JP4462605B2 - Aqueous silica dispersion - Google Patents

Aqueous silica dispersion Download PDF

Info

Publication number
JP4462605B2
JP4462605B2 JP2003306801A JP2003306801A JP4462605B2 JP 4462605 B2 JP4462605 B2 JP 4462605B2 JP 2003306801 A JP2003306801 A JP 2003306801A JP 2003306801 A JP2003306801 A JP 2003306801A JP 4462605 B2 JP4462605 B2 JP 4462605B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silica
silica dispersion
water
coating
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003306801A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2004107204A (en
Inventor
隆一 赤木
美喜夫 阪口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
Priority to JP2003306801A priority Critical patent/JP4462605B2/en
Publication of JP2004107204A publication Critical patent/JP2004107204A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4462605B2 publication Critical patent/JP4462605B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Description

本発明は、塗布、含浸等により、種々の基材表面のコーティングに使用される水系シリカ分散液に関する。   The present invention relates to an aqueous silica dispersion used for coating various substrate surfaces by coating, impregnation and the like.

従来、コンクリート、窯業建材等の無機系基材、有機系基材、金属材等の劣化を防ぐために合成樹脂エマルジョン系のコーティング材が使用されている。塗布直後においては、該コーティング材は物理的な接着により強固な塗膜を形成する。しかしながら、塗膜と基材表面の間には一般に化学的な結合は形成されず、また合成樹脂は疎水性であるため、特に親水性の高い無機系基材や金属材の表面との親和性が低く、長時間良好な塗膜状態を保ち難い。さらに熱、紫外線等により合成樹脂そのものが劣化するため、塗膜の耐久性の点にも大きな問題がある。また、火災等により熱分解し、有害なガスを発生する。廃棄する場合もそのままでは環境になじむことはないので好ましくない。   Conventionally, synthetic resin emulsion-based coating materials have been used to prevent deterioration of inorganic base materials such as concrete and ceramic building materials, organic base materials, metal materials and the like. Immediately after application, the coating material forms a strong coating film by physical adhesion. However, generally no chemical bond is formed between the coating film and the substrate surface, and the synthetic resin is hydrophobic, so it has a particularly good affinity with highly hydrophilic inorganic substrates and metal surfaces. Is low and it is difficult to maintain a good coating state for a long time. Furthermore, since the synthetic resin itself deteriorates due to heat, ultraviolet rays, etc., there is a big problem in the durability of the coating film. In addition, it decomposes by fire and generates harmful gases. Even if it is discarded, it is not preferable as it is not adapted to the environment.

一方、シリカは合成樹脂に比べ親水性が高く、不燃性であり、地殻構成金属酸化物の第1位に位置する金属酸化物であるので、環境、資源的にも好適な材料である。   On the other hand, silica is a material that is more suitable in terms of environment and resources because it has higher hydrophilicity than non-synthetic resins, is nonflammable, and is a metal oxide located at the first position of the crust constituent metal oxide.

そこで、これまでにシリカを主体とする分散液やコーティング材が提案されている。たとえば、シリカゾル溶液や水ガラス溶液、およびそれらの混合液が提案されている(たとえば、特許文献1および2参照)。   So far, dispersions and coating materials mainly composed of silica have been proposed. For example, a silica sol solution, a water glass solution, and a mixed solution thereof have been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2).

しかしながら、上記文献に開示された分散液等は、液中でゲルを生じたりするなど、安定性が低い点、ならびに塗膜性および形成された塗膜の耐久性が低い点で改善が望まれていた。
特開平10−158585号公報 特開2000−109722号公報
However, the dispersions and the like disclosed in the above documents are desired to be improved in terms of low stability, such as gel formation in the liquid, and low durability of the formed coating film. It was.
JP-A-10-158585 JP 2000-109722 A

本発明は、 種々の基材表面のコーティングのための、コーティング材または含浸材として使用しうる、塗膜性および形成された塗膜の耐久性に優れる水系シリカ分散液を提供することを課題とする。   An object of the present invention is to provide an aqueous silica dispersion excellent in coating property and durability of a formed coating film, which can be used as a coating material or an impregnating material for coating of various substrate surfaces. To do.

特定の固形分シリカ含有量の水系シリカ分散液が塗膜性および形成された塗膜の耐久性に優れており、種々の基材表面のコーティングのための、コーティング材または含浸材として好適であることを見出した。また、塗膜性および耐久性にはシリカ成分の化学的構造ならびに水分散している粒子の平均粒径が影響することを見出した。かかる知見に基づき本発明を完成させた。   An aqueous silica dispersion having a specific solid content silica content is excellent in coating properties and durability of the formed coating film, and is suitable as a coating material or impregnating material for coating of various substrate surfaces. I found out. It was also found that the coating structure and durability are affected by the chemical structure of the silica component and the average particle size of the water-dispersed particles. Based on this finding, the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、
〔1〕 固形分の含有量が5〜75重量%であり、該固形分中のシリカ成分の含有量が97〜99重量%である水系シリカ分散液、
〔2〕 前記〔1〕に記載の水系シリカ分散液を用いて形成されたコーティング膜、
並びに
〔3〕 前記〔1〕に記載の水系シリカ分散液からなる無機多孔体吸水抑制剤、
に関する。
That is, the present invention
[1] An aqueous silica dispersion having a solid content of 5 to 75% by weight and a silica component content of 97 to 99% by weight in the solid content,
[2] A coating film formed using the aqueous silica dispersion according to [1],
And [3] an inorganic porous body water absorption inhibitor comprising the aqueous silica dispersion according to [1],
About.

本発明のシリカ分散液は塗膜性や形成された塗膜の耐久性に優れており、 種々の基材表面のコーティングのための、コーティング材または含浸材として使用することができる。また、得られる塗膜は吸水抑制能を有することから、該シリカ分散液は無機多孔体吸水抑制剤として機能しうる。   The silica dispersion of the present invention has excellent coating properties and durability of the formed coating film, and can be used as a coating material or an impregnation material for coating on various substrate surfaces. Moreover, since the obtained coating film has water absorption inhibitory capacity, this silica dispersion liquid can function as an inorganic porous body water absorption inhibitor.

本発明の水系シリカ分散液(以下、シリカ分散液という)は、固形分の含有量が5〜75重量%であり、該固形分中のシリカ成分の含有量が97〜99重量%であることを1つの大きな特徴とする。かかる構成を有することから、無機系基材、有機系基材、金属材等の種々の基材表面への塗膜性および該表面に形成された塗膜の耐久性(以下、単に耐久性という場合がある)に優れる。本発明の所望の効果の発現の観点から、固形分の含有量としては、好ましくは5〜60重量%、より好ましくは10〜45重量%である。また、該固形分中のシリカ成分の含有量としては、好ましくは97.5〜98.5重量%である。ここで、固形分の含有量(重量%)は、シリカ分散液をガラスシャーレ(フラットシャーレ、品番:70、直径75mm)に入れ、乾燥機(ADVANTEC社製、型番:FC−410)中で50℃にて一日乾燥させて得られる乾燥物の重量を測定し、乾燥物の重量を、予め測定しておいたシリカ分散液の重量で割って100を乗ずることにより求める。   The aqueous silica dispersion of the present invention (hereinafter referred to as silica dispersion) has a solid content of 5 to 75% by weight, and the silica component content in the solid content is 97 to 99% by weight. Is one major feature. Because of having such a configuration, coating properties on various substrate surfaces such as inorganic substrates, organic substrates, metal materials, and durability of coating films formed on the surfaces (hereinafter simply referred to as durability) Excellent). From the viewpoint of expression of the desired effect of the present invention, the solid content is preferably 5 to 60% by weight, more preferably 10 to 45% by weight. The content of the silica component in the solid content is preferably 97.5 to 98.5% by weight. Here, the content (% by weight) of the solid content is 50 in a dryer (ADVANTEC, model number: FC-410) after putting the silica dispersion in a glass petri dish (flat petri dish, product number: 70, diameter 75 mm). The weight of the dried product obtained by drying at 0 ° C. for one day is measured, and the weight of the dried product is determined by dividing by the weight of the silica dispersion previously measured and multiplying by 100.

本発明のシリカ分散液は水系の媒質に固形分粒子が均一に分散したゾルからなる。ここで、分散とは、媒質中に固形分粒子の凝集に由来するゲル状物が存在しない状態をいい、分散状態であるか否かは目視によるゲル状物の存在の有無により判断できる。より具体的には、シリカ分散液を1mmメッシュのふるいに供し、当該分散液の全量がふるいを通過することを目視により確認することによって、該分散液は分散状態にあると判断することができる。本発明のシリカ分散液では固形分粒子がゲルを形成せず均一に分散しているので、塗膜性に優れ、従って、製膜時の膜厚や膜密度を均一にでき、このことは形成された塗膜の耐久性の向上に寄与する。   The silica dispersion of the present invention comprises a sol in which solid particles are uniformly dispersed in an aqueous medium. Here, the dispersion refers to a state in which no gel-like material derived from aggregation of solid particles is present in the medium, and whether or not it is in a dispersed state can be determined by the presence or absence of the gel-like material by visual observation. More specifically, it is possible to determine that the dispersion is in a dispersed state by subjecting the silica dispersion to a 1 mm mesh sieve and visually confirming that the entire amount of the dispersion passes through the sieve. . In the silica dispersion of the present invention, the solid particles are uniformly dispersed without forming a gel, so the coating properties are excellent, and therefore the film thickness and film density during film formation can be made uniform. This contributes to improving the durability of the coated film.

前記水系の媒質としては、たとえば、水単独または水と、たとえば、後述するアルコール、界面活性剤、シリコネート等の水性有機物との混合物が挙げられる。該混合物中の水の量としては、好ましくは25〜95重量%である。   Examples of the aqueous medium include water alone or a mixture of water and an aqueous organic material such as alcohol, surfactant, and siliconate described below. The amount of water in the mixture is preferably 25 to 95% by weight.

固形分は主として不溶性のシリカ成分からなる。本発明でいうシリカ成分とはSiを含んでなる化合物をいう。なお、本明細書においてシリカ成分には、シリカ分散液の調製時に使用するアルカリケイ酸塩等も含む。シリカ成分以外の固形分としては、たとえば、アルカリ金属酸化物、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ土類金属塩、ならびにリン、ホウ素、アルミニウム、ゲルマニウム等の3B族、4B族、5B族元素の酸化物および塩からなる群より選ばれる少なくとも1種が挙げられる。より具体的には、当該固形分としては、アルカリ金属酸化物、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ土類金属塩、リン酸化物およびホウ素酸化物からなる群より選ばれる少なくとも1種が好ましい。これらのシリカ成分以外の固形分は、塗膜形成過程でのシリカ成分によるネットワーク構造の形成や当該ネットワーク構造の修飾に寄与する。   The solid content is mainly composed of an insoluble silica component. The silica component as used in the field of this invention means the compound which contains Si. In the present specification, the silica component also includes an alkali silicate used when preparing the silica dispersion. Examples of solids other than the silica component include alkali metal oxides, alkali metal salts, alkaline earth metal oxides, alkaline earth metal salts, and groups 3B, 4B, and 5B such as phosphorus, boron, aluminum, and germanium. And at least one selected from the group consisting of oxides and salts of group elements. More specifically, the solid content is at least one selected from the group consisting of alkali metal oxides, alkali metal salts, alkaline earth metal oxides, alkaline earth metal salts, phosphorus oxides, and boron oxides. Is preferred. These solid components other than the silica component contribute to the formation of the network structure by the silica component in the coating film formation process and the modification of the network structure.

本発明のシリカ分散液に含まれるシリカ成分は、シリカ分散液の塗膜性および耐久性の向上の観点から、特定の化学的構造を有するのが望ましい。具体的には、シリカ分散液の乾燥物(たとえば、25℃で72時間維持して媒質を除去したもの)について29Si−NMR測定を行った場合、シリカ成分の29Si−NMRによるスペクトルの帰属において、Qn (n=0〜4)構造を示すシグナルの総面積に対するQ2 構造を示すシグナルの面積の割合(以下、Q2 構造の相対量という)が好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下であり、Q3 構造を示すシグナルの面積とQ4 構造を示すシグナルの面積との比(以下、Q3 /Q4 比という)が好ましくは0.1≦Q3 /Q4 ≦0.6、より好ましくは0.1≦Q3 /Q4 ≦0.5である化学的構造を有するのが望ましい。 The silica component contained in the silica dispersion of the present invention desirably has a specific chemical structure from the viewpoint of improving the coating properties and durability of the silica dispersion. Specifically, when 29 Si-NMR measurement is performed on a dried silica dispersion (for example, a medium removed by maintaining at 25 ° C. for 72 hours), the attribution of the spectrum by 29 Si-NMR of the silica component The ratio of the area of the signal showing the Q 2 structure to the total area of the signal showing the Q n (n = 0-4) structure (hereinafter referred to as the relative amount of the Q 2 structure) is preferably 5% or less, more preferably The ratio of the area of the signal showing the Q 3 structure to the area of the signal showing the Q 4 structure (hereinafter referred to as Q 3 / Q 4 ratio) is preferably 0.1 ≦ Q 3 / Q 4 ≦ It is desirable to have a chemical structure of 0.6, more preferably 0.1 ≦ Q 3 / Q 4 ≦ 0.5.

ここで、Qn 構造とは、シリカの構成単位であるSiO4 四面体単位の酸素原子のうちの架橋酸素原子(二つのSiと結合している酸素原子)の数に応じて決まる化学的構造をいい、Qn はSiO4 単位の結合度であり、nは架橋酸素原子の数である。29Si−NMR測定によるかかる構造を示すシグナルの化学シフトは、結合度Qn によって変化することが知られている。Qn 構造を示すシグナルの化学シフト(TMS基準)は液体と固体、化合物種によって幅があるが概ね次のように帰属されている〔「ガラス科学の基礎と応用」作花済夫著、出版社:内田老鶴圃、1997年〕。 Here, the Q n structure is a chemical structure determined according to the number of bridging oxygen atoms (oxygen atoms bonded to two Si atoms) among the oxygen atoms of the SiO 4 tetrahedron unit that is a structural unit of silica. Q n is the degree of bonding of SiO 4 units, and n is the number of bridging oxygen atoms. It is known that the chemical shift of a signal indicating such a structure by 29 Si-NMR measurement varies depending on the degree of bonding Q n . The chemical shift (TMS standard) of the signal indicating the Q n structure varies according to the liquid and solid, compound type, but is generally assigned as follows ["Glass Science Fundamentals and Applications" by Sakuo Sakuo, published Company: Uchida Otsukuru, 1997].

構造 化学シフト
0 : −65 〜 −75ppm
1 : −76 〜 −84ppm
2 : −85 〜 −90ppm
3 : −92 〜 −100ppm
4 :−105 〜 −115ppm
Structure chemical shift
Q 0 : −65 to −75 ppm
Q 1 : −76 to −84 ppm
Q 2 : −85 to −90 ppm
Q 3 : −92 to −100 ppm
Q 4 : −105 to −115 ppm

良好な製膜性を得るためにはSiO2 が適度なネットワーク構造を形成することが必要である。Q0 、Q1 、Q2 の構造は点又は線状の結合であり、ネットワーク構造を形成しない。また、水にも溶解する傾向にある。Q3 、Q4 構造はネットワーク構造を形成するが、Q4 構造のみでは構造が剛直化する傾向にあり、塗膜性の点でQ3 構造とQ4 構造のバランスが重要になる。この点から、Q3 /Q4 比は0.1〜0.6の範囲が好ましい。 In order to obtain good film formability, it is necessary for SiO 2 to form an appropriate network structure. The structures of Q 0 , Q 1 , and Q 2 are point or linear bonds and do not form a network structure. It also tends to dissolve in water. The Q 3 and Q 4 structures form a network structure, but the Q 4 structure alone tends to be rigid, and the balance between the Q 3 structure and the Q 4 structure is important in terms of coating properties. In this respect, the Q 3 / Q 4 ratio is preferably in the range of 0.1 to 0.6.

すなわち、シリカ成分によるネットワーク構造の形成による耐久性(たとえば、耐水性、耐候性等)の向上の観点から、Q0 、Q1 およびQ2 構造は少ないことが好ましい。Q0 、Q1 およびQ2 の中でも、Q0 とQ1 の存在量はそれぞれQ2 の半分以下であるので、これらを代表してQ2 構造の相対量を表すと、Q2 構造の相対量は5%以下が好ましい。また、シリカ成分間の長距離ネットワーク構造形成による塗膜性の向上の観点から、Q4 構造が過剰な割合で存在しないことが好ましい。本発明においては、シリカ分散液の塗膜性と耐久性の両特性の向上の観点から、Qn 構造個々の存在割合の最適条件を見出した。それによりシリカ成分の化学的構造の最適化を達成することができ、塗膜性と耐久性に非常に優れたシリカ分散液の提供が可能となった。 That is, from the viewpoint of improving durability (for example, water resistance, weather resistance, etc.) by forming a network structure with a silica component, it is preferable that the Q 0 , Q 1, and Q 2 structures are small. Q 0, among the Q 1 and Q 2, since the presence of Q 0 and Q 1 is not more than half Q 2 'each, to represent the relative amounts of these are representative Q 2 structure, the relative Q 2' Structure The amount is preferably 5% or less. Further, from the viewpoint of improving the coating property by forming a long-distance network structure between silica components, it is preferable that the Q 4 structure does not exist in an excessive ratio. In the present invention, from the viewpoint of improving both the coating properties and durability of the silica dispersion, the optimum conditions for the existence ratio of individual Q n structures were found. As a result, the chemical structure of the silica component can be optimized, and a silica dispersion having excellent coating properties and durability can be provided.

さらに、本発明のシリカ分散液中に分散している固形分粒子(固形分粒子は実質的にシリカ成分からなる)の平均粒径は、シリカ分散液の塗膜性と耐久性の両特性の向上の観点から、0.01〜0.8μmの範囲にあるのが好ましく、0.05〜0.5μmの範囲にあるのがより好ましく、0.05〜0.2μmの範囲にあるのがさらに好ましい。固形分粒子の平均粒径は、通常、0.01μm以上あればよく、シリカ成分のネットワーク構造形成による塗膜の耐久性の向上の観点から0.05μm以上が好ましく、塗膜の均一性の向上の観点から0.8μm以下が好ましい。なお、固形分粒子の平均粒径は、たとえば、レーザー回折式粒径分布測定装置(堀場製作所製LA−920)にて、循環速度4、超音波強度7、超音波時間1分、相対屈折率1.1の条件でシリカ分散液を測定することにより得られる。   Further, the average particle size of the solid particles dispersed in the silica dispersion of the present invention (the solid particles are substantially composed of a silica component) is determined by both the coating properties and durability of the silica dispersion. From the viewpoint of improvement, it is preferably in the range of 0.01 to 0.8 μm, more preferably in the range of 0.05 to 0.5 μm, and further in the range of 0.05 to 0.2 μm. preferable. The average particle size of the solid content particles is usually 0.01 μm or more, preferably 0.05 μm or more from the viewpoint of improving the durability of the coating film by forming a silica component network structure, and improving the uniformity of the coating film. In view of the above, 0.8 μm or less is preferable. The average particle size of the solid particles is, for example, a laser diffraction particle size distribution measuring device (LA-920 manufactured by Horiba, Ltd.), circulation speed 4, ultrasonic intensity 7, ultrasonic time 1 minute, relative refractive index. It can be obtained by measuring the silica dispersion under the condition 1.1.

また、本発明のシリカ分散液の耐久性をより向上させる観点から、シリカ成分に、形成された塗膜に撥水性を付与しうる性質を持たせるのが好ましい。かかる性質の付与の方法は、特に限定されるものではないが、Si−C結合を形成するSiをシリカ成分中に導入するのが、簡便性及び有効性の観点から、好適である。   Further, from the viewpoint of further improving the durability of the silica dispersion of the present invention, it is preferable that the silica component has a property capable of imparting water repellency to the formed coating film. The method for imparting such properties is not particularly limited, but it is preferable from the viewpoint of simplicity and effectiveness to introduce Si that forms Si—C bonds into the silica component.

本発明のシリカ分散液は耐久性に優れたものであるので、シリカ成分は必ずしもSi−C結合を形成するSiを含まないものであってもよいが、撥水性を塗膜に付与して塗膜の耐久性をより向上させる観点からは、シリカ成分は、Si−C結合を形成するSiを構造単位として含むシリカ成分と、Si−C結合を形成するSiを構造単位として含まないシリカ成分とからなるか、又はSi−C結合を形成するSiを構造単位として含むシリカ成分からなるのが好ましい。   Since the silica dispersion of the present invention is excellent in durability, the silica component may not necessarily contain Si that forms Si—C bonds, but it is applied with water repellency applied to the coating film. From the viewpoint of further improving the durability of the film, the silica component includes a silica component containing Si that forms a Si—C bond as a structural unit, and a silica component that does not contain Si that forms a Si—C bond as a structural unit. Or a silica component containing Si as a structural unit forming a Si—C bond.

具体的には、例えば、本発明のシリカ分散液には、シリカ成分中、形成された塗膜に撥水性を付与する観点から、親水性基と適度な疎水性を付与するアルキル基とをあわせもつ化合物(Si−C結合を有する化合物)を含有させてもよい。また、本発明のシリカ分散液を、それに使用されるシリカゾルと該化合物とを混合後、縮合反応を行って調製してもよい。   Specifically, for example, in the silica dispersion of the present invention, from the viewpoint of imparting water repellency to the formed coating film, a hydrophilic group and an alkyl group imparting appropriate hydrophobicity are combined in the silica component. A compound having a compound (compound having a Si—C bond) may be included. Further, the silica dispersion of the present invention may be prepared by mixing the silica sol used in the silica dispersion and the compound and then performing a condensation reaction.

Si−C結合を有する化合物としては、例えば、アルキルシリコネートやアルキルシラン等が挙げられる。   Examples of the compound having a Si—C bond include alkyl siliconates and alkyl silanes.

たとえば、アルキルシリコネートとしては、下記一般式で表される化合物の使用が好適である。
n −Si−(OM)4-n
式中、nはRのSiとの結合数を示し、1、2または3である。Rはアルキル基を示し、当該アルキル基の炭素数は好ましくは1〜2である。Mは水素原子、アルカリ金属原子のいずれかを示す。具体的に当該化合物を例示すれば、ナトリウムメチルシリコネート〔CH3 Si(OH)2 (ONa)〕やカリウムエチルシリコネート〔C2 5 Si(OH)2 (OK)〕が挙げられる。
For example, as the alkyl siliconate, it is preferable to use a compound represented by the following general formula.
R n -Si- (OM) 4- n
In the formula, n represents the number of bonds of R with Si, and is 1, 2 or 3. R represents an alkyl group, and the alkyl group preferably has 1 to 2 carbon atoms. M represents either a hydrogen atom or an alkali metal atom. Specific examples of the compound include sodium methyl siliconate [CH 3 Si (OH) 2 (ONa)] and potassium ethyl siliconate [C 2 H 5 Si (OH) 2 (OK)].

また、アルキルシランとしては、下記一般式で表される化合物の使用が好適である。
1 −Si(OR2 3
式中、R1 とR2 は同一または異なるアルキル基を示し、R1 の炭素数は好ましくは1〜3、R2 の炭素数は好ましくは1〜2である。具体的に当該化合物を例示すれば、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシラン等が挙げられる。
Further, as the alkylsilane, it is preferable to use a compound represented by the following general formula.
R 1 —Si (OR 2 ) 3
In the formula, R 1 and R 2 represent the same or different alkyl groups, and R 1 preferably has 1 to 3 carbon atoms, and R 2 has preferably 1 to 2 carbon atoms. Specific examples of the compound include methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, decyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltriethoxysilane, and the like. Is mentioned.

Si−C結合を形成するSiのシリカ成分中への導入は、例えば、シリカ分散液の調製時にまたは調製後にアルキルシリコネートを添加して均一に混合することにより行うことができる。アルキルシリコネートの添加量としては、アルキルシリコネート添加前の調製時または調製後のシリカ分散液中のシリカ成分100重量部に対して、好ましくは0.1〜20重量部、より好ましくは1〜10重量部である。また、例えば、アルキルシランを酸(例えば、0.005N塩酸溶液中)もしくはアルカリ(例えば、0.02(v/v)%アンモニア水溶液中)を触媒として縮合反応化後、得られた縮合反応物をシリカ分散液の調製時にまたは調製後に均一に混合することにより行うことができる。縮合反応物の添加量としては、縮合反応物添加前の調製時または調製後のシリカ分散液中のシリカ成分100重量部に対して、好ましくは0.1〜20重量部、より好ましくは1〜10重量部である。さらに、例えば、上記縮合反応物を市販の水ガラスと混合後、脱アルカリ処理することによっても行うことができる。縮合反応物の添加量としては、水ガラス中のシリカ成分100重量部に対して、好ましくは0.1〜20重量部、より好ましくは1〜10重量部である。このようにして得られるSi−C結合を形成するSiを含有してなるシリカ分散液は、その乾燥膜が撥水性を示し、塗膜の耐久性がより向上する。   Introduction of Si that forms Si—C bonds into the silica component can be carried out, for example, by adding an alkylsiliconate at the time of preparing the silica dispersion or after the preparation and mixing them uniformly. The addition amount of the alkyl siliconate is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silica component in the silica dispersion at the time of preparation before addition of the alkyl siliconate or after preparation. 10 parts by weight. Also, for example, a condensation reaction product obtained by subjecting alkylsilane to a condensation reaction using an acid (for example, 0.005N hydrochloric acid solution) or an alkali (for example, 0.02 (v / v)% aqueous ammonia) as a catalyst. Can be carried out by mixing uniformly during or after the preparation of the silica dispersion. The addition amount of the condensation reaction product is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silica component in the silica dispersion during preparation before or after the addition of the condensation reaction product. 10 parts by weight. Further, for example, the condensation reaction product can be mixed with a commercially available water glass and then subjected to dealkalization treatment. The addition amount of the condensation reaction product is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the silica component in the water glass. In the silica dispersion containing Si that forms Si—C bonds obtained in this way, the dry film exhibits water repellency, and the durability of the coating film is further improved.

シリカ分散液がSi−C結合を形成するSiを含有してなる場合、Si−C結合を形成するSiの含有量としては、該シリカ分散液に含まれる全Si中、好ましくは0.01〜30モル%、より好ましくは0.01〜10モル%、さらに好ましくは0.1〜5モル%である。   When the silica dispersion contains Si that forms a Si—C bond, the content of Si that forms a Si—C bond is preferably 0.01 to the total Si contained in the silica dispersion. 30 mol%, More preferably, it is 0.01-10 mol%, More preferably, it is 0.1-5 mol%.

かかる場合の、全Si中のSi−C結合を形成するSiの含有量は、例えば、以下の方法により測定することができる。   In such a case, the content of Si that forms Si—C bonds in the total Si can be measured, for example, by the following method.

すなわち、シリカ分散液を25℃で72時間維持して媒質を除去した乾燥物を29Si−NMR測定に供する。ここで、29Si−NMRによるスペクトルの帰属において、Si−C結合を形成するSi(R−SiO3 ;Rはアルキル基を示す)の化学シフトは−40〜−70ppmの範囲にあり、Si−O結合のみを形成するSi(SiO4 )の化学シフトは−65〜−115ppmの範囲にあり、両ピークは分離して帰属が可能である〔Encyclopedia of nuclear magnetic resonance, Vol.7, pp4386-4398; John Wiley & Sons Ltd. (1996) 〕。そこで、両Siに帰属されるシグナルの総面積(全Siに帰属されるシグナルの面積)の内の、Si−C結合を形成するSiに帰属されるシグナルの面積の割合(P)を以下の式: That is, the silica dispersion is maintained at 25 ° C. for 72 hours, and the dried product from which the medium has been removed is subjected to 29 Si-NMR measurement. Here, in the assignment of the spectrum by 29 Si-NMR, the chemical shift of Si (R—SiO 3 ; R represents an alkyl group) forming a Si—C bond is in the range of −40 to −70 ppm. The chemical shift of Si (SiO 4 ) that forms only O bonds is in the range of −65 to −115 ppm, and both peaks can be separated and assigned [Encyclopedia of nuclear magnetic resonance, Vol. 7, pp4386-4398. John Wiley & Sons Ltd. (1996)]. Therefore, the ratio (P) of the area of signals attributed to Si that forms Si—C bonds in the total area of signals attributed to both Si (area of signals attributed to all Si) is expressed as follows. formula:

Figure 0004462605
Figure 0004462605

により求める。Pの値は、全Siを100モル%とした場合の、全Si中のSi−C結合を形成するSiの割合(モル%)の値に相当するので、Pを求めることにより全Si中のSi−C結合を形成するSiの含有量(モル%)が得られる。 Ask for. The value of P corresponds to the value of the ratio (mol%) of Si that forms Si—C bonds in the total Si when the total Si is 100 mol%. The content (mol%) of Si that forms Si—C bonds is obtained.

なお、本発明のシリカ分散液がSi−C結合を形成するSiを含有してなる場合には、シリカ分散液中の固形分の含有量としては、好ましくは5〜30重量%である。   In addition, when the silica dispersion liquid of this invention contains Si which forms a Si-C bond, as solid content in a silica dispersion liquid, Preferably it is 5 to 30 weight%.

本発明のシリカ分散液としては、その基材への浸透性の向上の観点から、界面活性剤および/またはアルコールを含むものが好適である。   As the silica dispersion of the present invention, those containing a surfactant and / or alcohol are preferable from the viewpoint of improving the permeability to the substrate.

界面活性剤としては、陽イオン型界面活性剤、陰イオン型界面活性剤、両性型界面活性剤、非イオン型界面活性剤のいずれを用いてもよい。陽イオン型界面活性剤としては、たとえば、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレン付加アルコール硫酸塩、硫酸アルキル塩が好ましく、陰イオン型界面活性剤としては、たとえば、アルキルエーテル硫酸ナトリウム塩、アルキルトリメチルアンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩が好ましく、両性型界面活性剤としては、たとえば、アルキルカルボキシベタイン、アルキルスルホベタインが好ましく、非イオン型界面活性剤としては、たとえば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、脂肪酸ジエタノールアミドが好ましい。なお、前記アルキルとしては炭素数6〜22のものが好ましく、炭素数8〜14のものがより好ましい。   As the surfactant, any of a cationic surfactant, an anionic surfactant, an amphoteric surfactant, and a nonionic surfactant may be used. As the cationic surfactant, for example, linear alkylbenzene sulfonate, polyoxyethylene addition alcohol sulfate, and alkyl sulfate are preferable, and as the anionic surfactant, for example, alkyl ether sulfate sodium salt, alkyl sulfate. Trimethylammonium salts and alkylpyridinium salts are preferable. Examples of amphoteric surfactants include alkylcarboxybetaines and alkylsulfobetaines. Examples of nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers and polyoxyethylenes. Alkyl phenyl ether and fatty acid diethanolamide are preferred. In addition, as said alkyl, a C6-C22 thing is preferable and a C8-C14 thing is more preferable.

アルコールは親水性のものであればいずれも使用可能であり、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。   Any alcohol can be used as long as it is hydrophilic, and examples thereof include methanol, ethanol, normal propanol, and isopropanol.

界面活性剤および/またはアルコールのシリカ分散液中の含有量としては、0.01〜10重量%が好ましく、0.1〜1重量%がより好ましい。   The content of the surfactant and / or alcohol in the silica dispersion is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight.

さらに本発明のシリカ分散液には、用途や所望する機能に応じて種々のセラミックス粉末および/または着色顔料を含有させてもよい。   Further, the ceramic dispersion of the present invention may contain various ceramic powders and / or color pigments depending on the application and desired function.

セラミックス粉末の種類は特に限定しないが、 たとえば、アルミナ、 マグネシア、 ジルコニア、 チタニア、 酸化鉄、 酸化亜鉛、 シリカ、 マイカ、タルク等の酸化物、 スピネル、 ペロブスカイト等の結晶系をもつ複酸化物、 炭化ケイ素、 炭化チタン、 炭化ホウ素、 窒化ホウ素、 窒化ケイ素、 窒化アルミニウム等の非酸化物の粉末が挙げられ、それらの少なくとも1種が好適に使用される。着色顔料の種類は特に限定しないが、無機顔料、有機顔料、蓄光顔料等の使用が好適である。   The type of ceramic powder is not particularly limited. For example, alumina, magnesia, zirconia, titania, iron oxide, zinc oxide, silica, mica, talc and other oxides, spinel, perovskite and other double oxides, carbonized Non-oxide powders such as silicon, titanium carbide, boron carbide, boron nitride, silicon nitride, and aluminum nitride are listed, and at least one of them is preferably used. Although the kind of coloring pigment is not specifically limited, use of an inorganic pigment, an organic pigment, a phosphorescent pigment, etc. is suitable.

セラミックス粉末および着色顔料の平均粒径としては、その分散性の観点から、0.01〜100μmが好ましい。当該平均粒径は前記固形分粒子の場合と同様にして測定することができる。   The average particle diameter of the ceramic powder and the color pigment is preferably 0.01 to 100 μm from the viewpoint of dispersibility. The average particle diameter can be measured in the same manner as in the case of the solid particles.

セラミックス粉末および/または着色顔料のシリカ分散液中の含有量としては、0.01〜10重量%が好ましく、0.1〜5重量%がより好ましい。   The content of the ceramic powder and / or the color pigment in the silica dispersion is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

本発明のシリカ分散液は、シリカゾルを調製後、固形分含有量および該固形分中のシリカ成分含有量が所定の割合となるように、当該ゾルを適宜混合し、さらに所望によりその他の成分を添加、混合することにより調製することができる。本発明のシリカ分散液は、たとえば、シリカゾルを得た後、当該ゾルにアルカリケイ酸塩水溶液またはアルカリ金属塩水溶液を添加、混合して調製するのが好ましい。アルカリケイ酸塩として、例えば、ナトリウムケイ酸塩、カリウムケイ酸塩、リチウムケイ酸塩等が挙げられる。シリカ分散液の媒質となる水は、本発明の所望の効果の発現を阻害しない限り特に限定されるものではなく、たとえば、水道水、蒸留水、イオン交換水等の任意の水を使用することができる。   In the silica dispersion of the present invention, after preparing the silica sol, the sol is appropriately mixed so that the solid content and the silica component content in the solid content are in a predetermined ratio, and other components are optionally added. It can be prepared by adding and mixing. The silica dispersion of the present invention is preferably prepared, for example, by obtaining a silica sol and then adding and mixing an alkali silicate aqueous solution or an alkali metal salt aqueous solution to the sol. Examples of the alkali silicate include sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like. The water used as the medium of the silica dispersion is not particularly limited as long as it does not inhibit the expression of the desired effect of the present invention. For example, any water such as tap water, distilled water, ion-exchanged water, etc. should be used. Can do.

シリカゾルの調製は、たとえば、「無機化学全書」(丸善発行、1986年)p292に記載の方法により行うことができる。シリカゾルの製法としては、種々の方法が提案されており、アルカリケイ酸塩の中和法、イオン交換法、四塩化ケイ素の加水分解法等が報告されている。本発明のシリカゾルの調製はこれらの製法のいずれを用いても可能である。   The silica sol can be prepared, for example, by the method described in “Inorganic Chemistry Complete Book” (Maruzen, 1986) p292. Various methods for producing a silica sol have been proposed, and a method for neutralizing an alkali silicate, an ion exchange method, a method for hydrolyzing silicon tetrachloride, and the like have been reported. The silica sol of the present invention can be prepared using any of these production methods.

例えば、(a)濃度が5(w/v)%であるナトリウムケイ酸塩水溶液を水素型陽イオン交換樹脂と接触させて脱アルカリすることによりケイ酸液を調製し、(b)このケイ酸液に塩酸を加え、pH 2.5以下、温度0 〜90℃の条件でケイ酸液を酸処理し、(c)得られた酸性ケイ酸コロイド液中の不純物を分画分子量500 〜10000 の限外ろ過膜にて除去してオリゴケイ酸溶液を調製し、(d)このオリゴケイ酸溶液の一部にアンモニア水を加え、pH 7〜10で60〜90℃の温度に加熱しながら、(e)オリゴケイ酸溶液の残部を、徐々に滴下することによりシリカゾルを調製することができる。一方、(a)〜(c)までの工程により得られたオリゴケイ酸溶液に対して、(d’)その一部にアンモニア水を加え、pH 7〜10で90〜150 ℃の温度に加熱しながら、(e’)オリゴケイ酸溶液の残部を、徐々に滴下することによってもシリカゾルを調製することができる。   For example, (a) a silicic acid solution is prepared by bringing a sodium silicate aqueous solution having a concentration of 5 (w / v)% into contact with a hydrogen-type cation exchange resin to dealkalize, and (b) the silicic acid solution. Hydrochloric acid is added to the solution, and the silicate solution is acid-treated at a pH of 2.5 or less and at a temperature of 0 to 90 ° C. (E) Oligosilicate solution was prepared by adding ammonia water to a part of this oligosilicate solution and heating to a temperature of 60-90 ° C. at pH 7-10. Silica sol can be prepared by gradually dropping the remainder of the acid solution. On the other hand, to the oligosilicic acid solution obtained by the steps (a) to (c), (d ′) ammonia water is added to a part thereof, and the mixture is heated to a temperature of 90 to 150 ° C. at pH 7 to 10. However, the silica sol can also be prepared by gradually dropping the remainder of the (e ′) oligosilicic acid solution.

シリカゾルとしては、さらに市販のシリカゾル(例えば、市販の水ガラス)をそのまま用いることもできる。本発明に使用するシリカゾルのシリカ濃度としては、好ましくは5〜60重量%、より好ましくは10〜45重量%である。   As the silica sol, a commercially available silica sol (for example, a commercially available water glass) can be used as it is. The silica concentration of the silica sol used in the present invention is preferably 5 to 60% by weight, more preferably 10 to 45% by weight.

シリカ成分に対し前記したような所望の化学的構造を付与する観点から、たとえば、シリカ分散液の調製過程において、シリカゾルを得た後、該ゾルにアルカリケイ酸塩の添加を行い、この際、得られる混合液のpHを10〜11.4の範囲内に調整するのが好ましい。シリカ成分をゲル化させない観点からは局所的にもこのpHの範囲を外れないように調整するのが好ましく、たとえば、アルカリケイ酸塩の添加では、任意の量の水との混合物としてシリカゾルに添加するのが好ましい。pHの調整は、このように水を用いて適宜希釈することにより行うことが可能であるが、たとえば、前述した3B族、4B族、5B族元素を含む酸等を用いて行ってもよい。   From the viewpoint of imparting the desired chemical structure as described above to the silica component, for example, in the process of preparing a silica dispersion, after obtaining a silica sol, an alkali silicate is added to the sol, It is preferable to adjust the pH of the resulting mixture to a range of 10 to 11.4. From the viewpoint of preventing the gelation of the silica component, it is preferable to adjust the pH range so as not to deviate locally. For example, when adding an alkali silicate, it is added to the silica sol as a mixture with an arbitrary amount of water. It is preferable to do this. The pH can be adjusted by appropriately diluting with water as described above. For example, the pH may be adjusted using an acid containing a group 3B, 4B, or 5B element described above.

また、本発明のシリカ分散液の別の製造方法としては、ケイ砂、水およびアルカリ金属含有化合物を含んでなる混合物を水熱処理し、前記ケイ砂を溶解する工程を含む製造方法が挙げられる。本発明のシリカ分散液は、例えば、ケイ砂、アルカリ金属含有化合物および水を混合後、水熱処理によって該ケイ砂を溶解することにより、または、ケイ砂、アルカリ金属含有化合物および水を混合後、水熱処理し、次いで焼成することで得られる無水ケイ酸アルカリを所望により粉砕後、再度水熱処理によって該ケイ砂を溶解することにより得られ得る。この際、例えば、水とケイ砂の量を調整することにより、固形分やシリカ成分の含有量を所望のものにすることができる。   Moreover, as another manufacturing method of the silica dispersion liquid of this invention, the manufacturing method including the process of hydrothermally treating the mixture containing silica sand, water, and an alkali metal containing compound, and melt | dissolving the said silica sand is mentioned. The silica dispersion of the present invention is prepared by, for example, mixing silica sand, an alkali metal-containing compound and water and then dissolving the silica sand by hydrothermal treatment, or after mixing silica sand, an alkali metal-containing compound and water, Anhydrous alkali silicate obtained by hydrothermal treatment and then calcination can be obtained by optionally crushing and then dissolving the silica sand again by hydrothermal treatment. At this time, for example, by adjusting the amounts of water and silica sand, the solid content and the content of the silica component can be made desired.

ケイ砂のSiO2 含有量は、好ましくは90重量%以上、より好ましくは95重量%以上、特に好ましくは97重量%以上である。ケイ砂の形状、平均粒径などは特に限定されない。ケイ砂としては、例えば、オーストラリア産のパールサンドおよびフラッタリーサンド、インドネシア産のサラワクサンド、ケイ石を粉砕したケイ砂などが挙げられる。 The SiO 2 content of the silica sand is preferably 90% by weight or more, more preferably 95% by weight or more, and particularly preferably 97% by weight or more. The shape and average particle diameter of the silica sand are not particularly limited. Examples of the quartz sand include Australian pearl sand and flattery sand, Indonesian sarawak sand, and quartz sand crushed quartz stone.

アルカリ金属含有化合物としては、例えば、アルカリ金属原子の水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩などが挙げられ、アルカリ金属原子としてはナトリウムが好適である。アルカリ金属含有化合物の好適な例としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、硝酸ナトリウム、硫酸ナトリウムが挙げられる。   Examples of the alkali metal-containing compound include hydroxides, carbonates, nitrates, and sulfates of alkali metal atoms, and sodium is preferable as the alkali metal atom. Preferable examples of the alkali metal-containing compound include sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium nitrate, and sodium sulfate.

本明細書にいう水熱処理とは、例えば、ニッケル坩堝において、アルカリ水溶液中、加圧下でケイ砂を溶解する操作をいい、圧力条件は、好ましくは0.5〜1.8MPaであり、より好ましくは0.7〜1.7MPaであり、特に好ましくは0.9〜1.7MPaである。処理温度は、好ましくは150〜220℃であり、より好ましくは160〜200℃であり、特に好ましくは170〜200℃であり、処理時間は特に限定されないが、好ましくは1〜24時間である。   Hydrothermal treatment as used herein refers to, for example, an operation of dissolving silica sand under pressure in an alkaline aqueous solution in a nickel crucible, and the pressure condition is preferably 0.5 to 1.8 MPa, more preferably. Is 0.7 to 1.7 MPa, particularly preferably 0.9 to 1.7 MPa. The treatment temperature is preferably 150 to 220 ° C, more preferably 160 to 200 ° C, particularly preferably 170 to 200 ° C, and the treatment time is not particularly limited, but is preferably 1 to 24 hours.

焼成の方法としては、通常、公知の方法が用いられ、好ましくは300〜1500℃、より好ましくは500〜1300℃の範囲で焼成する方法が挙げられる。加熱時間は、通常0.1〜24時間である。このような焼成は、通常、電気炉、ガス炉などの加熱炉で行うことができる。   As a firing method, a known method is usually used, and a method of firing in a range of preferably 300 to 1500 ° C., more preferably 500 to 1300 ° C. is exemplified. The heating time is usually 0.1 to 24 hours. Such firing can usually be performed in a heating furnace such as an electric furnace or a gas furnace.

焼成後、得られた無水ケイ酸アルカリは所望により粉砕され、所定の粒度に調整される。粉砕には、例えば、ボールミル、ローラーミルなどの粉砕機が用いられる。   After calcination, the obtained anhydrous alkali silicate is pulverized as required and adjusted to a predetermined particle size. For the pulverization, for example, a pulverizer such as a ball mill or a roller mill is used.

なお、固形分粒子の平均粒径の調整は、たとえば、シリカゾル調整時の熟成温度、熟成時間の制御やアルカリケイ酸塩等の添加時にpH、添加濃度を適宜制御することにより行うことができる。   In addition, adjustment of the average particle diameter of solid content particle | grains can be performed by controlling pH and addition density | concentration suitably at the time of aging temperature at the time of silica sol adjustment, aging time control, addition of alkali silicate etc., for example.

前記したその他の種々の成分は、たとえば、シリカゾルへのアルカリケイ酸塩等の添加の際同時に、もしくは添加後、シリカゾルに適宜添加して混合すればよい。   The various other components described above may be appropriately added to and mixed with the silica sol at the same time or after the addition of the alkali silicate or the like to the silica sol, for example.

本発明のシリカ分散液は以上のようにして調製することができ、得られたシリカ分散液は水系の媒質に固形分粒子が均一に分散したゾルを形成する。   The silica dispersion of the present invention can be prepared as described above, and the obtained silica dispersion forms a sol in which solid particles are uniformly dispersed in an aqueous medium.

得られたシリカ分散液は、無機系基材、有機系基材、金属材等の種々の基材表面のコーティングのための、コーティング材または含浸材として優れたものであり、基材表面に塗工して使用される。無機系基材としては、たとえば、コンクリート、ガラスが、有機系基材としては、たとえば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、シリコン樹脂が、金属材としては、たとえば、メッキ鋼板が挙げられる。これらの内、特に無機系基材に適している。   The obtained silica dispersion is excellent as a coating material or impregnating material for coating on the surface of various base materials such as inorganic base materials, organic base materials and metal materials, and is applied to the surface of the base material. Used after work. Examples of the inorganic base material include concrete and glass, examples of the organic base material include acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, and silicon resin. Examples of the metal material include a plated steel plate. It is done. Of these, particularly suitable for inorganic base materials.

本発明のシリカ分散液の基材上への塗工は、刷毛塗り法、ローラー法、噴霧法、 吹き付け法、含浸法、充填法等の公知の方法から選択される、用途に応じた好適な方法により施工可能である。施工後、適宜乾燥、 養生することにより、基材表面に良好な塗膜(コーティング膜)が形成される。コーティング膜の形成は、基材表面の、および/または基材中に一部含浸したシリカ分散液の乾燥に伴って形成される主としてシリカ成分によるネットワーク構造の発達により生ずる。コーティング膜の形成は、基材の耐久性の向上に寄与する。   Coating of the silica dispersion of the present invention on the substrate is selected from known methods such as a brush coating method, a roller method, a spraying method, a spraying method, an impregnation method, and a filling method, and is suitable for the application. Construction is possible by the method. A good coating film (coating film) is formed on the surface of the base material by drying and curing appropriately after the construction. The formation of the coating film is caused by the development of a network structure mainly due to the silica component formed on the surface of the base material and / or with the drying of the silica dispersion partially impregnated in the base material. Formation of the coating film contributes to improvement of durability of the substrate.

本発明は、本発明のシリカ分散液を基材上に上記施工法のいずれか、たとえば、刷毛塗り法で塗工した後、室温にて乾燥、養生して得られるコーティング膜をも提供する。該コーティング膜は、耐水性、耐候性等に優れ、従って、耐久性に優れたものである。本発明のコーティング膜の高耐水性を利用して、たとえば、コンクリートの硫酸化防止、塩素化防止が可能である。また、該コーティング膜はガスバリアー能に優れており、たとえば、コンクリート表面にコーティング膜が形成された場合、当該コンクリートの中性化防止効果が発揮される。二酸化炭素等の防ガス効果も高く、かかる性質はコンクリートの中性化防止に寄与する。   The present invention also provides a coating film obtained by applying the silica dispersion of the present invention on a substrate by any of the above-mentioned construction methods, for example, a brush coating method, followed by drying and curing at room temperature. The coating film is excellent in water resistance, weather resistance and the like, and therefore has excellent durability. By utilizing the high water resistance of the coating film of the present invention, for example, it is possible to prevent sulfation and chlorination of concrete. The coating film is excellent in gas barrier ability. For example, when a coating film is formed on the concrete surface, the effect of preventing the neutralization of the concrete is exhibited. The gas-proofing effect of carbon dioxide etc. is also high, and this property contributes to the prevention of the neutralization of concrete.

また、本発明のシリカ分散液からなるコーティング膜は無機多孔体の吸水抑制効果を有する。従って、本発明は、その一態様として、無機多孔体吸水抑制剤をも提供する。無機多孔体としては、コンクリート、モルタル、軽量骨材等を含む。当該抑制剤は本発明のシリカ分散液からなり、その使用方法もシリカ分散液の場合に準じればよい。骨材、特に再生骨材に対しては含浸法により塗工するのが好適であり、コーティング膜の形成により、該骨材の吸水量が低下する。それゆえ、本発明の無機多孔体吸水抑制剤の使用は骨材の耐久性の向上に寄与する。   Moreover, the coating film which consists of a silica dispersion liquid of this invention has the water absorption suppression effect of an inorganic porous body. Therefore, this invention also provides the inorganic porous body water absorption inhibitor as one aspect thereof. Inorganic porous materials include concrete, mortar, lightweight aggregates and the like. The said inhibitor consists of the silica dispersion liquid of this invention, and the usage method should just follow the case of a silica dispersion liquid. It is preferable to apply an impregnation method to an aggregate, particularly a recycled aggregate, and the water absorption of the aggregate decreases due to the formation of a coating film. Therefore, the use of the inorganic porous material water absorption inhibitor of the present invention contributes to the improvement of the durability of the aggregate.

以下においては特段の事情がないかぎり「部」および「%」は重量基準である。   In the following, unless otherwise specified, “part” and “%” are based on weight.

シリカ分散液の調製には、以下の市販品(日産化学社製、スノーテックスシリーズ)を用いた。
(a)−1液:一次粒径 1〜30nmのコロイド粒子を含むシリカゾル
(a)−2液:一次粒径30〜100nm のコロイド粒子を含むシリカゾル
The following commercially available products (manufactured by Nissan Chemical Co., Snowtex series) were used for the preparation of the silica dispersion.
(A) -1 solution: silica sol containing colloidal particles having a primary particle size of 1 to 30 nm (a) -2 solution: silica sol containing colloidal particles having a primary particle size of 30 to 100 nm

(a)−1液および(a)−2液の最終的なシリカ濃度はイオン交換水を用いて適宜希釈することにより20%に調整した。   The final silica concentrations of (a) -1 solution and (a) -2 solution were adjusted to 20% by appropriately diluting with ion-exchanged water.

実施例1
市販のナトリウムケイ酸塩(3号水ガラス:ケイ素化合物30%、ナトリウム化合物10%;大阪珪曹株式会社製)5 部およびイオン交換水5 部を混合後、上記(a)−2液100 部に添加して試験液を調製した。本試験液の固形分含有量は20%、該固形分中のシリカ成分含有量は98%であった。また、Q2 構造の相対量は1%、Q3 /Q4 比は0.47であり、固形分粒子の平均粒径は0.12μmであった。
Example 1
After mixing 5 parts of commercially available sodium silicate (No. 3 water glass: silicon compound 30%, sodium compound 10%; manufactured by Osaka Silica Co., Ltd.) and 5 parts of ion-exchanged water, 100 parts of the above (a) -2 solution To prepare a test solution. The solid content of this test solution was 20%, and the silica component content in the solid was 98%. The relative amount of the Q 2 structure was 1%, the Q 3 / Q 4 ratio was 0.47, and the average particle size of the solid content particles was 0.12 μm.

実施例2
市販のナトリウムケイ酸塩(3号水ガラス)5 部およびイオン交換水5 部を混合後、上記(a)−1液50部と(a)−2液50部の混合液に添加して試験液を調製した。本試験液の固形分含有量は20%、該固形分中のシリカ成分含有量は98%であった。また、Q2 構造の相対量は0%、Q3 /Q4 比は0.47であり、固形分粒子の平均粒径は0.11μmであった。
Example 2
After mixing 5 parts of commercially available sodium silicate (No. 3 water glass) and 5 parts of ion-exchanged water, it was added to the mixed solution of the above (a) -1 solution and (a) -2 solution 50 parts and tested. A liquid was prepared. The solid content of this test solution was 20%, and the silica component content in the solid was 98%. The relative amount of the Q 2 structure was 0%, the Q 3 / Q 4 ratio was 0.47, and the average particle size of the solid content particles was 0.11 μm.

実施例3
市販のナトリウムケイ酸塩(3号水ガラス)10部およびイオン交換水10部を混合後、上記(a)−1液50部と(a)−2液50部の混合液に添加して試験液を調製した。本試験液の固形分含有量は19%、該固形分中のシリカ成分含有量は98%であった。また、Q2 構造の相対量は3%、Q3 /Q4 比は0.48であり、固形分粒子の平均粒径は0.11μmであった。
Example 3
After mixing 10 parts of commercially available sodium silicate (No. 3 water glass) and 10 parts of ion-exchanged water, it was added to the above mixed solution of 50 parts of (a) -1 and 50 parts of (a) -2 and tested. A liquid was prepared. The solid content of this test solution was 19%, and the silica component content in the solid content was 98%. The relative amount of the Q 2 structure was 3%, the Q 3 / Q 4 ratio was 0.48, and the average particle size of the solid content particles was 0.11 μm.

実施例4
陰イオン型界面活性剤ラウリルエーテル硫酸ナトリウム(商品名:エマール20C;花王株式会社製)を有効分として100 ppmおよびイソプロパノール5000ppmを混合後、実施例2記載のシリカ分散液に添加して試験液を調製した。
Example 4
An anionic surfactant sodium lauryl ether sulfate (trade name: EMAL 20C; manufactured by Kao Corporation) was mixed with 100 ppm and 5000 ppm isopropanol, and then added to the silica dispersion described in Example 2 to prepare a test solution. Prepared.

実施例5
実施例2記載のシリカ分散液にMgO粉末2%を添加後、超音波分散機にて均一分散して試験液を調製した。
Example 5
After adding 2% of MgO powder to the silica dispersion described in Example 2, it was uniformly dispersed with an ultrasonic disperser to prepare a test solution.

実施例6
市販のナトリウムケイ酸塩(3号水ガラス)5 部およびイオン交換水5 部を混合後、上記(a)−1液100 部に添加して試験液を調製した。本試験液の固形分含有量は20%、該固形分中のシリカ成分含有量は98%であった。また、Q2 構造の相対量は0%、Q3 /Q4 比は0.69であり、固形分粒子の平均粒径は0.26μmであった。
Example 6
After mixing 5 parts of commercially available sodium silicate (No. 3 water glass) and 5 parts of ion exchange water, it was added to 100 parts of the above (a) -1 solution to prepare a test solution. The solid content of this test solution was 20%, and the silica component content in the solid was 98%. The relative amount of the Q 2 structure was 0%, the Q 3 / Q 4 ratio was 0.69, and the average particle size of the solid content particles was 0.26 μm.

実施例7
市販のナトリウムケイ酸塩(3号水ガラス)5 部およびイオン交換水5 部を混合後、市販のコロイダルシリカ(商品名:スフェリカスラリー550;触媒化成工業社製)100 部に添加して試験液を調製した。本試験液の固形分含有量は20%、該固形分中のシリカ成分含有量は98%であった。また、Q2 構造の相対量は0%、Q3 /Q4 比は0.15であり、固形分粒子の平均粒径は0.65μmであった。
Example 7
After mixing 5 parts of commercially available sodium silicate (No. 3 water glass) and 5 parts of ion-exchanged water, it was added to 100 parts of commercially available colloidal silica (trade name: Spherica Slurry 550, manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) for testing. A liquid was prepared. The solid content of this test solution was 20%, and the silica component content in the solid was 98%. The relative amount of the Q 2 structure was 0%, the Q 3 / Q 4 ratio was 0.15, and the average particle size of the solid content particles was 0.65 μm.

実施例1〜7のシリカ分散液のpHは10〜11.4の範囲にあり、均一な分散液が得られた。   The pH of the silica dispersions of Examples 1 to 7 was in the range of 10 to 11.4, and uniform dispersions were obtained.

比較例1
上記(a)−1液をそのまま試験液とした。本試験液の固形分含有量は20%、該固形分中のシリカ成分含有量は99.3%であった。また、該試験液のpHは9.7であった。
Comparative Example 1
Said (a) -1 liquid was made into the test liquid as it was. The solid content of this test solution was 20%, and the silica component content in the solid content was 99.3%. The pH of the test solution was 9.7.

比較例2
市販のナトリウムケイ酸塩(3号水ガラス)50部とイオン交換水50部を混合して試験液を調製した。本試験液の固形分含有量は20%、該固形分中のシリカ成分含有量は75%であった。また、該試験液のpHは11.5であった。
Comparative Example 2
A test solution was prepared by mixing 50 parts of commercially available sodium silicate (No. 3 water glass) and 50 parts of ion-exchanged water. The solid content of this test solution was 20%, and the silica component content in the solid was 75%. The pH of the test solution was 11.5.

比較例3
ナトリウムケイ酸塩5部を上記(a)−2液100部に混合した後、イオン交換水5部を混合した以外は実施例1と同一条件で調製した。しかし、ゲルを生じ均一な分散液とはならず、以後の評価は行わなかった。
Comparative Example 3
It was prepared under the same conditions as in Example 1 except that 5 parts of sodium silicate was mixed with 100 parts of the above-mentioned (a) -2 solution and then 5 parts of ion-exchanged water was mixed. However, a gel was formed and a uniform dispersion was not obtained, and no subsequent evaluation was performed.

試験例1 塗膜性試験
実施例1〜7および比較例1〜2で得られた各試験液の塗膜性(製膜性)を評価した。すなわち、該試験液約0.1gをガラス板(25mm×75mm)上に刷毛塗り法にて塗工し、乾燥後の製膜状態を、光学顕微鏡による観察下、目視により以下の評価基準に基づいて評価し、塗膜性の評価とした。各試験液の塗膜性試験の結果を表1に示す。
Test Example 1 Coating Film Property Test The coating property (film forming property) of each test solution obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 was evaluated. That is, about 0.1 g of the test solution was applied on a glass plate (25 mm × 75 mm) by a brush coating method, and the film formation state after drying was visually observed based on the following evaluation criteria under an optical microscope. To evaluate the coating properties. Table 1 shows the results of the coating property test of each test solution.

〔評価基準〕
◎: 十分な製膜性を示し、 亀裂なし
○: 製膜性はあるが、 やや亀裂あり(幅1mm内に5本以上の亀裂あり)
△: 製膜性がなく、 亀裂あり
〔Evaluation criteria〕
◎: Demonstrate sufficient film formation, no cracks ○: Film formation, but some cracks (5 or more cracks within 1mm width)
△: No film-forming property and crack

試験例2 耐水性試験
実施例1〜7および比較例1〜2で得られた各試験液を用いて形成された塗膜の耐水性を評価した。すなわち、該試験液約0.1gをガラス板(25mm×75mm)上に刷毛塗り法にて塗工し、乾燥後、得られた膜を水中に24時間浸漬し、ガラス板上に残存する膜量を、光学顕微鏡による観察下、目視により以下の評価基準に基づいて評価し、耐水性の評価とした。各試験液により得られた塗膜の耐水性試験の結果を表1に示す。
Test Example 2 Water Resistance Test The water resistance of the coating film formed using each test solution obtained in Examples 1-7 and Comparative Examples 1-2 was evaluated. That is, about 0.1 g of the test solution was applied onto a glass plate (25 mm × 75 mm) by a brush coating method, and after drying, the obtained film was immersed in water for 24 hours, and the film remaining on the glass plate The amount was evaluated by visual observation based on the following evaluation criteria under observation with an optical microscope, and was evaluated as water resistance. Table 1 shows the results of the water resistance test of the coating film obtained with each test solution.

〔評価基準〕
◎:ほぼ残存する(80%以上残存する)
○:半分以上残存する
△:ほぼ溶解する(50%以上溶解する)
〔Evaluation criteria〕
A: Almost remaining (80% or more remains)
○: Half or more remaining Δ: Almost dissolved (50% or more dissolved)

Figure 0004462605
Figure 0004462605

表1の結果より、実施例1〜7で得られた試験液は、比較例1〜2で得られた試験液と比較して、いずれも良好な塗膜性を示し、また、塗膜は優れた耐水性を示すことが分かる。図1に実施例2の試験液(本発明のシリカ分散液)と比較例1の試験液(比較組成物)をそれぞれ用いて得られた塗膜の状態(倍率50倍)を示す。   From the results of Table 1, the test solutions obtained in Examples 1 to 7 all showed good coating properties as compared with the test solutions obtained in Comparative Examples 1 and 2, and the coating films were It turns out that it shows the outstanding water resistance. FIG. 1 shows the state of a coating film (50 times magnification) obtained using the test liquid of Example 2 (silica dispersion of the present invention) and the test liquid of Comparative Example 1 (comparative composition), respectively.

試験例3 吸水抑制能試験
実施例1〜7および比較例1〜2で得られた各試験液を用いて形成された塗膜の吸水抑制能を評価した。すなわち、平均粒径0.2mm の標準砂(山口県豊浦産)、普通ポルトランドセメントおよび水を1 :1 :0.3 の割合(重量比)で配合し、直径5cm 、高さ0.5cm のモルタル試供体を作製し、各試験液中に5分間浸漬後引き上げ、室温にて24時間の乾燥を行った。乾燥後、モルタル試供体をイオン交換水中に30分間浸漬した。イオン交換水中への浸漬前後でのモルタル試供体の重量変化率を吸水率として求め、当該吸水率により吸水抑制能を評価した。吸水率が低い程、吸水抑制能に優れる。なお、ブランクとして、試験液に浸漬しないモルタル試供体についてもイオン交換水中への浸漬前後で吸水率を求めた。各試験液により得られた塗膜の吸水抑制能試験の結果を表2に示す。
Test Example 3 Water Absorption Inhibiting Capacity Test The water absorption inhibiting ability of the coating film formed using each test solution obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 2 was evaluated. In other words, standard sand (Toyoura, Yamaguchi Prefecture) with an average particle size of 0.2mm, ordinary Portland cement and water were blended in a ratio (weight ratio) of 1: 1: 0.3, and a mortar specimen with a diameter of 5cm and a height of 0.5cm was prepared. It was prepared, dipped in each test solution for 5 minutes, then pulled up and dried at room temperature for 24 hours. After drying, the mortar specimen was immersed in ion exchange water for 30 minutes. The rate of weight change of the mortar specimen before and after immersion in ion-exchanged water was determined as the water absorption rate, and the water absorption inhibiting ability was evaluated based on the water absorption rate. The lower the water absorption rate, the better the water absorption suppressing ability. In addition, the water absorption rate was calculated | required before and after immersion in ion-exchange water also about the mortar specimen which is not immersed in a test liquid as a blank. Table 2 shows the results of the water absorption inhibiting ability test of the coating film obtained with each test solution.

Figure 0004462605
Figure 0004462605

表2の結果より、実施例1〜7で得られた試験液は、比較例1〜2で得られた試験液と比較して、得られる塗膜が優れた吸水抑制能を示すことが分かる。特に実施例4で得られた試験液からなる塗膜において著しい吸水抑制能が認められた。   From the results of Table 2, it can be seen that the test liquids obtained in Examples 1 to 7 have excellent water absorption suppression ability as compared with the test liquids obtained in Comparative Examples 1 and 2. . In particular, in the coating film made of the test solution obtained in Example 4, remarkable water absorption suppression ability was recognized.

実施例8
Si−C結合を有する化合物としてナトリウムメチルシリコネート(化学式:CH5 NaO 3 Si)を使用した。実施例2記載のシリカ分散液100部に対し、攪拌下、30%ナトリウムメチルシリコネート水溶液を3.1部添加、混合し、ナトリウムメチルシリコネート含有シリカ分散液を調製した。該シリカ分散液の固形分含有量は21%、該固形分中のシリカ成分含有量は98%であった。Q2 構造の相対量は0%、Q3 /Q4 比は0.47であり、固形分粒子の平均粒径は0.11μmであった。また、当該シリカ分散液において、Si−C結合を形成するSiの含有量は、全Si中、2.3モル%であった。
Example 8
Sodium methyl siliconate (chemical formula: CH 5 NaO 3 Si) was used as a compound having a Si—C bond. To 100 parts of the silica dispersion described in Example 2, 3.1 parts of a 30% aqueous solution of sodium methylsiliconate was added and mixed with stirring to prepare a sodium methylsiliconate-containing silica dispersion. The solid content of the silica dispersion was 21%, and the silica component content in the solid was 98%. The relative amount of the Q 2 structure was 0%, the Q 3 / Q 4 ratio was 0.47, and the average particle size of the solid content particles was 0.11 μm. Moreover, in the said silica dispersion liquid, content of Si which forms a Si-C bond was 2.3 mol% in all the Si.

試験例1と同じ条件で塗膜性試験を行った処、ガラス板上の成膜性は良好(◎)であった。また、試験例1と同じ条件で得られたガラス板上の乾燥膜と水との接触角を接触角測定装置(協和界面科学株式会社製)により測定した。表3に、実施例2のシリカ分散液の場合と比較して、乾燥膜形成直後からのガラス板上の乾燥膜と水との接触角の経時変化を示す。   When the film property test was performed under the same conditions as in Test Example 1, the film formability on the glass plate was good (◎). Further, the contact angle between the dry film on the glass plate obtained under the same conditions as in Test Example 1 and water was measured with a contact angle measuring device (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Table 3 shows the change over time in the contact angle between the dry film on the glass plate and water immediately after the formation of the dry film, as compared with the case of the silica dispersion of Example 2.

Figure 0004462605
Figure 0004462605

さらに、試験例3で作製したモルタル試供体表面上にシリカ分散液約0.2gを刷毛塗り法にて塗布した後1日乾燥後に接触角を測定した。表4に、実施例2のシリカ分散液の場合および未塗布の場合と比較して、その結果を示す。   Furthermore, about 0.2 g of a silica dispersion was applied to the surface of the mortar specimen prepared in Test Example 3 by a brush coating method, and the contact angle was measured after drying for 1 day. Table 4 shows the results compared with the case of the silica dispersion of Example 2 and the case of no application.

Figure 0004462605
Figure 0004462605

表3の結果より、シリカ分散液にナトリウムメチルシリコネートを含有させることで乾燥膜の撥水性が持続的に向上することが分かる。本試験では、1時間までの撥水性の持続を観察したが、かかる撥水性は塗膜が消失するまで保持される。また、表4の結果より、乾燥膜の撥水性は、該乾燥膜がモルタル試供体表面上に形成された場合であっても同様に発揮されることが分かる。それゆえ、例えば、コンクリート表面上に耐久性に優れる撥水膜を形成することにより、コンクリートの耐久性向上が期待できる。   From the results of Table 3, it can be seen that the water repellency of the dry film is continuously improved by adding sodium methylsiliconate to the silica dispersion. In this test, the persistence of water repellency up to 1 hour was observed, but this water repellency is maintained until the coating disappears. Moreover, it can be seen from the results in Table 4 that the water repellency of the dry film is exhibited even when the dry film is formed on the surface of the mortar specimen. Therefore, for example, by forming a water-repellent film having excellent durability on the concrete surface, the durability of the concrete can be expected to be improved.

本発明により、 種々の基材表面のコーティングのための、コーティング材または含浸材として好適に使用される、塗膜性および形成された塗膜の耐久性に優れる水系シリカ分散液が提供される。   INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, there is provided an aqueous silica dispersion excellent in coating properties and durability of a formed coating film, which is suitably used as a coating material or an impregnation material for coating various substrate surfaces.

図1は、実施例2の試験液(本発明のシリカ分散液)と比較例1の試験液(比較組成物)をそれぞれ用いて得られた、ガラス板上に形成された塗膜の状態を示す光学顕微鏡写真(倍率50倍)である。FIG. 1 shows the state of a coating film formed on a glass plate obtained using the test liquid of Example 2 (silica dispersion of the present invention) and the test liquid of Comparative Example 1 (comparative composition), respectively. It is the optical micrograph shown (magnification 50 times).

Claims (6)

固形分の含有量が5〜75重量%であり、該固形分中のシリカ成分の含有量が97〜99重量%である水系シリカ分散液からなる無機多孔体吸水抑制剤An inorganic porous body water absorption inhibitor comprising an aqueous silica dispersion having a solid content of 5 to 75% by weight and a silica component content of 97 to 99% by weight in the solid content. シリカ成分の29Si−NMRによるスペクトルの帰属において、Qn (n=0〜4)構造を示すシグナルの総面積に対するQ2 構造を示すシグナルの面積の割合が5%以下であり、Q3 構造を示すシグナルの面積とQ4 構造を示すシグナルの面積との比が0.1≦Q3 /Q4 ≦0.6である請求項1記載の無機多孔体吸水抑制剤In the attribution of the spectrum by 29 Si-NMR of the silica component, the ratio of the area of the signal indicating the Q 2 structure to the total area of the signal indicating the Q n (n = 0 to 4) structure is 5% or less, and the Q 3 structure 2. The inorganic porous body water absorption inhibitor according to claim 1, wherein the ratio of the area of the signal indicating Q 2 and the area of the signal indicating Q 4 structure is 0.1 ≦ Q 3 / Q 4 ≦ 0.6. 固形分粒子の平均粒径が0.01〜0.8μmの範囲にある請求項1または2記載の無機多孔体吸水抑制剤The inorganic porous body water absorption inhibitor according to claim 1 or 2, wherein the average particle size of the solid particles is in the range of 0.01 to 0.8 µm. シリカ成分がSi−C結合を形成するSi及び/又はSi−C結合を形成しないSiを含有してなるものであり、Si−C結合を形成するSiを含有してなる場合、Si−C結合を形成するSiの含有量が全Si中の0.01〜30モル%である、請求項1〜3いずれか記載の無機多孔体吸水抑制剤When the silica component contains Si that forms a Si—C bond and / or Si that does not form a Si—C bond, and contains Si that forms a Si—C bond, the Si—C bond The inorganic porous body water-absorption inhibitor according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of Si that forms bismuth is 0.01 to 30 mol% in the total Si. 界面活性剤および/またはアルコールをさらに含有してなる請求項1〜4いずれか記載の無機多孔体吸水抑制剤。 The inorganic porous body water absorption inhibitor according to any one of claims 1 to 4, further comprising a surfactant and / or an alcohol . セラミックス粉末および/または着色顔料をさらに含有してなる請求項1〜5いずれか記載の無機多孔体吸水抑制剤The inorganic porous body water absorption inhibitor according to any one of claims 1 to 5, further comprising ceramic powder and / or a color pigment.
JP2003306801A 2002-08-30 2003-08-29 Aqueous silica dispersion Expired - Fee Related JP4462605B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003306801A JP4462605B2 (en) 2002-08-30 2003-08-29 Aqueous silica dispersion

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002254402 2002-08-30
JP2003306801A JP4462605B2 (en) 2002-08-30 2003-08-29 Aqueous silica dispersion

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004107204A JP2004107204A (en) 2004-04-08
JP4462605B2 true JP4462605B2 (en) 2010-05-12

Family

ID=32301361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003306801A Expired - Fee Related JP4462605B2 (en) 2002-08-30 2003-08-29 Aqueous silica dispersion

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4462605B2 (en)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4751034B2 (en) * 2004-05-27 2011-08-17 エスケー化研株式会社 Water-dispersible resin and water-based coating composition
JP2008127513A (en) * 2006-11-24 2008-06-05 Kikusui Chemical Industries Co Ltd Hydrophilic inorganic paint
JP4689645B2 (en) * 2007-08-10 2011-05-25 株式会社ソフト99コーポレーション Non-smooth surface antifouling composition
JP5348400B2 (en) * 2008-09-05 2013-11-20 Jsr株式会社 Silica particle dispersion and method for producing the same
DE102009049032B3 (en) * 2009-10-10 2011-03-24 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Process for producing a coated component of quartz glass
JP5860587B2 (en) * 2010-11-25 2016-02-16 日揮触媒化成株式会社 Polishing silica sol, polishing composition, and method for producing polishing silica sol
JP6305007B2 (en) * 2013-10-18 2018-04-04 新日鉄住金マテリアルズ株式会社 Spherical amorphous silica particles, method for producing the same, and resin composition containing the same
WO2021024923A1 (en) * 2019-08-07 2021-02-11 パナソニックIpマネジメント株式会社 Resin composition, prepreg, resin-equipped film, resin-equipped metal foil, metal-cladded layered sheet, and wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004107204A (en) 2004-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008526658A (en) Coating system
JP5818285B1 (en) A sericite finishing composition for indoor building containing non-toxic adhesive components
JP2013537163A (en) Use of compounds containing aluminum oxide and silicon oxide to produce hydrophilic building materials
Pan et al. Interactions between inorganic surface treatment agents and matrix of Portland cement-based materials
KR101337346B1 (en) Flooring coating composition for concreate structure, method of manufacturing theirof and flooring coating method
KR100852392B1 (en) The membrane technique with ceramic liquid binder for enhancing durability performance of concrete and steel structures
JP2010524823A (en) Light weight additive, its production method and use
JP4462605B2 (en) Aqueous silica dispersion
Girginova et al. Inorganic nanomaterials for restoration of cultural heritage: synthesis approaches towards nanoconsolidants for stone and wall paintings
JP2009051687A (en) Flaky tungsten oxide, tungsten oxide film, their manufacturing methods and their use
KR101464933B1 (en) Composition for stabilizing asbestos and treatment method for suppressing asbestos scattering
Cruz-Moreno et al. Multifunctional surfaces of portland cement-based materials developed with functionalized silicon-based nanoparticles
KR20140119319A (en) Inorganic aqueous binder and inorganic aqueous adhesive comprising the same
WO2019111768A1 (en) Impregnating agent for concrete
CN113388275A (en) Modified lithium-based concrete sealing curing agent and preparation method thereof
KR101102134B1 (en) Method For Manufacturing Inorganic Ceramic Agent For Preventing Concrete From Deteriorating With Eco-friendly Property
JP2004315343A (en) Silica-dispersed liquid
WO2012035456A1 (en) White screed having high light reflection, spot resistance and easy cleanability
RU2610046C2 (en) Porous article and method of producing thereof
KR100838242B1 (en) Closing materials for construction including infiltrative impregnation and aqueous coating agent and construction method using the same
KR101225500B1 (en) Room temperature curing type water-soluable inorganic painting composition having excellent water-resistance and method for preparing the same
JP2002211988A (en) Coating composition for calcium-based inorganic base material and method of producing colored calcium-based inorganic base material using the same
AU770262B2 (en) Method for protecting and consolidating calcareous materials
KR20130059750A (en) Waterproofing cement composition and its manufacturing method
JPH0867579A (en) Agent for improving hardened strength of cement and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051214

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20081222

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081225

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090220

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100212

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100215

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130226

Year of fee payment: 3

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4462605

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140226

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees