006-05-30 | 2006-05-30 | 製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法及び成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006149663A JP4494370B2 (ja) | 2006-05-30 | 2006-05-30 | 製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法及び成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007321173A JP2007321173A (ja) | 2007-12-13 |
JP4494370B2 true JP4494370B2 (ja) | 2010-06-30 |
Family
ID=38854248
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006149663A Active JP4494370B2 (ja) | 2006-05-30 | 2006-05-30 | 製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法及び成膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4494370B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2673725B2 (ja) * | 1989-01-30 | 1997-11-05 | 新明和工業株式会社 | 成膜装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05255845A (ja) * | 1992-03-09 | 1993-10-05 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | スパッタリング装置 |
JPH1150239A (ja) * | 1997-08-05 | 1999-02-23 | Kobe Steel Ltd | Pvd装置 |
-
2006
- 2006-05-30 JP JP2006149663A patent/JP4494370B2/ja active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2673725B2 (ja) * | 1989-01-30 | 1997-11-05 | 新明和工業株式会社 | 成膜装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007321173A (ja) | 2007-12-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5993974B2 (ja) | 基板をコーティングするための方法およびコータ | |
US10422032B2 (en) | Film formation apparatus and film-formed workpiece manufacturing method | |
KR100797447B1 (ko) | 마그네트론 스퍼터링 장치, 원통형 캐소드 및 기재상의다성분 필름 코팅 방법 | |
JP6411975B2 (ja) | 成膜装置及び成膜基板製造方法 | |
US9543127B2 (en) | Method and table assembly for applying coatings to spherical components | |
TWI567216B (zh) | 供濺鍍沉積的微型可旋轉式濺鍍裝置 | |
CN111826624A (zh) | Hipims溅射的方法和hipims溅射系统 | |
JP4223614B2 (ja) | スパッタリング方法及び装置及び電子部品の製造方法 | |
JP2009041040A (ja) | 真空蒸着方法および真空蒸着装置 | |
JP4936333B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
CN104004997A (zh) | 圆筒状蒸发源 | |
JP2008007806A (ja) | スパッタリング成膜装置、封止膜の製造方法及び有機el素子 | |
JP4494370B2 (ja) | 製品の表面に金属被膜を形成する成膜方法及び成膜装置 | |
KR20190058269A (ko) | 스퍼터링 장치 | |
KR20190136771A (ko) | 연동 회전하는 회전기를 가지는 증착장치 | |
US20050236267A1 (en) | Methods and apparatus for controlling rotating magnetic fields | |
CN112522671B (zh) | 磁控溅射方法、装置、设备及可读存储介质 | |
JP2011500971A (ja) | 薄膜コーティングシステムおよび方法 | |
RU2806258C1 (ru) | Способ нанесения PVD-покрытия на многогранные подложки | |
JP2012500901A (ja) | 材料を蒸着する方法 | |
JP7358647B2 (ja) | 成膜方法 | |
JP2012007230A (ja) | 微粒子の皮膜形成方法及びその装置 | |
JP2009287046A (ja) | スパッタリング方法及びスパッタリング装置 | |
JP2020122193A (ja) | 成膜装置 | |
CN1261615C (zh) | 镀膜装置中的遮板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090210 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100312 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100406 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100407 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140416 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |