JPH08216327A - Transparent conductive laminate and transparent tablet - Google Patents

Transparent conductive laminate and transparent tablet

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JPH08216327A
JPH08216327A JP5577195A JP5577195A JPH08216327A JP H08216327 A JPH08216327 A JP H08216327A JP 5577195 A JP5577195 A JP 5577195A JP 5577195 A JP5577195 A JP 5577195A JP H08216327 A JPH08216327 A JP H08216327A
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transparent
transparent conductive
layer
conductive film
substrate
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Hitoshi Mikoshiba
均 御子柴
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Abstract

PURPOSE: To prevent an interference fringe to obtain a superior visibility by a method wherein in a transparent conductive laminate formed by providing a transparent conductive film on each substrate made of a transparent organic high molecular molded piece, one substrate surface with the transparent conductive film formed is roughened to have a specific range of center line average height. CONSTITUTION: In a transparent tablet, upper and lower electrode substrates formed by providing transparent conductive films 2, 6 on substrates each made of a transparent organic high molecular molded piece are placed with the transparent conductive films 2, 6 opposed to each other. On one of the substrates, a roughened layer 7 is formed. The lower electrode substrate is formed by providing the transparent conductive film 2 and a dot spacer 3 on the substrate 1 made of a transparent organic high molecular molded piece. The upper electrode substrate is composed of a hard coat layer 5 on one surface of the substrate 4 of a transparent organic high molecular molded piece, the roughened layer 7 on the other surface thereof, and the transparent conductive film 6. The roughened layer 7 is roughened to have a center line average height of 0.05-0.40μm by adjusting a mixing ratio of a thermosetting or ultraviolet curing resin and fine silica particles forming the roughened layer 7.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、透明導電性積層体およ
びこの透明導電性積層体を用いて得られる透明タブレッ
トに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent conductive laminate and a transparent tablet obtained by using the transparent conductive laminate.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近種々の機器にマイクロコンピュータ
ーが利用されるようになり、同機器には情報の入力部で
あるタブレット(タッチスイッチ、タッチパネル、フラ
ットスイッチとも称される)と出力部であるディスプレ
ーが搭載されている。タブレットとしては、従来の机上
に置くタイプの他にディスプレー上に取り付けられる透
明タブレットがある。透明タブレットは、ディスプレー
の表示画面を見ながらタブレット表面を指またはペン等
で押すことにより入力できるため、入力操作が簡単であ
り、またディスプレーとタブレットを一体型にできるた
め省スペースにもなり、利用が増えつつある。
2. Description of the Related Art Recently, microcomputers have come to be used in various devices, and the devices have a tablet (also called a touch switch, a touch panel, a flat switch) that is an information input unit and a display that is an output unit. Is installed. As the tablet, there is a transparent tablet that can be mounted on the display in addition to the conventional type that is placed on a desk. The transparent tablet allows you to input by pressing the tablet surface with your finger or pen while looking at the display screen of the display, so the input operation is easy, and because the display and tablet can be integrated, it saves space. Is increasing.

【0003】透明タブレットは、少なくとも片面に透明
導電膜が設けられた2枚の透明電極基板が互いの透明導
電膜同士が向かい合うように配置されてなり、透明電極
基板に外力を加えた部分でのみ透明導電膜同士が接触し
てスイッチとして動作するものであり、例えばディスプ
レー画面上のメニューの選択あるいは図形、手書き文字
の入力等を行なうことができる。
In a transparent tablet, two transparent electrode substrates having a transparent conductive film provided on at least one surface are arranged so that the transparent conductive films face each other, and only in a portion where an external force is applied to the transparent electrode substrate. The transparent conductive films come into contact with each other to operate as a switch. For example, selection of a menu on the display screen or input of a figure or handwritten character can be performed.

【0004】従来の透明タブレットの構成例を図3に示
す。透明タブレットは、ガラス基板1の上面に透明導電
膜2、ドットスペーサ3を設けてなる下部電極基板、お
よびポリエステルフィルム4の上面にハードコート層
5、下面に透明導電膜6を設けてなる上部電極基板を、
互いの透明導電膜同士が向かい合うように配置し、周囲
で2枚の電極基板が貼り合わされて構成される。なお、
本図は構成の一部であり、周囲の絶縁層、粘着層、外部
への引き出し回路は省略してある。
FIG. 3 shows a configuration example of a conventional transparent tablet. The transparent tablet is a lower electrode substrate having a transparent conductive film 2 and dot spacers 3 provided on the upper surface of a glass substrate 1, and an upper electrode having a hard coat layer 5 on the upper surface of a polyester film 4 and a transparent conductive film 6 on the lower surface. Board,
The transparent conductive films are arranged so as to face each other, and two electrode substrates are bonded together at the periphery. In addition,
This figure is a part of the configuration, and the surrounding insulating layer, adhesive layer, and external drawing circuit are omitted.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】透明タブレットの主要
な利用分野には携帯情報端末があるが、携帯情報端末に
は消費電力の点で反射型LCDが用いられており、同L
CD上に取り付けられる透明タブレットには視認性が良
いことが要求される。ところが、従来の透明タブレット
では環境変化により上部電極基板に弛みが生じ、その結
果両電極基板間で干渉縞が発生して視認性が損なわれる
課題があった。
There are portable information terminals in the main fields of use of transparent tablets, but a reflective LCD is used for the portable information terminals in terms of power consumption.
A transparent tablet mounted on a CD is required to have good visibility. However, in the conventional transparent tablet, there is a problem that the upper electrode substrate is loosened due to environmental changes, and as a result, interference fringes are generated between both electrode substrates to deteriorate the visibility.

【0006】本発明はかかる課題を解決して、干渉縞が
防止できかつ視認性に優れた透明導電性積層体、そして
さらには透明タブレットを得ることを目的とする。
It is an object of the present invention to solve the above problems and obtain a transparent conductive laminate which is capable of preventing interference fringes and has excellent visibility, and further a transparent tablet.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の透明導電性積層
体は、透明有機高分子成形物よりなる基板上に透明導電
膜を形成して構成された透明導電性積層体において、透
明導電膜を形成した側の少なくとも一方の基板面が、中
心面平均粗さ(SRa)が0.05〜0.40μmの範
囲に粗面化されていることを特徴とする。
The transparent conductive laminate of the present invention is a transparent conductive laminate formed by forming a transparent conductive film on a substrate made of a transparent organic polymer molded article. It is characterized in that at least one of the substrate surfaces on the side where the is formed has a center surface average roughness (SRa) in the range of 0.05 to 0.40 μm.

【0008】また本発明の透明タブレットは、少なくと
も片面に透明導電膜が設けられた2枚の透明電極基板
が、互いの透明導電膜同士が向かい合うように配置され
て構成された透明タブレットにおいて、透明電極基板と
して本発明の透明導電性積層体を用いたことを特徴とす
る。
The transparent tablet of the present invention is a transparent tablet in which two transparent electrode substrates each having a transparent conductive film provided on at least one surface are arranged so that their transparent conductive films face each other. The transparent conductive laminate of the present invention is used as an electrode substrate.

【0009】すなわち、干渉縞防止効果には3次元的な
表面粗さが影響する。そして、粗面化された面の中心面
平均粗さ(SRa)を制御した有機高分子成形物基板上
に透明導電膜を設けたものを上下いずれかの電極基板に
用いることにより、干渉縞が防止できかつ視認性に優れ
た透明タブレットが得られる。
That is, the three-dimensional surface roughness affects the interference fringe prevention effect. Then, by using an organic polymer molded product substrate having a controlled central surface average roughness (SRa) of the roughened surface and a transparent conductive film provided on the upper or lower electrode substrate, interference fringes are generated. A transparent tablet that can be prevented and has excellent visibility is obtained.

【0010】ここで、中心面平均粗さ(SRa)とは、
JIS B 0601の中心線平均粗さ(Ra)を、3
次元に拡張したものであり、次のように定義する。まず
粗さ曲面から、その中心面上に面積Smの部分を抜き取
る。そしてこの抜き取り部分の中心面上に、直交座標軸
として、X軸とY軸を置く。さらに中心面に直交する軸
をZ軸とし、粗さ曲面をz=f(x,y)で表す。そし
てこのときに、次の式によって求められる値SRa(μ
m)を、中心面平均粗さと呼ぶ。但し、Lx・Ly=S
m。
Here, the center surface average roughness (SRa) is
The center line average roughness (Ra) of JIS B 0601 is 3
It is an extension of dimension and is defined as follows. First, a portion having an area Sm is extracted from the roughness curved surface on the center surface thereof. Then, the X axis and the Y axis are placed as the orthogonal coordinate axes on the center plane of the extracted portion. Further, the axis orthogonal to the center plane is the Z axis, and the roughness curved surface is represented by z = f (x, y). Then, at this time, the value SRa (μ
m) is called the center plane average roughness. However, Lx · Ly = S
m.

【0011】[0011]

【数1】 [Equation 1]

【0012】本発明に用いられる透明有機高分子成形物
を構成する有機高分子化合物としては、耐熱性に優れた
透明な有機高分子であれば特に限定しない。例えば、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナ
フタレート、ポリジアリルフタレート等のポリエステル
系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルサルフォ
ン樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、ア
クリル樹脂、セルローストリアセテート樹脂等が挙げら
れる。もちろんこれらはホモポリマー、コポリマーとし
て、あるいは単独またはブレンドとしても使用し得る。
The organic polymer compound constituting the transparent organic polymer molded article used in the present invention is not particularly limited as long as it is a transparent organic polymer excellent in heat resistance. Examples thereof include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate and polydiallyl phthalate, polycarbonate resins, polyether sulfone resins, polysulfone resins, polyarylate resins, acrylic resins and cellulose triacetate resins. Of course, they may be used as homopolymers, copolymers or alone or as a blend.

【0013】かかる有機高分子成形物の形状は特に限定
しないが、通常シート状、フィルム状のものが好まし
い。また、2枚以上のフィルムおよびまたはシートを積
層した構成であっても良い。透明タブレットの上部電極
基板として用いられる場合には、透明タブレットをスイ
ッチとして動作させるための可撓性と平坦性を保つため
の強度の点から、基板形状として厚さ75〜400μm
のフィルム状のものが好ましい。下部電極基板に用いら
れる場合には、平坦性を保つための強度の点から、厚さ
0.4〜2mmのシート状のものが好ましいが、厚さ7
5〜400μmのフィルム状のものを他のシートと貼り
合わせ、全体の厚さが0.4〜2mmになるような構成
にして用いても良い。
The shape of such an organic polymer molded product is not particularly limited, but a sheet or a film is usually preferable. Further, it may have a structure in which two or more films and / or sheets are laminated. When used as an upper electrode substrate of a transparent tablet, the substrate has a thickness of 75 to 400 μm in terms of strength for maintaining flexibility and flatness for operating the transparent tablet as a switch.
The film-like one is preferable. When used as a lower electrode substrate, a sheet-like material having a thickness of 0.4 to 2 mm is preferable in terms of strength for maintaining flatness, but a thickness of 7
A film-shaped material having a thickness of 5 to 400 μm may be attached to another sheet so that the total thickness is 0.4 to 2 mm.

【0014】本発明の透明導電性積層体を透明タブレッ
トの上部電極基板として用いた場合には、下部電極基板
には前記有機高分子成形物基板、ガラス基板あるいはこ
れらの積層体基板上に透明導電膜を形成したものを用い
ても良い。透明タブレットの強度、重量の点から、単層
または積層体よりなる基板の厚さは0.4〜2mmが好
ましい。
When the transparent conductive laminate of the present invention is used as the upper electrode substrate of a transparent tablet, the organic polymer molded product substrate, the glass substrate, or the transparent conductive film on the laminate substrate is used as the lower electrode substrate. You may use what formed the film. From the viewpoint of strength and weight of the transparent tablet, the thickness of the substrate composed of a single layer or a laminate is preferably 0.4 to 2 mm.

【0015】本発明の透明導電性積層体を上部電極基板
として用いた場合には、透明タブレットで外力が加わる
方の面には、ハードコート層を設けることが好ましい。
ハードコート層を形成するための材料としては、メチル
トリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等の
オルガノシラン系熱硬化型樹脂やエーテル化メチロール
メラミン等のメラミン系熱硬化型樹脂、ポリオールアク
リレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート等の多官能アクリレート
系紫外線硬化型樹脂等があり、必要に応じて、シリカ微
粒子を混合したものを用いることができる。ハードコー
ト層の厚さは、可撓性、耐摩耗性の点から2〜5μmが
好ましい。
When the transparent conductive laminate of the present invention is used as the upper electrode substrate, it is preferable to provide a hard coat layer on the surface of the transparent tablet to which external force is applied.
As the material for forming the hard coat layer, methyltriethoxysilane, melamine-based thermosetting resin such as organosilane-based thermosetting resin such as phenyltriethoxysilane and etherified methylolmelamine, polyol acrylate, polyester acrylate, There are polyfunctional acrylate UV-curable resins such as urethane acrylate and epoxy acrylate, and the like, and a mixture of silica fine particles can be used if necessary. The thickness of the hard coat layer is preferably 2 to 5 μm from the viewpoint of flexibility and abrasion resistance.

【0016】本発明の粗面化層を形成する方法には、サ
ンドブラスト法等の物理的方法、エッチング法等の化学
的方法あるいはシリカ等の微粒子を分散した樹脂を塗工
する方法がある。中でも表面粗さを制御し易い点では塗
工法が好ましい。
As a method for forming the roughened layer of the present invention, there are a physical method such as a sandblast method, a chemical method such as an etching method, and a method of applying a resin in which fine particles such as silica are dispersed. Above all, the coating method is preferable in that the surface roughness can be easily controlled.

【0017】該塗工法に用いられる樹脂として、メチル
トリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等の
オルガノシラン系熱硬化型樹脂やエーテル化メチロール
メラミン等のメラミン系熱硬化型樹脂、ポリオールアク
リレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート等の多官能アクリレート
系紫外線硬化型樹脂等がある。
Resins used in the coating method include organosilane thermosetting resins such as methyltriethoxysilane and phenyltriethoxysilane, melamine thermosetting resins such as etherified methylolmelamine, polyol acrylates and polyester acrylates. Examples include polyfunctional acrylate-based UV curable resins such as urethane acrylate and epoxy acrylate.

【0018】樹脂とシリカ等の微粒子との混合比率や塗
工膜厚等により、表面粗さを、中心面平均粗さ(SR
a)が0.05〜0.40μmの範囲になるように制御
することができる。中心面平均粗さが0.05μm未満
では十分な干渉縞防止効果は得られない。また、0.4
0μmを越えるとヘーズが増加して視認性が悪くなる。
The surface roughness is determined by the center surface average roughness (SR) depending on the mixing ratio of the resin and fine particles such as silica and the coating film thickness.
It can be controlled so that a) falls within the range of 0.05 to 0.40 μm. If the center plane average roughness is less than 0.05 μm, a sufficient effect of preventing interference fringes cannot be obtained. Also, 0.4
If it exceeds 0 μm, haze increases and visibility becomes poor.

【0019】本発明の透明導電膜としては、酸化錫を2
〜20重量%含むITO膜やアンチモンまたはフッ素等
をドープした酸化錫膜がある。透明導電膜の形成方法と
しては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレー
ティング法等のPVD法あるいは塗工法、印刷法、CV
D法があるが、PVD法またはCVD法が好ましい。P
VD法またはCVD法の場合、透明導電膜の厚さは、透
明性と導電性の点から5〜50nmが好ましい。
As the transparent conductive film of the present invention, tin oxide is 2
There is an ITO film containing about 20% by weight or a tin oxide film doped with antimony or fluorine. As a method for forming the transparent conductive film, a PVD method such as a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, a coating method, a printing method, or a CV method is used.
Although there is the D method, the PVD method or the CVD method is preferable. P
In the case of the VD method or the CVD method, the thickness of the transparent conductive film is preferably 5 to 50 nm from the viewpoint of transparency and conductivity.

【0020】本発明の透明導電性積層体を用いたマトリ
クス型透明タブレットは、十分な打鍵耐久性を有してい
るが、アナログ型透明タブレットの場合には、筆記耐久
性が若干低下する傾向がある。
The matrix type transparent tablet using the transparent conductive laminate of the present invention has sufficient keystroke durability, but in the case of the analog type transparent tablet, the writing durability tends to be slightly lowered. is there.

【0021】この課題を解決するために、透明有機高分
子成形物基板上に形成された粗面化層と透明導電膜間
に、中間層として有機ケイ素化合物の加水分解により生
成された層を設ける方法を検討した。しかし、有機ケイ
素化合物の加水分解により生成された層は、粗面化層上
では不均一な膜になり、白濁することが分かった。これ
は粗面化層と有機ケイ素化合物の相互作用が原因と推定
された。
In order to solve this problem, a layer formed by hydrolysis of an organosilicon compound is provided as an intermediate layer between the roughened layer formed on the transparent organic polymer molded product substrate and the transparent conductive film. I examined the method. However, it was found that the layer formed by the hydrolysis of the organosilicon compound became a non-uniform film on the roughened layer and became cloudy. This was presumed to be due to the interaction between the roughened layer and the organosilicon compound.

【0022】そこで、先ず、粗面化層上に、酸化チタン
およびまたは酸化ジルコニウムを含む層を形成した後、
有機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設け
た所、均一で透明な膜となった。さらに、この上に透明
導電膜を形成し、透明導電性積層体を得た。このような
2層からなる中間層を設けた透明導電性積層体を用いた
アナログ型透明タブレットは優れた筆記耐久性を示し
た。
Therefore, first, after forming a layer containing titanium oxide and / or zirconium oxide on the roughened layer,
When a layer formed by hydrolysis of the organosilicon compound was provided, a uniform and transparent film was obtained. Furthermore, a transparent conductive film was formed on this to obtain a transparent conductive laminate. An analog type transparent tablet using a transparent conductive laminate provided with such an intermediate layer composed of two layers showed excellent writing durability.

【0023】さらに、酸化チタンおよび酸化ジルコニウ
ムの厚さを20〜60nmかつ有機ケイ素化合物の加水
分解により生成された層の厚さを20〜60nmとする
ことにより透明タブレットの透明性が向上することが分
かった。どちらか一方の層の厚さが上記範囲外では中間
層を設けない場合より透明性が低下して好ましくないこ
とが分かった。
Further, by setting the thickness of titanium oxide and zirconium oxide to 20 to 60 nm and the thickness of the layer formed by hydrolysis of the organosilicon compound to 20 to 60 nm, the transparency of the transparent tablet can be improved. Do you get it. It was found that when the thickness of one of the layers is out of the above range, the transparency is lowered as compared with the case where the intermediate layer is not provided, which is not preferable.

【0024】一方、透明導電膜として主として結晶質の
酸化インジウムよりなる膜を設けた透明導電性積層体を
用いる方法でも、アナログ型透明タブレットの筆記耐久
性が向上することが分かった。
On the other hand, it has been found that the writing durability of the analog type transparent tablet is improved also by the method of using the transparent conductive laminate having the film mainly made of crystalline indium oxide as the transparent conductive film.

【0025】酸化チタンおよびまたは酸化ジルコニウム
を含む層は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプ
レーティング法等のPVD法で形成するか、あるいは主
としてTiおよび/またはZrを含むアルキルエステル
の加水分解により形成することができる。これらの中で
も、Tiおよび/またはZrを含むアルキルエステルの
加水分解による方法が、密着性および製膜の容易さの点
で好ましい。
The layer containing titanium oxide and / or zirconium oxide is formed by a PVD method such as a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, an ion plating method, or by hydrolysis of an alkyl ester mainly containing Ti and / or Zr. can do. Among these, the method of hydrolyzing an alkyl ester containing Ti and / or Zr is preferable in terms of adhesion and ease of film formation.

【0026】Tiおよび/またはZrを含むアルキルエ
ステルとは、一般式Tis t (R 1 u で表されるア
ルキルチタネート、および/またはZrXp (OR2
4-pで表されるアルキルジルコネートである。
Alkyl ether containing Ti and / or Zr
Stell is the general formula TisOt(R 1)uRepresented by
Ruquiltitanate and / or ZrXp(OR2)
4-pIs an alkyl zirconate represented by.

【0027】ここで、R1 はアルキル基、s、t、uは
正の整数である。そして上記一般式で表されるアルキル
チタネートの内、とりわけt=4+(s−1)×3、u
=4+(s−1)×2、s=1〜30のものが塗工の容
易さや特性の点で好ましく用いられる。sの値は、単一
でなく分布をもっていても良いが、特にsの値の分布が
15以下に最大値を有するアルキルチタネートは塗工溶
液粘度および加水分解において好ましい。
Here, R 1 is an alkyl group, and s, t, and u are positive integers. Among the alkyl titanates represented by the above general formula, t = 4 + (s−1) × 3, u
= 4 + (s−1) × 2, and s = 1 to 30 are preferably used in terms of ease of coating and characteristics. The value of s may have a distribution rather than a single value, but an alkyl titanate having a maximum distribution of the value of s of 15 or less is particularly preferable in terms of coating solution viscosity and hydrolysis.

【0028】また上記の一般式において、アルキル置換
基R1 は炭素数1〜20のものが好ましく用いられる。
特に炭素数が2〜11のアルキル置換基のものは、被膜
形成操作、例えば塗工の容易さ、さらには加水分解速
度、得られた膜の機械的特性および透明性の点で好まし
く用いられる。
In the above general formula, the alkyl substituent R 1 preferably has 1 to 20 carbon atoms.
In particular, an alkyl substituent having 2 to 11 carbon atoms is preferably used from the viewpoints of film forming operation, for example, coating easiness, hydrolysis rate, mechanical properties and transparency of the obtained film.

【0029】なお、上記アルキルチタネートの2種以上
の混合物を用いても良い。該アルキルチタネートを有機
溶剤に溶解せしめた溶液は、塗工されると加水分解さ
れ、それに続く縮合反応により脱アルキルハイドロオキ
サイド化し、編み目構造を形成する。塗工の条件を選ぶ
ことにより、アルキルチタネートは酸化チタンに近づ
く。
A mixture of two or more of the above alkyl titanates may be used. A solution prepared by dissolving the alkyl titanate in an organic solvent is hydrolyzed when applied, and is dealkylated by a subsequent condensation reaction to form a stitch structure. By selecting the coating conditions, the alkyl titanate approaches titanium oxide.

【0030】本発明に用いられるアルキルチタネートと
しては、例えばテトラブチルチタネート、テトラエチル
チタネート、テトラプロピルチタネート、テトラステア
リルチタネート、テトラ−2−エチルヘキシルチタネー
ト、ジイソプロポキシチタニウムビスアセチルアセトネ
ート等が挙げられ、とりわけテトラブチルチタネート、
テトラプロピルチタネートが好ましく用いられる。これ
らのアルキルチタネートはそのまま用いても良く、また
2量体、4量体、10量体等の予備縮合したものも好ま
しく使用できる。さらにまたこれらのアルキルチタネー
トをアセチルアセトンのようなもので安定化させて使用
しても良い。
The alkyl titanate used in the present invention includes, for example, tetrabutyl titanate, tetraethyl titanate, tetrapropyl titanate, tetrastearyl titanate, tetra-2-ethylhexyl titanate, diisopropoxytitanium bisacetylacetonate and the like. Tetrabutyl titanate,
Tetrapropyl titanate is preferably used. These alkyl titanates may be used as they are, and those obtained by precondensing dimers, tetramers, and tenmers may also be preferably used. Furthermore, these alkyl titanates may be used after being stabilized with a substance such as acetylacetone.

【0031】また、上記の一般式で表されるアルキルジ
ルコネートにおいて、Xは炭素数1〜6のアルキル基、
もしくは、ハロゲン化アルキル基、フェニル基、ビニル
基、あるいはβ−ジケトン系化合物もしくはβ−ケトエ
ステル系化合物の残基である。また、R2 は炭素数1〜
6のアルキル基であり、pは、0〜4の整数である。
In the alkyl zirconate represented by the above general formula, X is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
Alternatively, it is a residue of a halogenated alkyl group, a phenyl group, a vinyl group, or a β-diketone compound or a β-ketoester compound. In addition, R 2 has 1 to 1 carbon atoms
6 is an alkyl group, and p is an integer of 0-4.

【0032】ジルコニウム化合物としては、例えば、ア
セチルアセトンジルコニウム塩(トリブトキシジルコニ
ウムアセチルアセトネート、ジブトキシジルコニウムジ
アセチルアセトネート、モノブトキシジルコニウムトリ
アセチルアセトネート等)、ジルコニウムテトラアルコ
キシド(テトラブチルジルコネート、テトラプロピルジ
ルコネート等)、ジルコニウム−トリアルコキシ−モノ
アルキルアセトアセテート(ジルコニウム−トリブトキ
シ−モノエチルアセトアセテート等)、ジルコニウム−
ジアルコキシ−ジアルキルアセトアセテート(ジルコニ
ウム−ジブトキシ−ジエチルアセトアセテート等)ジル
コニウム−モノアルコキシ−トリアルキルアセトアセテ
ート(ジルコニウム−モノブトキシ−トリエチルアセト
アセテート等)等がある。
Examples of zirconium compounds include acetylacetone zirconium salts (tributoxyzirconium acetylacetonate, dibutoxyzirconium diacetylacetonate, monobutoxyzirconium triacetylacetonate, etc.), zirconium tetraalkoxides (tetrabutyl zirconate, tetrapropyl zirconate, etc.). Etc.), zirconium-trialkoxy-monoalkylacetoacetate (zirconium-tributoxy-monoethylacetoacetate etc.), zirconium-
Examples include dialkoxy-dialkylacetoacetate (zirconium-dibutoxy-diethylacetoacetate, etc.) and zirconium-monoalkoxy-trialkylacetoacetate (zirconium-monobutoxy-triethylacetoacetate, etc.).

【0033】本発明に用いられる有機ケイ素化合物は、
次の一般式(1)で表される化合物およびまたはこれら
の加水分解により生成したオリゴマーからなる群から選
ばれる1種または2種の化合物である。但し、一般式
(1)において、R3 は水素原子、または炭素数1〜2
のアルキル基、または次の一般式(2)で表される基で
ある。
The organosilicon compound used in the present invention is
One or two compounds selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (1) and / or an oligomer formed by hydrolysis thereof. However, in the general formula (1), R 3 is a hydrogen atom or has 1 to 2 carbon atoms.
Or an alkyl group represented by the following general formula (2).

【0034】[0034]

【化1】 Embedded image

【0035】[0035]

【化2】 Embedded image

【0036】また、R4 は水素原子、または炭素数1〜
2のアルキル基を、R5 およびR6はそれぞれ独立に炭
素原子数1〜2のアルキル基を、xおよびyはそれぞれ
独立に1〜3の整数を、wは0または1〜2の整数を、
zは1〜3の整数をそれぞれ表し、w+z=3である。
また一般式(2)中R7 、R8 はそれぞれ独立に水素原
子、または炭素原子数1〜2のアルキル基からなる群か
ら選ばれる基である。
R 4 is a hydrogen atom or has 1 to 1 carbon atoms.
2 alkyl groups, R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, x and y each independently represent an integer of 1 to 3, and w represents 0 or an integer of 1 or 2. ,
z represents an integer of 1 to 3, and w + z = 3.
Further, in the general formula (2), R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom or a group selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 2 carbon atoms.

【0037】この中で特に筆記耐久性の点で、官能基と
してアミノ基(−NH2 )を含むものが好ましく、例え
ばNH2 −(CH2 3 −Si−(OCH3 3 、およ
び/またはNH2 −(CH2 3 −Si−(OC
2 5 3 、および/または、NH 2 −(CH2 2
NH−(CH2 3 −Si−(OCH3 3 、および/
またはNH2 −(CH2 2 −NH−(CH2 3 −S
i−(OC2 5 3 、および/またはNH2 −(CH
2 2 −NH−(CH2 3 −Si(CH3 )−(OC
3 2 、および/またはNH2 −(CH2 2 −NH
−(CH2 3 −Si(CH3 )−(OC2 5 2
の単量体および/またはこれらの加水分解により生成し
た会合度10以下のオリゴマーからなる群から選ばれる
1種または2種以上の化合物であることが特に好まし
い。
Among them, especially in terms of writing durability, a functional group
The amino group (-NH2) Is preferable, for example
If NH2-(CH2)3-Si- (OCH3)3, And
And / or NH2-(CH2)3-Si- (OC
2HFive)3And / or NH 2-(CH2)2
NH- (CH2)3-Si- (OCH3)3,and/
Or NH2-(CH2)2-NH- (CH2)3-S
i- (OC2HFive)3, And / or NH2-(CH
2)2-NH- (CH2)3-Si (CH3)-(OC
H3)2, And / or NH2-(CH2)2-NH
-(CH2)3-Si (CH3)-(OC2HFive)2,
And / or produced by hydrolysis of
Selected from the group consisting of oligomers having an association degree of 10 or less
Particularly preferred is one or more compounds
Yes.

【0038】上記アルキルチタネート、アルキルジルコ
ネート、有機ケイ素化合物は通常有機溶剤に溶かした塗
工液を用いて、塗工後乾燥し、加熱、イオンボンバー
ド、あるいは紫外線、β線、γ線等の放射線により硬化
させる。必要に応じて硬化触媒、接着促進剤、塗れ性改
良剤、可塑剤、各種安定剤、難燃剤、酸化防止剤、滑
剤、消泡剤およびまたは増粘剤等と混合して用いること
もできる。
The above-mentioned alkyl titanate, alkyl zirconate, and organosilicon compound are usually used in a coating solution dissolved in an organic solvent and dried after coating, followed by heating, ion bombardment, or radiation such as ultraviolet rays, β rays, γ rays. To cure. If necessary, it may be used in admixture with a curing catalyst, an adhesion promoter, a wettability improver, a plasticizer, various stabilizers, a flame retardant, an antioxidant, a lubricant, an antifoaming agent and / or a thickener.

【0039】また塗工には、ドクターナイフ、バーコー
ター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、ナ
イフコーター等の公知の塗工機械を用いる方法、スプレ
ー法、浸漬法等が用いられる。
For coating, a method using a known coating machine such as a doctor knife, a bar coater, a gravure roll coater, a curtain coater, a knife coater, a spray method, a dipping method, or the like is used.

【0040】主として結晶質の酸化インジウムよりなる
透明導電膜の厚さは、透明性と導電性の点から5〜50
nmが好ましい。透明導電膜の形成方法としては、スパ
ッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等
のPVD法が好ましい。
The thickness of the transparent conductive film mainly made of crystalline indium oxide is 5 to 50 in terms of transparency and conductivity.
nm is preferred. As a method for forming the transparent conductive film, a PVD method such as a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method is preferable.

【0041】筆記耐久性の向上対策として、前述の2層
からなる中間層を設ける方法および主として結晶質の酸
化インジウムよりなる透明導電膜を設ける方法を併用し
ても良い。
As a measure for improving the writing durability, the method of providing the intermediate layer consisting of the above-mentioned two layers and the method of providing the transparent conductive film mainly composed of crystalline indium oxide may be used together.

【0042】[0042]

【実施例1〜2、比較例1〜2】図1は本発明の一実施
例を示す透明タブレットである。図中の1はガラス基
板、2と6は透明導電膜、3はドットスペーサ、4はポ
リエチレンテレフタレートフィルム、5はハードコート
層、7は粗面化層を示す。そしてガラス基板1と透明導
電膜2とドットスペーサ3とによって下部電極基板が構
成され、透明導電膜6とポリエステルフィルム4と粗面
化層7とハードコート層5とによって上部電極基板が構
成されている。
Examples 1 and 2, Comparative Examples 1 and 2 FIG. 1 is a transparent tablet showing an example of the present invention. In the figure, 1 is a glass substrate, 2 and 6 are transparent conductive films, 3 is a dot spacer, 4 is a polyethylene terephthalate film, 5 is a hard coat layer, and 7 is a roughened layer. The glass substrate 1, the transparent conductive film 2 and the dot spacers 3 constitute a lower electrode substrate, and the transparent conductive film 6, the polyester film 4, the roughening layer 7 and the hard coat layer 5 constitute an upper electrode substrate. There is.

【0043】こうした透明タブレットを作製するため
に、まずは厚さ1.1mmのガラス板1の両面にSiO
2 ディップコートを行なった後、スパッタリング法によ
り、厚さ18nmのITO膜を透明導電膜2として形成
した。次に、ITO膜上に高さ7μm、直径70μm、
ピッチ1.5mmのドットスペーサ3を形成することに
より、下部電極基板を作製した。
In order to manufacture such a transparent tablet, first, SiO 2 is formed on both sides of the glass plate 1 having a thickness of 1.1 mm.
After performing the 2 dip coating, by sputtering to form an ITO film having a thickness of 18nm as transparent conductive film 2. Next, on the ITO film, height 7 μm, diameter 70 μm,
A lower electrode substrate was manufactured by forming dot spacers 3 having a pitch of 1.5 mm.

