JP4440887B2 - アルカリ金属発生剤、アルカリ金属発生器、光電面の製造方法、二次電子放出面の製造方法及び電子管の製造方法 - Google Patents
アルカリ金属発生剤、アルカリ金属発生器、光電面の製造方法、二次電子放出面の製造方法及び電子管の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4440887B2 JP4440887B2 JP2005508054A JP2005508054A JP4440887B2 JP 4440887 B2 JP4440887 B2 JP 4440887B2 JP 2005508054 A JP2005508054 A JP 2005508054A JP 2005508054 A JP2005508054 A JP 2005508054A JP 4440887 B2 JP4440887 B2 JP 4440887B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkali metal
- metal generator
- generator
- photocathode
- tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 title claims description 447
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 title claims description 447
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 62
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 66
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 53
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 49
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 49
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- 239000003708 ampul Substances 0.000 claims description 27
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 26
- LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N vanadate(3-) Chemical class [O-][V]([O-])([O-])=O LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 claims description 19
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 18
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims description 17
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 9
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 claims description 3
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 68
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 34
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 23
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 14
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 12
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 11
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 7
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- -1 etc. Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003251 Na K Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009172 bursting Effects 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B26/00—Obtaining alkali, alkaline earth metals or magnesium
- C22B26/10—Obtaining alkali metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B5/00—General methods of reducing to metals
- C22B5/02—Dry methods smelting of sulfides or formation of mattes
- C22B5/04—Dry methods smelting of sulfides or formation of mattes by aluminium, other metals or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/35—Electrodes exhibiting both secondary emission and photo-emission
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/12—Manufacture of electrodes or electrode systems of photo-emissive cathodes; of secondary-emission electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
- H01J2201/32—Secondary emission electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
- H01J2201/34—Photoemissive electrodes
- H01J2201/342—Cathodes
- H01J2201/3421—Composition of the emitting surface
- H01J2201/3426—Alkaline metal compounds, e.g. Na-K-Sb
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geology (AREA)
- Common Detailed Techniques For Electron Tubes Or Discharge Tubes (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)
Description
図1は、この発明に係るアルカリ金属発生剤における好適な一実施例の構成を示す斜視図である。
次に、この発明に係るアルカリ金属発生器の好適な実施例について説明する。図2は、この発明に係るアルカリ金属発生器の第1実施例の構成を示す斜視図である。また、図3は、図2に示されたアルカリ金属発生器のI−I線に沿った断面図であり、この図には加熱装置も合わせて示されている。
次に、光電面、二次電子放出面及び電子管の実施例について説明する。
以下、この発明に係るアルカリ金属発生剤のサンプル及びその比較例を挙げてさらに詳しく説明する。なお、この発明は、以下の実施例サンプルに何ら限定されるものではない。
発明者らは、サンプルとして、以下に示されたアルカリ金属発生剤を用いて形成された光電面(アンチモンアルカリ光電面:Sb−Cs、基板材料はNi)と、以下に示されたアルカリ金属発生剤を用いて形成された二次電子放出面(Cs−Sb)をそれぞれ搭載した以外は、市販のサイドオン型の光電子増倍管と同様の構成を有する光電子増倍管(図10と同様の構成を有する)を、複数個作製した。
一方、発明者らは、比較例として、市販のサイドオン型の光電子増倍管と同様の構成を有する光電子増倍管を、上記サンプルと同様の方法により、複数個作製した。なお、この比較例に係る光電子増倍管に搭載された光電面は、酸化剤としてクロム酸塩(Cs2CrO4)と、還元剤としてSiとを含む従来のアルカリ金属発生剤を用いて形成された光電面(アンチモンアルカリ光電面:Sb−Cs)である。この比較例に係るアルカリ金属発生剤の総重量は82mgであり、物質量比は、Cs2CrO4:Si=1:1.3である。
上述のように製造されたサンプル及び比較例に係る光電子増倍管について、陰極出力(Sk:μA/lm)、陽極出力(Sp:μA/lm)、暗電流(Idb:nA)、及びAfter Pulse(%)の諸特性の他、放射感度(mA/W)、Life(%)(Spの経時変化)についても測定した。図14〜図17は、その測定結果を示す表及びグラフである。なお、上記の諸特性の測定は、“光電子増倍管−その基礎と応用−”,(浜松ホトニクス株式会社 編集委員会 著)に記載の方法(例えば、p.34〜39:“光電面の基本特性”、p.60〜73:“光電子増倍管の諸特性”等)に基づき行われた。
Claims (23)
- 入射光に対応して光電子を放出する光電面、又は、入射電子に対応して二次電子を放出する二次電子放出面の形成に使用されるアルカリ金属の供給源となるアルカリ金属発生剤であって、
アルカリ金属イオンをカウンターカチオンとする少なくとも一種のバナジウム酸塩からなる酸化剤と、
所定温度において前記酸化剤との酸化還元反応を開始し、前記アルカリ金属イオンを還元する還元剤とを少なくとも含むアルカリ金属発生剤。 - 前記バナジウム酸塩は、Na、K、Rb及びCsからなる群より選択された少なくとも一種の金属元素をRとするとき、化学式RVO3で表現されることを特徴とする請求項1記載のアルカリ金属発生剤。
- 前記還元剤は、Si、Zr、Ti及びAlからなる群より選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項1又は2記載のアルカリ金属発生剤。
- 当該アルカリ金属発生剤は、粉体状であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載のアルカリ金属発生剤。
- 当該アルカリ金属発生剤は、圧縮成形により所定の形状を有するペレットに成形されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載のアルカリ金属発生剤。
- 入射光に対応して光電子を放出する光電面、又は、入射電子に対応して二次電子を放出する二次電子放出面の形成に使用されるアルカリ金属を発生させるアルカリ金属発生器であって、
ケースと、
前記ケース内に収納され、請求項1〜5のいずれか一項記載のアルカリ金属発生剤を含む供給源と、そして、
前記ケースに設けられ、前記供給源が収納された前記ケースの内部空間から該ケースの外部に向かって、該供給源において発生する前記アルカリ金属の蒸気を放出するための放出口を備えたアルカリ金属発生器。 - 前記ケースは、金属製であることを特徴とする請求項6記載のアルカリ金属発生器。
- 前記ケースは、両端に開口部を有するとともにその側面に前記放出口が設けられた金属製の中空容器と、前記中空容器の両端開口をそれぞれ覆う金属製の蓋部材を備えていることを特徴とする請求項6又は7記載のアルカリ金属発生器。
- 前記ケースは、両端に開口部を有する金属製の中空容器であり、
前記中空容器は、前記アルカリ金属発生剤を収容するための内部空間を確保した状態で、その両端開口部が密閉されており、そして、
密閉された前記中空容器の両端の少なくとも一方に、前記放出口が設けられていることを特徴とする請求項6又は7記載のアルカリ金属発生器。 - 前記アルカリ金属発生剤は、所定の形状を有するペレットに成形されており、
前記ケースは、前記アルカリ金属発生剤を収納するための凹部を有する金属製の有底容器と、該凹部の開口を覆った状態で該有底容器に溶接された金属製の蓋部材とにより構成され、そして、
前記ケースの前記放出口は、前記有底容器と前記蓋部材との間の未溶接部分に形成されていることを特徴とする請求項6又は7記載のアルカリ金属発生器。 - 前記ケース全体を収納するガラス製アンプルをさらに備えたことを特徴とする請求項6〜10のいずれか一項記載のアルカリ金属発生器。
- 前記アルカリ金属発生剤の酸化還元反応を開始させ、前記アルカリ金属の蒸気を発生させるための加熱装置をさらに備えたことを特徴とする請求項6〜11のいずれか一項記載のアルカリ金属発生器。
- 前記加熱装置は、高周波加熱により前記アルカリ金属発生剤を加熱するための高周波電源を含むことを特徴とする請求項12記載のアルカリ金属発生器。
- 入射光に対応して光電子を放出するアルカリ金属を含む光電面の製造方法であって、
前記アルカリ金属の発生源として、請求項1〜5のいずれか一項記載のアルカリ金属発生剤を用意し、
前記アルカリ金属発生剤を加熱し、そして、
前記アルカリ金属発生剤の加熱により発生したアルカリ金属を前記光電面の形成領域に導く光電面の製造方法。 - 入射光に対応して光電子を放出するアルカリ金属を含む光電面の製造方法であって、
前記アルカリ金属の発生源として、請求項6〜13のいずれか一項記載のアルカリ金属発生器を用意し、
前記アルカリ金属発生器のケース内に収納されたアルカリ金属発生剤を加熱し、そして、
前記アルカリ金属発生剤の加熱により発生したアルカリ金属を前記光電面の形成領域に導く光電面の製造方法。 - 入射電子に対応して二次電子を放出する二次電子放出面の製造方法であって、
前記アルカリ金属の発生源として、請求項1〜5のいずれか一項記載のアルカリ金属発生剤を用意し、
前記アルカリ金属発生剤を加熱し、そして、
前記アルカリ金属発生剤の加熱により発生したアルカリ金属を前記二次電子放出面の形成領域に導く二次電子放出面の製造方法。 - 入射電子に対応して二次電子を放出する二次電子放出面の製造方法であって、
前記アルカリ金属の発生源として、請求項6〜13のいずれか一項記載のアルカリ金属発生器を用意し、
前記アルカリ金属発生器のケース内に収納されたアルカリ金属発生剤を加熱し、そして、
前記アルカリ金属発生剤の加熱により発生したアルカリ金属を前記二次電子放出面の形成領域に導く二次電子放出面の製造方法。 - 入射光に対応して光電子を放出するアルカリ金属を含む光電面を少なくとも備えた電子管の製造方法であって、
前記アルカリ金属の発生源として、請求項1〜5のいずれか一項記載のアルカリ金属発生剤を用意し、
前記アルカリ金属発生剤を加熱し、そして、
前記アルカリ金属発生剤の加熱により発生したアルカリ金属を前記光電面の形成領域に導く工程を含む電子管の製造方法。 - 入射光に対応して光電子を放出するアルカリ金属を含む光電面を少なくとも備えた電子管の製造方法であって、
前記アルカリ金属の発生源として、請求項6〜13のいずれか一項記載のアルカリ金属発生器を用意し、
前記アルカリ金属発生器のケース内に収納されたアルカリ金属発生剤を加熱し、そして、
前記アルカリ金属発生剤の加熱により発生したアルカリ金属を前記光電面の形成領域に導く工程を含む電子管の製造方法。 - 前記電子管は、光電子増倍管、光電管、イメージ管及びストリーク管のいずれかを含むことを特徴とする請求項18又は19記載の電子管の製造方法。
- それぞれが、入射電子に対応して二次電子を放出する二次電子放出面を有する1又はそれ以上のダイノードで構成された電子増倍部を備えた電子管の製造方法であって、
前記アルカリ金属の発生源として、請求項1〜5のいずれか一項記載のアルカリ金属発生剤を用意し、
前記アルカリ金属発生剤を加熱し、そして、
前記アルカリ金属発生剤の加熱により発生したアルカリ金属を前記二次電子放出面の形成領域に導く工程を含む電子管の製造方法。 - それぞれが、入射電子に対応して二次電子を放出する二次電子放出面を有する1又はそれ以上のダイノードで構成された電子増倍部を備えた電子管の製造方法であって、
前記アルカリ金属の発生源として、請求項6〜13のいずれか一項記載のアルカリ金属発生器を用意し、
前記アルカリ金属発生器のケース内に収納されたアルカリ金属発生剤を加熱し、そして、
前記アルカリ金属発生剤の加熱により発生したアルカリ金属を前記二次電子放出面の形成領域に導く工程を含む電子管の製造方法。 - 当該電子管は、光電子増倍管、イメージ管、及びストリーク管のうちいずれかを含むことを特徴とする請求項21又は22記載の電子管の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003009927 | 2003-01-17 | ||
JP2003009927 | 2003-01-17 | ||
PCT/JP2004/000304 WO2004066339A1 (ja) | 2003-01-17 | 2004-01-16 | アルカリ金属発生剤、アルカリ金属発生器、光電面、二次電子放出面、電子管、光電面の製造方法、二次電子放出面の製造方法及び電子管の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2004066339A1 JPWO2004066339A1 (ja) | 2006-05-18 |
JP4440887B2 true JP4440887B2 (ja) | 2010-03-24 |
Family
ID=32767233
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005508054A Expired - Lifetime JP4440887B2 (ja) | 2003-01-17 | 2004-01-16 | アルカリ金属発生剤、アルカリ金属発生器、光電面の製造方法、二次電子放出面の製造方法及び電子管の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7772771B2 (ja) |
EP (1) | EP1598844B1 (ja) |
JP (1) | JP4440887B2 (ja) |
CN (1) | CN100521037C (ja) |
DE (1) | DE602004029235D1 (ja) |
WO (1) | WO2004066339A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITMI20041736A1 (it) | 2004-09-10 | 2004-12-10 | Getters Spa | Miscele per l'evaporazione del litio e dispensatori di litio |
