JP4447943B2 - Radiation imaging apparatus and control method thereof - Google Patents

Radiation imaging apparatus and control method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP4447943B2
JP4447943B2 JP2004071172A JP2004071172A JP4447943B2 JP 4447943 B2 JP4447943 B2 JP 4447943B2 JP 2004071172 A JP2004071172 A JP 2004071172A JP 2004071172 A JP2004071172 A JP 2004071172A JP 4447943 B2 JP4447943 B2 JP 4447943B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
photoelectric conversion
output
conversion element
radiation imaging
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004071172A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005260707A5 (en
JP2005260707A (en
Inventor
克郎 竹中
朋之 八木
忠夫 遠藤
登志男 亀島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2004071172A priority Critical patent/JP4447943B2/en
Publication of JP2005260707A publication Critical patent/JP2005260707A/en
Publication of JP2005260707A5 publication Critical patent/JP2005260707A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4447943B2 publication Critical patent/JP4447943B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Description

本発明は、X線撮像装置に好適な放射線撮像装置及びその制御方法に関する。   The present invention relates to a radiation imaging apparatus suitable for an X-ray imaging apparatus and a control method thereof.

従来、病院内などに設置されているX線撮影システムは、患者にX線を照射させ、患者を透過したX線をフィルムに露光するフィルム撮影方式と、患者を透過したX線を電気信号に変換してディジタル画像処理をする画像処理方式とがある。   Conventionally, an X-ray imaging system installed in a hospital or the like has a film imaging system in which a patient is irradiated with X-rays and X-rays transmitted through the patient are exposed on a film, and X-rays transmitted through the patient are converted into electrical signals. There is an image processing system that performs digital image processing after conversion.

画像処理方式のひとつに、X線を可視光に変換する蛍光体と可視光を電気信号に変換する光電変換装置とで構成された放射線撮像装置がある。患者を透過したX線が、蛍光体に照射され、そこで可視光に変換された患者の体内情報を光電変換装置により電気信号として出力する。電気信号に変換されればADコンバータでディジタル変換し、記録、表示、印刷、診断などを行うためのX線画像情報はディジタル値として扱うことが出来る。   One of the image processing methods is a radiation imaging apparatus including a phosphor that converts X-rays into visible light and a photoelectric conversion device that converts visible light into electric signals. X-rays transmitted through the patient are irradiated onto the phosphor, and the in-vivo information of the patient converted into visible light there is output as an electrical signal by the photoelectric conversion device. If converted into an electric signal, it is converted into an digital signal by an AD converter, and X-ray image information for recording, display, printing, diagnosis, etc. can be handled as a digital value.

最近では、光電変換装置にアモルファスシリコン半導体薄膜を用いた放射線撮像装置が実用化されている。   Recently, a radiation imaging apparatus using an amorphous silicon semiconductor thin film for a photoelectric conversion device has been put into practical use.

図12は、MIS型光電変換素子とスイッチ素子の材料にアモルファスシリコン半導体薄膜を用いて構成した従来の光電変換基板の上面図であり、それらを結線する配線を含めて表している。図13は、図12中のI−I線に沿った断面図である。以後の説明では、簡単化のために、MIS型光電変換素子は、単に光電変換素子と呼ぶことにする。   FIG. 12 is a top view of a conventional photoelectric conversion substrate configured by using an amorphous silicon semiconductor thin film as a material for the MIS type photoelectric conversion element and the switch element, and also includes wirings for connecting them. 13 is a cross-sectional view taken along the line II in FIG. In the following description, for the sake of simplicity, the MIS photoelectric conversion element is simply referred to as a photoelectric conversion element.

光電変換素子101及びスイッチ素子102(アモルファスシリコンTFT、以下単にTFTと記す)は同一基板103上に形成されており、光電変換素子の下部電極は、TFTの下部電極(ゲート電極)と同一の第1の金属薄膜層104で共有されており、光電変換素子の上部電極は、TFTの上部電極(ソース電極、ドレイン電極)と同一の第2の金属薄膜層105で共有されている。また、第1及び第2の金属薄膜層は、光電変換回路部内の、ゲート駆動用配線106、マトリクス信号配線107も共有している。図12においては、画素数として2×2の計4画素分が記載されている。図12のハッチング部は、光電変換素子の受光面である。109は光電変換素子にバイアスを与える電源ラインである。また、110は光電変換素子とTFTを接続するためのコンタクトホールである。   The photoelectric conversion element 101 and the switch element 102 (amorphous silicon TFT, hereinafter simply referred to as TFT) are formed on the same substrate 103, and the lower electrode of the photoelectric conversion element is the same as the lower electrode (gate electrode) of the TFT. The upper electrode of the photoelectric conversion element is shared by the same second metal thin film layer 105 as the upper electrode (source electrode, drain electrode) of the TFT. The first and second metal thin film layers also share the gate driving wiring 106 and the matrix signal wiring 107 in the photoelectric conversion circuit section. In FIG. 12, a total of 4 pixels of 2 × 2 is described as the number of pixels. The hatched portion in FIG. 12 is a light receiving surface of the photoelectric conversion element. Reference numeral 109 denotes a power supply line for applying a bias to the photoelectric conversion element. Reference numeral 110 denotes a contact hole for connecting the photoelectric conversion element and the TFT.

アモルファスシリコン半導体を主たる材料にした図12で示されるような構成を用いれば、光電変換素子、スイッチ素子、ゲート駆動用配線、マトリクス信号配線を、同一基板上に同時に作製することができ、大面積の光電変換回路部が容易に、しかも安価に提供することができる。   If the structure as shown in FIG. 12 using an amorphous silicon semiconductor as a main material is used, a photoelectric conversion element, a switch element, a gate driving wiring, and a matrix signal wiring can be simultaneously manufactured on the same substrate, and a large area This photoelectric conversion circuit portion can be provided easily and inexpensively.

次に、光電変換素子単体のデバイス動作について説明する。図14(a)〜(c)は、図12及び図13に示す光電変換素子のデバイス動作を説明するためのエネルギーバンド図である。本光電変換素子には、第1及び第2の金属薄膜層104及び105への電圧の印加の仕方によりリフレッシュモードと光電変換モードという2種類の動作モードがある。   Next, device operation of a single photoelectric conversion element will be described. 14A to 14C are energy band diagrams for explaining the device operation of the photoelectric conversion element shown in FIGS. 12 and 13. This photoelectric conversion element has two types of operation modes, a refresh mode and a photoelectric conversion mode, depending on how the voltage is applied to the first and second metal thin film layers 104 and 105.

図14(a)、(b)は、それぞれリフレッシュモード、光電変換モードの動作を示しており、図13で示される各層の膜厚方向の状態を表している。M1は第1の金属薄膜層104(例えばCr)で形成された下部電極(G電極)である。アモルファス窒化シリコン(a−SiNx)層111は、電子、ホール共にその通過を阻止する絶縁層であり、トンネル効果をもたらさない程度の厚さが必要であり、通常500オングストローム以上に設定される。水素化アモルファスシリコン(a−Si:H)層112は意図的にドーパントをドープしていない真性半導体層(i層)で形成された光電変換半導体層である。N+層113は、a−Si:H層112へのホールの注入を阻止するために形成されたN型a−Si:H層等の非単結晶半導体からなる単一導電型キャリアの注入阻止層である。また、M2は第2金属薄膜層105(例えばAl)で形成される上部電極(D電極)である。 FIGS. 14A and 14B show the operation in the refresh mode and the photoelectric conversion mode, respectively, and show the state in the film thickness direction of each layer shown in FIG. M1 is a lower electrode (G electrode) formed of the first metal thin film layer 104 (for example, Cr). The amorphous silicon nitride (a-SiNx) layer 111 is an insulating layer that blocks the passage of both electrons and holes. The amorphous silicon nitride (a-SiNx) layer 111 needs to have a thickness that does not cause a tunnel effect, and is usually set to 500 angstroms or more. The hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) layer 112 is a photoelectric conversion semiconductor layer formed of an intrinsic semiconductor layer (i layer) that is not intentionally doped with a dopant. The N + layer 113 prevents injection of a single conductivity type carrier made of a non-single-crystal semiconductor such as an N-type a-Si: H layer formed to prevent injection of holes into the a-Si: H layer 112. Is a layer. M2 is an upper electrode (D electrode) formed of the second metal thin film layer 105 (for example, Al).

図12では、D電極はN+層を完全には覆っていないが、D電極とN+層との間は電子の移動が自由に行われるためD電極とN+層は常に同電位であり、以下の説明は、そのことを前提としている。 In Figure 12, the D electrode is not completely cover the N + layer, the D electrode and the N + layer for between the the electron transfer is freely performed between the D electrode and the N + layer is always at the same potential The following explanation assumes that.

リフレッシュモードを示す図14(a)において、D電極はG電極に対して負の電位が与えられており、i層(a−Si:H)中の黒丸(●)で示されたホールは電界によりD電極に導かれる。同時に白丸(○)で示された電子はi層に注入される。この時、一部のホール及び電子はN+層又はi層において互いに再結合して消滅する。十分に長い時間この状態が続けば、i層内のホールはi層から掃き出される。 In FIG. 14A showing the refresh mode, the D electrode is given a negative potential with respect to the G electrode, and the hole indicated by the black circle (●) in the i layer (a-Si: H) is an electric field. To the D electrode. At the same time, electrons indicated by white circles (◯) are injected into the i layer. At this time, some holes and electrons recombine with each other in the N + layer or i layer and disappear. If this state continues for a sufficiently long time, the holes in the i layer are swept out of the i layer.

この状態から光電変換モードを示す図14(b)にするためには、D電極にG電極に対し正の電位を与える。すると、i層中の電子は瞬時にD電極に導かれる。しかし、N+層が注入阻止層として働くため、ホールがi層に導かれることはない。この状態でi層に光が入射すると、i層に光が吸収されて電子−ホール対が発生する。そして、電子は電界によりD電極に導かれ、一方、ホールはi層内を移動してi層とa−SiNx絶縁層との界面に達する。このとき、ホールはa−SiNx絶縁層内までは移動できないため、i層内に留まることになる。このように、電子はD電極に移動し、ホールはi層内の絶縁層との界面に移動するため、光電変換素子内の電気的中性を保つために電流がG電極から流れる。この電流の大きさは、光の入射により発生した電子−ホール対に対応するため、入射した光の量に比例する。 In FIG. 14B showing the photoelectric conversion mode from this state, a positive potential is applied to the D electrode with respect to the G electrode. Then, the electrons in the i layer are instantaneously guided to the D electrode. However, since the N + layer functions as an injection blocking layer, holes are not guided to the i layer. When light enters the i layer in this state, the light is absorbed in the i layer and electron-hole pairs are generated. Electrons are guided to the D electrode by an electric field, while holes move in the i layer and reach the interface between the i layer and the a-SiNx insulating layer. At this time, since the hole cannot move into the a-SiNx insulating layer, it remains in the i layer. Thus, electrons move to the D electrode and holes move to the interface with the insulating layer in the i layer, so that a current flows from the G electrode in order to maintain electrical neutrality in the photoelectric conversion element. Since the magnitude of this current corresponds to the electron-hole pair generated by the incidence of light, it is proportional to the amount of incident light.

そして、光電変換モードである図14(b)の状態がある期間だけ保たれた後、再びリフレッシュモードの図14(a)の状態になると、i層に留まっていたホールは前述のようにD電極に導かれ、同時にこのホールに対応した電流が流れる。このホールの量は光電変換モード期間中に入射した光の総量に対応する。この時、i層内に注入される電子の量に対応した電流も流れるが、この量はおよそ一定なため、差し引いて検出すればよい。つまり、この光電変換素子はリアルタイムに入射する光の量を出力すると同時に、ある期間に入射した光の総量も検出することができる。   Then, after the state of FIG. 14B in the photoelectric conversion mode is maintained for a certain period and then in the state of FIG. 14A in the refresh mode again, the holes remaining in the i layer are D as described above. At the same time, a current corresponding to this hole flows. The amount of holes corresponds to the total amount of light incident during the photoelectric conversion mode. At this time, a current corresponding to the amount of electrons injected into the i layer also flows, but since this amount is approximately constant, it may be detected by subtracting. That is, this photoelectric conversion element outputs the amount of light incident in real time, and at the same time can detect the total amount of light incident during a certain period.

但し、何らかの理由により光電変換モードの期間が長くなった場合や入射する光の照度が強い場合、光の入射があるにもかかわらず電流が流れないことがある。これは、図14(c)に示すように、光電変換モード中にi層内にホールが多数留まり、このホールのためi層内の電界が小さくなり、発生した電子がD電極に導かれなくなり、i層内でホールと再結合してしまうからである。この状態は光電変換素子の飽和状態と称される。この状態で光の入射の状態が変化すると、電流が不安定に流れることもあるが、再びリフレッシュモードにすればi層内のホールは掃き出され次の光電変換モードでは再び光に比例した電流が流れる。   However, when the period of the photoelectric conversion mode becomes longer for some reason or when the illuminance of incident light is strong, current may not flow even though light is incident. This is because, as shown in FIG. 14C, a large number of holes remain in the i layer during the photoelectric conversion mode, and the electric field in the i layer decreases due to the holes, and the generated electrons are not guided to the D electrode. This is because they recombine with holes in the i layer. This state is called a saturated state of the photoelectric conversion element. If the light incident state changes in this state, the current may flow in an unstable manner. However, if the refresh mode is set again, the holes in the i layer are swept away and the current proportional to the light is again used in the next photoelectric conversion mode. Flows.

このような従来の放射線撮像装置を用いたX線撮影では、先ず、光電変換素子をリフレッシュモードとして、リフレッシュ動作を行う、次に、光電変換素子を光電変換モードとした上でX線を照射し、そして、読み出し動作を行うことにより、1枚の静止画像を取得している。また、連続した動画像を取得しようとする場合には、これらの一連の処理を取得したい動画の枚数分だけ繰り返し行えばよい。   In X-ray imaging using such a conventional radiation imaging apparatus, first, the photoelectric conversion element is set to the refresh mode to perform a refresh operation, and then the photoelectric conversion element is set to the photoelectric conversion mode and X-rays are irradiated. Then, a single still image is acquired by performing a read operation. In order to acquire continuous moving images, these series of processes may be repeated for the number of moving images to be acquired.

ここで、動画像の撮影方法について説明する。図15は、動画像撮影時の動作を示すタイムチャートである。   Here, a method for capturing a moving image will be described. FIG. 15 is a time chart showing the operation during moving image shooting.

先ず、撮影前にリフレッシュ動作R1を行い、i層内のホールキャリアを掃き出し、光電変換ができる状態にする。次に、X線をパルス状に照射する。ここでは、一例として、パルスを4回照射するものとする。X1が1回目のパルス照射を示しており、X2が2回目、X3が3回目、X4が4回目を示している。また、X線の照射後には、読み出し動作及びA/D変換を行う。ここでの読み出し動作とは、光電変換素子のリセット、スイッチ素子のオン、画像データのサンプルホールド及び画像データの転送による読み出し動作を示している。F1が1回目のX線照射X1後の読み出し及びA/D変換を示しており、F2が2回目のX線照射X2後の読み出し読み出し及びA/D変換を示し、F3が3回目のX線照射X3に対応し、F4が4回目のX線照射X4に対応している。つまり、図15に示す例では、総計で4回のX線照射、読み出し及びA/D変換のサイクルを繰り返している。   First, a refresh operation R1 is performed before photographing to sweep out hole carriers in the i layer so that photoelectric conversion can be performed. Next, X-rays are irradiated in pulses. Here, as an example, the pulse is irradiated four times. X1 indicates the first pulse irradiation, X2 indicates the second time, X3 indicates the third time, and X4 indicates the fourth time. Further, after the X-ray irradiation, a reading operation and A / D conversion are performed. Here, the read operation indicates a read operation by resetting a photoelectric conversion element, turning on a switch element, sample-holding image data, and transferring image data. F1 indicates readout and A / D conversion after the first X-ray irradiation X1, F2 indicates readout readout and A / D conversion after the second X-ray irradiation X2, and F3 indicates the third X-ray irradiation. Corresponding to the irradiation X3, F4 corresponds to the fourth X-ray irradiation X4. That is, in the example shown in FIG. 15, a total of four cycles of X-ray irradiation, readout, and A / D conversion are repeated.

読み出し動作及びA/D変換後には、画像データのメモリへの書き込み動作、及びオフセット補正等の画像処理動作F1’〜F4’を行い、その後、ディスプレイに画像を表示する(表示D1〜D4)。   After the read operation and A / D conversion, image data write operation to the memory and image processing operations F1 'to F4' such as offset correction are performed, and then the image is displayed on the display (displays D1 to D4).

このような1連の動作に関し、従来のMIS型光電変換素子を用いた動画撮影では、必ず数〜数十フレーム撮影毎に1回のリフレッシュ動作を行っている。例えば、図15に示す従来例では、4フレーム撮影毎に1回のリフレッシュ動作を行っている。つまり、最初に1回のリフレッシュ動作(R1)を行い、4回X線照射(X1〜X4)を行い、再びリフレッシュ動作(R2)を1回行っている。このようにリフレッシュ動作を行うのは、4回のX線照射により、光電変換素子のi層内にキャリアが充満し、光電変換できなくなっているためであり、リフレッシュ動作を行うことにより、光電変換素子のi層内のキャリアを掃き出しているのである。   With regard to such a series of operations, in a moving image shooting using a conventional MIS type photoelectric conversion element, a refresh operation is always performed once every several to several tens of frames. For example, in the conventional example shown in FIG. 15, a refresh operation is performed once every four frames. That is, first, a refresh operation (R1) is performed, X-ray irradiation (X1 to X4) is performed four times, and a refresh operation (R2) is performed once again. The refresh operation is performed in this way because the i-layer of the photoelectric conversion element is filled with the X-ray irradiation four times and the photoelectric conversion cannot be performed. By performing the refresh operation, the photoelectric conversion is performed. The carriers in the i layer of the element are swept out.

しかしながら、リフレッシュ動作を行うと、その期間にはX線照射を行うことができないため、この期間の分だけ表示を行うことができない。例えば、図15に示す従来例では、表示D4と表示D5との間で画像が途切れている。この結果、MIS型光電変換素子を備えた従来の放射線撮像装置を用いた場合、終始連続した動画撮影を行うことができず、ディスプレイに動画像を表示した際、画面にチラツキが発生していまい、診断しにくいことがある。   However, when the refresh operation is performed, X-ray irradiation cannot be performed during that period, and thus display cannot be performed for this period. For example, in the conventional example shown in FIG. 15, the image is interrupted between the display D4 and the display D5. As a result, when a conventional radiation imaging apparatus including a MIS type photoelectric conversion element is used, continuous moving image shooting cannot be performed all the time, and flickering does not occur on the screen when a moving image is displayed on the display. May be difficult to diagnose.

特開2002−305687号公報JP 2002-305687 A

本発明は、動画像を表示装置に表示させるに当たりチラツキを低減することができる放射線撮像装置及びその制御方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a radiation imaging apparatus capable of reducing flicker when displaying a moving image on a display device, and a control method thereof.

本願発明者は、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、以下に示す発明の諸態様に想到した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has come up with various aspects of the invention described below.

本発明に係る放射線撮像装置は、光電変換素子及びスイッチ素子を含む複数の画素が基板上にアレイ状に配置された光電変換素子アレイと、前記光電変換素子アレイから出力された信号を検出する検出手段と、前記検出手段から出力された信号を表示装置に対して出力する出力手段と、を有し、前記出力手段は連続して前記信号を出力し、前記光電変換素子に留まっていたキャリアを掃き出すためのリフレッシュ動作を行った結果、前記検出手段から信号が出力されてこない期間においては、補間用の信号を出力し、前記補間用の信号を前記表示装置に対して出力するに当たり、前記表示装置にマーキングを行わせることを特徴とする。 The radiation imaging apparatus according to the present invention includes a photoelectric conversion element array in which a plurality of pixels including photoelectric conversion elements and switch elements are arranged in an array on a substrate, and detection for detecting a signal output from the photoelectric conversion element array Means and an output means for outputting the signal output from the detection means to a display device, the output means outputs the signal continuously, and the carrier remaining in the photoelectric conversion element As a result of performing a refresh operation for sweeping out, in a period in which no signal is output from the detection means, an interpolation signal is output, and when the interpolation signal is output to the display device, the display The apparatus is characterized in that marking is performed .

本発明に係る放射線撮像システムは、被検体に放射線を照射する放射線源と、前記被検体を透過した放射線を検出する上記の放射線撮像装置と、前記放射線撮像装置から出力された信号に対して画像処理を施す画像処理手段と、前記画像処理手段により処理された後の画像データを表示する表示手段と、を有することを特徴とする。   A radiation imaging system according to the present invention includes a radiation source that irradiates a subject with radiation, the radiation imaging device that detects radiation transmitted through the subject, and an image with respect to a signal output from the radiation imaging device. The image processing means for performing processing, and display means for displaying the image data processed by the image processing means.

本発明に係る放射線撮像装置の制御方法は、光電変換素子及びスイッチ素子を含む複数の画素が基板上にアレイ状に配置された光電変換素子アレイと、前記光電変換素子アレイから出力された信号を検出する検出手段と、を有する放射線撮像装置を制御する方法であって、前記検出手段から出力された信号を連続して表示装置に対して出力し、前記光電変換素子に留まっていたキャリアを掃き出すためのリフレッシュ動作を行った結果、前記検出手段から信号が出力されてこない期間においては、補間用の信号を出力し、前記補間用の信号を前記表示装置に対して出力するに当たり、前記表示装置にマーキングを行わせることを特徴とする。 The radiation imaging apparatus control method according to the present invention includes a photoelectric conversion element array in which a plurality of pixels including a photoelectric conversion element and a switch element are arranged in an array on a substrate, and a signal output from the photoelectric conversion element array. And detecting means for detecting the radiation imaging apparatus, wherein the signal output from the detection means is continuously output to the display device, and the carrier remaining on the photoelectric conversion element is swept out. As a result of performing a refresh operation for this purpose, during a period when no signal is output from the detection means, an interpolation signal is output, and the interpolation signal is output to the display device. It is characterized in that the marking is performed .

本発明に係るプログラムは、光電変換素子及びスイッチ素子を含む複数の画素が基板上にアレイ状に配置された光電変換素子アレイと、前記光電変換素子アレイから出力された信号を検出する検出手段と、を有する放射線撮像装置をコンピュータに制御させるためのプログラムであって、コンピュータに、前記検出手段から出力された信号を連続して表示装置に対して出力し、前記光電変換素子に留まっていたキャリアを掃き出すためのリフレッシュ動作を行った結果、前記検出手段から信号が出力されてこない期間においては、補間用の信号を出力する処理を行わせ、前記補間用の信号を前記表示装置に対して出力するに当たり、前記表示装置にマーキングを行わせることを特徴とする。 A program according to the present invention includes a photoelectric conversion element array in which a plurality of pixels including a photoelectric conversion element and a switch element are arranged in an array on a substrate, and a detection unit that detects a signal output from the photoelectric conversion element array. , A program for causing a computer to control the radiation imaging apparatus, which continuously outputs a signal output from the detection means to the display device to the computer and remains on the photoelectric conversion element As a result of performing a refresh operation for sweeping out the signal, a process for outputting an interpolation signal is performed in a period in which no signal is output from the detection means, and the interpolation signal is output to the display device. Upon that, it characterized Rukoto to perform the marking on the display device.

本発明によれば、リフレッシュによって画像データが得られない期間においても、補間用の信号が出力されるため、表示装置におけるチラツキを抑え、スムーズな動画像を表示させることができる。   According to the present invention, since an interpolation signal is output even during a period when image data cannot be obtained by refresh, flicker in the display device can be suppressed and a smooth moving image can be displayed.

以下、本発明の実施形態について添付の図面を参照して具体的に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings.

(第1の実施形態)
先ず、本発明の第1の実施形態について説明する。図1は、本発明の実施形態に係る放射線撮像システムの構成を示す模式図である。図1において、201はX線室、202はX線制御室、203は診断室を表している。本X線撮像システムの全体的な動作は、X線制御室202内に備えられたシステム制御部210によって支配される。
(First embodiment)
First, a first embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a radiation imaging system according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 201 denotes an X-ray room, 202 denotes an X-ray control room, and 203 denotes a diagnostic room. The overall operation of the present X-ray imaging system is governed by a system control unit 210 provided in the X-ray control room 202.

