JP4484347B2 - Transparent conductive film and touch panel - Google Patents

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JP4484347B2 JP2000311422A JP2000311422A JP4484347B2 JP 4484347 B2 JP4484347 B2 JP 4484347B2 JP 2000311422 A JP2000311422 A JP 2000311422A JP 2000311422 A JP2000311422 A JP 2000311422A JP 4484347 B2 JP4484347 B2 JP 4484347B2
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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、透明導電性フイルムに関し、特にタッチパネル等に適用され、耐久性、ディスプレイ上で視認性に優れ、特に耐擦傷性とステイッキングの発生防止に効果のある特定のアンカー層を設けた透明導電性フイルムに関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、透明導電性フイルムを使用した透明タッチパネルが多用されている。透明タッチパネルは、指やペンによって所定位置を押圧することで、コンピューター などに所定の情報等を入力するものである。指やペンで入力を繰り返すと、次第に透明導電膜の抵抗値が変化し正確に情報等が入力できない、また、指やペンによって所定位置を押圧する際、透明導電性フイルムの透明導電層と、対向する透明導電層とで、接触、非接触が繰り返し行われることにより、歪み等が発生し、これによりニュートンリングが発生したりし問題であったり、接触時に指やペンを離してもその接触が非接触にならない即ちステイッキングが発生し使用に耐えないなどの課題を抱えていた。
このため、フィラーを含有する有機樹脂のコーティング層を形成し、その上に透明導電層を形成することも提案されている。
しかし、フィラーを含有する有機樹脂のコーティング層を介して透明導電膜を形成すると、ニュートンリングを防止する効果等はあるが、コーテイング層と透明導電膜との密着性が不十分であったり、有機樹脂のコーティング層の膜硬度が弱い等の理由で、入力耐久性に劣り、特に表面粗さが特定以上のもでは耐擦傷性や入力耐久性、耐溶剤性に劣るなどの課題を有するものが殆どであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明は、入力耐久性に優れ、ステイッキングの発生を防止しかつ耐擦傷性に優れた、かつ気体不透過性に優れ耐久性にも優れた透明導電性フイルムを提供せんとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するために、本願発明の請求項1に記載の発明は、透明基材フィルム(A.)の少なくとも一面に、平均粒径1〜30nmの微粒子を含む樹脂で形成された、JIS_B_0601の規定によるRaが4〜20nmの中心線平均粗さを有するアンカー層(B.)と、SiOx層(S.)と、透明導電層(C.)と、をこの順に積層してなる透明導電性フィルムであって、前記アンカー層(B.)がシロキサン結合を有する熱硬化型樹脂、若しくはシロキサン結合を有する電離放射線硬化型樹脂による層であり、かつその厚みが0.02〜10μmであり、前記SiOx層(S.)の厚さが2〜25nmであること、を特徴とする。
また本願発明の請求項2に記載のタッチパネルに関する発明は、請求項1に記載の透明導電性フィルムを使用してなること、を特徴とする。

【0005】
【発明の実施態様】
本発明に用いる基材フイルム(A.)としては、特に制限はないが、加工適性や用途的に考えれば、高い透明性を有するフイルムを使用することが好ましく、例えば三酢酸セルロース、アセテート等のセルロース系樹脂や、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂や、ポリメチルメタクレート等のアクリル系樹脂や、ポリカーボネート樹脂類、ポリスルフォン樹脂等の、樹脂フイルムを使用することが好ましい。
これらのフイルムの厚さも特に限定されないが、12〜300μmのものが好適に使用される。
【0006】
本発明に用いるアンカー層(B.)は、その層構成の樹脂等が特に限定されるものではないが、好ましくは形成後の層としては、透明導電性フイルムとの密着性向上や透明性の向上に寄与し、かつ微粒子との親和性にもすぐれたものであるものが好ましい。
該アンカー層(B.)を形成する樹脂等構成成分としては、主として熱硬化型樹脂、若しくは電離放射線硬化型樹脂があり、前記した機能を有するものであれば特に限定されないがメラミン系樹脂、アクリレート系アルコール変性多官能化合物、トリメチロールプロパンアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、1,6−へキサンジオールアクリレート、チタネート系化合物、アルコキシシラン加水分解縮合系樹脂(シロキサン結合含有樹脂)が挙げられる。なかでもアルコキシシラン加水分解縮合系成分(シロキサン結合含有樹脂)が好ましく使用できる。
アンカー層(B.)の厚みは、特に限定されないが、透明性と耐久性とのバランスから、0.02〜10μmの範囲である。
電離放射線硬化型樹脂は、少なくとも電子線あるいは紫外線照射により硬化される樹脂を含有する塗料から形成される。具体的には、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤を含有し、さらに必要に応じて増感剤、非反応性樹脂、レベリング剤等の添加剤、溶剤を含有するものである。
【0007】
本発明において、入力耐久性に優れ、ステイッキングの発生を防止しかつ耐擦傷性に優れた透明導電性フイルムを得るために、Raが4〜20nmの中心線平均粗さ(JIS B 0601による、以下同)を有するアンカー層(B.)を形成することが必要であり、このRaは好ましくは5〜10nmであり、そのために樹脂等構成成分に含有せしめる、平均粒径1〜30nmの微粒子の粒径は、平均粒径1〜30nmであることが必要である。Raが4nmに満たないときはステイッキングの発生を防止する効果が不充分であり、Raが20nmをこえるときはステイッキングの発生を防止する効果があっても耐擦傷性や入力耐久性、耐溶剤性において劣るものとなる。
【0008】
本発明で用いる微粒子としては、特に制限はないがシリカや、シリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、スチレン樹脂粒子、ナイロン樹脂粒子等が挙げられるが、微粒子としては、ハンドリング性、透明導電膜との密着性を考えると、金属アルコキシドの加水分解物等から作製される、コロイド状に無機酸化物微粒子が分散した、金属酸化物ゾルが好ましい。コロイド状に分散した微粒子は、分散剤等を使用して安定化させると更に好ましい。無機酸化物微粒子としては、酸化珪素、酸化アンチモン、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、アルミナ、チタニア、ジルコニア等が挙げられる。なかでも、価格や色目を考えると酸化珪素を分散したコロイダルシリカが好ましい。透明導電層の導電効果を高めたい場合には、酸化錫、酸化アンチモン−酸化錫等が好適に用いることが出来る。
粒子の形状は、球状もしくは球状に近いものが好ましいが特に限定されるものではない。微粒子の添加量は、特に限定されないが、使用する微粒子の比重等により影響をうけるが、通常、樹脂固形分の0.5〜60重量%、好ましくは5〜50重量%の範囲である。
【0009】
本発明における、SiOx層(S.)は透明基材フイルム(A.)のアンカー層(B.)、透明導電層(C.)を設ける側に設けてもよくまたその反対面に設けてもよいものであるが、好ましくはアンカー層(B.)と透明導電層(C.)の間に形成することである。
xとしては1.5〜2.0が好ましく、その厚さは2〜50nmが好ましく更に好ましくは5〜15nmである。2nmに満たないときは後記のSiOx層(S.)の形成効果が僅かであり、50nmを超えるときは透明導電層(C.)の透明性の向上等のための後熱処理などの効果を得難いなどの問題が生じ、経済的にも得策でない。
このSiOx層(S.)の形成法は特に限定されず電子ビーム蒸着法、加熱蒸着法、スパッタリング法、等公知の方法が適宜選択採用される。このSiOx層(S.)の形成によって、得られる透明導電性フイルムの透明性が向上しかつ、ペン入力等に耐えられる、さらに該SiOx層(S.)の水蒸気バリヤー性によると考えられる透明導電層(C.)の劣化を抑制する等、耐久性も向上する。
本発明は、透明基材フイルム(A.)の少なくとも一面に、少なくとも平均粒径1〜30nmの微粒子を含む樹脂で形成されたRaが4〜20nmの中心線平均粗さを有するアンカー層(B.)、SiOx層(S.)、透明導電層(C.)を設けたことを特徴とする透明導電性フイルムであるが、透明基材フイルム(A.)の一面にアンカー層(B.)、SiOx層(S.)、透明導電層(C.)を順次設ける場合は、透明基材フイルム(A.)の他の一面にハードコート層を設けてもよく、さらに該ハードコート層上にシリコン−フッ素系等の防汚層を設けてもよいし、透明基材フイルム(A.)とアンカー層(B.)との間にハードコート層や他の層を設けてもよい。
【0010】
本発明でいうハードコート層とは鉛筆硬度がH以上のものであり、ハードコート層形成としては、特に限定されないが、樹脂熱硬化型樹脂、若しくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられ、メラミン系樹脂、アクリレート系アルコール変性多官能化合物、トリメチロールプロパンアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、1,6−へキサンジオールアクリレート、チタネート系化合物、アルコキシシラン加水分解縮合系樹脂(シロキサン結合含有樹脂)が例示できる。例えば電離放射線塗料を用いたハードコート層の形成方法としては、通常の塗工方法、例えば、バー、ブレード、スピン、グラビア、スプレー等のコーティングで行うことができる。
【0011】
本発明における透明導電層(C.)としては、金属アルコキシド等の加水分解物をコーティングすることによって形成される無機酸化物を主成分とするコーティング層や、若しくは、CVD、EB蒸着、イオンプレーティグ、スパッタリング、等によって形成されるものであり、インジウム−錫系(ITO)、ZnO2系、CdO系、SnO2系等が適宜選択使用されるものである。
なかでも、インジウム−錫系(ITO)が好ましく、インジウム−錫系(ITO)における錫の含有量が5〜15モル%であるものが特に好ましく、このインジウム−錫系(ITO)においては、非結晶性のものでもよく、結晶性のものでもよく勿論非結晶性−結晶性の中間性(混合タイプ)のものでもよい。
かくして、得られた透明導電性フイルムは種々透明導電性を要求する分野、装置に使用されるが、なかでもタッチパネルの透明電極として好適に使用できる。
【0012】
【実施例】
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する
*実施例1
厚さ175μmのポリエチレンテレフタレートフイルム一面上に6官能アクリレートモノマー50部、2官能ウレタンアクリレート31部、光開始剤3部、トルエン100部からなる塗料をハードコート樹脂バインダー部分の硬化後の厚みが3μmになるようにメイヤーバーにて塗布し、溶剤乾燥後、高圧水銀灯にて紫外線を300mJ/cm2照射し硬化させてハードコート層を形成した(該ハードコート層の鉛筆硬度は2Hであった)。
ポリエチレンテレフタレートフイルムの該ハードコート層を設けた面の反対面上に、アルコキシシランの加水分解物(実施例1と同じシロキサン結合含有樹脂成分含量)、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、平均粒径12nmのオルガノシリカゾルメチルイソブチルケトン分散液(実施例1と同じシロキサン結合含有樹脂成分含量)の混合液(固形分比、シロキサン結合含有樹脂成分:オルガノシリカゾル成分=5.2:4.8重量比)を、キスコートで塗布し乾燥厚さ0.02μmのアンカー層を形成した。該アンカー層のRaは7.57nm(Rzは56.3nm、測定レンジ500μm)であった。
このアンカーコート層上に、SiO2の10nmスパッタリングによる薄膜を形成し、このSiO2薄膜上に、透明導電層としてITO膜を、インジウム:錫=90:10(金属、モル比)のターゲットを使用し、真空室内を10−3Paとし、ArとO2の混合ガスを導入しながら5×10−1PaとしてDCスパッタリングで厚さ30nmに形成し、150℃で24時間熱処理し、透明導電性フイルムを得た。この透明導電性フイルムのITO膜の抵抗値は470Ω/□であり全光線透過率は85.3%であった。
得られた透明導電性フイルムを10cm×15cmの大きさに裁断し、2枚をITO膜が向き合うようにして、端部を固定し、ガラス板上に固定し、一方のポリエチレンテレフタレートフイルムのハードコート層側からポリアセタール樹脂性棒の円形端部(1cm2面積)で1Kg/cm2の加圧で圧しながら10cm/秒の速さでドローイングした。このドローイングによるITO膜同士のくっつき(ステイッキング)が見られず、ITO膜の見かけの変化も見られず、入力耐久性、耐溶剤性においても問題はなかった。
【0013】
*実施例2
アンカー層のRaが7.12nm(Rzは66.3nm、測定レンジ500μm)である以外は実施例1と同様にして透明導電性フイルムを得た。
得られた透明導電性フイルムを10cm×15cmの大きさに裁断し、2枚をITO膜が向き合うようにして、端部を固定し、ガラス板上に固定し、一方のポリエチレンテレフタレートフイルムのハードコート層側からポリアセタール樹脂性棒の円形端部(1cm2面積)で1Kg/cm2の加圧で圧しながら10cm/秒の速さでドローイングした。このドローイングによるITO膜同士のくっつき(ステイッキング)が見られず、ITO膜の見かけの変化も見られず、入力耐久性、耐溶剤性においても問題はなかった。
【0014】
*実施例3
アンカー層のRaが4.12nm(Rzは46.3nm、測定レンジ500μm)である以外は実施例1と同様にして透明導電性フイルムを得た。
得られた透明導電性フイルムを10cm×15cmの大きさに裁断し、2枚をITO膜が向き合うようにして、端部を固定し、ガラス板上に固定し、一方のポリエチレンテレフタレートフイルムのハードコート層側からポリアセタール樹脂性棒の円形端部(1cm2面積)で1Kg/cm2の加圧で圧しながら10cm/秒の速さでドローイングした。このドローイングによるITO膜同士のくっつき(ステイッキング)は極めて僅かには見られたが、ITO膜の見かけの変化も見られず、入力耐久性、耐溶剤性においても問題はなかった。
【0015】
*実施例4
厚さ175μmのポリエチレンテレフタレートフイルム一面上に6官能アクリレートモノマー50部、2官能ウレタンアクリレート31部、光開始剤3部、トルエン100部からなる塗料をハードコート樹脂バインダー部分の硬化後の厚みが3μmになるようにメイヤーバーにて塗布し、溶剤乾燥後、高圧水銀灯にて紫外線を300mJ/cm2照射し硬化させてハードコート層を形成した(該ハードコート層の鉛筆硬度は2Hであった)。
ポリエチレンテレフタレートフイルムの該ハードコート層を設けた面の反対面上に、アルコキシシランの加水分解物(シロキサン結合含有樹脂成分28.5重量%)、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、平均粒径12nmのオルガノシリカゾルメチルイソブチルケトン分散液(オルガノシリカゾル成分30重量%)の混合液(固形分比、シロキサン結合含有樹脂成分:オルガノシリカゾル成分=4:1重量比)を、キスコートで塗布し乾燥厚さ0.03μmのアンカー層を形成した。該アンカー層のRaは9.62nm(Rz(JIS B 0601による、以下同)は84.1nm、測定レンジ500μm)であった。
このアンカーコート層上に、SiO2の10nmスパッタリングによる薄膜を形成し、このSiO2薄膜上に、透明導電層としてITO膜を、インジウム:錫=90:10(酸化物、モル比)のターゲットを使用し、真空室内を10−3Paとし、ArとO2の混合ガスを導入しながら5×10−1PaとしてDCスパッタリングで厚さ30nmに形成し透明導電性フイルムを得た。この透明導電性フイルムのITO膜の抵抗値は257Ω/□であり全光線透過率は84.9%であった。
得られた透明導電性フイルムを10cm×15cmの大きさに裁断し、2枚をITO膜が向き合うようにして、端部を固定し、ガラス板上に固定し、一方のポリエチレンテレフタレートフイルムのハードコート層側からポリアセタール樹脂性棒の円形端部(1cm2面積)で1Kg/cm2の加圧で圧しながら10cm/秒の速さでドローイングした。このドローイングによるITO膜同士のくっつき(ステイッキング)が見られず、ITO膜の見かけの変化も見られず、入力耐久性、耐溶剤性においても問題はなかった。
【0016】
*比較例1
厚さ175μmのポリエチレンテレフタレートフイルム一面上に6官能アクリレートモノマー50部、2官能ウレタンアクリレート31部、光開始剤3部、トルエン100部からなる塗料をハードコート樹脂バインダー部分の硬化後の厚みが3μmになるようにメイヤーバーにて塗布し、溶剤乾燥後、高圧水銀灯にて紫外線を300mJ/cm2照射し硬化させてハードコート層を形成した(該ハードコート層の鉛筆硬度は2Hであった)。
ポリエチレンテレフタレートフイルムの該ハードコート層を設けた面の反対面上に、アルコキシシランの加水分解物(シロキサン結合含有樹脂成分)を1Kg、シクロヘキサノンを1Kg、メチルイソブチルケトンを5Kgの混合液(シロキサン結合含有樹脂成分4.0%、オルガノシリカゾル0%)を、キスコートで塗布し乾燥厚さ25nmのアンカー層を形成した。該アンカー層のRaは2.90nm(Rzは23.0nm、測定レンジ500μm)であった。
このアンカーコート層上に、透明導電層としてITO膜を、インジウム:錫=90:10(酸化物、モル比)のターゲットを使用し、真空室内を10−3Paとし、ArとO2の混合ガスを導入しながら5×10−1PaとしてDCスパッタリングで厚さ30nmに形成し透明導電性フイルムを得た。この透明導電性フイルムのITO膜の抵抗値は275Ω/□であり全光線透過率は84.2%であった。
得られた透明導電性フイルムを10cm×15cmの大きさに裁断し、2枚をITO膜が向き合うようにして、端部を固定し、ガラス板上に固定し、一方のポリエチレンテレフタレートフイルムのハードコート層側からポリアセタール樹脂性棒の円形端部(1cm2面積)で1Kg/cm2の加圧で圧しながら10cm/秒の速さでドローイングした。このドローイングによるITO膜同士のくっつき(ステイッキング)が見られ非接触の状態に戻らず、ITO膜の一部が損傷するのが見られた。
【0017】
【発明の効果】
本願発明の透明導電性フイルムは、タッチパネル等に使用した時、耐擦傷性に優れ、入力耐久性に優れ、ステイッキングの発生を防止し得る(ITO膜同士のくっつきのない)透明導電性フイルムであった。
[0001]
[Industrial application fields]
The present invention relates to a transparent conductive film, particularly applied to a touch panel and the like, and is a transparent conductive film provided with a specific anchor layer which is excellent in durability, visibility on a display, and particularly effective in scratch resistance and prevention of sticking. Concerning sex film.
