JP4442273B2 - Screen printing plate and method of manufacturing electronic component device using the same - Google Patents
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- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 title claims description 84
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 217
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 70
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 57
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 42
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 26
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 24
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 24
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 17
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 7
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 claims description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 57
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 3
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000012417 linear regression Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/11—Manufacturing methods
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/14—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
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Description
本発明は、スクリーン印刷版、およびこれを用いた電子部品装置の製造方法に係り、特には、半田ペーストのフラックス成分の滲み出しに起因した半田同士の接合現象(ブリッジ現象)の発生を可及的に低減するための技術に関する。 The present invention relates to a screen printing plate and a method for manufacturing an electronic component device using the same, and in particular, it is possible to generate a soldering phenomenon (bridge phenomenon) due to bleeding of a flux component of solder paste. The present invention relates to a technique for reducing the power consumption.
例えば、フリップチップ型のベアチップ実装部品(SMD)は、従来、半導体ウェハ等の基板に形成された電極パッドの上にスクリーン印刷版を用いて半田ペーストを印刷した後、半田リフロー処理により半田バンプを形成する方法を採用したものがある。この場合、近年は、電子部品の小型化に伴う実装面積の縮小化や、半田ペーストを用いた半田バンプ形成の印刷技術の拡大等により、半田ペーストの狭隣接印刷の要求が高まっている。 For example, a flip chip type bare chip mounting component (SMD) has conventionally been printed with solder paste using a screen printing plate on an electrode pad formed on a substrate such as a semiconductor wafer, and then solder bumps are formed by solder reflow processing. Some have adopted a method of forming. In this case, in recent years, the demand for narrow adjacent printing of solder paste has increased due to the reduction in mounting area accompanying the downsizing of electronic components and the expansion of printing technology for forming solder bumps using solder paste.
一方、従来技術では、半田ペーストをスクリーン印刷する場合において、半田ペーストの滲み出しや、被印刷体との接触面の摩耗を抑制するために、スクリーン印刷版の被印刷体と接触する側の表面粗さを規定した提案もなされている(例えば、特許文献1等参照)。
ところで、上記のように、近年の電子部品の小型化に伴う実装面積の縮小化等の要求に応えるために、半田ペーストの狭隣接印刷を行う場合には、その際の半田ペーストに含まれるフラックス成分の滲み出しに起因して半田同士が接合する、いわゆるブリッジ現象が発生するという問題が起る。 By the way, as described above, in order to meet the demands for reducing the mounting area accompanying the recent miniaturization of electronic components, when performing narrow adjacent printing of solder paste, the flux contained in the solder paste at that time There arises a problem that a so-called bridging phenomenon occurs in which solders are joined together due to the exudation of components.
このことを、スクリーン印刷により半導体ウェハ等の基板上に半田バンプを形成する場合を例にとって図15を参照して説明する。 This will be described with reference to FIG. 15, taking as an example the case where solder bumps are formed on a substrate such as a semiconductor wafer by screen printing.
スクリーン印刷時の被印刷体となる半導体ウェハ等の基板2の表面には、図示しない配線パターンおよびこの配線パターンを保護するための保護膜6が形成されるとともに、所定位置には配線パターンと電気的に接続された電極パッド7が形成されている。この電極パッド7は、Au,Al,Cuなどで形成された接続電極7aの上に、半田ペースト3との濡れ性および半田付け性を高めるためのTi/Ni/Auなどを順次積層してなるアンダーバンプメタル(UBM)7bが形成されて構成されている。
A wiring pattern (not shown) and a
そして、スクリーン印刷版1に設けられたペースト通過孔1aと、基板2の電極パッド7とが合致するように、スクリーン印刷版1を基板2上に位置決め配置した上で、スクリーン印刷版1の上に半田ペースト3を供給し、スクリーン印刷版1上のスキージ8を水平移動させることによりスクリーン印刷を行う(図15(a−1),(b−1)参照)。半田ペースト3の印刷後は、スクリーン印刷版1を基板2から離版し(同図(a−2),(b−2)参照)、その後、半田リフロー処理により半田ペースト2を加熱溶融して半田バンプ9を形成する(同図(a−3),(b−3)参照)。
Then, the
ここで、上記のようにスクリーン印刷を行った際には、半田ペースト3に含まれるフラックス成分4がスクリーン印刷版1のペースト通過孔1aの周りの基板2との間の僅かな隙間から毛細管現象により滲み出す。そして、スクリーン印刷版1のペースト通過孔1a相互間に位置する部分1bの幅wが比較的狭い場合(例えばw=50μmの場合)には、スクリーン印刷版1を基板2から離版した際に、このフラックス成分4が半田ペースト3間での毛細管現象により多量に流出することになる。このとき、半田ペースト3に含まれる半田粒子がフラックス成分の流出と一緒に半田ペースト3間に流動するため印刷だれが生じる。なお、以下、スクリーン印刷版1において、ペースト通過孔1a相互間に位置する部分をリブ1bと、またリブ1bの幅wのことをリブ幅と称する。