X線制御室202内の操作者インターフェース211としては、例えば、ディスプレイ上のタッチパネル、マウス、キーボード、ジョイスティック、フットスイッチ等がある。操作者インターフェース211から撮像条件(静止画、動画、管電圧、管電流、照射時間等)、撮像タイミング、画像処理条件、被検体ID及び取込画像の処理方法等の設定を行うことができる。但し、これらのうちのほとんどの情報は、放射線情報システム(図示せず)から転送されるので、個別に入力しなくてもよい。操作者の重要な作業は、撮影した画像の確認作業である。つまり、アングルが正しいか、患者が動いていないか、画像処理が適切か等の判断を行う。   Examples of the operator interface 211 in the X-ray control room 202 include a touch panel on a display, a mouse, a keyboard, a joystick, and a foot switch. From the operator interface 211, settings such as imaging conditions (still image, moving image, tube voltage, tube current, irradiation time, etc.), imaging timing, image processing conditions, subject ID, and captured image processing method can be set. However, most of these pieces of information are transferred from a radiation information system (not shown) and need not be input individually. An important operation of the operator is a confirmation operation of the captured image. That is, it is determined whether the angle is correct, the patient is not moving, and the image processing is appropriate.

システム制御部210は、操作者205又は放射線情報システム(図示せず)からの指示に基づいた撮像条件を、X線撮像シーケンスを司る撮像制御部214に指示し、データの取り込み動作に入る。撮像制御部214は、その指示に基づき放射線源であるX線発生装置120、撮像用寝台130及び放射線撮像装置140を駆動して画像データを取り込み、画像処理部10に転送する。システム制御部210は、その後、操作者205から指定された画像処理を施してディスプレイ160に表示し、また、オフセット補正及び白補正等の基本画像処理を行った生データを外部記憶装置161に保存する。システム制御部210は、更に、操作者205の指示に基づいて、再画像処理、再生表示、ネットワーク上の装置への画像データの転送・保存、ディスプレイ表示、及びフィルムへの印刷等を行う。   The system control unit 210 instructs an imaging condition based on an instruction from the operator 205 or a radiation information system (not shown) to the imaging control unit 214 that manages the X-ray imaging sequence, and starts a data capturing operation. Based on the instruction, the imaging control unit 214 drives the X-ray generation device 120, the imaging bed 130, and the radiation imaging device 140, which are radiation sources, captures image data, and transfers the image data to the image processing unit 10. Thereafter, the system control unit 210 performs image processing designated by the operator 205 and displays it on the display 160, and saves raw data subjected to basic image processing such as offset correction and white correction in the external storage device 161. To do. The system control unit 210 further performs re-image processing, reproduction display, transfer / storage of image data to a device on the network, display display, printing on a film, and the like based on an instruction from the operator 205.

次に、信号の流れを追って順次説明を加える。   Next, a description will be sequentially added following the flow of signals.

X線発生装置120には、X線管球121とX線絞り123とが含まれる。X線管球121は撮像制御部214に制御された高圧発生電源124によって駆動され、X線ビーム125を放射する。X線絞り123は撮像制御部214により駆動され、撮像領域の変更に伴い、不必要なX線照射を行わないようにX線ビーム125を整形する。X線ビーム125はX線透過性の撮像用寝台130の上に横たわった被検体126に向けられる。撮像用寝台130は、撮像制御部214の指示に基づいて駆動される。X線ビーム125は、被検体126及び撮像用寝台130を透過した後に放射線撮像装置140に照射される。   The X-ray generator 120 includes an X-ray tube 121 and an X-ray diaphragm 123. The X-ray tube 121 is driven by a high voltage generation power source 124 controlled by the imaging control unit 214 and emits an X-ray beam 125. The X-ray diaphragm 123 is driven by the imaging control unit 214, and shapes the X-ray beam 125 so that unnecessary X-ray irradiation is not performed in accordance with the change of the imaging region. The X-ray beam 125 is directed to a subject 126 lying on an X-ray transmissive imaging bed 130. The imaging bed 130 is driven based on an instruction from the imaging control unit 214. The X-ray beam 125 is applied to the radiation imaging apparatus 140 after passing through the subject 126 and the imaging bed 130.

放射線撮像装置140には、グリッド141、蛍光板142、光電変換回路部8、X線露光量モニタ144及び駆動回路145が設けられている。グリッド141は、被検体126を透過することによって生じるX線散乱の影響を低減する。グリッド141は、例えばX線低吸収部材と高吸収部材とから構成されており、例えば、AlとPbとのストライプ構造を備えている。そして、光電変換回路部8とグリッド141との格子比の関係によりモアレが生じないようにX線照射時には撮像制御部214の指示に基づいてグリッド141が振動する。   The radiation imaging apparatus 140 is provided with a grid 141, a fluorescent plate 142, a photoelectric conversion circuit unit 8, an X-ray exposure monitor 144, and a drive circuit 145. The grid 141 reduces the influence of X-ray scattering caused by passing through the subject 126. The grid 141 is composed of, for example, an X-ray low absorption member and a high absorption member, and has, for example, a stripe structure of Al and Pb. Then, the grid 141 vibrates based on an instruction from the imaging control unit 214 at the time of X-ray irradiation so that moire does not occur due to a lattice ratio relationship between the photoelectric conversion circuit unit 8 and the grid 141.

蛍光板142、光電変換素子アレイ(光電変換回路部)8及び駆動回路145は、ディジタルX線撮像装置の構成要素として設けられている。蛍光板142ではエネルギーの高いX線によって蛍光体の母体物質が励起され、再結合する際の再結合エネルギーにより可視領域の蛍光が得られる。その蛍光はCaWo4やCdWO4等の母体自身によるものやCsI:TlやZns:Ag等の母体内に付活された発光中心物質によるものがある。この蛍光板142に隣接して光電変換回路部8が配置されている。この光電変換回路部8は、光子を電気信号に変換する。X線露光量モニタ144はX線透過量を監視するものである。X線露光量モニタ144は、結晶シリコンの受光素子等を用いて直接X線を検出するものであってもよいし、また、蛍光板142からの光を検出するものであってもよい。本実施形態では、光電変換回路部8を透過した可視光(X線量に比例)を光電変換回路部8の基板の裏面に成膜されたアモルファスシリコン受光素子で検知し、撮像制御部214にその情報を送り、撮像制御部214がその情報に基づいて高圧発生電源124を駆動してX線を遮断又は調節する構成としている。駆動回路145は、読み出し回路部及びA/Dコンバータを含んでおり、撮像制御部214の制御下で、光電変換回路部8を駆動し、各画素からアナログ信号を読み出した後、このアナログ信号をディジタル信号に変換する。 The fluorescent plate 142, the photoelectric conversion element array (photoelectric conversion circuit unit) 8, and the drive circuit 145 are provided as components of the digital X-ray imaging apparatus. In the fluorescent plate 142, the host material of the phosphor is excited by high-energy X-rays, and fluorescence in the visible region is obtained by the recombination energy when recombining. The fluorescence may be due to the host itself such as CaWo 4 or CdWO 4, or due to the emission center substance activated in the host body such as CsI: Tl or Zns: Ag. A photoelectric conversion circuit unit 8 is disposed adjacent to the fluorescent plate 142. The photoelectric conversion circuit unit 8 converts photons into electrical signals. The X-ray exposure monitor 144 monitors the X-ray transmission amount. The X-ray exposure monitor 144 may be one that directly detects X-rays using a crystalline silicon light receiving element or the like, or may be one that detects light from the fluorescent plate 142. In the present embodiment, visible light (proportional to the X-ray dose) transmitted through the photoelectric conversion circuit unit 8 is detected by an amorphous silicon light receiving element formed on the back surface of the substrate of the photoelectric conversion circuit unit 8, and the imaging control unit 214 detects the detected light. Information is sent, and the imaging controller 214 drives the high-voltage generating power source 124 based on the information to block or adjust the X-rays. The drive circuit 145 includes a readout circuit unit and an A / D converter. The drive circuit 145 drives the photoelectric conversion circuit unit 8 under the control of the imaging control unit 214, reads out the analog signal from each pixel, and then outputs the analog signal. Convert to digital signal.

放射線撮像装置140からの画像信号は、X線室201からX線制御室202内の画像処理部10へ転送される。この転送の際、X線室201内ではX線発生に伴うノイズが大きくなっていることがある。そこで、画像データがノイズのために正確に転送されない場合も想定されるため、転送路の耐雑音性を高くしておくことが望ましい。例えば、誤り訂正機能をもたせた伝送系にすることや、差動ドライバによるシールド付き対より線や光ファイバによる転送路を用いることが望ましい。画像処理部10は、撮像制御部214の指示に基づき表示データを切り替える。また、画像処理部10は、画像データの補正(オフセット補正、白補正)、空間フィルタリング、リカーシブ処理等をリアルタイムで行い、階調処理、散乱線補正及び各種空間周波数処理等を行うことも可能である。   An image signal from the radiation imaging apparatus 140 is transferred from the X-ray room 201 to the image processing unit 10 in the X-ray control room 202. During this transfer, noise accompanying the generation of X-rays may be increased in the X-ray room 201. Therefore, since it may be assumed that the image data is not accurately transferred due to noise, it is desirable to increase the noise resistance of the transfer path. For example, it is desirable to use a transmission system having an error correction function, or to use a shielded twisted pair wire or a transfer path using an optical fiber. The image processing unit 10 switches display data based on an instruction from the imaging control unit 214. The image processing unit 10 can also perform correction of image data (offset correction, white correction), spatial filtering, recursive processing, and the like in real time, and can perform gradation processing, scattered radiation correction, various spatial frequency processing, and the like. is there.

画像処理部10により処理された画像は、ディスプレイアダプタ151を介してディスプレイ160に表示される。また、リアルタイム画像処理と同時に、データの補正のみが行なわれた基本画像は、外部記憶装置161に保存される。外部記憶装置161としては、大容量、高速かつ高信頼性を満たすデータ保存装置が望ましく、例えば、RAID等のハードディスクアレー等を用いることが望ましい。また、操作者205の指示に基づいて、外部記憶装置161に蓄えられた画像データは外部記憶装置162に保存される。その際、画像データは所定の規格(例えば、IS&C)を満たすように再構成された後に、外部記憶装置162に保存される。外部記憶装置162は、例えば、光磁気ディスクである。また、外部記憶装置162の代わりに、LANボード163を介して接続された診断室203内のファイルサーバ170に備えられたハードディスク等に保存してもよい。そして、診断室203内で画像処理用端末173によって画像データに対して種々の処理を行い、モニタ174に表示することもできる。   The image processed by the image processing unit 10 is displayed on the display 160 via the display adapter 151. In addition, the basic image on which only the data correction is performed simultaneously with the real-time image processing is stored in the external storage device 161. As the external storage device 161, a data storage device satisfying a large capacity, high speed and high reliability is desirable. For example, it is desirable to use a hard disk array such as RAID. Further, the image data stored in the external storage device 161 is stored in the external storage device 162 based on an instruction from the operator 205. At that time, the image data is reconstructed so as to satisfy a predetermined standard (for example, IS & C) and then stored in the external storage device 162. The external storage device 162 is, for example, a magneto-optical disk. Further, instead of the external storage device 162, it may be stored in a hard disk or the like provided in the file server 170 in the diagnosis room 203 connected via the LAN board 163. Various processes can be performed on the image data by the image processing terminal 173 in the diagnosis room 203 and displayed on the monitor 174.

次に、光電変換回路部8及び駆動回路145内の読み出し回路部9について説明する。図2は、光電変換回路部8及び読み出し用回路部の2次元的構成を示す回路図である。但し、説明を簡単化するために3×3=9画素分で記載してある。   Next, the photoelectric conversion circuit unit 8 and the readout circuit unit 9 in the drive circuit 145 will be described. FIG. 2 is a circuit diagram showing a two-dimensional configuration of the photoelectric conversion circuit unit 8 and the readout circuit unit. However, for simplification of description, 3 × 3 = 9 pixels are shown.