[0002]
[Prior art]
In recent years, transparent touch panels using a transparent conductive film have been frequently used. A transparent touch panel inputs predetermined information or the like to a computer or the like by pressing a predetermined position with a finger or a pen. When input is repeated with a finger or a pen, the resistance value of the transparent conductive film gradually changes and information or the like cannot be input accurately, and when pressing a predetermined position with the finger or pen, the transparent conductive layer of the transparent conductive film, Repeated contact and non-contact with the opposing transparent conductive layer may cause distortion, etc., which may cause problems such as Newton rings, or contact even if the finger or pen is released during contact. Has a problem that it is not contacted, that is, sticking occurs and it cannot be used.
For this reason, forming the coating layer of the organic resin containing a filler and forming a transparent conductive layer on it is also proposed.
However, when a transparent conductive film is formed through a coating layer of an organic resin containing a filler, there is an effect of preventing Newton's ring, but the adhesion between the coating layer and the transparent conductive film is insufficient, or organic The resin coating layer is inferior in input durability because the film hardness is weak, especially those with surface roughness above a certain level, such as those with inferior scratch resistance, input durability and solvent resistance. It was almost.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
Accordingly, the present invention provides a transparent conductive film that has excellent input durability, prevents occurrence of sticking, has excellent scratch resistance, has excellent gas impermeability, and has excellent durability. .
[0004]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, the invention according to claim 1 of the present invention is formed of a resin containing fine particles having an average particle diameter of 1 to 30 nm on at least one surface of the transparent substrate film (A.). A transparent layer formed by laminating an anchor layer (B.) having a center line average roughness of 4 to 20 nm, a SiOx layer (S.), and a transparent conductive layer (C.) in this order according to JIS_B_0601 A conductive film, wherein the anchor layer (B.) is a layer made of a thermosetting resin having a siloxane bond or an ionizing radiation curable resin having a siloxane bond, and has a thickness of 0.02 to 10 μm. The thickness of the SiOx layer (S.) is 2 to 25 nm.
The invention relating to the touch panel according to claim 2 of the present invention is characterized by using the transparent conductive film according to claim 1.

[0005]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Although there is no restriction | limiting in particular as a base film (A.) used for this invention, It is preferable to use the film which has high transparency from the viewpoint of processability and use, for example, cellulose triacetate, acetate etc. It is preferable to use a resin film such as a cellulose resin, a polyester resin such as polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate, an acrylic resin such as polymethyl methacrylate, a polycarbonate resin, or a polysulfone resin.
Although the thickness of these films is not particularly limited, those having a thickness of 12 to 300 μm are preferably used.
[0006]
The anchor layer (B.) used in the present invention is not particularly limited in the resin of the layer structure, but preferably the layer after formation is improved in adhesion with a transparent conductive film or transparent. Those that contribute to improvement and have excellent affinity with fine particles are preferred.
The resin and other constituent components forming the anchor layer (B.) are mainly thermosetting resins or ionizing radiation curable resins, and are not particularly limited as long as they have the functions described above. Alcohol-modified polyfunctional compound, trimethylolpropane acrylate, tripropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, 1,6-hexanediol acrylate, titanate compound, alkoxysilane hydrolysis condensation resin (siloxane bond-containing resin) Is mentioned. Of these, alkoxysilane hydrolytic condensation components (siloxane bond-containing resins) can be preferably used.
Although the thickness of an anchor layer (B.) is not specifically limited, From the balance of transparency and durability, it is the range of 0.02-10 micrometers.
The ionizing radiation curable resin is formed from a paint containing at least a resin that is cured by electron beam or ultraviolet irradiation. Specifically, it contains a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and further contains additives such as sensitizers, non-reactive resins, leveling agents, and solvents as necessary. It is.
[0007]
In the present invention, in order to obtain a transparent conductive film excellent in input durability, preventing occurrence of sticking and excellent in scratch resistance, the center line average roughness with Ra of 4 to 20 nm (according to JIS B 0601, the following) It is necessary to form an anchor layer (B.) having the same), and this Ra is preferably 5 to 10 nm, and for this purpose, particles of fine particles having an average particle diameter of 1 to 30 nm to be contained in a component such as a resin The diameter needs to be an average particle diameter of 1 to 30 nm. When Ra is less than 4 nm, the effect of preventing the occurrence of sticking is insufficient, and when Ra exceeds 20 nm, even if it has the effect of preventing the occurrence of sticking, scratch resistance, input durability, solvent resistance Is inferior.
[0008]
The fine particles used in the present invention are not particularly limited, and examples thereof include silica, silicone resin particles, acrylic resin particles, styrene resin particles, nylon resin particles, etc., but the fine particles include handling properties and adhesion to a transparent conductive film. In view of the properties, a metal oxide sol prepared from a hydrolyzate of a metal alkoxide, in which inorganic oxide fine particles are dispersed in a colloidal form is preferable. The colloidally dispersed fine particles are more preferably stabilized using a dispersant or the like. Examples of the inorganic oxide fine particles include silicon oxide, antimony oxide, tin oxide, indium oxide, zinc oxide, alumina, titania, zirconia and the like. Of these, colloidal silica in which silicon oxide is dispersed is preferable in view of price and color. In order to enhance the conductive effect of the transparent conductive layer, tin oxide, antimony oxide-tin oxide, or the like can be suitably used.
The shape of the particles is preferably spherical or nearly spherical, but is not particularly limited. The addition amount of the fine particles is not particularly limited, but is influenced by the specific gravity of the fine particles used, but is usually in the range of 0.5 to 60% by weight, preferably 5 to 50% by weight of the resin solid content.
[0009]
In the present invention, the SiOx layer (S.) may be provided on the side of the transparent base film (A.) where the anchor layer (B.) and the transparent conductive layer (C.) are provided, or on the opposite side. Although it is good, it is preferably formed between the anchor layer (B.) and the transparent conductive layer (C.).
x is preferably 1.5 to 2.0, and the thickness is preferably 2 to 50 nm, more preferably 5 to 15 nm. When it is less than 2 nm, the effect of forming the SiOx layer (S.) described later is slight, and when it exceeds 50 nm, it is difficult to obtain the effect of post-heat treatment for improving the transparency of the transparent conductive layer (C.). Such problems arise, and it is not economically advantageous.
The method for forming the SiOx layer (S.) is not particularly limited, and a known method such as an electron beam vapor deposition method, a heat vapor deposition method, or a sputtering method is appropriately selected and adopted. By forming this SiOx layer (S.), the transparency of the resulting transparent conductive film is improved and it can withstand pen input, etc. Further, it is considered that the transparent conductivity is considered to be due to the water vapor barrier property of the SiOx layer (S.). Durability is also improved by suppressing deterioration of the layer (C.).
The present invention provides an anchor layer (B) having Ra of 4 to 20 nm and a center line average roughness formed of a resin containing fine particles having an average particle diameter of 1 to 30 nm on at least one surface of a transparent substrate film (A.). .), A SiOx layer (S.), and a transparent conductive layer (C.) are provided. The anchor layer (B.) is formed on one surface of the transparent base film (A.). In the case where the SiOx layer (S.) and the transparent conductive layer (C.) are sequentially provided, a hard coat layer may be provided on the other surface of the transparent base film (A.), and further on the hard coat layer. A silicon-fluorine antifouling layer may be provided, or a hard coat layer or other layer may be provided between the transparent substrate film (A.) and the anchor layer (B.).
[0010]
The hard coat layer as used in the present invention has a pencil hardness of H or more, and the hard coat layer formation is not particularly limited, and examples thereof include a resin thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin, and a melamine resin. , Acrylate-based alcohol-modified polyfunctional compounds, trimethylolpropane acrylate, tripropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, 1,6-hexanediol acrylate, titanate-based compounds, alkoxysilane hydrolytic condensation resins (including siloxane bonds) Resin). For example, as a method for forming a hard coat layer using an ionizing radiation paint, a normal coating method such as bar, blade, spin, gravure, spray or the like can be used.
[0011]
As the transparent conductive layer (C.) in the present invention, a coating layer mainly composed of an inorganic oxide formed by coating a hydrolyzate such as a metal alkoxide, or CVD, EB deposition, ion plating. Indium-tin (ITO), ZnO 2, CdO, SnO 2, etc. are appropriately selected and used.
Among them, indium-tin system (ITO) is preferable, and indium-tin system (ITO) in which the content of tin is 5 to 15 mol% is particularly preferable. It may be crystalline, crystalline, or of course non-crystalline-crystalline intermediate (mixed type).
Thus, although the obtained transparent conductive film is used for the field | area and apparatus which require various transparent conductivity, it can be used conveniently as a transparent electrode of a touch panel especially.
[0012]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. * Example 1
A coating consisting of 50 parts of hexafunctional acrylate monomer, 31 parts of bifunctional urethane acrylate, 3 parts of photoinitiator, and 100 parts of toluene on one surface of a 175 μm thick polyethylene terephthalate film has a thickness of 3 μm after curing of the hard coat resin binder part. After coating with a Mayer bar, the solvent was dried, and then cured by irradiating 300 mJ / cm 2 of ultraviolet light with a high-pressure mercury lamp to form a hard coat layer (the pencil hardness of the hard coat layer was 2H).