Here, when the screen printing is performed as described above, the
特に、前述の特許文献1に記載されているように、スクリーン印刷版1の基板2との接触面1cにおける表面粗さが小さい場合には、フラックス成分4の滲み出し範囲は狭くなるが、印刷された半田ペースト3に含まれるフラックス成分4の割合は変わらないので、フラックス成分4の滲み出し範囲が狭い場合ほど、逆に半田ペースト3間に流出するフラックス成分4の量が多くなる。
In particular, as described in the above-mentioned
このように、半田ペースト3間にフラックス成分4が多量に流出した状態で、次に、半田バンプ9形成のために半田リフロー処理により半田ペースト3を加熱したときには、流出したフラックス成分4の粘度の低下によって半田ペースト3に含まれる半田粒子がフラックス成分4中にさらに流出する。その結果、図15(a−3),(b−3)に示すように、半田バンプ9同士が接合するブリッジ現象が生じる。そして、このようなブリッジ現象が生じると、半田バンプ同士が電気的に短絡して誤動作を起こしたり、動作不能になるなど、製品品質を著しく損なうことになる。
As described above, when the
なお、半田リフロー処理により半田ペースト3を加熱溶融したときには半田粒子が流出する、いわゆる加熱だれが生じることがあるが、それ以前の段階、すなわち、上記のごとくクリーン印刷板1を基板2から離版した際に、半田ペースト3間に残留するフラックス成分4中に半田粒子が流出する印刷だれが既に生じているときには、加熱時に半田ペースト3の粘度が低下することもあって一層ブリッジ現象が生じ易くなる。
In addition, when the
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、スクリーン印刷版を用いて半田ペーストの狭隣接印刷を行う場合において、半田ペーストに含まれるフラックス成分の滲み出しに起因したブリッジ現象の発生を可及的に低減することができるスクリーン印刷版、およびこれを用いた電子部品装置の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and in the case of performing narrow adjacent printing of a solder paste using a screen printing plate, the bridge phenomenon caused by the oozing out of the flux component contained in the solder paste. It is an object of the present invention to provide a screen printing plate capable of reducing generation as much as possible, and a method for manufacturing an electronic component device using the same.
上記の目的を達成するために、請求項1記載の発明に係るスクリーン印刷版は、被印刷体となる基板に対して半田ペーストを塗布するための複数のペースト通過孔が形成されているスクリーン印刷版であって、
前記基板との接触面におけるスクリーン印刷版の表面粗さは、その最大高さをRy、前記半田ペーストの平均半田粒子径をD50とすると、
0.90μm≦Ry≦D50/2
に設定され、
かつ、前記基板との接触面の内、ペースト通過孔の相互間に位置する部分の表面粗さの最大高さは、その他の部分の表面粗さの最大高さよりも低く設定されていることを特徴とするスクリーン印刷版。
In order to achieve the above object, the screen printing plate according to the first aspect of the present invention is a screen printing in which a plurality of paste passage holes for applying a solder paste to a substrate to be printed are formed. Version,
As for the surface roughness of the screen printing plate at the contact surface with the substrate, assuming that the maximum height is Ry and the average solder particle diameter of the solder paste is D50,
0.90μm ≦ Ry ≦ D50 / 2
Set to
And the maximum height of the surface roughness of the portion located between the paste passage holes in the contact surface with the substrate is set to be lower than the maximum height of the surface roughness of the other portions. Screen printing plate featuring.
請求項2記載の発明に係る電子部品装置の製造方法は、請求項1に記載のスクリーン印刷版を用いて、被印刷体となる基板に対して半田ペーストを印刷する工程と、この印刷工程の後に半田リフロー処理を行う半田リフロー処理工程とを含むすることを特徴としている。
Method for producing an electronic component device according to a second aspect of the present invention, by using a screen printing plate according to
請求項3記載の発明に係る電子部品装置の製造方法は、請求項2記載のスクリーン印刷版を用いて、電子部品装置の電極パッドの上に当該電極パッドよりも広く半田ペーストを印刷する印刷工程と、この印刷工程の後に半田リフロー処理を行うことにより半田バンプを形成する半田リフロー処理工程とを含むことを特徴としている。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an electronic component device, comprising: printing a solder paste wider than the electrode pad on the electrode pad of the electronic component device using the screen printing plate according to the second aspect. And a solder reflow processing step of forming solder bumps by performing solder reflow processing after the printing step.
請求項4記載の発明に係る電子部品装置の製造方法は、請求項2または請求項3記載の電子部品装置の製造方法において、前記印刷工程と半田リフロー処理工程との間に、半田ペーストを減圧して乾燥させる減圧乾燥工程を含むことを特徴としている。 A method of manufacturing an electronic component device according to a fourth aspect of the present invention is the method of manufacturing an electronic component device according to the second or third aspect , wherein the solder paste is depressurized between the printing step and the solder reflow processing step. And a vacuum drying step for drying.
請求項5記載の発明に係る電子部品装置の製造方法は、請求項4記載の電子部品装置の製造方法において、減圧乾燥工程から半田リフロー処理までの期間中、印刷された半田ペーストを低酸素雰囲気中に保持することを特徴としている。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an electronic component device according to the fourth aspect of the present invention, in which the printed solder paste is applied in a low oxygen atmosphere during the period from the vacuum drying step to the solder reflow process. It is characterized by being held inside.
請求項1記載の発明に係るスクリーン印刷版によれば、スクリーン印刷版の基板と接触する側の表面粗さの最大高さRyが前述した範囲になるように設定されているため、基板とリブとの隙間以外へのフラックス成分の滲み出し範囲が広くなる。これにより、離版後は、半田ペースト間に残留するフラックス成分の量は極めて少なくなる。このため、半田ペースト間に残留するフラックス成分中に半田粒子が流出する印刷だれが有効に抑制される。したがって、半田リフロー処理等により半田ペーストを加熱溶融しフラックス成分の粘度が低下しても、半田ペースト間に残留するフラックス成分の量が少ないので、半田ペースト間のフラックスの流出にともない半田粒子が流出することが殆どなくなり、その結果、ブリッジ現象の発生が抑えられる。 According to the screen printing plate of the first aspect of the invention, since the maximum height Ry of the surface roughness on the side in contact with the substrate of the screen printing plate is set to be in the aforementioned range, the substrate and the rib The exudation range of the flux component outside the gap is widened. As a result, the amount of the flux component remaining between the solder pastes after the release is extremely small. For this reason, printing dripping in which solder particles flow into the flux component remaining between the solder pastes is effectively suppressed. Therefore, even if the solder paste is heated and melted by solder reflow processing or the like and the viscosity of the flux component decreases, the amount of the flux component remaining between the solder pastes is small, so the solder particles flow out as the flux flows between the solder pastes. As a result, the occurrence of the bridging phenomenon is suppressed.
すなわち、本発明に係るスクリーン印刷版によれば、スクリーン印刷時にリブと基板との隙間の部分以外の領域にフラックス成分が優先的に流出するため、印刷後の半田ペースト間に残留するフラックス成分が少なくなり、ブリッジ現象の発生を有効に防止することができる。 That is, according to the screen printing plate according to the present invention, the flux component preferentially flows out to a region other than the gap between the rib and the substrate during screen printing, so that the flux component remaining between the solder paste after printing is reduced. The occurrence of the bridge phenomenon can be effectively prevented.
請求項2記載の発明に係る電子部品装置の製造方法によれば、被印刷体となる基板に対して半田ペーストを印刷する場合に、請求項1ないし請求項4記載の構成を備えたスクリーン印刷版を用いるので、半田ペーストの印刷後の半田リフロー処理時にブリッジ現象が発生するのを確実に防止することができる。このため、半田ペーストの狭隣接印刷が可能になり、電子部品装置の更なる小型化を図ることができる。 According to the method for manufacturing an electronic component device according to the second aspect of the present invention, when the solder paste is printed on the substrate to be printed, the screen printing having the structure according to any one of the first to fourth aspects is performed. Since the plate is used, it is possible to reliably prevent the bridge phenomenon from occurring during the solder reflow process after the solder paste is printed. For this reason, narrow adjacent printing of the solder paste is possible, and further downsizing of the electronic component device can be achieved.
請求項3記載の発明に係る電子部品装置の製造方法によれば、電子部品装置の電極パッドの上に半田ペーストを印刷する場合に、請求項1ないし請求項4記載の構成を備えたスクリーン印刷版を用いるので、半田ペーストの印刷後に半田リフロー処理により半田バンプを形成する際にブリッジ現象の発生を確実に防止できる。このため、製品歩留まりが向上するとともに、製品の信頼性を高めることができる。また、実装面積の縮小化が可能になり、電子部品装置の更なる小型化を図ることができる。 According to a method for manufacturing an electronic component device according to a third aspect of the present invention, when a solder paste is printed on an electrode pad of the electronic component device, screen printing having the configuration according to any one of the first to fourth aspects is provided. Since the plate is used, it is possible to reliably prevent the occurrence of the bridge phenomenon when the solder bump is formed by the solder reflow process after the solder paste is printed. For this reason, the product yield can be improved and the reliability of the product can be increased. In addition, the mounting area can be reduced, and the electronic component device can be further downsized.
請求項4記載の発明に係る電子部品装置の製造方法によれば、印刷後の半田ペーストを半田リフロー処理する前に予め半田ペーストを減圧して乾燥させる減圧乾燥工程を含むので、この減圧乾燥工程によって印刷された半田ペーストに含まれるフラックス成分が揮発して少なくなる。このため、半田リフロー処理する際、半田ペースト間に残留するフラックス成分中に半田粒子が流出してブリッジ現象を生じるのをさらに一層有効に抑えることができ、その結果、半田ペーストの狭隣接印刷が可能になり、電子部品装置の更なる小型化を図ることができる。 According to the method for manufacturing an electronic component device according to the fourth aspect of the present invention, since the solder paste after printing includes a reduced-pressure drying step in which the solder paste is decompressed and dried before the solder reflow process, the reduced-pressure drying step. The flux component contained in the solder paste printed by the volatilization is reduced. For this reason, when performing the solder reflow process, it is possible to further effectively prevent the solder particles from flowing into the flux component remaining between the solder pastes to cause a bridging phenomenon. Thus, the electronic component device can be further reduced in size.