JP4711420B2 (ja) * | 2006-02-28 | 2011-06-29 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光電子増倍管および放射線検出装置 |
ITMI20070301A1 (it) | 2007-02-16 | 2008-08-17 | Getters Spa | Supporti comprendenti materiali getter e sorgenti di metalli alcalini o alcalino-terrosi per sistemi di termoregolazione basati su effetto tunnel |
JP5499417B2 (ja) * | 2010-02-22 | 2014-05-21 | 国立大学法人大阪大学 | アルカリ金属導入装置、及びアルカリ金属導入方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2117735A (en) | 1936-10-01 | 1938-05-17 | Rca Corp | Getter |
GB520025A (en) | 1937-07-13 | 1940-04-12 | Clemens Albert Laise | Improvements in or relating to refractory alloy compositions |
DE883936C (de) | 1950-12-20 | 1953-07-23 | Egyesuelt Izzolampa | Kathode fuer Entladungsroehren und Verfahren zu deren Herstellung |
NL147572B (nl) * | 1964-12-02 | 1975-10-15 | Philips Nv | Elektrische ontladingsbuis met een fotokathode. |
US3658713A (en) | 1968-11-12 | 1972-04-25 | Tokyo Shibaura Electric Co | Alkali metal generating agents |
DE1912112A1 (de) | 1969-01-23 | 1972-01-05 | Getters Spa | Mischung von Materialien,die zur Freigabe von Alkalimetalldaempfen geeignet ist und Verfahren zur Freigabe von Alkalimetalldaempfen in einer Vakuumroehre |
JPS4820944B1 (ja) | 1969-06-25 | 1973-06-25 | ||
GB1329977A (en) * | 1970-06-26 | 1973-09-12 | Bradley D J | Electron optical image tubes and image tube streak cameras |
JPS4721951U (ja) | 1971-03-16 | 1972-11-11 | ||
JPS4715976U (ja) | 1971-03-24 | 1972-10-24 | ||
JPS4725541U (ja) | 1971-04-15 | 1972-11-22 | ||
JPS518581Y2 (ja) | 1971-05-11 | 1976-03-08 | ||
JPS53124059A (en) | 1977-04-06 | 1978-10-30 | Hamamatsu Tv Co Ltd | Method of producing multiialkali photoelectric plane |
JPS5578438A (en) | 1978-12-06 | 1980-06-13 | Hamamatsu Tv Kk | Manufacturing method of photoelectron booster tube |
JPS5736758A (en) * | 1980-08-14 | 1982-02-27 | Nec Corp | Image tube |
JPS62237650A (ja) | 1986-04-09 | 1987-10-17 | Hitachi Ltd | 金属イオン発生装置 |
US4855930A (en) * | 1987-03-27 | 1989-08-08 | Chimerix Corporation | Method and appartatus for improved time-resolved fluorescence spectroscopy |
NL8802171A (nl) * | 1988-09-02 | 1990-04-02 | Philips Nv | Alkalimetaaldamp-dispenser. |
US6198221B1 (en) * | 1996-07-16 | 2001-03-06 | Hamamatsu Photonics K.K. | Electron tube |
JPH1040864A (ja) | 1996-07-19 | 1998-02-13 | Matsushita Electric Works Ltd | 高圧ナトリウムランプ |
CN1119829C (zh) * | 1996-09-17 | 2003-08-27 | 浜松光子学株式会社 | 光电阴极及装备有它的电子管 |
CN1089187C (zh) * | 1996-09-26 | 2002-08-14 | 浜松光子学株式会社 | 紫外线检测器 |
US5925976A (en) * | 1996-11-12 | 1999-07-20 | Matsushita Electronics Corporation | Cathode for electron tube having specific emissive material |
CN1241233C (zh) * | 1998-07-27 | 2006-02-08 | 东芝株式会社 | X射线显象管及其制造方法 |
ITMI20010995A1 (it) | 2001-05-15 | 2002-11-15 | Getters Spa | Dispensatori di cesio e processo per il loro uso |