On the surface opposite to the surface of the polyethylene terephthalate film provided with the hard coat layer, a hydrolyzate of alkoxysilane (the same siloxane bond-containing resin component content as in Example 1), cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, organo having an average particle diameter of 12 nm A mixed solution (solid content ratio, siloxane bond-containing resin component: organosilica sol component = 5.2: 4.8 weight ratio) of silica sol methyl isobutyl ketone dispersion (the same siloxane bond-containing resin component content as in Example 1) was kiss coated. Was applied to form an anchor layer having a dry thickness of 0.02 μm. Ra of the anchor layer was 7.57 nm (Rz was 56.3 nm, measurement range was 500 μm).
A thin film of 10 nm sputtering of SiO 2 is formed on the anchor coat layer, an ITO film is used as a transparent conductive layer on the SiO 2 thin film, and a target of indium: tin = 90: 10 (metal, molar ratio) is used. Then, the inside of the vacuum chamber is set to 10-3 Pa, and a mixed gas of Ar and O2 is introduced to form 5 × 10-1 Pa to a thickness of 30 nm by DC sputtering, and heat treatment is performed at 150 ° C. for 24 hours to obtain a transparent conductive film. It was. The resistance value of the ITO film of this transparent conductive film was 470Ω / □, and the total light transmittance was 85.3%.
The obtained transparent conductive film is cut into a size of 10 cm × 15 cm, the two pieces are placed so that the ITO films face each other, the ends are fixed, and fixed on a glass plate, and a hard coat of one polyethylene terephthalate film Drawing was performed at a speed of 10 cm / sec while pressing with a pressure of 1 Kg / cm 2 at the circular end (1 cm 2 area) of the polyacetal resin rod from the layer side. There was no sticking (sticking) between the ITO films due to this drawing, no change in the appearance of the ITO film was seen, and there was no problem in input durability and solvent resistance.
[0013]
* Example 2
A transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that Ra of the anchor layer was 7.12 nm (Rz was 66.3 nm, measurement range was 500 μm).
The obtained transparent conductive film is cut into a size of 10 cm × 15 cm, the two pieces are placed so that the ITO films face each other, the ends are fixed, and fixed on a glass plate, and a hard coat of one polyethylene terephthalate film Drawing was performed at a speed of 10 cm / sec while pressing with a pressure of 1 Kg / cm 2 at the circular end (1 cm 2 area) of the polyacetal resin rod from the layer side. There was no sticking (sticking) between the ITO films due to this drawing, no change in the appearance of the ITO film was seen, and there was no problem in input durability and solvent resistance.
[0014]
* Example 3
A transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that Ra of the anchor layer was 4.12 nm (Rz was 46.3 nm, measurement range was 500 μm).
The obtained transparent conductive film is cut into a size of 10 cm × 15 cm, the two pieces are placed so that the ITO films face each other, the ends are fixed, and fixed on a glass plate, and a hard coat of one polyethylene terephthalate film Drawing was performed at a speed of 10 cm / sec while pressing with a pressure of 1 Kg / cm 2 at the circular end (1 cm 2 area) of the polyacetal resin rod from the layer side. Although very little sticking (sticking) between the ITO films due to this drawing was observed, there was no change in the appearance of the ITO film, and there was no problem in input durability and solvent resistance.
[0015]
* Example 4
A coating consisting of 50 parts of hexafunctional acrylate monomer, 31 parts of bifunctional urethane acrylate, 3 parts of photoinitiator, and 100 parts of toluene on one surface of a 175 μm thick polyethylene terephthalate film has a thickness of 3 μm after curing of the hard coat resin binder part. After coating with a Mayer bar, the solvent was dried, and then cured by irradiating 300 mJ / cm 2 of ultraviolet light with a high-pressure mercury lamp to form a hard coat layer (the pencil hardness of the hard coat layer was 2H).
On the surface opposite to the surface of the polyethylene terephthalate film provided with the hard coat layer, an alkoxysilane hydrolyzate (siloxane bond-containing resin component 28.5% by weight), cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, organosilica sol having an average particle size of 12 nm A mixed liquid of methyl isobutyl ketone dispersion (organosilica sol component 30% by weight) (solid content ratio, siloxane bond-containing resin component: organosilica sol component = 4: 1 weight ratio) was applied by kiss coating and dried to a thickness of 0.03 μm. An anchor layer was formed. The anchor layer had an Ra of 9.62 nm (Rz (according to JIS B 0601, hereinafter the same) was 84.1 nm, and measurement range was 500 μm).
A thin film of 10 nm of SiO 2 is formed on the anchor coat layer, an ITO film is formed on the SiO 2 thin film as a transparent conductive layer, and a target of indium: tin = 90: 10 (oxide, molar ratio) is formed. The vacuum chamber was set to 10-3 Pa, and a mixed conductive gas of Ar and O2 was introduced to form 5 × 10-1 Pa to a thickness of 30 nm by DC sputtering to obtain a transparent conductive film. The resistance value of the ITO film of this transparent conductive film was 257 Ω / □, and the total light transmittance was 84.9%.
The obtained transparent conductive film is cut into a size of 10 cm × 15 cm, the two pieces are placed so that the ITO films face each other, the ends are fixed, and fixed on a glass plate, and a hard coat of one polyethylene terephthalate film Drawing was performed at a speed of 10 cm / sec while pressing with a pressure of 1 Kg / cm 2 at the circular end (1 cm 2 area) of the polyacetal resin rod from the layer side. There was no sticking (sticking) between the ITO films due to this drawing, no change in the appearance of the ITO film was seen, and there was no problem in input durability and solvent resistance.
[0016]
* Comparative Example 1
A coating consisting of 50 parts of hexafunctional acrylate monomer, 31 parts of bifunctional urethane acrylate, 3 parts of photoinitiator, and 100 parts of toluene on one surface of a 175 μm thick polyethylene terephthalate film has a thickness of 3 μm after curing of the hard coat resin binder part. After coating with a Mayer bar, the solvent was dried, and then cured by irradiating 300 mJ / cm 2 of ultraviolet light with a high-pressure mercury lamp to form a hard coat layer (the pencil hardness of the hard coat layer was 2H).
On the opposite side of the surface of the polyethylene terephthalate film provided with the hard coat layer, 1 kg of a hydrolyzate of alkoxysilane (siloxane bond-containing resin component), 1 kg of cyclohexanone and 5 kg of methyl isobutyl ketone (containing siloxane bond) Resin component 4.0%, organosilica sol 0%) was applied by kiss coating to form an anchor layer having a dry thickness of 25 nm. Ra of the anchor layer was 2.90 nm (Rz was 23.0 nm, measurement range was 500 μm).
On this anchor coat layer, an ITO film is used as a transparent conductive layer, a target of indium: tin = 90: 10 (oxide, molar ratio) is used, the vacuum chamber is set to 10 −3 Pa, and a mixed gas of Ar and O 2 is used. While being introduced, the film was formed to a thickness of 30 nm by DC sputtering at 5 × 10 −1 Pa to obtain a transparent conductive film. The resistance value of the ITO film of this transparent conductive film was 275Ω / □, and the total light transmittance was 84.2%.
The obtained transparent conductive film is cut into a size of 10 cm × 15 cm, the two pieces are placed so that the ITO films face each other, the ends are fixed, and fixed on a glass plate, and a hard coat of one polyethylene terephthalate film Drawing was performed at a speed of 10 cm / sec while pressing with a pressure of 1 Kg / cm 2 at the circular end (1 cm 2 area) of the polyacetal resin rod from the layer side. It was observed that the ITO films were stuck to each other by this drawing (sticking) and did not return to the non-contact state, and part of the ITO film was damaged.
[0017]
【The invention's effect】
The transparent conductive film of the present invention is a transparent conductive film that is excellent in scratch resistance, excellent in input durability, and can prevent occurrence of sticking (no sticking between ITO films) when used in a touch panel or the like. It was.

Claims (2)

透明基材フィルム(A.)の少なくとも一面に、
平均粒径1〜30nmの微粒子を含む樹脂で形成された、JIS_B_0601の規定によるRaが4〜20nmの中心線平均粗さを有するアンカー層(B.)と、
SiOx層(S.)と、
透明導電層(C.)と、
をこの順に積層してなる透明導電性フィルムであって、
前記アンカー層(B.)がシロキサン結合を有する熱硬化型樹脂、若しくはシロキサン結合を有する電離放射線硬化型樹脂による層であり、かつその厚みが0.02〜10μmであり、
前記SiOx層(S.)の厚さが2〜25nmであること、
を特徴とする、透明導電性フィルム。
On at least one surface of the transparent substrate film (A.),
An anchor layer (B.) formed of a resin containing fine particles having an average particle diameter of 1 to 30 nm and having a center line average roughness of Ra of 4 to 20 nm according to the provisions of JIS_B_0601;
A SiOx layer (S.);
A transparent conductive layer (C.);
Are transparent conductive films formed by laminating in this order,
The anchor layer (B.) is a layer made of a thermosetting resin having a siloxane bond or an ionizing radiation curable resin having a siloxane bond, and the thickness thereof is 0.02 to 10 μm .
The thickness of the SiOx layer (S.) is 2 to 25 nm,
A transparent conductive film characterized by
請求項1に記載の透明導電性フィルムを使用してなること、
を特徴とする、タッチパネル。
Using the transparent conductive film according to claim 1;
A touch panel characterized by
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