請求項5記載の発明に係る電子部品装置の製造方法によれば、減圧乾燥工程から半田リフロー処理までの期間中、印刷された半田ペーストを低酸素雰囲気中に保持するので、半田粒子表面が酸化するのを確実に防止することができ、半田内のボイドの発生を有効に抑制することができ、半田接合時の信頼性向上を図ることができる。 According to the method for manufacturing an electronic component device according to the fifth aspect of the invention, since the printed solder paste is held in a low oxygen atmosphere during the period from the vacuum drying step to the solder reflow process, the surface of the solder particles is oxidized. Therefore, it is possible to reliably prevent the generation of voids in the solder, and to improve the reliability during solder joining.
図1は本発明の実施例1におけるスクリーン印刷版の一部を切り出して示す斜視図、図2は図1のA−A線に沿う断面図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a part of a screen printing plate according to
この実施例1のスクリーン印刷版1は、Ni等の金属でできた厚さが例えば約50μmの平板状のメタルマスクであり、被印刷体となる基板に対して半田ペーストを塗布するための複数のペースト通過孔1aが形成されている。この場合の各ペースト通過孔1aは、本例では長方形のものが採用されているが、このような長方形のものに限らず、正方形、円形、楕円形や、その他の形状のものであってもよい。また、このスクリーン印刷版1は、ペースト通過孔1a相互間に位置するリブ1bのリブ幅wが最小でも30μm以上になるように設定されている。
The
さらに、このスクリーン印刷版1が基板と接触する接触面1cの表面粗さは、その最大高さをRy(JIS B 0601準拠)、半田ペーストの平均半田粒子径をD50とすると、
0.90μm≦Ry≦D50/2 (1)
の条件を満たすように形成されている。この場合の表面粗さの調整の仕方については、特別の制約はなく、研摩、サンドブラスト、エッチング等の処理を適宜採用することができる。
Further, the surface roughness of the
0.90μm ≦ Ry ≦ D 50/2 (1)
It is formed to satisfy the conditions. The method for adjusting the surface roughness in this case is not particularly limited, and treatments such as polishing, sand blasting, and etching can be appropriately employed.
このように、スクリーン印刷版1の基板との接触面1cにおける表面粗さRyを上記(1)の範囲になるように設定する理由について次に説明する。
The reason why the surface roughness Ry on the
図3には、最小のリブ幅wが30μmのスクリーン印刷版を用いて半田ペーストをスクリーン印刷した場合において、基板とリブとの隙間以外の部分にフラックス成分が滲み出した場合の滲み出し距離と、印刷後に半田リフロー処理した際のブリッジ現象の発生率との関係を調べた結果を示している。 FIG. 3 shows the bleed distance when the flux component oozes out in a portion other than the gap between the substrate and the rib when the solder paste is screen printed using a screen printing plate having a minimum rib width w of 30 μm. The results of examining the relationship with the occurrence rate of the bridge phenomenon when the solder reflow process is performed after printing are shown.
この結果から、ブリッジ現象の発生率をゼロにするのに必要なフラックス成分の滲み出し距離は、40μm以上であることが分かる。 From this result, it can be seen that the oozing distance of the flux component necessary to make the occurrence rate of the bridge phenomenon zero is 40 μm or more.
図4は、スクリーン印刷版1の基板との接触面1cにおける表面粗さの最大高さRyと、リブ1bと基板との隙間以外の部分にフラックス成分が滲み出した場合の滲み出し距離との関係を調べた結果を示している。
FIG. 4 shows the maximum height Ry of the surface roughness at the
図4より、最大高さRyとフラックス成分の滲み出し距離とは、直線回帰式で整理することができる。そこで、この結果に上記のブリッジ現象の発生率をゼロにするのに必要なフラックス成分の滲み出し距離40μmを代入すると、滲み出し距離40μmが達成できる表面粗さの最大高さRyは、Ry=0.90μmとなる。つまり、スクリーン印刷版1の基板との接触面における表面粗さは、その最大高さRyが0.90μm以上あれば、半田ペースト間のフラックス成分の残留量が少なくなってブリッジ現象の発生を抑制することができる。
From FIG. 4, the maximum height Ry and the oozing distance of the flux component can be organized by a linear regression equation. Therefore, when the exuding distance of 40 μm of the flux component necessary to make the above-mentioned bridging phenomenon occurrence rate zero is substituted for this result, the maximum height Ry of the surface roughness that can be achieved by the exuding distance of 40 μm is Ry = 0.90 μm. That is, if the maximum height Ry of the surface roughness of the contact surface with the substrate of the
一方、スクリーン印刷版1の基板との接触面1cにおける表面粗さが大き過ぎると、印刷時に半田粒子がフラックス成分とともに半田ペースト間に容易に流出して印刷だれを生じたり、ブリッジ現象が生じてしまう。したがって、表面粗さの最大高さRyについて上限を設定する必要がある。
On the other hand, if the surface roughness of the
ここで、半田ペーストに含まれる半田粒子の粒径分布は、通常、図5に示すように、左右が線対称の正規分布となる。この分布曲線における累積頻度50%に対応する半田粒径を平均半田粒径D50と定義したとき、上記のRyをD50/2以下の値になるように設定しておけば、印刷時において半田粒子は殆ど半田ペースト間に流出しないため、印刷だれやブリッジ現象の発生を抑制することができる。 Here, the particle size distribution of the solder particles contained in the solder paste is normally a normal distribution in which the left and right are line symmetric as shown in FIG. When defining the solder particle diameter corresponding to cumulative frequency of 50% in the distribution curve with an average solder particle diameter D 50, by setting so that the above Ry to D 50/2 the following values, at the time of printing Since almost no solder particles flow out between the solder pastes, it is possible to suppress the occurrence of printing dripping or bridging.
次に、上記構成を有するスクリーン印刷版を用いて、電子部品装置を製造するのに際して、その基板上に半田バンプを形成する方法について、図6を参照して説明する。なお、以下で言う電子部品装置の基板とは、電子部品や半導体装置を構成する基板や、電子部品用や半導体装置用の半導体ウェハなどの基板単体、あるいは配線基板等を含む広い概念である。 Next, a method of forming solder bumps on a substrate when manufacturing an electronic component device using the screen printing plate having the above-described configuration will be described with reference to FIG. In addition, the board | substrate of the electronic component apparatus said below is a wide concept including the board | substrate which comprises an electronic component and a semiconductor device, board | substrate single-piece | units, such as a semiconductor wafer for electronic components and a semiconductor device, or a wiring board.
基板2の表面には、予め図示しない配線パターンおよびこの配線パターンを保護するためにSiN、SiO2、ポリイミド等でできた保護膜6が形成されるとともに、所定位置には配線パターンと電気的に接続された電極パッド7が形成されている。この電極パッド7は、Au,Al,Cuなどで形成された接続電極7aの上に半田ペースト3との濡れ性および半田付け性を高めるためのTi/Ni/Auなどを順次積層してなるアンダーバンプメタル(UBM)7bが形成されて構成されている(図6(a−1),(b−1)参照)。
On the surface of the
そして、本発明に係るスクリーン印刷版1に設けられたペースト通過孔1aと、基板2の電極パッド7とが合致するように、スクリーン印刷版1を基板2上に位置決め配置する。この状態で、スクリーン印刷版1の上に半田ペースト3を供給し、スクリーン印刷版1上のスキージ8を水平移動させることによりスクリーン印刷を行う(同図(a−2),(b−2))。半田ペースト3の印刷後は、スクリーン印刷版1を基板2から離版し(同図(a−3),(b−3)参照)、その後、半田リフロー処理により半田ペースト3を加熱溶融して半田バンプ9を形成する(同図(a−4),(b−4)参照)。
Then, the
スクリーン印刷を行った際には、半田ペースト3に含まれるフラックス成分4がペースト通過孔1aの周りの基板2との間の僅かな隙間に滲み出す。しかし、スクリーン印刷版1の基板2との接触面1cにおける表面粗さの最大高さRyが上記(1)の条件のように設定されていると、リブ1b以外へのフラックス成分の滲み出し範囲が広くなるので、スクリーン印刷版1を基板2から離版した際、半田ペースト3間に残留するフラックス成分4の量は極めて少なくなる。このため、半田ペースト3間に残留するフラックス成分4中に半田粒子が流出する印刷だれが有効に抑制される。
When screen printing is performed, the
したがって、その後、半田リフロー処理により半田ペースト3を加熱溶融しても、半田ペースト3間に残留するフラックス成分4の量が少ないので、半田粒子がフラックス4中に流出することが殆どなくなる。その結果、電極パッド7上には個々に半田バンプ9が形成されてブリッジ現象は発生しない。しかも、リブ幅wが30μm以上でブリッジ現象の発生を有効に抑えることが可能になるので、現状の半田ペースト3の狭隣接印刷の要求に十分に応えることができる。
Therefore, even if the
図1に示した構成を有するスクリーン印刷版1を用いてスクリーン印刷する場合の具体的な事例を挙げると、まず、スクリーン印刷版1としては、ペースト通過孔1aの短辺が100μm、長辺が180μmの長方形のもので、リブ幅wが最小で50μm、基板2との接触面1cにおける表面粗さの最大高さRyがRy=4.5μmのものを使用した。半田ペースト3としては、半田組成がSn−3.5Agで平均半田粒子径が11μmのものを使用した。また、このときは基板2上に形成されている電極パッド7は、接続電極7aの大きさがφ50μm、その上のアンダーバンプメタル(UBM)7bの大きさがφ70μmである。
A specific example of screen printing using the
ペースト通過孔1aと電極パッド7とが合致するように、スクリーン印刷版1を基板2上に位置決め配置した後、スクリーン印刷を行った。その際、基板2上には約200μm程度のフラックス成分4の滲み出しが生じた。その後、半田リフロー処理として、160℃×90秒の予熱処理を行い、続いて酸素濃度が200ppm以下の雰囲気で260℃×30秒の本加熱処理を行った後に冷却して、残留フラックスの洗浄を行った。これにより、ブリッジ現象を生じることなく高さが約75μmの半田バンプ9を形成することができた。続いて、基板2を図示しないダイシング溝に沿ってダイシングソーでカットするなどして個々の電子部品の分割することができる。
After the
図7は、実施例2におけるスクリーン印刷版を電子部品装置の基板上に位置決め配置した状態を示す断面図である。 FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating a state in which the screen printing plate according to the second embodiment is positioned on the substrate of the electronic component device.
この実施例2におけるスクリーン印刷版1の特徴は、基板2との接触面1cにおける表面粗さの内、ペースト通過孔1aの相互間に位置するリブ1b部分の表面粗さの最大高さが、その他の部分の表面粗さの最大高さよりも低く設定されていることである。すなわち、リブ1b部分の表面粗さの最大高さをRy1、その他の部分の表面粗さの最大高さをRyとすると、Ry1<Ryとなるように設定されている。
The feature of the
この実施例2におけるスクリーン印刷版1によれば、スクリーン印刷時にリブ1bと基板2との隙間の部分以外の領域にフラックス成分が優先的に流出するため、印刷後の半田ペースト間に残留するフラックス成分が少なくなり、ブリッジ現象の発生を有効に防止することができる。
According to the
図8は、実施例3におけるスクリーン印刷版を電子部品装置の基板上に位置決め配置した状態を示す断面図である。 FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating a state in which the screen printing plate according to the third embodiment is positioned on the substrate of the electronic component device.
この実施例3におけるスクリーン印刷版1の特徴は、基板2との接触面1cの内、ペースト通過孔1aの相互間に位置するリブ1b部分の表面が撥水処理されていることである。撥水処理としては、例えば、フッ素加工処理などが行われる。
The feature of the
この実施例3におけるスクリーン印刷版1によれば、スクリーン印刷時に撥水処理されたリブ1bの表面以外の領域にフラックス成分が優先的に流出するため、実施例2の場合と同様に、印刷後の半田ペースト間に残留するフラックス成分が少なくなり、ブリッジ現象の発生を有効に防止することができる。
According to the
上記の実施例1〜3では、図1,図2に示した構成を有するスクリーン印刷版1を用いて半田ペースト3を印刷した後は、そのまま半田リフロー処理を行って半田バンプ9を形成している。
In the first to third embodiments, after the
これに対して、この実施例4では、半田ペーストを印刷する工程と半田リフロー処理を行う工程との間に、半田ペーストを減圧して乾燥させる減圧乾燥工程を含むようにしている。例えば、実施例1の場合では、スクリーン印刷後にこれを基板2から離版した後(図6(a−3),(b−3))、半田リフロー処理により半田バンプ9を形成しているが(図6(a−4),(b−4))、この半田リフロー処理を行う前に、図9に示すように半田ペースト3を減圧して乾燥させるようにする。
In contrast, the fourth embodiment includes a reduced-pressure drying step in which the solder paste is decompressed and dried between the step of printing the solder paste and the step of performing the solder reflow process. For example, in the case of Example 1, after the screen printing, after releasing the plate from the substrate 2 (FIGS. 6A-3 and 6B-3), the solder bumps 9 are formed by the solder reflow process. (FIGS. 6A-4 and 6B-4) Before the solder reflow process is performed, the
すなわち、図9(a)に示すように、半田ペースト3が印刷された基板2(例えば、図6(a−3),(b−3)の状態のもの)をチャンバ12内に配置し、開閉弁13を介して真空ポンプ14でチャンバ12内を減圧し、この状態で半田ペースト3を所定時間にわたって乾燥させて半田ペースト3に含まれるフラックス成分を揮発させる。例えば、チャンバ12内の温度25±5℃で約10Paの減圧下で所定時間乾燥させる。半田ペースト3を減圧乾燥させた後、次に、図9(b)に示すように、上下の各ヒータ15,16を通電加熱することで半田リフロー処理を行い半田バンプ9を形成する。半田リフロー処理として、例えば160℃×90秒の予熱処理を行い、次いで260℃×30秒の本加熱処理を行った後、冷却する。
That is, as shown in FIG. 9A, the
図10はスクリーン印刷版1のリブ幅wとブリッジ現象の発生を有効に防止するために必要な減圧乾燥時間との関係を示す特性図、図11は減圧乾燥時間とフラックス成分揮発量との関係を示す特性図である。
FIG. 10 is a characteristic diagram showing the relationship between the rib width w of the
図10,図11から分かるように、フラックス成分の滲み出しに起因したブリッジ現象の発生は、印刷された半田ペースト3の隣接間距離(すなわち、スクリーン印刷版1のリブ幅w)で発生率が異なるため、隣接間距離が狭いほど、減圧乾燥時間を長く設定してフラックス成分の揮発量を多くする必要がある。例えばリブ幅wが50μmでは、約3minの減圧乾燥処理が必要であり、そのときブリッジ現象を抑制するために必要な最低のフラックス成分の揮発量は10wt%以上/フラックス成分量である。なお、図10より、リブ幅wが130μm以上あれば特に減圧乾燥しなくてもブリッジ現象は生じない。 As can be seen from FIGS. 10 and 11, the occurrence of the bridging phenomenon due to the oozing out of the flux component is caused by the distance between the adjacent solder pastes 3 (that is, the rib width w of the screen printing plate 1). Therefore, it is necessary to increase the volatilization amount of the flux component by setting the reduced-pressure drying time to be longer as the distance between adjacent portions is narrower. For example, when the rib width w is 50 μm, a reduced-pressure drying treatment of about 3 minutes is required, and the minimum volatilization amount of the flux component necessary for suppressing the bridge phenomenon is 10 wt% or more / flux component amount. In addition, as shown in FIG. 10, if the rib width w is 130 μm or more, no bridging phenomenon occurs even if the drying is not particularly performed under reduced pressure.
このように、この実施例4では、印刷後の半田ペースト3を半田リフロー処理する前に予め半田ペースト3を減圧乾燥させる減圧乾燥工程を含むので、この減圧乾燥工程によって印刷された半田ペースト3に含まれるフラックス成分が揮発して少なくなる。このため、半田リフロー処理する際、半田ペースト3間に残留するフラックス成分中に半田粒子が流出してブリッジ現象を生じるのを有効に抑えることができる。その結果、半田ペースト3の狭隣接印刷が可能になり、電子部品装置の更なる小型化を図ることができる。
As described above, the fourth embodiment includes a reduced-pressure drying step in which the
上記の実施例4では、半田ペースト3を印刷する工程と半田リフロー処理を行う工程との間に、半田ペースト3を減圧して乾燥させる減圧乾燥工程を含むようにしたが、この実施例5では、半田ペースト3の印刷後の減圧乾燥工程から半田リフロー処理が終了するまでの期間中、印刷された半田ペースト3を低酸素雰囲気中に保持するようにしている。
In the above-described fourth embodiment, a reduced-pressure drying step of drying the
すなわち、図12(a)に示すように、まず、半田ペースト3が印刷された基板2(例えば、図6(a−3),(b−3)の状態のもの)をチャンバ12内に設置し、開閉弁13を介して真空ポンプ14でチャンバ12内を減圧し、この状態で半田ペースト3を所定時間にわたって乾燥させて半田ペースト3に含まれる溶剤を揮発させる。例えば、チャンバー12内の温度25±5℃で約10Paの減圧下で例えば3分間乾燥させる。
That is, as shown in FIG. 12A, first, the
このようにして、半田ペースト3を乾燥させた後、次に、図12(b)に示すように、チャンバ12内に開閉弁13を介して窒素ガスを導入してチャンバ12内を低酸素雰囲気に置換する。この場合の低酸素雰囲気とは、酸素含有量が大気圧の気体中で1体積%に相当する体積含有量以下にある雰囲気をいい、減圧下では体積含有比率(体積%)は大気圧下の場合よりも高くなる。
After the
引き続いて、上記の低酸素雰囲気を保った状態のままで、図12(c)に示すように、上下の各ヒータ15,16を通電加熱することで半田リフロー処理を行い半田バンプ9を形成する。半田リフロー処理として、例えば150℃×60秒の予熱処理を行った後、260℃×30秒の本加熱処理を行う。その後、図12(d)に示すように、半田バンプ9形成後の基板2を冷却してチャンバ12から取り出す。
Subsequently, with the low oxygen atmosphere maintained, as shown in FIG. 12C, the upper and
図13は半田ペースト3を減圧乾燥をした後、一旦大気中に暴露してから異なる設備でN2雰囲気(低酸素雰囲気)で半田リフロー処理を行って半田バンプ9を形成した場合(図中符号V1で示す)と、この実施例5のように減圧乾燥から半田リフロー処理までの間を同一処理部内で連続して印刷された半田ペーストを低酸素雰囲気中に保持する場合(図中符号V2で示す)とで、半田バンプ9のボイドの発生数の違いを調べた結果を棒グラフで比較して示す特性図である。なお、ここでは、φ100μmの大きさの電極パッドに高さが100μmの半田バンプを各処理方法ごとに20個形成した場合の実験結果を示している。
FIG. 13 shows a case where solder bumps 9 are formed by drying
図13の結果から分かるように、半田ペースト3を減圧乾燥をした後、異なる設備の低酸素雰囲気で半田リフロー処理を行って半田バンプ9を形成した場合には、20バンプ中約約80個の割合でボイドが発生している。しかも、φ15μm以上の大きなサイズのボイドも生じている。これに対して、減圧乾燥から半田リフロー処理までの間中、印刷された半田ペースト3を低酸素雰囲気中に保持した場合には、その発生率が約1/4となり、φ15μm以上の大きなサイズのボイドの発生も抑制されている。
As can be seen from the results of FIG. 13, when the
このように、この実施例5では、減圧乾燥工程から半田リフロー処理工程が終了するまでの期間中(図12(a)〜図12(c)で示す期間)、印刷された半田ペーストを低酸素雰囲気中に保持するので、半田リフロー処理工程までに半田ペースト3に含まれる半田粒子が大気に暴露されることで半田粒子表面の酸化が促進するの防ぐことができる。これにより、半田粒子表面の酸化膜とフラックス成分の酸化・還元反応によって生じる水の発生が抑制されるため、半田バンプ9内のボイド発生を低減することができる。その結果、半田接合時の信頼性向上を図ることができる。
Thus, in this Example 5, the printed solder paste was treated with low oxygen during the period from the reduced-pressure drying process to the end of the solder reflow process (the period shown in FIGS. 12A to 12C). Since it is kept in the atmosphere, it is possible to prevent the oxidation of the solder particle surface from being promoted by exposing the solder particles contained in the
上記の実施例1〜5では、電子部品装置を製造するのに際して、その基板2に半田バンプ9を形成する方法について説明したが、本発明はこれに限らず、例えば、図14に示すように、実装用の基板17に形成されたランドパターンの上に、本発明に係るスクリーン印刷版1を用いて半田ペースト3を印刷した後(同図(a)参照)、この半田ペースト3と電子部品18に形成された電極パッドとを対応させて電子部品18を実装用の基板17上に配置し(同図(b)参照)、半田リフロー処理により半田ペースト3を加熱溶融して両者3,18を接続して電子部品装置を製造する場合にも適用することができる。
In the first to fifth embodiments, the method for forming the
この場合、表面実装型の電子部品18を基板17に搭載する際、基板17に印刷された半田ペースト3が押し潰されて平面方向に広がるので、電子部品18の搭載後の半田ペースト間の間隔Lが実施例1〜5で説明したリブ幅wに相当するものとなる。したがって、図10,図11に示したブリッジ発生を抑制するために必要な減圧乾燥時間やフラックス成分の揮発量については、押し潰された後の半田ペースト3間の間隔Lをリブ幅wとして見なして求めることができる。
In this case, when the surface-mount type
また、上記の実施例1〜5では、半田ペースト3をスクリーン印刷などの印刷法によって基板2に塗布する場合を例にとって説明したが、本発明は印刷による供給方法に限定されるものではなく、例えば転写、ディスペンサなどの他の供給方法による場合にも適用することができる。
In the above Examples 1 to 5, the case where the
1 スクリーン印刷版
1a ペースト通過孔
1b リブ
1c 基板との接触面
2,17 基板
3 半田ペースト
4 フラックス成分
7 電極パッド
9 半田バンプ
w スクリーン印刷版のリブ幅
1
Claims (5)
前記基板との接触面における該スクリーン印刷版の表面粗さは、その最大高さをRy、前記半田ペーストの平均半田粒子径をD50とすると、
0.90μm≦Ry≦D50/2
に設定され、
かつ、前記基板との接触面の内、ペースト通過孔の相互間に位置する部分の表面粗さの最大高さは、その他の部分の表面粗さの最大高さよりも低く設定されていることを特徴とするスクリーン印刷版。 A screen printing plate in which a plurality of paste passage holes for applying a solder paste to a substrate to be printed is formed,
As for the surface roughness of the screen printing plate at the contact surface with the substrate, the maximum height is Ry, and the average solder particle diameter of the solder paste is D50.
0.90 μm ≦ Ry ≦ D50 / 2
Set to
And the maximum height of the surface roughness of the portion located between the paste passage holes in the contact surface with the substrate is set to be lower than the maximum height of the surface roughness of the other portions. Screen printing plate featuring.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004083974A JP4442273B2 (en) | 2003-08-28 | 2004-03-23 | Screen printing plate and method of manufacturing electronic component device using the same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003304200 | 2003-08-28 | ||
JP2004083974A JP4442273B2 (en) | 2003-08-28 | 2004-03-23 | Screen printing plate and method of manufacturing electronic component device using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005096401A JP2005096401A (en) | 2005-04-14 |
JP4442273B2 true JP4442273B2 (en) | 2010-03-31 |
Family
ID=34467270
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004083974A Expired - Lifetime JP4442273B2 (en) | 2003-08-28 | 2004-03-23 | Screen printing plate and method of manufacturing electronic component device using the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4442273B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011060964A (en) * | 2009-09-09 | 2011-03-24 | Tamura Seisakusho Co Ltd | Method of forming bump |
JP5182278B2 (en) * | 2009-12-16 | 2013-04-17 | パナソニック株式会社 | Screen printing apparatus, component mounting system, and board supply method in component mounting system |
KR101881063B1 (en) * | 2011-12-12 | 2018-07-25 | 삼성전자주식회사 | Manufacturing method of bump |
JP2017013330A (en) * | 2015-06-30 | 2017-01-19 | 太陽誘電ケミカルテクノロジー株式会社 | Stencil for printing and manufacturing method therefor |
CN113561634A (en) * | 2021-06-28 | 2021-10-29 | 浙江硕克科技有限公司 | Metal screen printing plate capable of improving printing performance |
-
2004
- 2004-03-23 JP JP2004083974A patent/JP4442273B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005096401A (en) | 2005-04-14 |
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|
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