【0044】一方、透明有機高分子成形物基板としての
厚さ188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
4(帝人(株)製の商品名「HLW」)の片面にシリカ
粒子を混合した紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂
塗料を用いて厚さ3μmのハードコート層5を形成し
た。次に反対面側に、シリカ粒子と紫外線硬化型ウレタ
ンアクリレート樹脂との混合比を変えた塗料を用いて、
厚さ1μmの表面粗さの異なった粗面化層7を形成した
(実施例1〜2、比較例1〜2)。粗面化層を形成した
面に、スパッタリング法により、厚さ18nmの非晶質
のITO膜を透明導電膜6として形成することにより、
上部電極基板を作製した。
On the other hand, a UV-curable urethane acrylate resin coating prepared by mixing silica particles on one side of a polyethylene terephthalate film 4 (trade name "HLW" manufactured by Teijin Ltd.) having a thickness of 188 μm as a transparent organic polymer molded product substrate. Was used to form a hard coat layer 5 having a thickness of 3 μm. Next, on the opposite surface side, using a paint with a different mixing ratio of silica particles and an ultraviolet curable urethane acrylate resin,
Roughening layers 7 having different surface roughnesses with a thickness of 1 μm were formed (Examples 1-2, Comparative Examples 1-2). By forming an amorphous ITO film having a thickness of 18 nm as the transparent conductive film 6 on the surface on which the roughened layer is formed by a sputtering method,
An upper electrode substrate was produced.

【0045】そしてこれら上部電極基板および下部電極
基板を用いて、図1に示すアナログ型透明タブレットを
作製した。なお、本図は構成の一部であり、周囲の絶縁
層、粘着層、外部への引き出し回路は省略してある。
Then, using the upper electrode substrate and the lower electrode substrate, the analog type transparent tablet shown in FIG. 1 was produced. Note that this drawing is a part of the configuration, and the surrounding insulating layer, the adhesive layer, and the circuit for drawing out to the outside are omitted.

【0046】上部電極基板、下部電極基板の中心面平均
粗さ(SRa)および透明タブレットの全光線透過率、
ヘーズの測定結果、透明タブレットの干渉縞の観察結
果、筆記耐久性の評価結果を表1に示す。
Center surface average roughness (SRa) of the upper electrode substrate and the lower electrode substrate and the total light transmittance of the transparent tablet,
Table 1 shows the haze measurement results, the observation results of the interference fringes of the transparent tablet, and the writing durability evaluation results.

【0047】なお、筆記耐久性試験方法は、次の通りで
ある。まず先端が0.8Rのポリアセタール製のペンを
用いて、透明タブレット上部電極のハードコート面の中
央20mm角の範囲に、カタカナ文字を50音順に筆記
する。荷重は、250g。3万文字毎にペン交換とリニ
アリティの測定を行なう。リニアリティが1.5%を越
えるまでの筆記回数を筆記耐久性とする。
The writing durability test method is as follows. First, using a polyacetal pen having a tip of 0.8R, katakana characters are written in the order of Japanese syllabary in a central 20 mm square area of the hard coat surface of the transparent tablet upper electrode. The load is 250g. The pen is replaced and the linearity is measured every 30,000 characters. The writing durability is defined as the number of writings until the linearity exceeds 1.5%.

【0048】[0048]

【比較例3】粗面化層7を設けない以外は実施例1と同
じ条件で、図3に示すアナログ型透明タブレットを作製
した。
Comparative Example 3 An analog transparent tablet shown in FIG. 3 was produced under the same conditions as in Example 1 except that the roughening layer 7 was not provided.

【0049】そのためにまずは厚さ1.1mmのガラス
板1を用いて、実施例1と同じ条件で下部電極基板を作
製した。一方、厚さ188μmのポリエチレンテレフタ
レートフィルム4(帝人(株)製の商品名「HLW」)
の片面にシリカ粒子を混合した紫外線硬化型ウレタンア
クリレート樹脂塗料を用いて、厚さ3μmのハードコー
ト層5を形成した。次に反対面に、粗面化層を形成せず
にスパッタリング法により、厚さ18nmの非晶質のI
TO膜を透明導電膜6として形成することにより、上部
電極基板を作製した。
Therefore, first, a lower electrode substrate was manufactured under the same conditions as in Example 1, using the glass plate 1 having a thickness of 1.1 mm. On the other hand, a polyethylene terephthalate film 4 having a thickness of 188 μm (trade name “HLW” manufactured by Teijin Ltd.)
A hard coat layer 5 having a thickness of 3 μm was formed by using an ultraviolet-curable urethane acrylate resin paint containing silica particles mixed on one surface thereof. Then, on the opposite surface, an amorphous I film having a thickness of 18 nm was formed by a sputtering method without forming a roughened layer.
An upper electrode substrate was produced by forming the TO film as the transparent conductive film 6.

【0050】そしてこれら上部電極基板と下部電極基板
を用いて、図3に示すアナログ型透明タブレットを作製
した。なお、本図は構成の一部であり、周囲の絶縁層、
粘着層、外部への引き出し回路は省略してある。そして
実施例1と同じ条件で評価を行い、その結果を表1に示
す。
Then, using the upper electrode substrate and the lower electrode substrate, an analog type transparent tablet shown in FIG. 3 was produced. Note that this figure is a part of the configuration, and the surrounding insulating layer,
The adhesive layer and the circuit for drawing to the outside are omitted. Then, evaluation was performed under the same conditions as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0051】[0051]

【実施例3〜4】まずは厚さ1.1mmのガラス板1を
用いて、実施例1と同じ条件で下部電極基板を作製し
た。
Examples 3 to 4 First, a lower electrode substrate was manufactured under the same conditions as in Example 1, using the glass plate 1 having a thickness of 1.1 mm.

【0052】一方、厚さ188μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルム4(帝人(株)製の商品名「HL
W」)を用いて、実施例1と同じ条件で片面にハードコ
ート層5、反対面に粗面化層7を形成した。
On the other hand, a polyethylene terephthalate film 4 having a thickness of 188 μm (trade name “HL manufactured by Teijin Ltd.”
W ”) was used to form the hard coat layer 5 on one surface and the roughened layer 7 on the other surface under the same conditions as in Example 1.

【0053】そして実施例3としては、粗面化層7上
に、スパッタリング法により先ずインジウム錫低級酸化
物膜を形成後、150℃で15時間熱処理し、厚さ18
nmの結晶質のITO膜を透明導電膜6として形成する
ことにより、上部電極基板を作製した。
In Example 3, an indium tin lower oxide film was first formed on the surface-roughened layer 7 by the sputtering method and then heat-treated at 150 ° C. for 15 hours to give a thickness of 18
An upper electrode substrate was produced by forming a crystalline ITO film having a thickness of nm as the transparent conductive film 6.

【0054】また実施例4としては、粗面化層7上に、
テトラブチルチタネート(日本曹達(株)製)を7.5
重量%含有のリグロイン・ブタノール溶液をバーコータ
ーで塗布後、130℃で5分間乾燥し、酸化チタンを含
む層としての中間層8を形成した。中間層8の乾燥後の
膜厚は30nmである。引き続いて、分子式NH2
(CH2 3 −Si−(OC2 5 3 で表される化合
物の加水分解により生成した会合度5のオリゴマーを
1.0重量%含有するリグロイン・ブタノール・エタノ
ール・エチルセロソルブ溶液をバーコーターで塗布後、
130℃で5分間乾燥し、有機ケイ素化合物の加水分解
により生成された層としての中間層9を形成した。中間
層9の乾燥後の膜厚は30nmである。
As Example 4, on the roughened layer 7,
Tetrabutyl titanate (Nippon Soda Co., Ltd.) 7.5
A wt% content of ligroin / butanol solution was applied with a bar coater and then dried at 130 ° C. for 5 minutes to form an intermediate layer 8 as a layer containing titanium oxide. The film thickness of the intermediate layer 8 after drying is 30 nm. Subsequently, the molecular formula NH 2
A ligroin / butanol / ethanol / ethyl cellosolve solution containing 1.0% by weight of an oligomer having an association degree of 5 formed by hydrolysis of a compound represented by (CH 2 ) 3 —Si— (OC 2 H 5 ) 3 was prepared as a bar. After applying with a coater,
It was dried at 130 ° C. for 5 minutes to form the intermediate layer 9 as a layer formed by hydrolysis of the organosilicon compound. The film thickness of the intermediate layer 9 after drying is 30 nm.

【0055】実施例4では次に、スパッタリング法によ
り、先ずインジウム錫低級酸化物膜を形成後、150℃
で15時間熱処理し、厚さ18nmの結晶質のITO膜
を透明導電膜6として形成することにより、上部電極基
板を作製した。
In Example 4, next, an indium tin lower oxide film was first formed by a sputtering method and then at 150 ° C.
Then, the upper electrode substrate was prepared by heat-treating for 15 hours and forming a crystalline ITO film having a thickness of 18 nm as the transparent conductive film 6.

【0056】そしてこれら上部電極基板と下部電極基板
を用いて、実施例1と同様にして図1(実施例3)と図
2(実施例4)に示すアナログ型透明タブレットを作製
した。なお、本図は構成の一部であり、周囲の絶縁層、
粘着層、外部への引き出し回路は省略してある。そして
実施例1と同じ条件で評価を行い、その結果を表1に示
す。
Using the upper electrode substrate and the lower electrode substrate, analog type transparent tablets shown in FIG. 1 (Example 3) and FIG. 2 (Example 4) were prepared in the same manner as in Example 1. Note that this figure is a part of the configuration, and the surrounding insulating layer,
The adhesive layer and the circuit for drawing to the outside are omitted. Then, evaluation was performed under the same conditions as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0057】[0057]

【実施例5〜12】厚さ1.1mmのガラス板1を用い
て、実施例1と同じ条件で下部電極基板を作製した。一
方、厚さ188μmのポリエチレンテレフタレートフィ
ルム4(帝人(株)製の商品名「HLW」)を用いて、
実施例1と同じ条件で片面にハードコート層5、反対面
に粗面化層7を形成した。ここで得られた上部電極基板
側と下部電極基板側の、それぞれの中心面平均粗さ(S
Ra)は、それぞれ0.07μm、0.005μmであ
った。
Examples 5 to 12 Using the glass plate 1 having a thickness of 1.1 mm, lower electrode substrates were prepared under the same conditions as in Example 1. On the other hand, using a polyethylene terephthalate film 4 (trade name “HLW” manufactured by Teijin Ltd.) having a thickness of 188 μm,
Under the same conditions as in Example 1, the hard coat layer 5 was formed on one surface and the roughened layer 7 was formed on the opposite surface. The center surface average roughnesses (S) of the upper electrode substrate side and the lower electrode substrate side obtained here are respectively obtained.
Ra) was 0.07 μm and 0.005 μm, respectively.

【0058】次に、粗面化層7上に、テトラブチルチタ
ネート(日本曹達(株)製)の含有量を変えたリグロイ
ン・ブタノール溶液をバーコーターで塗布後、130℃
で5分間乾燥し、酸化チタンを含む層としての中間層8
を形成した。引き続いて分子式NH2 −(CH2 3
Si−(OC2 5 3 で表される化合物の加水分解に
より生成した会合度5のオリゴマーの含有量を変えたリ
グロイン・ブタノール・エタノール・エチルセロソルブ
溶液をバーコーターで塗布後、130℃で5分間乾燥
し、有機ケイ素化合物の加水分解により生成された層と
しての中間層9を形成した。そしてここでは中間層8と
9の厚さを各種変えて、実施例5〜12とした。
Next, a ligroin / butanol solution having a different content of tetrabutyl titanate (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) was applied on the roughened layer 7 by a bar coater and then at 130 ° C.
Intermediate layer 8 as a layer containing titanium oxide after drying for 5 minutes
Was formed. Subsequently molecular formula NH 2 - (CH 2) 3 -
A ligroin / butanol / ethanol / ethyl cellosolve solution having a different content of an oligomer having an association degree of 5 formed by hydrolysis of a compound represented by Si- (OC 2 H 5 ) 3 was applied with a bar coater and then at 130 ° C. It was dried for 5 minutes to form an intermediate layer 9 as a layer formed by hydrolysis of the organosilicon compound. Then, here, the thicknesses of the intermediate layers 8 and 9 were variously changed to give Examples 5 to 12.

【0059】そしてスパッタリング法により、先ずイン
ジウム錫低級酸化物膜を形成後、150℃で15時間熱
処理し、厚さ18nmの結晶質のITO膜を透明導電膜
6として形成することにより、上部電極基板を作製し
た。
Then, an indium tin lower oxide film is first formed by a sputtering method, and then heat treatment is performed at 150 ° C. for 15 hours to form a crystalline ITO film having a thickness of 18 nm as the transparent conductive film 6, thereby forming an upper electrode substrate. Was produced.

【0060】そしてこれら上部電極基板と下部電極基板
を用いて、実施例4と同様にして図2に示すアナログ型
透明タブレットを作製した。なお、本図は構成の一部で
あり、周囲の絶縁層、粘着層、外部への引き出し回路は
省略してある。こうして得られた透明タブレットを実施
例1と同様にして評価し、その結果を表2に示す。
Then, using the upper electrode substrate and the lower electrode substrate, the analog type transparent tablet shown in FIG. 2 was prepared in the same manner as in Example 4. Note that this drawing is a part of the configuration, and the surrounding insulating layer, the adhesive layer, and the circuit for drawing out to the outside are omitted. The transparent tablets thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0061】[0061]

【表1】 [Table 1]

【0062】[0062]

【表2】 [Table 2]

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明の透明導電性積層体を用いた透明
タブレットは、干渉縞の発生がなく、かつヘーズが小で
視認性に優れている。表面粗さが本発明の範囲未満のも
のは干渉縞防止効果がなく、また、表面粗さが本発明の
範囲を越えたものはヘーズが高く視認性が悪くなる。
The transparent tablet using the transparent conductive laminate of the present invention has no interference fringes, has a small haze, and is excellent in visibility. If the surface roughness is less than the range of the present invention, there is no effect of preventing interference fringes, and if the surface roughness exceeds the range of the present invention, haze is high and visibility is poor.

【0064】また、粗面化層と透明導電膜間に中間層を
形成する方法、および/または透明導電膜として主とし
て結晶質の酸化インジウムよりなる膜を用いる方法によ
り、干渉縞の発生がなく視認性が優れかつ筆記耐久性が
極めて良好な透明タブレットが得られる。さらに、該中
間層において酸化チタンおよび酸化ジルコニウムの厚さ
を20〜60nmかつ有機ケイ素化合物の加水分解によ
り生成ケイされた層の厚さを20〜60nmとすること
により透明タブレットの透明性を向上させることができ
る。本発明は、実施例に示したアナログ型透明タブレッ
トに限定されることなく、マトリクス型透明タブレット
にも実施し得るものである。
Further, by the method of forming an intermediate layer between the roughening layer and the transparent conductive film, and / or the method of using a film mainly made of crystalline indium oxide as the transparent conductive film, it is possible to visually check without generation of interference fringes. A transparent tablet having excellent properties and extremely excellent writing durability can be obtained. Further, the thickness of titanium oxide and zirconium oxide in the intermediate layer is 20 to 60 nm, and the thickness of the layer formed by hydrolysis of the organosilicon compound is 20 to 60 nm to improve the transparency of the transparent tablet. be able to. The present invention is not limited to the analog type transparent tablets shown in the embodiments, but can be applied to matrix type transparent tablets.

【0065】以上説明したように、少なくとも片面が粗
面化された有機高分子成形物において、中心面平均粗さ
(SRa)が、0.05〜0.40μmの範囲にある面
に透明導電膜を形成してなる透明導電性積層体を用いた
透明タブレットは、干渉縞の発生がなく視認性が優れて
いる。また、粗面化層と透明導電膜間に中間層を形成す
る方法、および/または透明導電膜として主として結晶
質の酸化インジウムよりなる膜を用いる方法により、筆
記耐久性が極めて良好な透明タブレットが得られる。ま
た、中間層膜厚の最適化により透明性の良い透明タブレ
ットが得られ、実用上の意義は極めて大きい。
As described above, in the organic polymer molded product having at least one surface roughened, the transparent conductive film is formed on the surface having the center surface average roughness (SRa) in the range of 0.05 to 0.40 μm. The transparent tablet using the transparent conductive laminate obtained by forming is excellent in visibility without generation of interference fringes. In addition, a transparent tablet excellent in writing durability can be obtained by a method of forming an intermediate layer between the roughened layer and the transparent conductive film and / or a method of using a film mainly composed of crystalline indium oxide as the transparent conductive film. can get. Also, by optimizing the thickness of the intermediate layer, a transparent tablet with good transparency can be obtained, which is of great significance in practical use.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】粗面化層を設けた透明タブレットFIG. 1 Transparent tablet provided with a roughened layer

【図2】中間層を設けた透明タブレット[FIG. 2] Transparent tablet provided with an intermediate layer

【図3】粗面化層の無い透明タブレットFIG. 3 Transparent tablet without roughening layer

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2、6 透明導電膜 3 ドットスペーサ 4 ポリエチレンテレフタレートフィルム 5 ハードコート層 7 粗面化層 8、9 中間層 1 Glass Substrate 2, 6 Transparent Conductive Film 3 Dot Spacer 4 Polyethylene Terephthalate Film 5 Hard Coat Layer 7 Roughening Layer 8, 9 Intermediate Layer

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明有機高分子成形物よりなる基板上に
透明導電膜を形成して構成された透明導電性積層体にお
いて、少なくとも一方の透明導電膜を形成した側の基板
面が、中心面平均粗さ(SRa)が0.05〜0.40
μmの範囲に粗面化されていることを特徴とする透明導
電性積層体。
1. In a transparent conductive laminate comprising a transparent organic polymer molded product on which a transparent conductive film is formed, a substrate surface on which at least one transparent conductive film is formed is a central surface. Average roughness (SRa) is 0.05 to 0.40
A transparent electroconductive laminate characterized by being roughened in the range of μm.
【請求項2】 基板面の粗面化が、基板上に粗面化層を
形成することによってなされたものであって、かつ粗面
化層は熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂にシリカ微
粒子を混合した層からなることを特徴とする請求項1記
載の透明導電性積層体。
2. The surface of the substrate is roughened by forming a roughening layer on the substrate, and the roughening layer is a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin and silica fine particles. The transparent electroconductive laminate according to claim 1, which is composed of a layer in which
【請求項3】 粗面化された基板面上の透明導電膜との
間に、主として酸化チタンおよび/または酸化ジルコニ
ウムを含む層と、有機ケイ素化合物の加水分解により生
成された層を、この順に設けたことを特徴とする請求項
1〜2のいずれかに記載の透明導電性積層体。
3. A layer mainly containing titanium oxide and / or zirconium oxide and a layer formed by hydrolysis of an organosilicon compound are provided in this order between the roughened transparent conductive film on the substrate surface. It provided, The transparent conductive laminated body in any one of Claims 1-2.
【請求項4】 酸化チタンおよび/または酸化ジルコニ
ウムを含む層の厚さが20〜60nm、かつ有機ケイ素
化合物の加水分解により生成された層の厚さが20〜6
0nmであることを特徴とする請求項3記載の透明導電
性積層体。
4. The layer containing titanium oxide and / or zirconium oxide has a thickness of 20 to 60 nm, and the layer formed by hydrolysis of an organosilicon compound has a thickness of 20 to 6.
It is 0 nm, The transparent conductive laminated body of Claim 3 characterized by the above-mentioned.
【請求項5】 透明導電膜が、主として結晶質の酸化イ
ンジウムよりなることを特徴とする請求項1〜4のいず
れかに記載の透明導電性積層体。
5. The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein the transparent conductive film is mainly made of crystalline indium oxide.
【請求項6】 少なくとも片面に透明導電膜が設けられ
た2枚の透明電極基板が、互いの透明導電膜同士が向か
い合うように配置されて構成された透明タブレットにお
いて、透明電極基板として請求項1〜5のいずれかに記
載の透明導電性積層体を用いたことを特徴とする透明タ
ブレット。
6. A transparent tablet, which is configured by arranging two transparent electrode substrates having a transparent conductive film provided on at least one surface so that the transparent conductive films face each other, and the transparent tablet serves as a transparent electrode substrate. A transparent tablet characterized by using the transparent electroconductive laminate according to any one of 1 to 5.
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