-
2004
- 2004-01-16 DE DE602004029235T patent/DE602004029235D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2004-01-16 CN CN200480001539.3A patent/CN100521037C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2004-01-16 JP JP2005508054A patent/JP4440887B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2004-01-16 WO PCT/JP2004/000304 patent/WO2004066339A1/ja active Application Filing
- 2004-01-16 US US10/537,587 patent/US7772771B2/en active Active
- 2004-01-16 EP EP04702855A patent/EP1598844B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1598844B1 (en) | 2010-09-22 |
US7772771B2 (en) | 2010-08-10 |
US20060049755A1 (en) | 2006-03-09 |
EP1598844A1 (en) | 2005-11-23 |
DE602004029235D1 (de) | 2010-11-04 |
CN100521037C (zh) | 2009-07-29 |
EP1598844A4 (en) | 2006-12-06 |
JPWO2004066339A1 (ja) | 2006-05-18 |
WO2004066339A1 (ja) | 2004-08-05 |
CN1717766A (zh) | 2006-01-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4410027B2 (ja) | 光電陰極及び電子管 | |
US7474051B2 (en) | Alkali metal generating agent, alkali metal generator, photoelectric surface, secondary electron emission surface, electron tube, method for manufacturing photoelectric surface, method for manufacturing secondary electron emission surface, and method for manufacturing electron tube | |
JP4440887B2 (ja) | アルカリ金属発生剤、アルカリ金属発生器、光電面の製造方法、二次電子放出面の製造方法及び電子管の製造方法 | |
JPWO2004066338A1 (ja) | アルカリ金属発生剤、アルカリ金属発生器、光電面、二次電子放出面、電子管、光電面の製造方法、二次電子放出面の製造方法及び電子管の製造方法 | |
JP4562844B2 (ja) | 光電陰極及び電子管 | |
CN111276378B (zh) | 高灵敏度K-Na-Cs-Sb反射式多碱光电阴极及其制备方法、系统 | |
CN114026668B (zh) | 光电阴极、电子管和光电阴极的制造方法 | |
US4963113A (en) | Method for producing photomultiplier tube | |
JP3054032B2 (ja) | 電子管 | |
JP4672573B2 (ja) | アルカリ金属発生材、および、これを用いたアルカリ金属発生器、光電子放出面、光電子増倍管 | |
JPS61294732A (ja) | 電子放出装置 | |
US5417766A (en) | Channel evaporator | |
JPH10149761A (ja) | 光電陰極及びそれを備えた電子管 | |
JPH0883561A (ja) | 二次電子増倍電極および光電子増倍管 | |
JPH11120899A (ja) | 二次電子放出装置及びそれを用いた電子管 | |
CN116438620A (zh) | 超表面元件、电子管及电子管的制造方法 | |
RU2558331C1 (ru) | Эмиссионный источник света (вакуумный светодиод) и способ его изготовления | |
Jamieson et al. | The photoelectric cell and its method of operation | |
NL8700653A (nl) | Dispenser-kathode, in het bijzonder geschikt voor een kathode-straalbuis. | |
JP2005339843A (ja) | 光電陰極及び電子管 | |
KR20000066205A (ko) | 전자 방출원 | |
JPH022253B2 (ja) | ||
JPH04129134A (ja) | 増倍部付き光電面 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090324 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090518 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100105 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100107 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4440887 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140115 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |