JP4491643B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
(1)壁の一部がマイクロ波を透過する材料からなる平板状の誘電体板で構成されて、内部が減圧可能な真空容器と、
真空容器内にガスを供給するガス供給システムと、
真空容器内に供給されるガスを排気するとともに該真空容器内を減圧するための排気システムと、
誘電体板で壁の一部を構成する誘電体板と真空容器内に励起されるプラズマの間に配置され、マイクロ波を透過する材料からなる平板状の誘電体で構成されると共に複数のガス放出孔が形成された上段シャワープレートと、
誘電体板を挟んで真空容器の外側に配置され、該誘電体板を通してプラズマ励起用のマイクロ波を供給するための平板状のスロットアンテナと、
真空容器の内側に設けられて前記被処理基体を保持するステージと、
真空容器の上段に配設された上段シャワープレートと被処理基板との間に設けられて、上段シャワープレートから放出されるガスとは異なる組成のガスを該被処理基板側に放出するための多数に分割されたプロセス用ガス供給シャワー管を均一的に展開し、並設して前記スロットアンテナから放射されたマイクロ波を反射するプロセス用ガス供給のための下段シャワープレートとを有する構成とした。
長いシャワー管の両端を閉塞して管壁に複数のガス放出孔を設け、かつ中央部に分岐してガス導入用の第1の管を立設する。また、短いシャワー管の両端を閉塞して管壁に複数のガス放出孔を設け、かつ一端部にL字状に連結してガス導入用の第2の管を立設する。これらの長いシャワー管及び短いシャワー管は、それらの複数のガス放出孔を有する多数の管を行方向、列方向共に隣り同士を離し、かつ均一な間隔で展開して配置する。
そして、エッチングプロセスでは、基板上に成膜する材料パターンの均一性、加工の均一性が得られる。また、処理空間での放電がし易く、基板周辺の電子密度を高くすることができ、低電力のマイクロ波で、高速プロセスが実現できる。
Claims (1)
- 壁の一部がマイクロ波を透過する材料からなる平板状の誘電体板で構成されて、内部が減圧可能な真空容器と、
前記真空容器内にガスを供給するガス供給システムと、
前記真空容器内に供給されるガスを排気するとともに該真空容器内を減圧するための排気システムと、
前記誘電体板で壁の一部を構成する前記誘電体板と前記真空容器内に励起されるプラズマの間に配置された上段シャワープレートと、
前記誘電体板を挟んで前記真空容器の外側に配置され、該誘電体板を通してプラズマ励起用のマイクロ波を供給するための平板状のスロットアンテナと、
前記真空容器の内側に設けられて前記被処理基板を保持するステージと、
前記真空容器の上段に配設された前記上段シャワープレートと前記被処理基板との間に設けられて、前記上段シャワープレートから放出されるガスとは異なる組成のガスを該被処理基板側に放出するための下段シャワープレートとを有し、
前記下段シャワープレートは、複数のガス放出孔を有して前記被処理基板に対して前記ガスが均一に放出されるように均一的に展開し並設して前記スロットアンテナから放射されたマイクロ波を反射するプロセス用ガス供給のための長いシャワー管と短いシャワー管からなる複数のシャワー管を有し、
前記シャワー管は、前記複数のガス放出孔を有する金属管と、該金属管に立設されたガス導入用の金属管とからなり、
前記長いシャワー管と短いシャワー管は、その両端が閉塞されると共に、その各複数を前記被処置基板に対して行方向、列方向共に隣り同士を離し、かつ均一な間隔で組み合わせて配置してなり、
前記上段シャワープレートと前記下段シャワープレートとは、前記真空容器内で互いに対向して平行に配置されており、
前記上段シャワープレートと前記下段シャワープレート間の空間で生成されたプラズマを、前記下段シャワープレートの各シャワー管同士の間に形成される通気部を通して前記被処理基板側の空間に流し込むことで、前記下段シャワープレートが、前記被処理基板に対して均一なガス放出と、高いシャワー温度に起因するシャワープレートの変形を回避して前記被処理基板に対してプラズマ加工を施すことを特徴とするプラズマ処理装置。
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JP2010062582A (ja) * | 2009-11-17 | 2010-03-18 | Tohoku Univ | プラズマ処理装置 |
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