図2において、S1−1〜S3−3は光電変換素子、T1−1〜T3−3はスイッチ素子(TFT:Thin Film Transistor)、G1〜G3はTFTをオン/オフさせるためのゲート配線、M1〜M3は信号配線、Vs線は光電変換素子に蓄積バイアスを与えるための配線である。各光電変換素子S1−1〜S3−3の黒く塗りつぶされた側の電極はG電極であり、対向側はD電極である。D電極は、Vs線の一部と接続されているが、光を入射させる都合上、例えば、薄いN+層がD電極として使用される。本実施形態では、光電変換素子S1−1〜S3−3、スイッチ素子T1−1〜T3−3、ゲート配線G1〜G3、信号配線M1〜M3及びVs線が光電変換回路部8に含まれている。Vs線は、電源Vsによりバイアスされる。SR1はゲート配線G1〜G3に駆動用のパルス電圧を与えるシフトレジスタであり、TFTをオンさせる電圧は外部から供給さる。また、制御信号VSCは、光電変換素子のVs線、即ち光電変換素子のD電極に、2種類のバイアスを与えるためのものである。D電極は、制御信号VSCが“Hi”の時にVref(V)になり、“Lo”の時にVs(V)になる。読み取り用電源Vs(V)、リフレッシュ用電源Vref(V)は、夫々直流電源であり、例えば、Vsは9V、Vrefは3Vとする。 In FIG. 2, S1-1 to S3-3 are photoelectric conversion elements, T1-1 to T3-3 are switch elements (TFT: Thin Film Transistor), G1 to G3 are gate wirings for turning on / off the TFT, M1 ˜M3 are signal wirings, and the Vs line is a wiring for applying a storage bias to the photoelectric conversion element. The electrodes on the sides of the photoelectric conversion elements S1-1 to S3-3 that are painted black are G electrodes, and the opposite side is a D electrode. The D electrode is connected to a part of the Vs line, but for convenience of entering light, for example, a thin N + layer is used as the D electrode. In the present embodiment, photoelectric conversion elements S1-1 to S3-3, switch elements T1-1 to T3-3, gate lines G1 to G3, signal lines M1 to M3, and Vs lines are included in the photoelectric conversion circuit unit 8. Yes. The Vs line is biased by the power supply Vs. SR1 is a shift register for applying a driving pulse voltage to the gate wirings G1 to G3, and a voltage for turning on the TFT is supplied from the outside. The control signal VSC is for applying two types of bias to the Vs line of the photoelectric conversion element, that is, the D electrode of the photoelectric conversion element. The D electrode becomes Vref (V) when the control signal VSC is “Hi”, and becomes Vs (V) when it is “Lo”. The reading power source Vs (V) and the refreshing power source Vref (V) are DC power sources, respectively. For example, Vs is 9 V and Vref is 3 V.

読み出し用回路部9は、光電変換回路部内の信号配線M1〜M3の並列信号出力を増幅し、直列変換して出力する。RES1〜RES3は信号配線M1〜M3をリセットするスイッチ、A1〜A3は信号配線M1〜M3の信号を増幅するアンプ、CL1〜CL3はアンプA1〜A3により増幅された信号を一時的に記憶するサンプルホールド容量、Sn1〜Sn3はサンプルホールドするためのスイッチ、B1〜B3はバッファアンプ、Sr1〜Sr3は並列信号を直列変換するためのスイッチ、SR2はスイッチSr1〜Sr3に直列変換するためのパルスを与えるシフトレジスタ、Abは直列変換された信号を出力するバッファアンプである。   The reading circuit unit 9 amplifies the parallel signal outputs of the signal wirings M1 to M3 in the photoelectric conversion circuit unit, converts the signals in series, and outputs them. RES1 to RES3 are switches that reset the signal wirings M1 to M3, A1 to A3 are amplifiers that amplify the signals of the signal wirings M1 to M3, and CL1 to CL3 are samples that temporarily store the signals amplified by the amplifiers A1 to A3. Hold capacitor, Sn1 to Sn3 are switches for sample and hold, B1 to B3 are buffer amplifiers, Sr1 to Sr3 are switches for serial conversion of parallel signals, and SR2 is a pulse for serial conversion to switches Sr1 to Sr3 A shift register Ab is a buffer amplifier that outputs a serially converted signal.

図3は、本発明の第1の実施形態に係るX線撮像装置の1画素の構成を示す等価回路図である。1画素には、1個の光電変換素子及び1個のスイッチ素子(TFT)が含まれている。光電変換素子の平面構造及び断面構造は、図12及び図13に示すそれらと同様である。そして、図3においては、光電変換素子に、半導体光電変換層としての水素化アモルファスシリコン等からなるi層による容量成分Ciと、アモルファス窒化シリコン等の絶縁層(両導電型のキャリアの注入阻止層)による容量成分CSiNとが存在することを表記してある。 FIG. 3 is an equivalent circuit diagram showing a configuration of one pixel of the X-ray imaging apparatus according to the first embodiment of the present invention. One pixel includes one photoelectric conversion element and one switch element (TFT). The planar structure and cross-sectional structure of the photoelectric conversion element are the same as those shown in FIGS. In FIG. 3, the photoelectric conversion element includes a capacitance component Ci composed of an i layer made of hydrogenated amorphous silicon or the like as a semiconductor photoelectric conversion layer, and an insulating layer such as amorphous silicon nitride (a carrier injection blocking layer of both conductivity types). ) To indicate that there is a capacitive component C SiN .

また、光電変換素子が飽和状態、即ちD電極とノードNとの間(i層)に電界がない状態か、又は電界があっても小さい状態となると、光によって生成された電子とホールとが互いに再結合するため、i層と絶縁層との接合点(図3中のノードN)は、ホールキャリアを蓄えることができなくなる。つまり、ノードNの電位はD電極の電位より高くなることはない。この飽和状態における動作を具現化するために、図3では、ダイオード(D1)が容量成分Ciに並列に接続されていると表記してある。即ち、図3においては、光電変換素子を、Ci、CSiN及びD1の3つのコンポーネントで表記してあり、この光電変換素子が図2中の光電変換素子S1−1〜S3−3の各々に相当する。 Further, when the photoelectric conversion element is in a saturated state, that is, a state where there is no electric field between the D electrode and the node N (i layer) or a state where the electric field is small even when there is an electric field, electrons and holes generated by light Since they recombine with each other, the junction between the i layer and the insulating layer (node N in FIG. 3) cannot store hole carriers. That is, the potential of the node N does not become higher than the potential of the D electrode. In order to embody the operation in the saturated state, in FIG. 3, it is indicated that the diode (D1) is connected in parallel to the capacitive component Ci. That is, in FIG. 3, the photoelectric conversion element is represented by three components of Ci, C SiN and D1, and this photoelectric conversion element is shown in each of the photoelectric conversion elements S1-1 to S3-3 in FIG. Equivalent to.

また、図3において、TFTは薄膜トランジスタでスイッチ素子であり、図2中のスイッチ素子T1−1〜T3−3の各々に相当する。C2は信号配線に付加される読み出し容量であるが、図2では省略してある。FlはX線波長を可視領域波長に変換するための波長変換用の蛍光体であり、直接又は間接的にTFTと密着した位置に配置されている。蛍光体の母体材料には、例えばGd22SやGd23等が用いられ、発光中心には、例えばTb3+やEu3+等の希土類元素のイオンを含む材料が用いられる。また、CsI:TlやCsI:Na等のCsIを母体材料に用いた蛍光体を用いてもよい。 In FIG. 3, TFT is a thin film transistor and is a switch element, and corresponds to each of the switch elements T1-1 to T3-3 in FIG. C2 is a read capacitor added to the signal wiring, but is omitted in FIG. Fl is a wavelength converting phosphor for converting an X-ray wavelength into a visible region wavelength, and is disposed at a position in close contact with the TFT directly or indirectly. For example, Gd 2 O 2 S or Gd 2 O 3 is used as the base material of the phosphor, and a material containing rare earth element ions such as Tb 3+ or Eu 3+ is used as the emission center. Alternatively, a phosphor using CsI such as CsI: Tl or CsI: Na as a base material may be used.

スイッチSW−Bは、ゲート配線G1〜G3を介してTFTに印加する電圧を切り替えるためのスイッチであり、図2に示すシフトレジスタSR1内に設けられている。また、スイッチSW−Cは読み出し容量C2をGND電位にリセットするためのスイッチであり、RC(CRES)信号により制御される。スイッチSW−Cは、図2中のスイッチRES1〜RES3の各々に相当する。また、Vg(on)(=Vcom)はTFTをオンさせ信号電荷を読み出し容量C2に転送するための電源であり、Vg(off)はTFTをオフさせるための電源である。   The switch SW-B is a switch for switching a voltage applied to the TFT via the gate wirings G1 to G3, and is provided in the shift register SR1 shown in FIG. The switch SW-C is a switch for resetting the read capacitor C2 to the GND potential, and is controlled by an RC (CRES) signal. The switch SW-C corresponds to each of the switches RES1 to RES3 in FIG. Vg (on) (= Vcom) is a power source for turning on the TFT and transferring the signal charge to the read capacitor C2, and Vg (off) is a power source for turning off the TFT.

次に、図3に示す1画素分の回路動作について、図3及び図4を参照しながら説明する。図4は、1画素分の回路動作を示すタイムチャートである。この回路動作には、リフレッシュ動作、X−ray照射動作、転送動作及びリセット動作が含まれ、これらに対応して、リフレッシュ期間、X−ray照射期間、転送期間及びリセット期間が設けられている。   Next, the circuit operation for one pixel shown in FIG. 3 will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a time chart showing the circuit operation for one pixel. This circuit operation includes a refresh operation, an X-ray irradiation operation, a transfer operation, and a reset operation, and a refresh period, an X-ray irradiation period, a transfer period, and a reset period are provided correspondingly.

先ず、リフレッシュ期間について説明する。リフレッシュ動作では、先ず、スイッチSW−AをVref側、スイッチSW−BをVg(on)側、スイッチSW−Cをオンにする。この状態にすることにより、D電極は3VのVrefにバイアスされ、G電極はGND電位にバイアスされ、ノードNは最大でVref(3V)にバイアスされる。ここで、最大というのは、以下のような状況を意味している。もし、本リフレッシュ動作より前の光電変換動作により、ノードNの電位が既にVref以上の電位に達していると、ダイオードD1を介して、ノードNはVrefにバイアスされる。一方、本リフレッシュ動作より前の光電変換動作によりノードNの電位がVref以下となっている場合には、本リフレッシュ動作によってノードNがVrefの電位にバイアスされることはない。なお、実際の使用にあたっては、複数回の光電変換動作を過去に繰り返していれば、ノードNは、本リフレッシュ動作により事実上Vref(3V)にバイアスされるといってよい。   First, the refresh period will be described. In the refresh operation, first, the switch SW-A is turned on on the Vref side, the switch SW-B is turned on on the Vg (on) side, and the switch SW-C is turned on. In this state, the D electrode is biased to Vref of 3 V, the G electrode is biased to GND potential, and the node N is biased to Vref (3 V) at the maximum. Here, the maximum means the following situation. If the potential of the node N has already reached a potential equal to or higher than Vref by the photoelectric conversion operation prior to the refresh operation, the node N is biased to Vref via the diode D1. On the other hand, when the potential of the node N is equal to or lower than Vref due to the photoelectric conversion operation before the refresh operation, the node N is not biased to the potential of Vref by the refresh operation. In actual use, if a plurality of photoelectric conversion operations have been repeated in the past, the node N can be said to be effectively biased to Vref (3 V) by this refresh operation.

リフレッシュ動作では、ノードNがVrefにバイアスされた後に、スイッチSW−AをVs側に切り替える。これにより、D電極はVs(9V)にバイアスされる。このリフレッシュ動作により、光電変換素子のノードNに蓄えられていたホールキャリアがD電極側へ一掃される。   In the refresh operation, the switch SW-A is switched to the Vs side after the node N is biased to Vref. As a result, the D electrode is biased to Vs (9 V). By this refresh operation, the hole carriers stored in the node N of the photoelectric conversion element are wiped out to the D electrode side.

次に、X−ray照射期間について説明する。X−ray照射動作では、スイッチSW−AをVs側、スイッチSW−BをVg(off)側、スイッチSW−Cをオフにする。また、X線は、図4に示すように、パルス状に照射する。被検体を透過したX線は蛍光体Flに照射され、可視光に変換される。蛍光体からの可視光は半導体層(i層)に照射され光電変換される。光電変換により生成されたホールキャリアはi層と絶縁層(注入阻止層)との界面に蓄えられ、ノードNの電位を上昇させる。TFTはオフした状態なのでG電極側の電位も同じ分だけ上昇する。   Next, the X-ray irradiation period will be described. In the X-ray irradiation operation, the switch SW-A is set to the Vs side, the switch SW-B is set to the Vg (off) side, and the switch SW-C is turned off. Further, as shown in FIG. 4, X-rays are irradiated in a pulse shape. X-rays that have passed through the subject are irradiated onto the phosphor Fl and converted into visible light. Visible light from the phosphor is irradiated to the semiconductor layer (i layer) and subjected to photoelectric conversion. The hole carriers generated by the photoelectric conversion are stored at the interface between the i layer and the insulating layer (injection blocking layer) and raise the potential of the node N. Since the TFT is in an off state, the potential on the G electrode side also rises by the same amount.

次に、転送期間について説明する。転送動作では、スイッチSW−AをVs側、スイッチSW−BをVg(on)側、スイッチSW−Cをオフにする。この結果、TFTがオン状態となる。これにより、X−ray照射により蓄えられたホールキャリアの量に対応する量の電子キャリアが、読み出し容量C2側からTFTを介してG電極側に流れ、これに伴って読み出し容量C2の電位が上昇する。このとき、ホールキャリアの量(Sh)と電子キャリアの量(Se)との間には、Se=Sh×CSiN/(CSiN+Ci)の関係が成り立つ。読み出し容量C2の電位は、同時にアンプを介して増幅して出力される。TFTは信号電荷を充分に転送するに足りる時間だけオンさせ、やがてオフさせる。 Next, the transfer period will be described. In the transfer operation, the switch SW-A is set to the Vs side, the switch SW-B is set to the Vg (on) side, and the switch SW-C is turned off. As a result, the TFT is turned on. As a result, an amount of electron carriers corresponding to the amount of hole carriers stored by X-ray irradiation flows from the readout capacitor C2 side to the G electrode side via the TFT, and the potential of the readout capacitor C2 increases accordingly. To do. At this time, the relationship Se = Sh × C SiN / (C SiN + Ci) is established between the amount of hole carriers (Sh) and the amount of electron carriers (Se). The potential of the read capacitor C2 is simultaneously amplified through an amplifier and output. The TFT is turned on for a time sufficient to sufficiently transfer the signal charge, and then turned off.

次に、リセット動作について説明する。リセット動作では、スイッチSW−AをVs側、スイッチSW−BをVg(off)側、スイッチSW−Cをオンにする。この結果、読み出し容量C2がGND電位にリセットされ、次のX−ray照射に備える。   Next, the reset operation will be described. In the reset operation, the switch SW-A is set to the Vs side, the switch SW-B is set to the Vg (off) side, and the switch SW-C is turned on. As a result, the read capacitor C2 is reset to the GND potential and prepared for the next X-ray irradiation.

このようにして、1枚の画像が取得される。そして、X−ray照射動作、転送動作及びリセット動作のサイクルを、この1枚目の画像取得のためのサイクルを含めて総計で4回連続して行った後、再度リフレッシュ動作を行うことにより、光電変換素子の飽和量を初期化する。このように、リフレッシュ動作を行うと、前述のように、画面にチラツキが発生する虞があるが、本実施形態では、後述の構成及び方法により、チラツキを抑制することが可能である。   In this way, one image is acquired. Then, the cycle of the X-ray irradiation operation, the transfer operation, and the reset operation is continuously performed four times in total including the cycle for acquiring the first image, and then the refresh operation is performed again. Initialize the saturation amount of the photoelectric conversion element. As described above, flickering may occur on the screen when the refresh operation is performed as described above. In this embodiment, flickering can be suppressed by the configuration and method described later.

次に、図2に示す光電変換装置の動作について、図2及び図5を参照しながら説明する。図5は、光電変換装置の動作を示すタイムチャートである。   Next, operation of the photoelectric conversion device illustrated in FIG. 2 will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a time chart illustrating the operation of the photoelectric conversion apparatus.

先ず、リフレッシュ期間の動作について説明する。リフレッシュ期間には、シフトレジスタSR1の信号をすべて“Hi”の状態とし、かつ読み出し用回路部9のCRES信号を“Hi”の状態とする。これは、図3に示す1画素分の回路で、スイッチSW−BをVg(off)側にし、スイッチSW−Cをオンにすることに相当する。この結果、スイッチング用の全TFT(T1−1〜T3−3)が導通し、かつ読み出し用回路部9内のスイッチ素子RES1〜RES3も導通し、全光電変換素子S1−1〜S3−3のG電極がGND電位になる。そして、制御信号VSCを“Hi”とすると、全光電変換素子のD電極がリフレッシュ用電源Vrefにバイアスされた状態(負電位)になる。この結果、全光電変換素子S1−1〜S3−3はリフレッシュモードになり、リフレッシュが行われる。   First, the operation during the refresh period will be described. During the refresh period, all the signals of the shift register SR1 are set to the “Hi” state, and the CRES signal of the reading circuit unit 9 is set to the “Hi” state. This is equivalent to switching the switch SW-B to the Vg (off) side and turning on the switch SW-C in the circuit for one pixel shown in FIG. As a result, all the switching TFTs (T1-1 to T3-3) are turned on, and the switch elements RES1 to RES3 in the readout circuit section 9 are also turned on, and all the photoelectric conversion elements S1-1 to S3-3 are turned on. The G electrode becomes the GND potential. When the control signal VSC is “Hi”, the D electrodes of all the photoelectric conversion elements are biased to the refresh power source Vref (negative potential). As a result, all the photoelectric conversion elements S1-1 to S3-3 are in the refresh mode, and refresh is performed.

次に、光電変換期間について説明する。光電変換期間には、制御信号VSCを“Lo”の状態に切り替える。これは、図3に示す1画素分の回路で、スイッチSW−AをVs側にすることに相当する。この結果、全光電変換素子S1−1〜S3−3のD電極は読み取り用電源Vsにバイアスされた状態(正電位)になり、光電変換素子は光電変換モードになる。   Next, the photoelectric conversion period will be described. During the photoelectric conversion period, the control signal VSC is switched to the “Lo” state. This is equivalent to setting the switch SW-A to the Vs side in the circuit for one pixel shown in FIG. As a result, the D electrodes of all the photoelectric conversion elements S1-1 to S3-3 are biased by the reading power source Vs (positive potential), and the photoelectric conversion elements are in the photoelectric conversion mode.

次いで、シフトレジスタSR1の信号をすべて“Lo”で、かつ読み出し用回路部9のCRES信号を“Lo”の状態にする。この結果、スイッチング用の全TFT(T1−1〜T3−3)がオフし、かつ読み出し用回路部9内のスイッチ素子RES1〜RES3もオフし、全光電変換素子S1−1〜S3−3のG電極が直流的にはオープン状態になるが、光電変換素子はコンデンサでもあるため電位が保持される。但し、この時点では、光電変換素子に光(X線)は入射されていないため、電荷は発生しない。即ち、電流は流れない。   Next, all the signals of the shift register SR1 are set to “Lo”, and the CRES signal of the reading circuit unit 9 is set to the “Lo” state. As a result, all the switching TFTs (T1-1 to T3-3) are turned off, and the switch elements RES1 to RES3 in the readout circuit section 9 are also turned off, and all the photoelectric conversion elements S1-1 to S3-3 are turned off. Although the G electrode is open in terms of direct current, the photoelectric conversion element is also a capacitor, so that the potential is maintained. However, at this time, since no light (X-rays) is incident on the photoelectric conversion element, no charge is generated. That is, no current flows.

その後、光源がパルス的にオンすると、夫々の光電変換素子のD電極(N+電極)に光が照射され、所謂、光電流が流れる。また、光によって流れた光電流は、電荷として夫々の光電変換素子内に蓄積され、光源がオフとなった後も保持される。なお、光源については、図2中に特に示してないが、例えば、X線撮影装置であれば文字通りX線源であり、この場合X線可視変換用のシンチレータを用いればよい。また、本発明は、X線撮像装置以外の撮像装置にも適用することができ、複写機に適用した場合の光源としては、例えば蛍光灯、LED又はハロゲン灯等が用いられる。 Thereafter, when the light source is turned on in a pulsed manner, light is irradiated to the D electrode (N + electrode) of each photoelectric conversion element, and so-called photocurrent flows. In addition, the photocurrent that flows by light is accumulated in each photoelectric conversion element as an electric charge, and is retained even after the light source is turned off. Although the light source is not particularly shown in FIG. 2, for example, an X-ray imaging apparatus is literally an X-ray source. In this case, a scintillator for X-ray visible conversion may be used. The present invention can also be applied to an imaging apparatus other than an X-ray imaging apparatus. As a light source when applied to a copying machine, for example, a fluorescent lamp, an LED, a halogen lamp, or the like is used.

次に、読み出し期間について説明する。ここでの読み出し期間には、図4に示すリセット期間も含まれている。読み出し期間には、先ず、第1行目の光電変換素子S1−1〜S1−3、次に、第2行目の光電変換素子S2−1〜S2−3、最後に、第3行目の光電変換素子S3−1〜S3−3の順で読み出しを行う。即ち、先ず、第1行目の光電変換素子S1−1〜S1−3からの読み出しを行うために、スイッチ素子(TFT)T1−1〜T1−3のゲート配線G1にシフトレジスタSR1からゲートパルスを与える。ゲートパルスのハイレベルは、前述のように、外部から供給されている電圧Vcomである。この結果、スイッチ素子T1−1〜T1−3がオン状態になり、光電変換素子S1−1〜S1−3に蓄積されていた信号電荷が、信号配線M1〜M3に転送される。そして、信号配線M1〜M3に転送された信号電荷は、アンプA1〜A3により増幅される。なお、図2には図示していないが、信号配線M1〜M3には、読み出し容量が付加されており、信号電荷はTFTを介して、読み出し容量に転送される。例えば、信号配線M1に付加されている読み出し容量は、信号配線M1に接続されているスイッチ素子T1−1〜T3−1を構成するTFTのゲート/ソース間の電極間容量(Cgs)の総和(3個分)であり、この総和が図3における読み出し容量C2に相当する。   Next, the reading period will be described. The readout period here includes the reset period shown in FIG. In the readout period, first, the photoelectric conversion elements S1-1 to S1-3 in the first row, the photoelectric conversion elements S2-1 to S2-3 in the second row, and finally the third row. Reading is performed in the order of the photoelectric conversion elements S3-1 to S3-3. That is, first, in order to read from the photoelectric conversion elements S1-1 to S1-3 in the first row, the gate pulse from the shift register SR1 to the gate wiring G1 of the switch elements (TFT) T1-1 to T1-3. give. The high level of the gate pulse is the voltage Vcom supplied from the outside as described above. As a result, the switch elements T1-1 to T1-3 are turned on, and the signal charges accumulated in the photoelectric conversion elements S1-1 to S1-3 are transferred to the signal wirings M1 to M3. The signal charges transferred to the signal wirings M1 to M3 are amplified by the amplifiers A1 to A3. Although not shown in FIG. 2, a read capacitor is added to the signal wirings M1 to M3, and the signal charge is transferred to the read capacitor through the TFT. For example, the readout capacitance added to the signal wiring M1 is the sum of the inter-electrode capacitance (Cgs) between the gates / sources of the TFTs constituting the switch elements T1-1 to T3-1 connected to the signal wiring M1 ( 3), and this sum corresponds to the read capacitor C2 in FIG.

次いで、SMPL信号をオンさせることにより、サンプルホールド容量CL1〜CL3に転送され、SMPL信号をオフするとともにホールドされる。続いて、シフトレジスタSR2からスイッチSr1、Sr2、Sr3の順番で、パルスを印加することにより、サンプルホールド容量CL1〜CL3にホールドされていた信号が、サンプルホールド容量CL1、CL2、CL3の順でアンプAbからA/D変換回路部203にVoutとして出力される。結果として、光電変換素子S1−1、S1−2及びS1−3の1行分の光電変換信号が順次出力される。また、シフトレジスタSR2からスイッチSr1にパルスを印加すると同時に、CRES信号をオンすることにより、信号配線M1〜M3をGND電位にリセットする。これは、図3に示す1画素分の回路で、スイッチSW−Cをオンすること(リセット期間)に相当する。   Next, by turning on the SMPL signal, the SMPL signal is transferred to the sample hold capacitors CL1 to CL3, and the SMPL signal is turned off and held. Subsequently, by applying pulses in the order of the switches Sr1, Sr2, and Sr3 from the shift register SR2, the signals held in the sample hold capacitors CL1 to CL3 are amplified in the order of the sample hold capacitors CL1, CL2, and CL3. Ab is output to the A / D conversion circuit unit 203 as Vout. As a result, photoelectric conversion signals for one row of the photoelectric conversion elements S1-1, S1-2, and S1-3 are sequentially output. Further, simultaneously with applying a pulse from the shift register SR2 to the switch Sr1, the CRES signal is turned on to reset the signal wirings M1 to M3 to the GND potential. This corresponds to turning on the switch SW-C (reset period) in the circuit for one pixel shown in FIG.

更に、信号配線M1〜M3をGND電位にリセットした後には、第2行目の光電変換素子S1−1〜S1−3からの読み出しを行うために、スイッチ素子(TFT)T2−1〜T2−3のゲート配線G2にシフトレジスタSR1からゲートパルスを与える。このようにして、第2行目の光電変換素子S2−1〜S2−3の読み出し動作、第3行目の光電変換素子S3−1〜S3−3の読み出し動作を続けて行う。このように、信号配線M1〜M3の信号をサンプルホールド容量CL1〜CL3にサンプルホールドさせることにより、シフトレジスタSR2を用いて第1行目、第2行目の信号の直列変換動作を行っている間に、同時にシフトレジスタSR1を用いて第2行目、第3行目の光電変換素子S2−1〜S2−3、S3−1〜S3−3の信号電荷を転送することができる。   Further, after the signal wirings M1 to M3 are reset to the GND potential, the switching elements (TFT) T2-1 to T2- are used for reading from the photoelectric conversion elements S1-1 to S1-3 in the second row. A gate pulse is applied to the third gate wiring G2 from the shift register SR1. In this way, the readout operation of the photoelectric conversion elements S2-1 to S2-3 in the second row and the readout operation of the photoelectric conversion elements S3-1 to S3-3 in the third row are continuously performed. As described above, the signals of the signal lines M1 to M3 are sampled and held in the sample and hold capacitors CL1 to CL3, thereby performing the serial conversion operation of the signals of the first row and the second row using the shift register SR2. In the meantime, the signal charges of the photoelectric conversion elements S2-1 to S2-3 and S3-1 to S3-3 in the second row and the third row can be transferred simultaneously using the shift register SR1.

以上の動作により、第1行目から第3行目のすべての光電変換素子の信号電荷を出力することができ、1枚の静止画像が取得される。その後、連続した動画像を取得するために、リフレッシュ動作を行わずに、例えば、光電変換期間及び読み出し期間(リセット期間を含む)のサイクルを更に3回繰り返し、総計で4枚の画像データを取得する。   Through the above operation, the signal charges of all the photoelectric conversion elements in the first to third rows can be output, and one still image is acquired. Thereafter, in order to acquire continuous moving images, for example, a photoelectric conversion period and a readout period (including a reset period) are repeated three more times without performing a refresh operation, and a total of four pieces of image data are acquired. To do.

ここで、動画像の撮影の際にリフレッシュ動作を行うタイミング及びリフレッシュ動作に伴う画像データの処理方法について説明する。図6は、本発明の第1の実施形態に係る放射線撮像システムの動作を示すフローチャートであり、図7は、図6に示すフローチャートに沿ったタイムチャートである。但し、図7には、図4と同様に、1画素分の動作を示す。   Here, a timing of performing a refresh operation when capturing a moving image and a method of processing image data accompanying the refresh operation will be described. FIG. 6 is a flowchart showing the operation of the radiation imaging system according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a time chart along the flowchart shown in FIG. However, FIG. 7 shows the operation for one pixel as in FIG.

本実施形態に係る放射線撮像システムでは、撮影動作を開始すると、先ず、リフレッシュ動作を行うことにより(ステップS1)、光電変換素子を初期化し、光電変換の準備を行う。次に、動画撮影が終了するまで、「撮影継続ループ(ステップS2〜S10)」の処理を行う。   In the radiation imaging system according to the present embodiment, when an imaging operation is started, first, a refresh operation is performed (step S1), thereby initializing the photoelectric conversion element and preparing for photoelectric conversion. Next, the “shooting continuation loop (steps S2 to S10)” process is performed until moving image shooting is completed.

「撮影継続ループ」では、先ず、フレーム番号nを1に設定する(ステップS2)。次に、「撮影ループ(ステップS3〜S8)」の処理を行う。   In the “shooting continuation loop”, first, the frame number n is set to 1 (step S2). Next, the “shooting loop (steps S3 to S8)” process is performed.

「撮影ループ」では、先ず、X線発生装置120を用いてX線の照射を行う(ステップS3)。次に、駆動回路145内の読み出し回路部を用いて光電変換回路部8からの画像データの読み出しを行う(ステップS4)。次いで、駆動回路145内のA/Dコンバータを用いて画像データのA/D変換を行う(ステップS5)。その後、画像処理部10を用いて画像処理を行う(ステップS6)。そして、当該フレーム(第nフレーム)の画像を、ディスプレイアダプタ151を介してディスプレイ160に表示する(ステップS7)。続いて、フレーム番号nをn+1に変更する(ステップS8)。この結果、フレーム番号が4以下であれば、再度「撮影ループ」の処理を行う。一方、フレーム番号が4以下でなくなった場合(具体的には、フレーム番号が5に達した場合)は、「撮影ループ」の処理を終了し、リフレッシュ動作を行う(ステップS9)。つまり、本実施形態では、「撮影ループ」の処理を4回連続して行った後、リフレッシュ動作を行う。   In the “imaging loop”, first, X-ray irradiation is performed using the X-ray generator 120 (step S3). Next, image data is read from the photoelectric conversion circuit unit 8 using the reading circuit unit in the drive circuit 145 (step S4). Next, A / D conversion of the image data is performed using the A / D converter in the drive circuit 145 (step S5). Thereafter, image processing is performed using the image processing unit 10 (step S6). And the image of the said frame (nth frame) is displayed on the display 160 via the display adapter 151 (step S7). Subsequently, the frame number n is changed to n + 1 (step S8). As a result, if the frame number is 4 or less, the “shooting loop” process is performed again. On the other hand, when the frame number is not less than 4 (specifically, when the frame number reaches 5), the “shooting loop” process is terminated and a refresh operation is performed (step S9). That is, in the present embodiment, the “shooting loop” process is performed four times continuously, and then the refresh operation is performed.

ステップS9のリフレッシュ動作を行った後には、第(n−1)フレームの画像をディスプレイ160に表示する(ステップS10)。即ち、1つ前のフレーム(第4フレーム)の画像を再度表示する。そして、撮影を継続する場合には、再度「撮影継続ループ」の処理を行う。   After performing the refresh operation in step S9, the (n-1) th frame image is displayed on the display 160 (step S10). That is, the image of the previous frame (fourth frame) is displayed again. When shooting is continued, the “shooting loop” process is performed again.

但し、図6に示すフローチャートでは、流れを簡単に示すために、X線照射(ステップS3)、読み出し(ステップS4)、A/D変換(ステップS5)及び画像処理(ステップS6)を順番に行うものとしているが、図7に示すように、X線照射及び読み出しを行った後に、直ちに次フレームのX線照射を行うことにより、A/D変換及び画像処理と次フレームの撮影を並行して行うことが好ましい。   However, in the flowchart shown in FIG. 6, X-ray irradiation (step S3), reading (step S4), A / D conversion (step S5), and image processing (step S6) are sequentially performed in order to show the flow simply. However, as shown in FIG. 7, after performing X-ray irradiation and reading, immediately performing X-ray irradiation of the next frame, A / D conversion and image processing and imaging of the next frame are performed in parallel. Preferably it is done.

図7に示すタイムチャートにおいて、R1〜R3はリフレッシュ動作、X1〜X10はX線照射、F1〜F10は信号の読み出し及びA/D変換、F1’〜F10’はメモリへの書き込み及び画像処理、D1〜D10はディスプレイでの表示を夫々示している。また、図4が2回のリフレッシュ動作間の動作を示しているのに対し、図7はより長い期間の動作を示したものでもある。   In the time chart shown in FIG. 7, R1 to R3 are refresh operations, X1 to X10 are X-ray irradiation, F1 to F10 are signal reading and A / D conversion, F1 ′ to F10 ′ are memory writing and image processing, D1 to D10 respectively indicate display on the display. 4 shows an operation between two refresh operations, while FIG. 7 also shows an operation for a longer period.

本実施形態では、放射線撮像装置140内の光電変換素子のリフレッシュ動作をR1で行い、光電変換素子内のホールキャリアを掃き出し、光電変換の準備を行う。次に、放射線撮像装置140の前に立たせた被検体126に対しX線を4回パルス状(X1〜X4)で照射する。照射されたX線は被検体126の情報を得て放射線撮像装置140に入射し、入射したX線は蛍光板142により波長変換され、光電変換回路部8で電気信号として検出される。   In this embodiment, the refresh operation of the photoelectric conversion element in the radiation imaging apparatus 140 is performed by R1, the hole carriers in the photoelectric conversion element are swept out, and preparation for photoelectric conversion is performed. Next, X-rays are irradiated four times (X1 to X4) to the subject 126 standing in front of the radiation imaging apparatus 140. The irradiated X-ray obtains information on the subject 126 and enters the radiation imaging apparatus 140, and the incident X-ray is wavelength-converted by the fluorescent plate 142 and detected as an electrical signal by the photoelectric conversion circuit unit 8.

次いで、検出された電気信号(アナログ信号)は、駆動回路145により読み出され、更に、A/D変換が施され、ディジタル信号となる。1回目のX線パルスX1に対応した読み出しがF1、2回目のX線パルスX2に対応した読み出しがF2、3回目のX線パルスX3に対応した読み出しがF3、4回目のX線パルスX4に対応した読み出しがF4であり、総計で4フレーム分の読み出し及びA/D変換が順次行われる。   Next, the detected electrical signal (analog signal) is read out by the drive circuit 145 and further subjected to A / D conversion to become a digital signal. Read corresponding to the first X-ray pulse X1 is F1, read corresponding to the second X-ray pulse X2 is F2, read corresponding to the third X-ray pulse X3 is F3, and fourth X-ray pulse X4 is read. The corresponding reading is F4, and reading and A / D conversion for 4 frames in total are sequentially performed.

その後、読み出されたディジタル信号は、撮影制御部214内のメモリに書き込まれ、画像処理部10により画像処理(オフセット補正、ゲイン補正等)が行われる。読み出し処理F1に対応したメモリへの書き込み及び画像処理がF1’であり、読み出し処理F2に画像処理F2’が対応し、読み出し処理F3に画像処理F3’が対応し、読み出し処理F4に画像処理F4’が対応する。   Thereafter, the read digital signal is written into a memory in the imaging control unit 214, and image processing (offset correction, gain correction, etc.) is performed by the image processing unit 10. The writing to the memory and the image processing corresponding to the reading process F1 are F1 ′, the reading process F2 corresponds to the image processing F2 ′, the reading process F3 corresponds to the image processing F3 ′, and the reading process F4 corresponds to the image processing F4. 'Corresponds.

続いて、ディスプレイアダプタ151を介して、画像処理が施された画像データをディスプレイ160に表示する。画像処理F1’に対応したディスプレイの表示がD1であり、順次D1、D2、D3、D4と表示する。但し、X線パルス照射X4とX5との間で、リフレッシュ動作を行っているため、その期間に対応する画像データは存在しない。そこで、第1の実施形態では、補間用の信号としてX線パルス照射X4に伴って得られた信号をディスプレイに表示させる。即ち、D4のディスプレイでの表示を継続して行う。   Subsequently, the image data subjected to the image processing is displayed on the display 160 via the display adapter 151. The display on the display corresponding to the image processing F1 'is D1, which is sequentially displayed as D1, D2, D3, and D4. However, since the refresh operation is performed between the X-ray pulse irradiations X4 and X5, there is no image data corresponding to that period. Therefore, in the first embodiment, a signal obtained along with the X-ray pulse irradiation X4 is displayed on the display as an interpolation signal. That is, the display on the display of D4 is continuously performed.

このような第1の実施形態によれば、リフレッシュ動作により画像データが存在しない期間に対応するディプレイでの表示に当たり、前フレームを継続して表示させるため、画像データのないフレームを補間することができ、この結果、画面のチラツキを抑えることができる。   According to the first embodiment as described above, the frame without image data is interpolated in order to continuously display the previous frame when displaying on the display corresponding to the period when the image data does not exist by the refresh operation. As a result, flickering of the screen can be suppressed.

なお、リフレッシュモードでi層内のホールを掃き出すに当たっては、すべてのホールを掃き出すことが理想であるが、一部のホールを掃き出すだけでも、十分な電流が得られるため特に問題はない。つまり、次の光電変換モードでの検出機会において、図14(c)に示すような飽和状態になっていなければよい。また、リフレッシュモードでのD電極のG電極に対する電位、リフレッシュモードの期間及びN+層の注入阻止層の特性は、この条件が満たされるように決めればよい。更に、リフレッシュモードにおいてi層への電子の注入は必要条件でなく、D電極のG電極に対する電位は負に限定されるものでもない。多数のホールがi層に留まっている場合には、例えD電極のG電極に対する電位が正の電位であっても、i層内の電界はホールをD電極に導く方向に加わるからである。また、注入阻止層であるN+層の特性も同様に電子をi層に注入できることが必要条件ではない。 It is ideal to sweep all holes in the i layer in the refresh mode, but it is ideal to sweep all holes, but there is no particular problem because a sufficient current can be obtained by sweeping only some of the holes. That is, it is not necessary to be in a saturated state as shown in FIG. 14C at the detection opportunity in the next photoelectric conversion mode. Further, the potential of the D electrode with respect to the G electrode in the refresh mode, the period of the refresh mode, and the characteristics of the N + layer injection blocking layer may be determined so as to satisfy this condition. Furthermore, injection of electrons into the i layer is not a necessary condition in the refresh mode, and the potential of the D electrode with respect to the G electrode is not limited to negative. This is because when a large number of holes remain in the i layer, even if the potential of the D electrode with respect to the G electrode is a positive potential, the electric field in the i layer is applied in the direction leading the holes to the D electrode. Similarly, the characteristics of the N + layer, which is an injection blocking layer, are not a requirement that electrons can be injected into the i layer.

(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。図8は、本発明の第2の実施形態に係る放射線撮像システムの動作を示すフローチャートである。本実施形態では、フレーム数ではなく、各画素から出力された信号の量、即ち各画素を構成する光電変換素子に蓄積したキャリアの量に応じて、リフレッシュを行うタイミングを決定する。そして、リフレッシュを行う際に、Vs線に印加する電圧をVs(例えば、9V)からリフレッシュ電圧Vref(例えば、3V)に変化させる。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is a flowchart showing the operation of the radiation imaging system according to the second embodiment of the present invention. In this embodiment, the refresh timing is determined according to the amount of signals output from each pixel, that is, the amount of carriers accumulated in the photoelectric conversion elements constituting each pixel, instead of the number of frames. When refreshing, the voltage applied to the Vs line is changed from Vs (for example, 9 V) to the refresh voltage Vref (for example, 3 V).

先ず、初期化のリフレッシュ(ステップS21)を行った後、「撮影継続ループ(ステップS22〜S29)」に入り、撮影が終了するまで撮影継続ループの処理を続ける。撮影継続ループでは、Vs線の電圧がリフレッシュ電圧Vrefとなっているか判断する(ステップS22)。   First, after refreshing initialization (step S21), the “shooting continuation loop (steps S22 to S29)” is entered, and the shooting continuation loop process is continued until shooting is completed. In the imaging continuation loop, it is determined whether the voltage of the Vs line is the refresh voltage Vref (step S22).

そして、Vs線の電圧がリフレッシュ電圧Vrefに変更されていなければ、フレーム番号をnからn+1に変更する(ステップS24)。そして、第1の実施形態と同様にして、X線照射(ステップS25)から画像処理(ステップS28)までの処理を行う。続いて、変更後のフレーム番号nに対応するフレームの画像をディスプレイ160に表示する(ステップS29)。そして、撮影を継続する場合には、再度「撮影継続ループ」の処理を行う。   If the voltage of the Vs line is not changed to the refresh voltage Vref, the frame number is changed from n to n + 1 (step S24). Then, similarly to the first embodiment, processing from X-ray irradiation (step S25) to image processing (step S28) is performed. Subsequently, an image of a frame corresponding to the changed frame number n is displayed on the display 160 (step S29). When shooting is continued, the “shooting loop” process is performed again.

一方、Vs線の電圧がリフレッシュ電圧Vrefに変更されている場合には、リフレッシュ動作を行い(ステップS23)、フレーム番号nを変更することなく、フレーム番号nに対応するフレームの画像をディスプレイ160に表示する(ステップS29)。即ち、1つ前のフレームの画像を再度表示する。そして、撮影を継続する場合には、再度「撮影継続ループ」の処理を行う。   On the other hand, when the voltage of the Vs line is changed to the refresh voltage Vref, a refresh operation is performed (step S23), and the image of the frame corresponding to the frame number n is displayed on the display 160 without changing the frame number n. Displayed (step S29). That is, the image of the previous frame is displayed again. When shooting is continued, the “shooting loop” process is performed again.

このような第2の実施形態によっても、第1の実施形態と同様の効果が得られる。また、連続撮影枚数ではなくセンサバイアスVsに基づいてリフレッシュ動作を行うか否かの判断を行うため、連続撮影枚数を規定する必要がないという利点もある。   According to the second embodiment as described above, the same effect as that of the first embodiment can be obtained. Further, since it is determined whether or not the refresh operation is performed based on the sensor bias Vs instead of the continuous shooting number, there is an advantage that it is not necessary to define the continuous shooting number.

(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態について説明する。図9は、本発明の第2の実施形態に係る放射線撮像システムの動作を示すタイムチャートである。但し、図9には、図7と同様に、1画素分の動作を示す。
(Third embodiment)
Next, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 9 is a time chart showing the operation of the radiation imaging system according to the second embodiment of the present invention. However, FIG. 9 shows the operation for one pixel as in FIG.

第1及び第2の実施形態では、リフレッシュ動作期間に対応する画像データがない期間では、直前のフレームを継続して描画させているのに対し、本実施形態では、リフレッシュ動作期間の直前のフレーム及び直後のフレームを用いて中間画像を生成し、この結果得られた画像をリフレッシュ動作期間に対応する画像として描画させる。中間画像生成の方法としては、例えば、モーフィング等が挙げられる。そして、第3の実施形態では、リアルタイム撮影を行うために、処理時間が短くなるよう(直前フレーム+直後フレーム)/2=4.5フレームとして生成し、D4とD5の間にD4.5として表示している。   In the first and second embodiments, the previous frame is continuously drawn in a period when there is no image data corresponding to the refresh operation period, whereas in the present embodiment, the frame immediately before the refresh operation period is drawn. Then, an intermediate image is generated using the immediately following frame, and the resulting image is rendered as an image corresponding to the refresh operation period. Examples of the intermediate image generation method include morphing. In the third embodiment, in order to perform real-time shooting, the processing time is shortened (previous frame + immediate frame) /2=4.5 frames, and D4.5 is set between D4 and D5. it's shown.

このような第3の実施形態によれば、第1及び第2の実施形態に比べ、中間画像を生成することにより、動画をスムーズに描画させることができる。   According to such a 3rd embodiment, compared with the 1st and 2nd embodiment, a movie can be drawn smoothly by generating an intermediate picture.

なお、第3の実施形態では、中間画像の生成に当たり、リフレッシュ動作の直前及び直後の1フレームずつを用いているが、直前及び直後の2フレームずつを用いてもよく、更に多数のフレームを用いてもよい。   In the third embodiment, one frame immediately before and immediately after the refresh operation is used for generating the intermediate image. However, two frames immediately before and after the refresh operation may be used, or more frames may be used. May be.

(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態について説明する。図10及び図11は、本発明の第4の実施形態に係る放射線撮像システムの動作を示す模式図である。図10及び図11には、ディスプレイ160に表示された画像の一例を示している。図10は、撮影により実際に得られたフレームの画像を示す図であり、図11は、補間したフレームの画像を示す図である。
(Fourth embodiment)
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. 10 and 11 are schematic views showing the operation of the radiation imaging system according to the fourth embodiment of the present invention. 10 and 11 show an example of an image displayed on the display 160. FIG. FIG. 10 is a diagram showing a frame image actually obtained by photographing, and FIG. 11 is a diagram showing an interpolated frame image.

第4の実施形態では、診断する技師が、実際のフレームと補間したフレームとを識別できるように、補間したフレームにマーキングを付する。即ち、図10に示すように、実際のフレームには、特別の表示を行わず、補間したフレームには、図11に示すように、マーキング200を付する。   In the fourth embodiment, the interpolated frame is marked so that the diagnosing engineer can distinguish between the actual frame and the interpolated frame. That is, as shown in FIG. 10, no special display is performed on the actual frame, and marking 200 is added to the interpolated frame as shown in FIG.

このように、どのフレームで補間が行われたのかを技師が識別することができれば、動画撮影した画像から静止画像を選んで診断を行う場合でも、補間した画像データを用いて診断することを未然に回避することができ、補間した画像データを用いたことによって生じる誤診の虞を著しく低減することができる。   In this way, if an engineer can identify which frame has been interpolated, it is possible to make a diagnosis using the interpolated image data even when performing a diagnosis by selecting a still image from a moving image. The possibility of misdiagnosis caused by using the interpolated image data can be significantly reduced.

なお、図16に示すように、1回のX線照射の度にリフレッシュ動作を行う放射線撮像装置においても、これらの実施形態のようにリフレッシュ動作に対応させながら補間したフレームをディスプレイ160に表示するようにしてもよい。   Note that, as shown in FIG. 16, even in the radiation imaging apparatus that performs the refresh operation for each X-ray irradiation, the interpolated frame is displayed on the display 160 while corresponding to the refresh operation as in these embodiments. You may do it.

また、本発明の実施形態は、例えばコンピュータがプログラムを実行することによって実現することができる。また、プログラムをコンピュータに供給するための手段、例えばかかるプログラムを記録したCD−ROM等のコンピュータ読み取り可能な記録媒体又はかかるプログラムを伝送するインターネット等の伝送媒体も本発明の実施形態として適用することができる。また、上記のプログラムも本発明の実施形態として適用することができる。上記のプログラム、記録媒体、伝送媒体及びプログラムプロダクトは、本発明の範疇に含まれる。   The embodiment of the present invention can be realized by, for example, a computer executing a program. Also, means for supplying a program to a computer, for example, a computer-readable recording medium such as a CD-ROM recording such a program, or a transmission medium such as the Internet for transmitting such a program is also applied as an embodiment of the present invention. Can do. The above program can also be applied as an embodiment of the present invention. The above program, recording medium, transmission medium, and program product are included in the scope of the present invention.

本発明の実施形態に係る放射線撮像システムの構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the radiation imaging system which concerns on embodiment of this invention. 光電変換回路部8及び読み出し用回路部9の2次元的構成を示す回路図である。3 is a circuit diagram showing a two-dimensional configuration of a photoelectric conversion circuit unit 8 and a readout circuit unit 9. FIG. 本発明の第1の実施形態に係るX線撮像装置の1画素の構成を示す等価回路図である。1 is an equivalent circuit diagram showing a configuration of one pixel of an X-ray imaging apparatus according to a first embodiment of the present invention. 1画素分の回路動作を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows the circuit operation | movement for 1 pixel. 光電変換装置の動作を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows operation | movement of a photoelectric conversion apparatus. 本発明の第1の実施形態に係る放射線撮像システムの動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows operation | movement of the radiation imaging system which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 図6に示すフローチャートに沿ったタイムチャートである。It is a time chart along the flowchart shown in FIG. 本発明の第2の実施形態に係る放射線撮像システムの動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows operation | movement of the radiation imaging system which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る放射線撮像システムの動作を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows operation | movement of the radiation imaging system which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態に係る放射線撮像システムの動作を示す模式図であって、撮影により実際に得られたフレームの画像を示す図である。It is a schematic diagram which shows operation | movement of the radiation imaging system which concerns on the 4th Embodiment of this invention, Comprising: It is a figure which shows the image of the flame | frame actually obtained by imaging | photography. 本発明の第4の実施形態に係る放射線撮像システムの動作を示す模式図であって、補間したフレームの画像を示す図である。It is a schematic diagram which shows operation | movement of the radiation imaging system which concerns on the 4th Embodiment of this invention, Comprising: It is a figure which shows the image of the interpolated frame. MIS型光電変換素子とスイッチ素子の材料にアモルファスシリコン半導体薄膜を用いて構成した従来の光電変換基板の上面図である。It is a top view of the conventional photoelectric conversion board comprised using the amorphous silicon semiconductor thin film for the material of a MIS type photoelectric conversion element and a switch element. 図12中のI−I線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the II line | wire in FIG. 図12及び図13に示す光電変換素子のデバイス動作を示すエネルギーバンド図である。FIG. 14 is an energy band diagram showing device operation of the photoelectric conversion element shown in FIGS. 12 and 13. 従来の動画像撮影時の動作を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows the operation | movement at the time of the conventional moving image imaging | photography. 1回のX線照射の度にリフレッシュ動作を行う例を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows the example which performs refresh operation | movement for every X-ray irradiation.

符号の説明Explanation of symbols

8:光電変換回路部
9:読み出し用回路部
101:光電変換素子
102:スイッチ素子
103:基板
104:第1の金属薄膜層
105:第2の金属薄膜層
106:ゲート駆動用配線
107:マトリクス信号配線
109:電源ライン
110:コンタクトホール
111:アモルファス窒化シリコン(a−SiNx)層
112:水素化アモルファスシリコン(a−Si:H)層
113:N+
201:X線室
202:X線制御室
203:診断室
8: photoelectric conversion circuit unit 9: readout circuit unit 101: photoelectric conversion element 102: switch element 103: substrate 104: first metal thin film layer 105: second metal thin film layer 106: wiring for gate drive 107: matrix signal Wiring 109: Power supply line 110: Contact hole 111: Amorphous silicon nitride (a-SiNx) layer 112: Hydrogenated amorphous silicon (a-Si: H) layer 113: N + layer 201: X-ray chamber 202: X-ray control chamber 203: Diagnostic room

Claims (12)

光電変換素子及びスイッチ素子を含む複数の画素が基板上にアレイ状に配置された光電変換素子アレイと、
前記光電変換素子アレイから出力された信号を検出する検出手段と、
前記検出手段から出力された信号を表示装置に対して出力する出力手段と、
を有し、
前記出力手段は連続して前記信号を出力し、前記光電変換素子に留まっていたキャリアを掃き出すためのリフレッシュ動作を行った結果、前記検出手段から信号が出力されてこない期間においては、補間用の信号を出力し、前記補間用の信号を前記表示装置に対して出力するに当たり、前記表示装置にマーキングを行わせることを特徴とする放射線撮像装置。
A photoelectric conversion element array in which a plurality of pixels including a photoelectric conversion element and a switch element are arranged in an array on a substrate;
Detecting means for detecting a signal output from the photoelectric conversion element array;
Output means for outputting a signal output from the detection means to a display device;
Have
The output means continuously outputs the signal, and as a result of performing a refresh operation for sweeping out the carrier remaining in the photoelectric conversion element, in a period in which no signal is output from the detection means, interpolation is performed. A radiation imaging apparatus characterized by causing the display device to perform marking when outputting a signal and outputting the interpolation signal to the display device.
前記補間用の信号として、前記信号が出力されてこない期間の直前のフレームにおいて前記検出手段から出力された信号を用いることを特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。   2. The radiation imaging apparatus according to claim 1, wherein a signal output from the detection unit in a frame immediately before a period in which the signal is not output is used as the interpolation signal. 前記補間用の信号として、前記信号が出力されてこない期間の直前のフレーム及び直後のフレームにおいて前記検出手段から出力された信号を用いた中間画像の信号を用いることを特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。   2. The intermediate image signal using the signal output from the detection unit in a frame immediately before and after a period in which the signal is not output is used as the interpolation signal. The radiation imaging apparatus described. 前記光電変換素子及びスイッチ素子の材料として、アモルファスシリコンが用いられており、前記光電変換素子はMIS型光電変換素子であることを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の放射線撮像装置。 The radiation according to any one of claims 1 to 3 , wherein amorphous silicon is used as a material for the photoelectric conversion element and the switch element, and the photoelectric conversion element is a MIS type photoelectric conversion element. Imaging device. 放射線に対して波長変換を施す波長変換体を有し、前記波長変換体により波長変換されて出力された波が前記光電変換素子に入射することを特徴とする請求項1乃至のいずれか1項に記載の放射線撮像装置。 Radiation having a wavelength converter for performing a wavelength conversion on any one of claims 1 to 4 wave output is wavelength converted by the wavelength converter is characterized in that incident on the photoelectric conversion element 1 The radiation imaging apparatus according to Item. 被検体に放射線を照射する放射線源と、
前記被検体を透過した放射線を検出する請求項1乃至のいずれか1項に記載の放射線撮像装置と、
前記放射線撮像装置から出力された信号に対して画像処理を施す画像処理手段と、
前記画像処理手段により処理された後の画像データを表示する表示手段と、
を有することを特徴とする放射線撮像システム。
A radiation source for irradiating the subject with radiation;
A radiation imaging apparatus according to any one of claims 1 to 5 for detecting the radiation transmitted through the subject,
Image processing means for performing image processing on a signal output from the radiation imaging apparatus;
Display means for displaying the image data after being processed by the image processing means;
A radiation imaging system comprising:
光電変換素子及びスイッチ素子を含む複数の画素が基板上にアレイ状に配置された光電変換素子アレイと、前記光電変換素子アレイから出力された信号を検出する検出手段と、を有する放射線撮像装置を制御する方法であって、
前記検出手段から出力された信号を連続して表示装置に対して出力し、前記光電変換素子に留まっていたキャリアを掃き出すためのリフレッシュ動作を行った結果、前記検出手段から信号が出力されてこない期間においては、補間用の信号を出力し、前記補間用の信号を前記表示装置に対して出力するに当たり、前記表示装置にマーキングを行わせることを特徴とする放射線撮像装置の制御方法。
A radiation imaging apparatus comprising: a photoelectric conversion element array in which a plurality of pixels including a photoelectric conversion element and a switch element are arranged in an array on a substrate; and a detection unit that detects a signal output from the photoelectric conversion element array. A method of controlling,
The signal output from the detection means is continuously output to the display device, and as a result of performing a refresh operation for sweeping out the carriers remaining in the photoelectric conversion element, no signal is output from the detection means. A control method for a radiation imaging apparatus, characterized in that, during the period, an interpolation signal is output, and the display apparatus performs marking when outputting the interpolation signal to the display apparatus .
前記補間用の信号として、前記信号が出力されてこない期間の直前のフレームにおいて前記検出手段から出力された信号を用いることを特徴とする請求項に記載の放射線撮像装置の制御方法。 The method for controlling a radiation imaging apparatus according to claim 7 , wherein a signal output from the detection unit in a frame immediately before a period in which the signal is not output is used as the interpolation signal. 前記補間用の信号として、前記信号が出力されてこない期間の直前のフレーム及び直後のフレームにおいて前記検出手段から出力された信号を用いた中間画像の信号を用いることを特徴とする請求項に記載の放射線撮像装置の制御方法。 As a signal for the interpolation to claim 7 which comprises using a signal of an intermediate image using the frame and signals output from said detecting means in the frame immediately following the immediately preceding period in which the signal is not being output A control method of the radiation imaging apparatus described. 光電変換素子及びスイッチ素子を含む複数の画素が基板上にアレイ状に配置された光電変換素子アレイと、前記光電変換素子アレイから出力された信号を検出する検出手段と、を有する放射線撮像装置をコンピュータに制御させるためのプログラムであって、
コンピュータに、前記検出手段から出力された信号を連続して表示装置に対して出力し、前記光電変換素子に留まっていたキャリアを掃き出すためのリフレッシュ動作を行った結果、前記検出手段から信号が出力されてこない期間においては、補間用の信号を出力する処理を行わせ、前記補間用の信号を前記表示装置に対して出力するに当たり、前記表示装置にマーキングを行わせることを特徴とするプログラム。
A radiation imaging apparatus comprising: a photoelectric conversion element array in which a plurality of pixels including a photoelectric conversion element and a switch element are arranged in an array on a substrate; and a detection unit that detects a signal output from the photoelectric conversion element array. A program for controlling a computer,
A signal output from the detection means is output as a result of performing a refresh operation for continuously outputting the signal output from the detection means to a display device to a computer and sweeping out carriers remaining in the photoelectric conversion element. in the period it does not come is, to perform a process of outputting a signal for interpolation, when a signal for the interpolation on the display device, program characterized Rukoto to perform the marking on the display device .
コンピュータに、前記補間用の信号として、前記信号が出力されてこない期間の直前のフレームにおいて前記検出手段から出力された信号を用いる処理を行わせることを特徴とする請求項10に記載のプログラム。 11. The program according to claim 10 , which causes a computer to perform processing using the signal output from the detection unit in a frame immediately before a period in which the signal is not output as the interpolation signal. コンピュータに、前記補間用の信号として、前記信号が出力されてこない期間の直前のフレーム及び直後のフレームにおいて前記検出手段から出力された信号を用いた中間画像の信号を用いる処理を行わせることを特徴とする請求項10に記載のプログラム。 Causing the computer to perform processing using the intermediate image signal using the signal output from the detection means in the frame immediately before and after the period in which the signal is not output as the signal for interpolation. The program according to claim 10 , wherein
JP2004071172A 2004-03-12 2004-03-12 Radiation imaging apparatus and control method thereof Expired - Fee Related JP4447943B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004071172A JP4447943B2 (en) 2004-03-12 2004-03-12 Radiation imaging apparatus and control method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004071172A JP4447943B2 (en) 2004-03-12 2004-03-12 Radiation imaging apparatus and control method thereof

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005260707A JP2005260707A (en) 2005-09-22
JP2005260707A5 JP2005260707A5 (en) 2007-04-26
JP4447943B2 true JP4447943B2 (en) 2010-04-07

Family

ID=35085991

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004071172A Expired - Fee Related JP4447943B2 (en) 2004-03-12 2004-03-12 Radiation imaging apparatus and control method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4447943B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012194198A (en) * 2009-07-28 2012-10-11 Sharp Corp Photosensor and display device
WO2013061762A1 (en) * 2011-10-25 2013-05-02 富士フイルム株式会社 Radiation image capturing system and radiation detection device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005260707A (en) 2005-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4147094B2 (en) Radiation imaging apparatus and radiation imaging system
JP4441294B2 (en) Radiation imaging apparatus and control method thereof
JP4669653B2 (en) Radiation imaging apparatus, radiation imaging system, and computer program
Antonuk et al. Demonstration of megavoltage and diagnostic x‐ray imaging with hydrogenated amorphous silicon arrays
JP4307322B2 (en) Radiation imaging apparatus and radiation imaging system
JP4965931B2 (en) Radiation imaging apparatus, radiation imaging system, control method thereof, and control program
US6163386A (en) Photoelectric conversion device and driving method therefor
KR100539837B1 (en) Radiographic image pickup apparatus and method of driving the apparatus
EP1702458B1 (en) Radiation image pick-up device and radiation image pick-up method
JP3636579B2 (en) Photoelectric conversion device, method for driving photoelectric conversion device, and system having the photoelectric conversion device
US7412031B2 (en) Radiation imaging apparatus, radiation imaging system and radiation imaging method
JP5625833B2 (en) Radiation detector and radiography apparatus
JP4208482B2 (en) Imaging device and X-ray diagnostic system using the imaging device
JP2009121848A (en) Radiation imaging apparatus, its drive method, and program
CN1825205A (en) Radiography apparatus, radiography system, and control method thereof
JP4739060B2 (en) Radiation imaging apparatus, radiation imaging system, and control method thereof
JP3740435B2 (en) Radiation imaging apparatus, driving method thereof, and radiation imaging system
JP2006346011A (en) Radiation imaging device and its control method
JP4447943B2 (en) Radiation imaging apparatus and control method thereof
JP4546560B2 (en) Radiation imaging apparatus, driving method thereof, and radiation imaging system
JP2007050052A (en) Radiation imaging apparatus and its control method

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070308

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070308

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091001

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091020

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091216

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100119

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100121

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130129

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees